JPH1012697A - Substrate loading/unloading device - Google Patents

Substrate loading/unloading device

Info

Publication number
JPH1012697A
JPH1012697A JP8165460A JP16546096A JPH1012697A JP H1012697 A JPH1012697 A JP H1012697A JP 8165460 A JP8165460 A JP 8165460A JP 16546096 A JP16546096 A JP 16546096A JP H1012697 A JPH1012697 A JP H1012697A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
cassette
finger
processing
semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP8165460A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiromasa Shibata
浩匡 柴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP8165460A priority Critical patent/JPH1012697A/en
Publication of JPH1012697A publication Critical patent/JPH1012697A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the area by which the finger of a substrate transportation robot contacts the work surface of a substrate. SOLUTION: When a substrate 2 is unloaded from a substrate cassette 1, the substrate 3 is pushed out with an auxiliary arm 33 of an auxiliary robot 32, and the side surfaces of the substrate 3 are held with a finder 31 of a substrate transportation robot 30. When the substrate 3 is housed in the substrate cassette 1, the finger 31 of the substrate transportation robot 30 is moved to a place where it is housed, and then the finger 31 is opened. Since the substrate cassette 1 is placed on a substrate cassette stage 2 while tilted by an angle θagainst horizontal direction, the substrate 3 moves to an original position owing to gravity in natural manner.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板挿抜装置に関
し、特に、基板カセットに格納されている基板を挿抜す
る基板挿抜装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate insertion / extraction device, and more particularly to a substrate insertion / extraction device for inserting / extracting a substrate stored in a substrate cassette.

【0002】[0002]

【従来の技術】図11は、従来の基板挿抜装置を含む基
板加工装置の構成例を示す図である。
2. Description of the Related Art FIG. 11 is a view showing a configuration example of a substrate processing apparatus including a conventional substrate insertion / extraction apparatus.

【0003】この図において、基板カセット1は、基板
カセット載置台2上に載置されており、複数の基板3を
その表(おもて)面を上(図の上)にした状態で格納し
ている。また、基板カセット1は、基板3の加工面(加
工が施される面)が水平になるように基板3を格納して
いる。
[0003] In this figure, a substrate cassette 1 is mounted on a substrate cassette mounting table 2 and stores a plurality of substrates 3 with their front (front) surfaces up (up in the figure). doing. The substrate cassette 1 stores the substrates 3 so that the processing surface (the surface to be processed) of the substrates 3 is horizontal.

【0004】基板搬送ロボット4は、定盤5上に配置さ
れており、基板カセット1に格納されている基板3を1
枚ずつフィンガ6により真空吸着し、アーム11を移動
させることにより処理ステージ7まで搬送するととも
に、加工処理の終了した基板3を、処理ステージ7から
基板カセット1まで搬送し、元の位置に格納するように
なされている。また、基板3の裏面の加工処理を行う場
合は、フィンガ6を反転させることにより、基板3の裏
面が上(図の上)を向いた状態にすることが可能とされ
ている。
[0004] The substrate transport robot 4 is disposed on a surface plate 5, and transfers the substrates 3 stored in the substrate cassette 1 to each other.
The substrate 6 is vacuum-adsorbed one by one by the finger 6 and transferred to the processing stage 7 by moving the arm 11, and the substrate 3 after the processing is transferred from the processing stage 7 to the substrate cassette 1 and stored in the original position. It has been made like that. In the case where the processing of the back surface of the substrate 3 is performed, it is possible to turn the finger 6 upside down so that the back surface of the substrate 3 faces upward (upward in the figure).

【0005】加工光源8は、対物レンズ9を介して、処
理ステージ7上の所定の領域に光を照射するようになさ
れている。また、これら加工光源8と対物レンズ9は、
架台10上に配置されている。
[0005] The processing light source 8 irradiates a predetermined area on the processing stage 7 with light through the objective lens 9. The processing light source 8 and the objective lens 9 are
It is arranged on a gantry 10.

【0006】次に、この従来例の動作について説明す
る。
Next, the operation of this conventional example will be described.

【0007】基板3が格納された基板カセット1が基板
カセット載置台2上に配置されると、基板搬送ロボット
4は、基板3の表(おもて)面をフィンガ6により真空
吸着し、処理ステージ7まで搬送した後、処理ステージ
7の所定の位置に配置する。その結果、ステージ7上に
は、基板3が表(おもて)面を上に向けた状態で配置さ
れる。
When the substrate cassette 1 in which the substrates 3 are stored is placed on the substrate cassette mounting table 2, the substrate transfer robot 4 vacuum-adsorbs the front surface of the substrates 3 with the fingers 6 to perform processing. After being transported to the stage 7, it is arranged at a predetermined position on the processing stage 7. As a result, the substrate 3 is arranged on the stage 7 with its front (front) surface facing upward.

【0008】処理ステージ7上に基板3が配置される
と、加工光源8は、対物レンズ9を介して、基板3の所
定の領域に光を照射し、加工処理を開始する。また、こ
のとき、処理ステージ7は、水平方向に移動するととも
に、水平平面内で回転し、基板3の所定の領域に対して
光が照射されるようにする。
When the substrate 3 is placed on the processing stage 7, the processing light source 8 irradiates a predetermined area of the substrate 3 with light via the objective lens 9 and starts processing. At this time, the processing stage 7 moves in the horizontal direction and rotates in a horizontal plane so that a predetermined area of the substrate 3 is irradiated with light.

【0009】加工処理が終了すると、基板搬送ロボット
4は、処理の終了した基板3の表(おもて)面をフィン
ガ6により真空吸着し、基板カセット1まで搬送した
後、もとの場所に表面を上にした状態で格納する。
When the processing is completed, the substrate transfer robot 4 vacuum-adsorbs the front surface of the processed substrate 3 by the finger 6 and transports the substrate 3 to the substrate cassette 1 and then returns to the original place. Store with the surface up.

【0010】このような処理が繰り返され、基板カセッ
ト1に格納されている全ての基板3の表(おもて)面の
加工処理が終了すると、続いて、基板3の裏面の加工処
理が開始される。
When such processing is repeated and the processing of the front side of all the substrates 3 stored in the substrate cassette 1 is completed, the processing of the back side of the substrate 3 is started. Is done.

【0011】即ち、基板搬送ロボット4は、基板カセッ
ト1に格納されている基板3の裏面をフィンガ6により
真空吸着して取り出した後、反転させ、処理ステージ7
まで搬送し、所定の位置に配置する。その結果、処理ス
テージ7上には、基板3が裏面を上にした状態で配置さ
れることになる。
That is, the substrate transport robot 4 takes out the back surface of the substrate 3 stored in the substrate cassette 1 by vacuum suction with the finger 6, and then reverses the substrate 3.
Transported to a predetermined position. As a result, the substrate 3 is placed on the processing stage 7 with the back surface facing up.

【0012】裏面の加工処理が終了すると、基板搬送ロ
ボット4は、処理ステージ7上の基板3の裏面を真空吸
着し、基板カセット1まで搬送した後、もとの場所に格
納する。
When the processing of the back surface is completed, the substrate transfer robot 4 sucks the back surface of the substrate 3 on the processing stage 7 by vacuum suction, transfers it to the substrate cassette 1, and stores it in the original place.

【0013】このような処理が繰り返され、基板カセッ
ト1に格納されている全ての基板3の両面の加工処理が
完了する。
Such processing is repeated, and the processing of both surfaces of all the substrates 3 stored in the substrate cassette 1 is completed.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】以上に示す従来の基板
挿抜装置では、基板3の表面または裏面をフィンガ6に
より真空吸着するため、フィンガ6が基板3の加工面に
接触することになる。そのため、基板3の両面を加工す
る場合、加工面にごみなどが付着したり、傷がついたり
するという課題があった。
In the above-described conventional substrate insertion / extraction apparatus, the front surface or the back surface of the substrate 3 is vacuum-sucked by the finger 6, so that the finger 6 comes into contact with the processed surface of the substrate 3. Therefore, when both surfaces of the substrate 3 are processed, there is a problem that dirt or the like adheres to the processed surface or is scratched.

【0015】また、フィンガ6により、基板3を反転す
る場合、基板3が垂直になる瞬間がある。このとき、基
板3の加工面やフィンガ6の吸着面の状態によって、真
空吸着が不安定となり、その結果、基板3が落下する恐
れがあるという課題があった。
Further, when the substrate 3 is inverted by the finger 6, there is a moment when the substrate 3 becomes vertical. At this time, there is a problem that the vacuum suction becomes unstable depending on the state of the processing surface of the substrate 3 and the state of the suction surface of the finger 6, and as a result, the substrate 3 may drop.

【0016】以上のような課題を解決するために、基板
3を側面で把持するフィンガを有する基板搬送ロボット
を使用することが考えられる。しかしながら、基板3の
側面と基板カセット1との間の隙間は、基板3が簡単に
抜け落ちることを防止するために、非常に狭く設定され
ている。従って、そのような狭い隙間に前述のフィンガ
を挿入することが困難であるという課題があった。
In order to solve the above problems, it is conceivable to use a substrate transport robot having fingers for gripping the substrate 3 on the side. However, the gap between the side surface of the substrate 3 and the substrate cassette 1 is set very small in order to prevent the substrate 3 from easily falling off. Therefore, there is a problem that it is difficult to insert the finger into such a narrow gap.

【0017】本発明は、このような状況に鑑みてなされ
たものであり、基板3の加工面にごみ等が付着したり、
傷がついたりすることを防止するとともに、基板3が落
下して破損することを防止するものである。
The present invention has been made in view of such a situation, and dust or the like adheres to the processed surface of the substrate 3.
This prevents scratches and prevents the substrate 3 from dropping and being damaged.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の基板挿
抜装置は、基板を側面で把持する把持手段と、基板カセ
ットに格納されている基板を把持手段の所定の位置に移
動させる移動手段とを備えることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a substrate inserting / extracting device, comprising: gripping means for gripping a substrate on a side surface; and moving means for moving a substrate stored in a substrate cassette to a predetermined position of the gripping means. And characterized in that:

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】図1は、本発明を適用した半導体
基板加工装置の構成の一例を示す図である。この図にお
いて、図11と同一の部分には、同一の符号が付してあ
るので、その説明は省略する。
FIG. 1 is a view showing an example of the configuration of a semiconductor substrate processing apparatus to which the present invention is applied. In this figure, the same parts as those in FIG. 11 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0020】この実施例では、図11に示す従来例と比
較すると、基板搬送ロボット4が、基板3を側面で把持
するフィンガ31を有する基板搬送ロボット30(把持
手段)に置換されており、また、基板カセット1から基
板3を取り出す際に、補助的な役割を果たす補助アーム
33を有する補助ロボット32(移動手段)が新たに付
加されている。更に、基板カセット1は、水平方向に対
して角度θだけ傾いた状態で配置されている。なお、そ
の他の構成は図11における場合と同様である。
In this embodiment, as compared with the conventional example shown in FIG. 11, the substrate transfer robot 4 is replaced by a substrate transfer robot 30 (gripping means) having fingers 31 for gripping the substrate 3 on the side. An auxiliary robot 32 (moving means) having an auxiliary arm 33 that plays an auxiliary role when taking out the substrate 3 from the substrate cassette 1 is newly added. Further, the substrate cassette 1 is arranged in a state of being inclined by an angle θ with respect to the horizontal direction. Other configurations are the same as those in FIG.

【0021】補助ロボット32は、補助アーム33を上
下方向(図の上下方向)と左右方向(図の左右方向)に
移動可能とされており、この補助アーム33により、基
板カセット1に格納されている基板3を、基板搬送ロボ
ット30側に1枚ずつ押し出すようになされている。基
板搬送ロボット30は、補助ロボット32の補助アーム
33によって押し出された基板3の側面を、フィンガ3
1により把持するようになされている。
The auxiliary robot 32 is capable of moving the auxiliary arm 33 in the vertical direction (vertical direction in the figure) and the horizontal direction (horizontal direction in the figure), and is stored in the substrate cassette 1 by the auxiliary arm 33. The substrates 3 are extruded one by one toward the substrate transfer robot 30 side. The substrate transfer robot 30 holds the side of the substrate 3 pushed out by the auxiliary arm 33 of the auxiliary robot 32 with the finger 3
1 is used for gripping.

【0022】図2は、フィンガ31、補助アーム33、
基板3、および基板カセット1の関係を示す図である。
この図に示すように、フィンガ31は、2枚のフィンガ
31−1と31−2により構成されており、駆動部29
に内蔵されているモータにより、開閉されるようになさ
れている。基板3が半導体基板の場合は、その一部に長
さlのオリエンテーションフラット部が形成されている
が、各フィンガ31−1,31−2の長さは、このオリ
エンテーションフラット部の長さlよりも長くなるよう
に構成されている(即ち、長さAB>長さCD(=
l))。また、各フィンガ31−1,31−2の長さ
は、基板3の外周(円周)の1/4の長さよりもmだけ
長くなるように構成されている(基板3の円周の1/2
以上の部分がフィンガ31−1および31−2に接する
ように構成されている)。
FIG. 2 shows a finger 31, an auxiliary arm 33,
FIG. 3 is a diagram illustrating a relationship between a substrate 3 and a substrate cassette 1.
As shown in this figure, the finger 31 is composed of two fingers 31-1 and 31-2,
The motor is opened and closed by a motor built in. When the substrate 3 is a semiconductor substrate, an orientation flat portion having a length 1 is formed in a part thereof. The length of each finger 31-1, 31-2 is longer than the length 1 of the orientation flat portion. (Ie, length AB> length CD (=
l)). The length of each finger 31-1 and 31-2 is configured to be longer than the length of 1/4 of the outer circumference (circumference) of the substrate 3 by m (one of the circumference of the substrate 3). / 2
The above portions are configured to contact the fingers 31-1 and 31-2).

【0023】このように構成することにより、基板3に
オリエンテーションフラット部が形成されている場合に
おいても、基板3を確実に把持することが可能となる。
また、このような構成によれば、オリエンテーションフ
ラット部により基板3に印加される把持力が不均一とな
ることに起因する基板3への歪の発生を防止することが
できる。
With this configuration, even when the substrate 3 has an orientation flat portion, the substrate 3 can be securely held.
Further, according to such a configuration, it is possible to prevent the substrate 3 from being distorted due to non-uniform gripping force applied to the substrate 3 by the orientation flat portion.

【0024】また、補助アーム33の基板3に接する部
分の長さ(長さEF)は、基板3のオリエンテーション
フラット部の長さlよりも長くなるように構成されてい
る(即ち、長さEF>l)。このように構成することに
より、補助アーム33により基板カセット1から基板3
を確実に押し出すことができる。なお、補助アーム33
が基板3を移動させる場合のストロークは、sとされて
いる。
The length (length EF) of the portion of the auxiliary arm 33 in contact with the substrate 3 is configured to be longer than the length l of the orientation flat portion of the substrate 3 (that is, the length EF). > L). With this configuration, the auxiliary arm 33 moves the substrate 3 from the substrate cassette 1.
Can be reliably extruded. The auxiliary arm 33
The stroke when moving the substrate 3 is s.

【0025】次に、この実施例の動作を、図3を参照し
て説明する。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIG.

【0026】基板カセット載置台2上に基板カセット1
が載置されると、加工処理が開始される。補助ロボット
32は、補助アーム33を第1枚目の基板3の位置まで
移動させる。また、このとき、基板搬送ロボット30も
同様に、フィンガ31を第1枚目の基板3の位置まで移
動させるとともに、フィンガ31を開いた状態とする
(図3(a)に示す状態)。
The substrate cassette 1 is placed on the substrate cassette mounting table 2.
Is mounted, the processing is started. The auxiliary robot 32 moves the auxiliary arm 33 to the position of the first substrate 3. At this time, the substrate transfer robot 30 also moves the finger 31 to the position of the first substrate 3 and opens the finger 31 (a state shown in FIG. 3A).

【0027】続いて、基板搬送ロボット30は、基板カ
セット1にフィンガ31を更に接近させ、フィンガ31
を開いた状態で待機する(基板カセット1の外部で待機
する)。また、補助ロボット32の補助アーム33は、
第1枚目の基板3の押し出し動作を開始する(図3
(b)に示す状態)。
Subsequently, the substrate transfer robot 30 further brings the finger 31 closer to the substrate cassette 1 and
Open (wait outside the substrate cassette 1). The auxiliary arm 33 of the auxiliary robot 32 is
The pushing operation of the first substrate 3 is started (FIG. 3
(State shown in (b)).

【0028】なお、図4に示すように、補助アーム33
の厚さdは、1枚の基板3を挟んだ2枚の基板3の間の
距離p(≒基板3のピッチ×2)よりも十分薄く形成さ
れているので、補助アーム33を基板カセット1にスム
ーズに挿入することができる。また、この図に示すよう
に、フィンガ31と補助アーム33にはV字溝35,3
6がそれぞれ形成されており、これによりV字溝35,
36の奥まで基板3がスムーズに入るとともに、基板3
を確実に保持することができる。これらのV字溝35,
36の側面の角度(テーパー角)は、水平方向に対し
て、例えば、10゜程度とされている。
Incidentally, as shown in FIG.
Is sufficiently thinner than the distance p between two substrates 3 sandwiching one substrate 3 (2pitch of substrate 3 × 2), so that the auxiliary arm 33 is connected to the substrate cassette 1. Can be inserted smoothly. As shown in this figure, V-shaped grooves 35, 3 are formed in the finger 31 and the auxiliary arm 33.
6 are respectively formed, whereby the V-shaped grooves 35,
36 smoothly enters the substrate 3 into the
Can be reliably held. These V-shaped grooves 35,
The angle of the side surface (taper angle) of the 36 is, for example, about 10 ° with respect to the horizontal direction.

【0029】続いて、補助アーム33は、基板3を更に
押し出し、フィンガ31の所定の位置まで移動させる
(図3(c)に示す状態)。
Subsequently, the auxiliary arm 33 further pushes out the substrate 3 and moves it to a predetermined position of the finger 31 (the state shown in FIG. 3C).

【0030】そして、基板搬送ロボット30はフィンガ
31を閉じ、基板3を側面で把持する(図3(d)に示
す状態)。
Then, the substrate transfer robot 30 closes the finger 31 and grips the substrate 3 from the side (the state shown in FIG. 3D).

【0031】なお、基板搬送ロボット30のフィンガ3
1を開閉する駆動部29(図2参照)に内蔵されている
モータ(図示せず)は、最大出力が制御可能とされてい
る。このようなモータを使用することにより、把持する
力(把持力)を基板3の材質や強度に応じて調節するこ
とができるので、過大な把持力による基板3の破損を防
止することができる。
The fingers 3 of the substrate transfer robot 30
The motor (not shown) incorporated in the drive unit 29 (see FIG. 2) that opens and closes the motor 1 can control the maximum output. By using such a motor, the gripping force (gripping force) can be adjusted according to the material and strength of the substrate 3, so that damage to the substrate 3 due to excessive gripping force can be prevented.

【0032】そして、補助ロボット32は、補助アーム
33を後退させる。また、基板搬送ロボット30は、基
板3を把持したまま、搬送を開始する(図3(e)に示
す状態)。
Then, the auxiliary robot 32 moves the auxiliary arm 33 backward. Further, the substrate transfer robot 30 starts the transfer while holding the substrate 3 (the state shown in FIG. 3E).

【0033】その後、基板搬送ロボット30は、処理ス
テージ7まで基板3を搬送し、処理ステージ7の所定の
位置に配置する。
Thereafter, the substrate transfer robot 30 transfers the substrate 3 to the processing stage 7 and arranges the substrate 3 at a predetermined position on the processing stage 7.

【0034】続いて、加工光源8は対物レンズ9を介し
て、処理ステージ7上に配置されている基板3の所定の
領域に光を照射し、加工処理を開始する。加工処理が終
了すると、基板搬送ロボット30は、処理ステージ7上
の基板3をフィンガ31により把持し、基板カセット1
まで搬送する。
Subsequently, the processing light source 8 irradiates a predetermined area of the substrate 3 arranged on the processing stage 7 with light through the objective lens 9 to start the processing. When the processing is completed, the substrate transfer robot 30 grasps the substrate 3 on the processing stage 7 by the finger 31 and
Transport to

【0035】基板搬送ロボット30は、基板3が格納さ
れていた場所まで、フィンガ31を移動させる。そし
て、基板3のフィンガ31からはみ出している部分を基
板カセット1に挿入し、フィンガ31を開く。基板カセ
ット1は、水平方向に対してθ(0<θ≦90)だけ傾
いた基板カセット載置台2上に載置されているので、基
板3は、重力により自然に右方向(図の右方向)に移動
を開始する。
The substrate transfer robot 30 moves the finger 31 to the place where the substrate 3 is stored. Then, the portion of the substrate 3 protruding from the finger 31 is inserted into the substrate cassette 1 and the finger 31 is opened. Since the substrate cassette 1 is mounted on the substrate cassette mounting table 2 inclined by θ (0 <θ ≦ 90) with respect to the horizontal direction, the substrate 3 naturally moves rightward (right direction in the drawing) by gravity. ) To start moving.

【0036】図5に示すように、基板カセット1の内側
の側面には、深さdの溝40が形成されており、側面の
2つの溝40を含めた水平方向の幅はrとされており、
これは基板3の直径より多少大きくなるようになされて
いる。また、この溝40は、基板カセット1の途中まで
しか形成されていないので、基板3は基板カセット1の
中央付近まで来ると重力による移動を停止され、そこで
保持されることになる。
As shown in FIG. 5, a groove 40 having a depth d is formed on the inner side surface of the substrate cassette 1, and the horizontal width including the two grooves 40 on the side surface is r. Yes,
This is made slightly larger than the diameter of the substrate 3. Further, since the groove 40 is formed only halfway in the substrate cassette 1, when the substrate 3 reaches the vicinity of the center of the substrate cassette 1, the movement of the substrate 3 due to gravity is stopped and held there.

【0037】以上のような一連の動作により、第1枚目
の基板3の加工処理が終了する。同様の動作は、基板カ
セット1に格納されている全ての基板3の表(おもて)
面に対して実行され、表(おもて)面の加工処理を終了
する。
With the above series of operations, the processing of the first substrate 3 is completed. A similar operation is performed in a table (front) of all the substrates 3 stored in the substrate cassette 1.
The processing is performed on the surface, and the processing of the front (front) surface is completed.

【0038】続いて、基板3の裏面の加工処理が実行さ
れるが、裏面の加工処理では、基板搬送ロボット30の
フィンガ31により、基板3を反転して(裏面を上にし
て)から、処理ステージ7に配置される点を除けば前述
の場合と同様である。
Subsequently, the processing of the back surface of the substrate 3 is performed. In the processing of the back surface, the substrate 3 is inverted (the back surface is turned up) by the fingers 31 of the substrate transfer robot 30, and then the processing is performed. This is the same as the above-described case except that it is arranged on the stage 7.

【0039】そして、裏面の処理が全て終了すると、加
工処理を完了する。
When all the processing on the back surface is completed, the processing is completed.

【0040】以上のような実施例によれば、フィンガ3
1が基板3の加工面に接触する面積を小さくすることが
できるため、ごみの付着を防ぐとともに、加工面が傷つ
けられることを防止することができる。また、フィンガ
31には、V字溝35が形成されており、このV字溝3
5により基板3を確実に保持することができるので、フ
ィンガ31をどのような角度にした場合でも、基板3の
落下を防止することが可能となる。
According to the above embodiment, the finger 3
Since the area of the substrate 1 in contact with the processing surface of the substrate 3 can be reduced, it is possible to prevent dust from adhering and prevent the processing surface from being damaged. The finger 31 has a V-shaped groove 35 formed therein.
5, the substrate 3 can be securely held, so that it is possible to prevent the substrate 3 from falling even if the finger 31 is at any angle.

【0041】図6は、本発明を適用した投影露光装置の
構成の一例を示す図である。この図において、図1と同
一の部分には同一の符号が付してあるので、その説明は
省略する。
FIG. 6 is a diagram showing an example of the configuration of a projection exposure apparatus to which the present invention is applied. In this figure, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0042】この実施例では、加工光源8と対物レンズ
9が、露光光源50、光量制御/光ビーム整形光学系
(以下、光量制御系と略記する)51、および、縮小投
影レンズ54に置換されている。また、基板カセット1
には加工面にフォトレジストが塗布されている半導体基
板34が格納されている。その他の構成は、図1におけ
る場合と同様である。
In this embodiment, the processing light source 8 and the objective lens 9 are replaced by an exposure light source 50, a light quantity control / light beam shaping optical system (hereinafter abbreviated as light quantity control system) 51, and a reduction projection lens 54. ing. Also, the substrate cassette 1
Stores a semiconductor substrate 34 having a processed surface coated with a photoresist. Other configurations are the same as those in FIG.

【0043】露光光源50は、光源52から放射された
紫外線などの光を反射鏡で反射し、光量制御系51に入
射する。光量制御系51は、入射された光の光量を調節
するとともに、所定の断面形状を有する光ビームに整形
し、マスク53を介して、縮小投影レンズ54に入射さ
せる。縮小投影レンズ54は、光量制御系51から入射
された光ビームを処理ステージ7上に配置されている半
導体基板34の所定の領域に照射するようになされてい
る。
The exposure light source 50 reflects light such as ultraviolet light radiated from the light source 52 with a reflecting mirror and enters the light quantity control system 51. The light amount control system 51 adjusts the light amount of the incident light, shapes the light beam into a light beam having a predetermined cross-sectional shape, and causes the light beam to enter the reduction projection lens 54 via the mask 53. The reduction projection lens 54 irradiates a predetermined area of the semiconductor substrate 34 disposed on the processing stage 7 with a light beam incident from the light amount control system 51.

【0044】また、半導体基板34の加工面には、前述
のようにフォトレジストが塗布されており、このフォト
レジストは、マスク53を透過した光ビームのパターン
に応じて、分解または架橋反応を生ずるので、マスク5
3に形成されているパターンが半導体基板34上に転写
されることになる。
As described above, a photoresist is applied to the processed surface of the semiconductor substrate 34, and this photoresist undergoes decomposition or cross-linking reaction in accordance with the pattern of the light beam transmitted through the mask 53. So mask 5
3 is transferred onto the semiconductor substrate 34.

【0045】なお、この実施例の動作は、半導体基板3
4にマスク53のパターンが投影露光される点を除け
ば、図1の場合と同様であるのでその説明は省略する。
The operation of this embodiment is based on the semiconductor substrate 3
4 is the same as that of FIG. 1 except that the pattern of the mask 53 is projected and exposed, and a description thereof will be omitted.

【0046】このような実施例によれば、図1の実施例
の場合と同様に、加工面にごみが付着したり、傷がつい
たりすることを防止することができるとともに、加工面
に塗布されているフォトレジストがフィンガ31との接
触により剥離することを防ぐことができる。
According to such an embodiment, as in the embodiment of FIG. 1, it is possible to prevent dust from being attached to the processing surface and to prevent scratching, and to apply the coating to the processing surface. It is possible to prevent the removed photoresist from coming into contact with the finger 31.

【0047】図7は、本発明を適用した投影露光装置の
他の構成の一例を示す図である。この図において、図6
と同一の部分には同一の符号が付してあるので、その説
明は省略する。
FIG. 7 is a diagram showing an example of another configuration of the projection exposure apparatus to which the present invention is applied. In this figure, FIG.
The same parts as those described above are denoted by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted.

【0048】この実施例では、基板カセット1が水平方
向に対して直角(θ=90゜)になるように配置されて
いる。また、補助ロボット32も同様に水平方向に対し
て直角となるように配置されている。なお、その他の構
成は、図7に示す場合と同様である。
In this embodiment, the substrate cassette 1 is disposed so as to be perpendicular to the horizontal direction (θ = 90 °). Similarly, the auxiliary robot 32 is also arranged so as to be perpendicular to the horizontal direction. The other configuration is the same as that shown in FIG.

【0049】なお、このような実施例では、露光処理が
終了した半導体基板34を基板カセット1に格納する際
に、フィンガ31が開かれると、半導体基板34は、図
6に示す実施例に比べて大きな速度で落下する。従っ
て、落下の衝撃で、半導体基板34が損傷することを防
止するため、この実施例では、図3に示す逆のシーケン
ス(図3(e)乃至図3(a)のシーケンス)により、
半導体基板34が基板カセット1に格納される。
In such an embodiment, when the fingers 31 are opened when the semiconductor substrate 34 after the exposure processing is stored in the substrate cassette 1, the semiconductor substrate 34 is compared with the embodiment shown in FIG. Fall at a large speed. Therefore, in order to prevent the semiconductor substrate 34 from being damaged by the impact of the drop, in this embodiment, the reverse sequence shown in FIG. 3 (the sequence of FIGS. 3E to 3A) is used.
The semiconductor substrate 34 is stored in the substrate cassette 1.

【0050】即ち、半導体基板34の急激な落下を防止
するため、フィンガ31が開かれる前に補助アーム33
が基板カセット1に挿入される(図3(e),(d)に
示す状態)。フィンガ31が開かれると(図3(c)に
示す状態)、半導体基板34は補助アーム33に先導さ
れる形で所定の位置まで移動される(図3(b),
(a)に示す状態)。
That is, in order to prevent the semiconductor substrate 34 from dropping suddenly, the auxiliary arm 33 is opened before the finger 31 is opened.
Is inserted into the substrate cassette 1 (the state shown in FIGS. 3E and 3D). When the finger 31 is opened (the state shown in FIG. 3C), the semiconductor substrate 34 is moved to a predetermined position by being led by the auxiliary arm 33 (FIG. 3B,
(State shown in (a)).

【0051】このような実施例では、半導体基板34を
基板カセット1の内部に移動させようとする力(この場
合では、下向きの力)が最大となるので、半導体基板3
4と基板カセット1の溝40との間の摩擦が大きい場合
でも、半導体基板34を基板カセット1の所定の位置ま
で確実に格納することが可能となる。
In such an embodiment, the force for moving the semiconductor substrate 34 into the substrate cassette 1 (in this case, the downward force) is maximized.
Even when the friction between the substrate cassette 4 and the groove 40 of the substrate cassette 1 is large, the semiconductor substrate 34 can be reliably stored to a predetermined position of the substrate cassette 1.

【0052】図8は、基板カセットの他の構成の一例を
示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing an example of another configuration of the substrate cassette.

【0053】この基板カセット70は、基板3の加工面
が水平方向に対して角度θ(0゜<θ≦90゜)だけ傾
いた状態で、基板3を保持するようになされている。ま
た、図9に示すように、基板カセット70の内側の側壁
には溝72が形成されており、この溝72に沿って基板
3が挿入される。更に、基板カセット70の内側の側壁
には、基板3を所定の場所で固定するためのストッパ7
1が形成されている。
The substrate cassette 70 holds the substrate 3 in a state where the processing surface of the substrate 3 is inclined by an angle θ (0 ° <θ ≦ 90 °) with respect to the horizontal direction. Further, as shown in FIG. 9, a groove 72 is formed on the inner side wall of the substrate cassette 70, and the substrate 3 is inserted along the groove 72. Further, a stopper 7 for fixing the substrate 3 at a predetermined position is provided on the inner side wall of the substrate cassette 70.
1 is formed.

【0054】このような実施例によれば、基板カセット
載置台2を傾ける必要がなくなるので、投影露光装置側
の構成を簡単にすることができる。また、基板3には、
ストッパ71の方向への力(重力)が常に働くことにな
るので、例えば、基板カセット70を搬送する際に、基
板3が基板カセット70から滑り落ちることを防止する
ことができる。なお、このような基板カセット70を使
用する際は、補助ロボット32の補助アーム33の動作
方向を、角度θに合わせて設定する。また、基板搬送ロ
ボット30のフィンガ31の動作方向も同様に設定す
る。
According to such an embodiment, it is not necessary to tilt the substrate cassette mounting table 2, so that the configuration on the projection exposure apparatus side can be simplified. Also, the substrate 3 has
Since the force (gravity) in the direction of the stopper 71 always acts, it is possible to prevent the substrate 3 from slipping off the substrate cassette 70 when the substrate cassette 70 is transported, for example. When using such a substrate cassette 70, the operation direction of the auxiliary arm 33 of the auxiliary robot 32 is set according to the angle θ. The operation direction of the finger 31 of the substrate transfer robot 30 is set in the same manner.

【0055】なお、以上の実施例では、フィンガ31−
1,31−2を開閉する駆動部29のモータの最大出力
を調節することにより、把持力を制御するようにした
が、例えば、フィンガ31−1,31−2に圧力センサ
を設け、この圧力センサからの出力に応じてモータの出
力を制御するようにしてもよい。また、モータの出力を
バネを介してフィンガ31−1,31−2に伝達するこ
とにより、把持力を一定にするように構成してもよい。
In the above embodiment, the finger 31-
The gripping force is controlled by adjusting the maximum output of the motor of the drive unit 29 that opens and closes the first and third units. The output of the motor may be controlled according to the output from the sensor. Alternatively, the output of the motor may be transmitted to the fingers 31-1 and 31-2 via a spring to thereby make the gripping force constant.

【0056】また、本実施例の基板搬送ロボット30
は、基板3または半導体基板34を機械的な力で把持す
るように構成したが、本発明は、このような構成のみに
限定されるものではなく、例えば、基板3または半導体
基板34の側面部を真空吸着するように構成してもよ
い。
Further, the substrate transfer robot 30 of the present embodiment
Is configured to hold the substrate 3 or the semiconductor substrate 34 by mechanical force. However, the present invention is not limited to only such a configuration. May be configured to be vacuum-adsorbed.

【0057】その場合、図10に示すように、フィンガ
31の基板3(または半導体基板34)に接する部分
に、所定の間隔で仕切90を形成するとともに、仕切の
間に少なくとも1つ以上の排気孔91を設け、仕切の間
の空気を排気孔91および排気パイプ92を介して排出
させ、基板3の側面部を真空吸着するようにしてもよ
い。このような構成によれば、基板3にオリエンテーシ
ョンフラット部が形成されている場合においても、基板
3を確実に吸着することが可能となる。
In this case, as shown in FIG. 10, partitions 90 are formed at predetermined intervals in portions of the fingers 31 which are in contact with the substrate 3 (or the semiconductor substrate 34), and at least one or more exhausts are provided between the partitions. A hole 91 may be provided, and air between the partitions may be exhausted through the exhaust hole 91 and the exhaust pipe 92 so that the side surface of the substrate 3 is vacuum-adsorbed. According to such a configuration, even when the orientation flat portion is formed on the substrate 3, the substrate 3 can be surely sucked.

【0058】[0058]

【発明の効果】請求項1に記載の基板挿抜装置によれ
ば、把持手段により基板を側面で把持し、基板カセット
に格納されている基板を把持手段の所定の位置に移動手
段が移動させるようにしたので、把持手段が基板の加工
面に接触する面積を小さくすることができるため、加工
面にごみが付着したり、傷がついたりすることを防止す
ることができるとともに、基板が落下して損傷すること
を防止することができる。
According to the first aspect of the present invention, the substrate is gripped on the side face by the gripping means, and the moving means moves the substrate stored in the substrate cassette to a predetermined position of the gripping means. Since the area in which the gripping means contacts the processing surface of the substrate can be reduced, it is possible to prevent dust from being attached to the processing surface and to prevent scratching, and to prevent the substrate from dropping. Damage can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用した基板加工装置の構成の一例を
示す図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a configuration of a substrate processing apparatus to which the present invention has been applied.

【図2】図1に示すフィンガ31、補助アーム33、基
板3、および基板カセット1の関係を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a relationship among a finger 31, an auxiliary arm 33, a substrate 3, and a substrate cassette 1 shown in FIG.

【図3】図1に示すフィンガ31と補助アーム33の一
連の動作の一例を示す図である。
3 is a diagram showing an example of a series of operations of a finger 31 and an auxiliary arm 33 shown in FIG.

【図4】図3(b)に示す状態を側面から見た場合の図
である。
FIG. 4 is a diagram when the state shown in FIG. 3B is viewed from the side.

【図5】図1に示す基板カセット1の内部の構成の一例
を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an example of an internal configuration of the substrate cassette 1 shown in FIG.

【図6】本発明を適用した投影露光装置の構成の一例を
示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an example of a configuration of a projection exposure apparatus to which the present invention is applied.

【図7】本発明を適用した投影露光装置の他の構成の一
例を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing an example of another configuration of the projection exposure apparatus to which the present invention is applied.

【図8】基板カセットの他の構成の一例を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram showing an example of another configuration of the substrate cassette.

【図9】図8に示す基板カセット70の内部の構成の一
例を示す図である。
9 is a diagram showing an example of an internal configuration of the substrate cassette 70 shown in FIG.

【図10】図1に示すフィンガ31の他の構成の一例を
示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing another example of the configuration of the finger 31 shown in FIG. 1;

【図11】従来の基板加工装置の構成例を示す図であ
る。
FIG. 11 is a diagram illustrating a configuration example of a conventional substrate processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板カセット 3 基板 7 処理ステージ 8 加工光源 9 対物レンズ 30 基板搬送ロボット(把持手段) 31 フィンガ 32 補助ロボット(移動手段) 33 補助アーム 34 半導体基板 35,36 V字溝 50 露光光源 51 光量制御/光ビーム整形光学系 54 縮小投影レンズ 70 基板カセット REFERENCE SIGNS LIST 1 substrate cassette 3 substrate 7 processing stage 8 processing light source 9 objective lens 30 substrate transfer robot (gripping means) 31 finger 32 auxiliary robot (moving means) 33 auxiliary arm 34 semiconductor substrate 35, 36 V-shaped groove 50 exposure light source 51 light intensity control / Light beam shaping optical system 54 Reduction projection lens 70 Substrate cassette

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板カセットに格納されている基板を挿
抜する基板挿抜装置であって、 前記基板を側面で把持する把持手段と、 前記基板カセットに格納されている前記基板を前記把持
手段の所定の位置に移動させる移動手段とを備えること
を特徴とする基板挿抜装置。
1. A substrate insertion / extraction device for inserting / extracting a substrate stored in a substrate cassette, comprising: gripping means for gripping the substrate on a side surface; and a predetermined holding means for gripping the substrate stored in the substrate cassette. And a moving means for moving the substrate to a position.
【請求項2】 前記基板カセットは、前記基板の加工面
が水平方向に対してθ(0°<θ≦90°)だけ傾いた
状態で前記基板を格納していることを特徴とする請求項
1に記載の基板挿抜装置。
2. The substrate cassette according to claim 1, wherein said substrate cassette stores said substrate in a state where a processing surface of said substrate is inclined by θ (0 ° <θ ≦ 90 °) with respect to a horizontal direction. 2. The substrate insertion / extraction device according to 1.
【請求項3】 前記移動手段は、水平方向に対して前記
θだけ傾いた平面上を平行移動することを特徴とする請
求項2に記載の基板挿抜装置。
3. The apparatus according to claim 2, wherein the moving means moves in parallel on a plane inclined by θ with respect to a horizontal direction.
【請求項4】 前記把持手段の前記基板に接する部分に
は、前記基板の厚さに応じて所定のテーパ角を有する溝
が形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何
れかに記載の基板挿抜装置。
4. The device according to claim 1, wherein a groove having a predetermined taper angle according to the thickness of the substrate is formed in a portion of the gripping means that contacts the substrate. A substrate insertion / extraction device according to item 1.
【請求項5】 前記移動手段の前記基板に接する部分に
は、前記基板の厚さに応じて所定のテーパ角を有する溝
が形成されていることを特徴とする請求項1乃至4の何
れかに記載の基板挿抜装置。
5. The device according to claim 1, wherein a groove having a predetermined taper angle in accordance with a thickness of the substrate is formed in a portion of the moving unit in contact with the substrate. A substrate insertion / extraction device according to item 1.
【請求項6】 前記把持手段は、前記基板の強度に応じ
て、前記基板を把持する力を加減することを特徴とする
請求項1乃至5の何れかに記載の基板挿抜装置。
6. The substrate insertion / extraction device according to claim 1, wherein the gripping means adjusts a force for gripping the substrate according to the strength of the substrate.
【請求項7】 前記基板は半導体基板であることを特徴
とする請求項1乃至6の何れかに記載の基板挿抜装置。
7. The substrate insertion / extraction device according to claim 1, wherein the substrate is a semiconductor substrate.
【請求項8】 前記把持手段を構成する各フィンガの前
記半導体基板に接する部分の長さは、前記半導体基板の
オリエンテーションフラット部の長さよりも長いことを
特徴とする請求項7に記載の基板挿抜装置。
8. The substrate insertion / extraction according to claim 7, wherein a length of a portion of each finger constituting the gripping means, which is in contact with the semiconductor substrate, is longer than a length of an orientation flat portion of the semiconductor substrate. apparatus.
【請求項9】 前記把持手段を構成する各フィンガの前
記半導体基板に接する部分の長さは、前記半導体基板の
外周の長さの少なくとも1/4以上であることを特徴と
する請求項7に記載の基板挿抜装置。
9. The semiconductor device according to claim 7, wherein the length of a portion of each of the fingers constituting the holding means, which is in contact with the semiconductor substrate, is at least 1 / or more of the length of the outer periphery of the semiconductor substrate. The board insertion / extraction device according to the above.
【請求項10】 前記移動手段の前記半導体基板と接す
る部分の長さは、前記半導体基板のオリエンテーション
フラット部の長さよりも長いことを特徴とする請求項7
乃至9の何れかに記載の基板挿抜装置。
10. The semiconductor device according to claim 7, wherein a length of a portion of said moving means in contact with said semiconductor substrate is longer than a length of an orientation flat portion of said semiconductor substrate.
10. The substrate insertion / extraction device according to any one of claims 9 to 9.
JP8165460A 1996-06-26 1996-06-26 Substrate loading/unloading device Withdrawn JPH1012697A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8165460A JPH1012697A (en) 1996-06-26 1996-06-26 Substrate loading/unloading device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8165460A JPH1012697A (en) 1996-06-26 1996-06-26 Substrate loading/unloading device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1012697A true JPH1012697A (en) 1998-01-16

Family

ID=15812847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8165460A Withdrawn JPH1012697A (en) 1996-06-26 1996-06-26 Substrate loading/unloading device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1012697A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004524709A (en) * 2001-04-28 2004-08-12 ライカ マイクロシステムス イェーナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Wafer holding device
WO2009025052A1 (en) * 2007-08-23 2009-02-26 Hirata Corporation Component transfer device and method
JP2012178423A (en) * 2011-02-25 2012-09-13 Nsk Technology Co Ltd Exposure unit and prealignment method of wafer
CN105023859A (en) * 2015-07-29 2015-11-04 北京中拓光电科技有限公司 Automatic detection device of semiconductor chip

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004524709A (en) * 2001-04-28 2004-08-12 ライカ マイクロシステムス イェーナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Wafer holding device
WO2009025052A1 (en) * 2007-08-23 2009-02-26 Hirata Corporation Component transfer device and method
JP4875160B2 (en) * 2007-08-23 2012-02-15 平田機工株式会社 Parts transfer device
TWI406798B (en) * 2007-08-23 2013-09-01 Hirata Spinning Apparatus for transferring parts
US8696293B2 (en) 2007-08-23 2014-04-15 Hirata Corporation Component transfer device and method
US9193531B2 (en) 2007-08-23 2015-11-24 Hirata Corporation Component transfer device and method
DE112007003627B4 (en) * 2007-08-23 2017-07-13 Hirata Corp. Apparatus and method for transferring components
JP2012178423A (en) * 2011-02-25 2012-09-13 Nsk Technology Co Ltd Exposure unit and prealignment method of wafer
CN105023859A (en) * 2015-07-29 2015-11-04 北京中拓光电科技有限公司 Automatic detection device of semiconductor chip

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2619742B2 (en) Method and apparatus for transporting plate-shaped substrate
JP2919158B2 (en) Substrate holding device
JP4510609B2 (en) Substrate and mask alignment method, organic thin film deposition method, and alignment apparatus
JP2002224982A (en) Thin substrate transfer robot and detection method of the same
JP2004071730A (en) Reticle handling method, reticle handling unit, and exposure system
JPH1012697A (en) Substrate loading/unloading device
JP2001237306A (en) Substrate hand, carrier device, inspection device, and flat substrate accommodation device
JP4459844B2 (en) Semiconductor chip mounting equipment
JP2862632B2 (en) Vertical transfer device for substrates
JP2889449B2 (en) Cleaning equipment
JPH09272095A (en) Plate-shaped object conveying robot
JPH1012696A (en) Substrate carrying device
JPH06345261A (en) Transporting hand of automatic transport device
JPH07249671A (en) Carrier
JP3217110B2 (en) Transfer device
JP2003060011A (en) Substrate conveyance apparatus and substrate treatment system
JPH0611069B2 (en) Wafer aligner
JPH05323251A (en) Substrate conveying mechanism for proximity exposing device
JP3174452B2 (en) Substrate detection method
JP2003060010A (en) Substrate conveyance apparatus and substrate treatment system
JP3330447B2 (en) Substrate positioning method and substrate positioning device
JPH04252046A (en) Wafer transfer apparatus
JP2004140147A (en) Detecting device and processing system for body to be transferred
JPH07176595A (en) Board conveyer
JP2859118B2 (en) Substrate transfer device

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20030902