JPH10116442A - Optical disk substrate - Google Patents

Optical disk substrate

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JPH10116442A
JPH10116442A JP9246993A JP24699397A JPH10116442A JP H10116442 A JPH10116442 A JP H10116442A JP 9246993 A JP9246993 A JP 9246993A JP 24699397 A JP24699397 A JP 24699397A JP H10116442 A JPH10116442 A JP H10116442A
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block copolymer
styrene
segment
optical disk
disk substrate
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Seiichi Mukai
誠一 向井
Shuichi Maeda
修一 前田
Ryoko Kojika
涼子 小鹿
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve heat resistance, mechanical characteristics and chemical resistance by using a polyvinyl cyclohexane block copolymer which is obtd. by hydrogenation of aromatic rings in a specified styrene-based block copolymer. SOLUTION: This styrene-based block copolymer can be easily obtd. by a well-known polymn. of A segment and B segment such as so-called living anion copolym., for example, by using an org. lithium compd. as an initiator in a hydrocarbon solvent such as hexane and heptane. In this block copolymer, the ratio of A segment to B segment is 60/40 to 99/1, preferably 90/10 to 99/1. Then the aromatic rings in the obtd. copolymer are hydrogenated in the presence of a hydrogenation catalyst having hydrogenating ability for aromatic rings to obtain a polyvinyl cyclohexane block copolymer. When the copolymer is formed into an optical disk, its double refractivity index is <=30nm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光ディスク基板に係
り、特に、ポリビニルシクロヘキサン系ブロック共重合
体からなる光ディスク基板に関する。
The present invention relates to an optical disk substrate, and more particularly to an optical disk substrate made of a polyvinylcyclohexane-based block copolymer.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザーを用いた光学記録は高密度の情
報記録、保存、及び再生が可能であるため、近年その開
発が積極的に行なわれている。この様な光学記録の一例
として光ディスクを挙げることが出来る。一般に光ディ
スクは、透明な基板とその上にコートされた種々の記録
媒体とから基本的に構成される。
2. Description of the Related Art Optical recording using a laser is capable of recording, storing, and reproducing information at high density, and has been actively developed in recent years. An example of such optical recording is an optical disk. Generally, an optical disc is basically composed of a transparent substrate and various recording media coated thereon.

【0003】光ディスクの透明基板には無色透明な合成
樹脂が用いられるケースが多く、その代表的なものとし
てポリカーボネート(以下、「PC」と略称する。)又
はポリメチルメタクリレート(以下、「PMMA」と略
称する。)を挙げることができる。これらの樹脂は無色
透明性に秀いでる他、夫々に固有の優れた性質を有する
ものではあるが、光学材料、特に光ディスク基板として
の要件を全て備えている訳ではなく、解決すべき問題点
を有している。例えば、PCにおいてはその芳香族環に
起因する複屈折性の問題があり、また、吸水性或いは透
水性においても問題がある。一方、PMMAにおいて
は、耐熱性、吸水性、靭性の面における問題点がかねて
より指摘されている。
[0003] In many cases, a transparent substrate of an optical disk is made of a colorless and transparent synthetic resin. Typical examples thereof include polycarbonate (hereinafter abbreviated as "PC") and polymethyl methacrylate (hereinafter "PMMA"). Abbreviations). These resins excel in colorless transparency and have excellent properties unique to each.However, they do not have all the requirements for optical materials, especially for optical disc substrates. have. For example, PC has a problem of birefringence caused by the aromatic ring, and also has a problem of water absorption or water permeability. On the other hand, problems in terms of heat resistance, water absorption and toughness have been pointed out in PMMA.

【0004】このように、これらの樹脂は夫々固有の問
題点を内在させつつ使用に供されているのであるが、実
際には更に、これらの樹脂よりなる透明基板の上にコー
トされる記録媒体との関係において、後述のような新た
な問題が生じている。
[0004] As described above, these resins are used while incorporating their own inherent problems. In practice, however, a recording medium coated on a transparent substrate made of these resins is further used. In this connection, a new problem described below has arisen.

【0005】一方、記録媒体については、従来より光デ
ィスクの用途に応じて多岐にわたる開発が行なわれてい
る。例えば、ライト・ワンス型と呼ばれる記録−再生専
用のものでは穴あけタイプのものが、またイレーザブル
型と呼ばれる、記録−再生−消去−再記録用のもので
は、結晶転移現象を利用した相転移タイプのもの、光磁
気効果を利用した光磁気タイプのもの等が知られてい
る。これらの記録媒体用材料は、ライト・ワンス型では
テルル又はその酸化物、合金化合物等、イレーザブル型
では、Gd・Fe/TbFe、Gd・Fe・Co/Tb
・FeCoといった希土類−遷移金属のアモルファス合
金化合物等、無機系材料が主流とされており、一般に高
真空下でのスパッタリング等の乾式処法により、透明基
板上に成膜することにより形成されている。
On the other hand, various developments have been made on recording media in accordance with the use of optical disks. For example, a write-once type dedicated to recording and reproduction is a drilling type, and an erasable type for recording-reproduction-erasing-re-recording is a phase transition type utilizing a crystal transition phenomenon. And a magneto-optical type utilizing the magneto-optical effect are known. These recording medium materials include tellurium or its oxide and alloy compounds in the write-once type, and Gd.Fe / TbFe and Gd.Fe.Co/Tb in the erasable type.
-Inorganic materials such as rare earth-transition metal amorphous alloy compounds such as FeCo are mainly used, and are generally formed by forming a film on a transparent substrate by a dry processing method such as sputtering under a high vacuum. .

【0006】一方、記録媒体として有機溶剤に可溶な有
機色素系材料についても検討がなされており、これを塗
布方式で媒体成膜することができるならば、無機系材料
における様な特殊且つ高価な装置を用いる必要もなくな
り、生産性の向上と相まって将来のコストダウン化への
大きな道がひらけるであろうと云われている。
On the other hand, an organic dye-based material soluble in an organic solvent has been studied as a recording medium, and if it can be formed into a medium by a coating method, a special and expensive material such as an inorganic material is used. It is no longer necessary to use a simple device, and it is said that, in conjunction with the improvement in productivity, a great road to cost reduction in the future will be opened.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、PC、
PMMAに代表される従来の基板用樹脂は、耐溶剤性に
劣るため、上記塗布型有機色素系記録媒体に適用するこ
とが難しく、この方向への展開を大きく阻む原因となっ
ていた。
However, PCs,
Conventional substrate resins represented by PMMA are inferior in solvent resistance, so that it is difficult to apply them to the above-mentioned coating type organic dye-based recording medium, and this has been a major obstacle to development in this direction.

【0008】本発明は、上記従来の問題点を解決し、従
来の無機系記録媒体のみならず、塗布型の有機色素系記
録媒体にも適用可能な透明樹脂材料製光ディスク基板を
提供することを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and to provide an optical disk substrate made of a transparent resin material applicable to not only a conventional inorganic recording medium but also a coating type organic dye-based recording medium. Aim.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の光ディスク基板
は、スチレン系重合体セグメントを60〜99重量%含
み、共役ジエン系重合体セグメントを40〜1重量%含
むスチレン系ブロック共重合体の芳香族環を水素添加し
て得られる、ポリビニルシクロヘキサン系ブロック共重
合体からなり、複屈折率が30nm以下であることを特
徴とする。
An optical disk substrate according to the present invention comprises a styrene-based block copolymer containing 60 to 99% by weight of a styrene-based polymer segment and 40 to 1% by weight of a conjugated diene-based polymer segment. It is made of a polyvinylcyclohexane-based block copolymer obtained by hydrogenating an aromatic ring, and has a birefringence of 30 nm or less.

【0010】即ち、本発明者らは上記目的を達成すべ
く、鋭意検討を行なった結果、特定のスチレン系樹脂の
芳香族環を核水添してなるポリビニルシクロヘキサン系
樹脂を用いることにより、極めて良好な光ディスク基板
が得られることを見出し、本発明を完成させた。
That is, the present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, the use of a polyvinylcyclohexane-based resin obtained by hydrogenating the aromatic ring of a specific styrene-based resin with a nucleus is extremely effective. The present inventors have found that a good optical disk substrate can be obtained, and have completed the present invention.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.

【0012】本発明で用いるスチレン系ブロック共重合
体は、スチレン系単量体、即ちビニル芳香族炭化水素の
重合体セグメント(以下、「Aセグメント」と略称す
る。)と、少なくとも1種以上の共役ジエンを主体とす
る共役ジエン系重合体セグメント(以下、「Bセグメン
ト」と略称する。)とからなり、AセグメントとBセグ
メントとの重量比が60/40〜99/1、好ましくは
80/20〜99/1、更に好ましくは90/10〜9
9/1の範囲にあるブロック共重合体である。このブロ
ック共重合体は、全光線透過率が80%以上のものであ
ることが好ましい。
The styrenic block copolymer used in the present invention comprises a styrenic monomer, that is, a polymer segment of a vinyl aromatic hydrocarbon (hereinafter abbreviated as "A segment"), and at least one or more kinds. A conjugated diene-based polymer segment mainly comprising a conjugated diene (hereinafter, abbreviated as “B segment”), and the weight ratio of A segment to B segment is 60/40 to 99/1, preferably 80 /. 20-99 / 1, more preferably 90 / 10-9
It is a block copolymer in the range of 9/1. This block copolymer preferably has a total light transmittance of 80% or more.

【0013】Aセグメントのスチレン系単量体(ビニル
芳香族炭化水素)としては、スチレン、p−メチルスチ
レン、α−メチルスチレン等を挙げることができ、特に
代表的なものとしてスチレンが挙げられる。これらは1
種単独で、あるいは2種以上を混合して使用することが
できる。
Examples of the styrene monomer (vinyl aromatic hydrocarbon) in the A segment include styrene, p-methylstyrene, α-methylstyrene and the like, and styrene is particularly typical. These are 1
These can be used alone or in combination of two or more.

【0014】一方、Bセグメントを構成する共役ジエン
としては、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−
ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエ
ン、1,3−ヘキサジエン等が挙げられるが、これらの
うち特に1,3−ブタジエン又はイソプレンが一般的で
ある。
On the other hand, conjugated dienes constituting the B segment include 1,3-butadiene, isoprene, and 2,3-butadiene.
Dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene and the like can be mentioned, and among these, 1,3-butadiene and isoprene are particularly common.

【0015】本発明にかかるスチレン系ブロック共重合
体は、上記Aセグメント及びBセグメントをいわゆるリ
ピングアニオン重合と称せられる公知の方法、例えば有
機リチウム化合物を開始剤とし、ヘキサン、ヘプタンの
ような炭化水素系溶媒中で重合することにより容易に得
ることができる。
The styrenic block copolymer according to the present invention can be prepared by a known method wherein the A segment and the B segment are so-called ripening anion polymerizations, for example, using an organolithium compound as an initiator, and a hydrocarbon such as hexane or heptane. It can be easily obtained by polymerization in a system solvent.

【0016】なお、このようなブロック共重合体におい
て、AセグメントとBセグメントとの比は60/40〜
99/1、好ましくは80/20〜99/1、更に好ま
しくは90/10〜99/1の範囲とされる。この比が
60/40未満では、水素付加後に得られる樹脂の弾性
率が低く、光ディスク基板として不適であり、軟化温度
も低下するので耐熱性の面からも不十分である。また、
99/1を超えると靭性が不足し、射出成形時に成形片
のクラック発生の問題が発生するので好ましくない。
[0016] In such a block copolymer, the ratio of the A segment to the B segment is 60/40 to 40/40.
The range is 99/1, preferably 80/20 to 99/1, more preferably 90/10 to 99/1. If the ratio is less than 60/40, the resin obtained after hydrogenation has a low elastic modulus, is unsuitable as an optical disk substrate, and has a low softening temperature, which is insufficient in terms of heat resistance. Also,
If it exceeds 99/1, the toughness is insufficient, and the problem of cracking of the molded piece during injection molding occurs, which is not preferable.

【0017】なお、樹脂の耐熱性としては、サーモメカ
ニカルアナライザーで測定した軟化点が140℃以上で
あるものが好ましく、150℃以上であるものが更に好
ましい。
The heat resistance of the resin is preferably 140 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher, as measured by a thermomechanical analyzer.

【0018】本発明のポリビニルシクロヘキサン系ブロ
ック共重合体樹脂は、かかるスチレン系ブロック共重合
体の芳香族環を、芳香族水素化能を有する水素化触媒の
存在下で核水添して得られるものである。使用し得る水
素化触媒としては、例えばニッケル、コバルト、ルテニ
ウム、ロジウム、白金、パラジウム等の金属又はその酸
化物、塩、錯体及びこれらを活性炭、ケイソウ土、アル
ミナ等の担体に担持したもの等が挙げられる。これらの
中でも特にラネーニッケル、ラネーコバルト、安定化ニ
ッケル及びルテニウム、ロジウム又は白金のカーボン又
はアルミナ担持触媒が、反応性の面から好ましい。
The polyvinylcyclohexane-based block copolymer resin of the present invention is obtained by nucleating the aromatic ring of the styrene-based block copolymer in the presence of a hydrogenation catalyst having an aromatic hydrogenation ability. Things. Examples of the hydrogenation catalyst that can be used include, for example, metals such as nickel, cobalt, ruthenium, rhodium, platinum, and palladium or oxides, salts, and complexes thereof, and activated carbon, diatomaceous earth, and those supported on a carrier such as alumina. No. Of these, Raney nickel, Raney cobalt, stabilized nickel and ruthenium, rhodium or platinum carbon or alumina supported catalysts are particularly preferred from the viewpoint of reactivity.

【0019】核水添反応は、50〜250kg/cm2
の圧力、100〜200℃の温度下にて、溶媒としてシ
クロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n−オクタン、
デカリン、テトラリン、ナフサ等の飽和炭化水素系溶媒
を用いて行なうのが好ましい。
The nuclear hydrogenation reaction is carried out at 50 to 250 kg / cm 2.
At a pressure of 100 to 200 ° C. as a solvent, cyclohexane, methylcyclohexane, n-octane,
It is preferable to use a saturated hydrocarbon solvent such as decalin, tetralin, naphtha or the like.

【0020】なお、通常、スチレン系重合体の核水添に
おいては、副反応として重合体の分子鎖の切断を伴う。
この分子鎖切断を防ぐために、水素化はできるだけ高い
水素圧力で、かつ短時間で行うことが好ましい。
In general, the nuclear hydrogenation of a styrenic polymer is accompanied by cleavage of the polymer molecular chain as a side reaction.
In order to prevent this molecular chain scission, hydrogenation is preferably performed at a hydrogen pressure as high as possible and in a short time.

【0021】核水添反応による芳香核の水添率は80%
以上、好ましくは90%以上、更に好ましくは95%以
上が好適である。核水添率がこの範囲未満であると、樹
脂の耐熱性の低下、複屈折の増大等の問題があり好まし
くない。なお、複屈折率は光ディスク基板として成形し
た場合、30nm以下となる。
The degree of hydrogenation of the aromatic nucleus by the nuclear hydrogenation reaction is 80%.
Above, preferably 90% or more, more preferably 95% or more. If the nucleus hydrogenation ratio is less than this range, there are problems such as a decrease in heat resistance of the resin and an increase in birefringence, which is not preferable. The birefringence is 30 nm or less when molded as an optical disk substrate.

【0022】このようにして得られるポリビニルシクロ
ヘキサン系ブロック共重合体樹脂の分子量は、原料とな
るスチレン系重合体の組成、分子量、水素化(水添)条
件等に依存するが、機械的特性及び溶融成形時の加工性
の双方を勘案した場合、数平均分子量で30,000よ
り大きく、好ましくは50,000より大であることが
望ましい。また、靭性の面からは、ジエン系重合体の含
有量が小であるもの程分子量が高いことが要求される。
分子量の上限は成形性の面から規定されるが、通常は数
平均分子量で300,000以下である。
The molecular weight of the polyvinylcyclohexane-based block copolymer resin thus obtained depends on the composition, molecular weight, hydrogenation (hydrogenation) conditions, etc. of the styrene-based polymer as a raw material. In consideration of both the workability during melt molding, the number average molecular weight is desirably greater than 30,000, preferably greater than 50,000. From the viewpoint of toughness, the smaller the content of the diene-based polymer, the higher the molecular weight is required.
The upper limit of the molecular weight is defined from the viewpoint of moldability, but is usually 300,000 or less in number average molecular weight.

【0023】このようなポリビニルシクロヘキサン系ブ
ロック共重合体を用いて、本発明の光ディスク基板を製
造するには、該ブロック共重合体に必要に応じて安定剤
を混合した後、射出成形する。この場合、安定剤の混合
方法については特に制限はないが、通常は該ブロック共
重合体と安定剤とをリボンブレンダー、タンブラーブレ
ンダー、ヘンシェルミキサー等で混合し、その後、バン
バリーミキサー、一軸押出機、二軸押出機等で溶融混練
し、ペレット形状とすることにより混合する。しかし
て、このようにして得られたペレットを用い、成形温度
270℃〜330℃で射出成形する。
In order to manufacture the optical disk substrate of the present invention using such a polyvinylcyclohexane-based block copolymer, a stabilizer is mixed with the block copolymer, if necessary, followed by injection molding. In this case, the method of mixing the stabilizer is not particularly limited, but usually, the block copolymer and the stabilizer are mixed by a ribbon blender, a tumbler blender, a Henschel mixer, and the like, and then, a Banbury mixer, a single screw extruder, The mixture is melt-kneaded in a twin-screw extruder or the like, and mixed by forming into a pellet shape. Then, using the pellets thus obtained, injection molding is performed at a molding temperature of 270 ° C. to 330 ° C.

【0024】このようにして製造される本発明の光ディ
スク基板は複屈折率が30nm以下で光ディスク基板と
して良好な特性を示す。
The optical disk substrate of the present invention thus manufactured exhibits good characteristics as an optical disk substrate with a birefringence of 30 nm or less.

【0025】本発明の光ディスク基板は、無論従来の無
機記録媒体を用いる系にも充分供試することができる
が、前述の如く塗布型の記録媒体を用いる系にも何ら支
障をきたすことなく適用できることを大きな特徴とする
ものである。かかる塗布型光学記録媒体としては、レー
ザー吸収能を有する有機色素系化合物でケトン系溶剤に
高濃度で溶解するものが挙げられ、600〜900nm
の波長帯域で吸収を有し、しかも分子吸光係数が104
〜105 cm-1であるものが好適である。使用されるケ
トン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等を例示す
ることができる。また、溶剤使用にあたっては、これら
の混合溶剤又はケトンアルコール、エーテルアルコール
等の溶剤を使用する色素系化合物の溶解性を損なわない
範囲で併用しても構わない。
The optical disk substrate of the present invention can of course be adequately tested on a system using a conventional inorganic recording medium, but can be applied to a system using a coating type recording medium without any trouble as described above. The major feature is that it can be done. As such a coating type optical recording medium, an organic dye-based compound having a laser absorbing ability, which can be dissolved in a ketone-based solvent at a high concentration, may be used.
And has an absorption coefficient of 10 4
It is preferred those wherein to 10 5 cm -1. As the ketone solvent used, acetone, methyl ethyl ketone,
Examples thereof include methyl isobutyl ketone and cyclohexanone. When using a solvent, a mixture of these solvents or a solvent such as ketone alcohol or ether alcohol may be used in combination as long as the solubility of the dye compound is not impaired.

【0026】このようなケトン系溶剤に高い溶解性を示
す有機色素系化合物としては、例えば下記一般式
[I]、[II]、[III ]、[IV]で表される化合物が
挙げられる。
Examples of the organic dye compounds having high solubility in such ketone solvents include compounds represented by the following general formulas [I], [II], [III] and [IV].

【0027】[0027]

【化1】 Embedded image

【0028】[0028]

【化2】 Embedded image

【0029】[0029]

【化3】 Embedded image

【0030】[0030]

【化4】 Embedded image

【0031】これら一般式[I]〜[IV]で表される化
合物の代表的なものとしては下記構造式[イ]〜[ニ]
で表されるものを例示することができる。
Representative examples of the compounds represented by the general formulas [I] to [IV] include the following structural formulas [a] to [d].
Can be exemplified.

【0032】[0032]

【化5】 Embedded image

【0033】[0033]

【化6】 Embedded image

【0034】塗布による記録媒体の成膜は、例えばこの
ような有機系色素化合物をそのまま或いはバインダーと
共にケトン系溶剤中に溶解させたものを、スピンコート
することにより行なうことができる。使用するバインダ
ーとしては、ケトン系溶剤に溶解するものならば何でも
良い。
The film formation of the recording medium by coating can be performed, for example, by spin-coating such an organic dye compound as it is or dissolved in a ketone solvent together with a binder. Any binder can be used as long as it can be dissolved in a ketone solvent.

【0035】[0035]

【実施例】以下に、実施例、比較例及び参考例を挙げて
本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を
超えない限り、以下の実施例に限定されるものではな
い。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, Comparative Examples and Reference Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless it exceeds the gist thereof. .

【0036】なお、実施例、比較例及び参考例における
各種物性は、次の方法によって測定したものである。
Various physical properties in Examples, Comparative Examples and Reference Examples were measured by the following methods.

【0037】 数平均分子量:ゲル・パーミエーショ
ン・クロマトグラフィー(GPC)により、テトラヒド
ロフラン(THF)を溶媒としてポリスチレンと同様に
測定し、ポリスチレン換算の分子量を求めた。 核水添率(%):ポリビニルシクロヘキサン系樹脂
をTHFに溶解し、UV吸収により測定した。 軟化点(℃):Dupont社製サーモメカニカル
アナライザーを用いて、5℃/分の昇温速度で軟化温度
を測定した。 光ディスク基板の光線透過率(%):JIS K
6714に準拠して測定した。 靭性:射出成形した円板のクラック発生の有無を確
認し、下記評価基準で評価した。 ○=クラック発生なし ×=クラック発生あり 弾性率(kg/cm2 ):円板成形と同一条件で別
途成形した射出片につきASTM−D638に基づき測
定した。 耐薬品性:円板を30度に傾斜し、各溶剤を5滴た
らし、流れ跡を室温風乾後に観察し、下記評価基準で評
価した。 ○=流れ跡なし ×=流れ跡あり 実施例1 スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(ブ
タジエン含有量20重量%)を核水添し、数平均分子量
8.1万、核水添率99%のポリビニルシクロヘキサン
系ブロック共重合体を得た。
Number average molecular weight: Measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent in the same manner as polystyrene, and the molecular weight in terms of polystyrene was determined. Nucleation hydrogenation rate (%): Measured by dissolving a polyvinylcyclohexane-based resin in THF and measuring by UV absorption. Softening point (° C.): The softening temperature was measured at a heating rate of 5 ° C./min using a thermomechanical analyzer manufactured by Dupont. Light transmittance (%) of optical disk substrate: JIS K
Measured according to 6714. Toughness: The presence or absence of cracks in the injection-molded disk was confirmed and evaluated according to the following evaluation criteria. == No crack generation × = Crack generation Elastic modulus (kg / cm 2 ): Measured based on ASTM-D638 for an injection piece separately molded under the same conditions as disk molding. Chemical resistance: The disc was inclined at 30 degrees, 5 drops of each solvent were dropped, and the flow trace was observed after air drying at room temperature, and evaluated according to the following evaluation criteria. == No flow trace × = With flow trace Was obtained.

【0038】この樹脂に安定剤として、テトラキス[メ
チレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネートメタン(日本チバガイギー
社製「Irganox1010」)、及びテトラキス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフ
ェニレンホスフォナイト「同Irgaphos P−E
PQ」を各0.2重量%添加し、300℃で射出成形
し、厚さ1.2mm、直径130mmの円板状ディスク
基板を成形した。
As a stabilizer for this resin, tetrakis [methylene-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate methane (“Irganox1010” manufactured by Ciba Geigy Japan) and tetrakis (2 , 4-Di-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylenephosphonite "Irgaphos PE
PQ "was added in an amount of 0.2% by weight, and injection molding was performed at 300 ° C. to form a disc-shaped disk substrate having a thickness of 1.2 mm and a diameter of 130 mm.

【0039】樹脂及び成形基板の物性を表1に示す。Table 1 shows the physical properties of the resin and the molded substrate.

【0040】比較例1 スチレン単独重合体を核水添し、数平均分子量5万、核
水添率99%のポリビニルシクロヘキサンを得た。
Comparative Example 1 A styrene homopolymer was subjected to nuclear hydrogenation to obtain polyvinylcyclohexane having a number average molecular weight of 50,000 and a nuclear hydrogenation rate of 99%.

【0041】この樹脂を実施例1と同一条件で射出成形
したが、成形基板10枚に1枚の割合で円板状基板の中
心部にクラックの発生が認められた。樹脂及び成形基板
の物性を表1に示す。
This resin was injection-molded under the same conditions as in Example 1, but cracks were observed in the center of the disc-shaped substrate at a ratio of one out of ten molded substrates. Table 1 shows the physical properties of the resin and the molded substrate.

【0042】実施例2 スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(ブ
タジエン含有量5重量%)を核水添し、数平均分子量
6.5万、核水添率99%のポリビニルシクロヘキサン
系ブロック共重合体を得た。
Example 2 A styrene-butadiene-styrene block copolymer (butadiene content: 5% by weight) was subjected to nuclear hydrogenation to give a polyvinylcyclohexane-based block copolymer having a number average molecular weight of 65,000 and a nuclear hydrogenation rate of 99%. A coalescence was obtained.

【0043】この樹脂を実施例1と同様に成形した。樹
脂及び成形基板の物性を表1に示す。
This resin was molded in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the physical properties of the resin and the molded substrate.

【0044】実施例3 スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(ブ
タジエン含有量10重量%)を核水添し、数平均分子量
5.5万、核水添率99%のポリビニルシクロヘキサン
系ブロック共重合体を得た。
Example 3 A styrene-butadiene-styrene block copolymer (butadiene content: 10% by weight) was subjected to nuclear hydrogenation to give a polyvinylcyclohexane-based block copolymer having a number average molecular weight of 550,000 and a nuclear hydrogenation rate of 99%. A coalescence was obtained.

【0045】この樹脂を実施例1と同様に成形した。樹
脂及び成形基板の物性を表1に示す。
This resin was molded in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the physical properties of the resin and the molded substrate.

【0046】参考例1 スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(ブ
タジエン含有量35重量%)を核水添し、数平均分子量
8.5万、核水添率99%のポリビニルシクロヘキサン
系ブロック共重合体を得た。この樹脂を実施例1と同様
に成形した。
REFERENCE EXAMPLE 1 A styrene-butadiene-styrene block copolymer (butadiene content: 35% by weight) was subjected to nucleus hydrogenation to obtain a polyvinylcyclohexane-based block copolymer having a number average molecular weight of 85,000 and a nucleus hydrogenation rate of 99%. A coalescence was obtained. This resin was molded in the same manner as in Example 1.

【0047】樹脂及び成形基板の物性を表1に示す。表
1より、本発明の基板形成材料より形成されるディスク
基板は、耐熱性、機械的特性、光学的特性に優れ、しか
も耐薬品性も良好であることが認められる。
Table 1 shows the physical properties of the resin and the molded substrate. From Table 1, it is recognized that the disk substrate formed from the substrate forming material of the present invention has excellent heat resistance, mechanical properties, and optical properties, and also has good chemical resistance.

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】実施例4、比較例2,3 下記構造式で表される有機色素系化合物0.15gをメ
チルエチルケトン10gに溶解し、0.2μmのフィル
ターで濾過し色素溶液を得た。この色素溶液5mlを実
施例1で射出成形により得られた円板状ディスク基板に
滴下し、スピナー法により800rpmの回転数で塗布
した。塗布後、60℃で10分間乾燥し、塗布後の基板
への影響を調べた。
Example 4, Comparative Examples 2 and 3 0.15 g of an organic dye compound represented by the following structural formula was dissolved in 10 g of methyl ethyl ketone, and filtered with a 0.2 μm filter to obtain a dye solution. 5 ml of this dye solution was dropped onto the disk-shaped disk substrate obtained by injection molding in Example 1, and applied at a rotation speed of 800 rpm by a spinner method. After the application, the substrate was dried at 60 ° C. for 10 minutes, and the influence on the substrate after the application was examined.

【0050】[0050]

【化7】 Embedded image

【0051】比較のためPC(比較例2)、PMMA
(比較例3)の射出成形円板についても同様の検討を試
みた。結果を表2に示す。
For comparison, PC (Comparative Example 2), PMMA
The same examination was performed on the injection-molded disk of (Comparative Example 3). Table 2 shows the results.

【0052】[0052]

【表2】 [Table 2]

【0053】表2より、本発明の光ディスク基板は、塗
布型の記録媒体にも適用可能であることが認められる。
Table 2 shows that the optical disk substrate of the present invention can be applied to a coating type recording medium.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上、詳述した通り、本発明の光ディス
ク基板は、極めて耐熱性に優れ、また靭性、弾性率等の
機械的特性にも優れ、耐薬品性も良好である。従って、
本発明の光ディスク基板は、従来の無機系記録媒体を用
いる光ディスクのみならず、塗布型有機色素系媒体を用
いる光ディスク用基板としても有効に適用可能である。
しかして、その光学的特性も著しく高いものとなる。
As described in detail above, the optical disc substrate of the present invention has excellent heat resistance, excellent mechanical properties such as toughness and elastic modulus, and good chemical resistance. Therefore,
The optical disk substrate of the present invention can be effectively applied not only to an optical disk using a conventional inorganic recording medium but also to an optical disk substrate using a coating type organic dye-based medium.
Thus, its optical properties are also significantly higher.

【0055】特に本発明において、核水添に用いるスチ
レン系ブロック共重合体が、スチレン系重合体セグメン
トを80〜99重量%含む場合において、極めて優れた
効果が得られる。
Particularly, in the present invention, when the styrene-based block copolymer used for nuclear hydrogenation contains 80 to 99% by weight of a styrene-based polymer segment, extremely excellent effects can be obtained.

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成9年10月9日[Submission date] October 9, 1997

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0024[Correction target item name] 0024

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0024】このようにして製造される本発明の光ディ
スク基板は複屈折率が30nm以下で光ディスク基板と
して良好な特性を示す。なお、光ディスク基板の複屈折
は、通常用いられる補償板法、透過法等を使用すること
ができる(例えば「高分子辞典」丸善等参照)。
The optical disk substrate of the present invention thus manufactured exhibits good characteristics as an optical disk substrate with a birefringence of 30 nm or less. The birefringence of the optical disk substrate
Use the commonly used compensator method, transmission method, etc.
(For example, see "Polymer Dictionary" Maruzen, etc.).

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0037[Correction target item name] 0037

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0037】 数平均分子量:ゲル・パーミエーショ
ン・クロマトグラフィー(GPC)により、テトラヒド
ロフラン(THF)を溶媒としてポリスチレンと同様に
測定し、ポリスチレン換算の分子量を求めた。 核水添率(%):ポリビニルシクロヘキサン系樹脂
をTHFに溶解し、UV吸収により測定した。 軟化点(℃):Dupont社製サーモメカニカル
アナライザーを用いて、5℃/分の昇温速度で軟化温度
を測定した。 光ディスク基板の光線透過率(%):JIS K
6714に準拠して測定した。 靭性:射出成形した円板のクラック発生の有無を確
認し、下記評価基準で評価した。 ○=クラック発生なし ×=クラック発生あり 弾性率(kg/cm2 ):円板成形と同一条件で別
途成形した射出片につきASTM−D638に基づき測
定した。 耐薬品性:円板を30度に傾斜し、各溶剤を5滴た
らし、流れ跡を室温風乾後に観察し、下記評価基準で評
価した。 ○=流れ跡なし ×=流れ跡あり 複屈折率:NIKON社製偏光顕微鏡Type10
4により546nmの波長で、射出成形品の射出ゲート
から20mmの位置の複屈折を測定した。 実施例1 スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(ブ
タジエン含有量20重量%)を核水添し、数平均分子量
8.1万、核水添率99%のポリビニルシクロヘキサン
系ブロック共重合体を得た。
Number average molecular weight: Measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent in the same manner as polystyrene, and the molecular weight in terms of polystyrene was determined. Nucleation hydrogenation rate (%): Measured by dissolving a polyvinylcyclohexane-based resin in THF and measuring by UV absorption. Softening point (° C.): The softening temperature was measured at a heating rate of 5 ° C./min using a thermomechanical analyzer manufactured by Dupont. Light transmittance (%) of optical disk substrate: JIS K
Measured according to 6714. Toughness: The presence or absence of cracks in the injection-molded disk was confirmed and evaluated according to the following evaluation criteria. == No crack generation × = Crack generation Elastic modulus (kg / cm 2 ): Measured according to ASTM-D638 for an injection piece separately molded under the same conditions as for disk molding. Chemical resistance: The disk was tilted at 30 degrees, 5 drops of each solvent were dropped, and the flow trace was observed after air drying at room temperature, and evaluated according to the following evaluation criteria. == No flow trace × = With flow trace Birefringence: Polarizing microscope Type10 manufactured by NIKON
4, the injection gate of the injection molded article at a wavelength of 546 nm
The birefringence at a position 20 mm from was measured. Example 1 A styrene-butadiene-styrene block copolymer (butadiene content: 20% by weight) was subjected to nuclear hydrogenation to obtain a polyvinylcyclohexane-based block copolymer having a number average molecular weight of 81,000 and a nuclear hydrogenation rate of 99%. Was.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0046[Correction target item name] 0046

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0046】実施例4 スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(ブ
タジエン含有量20重量%)を核水添し、数平均分子量
11.3万、核水添率71%のポリビニルシクロヘキサ
ン系ブロック共重合体を得た。この樹脂を実施例1と同
様に成形した(ただし射出成形温度は270℃)。樹脂
及び成形基板の物性を表1に示す。 比較例2 ポリスチレンを核水添し、数平均分子量9.0万、核水
添率99%のポリビニルシクロヘキサン重合体を得た。
この樹脂を実施例1と同様に成形した(ただし射出成形
温度は270℃)。樹脂及び成形基板の物性を表1に示
す。 参考例1 スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(ブ
タジエン含有量35重量%)を核水添し、数平均分子量
8.5万、核水添率99%のポリビニルシクロヘキサン
系ブロック共重合体を得た。この樹脂を実施例1と同様
に成形した。
Example 4 Styrene-butadiene-styrene block copolymer (butane
(Tadiene content: 20% by weight)
Polyvinylcyclohexa with 113,000 nuclear hydrogenation rate of 71%
A block copolymer was obtained. This resin was used as in Example 1.
(The injection molding temperature was 270 ° C.). resin
Table 1 shows the physical properties of the molded substrate. Comparative Example 2 Polystyrene was hydrogenated with nucleus, and the number average molecular weight was 90,000, and
A polyvinylcyclohexane polymer having an addition ratio of 99% was obtained.
This resin was molded in the same manner as in Example 1 (except for injection molding).
Temperature is 270 ° C). Table 1 shows the physical properties of the resin and molded substrate.
You. Reference Example 1 A styrene-butadiene-styrene block copolymer (butadiene content: 35% by weight) was subjected to nuclear hydrogenation to obtain a polyvinylcyclohexane-based block copolymer having a number average molecular weight of 85,000 and a nuclear hydrogenation rate of 99%. Was. This resin was molded in the same manner as in Example 1.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0048[Correction target item name] 0048

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0049[Correction target item name] 0049

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0049】実施例、比較例 下記構造式で表される有機色素系化合物0.15gをメ
チルエチルケトン10gに溶解し、0.2μmのフィル
ターで濾過し色素溶液を得た。この色素溶液5mlを実
施例1で射出成形により得られた円板状ディスク基板に
滴下し、スピナー法により800rpmの回転数で塗布
した。塗布後、60℃で10分間乾燥し、塗布後の基板
への影響を調べた。
Example 5 , Comparative Examples 3 and 4 0.15 g of an organic dye compound represented by the following structural formula was dissolved in 10 g of methyl ethyl ketone, and filtered with a 0.2 μm filter to obtain a dye solution. 5 ml of this dye solution was dropped onto the disk-shaped disk substrate obtained by injection molding in Example 1, and applied at a rotation speed of 800 rpm by a spinner method. After the application, the substrate was dried at 60 ° C. for 10 minutes, and the influence on the substrate after the application was examined.

【手続補正6】[Procedure amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0051[Correction target item name] 0051

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0051】比較のためPC(比較例)、PMMA
(比較例)の射出成形円板についても同様の検討を試
みた。結果を表2に示す。
For comparison, PC (Comparative Example 3 ), PMMA
The same examination was performed on the injection molded disk of (Comparative Example 4 ). Table 2 shows the results.

【手続補正7】[Procedure amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0052[Correction target item name] 0052

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0052】[0052]

【表2】 [Table 2]

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スチレン系重合体セグメントを60〜9
9重量%含み、共役ジエン系重合体セグメントを40〜
1重量%含むスチレン系ブロック共重合体の芳香族環を
水素添加して得られる、ポリビニルシクロヘキサン系ブ
ロック共重合体からなり、複屈折率が30nm以下であ
る光ディスク基板。
1. A styrenic polymer segment of 60 to 9
9% by weight, and a conjugated diene polymer segment of 40 to
An optical disk substrate comprising a polyvinylcyclohexane-based block copolymer obtained by hydrogenating an aromatic ring of a styrene-based block copolymer containing 1% by weight and having a birefringence of 30 nm or less.
【請求項2】 請求項1において、スチレン系ブロック
共重合体がスチレン系重合体セグメントを80〜99重
量%含むことを特徴とする光ディスク基板。
2. The optical disk substrate according to claim 1, wherein the styrene-based block copolymer contains 80 to 99% by weight of a styrene-based polymer segment.
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