JPH10133223A - 積層型液晶セル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 互いに異なる二色性色素を含む両液晶層間の
絶縁層を容易に視差を生じない程度に薄膜化するように
した液晶セル及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 互いに対向する両電極基板１０、２０の
間に、絶縁膜４０と、この絶縁膜の各表面に形成された
各電極４１、４２とを有する積層体と、絶縁膜６０と、
この絶縁膜の各表面に形成された各電極６１、６２とを
有する他の積層体が設けられている。また、これら積層
体の間及びこれら各積層体と両電極基板の各々との間に
は、互いに異なる二色性色素を含む各液晶層３０、５
０、７０がそれぞれ設けられている。ここで、各絶縁膜
４０、６０が、視差を生じさせない程度に薄く形成され
ている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、携帯情報端末機
器、液晶テレビジョン、液晶表示装置等のフルカラー型
或いはマルチカラー型等のカラー型液晶装置に採用され
る液晶セル及びその製造方法に係り、特に、複数の液晶
層を積層してなる積層型液晶セル及びその製造方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】この種の液晶セルのうち、例えば、反射
型液晶セルはバックライトを必要としないから、液晶セ
ルの薄型化や消費電力の低減化が可能である。このた
め、反射型液晶セルは携帯情報端末機器のディスプレイ
として期待されている。また、反射型液晶セルでは、光
源として外光を用いる。このため、この液晶セルの光利
用効率を高めることが、視認性の良好な表示を得る上で
重要である。

【０００３】その一例としては、互いに異なる二色性色
素を含む三層のゲストホスト液晶層を両電極基板の間に
積層し、減法混色法によりフルカラー表示するようにし
た液晶セルがある。この液晶セルは偏光板やカラーフィ
ルタを必要としないため、光利率が非常に高い。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記液晶セ
ルにおいては、各ゲストホスト液晶層を独立的に制御す
るため、これら各ゲストホスト液晶層の間に絶縁層をそ
れぞれ設けるとともに、これら各絶縁層の両表面にそれ
ぞれ電極を形成する。ここで、液晶セルに視差が生ずる
のを防止するには、絶縁層が薄い程よいが、液晶セルの
製造時に絶縁層が破損し易いため、取扱いが困難である
という不具合がある。従って、絶縁層にはある程度の厚
みが必要とされる。

【０００５】しかし、この絶縁層としては、通常、厚さ
数百μｍのガラス板が使用されるため、互いに隣り合う
両ゲストホスト液晶層は、少なくとも絶縁層の厚さ分だ
け離れて位置することとなる。その結果、液晶セルを見
たとき、見る位置によって視差が発生し、各色の画素領
域がずれて見えるという不具合を生ずる。また、この視
差の影響は、画素領域が精細になる程ひどくなる。

【０００６】これに対しては、特開平３−１９８０２８
号公報にて示すように、各液晶層の間の絶縁層を廃止し
た構成の液晶セルとすることも考えられる。そして、こ
の液晶セルは、積層した動作電圧の異なる各液晶層を挟
む一対の電極により駆動されるようになっている。この
ような液晶セルでは、各液晶層が積層状に互いに接触し
ているため、液晶セルを見ても視差の発生はない。

【０００７】しかし、動作電圧の異なる各液晶層の積層
体では、その電気光学特性に急峻性がないため、液晶セ
ルとしては、単純マトリクス駆動によるものは不適当で
あって、コストの高いアクティブマトリクス駆動による
ものが必要となる。さらに、各液晶層の積層体を駆動す
るため、駆動電圧が高くなる。従って、駆動回路の高耐
圧化が必要となる。

【０００８】また、通常のＩＣ製造工程のように、電
極、液晶層及び絶縁層を順次下から堆積させながらエッ
チング処理を駆使し、絶縁層を薄くしながら液晶セルを
製造することも考えられるが、製造工程が非常に複雑に
なるという不具合が生ずる。そこで、本発明は、以上の
ようなことに対処するため、互いに異なる二色性色素を
含む両液晶層間の絶縁膜を容易にかつ視差を生じない程
度に薄膜化するようにした液晶セル及びその製造方法を
提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明によれば、絶縁膜及びこの絶
縁膜の各表面に形成した各電極からなる積層体が両電極
基板の間に設けられ、当該積層体と両電極基板の各々と
の間に、互いに異なる二色性色素を含む各液晶層がそれ
ぞれ設けられている。そして、絶縁膜が、視差を生じさ
せない程度に薄く形成されている。

【００１０】このように絶縁膜を薄く形成したので、液
晶セルを見たとき、視差を生ずることがない。また、積
層体の形成にあたり、離型用基板に電極、絶縁膜及び電
極を順次積層して積層体とし、離型用基板により積層体
を電極基板に貼り合わせるようにすれば、絶縁膜の薄膜
化を容易に実現することができ、しかも、この絶縁膜に
損傷が加わることもない。

【００１１】このような作用効果は請求項２に記載の発
明によっても同様に達成できる。また、請求項３、４に
記載の発明によれば、請求項１及び２のいずれか一つに
記載の作用効果を達成し得るような液晶セルを容易に製
造できる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
に基づき説明する。図１は、本発明が反射型の積層型液
晶セルに適用された例を示している。なお、図１では、
液晶セルの要部の断面が示されている。この液晶セル
は、互いに対向して位置する下側電極基板１０と、上側
電極基板２０を備えている。

【００１３】電極基板１０は、透明基板１１と、この透
明基板１１の内表面に形成した複数条の反射電極１２と
を備えている。各反射電極１２は、後述する第１番目の
高分子分散型液晶層３０の複数条の走査電極としての役
割を果たす。また、複数の電極端子１３が、図２にて示
すごとく、透明基板１１の内表面に形成されており、こ
れら各電極端子１３は、後述する第２番目及び第３番目
の高分子分散型液晶層５０、７０の間の各透明導電膜６
１、６２に電圧を供給する役割を果たす。この場合、各
電極端子１３を設けた透明基板１１は、機械的強度が高
いので、各電極端子１３の外部回路との接続が容易とな
る。

【００１４】一方、電極基板２０は、ガラス基板からな
る透明基板２１と、この透明基板２１の内表面に形成し
た複数条の透明電極２２とにより構成されている。ここ
で、各透明電極２２は、各反射電極１２に対し直角とな
るように位置している。また、液晶セルは、両電極基板
１０、２０の間に積層状に介装した高分子分散型液晶層
３０、透明絶縁膜４０、高分子分散型液晶層５０、透明
絶縁膜６０及び高分子分散型液晶層７０を備えている。

【００１５】各高分子分散型液晶層３０、５０、７０
は、フルカラー表示し得るように互いに異なる着色層と
なっている。透明絶縁膜４０の電極基板１０側表面に
は、複数条の透明電極４１が、高分子分散型液晶層３０
を介し各反射電極１２に対向してこれらと共にマトリク
ス状画素を構成するように形成されている。一方、透明
絶縁膜４０の透明絶縁膜６０側表面には、複数条の透明
電極４２が、透明絶縁膜４０を介し各透明電極４１に直
角となるように形成されている。

【００１６】透明絶縁膜６０の透明絶縁膜４０側表面に
は、複数条の透明電極６１が、高分子分散型液晶層５０
を介し各透明電極４２に対向してこれらと共にマトリク
ス状画素を構成するように形成されている。一方、透明
絶縁膜６０の電極基板２０側表面には、複数条の透明電
極６２が、高分子分散型液晶層７０を介し各透明電極２
２に対向しこれらと共にマトリクス状画素を構成するよ
うに形成されている。

【００１７】次に、上記液晶セルの製造方法につき図２
乃至図１２に基づいて説明する。まず、ガラス基板から
なる透明基板１１の内表面にアルミニウムを電子ビーム
法或いはスパッタ法により膜状に蒸着する。そして、複
数条の反射電極１２及び複数の電極端子１３を、パター
ンエッチングにより、図２にて示すごとく形成する。

【００１８】ここで、視野角を向上するために、各反射
電極１２の反射面は散乱面とするのが望ましい。このた
め、透明基板１１の内表面に、所要の視野角に対応した
散乱特性が得られるように、予め、適正な凹凸加工を施
しておき、その上に各反射電極１２を形成するようにす
る。なお、予め透明基板１１の内表面に凹凸加工を施す
代わりに、各反射電極１２の反射面を熱処理により荒ら
すことで散乱面を得るようにしてもよい。

【００１９】ついで、板厚１．１ｍｍのガラス基板から
なる剥離基板８０の表面に、図３にて示すごとく、フル
コート４４−ＺＣ等により離型層８１を形成する。この
離型層８１は、４８０℃までの高い耐熱性を有するか
ら、この離型層８１上に透明電極や透明絶縁膜を形成す
るときの処理温度を限定する必要はない。上述のように
離型層８１を形成した後、後述のように形成する高分子
分散型液晶層５０の走査電極である透明電極４２を形成
するために、ＩＴＯを、スパッタ法により、約５０ｎｍ
堆積させて透明導電膜Ｍとして形成する。

【００２０】ついで、この透明導電膜Ｍ上に、酸化シリ
コンを、プラズマＣＶＤ法により、約２μｍ堆積させ
て、透明絶縁膜４０として形成する（図３参照）。そし
て、ＩＴＯを、スパッタ法により、透明絶縁膜４０上
に、約５０ｎｍの厚さにて透明導電膜として堆積させた
後、この透明導電膜にパターンエッチングを施して複数
条の透明電極４１（高分子分散型液晶層３０の信号電
極）を形成する（図３参照）。

【００２１】以上の工程では、離型層８１が４８０℃の
耐熱性があるため、ＩＴＯによる成膜時の基板温度を４
００℃以上にし得る。従って、導電率の高い良好な透明
導電膜が得られる。なお、透明絶縁膜４０を形成する材
料としては、酸化シリコンに限ることなく、可視光に対
する透過率が高く絶縁性の高い材料であれば、ポリイミ
ド等の樹脂材料を採用してもよい。

【００２２】次に、透明基板１１上に、異方性導電膜９
０を、図４にて示すごとく、各透明電極１２の端部及び
各電極端子１３を介し設ける。しかして、高分子分散型
液晶層３０の原料、即ち、二色性色素を添加した液晶と
光硬化性樹脂の前駆体（プレポリマー）に、高分子分散
型液晶層３０の厚さを調整するための多数のスペーサ３
１を混入してなる混合液体３２を、図５（ｂ）にて示す
ごとく、電極基板１０の内表面に、各透明電極１２、電
極端子１３及び異方性導電膜９０を介し塗布する。この
とき、二色性色素がプレポリマ中に溶け込まないように
することが重要である。

【００２３】ついで、剥離基板８０を、図５にて示すご
とく、電極基板１０の上方に支持する。このとき、両透
明電極１２、４１が混合液体３２を介し互いに直角に対
向して位置するようにする。このような状態にて、剥離
基板８０にその上方から加圧する。これにより、混合液
体３２及び異方性導電膜９０が図６にて示すように加圧
された状態となる。このとき、混合液体３２の厚さは、
各スペーサ３１の粒径により定まる。

【００２４】ついで、図７にて矢印により示すごとく、
剥離基板８０にその上方から紫外線ＵＶを照射する。こ
れにより、紫外線ＵＶが剥離基板８０、離型層８１、透
明導電膜Ｍ及び透明導電膜４０を通し混合液体３２を照
射する。このため、混合液体３２が硬化して液晶が相分
離し、スペーサ３１により厚さを設定された厚さにて、
高分子分散型液晶層３０が形成される。

【００２５】但し、上記紫外線ＵＶの照射に際しては、
図７（ｂ）にて示すごとく、表示領域以外の混合液体３
２の部分、例えば、各電極端子１３のうち異方性導電膜
９０からの延出部分上の混合液体３２に対する紫外線Ｕ
Ｖの照射を、遮光板Ｐにより遮断する。これにより、遮
光板Ｐにより紫外線ＵＶの照射を遮断された混合液体３
２の部分は硬化しない。このため、この混合液体３２の
部分を、高分子分散型液晶層３０の形成後においても、
エタノール洗浄により容易に除去できる。

【００２６】このようにして高分子分散型液晶層３０を
形成した後は、剥離基板８０を離型層８１と共に、図８
及び図９にて示すごとく、透明絶縁膜Ｍから剥離する。
このとき、既に、各透明電極４１、透明絶縁膜４０及び
透明導電膜Ｍが積層体として高分子分散型液晶層３０、
各透明電極１２及び各電極端子１３を介し透明基板１１
の内表面に強固に固定されている。しかも、離型層８１
が剥離基板８０と上記積層体との間にある。このため、
上記剥離が容易に行える。

【００２７】然る後、透明導電膜Ｍにパターンエッチン
グを施して複数条の透明電極４２（高分子分散型液晶層
５０の走査電極）を形成する。以上の工程により、透明
基板１１の内表面に反射電極１２、高分子分散型液晶層
３０、透明電極４１、透明絶縁膜４０及び透明電極４２
がこれらの順で形成された。

【００２８】この場合、透明電極４１、透明絶縁膜４
０、透明絶縁膜Ｍ（又は透明電極４２）の積層体は、作
製工程中において、常に、強固な透明基板１１或いは剥
離基板８０に保持されているため、透明絶縁膜４０を、
視差を招かない数μｍ乃至十数μｍ程度の厚さまで薄く
しても作製途中でこの透明絶縁膜４０に損傷を招くこと
がない。

【００２９】次に、上述のように剥離した剥離基板８０
の離型層８１上に、後述のように形成する高分子分散型
液晶層７０の走査電極である透明電極６２を形成するた
めに、ＩＴＯを、スパッタ法により、離型層８１上に、
約５０ｎｍの厚さにて透明導電膜として堆積させた後、
この透明導電膜上に、透明絶縁膜６０を、透明絶縁膜４
０と同様に形成する。

【００３０】そして、ＩＴＯを、スパッタ法により透明
絶縁膜６０上に約５０ｎｍの厚さにて透明導電膜として
堆積させた後、この透明導電膜にパターンエッチングを
施して複数条の透明電極６１（高分子分散型液晶層５０
の信号電極）を形成する。一方、透明基板２１の内表面
にＩＴＯをスパッタ法により膜状に蒸着する。そして、
複数条の透明電極２２をパターンエッチングにより形成
する。

【００３１】ついで、高分子分散型液晶層７０の原料、
即ち、高分子分散型液晶層３０の二色性色素性色素とは
異なる二色性色素を添加した液晶と光硬化性樹脂の前駆
体に、多数のスペーサを混入してなる混合液体を、透明
基板２１の内表面に各透明電極２２を介し塗布する。つ
いで、剥離基板８０を、上述のように高分子分散型液晶
層７０の原料にスペーサを混入した混合液体を介し位置
させ、この混合液体を、剥離基板８０を介して加圧す
る。そして、この加圧後の混合液体を、紫外線ＵＶによ
り上述と同様に照射する。

【００３２】これにより、高分子分散型液晶層７０が高
分子分散型液晶層３０と同様に形成される。このように
して高分子分散型液晶層７０を形成した後は、上述と同
様に、剥離基板８０を離型層８１と共に、上述した透明
絶縁膜Ｍに相当する透明絶縁膜から剥離する。このと
き、既に、各透明電極６２、透明絶縁膜６０及び透明導
電膜Ｍに相当する透明絶縁膜が積層体として高分子分散
型液晶層７０及び各透明電極２２を介し透明基板２１の
内表面に強固に固定されている。しかも、離型層８１が
剥離基板８０と上記積層体との間にある。このため、上
記剥離が容易に行える。

【００３３】然る後、透明導電膜Ｍに相当する透明導電
膜にパターンエッチングを施して複数条の透明電極６１
（高分子分散型液晶層５０の走査電極）を形成する。以
上の工程により、透明基板２１の内表面に透明電極２
２、高分子分散型液晶層７０、透明電極６２、透明絶縁
膜６０及び透明電極６１がこれらの順で形成された。

【００３４】この場合、透明電極６１、透明絶縁膜６
０、透明導電膜Ｍに相当する透明導電膜（又は透明電極
６２）の積層体は、作製工程中において、常に、強固な
透明基板２１或いは剥離基板８０に保持されているた
め、透明絶縁膜６０を、透明導電膜４０と同様に、視差
を招かない数μｍ乃至十数μｍ程度の厚さまで薄くして
も作製途中でこの透明絶縁膜６０に損傷を招くことがな
い。

【００３５】然る後は、高分子分散型液晶層５０の原
料、即ち、高分子分散型液晶層３０、７０の各の二色性
色素性色素とは異なる二色性色素を添加した液晶と光硬
化性樹脂の前駆体に、多数のスペーサを混入してなる混
合液体を、透明絶縁膜４０に各透明電極４２を介し塗布
する。ついで、透明基板２１を、上述のように高分子分
散型液晶層５０の原料にスペーサを混入した混合液体を
介し透明基板１１の上方に図１１及び図１２にて示すご
とく位置させ、この混合液体を、透明基板２１を介して
加圧する。そして、この加圧後の混合液体を、紫外線Ｕ
Ｖにより上述と同様に照射する。

【００３６】これにより、高分子分散型液晶層５０が高
分子分散型液晶層３０、５０と同様に形成される。以上
説明したように、液晶セルの製造にあたり、両透明絶縁
膜４０、６０の各厚さを上述のごとく非常に薄くするの
で、液晶セルを透明基板２１から見た場合に、各画素の
間で相互に視差を生ずることがない。

【００３７】この場合、透明絶縁膜は薄い程よいが、例
えば、画素ピッチを１５０μｍ×１５０μｍの正方形の
液晶セルを有する約５×２４、５ｍｍのＶＧＡパネルと
した場合、このパネルに対し４５度斜めから観察しても
画素のずれは３μｍ程度であり、観察者は、視差による
色ずれを感じない。また、上述のごとく、剥離基板８０
及び両電極基板１０、２０を利用して、上記各積層体の
貼り合わせにより液晶セルを製造するので、各透明絶縁
膜が非常に薄くても、これら透明絶縁膜を容易に形成す
ることができ、かつ、これら透明絶縁膜に損傷を招くこ
とはない。

【００３８】また、上述のように製造した液晶セルにお
いては、三層からなる高分子分散型液晶層となってい
る。このため、高分子分散型液晶を挟む画素電極と共通
電極との間に電圧を印加しなければ、当該高分子分散型
液晶の色素による吸収に基づき着色状態となる。一方、
高分子分散型液晶層を挟む画素電極と共通電極との間に
電圧を印加すると、当該高分子分散型液晶層は透明状態
となる。これにより、液晶セルのカラー表示が可能とな
る。

【００３９】なお、本発明の実施にあたり、高分子分散
型液晶に限ることなく、光分散型液晶や、二色性色素を
含む液晶であればよい。例えば、アモルファス構造を有
するネマッチック液晶であって２色性色素を有するもの
であってもよい。また、本発明の実施にあたっては、上
記実施形態にて述べた反射型液晶セルに限ることなく、
透過型液晶セルに本発明を適用して実施してもよい。こ
の場合、反射電極はＩＴＯにより透明電極として形成す
る。

【００４０】また、本発明の実施のあたり、上記各高分
子分散型液晶層は、液晶材料が液晶滴を形成するポリマ
ーネット型である必要はなく、液晶材料が連続体ネット
ワークを形成するポリマーボル型であってもよい。ま
た、本発明の実施のあたり、上記各高分子分散型液晶層
は、シアン、マゼンダ、イエローの三色とする必要はな
く、表示したい色に合わせて他の二色性色素としてもよ
い。また、液晶セルを三層に限ることなく、二層或いは
４層としてもよい。

【００４１】例えば、上記実施形態において、図１で示
す液晶セルにて透明絶縁膜６０、透明電極６１、高分子
分散型液晶層５０、透明電極４２を排除した構成として
もよい。また、本発明の実施にあたり、液晶セルの各電
極はマトリクス状に構成したものに限ることなく、パタ
ーン電極と共通電極との組み合わせをもつ液晶セルに本
発明と適用して実施してもよい。

【００４２】また、本発明の実施にあたっては、離型層
８１上に、直接、透明導電膜を形成するのではなく、こ
の離型層８１に樹脂層を形成し、この樹脂層に透明導電
膜を形成するようにすれば、離型層８１の離型性をより
一層向上できる。また、本発明の実施にあたっては、離
型層８１上に形成した透明導電膜のパターンエッチング
を、剥離基板８０の剥離後ではなく、離型層８１に透明
導電膜を形成した直後にこの透明導電膜にパターンエッ
チングを施して透明電極としてもよい。

【００４３】また、上記実施形態では、剥離基板を剥離
により除去するようにしたが、これに代えて、剥離基板
を研磨やエッチングにより除去するようにしてもよい。
この場合、離型層の代わりにエッチングストッパを設け
ておき、このエッチングストッパが現れるまで、研磨や
エッチングを剥離基板に施すようにする。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る液晶セルの一実施形態を示す要部
断面図である。

【図２】図１の液晶セルの下側電極基板の形成状態を示
す斜視図である。

【図３】剥離基板の表面に離型層及び積層体を形成する
状態を示す斜視図である。

【図４】下側電極基板に異方性導電膜を形成する状態を
示す斜視図である。

【図５】（ａ）は、下側透明基板上に剥離基板を対向さ
せた状態を示す斜視図、及び（ｂ）は、図５（ａ）にて
５ｂ−５ｂ線に沿う断面図である。

【図６】図５の状態で剥離基板を加圧した状態を示す断
面図である。

【図７】（ａ）は、図６の加圧後における紫外線照射状
態を示す斜視図、（ｂ）は、当該紫外線照射状態におけ
る断面図である。

【図８】上記紫外線照射後に剥離基板を下側電極基板か
ら剥離する状態を示す断面図である。

【図９】図８の剥離後の状態を示す斜視図である。

【図１０】図９の下側電極基板の最上面に位置する透明
導電膜にパターンエッチングを施した状態を示す斜視図
である。

【図１１】下側電極基板上に第２番目の高分子分散型液
晶層を介し上側電極基板を支持した状態を示す斜視図で
ある。

【図１２】下側電極基板上に第２番目の高分子分散型液
晶層を介し上側電極基板を重ね合わせた状態を示す斜視
図である。

【符号の説明】

１０、２０…電極基板、１１、２１…透明基板、１２、
２２、４１、４２、６１、６２…透明電極、３０、５
０、７０…高分子分散型液晶層、４０、６０…絶縁膜、
８０…剥離基板。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 互いに対向する両電極基板（１０、２
   ０）と、 これら両電極基板の間に設けられて、絶縁膜（４０、６
   ０）と、この絶縁膜の各表面に形成された各電極（４
   １、４２、６１、６２）とからなる積層体と、 この積層体と前記両電極基板の各々との間にそれぞれ設
   けられて互いに異なる二色性色素を含む各液晶層（３
   ０、５０、７０）とを備え、 前記絶縁膜が、視差を生じさせない程度に薄く形成され
   ている積層型液晶セル。
2. 【請求項２】 互いに対向する両電極基板（１０、２
   ０）と、 これら両電極基板の間に並行に設けられて、絶縁膜（４
   ０、６０）と、この絶縁膜の各表面に形成された各電極
   （４１、４２、６１、６２）とをそれぞれ有する複数の
   積層体と、 当該複数の積層体の間及びこれら各積層体と前記両電極
   基板の各々との間にそれぞれ設けられて互いに異なる二
   色性色素を含む各液晶層（３０、５０、７０）とを備
   え、 前記各積層体の絶縁膜が、視差を生じさせない程度に薄
   く形成されている積層型液晶セル。
3. 【請求項３】 両電極基板（１０、２０）の各内表面
   に、それぞれ、互いに異なる二色性色素を含む液晶層
   （３０、７０）を設ける工程と、 離型用基板（８０）の表面に電極（４２）を形成し、こ
   の電極を介し前記離型用基板の表面に絶縁膜（４０）を
   視差を生じさせない程度に薄く積層し、この絶縁膜に他
   の電極（４１）を積層して積層体として形成する工程
   と、 前記離型用基板をその積層体を介し前記両電極基板の一
   方（１０）の液晶層（３０）上に重ね合わせて前記積層
   体を前記液晶層に固着する工程と、 前記離型用基板を前記積層体から剥離する工程と、 前記両電極基板の他方（２０）をその液晶層（７０）を
   介し前記積層体上に重ね合わせる工程とを有する積層型
   液晶セルの製造方法。
4. 【請求項４】 両電極基板（１０、２０）の各内表面
   に、それぞれ、互いに異なる二色性色素を含む液晶層
   （３０、７０）を設ける工程と、 離型用基板（８０）の表面に電極（４２）を形成し、こ
   の電極を介し前記離型用基板の表面に絶縁膜（４０）を
   視差を生じさせない程度に薄く積層し、この絶縁膜に他
   の電極（４１）を積層して第１積層体として形成する工
   程と、 前記離型用基板を前記第１積層体を介し前記両電極基板
   の一方（１０）の液晶層（３０）上に重ね合わせて前記
   第１積層体を前記液晶層に固着する工程と、 前記離型用基板を前記第１積層体から剥離する工程と、 前記離型用基板の表面に前記第１積層体と同様に第２積
   層体（６２、６０、６１）を形成する工程と、 前記離型用基板を前記第２積層体を介し前記両電極基板
   の他方（２０）の液晶層（７０）上に重ね合わせてこの
   液晶層に前記第２積層体を固着する工程と、 前記離型用基板を前記第２積層体から剥離する工程と、 前記第１及び第２の積層体の一方に前記各二色性色素と
   は異なる二色性色素を含む液晶層（５０）を設ける工程
   と、 この工程で設けた液晶層に前記第１及び第２の積層体の
   他方を固着するように前記両電極基板を重ね合わせる工
   程とを有する積層型液晶セルの製造方法。