JP2730053B2 - Substrate forming material for optical disks - Google Patents

Substrate forming material for optical disks

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JP2730053B2
JP2730053B2 JP63125482A JP12548288A JP2730053B2 JP 2730053 B2 JP2730053 B2 JP 2730053B2 JP 63125482 A JP63125482 A JP 63125482A JP 12548288 A JP12548288 A JP 12548288A JP 2730053 B2 JP2730053 B2 JP 2730053B2
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block copolymer
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hydrogenation
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誠一 向井
修一 前田
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光ディスク用基板形成材料に係り、特に、種
々のタイプの光ディスクの基板材料として良好に適用可
能なポリビニルシクロヘキサン系ブロック共重合体から
なる光ディスク用基板形成材料に関する。
The present invention relates to a material for forming a substrate for an optical disk, and more particularly, it comprises a polyvinylcyclohexane-based block copolymer which can be suitably used as a substrate material for various types of optical disks. The present invention relates to a substrate forming material for an optical disk.

[従来の技術] レーザーを用じた光学記録は高密度の情報記録、保
存、及び再生が可能であるため、近年その開発が積極的
に行なわれている。この様な光学記録の一例として光デ
ィスクを挙げることが出来る。一般に光ディスクは、透
明な基板とその上にコートされた種々の記録媒体とから
基本的に構成される。
[Prior Art] Optical recording using a laser is capable of high-density information recording, storage and reproduction, and has been actively developed in recent years. An example of such optical recording is an optical disk. Generally, an optical disc is basically composed of a transparent substrate and various recording media coated thereon.

光ディスクの透明基板には無色透明な合成樹脂が用い
られるケースが多く、その代表的なものとしてポリカー
ボネート(以下、「PC」と略称する。)又はポリメチル
メタクリレート(以下、「PMMA」と略称する。)を挙げ
ることができる。これらの樹脂は無色透明性に秀いでる
他、夫々に固有の優れた性質を有するものではあるが、
光学材料、特に光ディスク基板としての要件を全て備え
ている訳ではなく、解決すべき問題点を有している。例
えば、PCにおいてはその芳香族環に起因する複屈折性の
問題があり、また、吸水性或いは透水性においても問題
がある。一方、PMMAにおいては、耐熱性、吸水性、靱性
の面における問題点がかねてより指摘されている。
In many cases, a transparent substrate of an optical disk is made of a colorless and transparent synthetic resin, and typical examples thereof include polycarbonate (hereinafter abbreviated as “PC”) and polymethyl methacrylate (hereinafter abbreviated as “PMMA”). ). Although these resins excel in colorless transparency, they also have excellent properties unique to each,
Not all of the requirements for optical materials, especially optical disk substrates, are met, and there are problems to be solved. For example, PC has a problem of birefringence caused by the aromatic ring, and also has a problem of water absorption or water permeability. On the other hand, problems with heat resistance, water absorption and toughness have been pointed out in PMMA.

このように、これらの樹脂は夫々固有の問題点を内在
させつつ使用に供されているのであるが、実際には更
に、これらの樹脂よりなる透明基板の上にコートされる
記録媒体との関係において、後述のような新たな問題が
生じている。
As described above, each of these resins is used with inherent problems inherent therein. However, in practice, the relationship with a recording medium coated on a transparent substrate made of these resins is further increased. , A new problem as described below has arisen.

一方、記録媒体については、従来より光ディスクの用
途に応じて多岐にわたる開発が行なわれている。例え
ば、ライト・ワンス型と呼ばれる記録−再生専用のもの
では穴あけタイプのものが、またイレーザブル型と呼ば
れる、記録−再生−消去−再記録用のものでは、結晶転
移現象を利用した相転移タイプのもの、光磁気効果を利
用した光磁気タイプのもの等が知られている。これらの
記録媒体用材料は、ライト・ワンス型ではテルル又はそ
の酸化物、合金化合物等、イレーザブル型では、Gd・Fe
/TbFe、Gd・Fe・Co/Tb・FeCoといった希土類−遷移金属
のアモルファス合金化合物等、無機系材料が主流とされ
ており、一般に高真空下でのスパッタリング等の乾式処
法により、透明基板上に成膜することにより形成されて
いる。
On the other hand, a wide variety of recording media have been conventionally developed according to the use of optical disks. For example, a write-once type dedicated to recording and reproduction is a drilling type, and an erasable type is a recording-reproduction-erasing-re-recording type of a phase transition type utilizing a crystal transition phenomenon. And a magneto-optical type utilizing the magneto-optical effect are known. These recording medium materials include tellurium or its oxide or alloy compound in the write-once type, and Gd / Fe in the erasable type.
/ TbFe, rare earth-transition metal amorphous alloy compounds such as Gd.Fe.Co/Tb.FeCo and other inorganic materials are predominant.Generally, dry processing such as sputtering under a high vacuum is applied to a transparent substrate. It is formed by forming a film.

一方、記録媒体として有機溶剤に可溶な有機色素系材
料についても検討がなされており、これを塗布方式で媒
体成膜することができるならば、無機系材料における様
な特殊且つ高価な装置を用いる必要もなくなり、生産性
の向上と相まって将来のコストダウン化への大きな道が
ひらけるであろうと云われている。
On the other hand, an organic dye-based material soluble in an organic solvent has also been studied as a recording medium, and if it can be formed into a medium by a coating method, a special and expensive device such as an inorganic material is used. It is said that there is no need to use it, and it will open up a great way to reduce costs in the future in conjunction with the improvement in productivity.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、PC、PMMAに代表される従来の基板用樹
脂は、耐溶剤性に劣るため、上記塗布型有機色素系記録
媒体に適用することが難しく、この方向への展開を大き
く阻む原因となっていた。
[Problems to be Solved by the Invention] However, conventional resins for substrates represented by PC and PMMA are inferior in solvent resistance, so that it is difficult to apply them to the above-mentioned coating type organic dye-based recording medium, and in this direction. Was a major factor that hindered the deployment.

本発明は、上記従来の問題点を解決し、従来の無機系
記録媒体のみならず、塗布型の有機色素系記録媒体にも
適用可能な光ディスク基板用透明樹脂材料を提供するこ
とを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above-described conventional problems and to provide a transparent resin material for an optical disk substrate that can be applied not only to a conventional inorganic recording medium but also to a coating type organic dye-based recording medium. .

[課題を解決するための手段及び作用] 本発明の光ディスク用基板形成材料は、スチレン系重
合体セグメントを60〜99%含み、共役ジエン系重合体セ
グメントを40〜1重量%含むスチレン系ブロック共重合
体の芳香族環を水素添加して得られる、該水添率が80%
以上の、ポリビニルシクロヘキサン系ブロック共重合体
からなることを特徴とする。
[Means and Actions for Solving the Problems] The substrate forming material for an optical disk of the present invention comprises a styrene block containing 60 to 99% of a styrene polymer segment and 40 to 1% by weight of a conjugated diene polymer segment. The hydrogenation rate obtained by hydrogenating the aromatic ring of the polymer is 80%.
It is characterized by comprising the above-mentioned polyvinylcyclohexane-based block copolymer.

即ち、本発明者らは上記目的を達成すべく、鋭意検討
を行なった結果、特定のスチレン系樹脂の芳香族環を核
水添してなるポリビニルシクロヘキサン系樹脂によれ
ば、極めて良好な結果が得られることを見出し、本発明
を完成させた。
That is, the present inventors have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, according to the polyvinylcyclohexane-based resin obtained by hydrogenating the aromatic ring of a specific styrene-based resin with nucleus hydrogenation, extremely good results were obtained. The inventors have found that the present invention can be obtained, and completed the present invention.

以下に本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明で用いるスチレン系ブロック共重合体は、スチ
レン系単量体、即ちビニル芳香族炭化水素の重合体セグ
メント(以下、「Aセグメント」と略称する。)と、少
なくとも1種以上の共役ジエンを主体とする共役ジエン
系重合体セグメント(以下、「Bセグメント」と略称す
る。)とからなり、AゼグメントとBセグメントとの重
量比が60/40〜99/1、好ましくは80/20〜99/1、更に好ま
しくは90/10〜99/1の範囲にあるブロック共重合体であ
る。このブロック共重合体は、全光線透過率が80%以上
のものであることが好ましい。
The styrene-based block copolymer used in the present invention comprises a styrene-based monomer, that is, a polymer segment of a vinyl aromatic hydrocarbon (hereinafter abbreviated as “A segment”) and at least one or more conjugated dienes. A conjugated diene polymer segment (hereinafter abbreviated as “B segment”) as a main component, and a weight ratio of the A segment to the B segment is 60/40 to 99/1, preferably 80/20 to 99. / 1, more preferably a block copolymer in the range of 90/10 to 99/1. This block copolymer preferably has a total light transmittance of 80% or more.

Aセグメントのスチレン系単量体(ビニル芳香族炭化
水素)としては、スチレン、p−メチルスチレン、α−
メチルスチレン等を挙げることができ、特に代表的なも
のとしてスチレンが挙げられる。これらは1種単独で、
あるいは2種類以上を混合して使用することができる。
As the styrene monomer (vinyl aromatic hydrocarbon) of the A segment, styrene, p-methylstyrene, α-
Methylstyrene and the like can be mentioned, and styrene is a typical example. These are one kind alone,
Alternatively, two or more kinds can be used in combination.

一方、Bセグメントを構成する共役ジエンとしては、
1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−
ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン等
が挙げられるが、これらのうち特に1,3−ブタジエン又
はイソプレンが一般的である。
On the other hand, as the conjugated diene constituting the B segment,
1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-
Examples thereof include butadiene, 1,3-pentadiene, and 1,3-hexadiene, and among these, 1,3-butadiene and isoprene are particularly common.

本発明にかかるスチレン系ブロック共重合体は、上記
Aセグメント及びBセグメントをいわゆるリピングアニ
オン重合と称せられる公知の方法、例えば有機リチウム
化合物を開始剤とし、ヘキサン、ヘプタンのような炭化
水素系溶媒中で重合することにより容易に得ることがで
きる。
The styrenic block copolymer according to the present invention, the A segment and the B segment are known methods called so-called ripening anion polymerization, for example, using an organic lithium compound as an initiator, hexane, in a hydrocarbon solvent such as heptane Can be easily obtained by polymerization.

なお、このようなブロック共重合体において、Aセグ
メントとBセグメントとの比は60/40〜99/1、好ましく
は80/20〜99/1、更に好ましくは90/10〜99/1の範囲とさ
れる。この比が60/40未満では、水素付加後に得られる
樹脂の弾性率が低く、光ディスク基板として不適であ
り、軟化温度も低下するので耐熱性の面からも不十分で
ある。また、99/1を超えると靱性が不足し、射出成形時
に成形片のクラック発生の問題が発生するので好ましく
ない。
In such a block copolymer, the ratio of the A segment to the B segment is in the range of 60/40 to 99/1, preferably 80/20 to 99/1, and more preferably 90/10 to 99/1. It is said. If the ratio is less than 60/40, the resin obtained after hydrogenation has a low elastic modulus, is unsuitable as an optical disk substrate, and has a low softening temperature, which is insufficient in terms of heat resistance. On the other hand, if it exceeds 99/1, the toughness is insufficient, and the problem of cracking of the molded piece during injection molding occurs, which is not preferable.

なお、樹脂の耐熱性としては、サーモメカニカルアナ
ライザーで測定した軟化点が140℃以上であるものが好
ましく、150℃以上であるものが更に好ましい。
The heat resistance of the resin is preferably a resin having a softening point of 140 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher, as measured by a thermomechanical analyzer.

本発明のポリビニルシクロヘキサン系樹脂は、かかる
スチレン系ブロック共重合体の芳香族環を、芳香族水素
化能を有する水素化触媒の存在下で核水添して得られる
ものである。使用し得る水素化触媒としては、例えばニ
ッケル、コバルト、ルテニウム、ロジウム、白金、パラ
ジウム等の金属又はその酸化物、塩、錯体及びこれらを
活性炭、ケイソウ土、アルミナ等の担体に担持したもの
等が挙げられる。これらの中でも特にラネーニッケル、
ラネーコバルト、安定化ニッケル及びルテニウム、ロジ
ウム又は白金のカーボン又はアルミナ担持触媒が、反応
性の面から好ましい。
The polyvinylcyclohexane-based resin of the present invention is obtained by nucleating the aromatic ring of such a styrene-based block copolymer in the presence of a hydrogenation catalyst having an aromatic hydrogenation ability. Examples of the hydrogenation catalyst that can be used include, for example, metals such as nickel, cobalt, ruthenium, rhodium, platinum, and palladium or oxides, salts, and complexes thereof, and activated carbon, diatomaceous earth, and those supported on a carrier such as alumina. No. Among them, Raney nickel,
Raney cobalt, stabilized nickel and carbon or alumina supported catalysts of ruthenium, rhodium or platinum are preferred in terms of reactivity.

核水添反応は、50〜250kg/cm2の圧力、100〜200℃の
温度下にて、溶媒としてシクロヘキサン、メチルシクロ
ヘキサン、n−オクタン、デカリン、テトラリン、ナフ
サ等の飽和炭化水素系溶媒を用いて行なうのが好まし
い。
The nuclear hydrogenation reaction uses a saturated hydrocarbon solvent such as cyclohexane, methylcyclohexane, n-octane, decalin, tetralin, or naphtha as a solvent under a pressure of 50 to 250 kg / cm 2 and a temperature of 100 to 200 ° C. It is preferable to carry out.

なお、通常、スチレン系重合体の核水添においては、
副反応として重合体の分子鎖の切断を伴う。この分子鎖
切断を防ぐために、水素化はできるだけ高い水素圧力
で、かつ短時間で行うことが好ましい。
Incidentally, usually, in the nuclear hydrogenation of the styrene polymer,
As a side reaction, the molecular chain of the polymer is cut. In order to prevent this molecular chain scission, hydrogenation is preferably performed at a hydrogen pressure as high as possible and in a short time.

核水添反応による芳香核の水添率は80%以上、好まし
くは90%以上、更に好ましくは95%以上である。核水素
率がこの範囲未満であると、樹脂の耐熱性の低下、複屈
折の増大等の問題があり好ましくない。なお、複屈折率
は光ディスク基板として成形した場合、30nm以下となる
ものが好ましい。
The degree of hydrogenation of the aromatic nucleus by the nuclear hydrogenation reaction is 80% or more, preferably 90% or more, and more preferably 95% or more. If the nuclear hydrogen rate is less than this range, there are problems such as a decrease in heat resistance of the resin and an increase in birefringence, which is not preferable. The birefringence is preferably 30 nm or less when molded as an optical disk substrate.

このようにして得られるポリビニルシクロヘキサン系
樹脂の分子量は、原料となるスチレン系重合体の組成、
分子量、水素化(水添)条件等に依存するが、機械的特
性及び溶融成形時の加工性の双方を勘案した場合、数平
均分子量で30,000より大きく、好ましくは50,000より大
であることが望ましい。また、靱性の面からは、ジエン
系重合体の含有量が小であるもの程分子量が高いことが
要求される。分子量の上限は成形性の面から規定される
が、通常は数平均分子量で300,000以下である。
The molecular weight of the polyvinylcyclohexane-based resin obtained in this way depends on the composition of the styrene-based polymer as a raw material,
Although it depends on the molecular weight, hydrogenation (hydrogenation) conditions, etc., in consideration of both mechanical properties and workability during melt molding, it is desirable that the number average molecular weight is greater than 30,000, preferably greater than 50,000. . Further, from the viewpoint of toughness, the smaller the content of the diene-based polymer, the higher the molecular weight is required. The upper limit of the molecular weight is determined from the viewpoint of moldability, but is usually 300,000 or less in number average molecular weight.

このようなポリビニルシクロヘキサン系ブロック共重
合体よりなる本発明の基板形成材料を用いて、光ディス
ク基板を製造するには、該ブロック共重合体に必要に応
じて安定剤を混合した後、射出成形する。この場合、安
定剤の混合方法については特に制限はないが、通常は該
ブロック共重合体と安定剤とをリボンブレンダー、タン
ブラーブレンダー、ヘンシェルミキサー等で混合し、そ
の後、バンバリーミキサー、一軸押出機、二軸押出機等
で溶融混練し、ペレット形状とすることにより混合す
る。しかして、このようにして得られたペレットを用
い、成形温度270℃〜330℃で射出成形する。
In order to manufacture an optical disk substrate using the substrate forming material of the present invention composed of such a polyvinylcyclohexane-based block copolymer, a stabilizer is optionally added to the block copolymer, followed by injection molding. . In this case, the method of mixing the stabilizer is not particularly limited, but usually, the block copolymer and the stabilizer are mixed with a ribbon blender, a tumbler blender, a Henschel mixer, and the like, and thereafter, a Banbury mixer, a single screw extruder, The mixture is melt-kneaded in a twin-screw extruder or the like, and mixed by forming into a pellet shape. Then, using the pellets thus obtained, injection molding is performed at a molding temperature of 270 ° C to 330 ° C.

このようにして製造される本発明の基板形成材料より
なる光ディスク基板は、無論従来の無機記録媒体を用い
る系にも充分供試することができるが、前述の如く塗布
型の記録媒体を用いる系にも何ら支障をきたすことなく
適用できることを大きな特徴とするものである。かかる
塗布型光学記録媒体としては、レーザー吸収能を有する
有機色素系化合物でケトン系溶剤に高濃度で溶解するも
のが挙げられ、600〜900nmの波長帯域で吸収を有し、し
かも分子吸光係数が104〜105cm-1であるものが好適であ
る。使用されるケトン系溶剤としては、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン等を例示することができる。また、溶剤使用にあ
たっては、これらの混合溶剤又はケトンアルコール、エ
ーテルアルコール等の溶剤を使用する色素系化合物の溶
解性を損なわない範囲で併用しても構わない。
The optical disk substrate made of the substrate-forming material of the present invention manufactured in this manner can of course be sufficiently tested in a system using a conventional inorganic recording medium, but a system using a coating type recording medium as described above. The main feature is that the method can be applied without any trouble. Examples of such a coating type optical recording medium include an organic dye compound having a laser absorbing ability, which is dissolved in a ketone solvent at a high concentration, has an absorption in a wavelength band of 600 to 900 nm, and has a molecular extinction coefficient. Those having a density of 10 4 to 10 5 cm -1 are preferable. Examples of the ketone solvent used include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. When using a solvent, a mixture of these solvents or a solvent such as ketone alcohol or ether alcohol may be used in combination as long as the solubility of the dye compound is not impaired.

このようなケトン系溶剤に高い溶解性を示す有機色素
系化合物としては、例えば下記一般式[I]、[II]、
[III]、[IV]で表される化合物が挙げられる。
Examples of such organic dye-based compounds having high solubility in ketone-based solvents include, for example, the following general formulas [I], [II],
Compounds represented by [III] and [IV] are included.

一般式[I] (式中、環A1及びB1は置換基を有していてもよいベンゼ
ン環又はナフタレン環を表し、−R1及び−R2はC1〜C3
アルキル基又はアルケニル基を表し、nは0〜4の整数
を表し、X-は陰イオンを表す。) 一般式[II] (式中、A2,B2又は0を示し、R3,R4,R5,R6は水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、ハロメチ
ル基又はハロゲン原子を示し、R7,R8は水素原子又はハ
ロゲン原子を示す。) 一般式[III] (式中、R9,R10のうちのいずれか一つは−O(C2H4O)pR
11(ただし、R11は分枝していてもよいアルキル基を、
pは1〜6の数をそれぞれ表わす。)であり、他の一つ
は水素原子であり、A3はVO,Cu,Ni又はCoである。) 一般式[IV] (式中、Mは金属原子を表す。環A4,B3は置換基を有し
ていてもよい。Kは置換又は非置換の芳香族アミンの残
基を表し、Z-は陰イオンを表す。) これら一般式[I]〜[IV]で表される化合物の代表
的なものとしてか下記構造式[イ]〜[ニ]で表される
ものを例示することができる。
General formula [I] (Wherein, rings A 1 and B 1 represent a benzene ring or a naphthalene ring which may have a substituent, -R 1 and -R 2 represent a C 1 to C 3 alkyl group or alkenyl group, n represents an integer of 0 to 4, and X represents an anion.) General formula [II] (Where A 2 and B 2 are Or 0, and R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, a halomethyl group, or a halogen atom, and R 7 and R 8 represent a hydrogen atom or a halogen atom. Show. ) General formula [III] (Wherein, one of R 9 and R 10 is —O (C 2 H 4 O) p R
11 (provided that R 11 represents an optionally branched alkyl group,
p represents the number of 1-6, respectively. ), The other is a hydrogen atom, and A 3 is VO, Cu, Ni or Co. ) General formula [IV] (Wherein M represents a metal atom; rings A 4 and B 3 may have a substituent; K represents a residue of a substituted or unsubstituted aromatic amine; Z represents an anion; The compounds represented by the general formulas [I] to [IV] or those represented by the following structural formulas [A] to [D] can be exemplified.

塗布による記録媒体の成膜は、例えばこのような有機
系色素化合物をそのまま或いはバインダーと共にケトン
系溶剤中に溶解させたものを、スピンコートすることに
より行なうことができる。使用するバインダーとして
は、ケトン系溶剤に溶解するものならば何でも良い。
The film formation of the recording medium by coating can be performed by, for example, spin-coating such an organic dye compound as it is or dissolved in a ketone solvent together with a binder. Any binder can be used as long as it can be dissolved in a ketone solvent.

[実施例] 以下、実施例、比較例及び参考例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、以下の実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, Comparative Examples, and Reference Examples. However, the present invention is not limited to the following Examples as long as the gist of the present invention is not exceeded.

なお、実施例、比較例及び参考例における各種物性
は、次の方法によって測定したものである。
Various physical properties in Examples, Comparative Examples and Reference Examples were measured by the following methods.

数平均分子量: ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GP
C)により、テトラヒドロフラン(THF)を溶媒としてポ
リスチレンと同様に測定し、ポリスチレン換算の分子量
を求めた。
Number average molecular weight: gel permeation chromatography (GP
According to C), the same measurement as in polystyrene was performed using tetrahydrofuran (THF) as a solvent, and the molecular weight in terms of polystyrene was determined.

核水添率(%): ポリビニルシクロヘキサン系樹脂をTHFに溶解し、UV
吸収により測定した。
Nuclear hydrogenation rate (%): Polyvinylcyclohexane resin is dissolved in THF and UV
It was measured by absorption.

軟化点(℃): Dupont社製サーモメカニカルアナライザーを用いて、
5℃/分の昇温速度で軟化温度を測定した。
Softening point (° C): Using a Dupont thermomechanical analyzer,
The softening temperature was measured at a heating rate of 5 ° C./min.

光ディスク基板の光線透過率(%): JIS K 6714に準拠して測定した。Light transmittance (%) of optical disk substrate: Measured in accordance with JIS K 6714.

靱性: 射出成形した円板のクラック発生の有無を確認し、下
記評価基準で評価した。
Toughness: The presence or absence of cracks in the injection-molded disk was confirmed and evaluated according to the following evaluation criteria.

○=クラック発生なし ×=クラック発生あり 弾性率(kg/cm2): 円板成形と同一条件で別途成形した射出片につきASTM
−D638に基づき測定した。
○ = No crack generation × = Crack generation Elastic modulus (kg / cm 2 ): ASTM for injection piece separately molded under the same conditions as disk molding
-Measured according to D638.

耐薬品性: 円板を30度に傾斜し、各溶剤を5滴たらし、流れ跡を
室温風乾後に観察し、下記評価基準で評価した。
Chemical resistance: The disc was tilted at 30 degrees, 5 drops of each solvent were dropped, and the flow trace was observed after air drying at room temperature, and evaluated according to the following evaluation criteria.

○=流れ跡なし ×=流れ跡あり 実施例1 スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体
(ブタジエン含有量20重量%)を核水添し、数平均分子
量8.1万、核水添率99%のポリビニルシクロヘキサン系
ブロック共重合体を得た。
== No flow trace × = With flow trace Example 1 Styrene-butadiene-styrene block copolymer (butadiene content: 20% by weight) was subjected to nucleus hydrogenation to give a polyvinyl number average molecular weight of 81,000 and a nucleus hydrogenation rate of 99%. A cyclohexane block copolymer was obtained.

この樹脂に安定剤として、テトラキス[メチレン−3
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネートメタン(日本チバガイギー社製「Irgano
x1010」)、及びテトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェ
ニル)−4,4′−ビフェニレンホスフォナイト「同Irgap
hos P−EPQ」を各0.2重量%添加し、300℃で射出成形
し、厚さ1.2mm、直径130mmの円板状ディスク基板を成形
した。
As a stabilizer for this resin, tetrakis [methylene-3]
-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)
Propionate methane (Irgano manufactured by Ciba-Geigy Japan)
x1010 ") and tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylenephosphonite" Irgap
"hos P-EPQ" was added in an amount of 0.2% by weight, and injection molding was performed at 300 ° C. to form a disc-shaped disk substrate having a thickness of 1.2 mm and a diameter of 130 mm.

樹脂及び成形基板の物性を第1表に示す。 Table 1 shows the physical properties of the resin and the molded substrate.

比較例1 スチレン単独重合体を核水添し、数平均分子量5万、
核水添率99%のポリビニルシクロヘキサンを得た。
Comparative Example 1 A styrene homopolymer was subjected to nuclear hydrogenation to give a number average molecular weight of 50,000.
Polyvinylcyclohexane having a nucleus hydrogenation ratio of 99% was obtained.

この樹脂を実施例1と同一条件で射出成形したが、成
形基板10枚に1枚の割合で円板状基板の中心部にクラッ
クの発生が認められた。
This resin was injection-molded under the same conditions as in Example 1, but cracks were observed at the center of the disc-shaped substrate at a ratio of one out of ten molded substrates.

樹脂及び成形基板の物性を第1表に示す。 Table 1 shows the physical properties of the resin and the molded substrate.

実施例2 スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体
(ブタジエン含有量5重量%)を核水添し、数平均分子
量6.5万、核水添率99%のポリビニルシクロヘキサン系
ブロック共重合体を得た。
Example 2 A styrene-butadiene-styrene block copolymer (butadiene content: 5% by weight) was subjected to nuclear hydrogenation to obtain a polyvinylcyclohexane-based block copolymer having a number average molecular weight of 65,000 and a nuclear hydrogenation rate of 99%.

この樹脂を実施例1と同様に成形した。 This resin was molded in the same manner as in Example 1.

樹脂及び成形基板の物性を第1表に示す。 Table 1 shows the physical properties of the resin and the molded substrate.

実施例3 スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体
(ブタジエン含有量10重量%)を核水添し、数平均分子
量5.5万、核水添率99%のポリビニルシクロヘキサン系
ブロック共重合体を得た。
Example 3 A styrene-butadiene-styrene block copolymer (butadiene content 10% by weight) was subjected to nuclear hydrogenation to obtain a polyvinylcyclohexane-based block copolymer having a number average molecular weight of 55,000 and a nuclear hydrogenation rate of 99%.

この樹脂を実施例1と同様に成形した。 This resin was molded in the same manner as in Example 1.

樹脂及び成形基板の物性を第1表に示す。 Table 1 shows the physical properties of the resin and the molded substrate.

参考例1 スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体
(ブタジエン含有量35重量%)を核水添し、数平均分子
量8.5万、核水添率99%のポリビニルシクロヘキサン系
ブロック共重合体を得た。この樹脂を実施例1と同様に
成形した。
Reference Example 1 A styrene-butadiene-styrene block copolymer (butadiene content 35% by weight) was subjected to nuclear hydrogenation to obtain a polyvinylcyclohexane-based block copolymer having a number average molecular weight of 85,000 and a nuclear hydrogenation rate of 99%. This resin was molded in the same manner as in Example 1.

樹脂及び成形基板の物性を第1表に示す。 Table 1 shows the physical properties of the resin and the molded substrate.

第1表より、本発明の基板形成材料より形成されるデ
ィスク基板は、耐熱性、機械的特性、光学的特性に優
れ、しかも耐薬品も良好であることが認められる。
Table 1 shows that the disk substrate formed from the substrate-forming material of the present invention has excellent heat resistance, mechanical properties, and optical properties, and also has good chemical resistance.

実施例4、比較例2,3 下記構造式で表される有機色素系化合物0.15gをメチ
ルエチルケ10gに溶解し、0.2μmのフィルターで濾過し
色素溶液を得た。この色素溶液5mlを実施例1で射出成
形により得られた円板状ディスク基板に滴下し、スピナ
ー法により800rpmの回転数で塗布した。塗布後、60℃で
10分間乾燥し、塗布後の基板への影響を調べた。
Example 4, Comparative Examples 2 and 3 0.15 g of an organic dye compound represented by the following structural formula was dissolved in 10 g of methyl ethyl ketone, and the solution was filtered through a 0.2 μm filter to obtain a dye solution. 5 ml of this dye solution was dropped on the disk-shaped disk substrate obtained by injection molding in Example 1, and applied at a rotation speed of 800 rpm by a spinner method. After application, at 60 ° C
After drying for 10 minutes, the effect on the substrate after application was examined.

比較のためPC(比較例2)、PMMA(比較例3)の射出
成形円板についても同様の検討を試みた。
For comparison, the same examination was performed on injection molded disks of PC (Comparative Example 2) and PMMA (Comparative Example 3).

結果を第2表に示す。 The results are shown in Table 2.

第2表より、本発明の基板形成材料は、塗布型の記録
媒体にも適用可能であることが認められる。
From Table 2, it is recognized that the substrate forming material of the present invention can be applied to a coating type recording medium.

[発明の効果] 以上、詳述した通り、本発明の光ディスク用基板形成
材料は、極めて耐熱性に優れ、また靱性、弾性率等の機
械的特性にも優れ、耐薬品性も良好である。従って、本
発明の基板形成材料は、従来の無機系記録媒体を用いる
光ディスクのみならず、塗布型有機色素系媒体を用いる
光ディスク用基板形成材料としても有効に適用可能であ
る。しかして、その光学的特性も著しく高いものとな
る。
[Effects of the Invention] As described above in detail, the optical disk substrate forming material of the present invention has extremely excellent heat resistance, excellent mechanical properties such as toughness and elastic modulus, and excellent chemical resistance. Therefore, the substrate forming material of the present invention can be effectively applied not only to an optical disk using a conventional inorganic recording medium but also to an optical disk substrate using a coating type organic dye type medium. Thus, its optical properties are also significantly higher.

特に本発明において、該水添に用いるスチレン系ブロ
ック共重合体が、スチレン系重合体セグメントを80〜99
重量%含む場合において、極めて優れた効果が得られ
る。
In particular, in the present invention, the styrene-based block copolymer used for the hydrogenation, the styrene-based polymer segment 80-99.
In the case of containing by weight, an extremely excellent effect can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−197410(JP,A) 特開 昭64−54016(JP,A) 特開 平1−185304(JP,A) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-62-197410 (JP, A) JP-A-64-54016 (JP, A) JP-A-1-185304 (JP, A)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】スチレン系重合体セグメントを60〜99重量
%含み、共役ジエン系重合体セグメントを40〜1重量%
含むスチレン系ブロック共重合体の芳香族環を水素添加
して得られる、該水添率が80%以上のポリビニルシクロ
ヘキサン系ブロック共重合体からなる光ディスク用基板
形成材料。
1. A styrene polymer segment comprising 60 to 99% by weight, and a conjugated diene polymer segment comprising 40 to 1% by weight.
A substrate forming material for an optical disk comprising a polyvinylcyclohexane-based block copolymer having a degree of hydrogenation of 80% or more, obtained by hydrogenating an aromatic ring of a styrene-based block copolymer containing the same.
【請求項2】スチレン系ブロック共重合体がスチレン系
重合体セグメントを80〜99%含むことを特徴とする特許
請求の範囲第1項に記載の光ディスク用基板形成材料。
2. The optical disk substrate-forming material according to claim 1, wherein the styrene-based block copolymer contains 80 to 99% of a styrene-based polymer segment.
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