JP2586575B2 - Optical disk substrate - Google Patents

Optical disk substrate

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JP2586575B2
JP2586575B2 JP63125481A JP12548188A JP2586575B2 JP 2586575 B2 JP2586575 B2 JP 2586575B2 JP 63125481 A JP63125481 A JP 63125481A JP 12548188 A JP12548188 A JP 12548188A JP 2586575 B2 JP2586575 B2 JP 2586575B2
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optical disk
resin
disk substrate
polyvinylcyclohexane
substrate
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光ディスク基板に係り、特に、特定の熱安定
剤を含有してなる、熱加工安定性に優れたポリビニルシ
クロヘキサン系樹脂より構成された光ディスク基板に関
する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical disc substrate, and more particularly, to an optical disc substrate comprising a polyvinylcyclohexane-based resin containing a specific heat stabilizer and having excellent heat processing stability. The present invention relates to an optical disk substrate.

[従来の技術] レーザーを用いた光学記録は高密度の情報記録、保
存、及び再生が可能であるため、近年その開発が積極的
に行なわれている。この様な光学記録の一例として光デ
ィスクを挙げることが出来る。一般に光ディスクは、透
明な基板とその上にコートされた種々の記録媒体とから
基本的に構成される。
[Prior Art] Optical recording using a laser is capable of high-density information recording, storage, and reproduction, and has been actively developed in recent years. An example of such optical recording is an optical disk. Generally, an optical disc is basically composed of a transparent substrate and various recording media coated thereon.

光ディスクの透明基板には無色透明な合成樹脂が用い
られるケースが多く、その代表的なものとしてポリカー
ボネート(以下、「PC」と略称する。)又はポリメチル
メタクリレート(以下、「PMMA」と略称する。)を挙げ
ることができる。これらの樹脂は無色透明性に秀いでる
他、夫々に固有の優れた性質を有するものではあるが、
光学材料、特に光ディス基板としての要件を全て備えて
いる訳ではなく、解決すべき問題点を有している。例え
ば、PCにおいてはその芳香族環に起因する複屈折性の問
題があり、また、吸水性或いは透水性においても問題が
ある。一方、PMMAにおいては、耐熱性、吸収性、靭性の
面における問題点がかねてより指摘されている。
In many cases, a transparent substrate of an optical disc is made of a colorless and transparent synthetic resin, and a typical example thereof is polycarbonate (hereinafter, abbreviated as “PC”) or polymethyl methacrylate (hereinafter, abbreviated as “PMMA”). ). Although these resins excel in colorless transparency, they also have excellent properties unique to each,
It does not have all the requirements for an optical material, particularly for an optical disc substrate, but has problems to be solved. For example, PC has a problem of birefringence caused by the aromatic ring, and also has a problem of water absorption or water permeability. On the other hand, problems in heat resistance, absorbency, and toughness have been pointed out in PMMA.

このように、これらの樹脂は夫々固有の問題点を内在
させつつ使用に供されているのであるが、実際には更
に、これらの樹脂よりなる透明基板の上にコートされる
記録媒体との関係において、後述のような新たな問題が
生じている。
As described above, each of these resins is used with inherent problems inherent therein. However, in practice, the relationship with a recording medium coated on a transparent substrate made of these resins is further increased. , A new problem as described below has arisen.

一方、記録媒体については、従来より光ディスクの用
途に応じて多岐にわたる開発が行なわれている。例え
ば、ライト・ワンス型の呼ばれる記録−再生専用のもの
では穴あけタイプのものが、またイレーザブル型と呼ば
れる、記録−再生−消去−再記録用のものでは、結晶転
移現象を利用した相転移タイプのもの、光磁気効果を利
用した光磁気タイプのもの等が知られている。これらの
記録媒体用材料は、ライト・ワンス型ではテルル又はそ
の酸化物、合金化合物等、イレーザブル型では、Gd・Fe
/TbFe、Gd・Fe・Co/Tb・FeCoといった希土類−遷移金属
のアモルファス合金化合物等、無機系材料が主流とされ
ており、一般に高真空下でのスパッタリング等の乾式処
法により、透明基板上に成膜することにより形成されて
いる。
On the other hand, a wide variety of recording media have been conventionally developed according to the use of optical disks. For example, a write-once type for recording / reproduction only is a drilling type, and an erasable type for recording-reproduction-erasing-re-recording is a phase transition type utilizing a crystal transition phenomenon. And a magneto-optical type utilizing the magneto-optical effect are known. These recording medium materials include tellurium or its oxide or alloy compound in the write-once type, and Gd / Fe in the erasable type.
/ TbFe, rare earth-transition metal amorphous alloy compounds such as Gd.Fe.Co/Tb.FeCo and other inorganic materials are predominant.Generally, dry processing such as sputtering under a high vacuum is applied to a transparent substrate. It is formed by forming a film.

ところで、PC、PMMAの吸湿性及び透水性は、一方では
基板自身の吸湿時の膨張によるソリの問題を引き起こす
ものであるが、他方、基板を通しての水分の透過により
記録媒体の腐蝕を引き起こし、光ディスクの寿命を縮め
る原因となっている。
By the way, the hygroscopicity and water permeability of PC and PMMA cause, on the one hand, a problem of warpage due to expansion of the substrate itself upon absorption of moisture, while on the other hand, the permeation of moisture through the substrate causes corrosion of the recording medium, causing Cause a shortening of the life of the battery.

また、基板用樹脂の耐熱性について更に言及すれば、
次のような問題がある。即ち、光ディスク、特にライト
・ワンス型、イレーザブル型等の光ディスクにおいて
は、記録の書き込み、消去時の記録媒体の温度は200℃
以上にもなる。このため、ディスク基板にこの熱が直接
かかることは無いにしても、記録の書き込み、消去時に
は基板が相当高温になることが予想され、耐熱性の低い
樹脂では、基板の変形或いはグループの変形等の問題が
起こり得る。
Further, if further mentioning the heat resistance of the substrate resin,
There are the following problems. That is, in an optical disk, particularly in a write-once type, an erasable type or the like, the temperature of the recording medium at the time of writing and erasing the recording is 200 ° C.
That's all. For this reason, even if this heat is not directly applied to the disk substrate, it is expected that the substrate will become extremely hot at the time of writing or erasing the recording. Problems can occur.

一方、光ディスクの生産工程においては、基板或いは
記録媒体の経時変化防止等の目的で、熱処理工程を取り
入れることが多いが、生産性の向上のためには、できる
だけ高い処理温度で処理することにより処理時間を短縮
することが望まれる。この様な観点からも、樹脂の耐熱
性が低いと高い処理温度を採用することができず、生産
性を上げることができないという不具合がある。
On the other hand, in the optical disk production process, a heat treatment process is often adopted for the purpose of preventing the substrate or the recording medium from changing over time. However, in order to improve the productivity, the process is performed by processing at the highest possible processing temperature. It is desired to reduce the time. From such a viewpoint, if the heat resistance of the resin is low, a high processing temperature cannot be adopted, and there is a problem that productivity cannot be increased.

このようなことから、光ディスクの生産工程或いは使
用状況の高温度に耐えるには、耐熱性の低いPMMAでは全
く不十分であり、従来においては専ら、より耐熱性の高
いPCが透明基板材料として検討されている。しかしなが
ら、PCでも必ずしも耐熱性が十分あるという評価を受け
ているわけではなく、より高い耐熱性を備える樹脂材料
の出現が望まれている。
For these reasons, PMMA with low heat resistance is not enough to withstand the high temperatures of the optical disc production process or usage conditions. Conventionally, PCs with higher heat resistance are exclusively considered as transparent substrate materials. Have been. However, PC is not always evaluated as having sufficient heat resistance, and the appearance of a resin material having higher heat resistance is desired.

PC、PMMA等の従来の樹脂の欠点を補うものとして、特
開昭63−43910等におい、ポリビニルシクロヘキサン系
樹脂を光ディスク基板として用いる方法が提案されてい
る。
To compensate for the drawbacks of conventional resins such as PC and PMMA, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-43910 proposes a method using a polyvinylcyclohexane resin as an optical disk substrate.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、ポリビニルシクロヘキサン系樹脂を用
いた場合においても、必ずしも高特性光ディスク基板が
得られるわけではなく、いくつかの点で満足し得る結果
が得られていないのが現状である。
[Problems to be Solved by the Invention] However, even when a polyvinylcyclohexane-based resin is used, a high-performance optical disc substrate is not always obtained, and a satisfactory result in some points is not obtained. It is the current situation.

本発明者等は、前記特許出願において提案されている
ポリビニルシクロヘキサン系樹脂を用いた光ディスク基
板の成形性等について詳細に検討した結果、次のような
知見を得た。
The present inventors have studied in detail the moldability and the like of an optical disk substrate using a polyvinylcyclohexane-based resin proposed in the above patent application, and have obtained the following knowledge.

ポリビニルシクロヘキサン系樹脂は、通常、ビニル芳
香族系重合体の芳香環の水添により得られ、一般にポリ
スチレン同様の脆性高分子として知られている樹脂であ
る。
The polyvinylcyclohexane-based resin is usually obtained by hydrogenating an aromatic ring of a vinyl aromatic polymer, and is generally known as a brittle polymer similar to polystyrene.

前述した様にライト・ワンス型、イレーザブル型等の
光ディスクにおいては、その使用状況、生産工程におい
て、相当の熱履歴を受けることから、樹脂基板に対して
高い耐熱性が要求される。また、ディスク基板用樹脂材
料としては、少なくとも射出成形の際の金型離型時に破
損しない程度の靭性も要求される。
As described above, optical disks of the write-once type, erasable type and the like receive a considerable heat history in their use and production process, and therefore require high heat resistance to the resin substrate. Further, the resin material for the disk substrate is required to have toughness at least not to be damaged at the time of mold release during injection molding.

このような要求を満たすべく、耐熱性に秀れ、ある程
度の靭性を持つポリビニルシクロヘキサン系重合体を得
るためには、合成に際し、芳香環の水添率を高くし、か
つ一定以上の分子量を保持する必要がある。
In order to satisfy such demands, to obtain a polyvinylcyclohexane-based polymer with excellent heat resistance and a certain degree of toughness, the hydrogenation rate of the aromatic ring should be increased and the molecular weight should be kept at a certain level during synthesis. There is a need to.

一方、光ディスク基板としては、ソリ、歪が少くグル
ープの転写性が良好である必要があり、このような観点
からは、射出成形時の樹脂の流動性はできるだけ良好で
あることが好ましい。また、シルバーストリーク発生や
着色の防止のためには、樹脂の吸湿量を下げると共に、
できる限り樹脂の劣化を防止する必要がある。
On the other hand, the optical disc substrate needs to have good warp and distortion and good group transferability. From such a viewpoint, it is preferable that the fluidity of the resin during injection molding is as good as possible. In addition, in order to prevent silver streaks and coloration, while reducing the amount of moisture absorbed by the resin,
It is necessary to prevent deterioration of the resin as much as possible.

ところで、ある程度の靭性が保持されるような分子量
を持つポリビニルシクロヘキサン系樹脂に関して、樹脂
の劣化が防止できる低温での射出成形では、流動性が不
十分となるので、成形温度を高くする必要がある。この
ような成形温度としては270〜330℃、更には280〜320℃
の範囲が好ましい。
By the way, regarding polyvinylcyclohexane-based resin having a molecular weight that maintains a certain degree of toughness, in injection molding at a low temperature that can prevent the deterioration of the resin, the fluidity becomes insufficient, so it is necessary to increase the molding temperature. . Such a molding temperature is 270-330 ° C, further 280-320 ° C
Is preferable.

しかしながら上記温度範囲においては、ポリビニルシ
クロヘキサン系樹脂の劣化が避けられず、安定剤の使用
が不可欠となる。
However, in the above temperature range, deterioration of the polyvinylcyclohexane-based resin is inevitable, and the use of a stabilizer is indispensable.

本発明は、安定剤を配合することにより、耐熱性、靭
性、流動性、吸湿性、透明性等の特性を改善したポリビ
ニルシクロヘキサン系樹脂よりなる高特性光ディスク基
板を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a high-performance optical disc substrate made of a polyvinylcyclohexane-based resin having improved properties such as heat resistance, toughness, fluidity, hygroscopicity, and transparency by adding a stabilizer.

[課題を解決するための手段及び作用] 本発明の光ディスク基板は、熱重量計で測定した5%
重量減少温度が295℃以上である、ヒンダードフェノー
ル系熱安定剤及びリン系熱安定剤を配合したポリビニル
シクロヘキサン系樹脂からなることを特徴とする。
[Means and Actions for Solving the Problems] The optical disk substrate of the present invention has a 5%
It is characterized by comprising a polyvinylcyclohexane-based resin blended with a hindered phenol-based heat stabilizer and a phosphorus-based heat stabilizer having a weight loss temperature of 295 ° C. or higher.

即ち、本発明者等は、前述のポリビニルシクロヘキサ
ン系樹脂の熱劣化を効果的に防止する安定剤について鋭
意検討した結果、安定剤として、熱重量計で測定した5
%重量減少温度が295℃以上であるヒンダードフェノー
ル系熱安定剤及びリン系熱安定剤を併せて用いることに
より、樹脂の劣化が効果的に防止され、シルバーストリ
ークや着色の問題が解消されることを見出し、本発明に
到達した。
That is, the present inventors have intensively studied a stabilizer that effectively prevents the above-described thermal degradation of the polyvinylcyclohexane-based resin, and as a result, the stabilizer was measured using a thermogravimeter.
By using a hindered phenol-based heat stabilizer and a phosphorus-based heat stabilizer having a% weight reduction temperature of 295 ° C. or higher, the deterioration of the resin is effectively prevented, and the problems of silver streaks and coloring are eliminated. The inventors have found that the present invention has been achieved.

本発明において、ヒンダードフェノール系熱安定剤と
しては、1分子中にヒンダードフェノール基を4つ以上
有するものが好ましい。
In the present invention, as the hindered phenol-based heat stabilizer, those having four or more hindered phenol groups in one molecule are preferable.

また、リン系熱安定剤としては、テトラキス(2,4−
ジ−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンホス
フォナイト及び/又はビス(2,6−ジ−t−ブチル−4
−メチルフェニル)ペンタエリスリトール−ジ−ホスフ
ァイトが好ましい。
In addition, tetrakis (2,4-
Di-tert-butylphenyl) -4,4'-biphenylenephosphonite and / or bis (2,6-di-tert-butyl-4)
-Methylphenyl) pentaerythritol di-phosphite is preferred.

更に、ポリビニルシクロヘキサン系樹脂の数平均分子
量は40,000〜300,000であることが好ましい。
Further, the number average molecular weight of the polyvinylcyclohexane-based resin is preferably from 40,000 to 300,000.

以下に本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明で用いられるポリビニルシクロヘキサン系樹脂
は、好ましくはスチレ系樹脂(スチレン系重合体)を核
水添して得られる。
The polyvinylcyclohexane-based resin used in the present invention is preferably obtained by nucleating a styrene-based resin (styrene-based polymer).

原料のスチレン系重合体としては、ビニル芳香族炭化
水素重合体或いはビニル芳香族炭化水素ブロック共重合
体が挙げられる。後者のビニル芳香族炭化水素ブロック
共重合体としてはビニル芳香族炭化水素重合体セグメン
ト(以下、「Aセグメント」と略称する。)と少なくと
も1種以上の共役ジエン重合体セグメント(以下、「B
ゼグメント」と略称する。)とから成るものが挙げられ
る。
Examples of the raw material styrene-based polymer include a vinyl aromatic hydrocarbon polymer and a vinyl aromatic hydrocarbon block copolymer. The latter vinyl aromatic hydrocarbon block copolymer includes a vinyl aromatic hydrocarbon polymer segment (hereinafter abbreviated as “A segment”) and at least one or more conjugated diene polymer segments (hereinafter “B”).
Segment ”. ).

モノマーとして用いられるビニル芳香族炭化水素とし
ては、スチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチ
レン等を挙げることができ、特に代表的なものとしてス
チレンが挙げられる。
Examples of the vinyl aromatic hydrocarbon used as a monomer include styrene, p-methylstyrene, α-methylstyrene, and the like, and styrene is particularly typical.

ビニル芳香族炭化水素重合体としては、これらのビニ
ル芳香族炭化水素1種よりなる単独重合体或いは2種以
上の共重合体が挙げられる。特に接着性等が要求される
場合には、上記ビニル芳香族炭化水素と、これと共重合
可能な、極性基を持つ不飽和単量体とを、ビニル芳香族
炭化水素重合体の特性が失なわれない範囲で共重合して
得られる共重合体を用いるのが好ましい。
Examples of the vinyl aromatic hydrocarbon polymer include a homopolymer or a copolymer of two or more of these vinyl aromatic hydrocarbons. In particular, when adhesiveness or the like is required, the vinyl aromatic hydrocarbon and an unsaturated monomer having a polar group copolymerizable therewith lose the properties of the vinyl aromatic hydrocarbon polymer. It is preferable to use a copolymer obtained by copolymerization within a range not to be restricted.

次に、ビニル芳香族炭化水素ブロック共重合体中のA
セグメントとしては上述ビニル芳香族炭化水素重合体と
同様のものが挙げられる。また、ブロック共重合体中の
Bセグメントの共役ジエンとしては、1,3−ブタジエ
ン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,
3−ペンダジエン、1,3−ヘキサジエン等が挙げられ、特
に、1,3−ブタジエン、イソプレンが一般的である。A
セグメント及びBセグメントからなるブロック共重合体
は、いわゆるリビングアニオン重合と称せられる公知の
方法、例えば有機リチウム化合物を開始剤とて、ヘキサ
ン、ヘプタンの様な炭化水素溶媒中で重合する方法等に
より容易に得ることができる。なお、このようなブロッ
ク共重合体中のAセグメントの含有量は80重量%以上、
好ましくは90重量%以上、更に好ましくは93重量%以上
である。Aセグメントの含有量が80重量%未満の場合に
は、水素付加後に得られる樹脂の耐熱性が低下し、光デ
ィスク基板としては不敵なものとなる。
Next, A in the vinyl aromatic hydrocarbon block copolymer
Examples of the segment include those similar to the above-mentioned vinyl aromatic hydrocarbon polymer. The conjugated diene of the B segment in the block copolymer includes 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene,
Examples thereof include 3-pentadiene and 1,3-hexadiene, and 1,3-butadiene and isoprene are particularly common. A
The block copolymer composed of the segment and the B segment can be easily prepared by a known method called so-called living anionic polymerization, for example, a method of polymerizing in a hydrocarbon solvent such as hexane or heptane using an organolithium compound as an initiator. Can be obtained. Incidentally, the content of the A segment in such a block copolymer is 80% by weight or more,
It is preferably at least 90% by weight, more preferably at least 93% by weight. When the content of the A segment is less than 80% by weight, the heat resistance of the resin obtained after hydrogenation is reduced, and the resin becomes invincible as an optical disk substrate.

本発明において、このような原料スチレン系重合体の
分子量は、数平均分子量で50,000以上であることが好ま
しい。スチレン共重合体の分子量が低過ぎると、水素付
加後得られる樹脂の耐熱性、靭性が低下する。
In the present invention, such a raw material styrene-based polymer preferably has a number average molecular weight of 50,000 or more. If the molecular weight of the styrene copolymer is too low, the heat resistance and toughness of the resin obtained after hydrogenation will decrease.

分子量の低下に伴う靭性の低下は、重合体中のジエン
系重合体の含有量が少いもの程著しい。従って、ジエン
系重合体を含まない重合体に関しては、数平均分子量が
80,000より大であることが好ましい。一方、分子量の上
限については特に制限はないが、通常の場合、400,000
以下であることが好ましい。
The decrease in the toughness accompanying the decrease in the molecular weight is more remarkable as the content of the diene polymer in the polymer is smaller. Therefore, for polymers containing no diene polymer, the number average molecular weight is
Preferably it is greater than 80,000. On the other hand, the upper limit of the molecular weight is not particularly limited, but usually, 400,000
The following is preferred.

ポリビニルシクロヘキサン系樹脂は、このようなスチ
レン系重合体を、芳香族水素化能を有する水素化触媒の
存在下で、核水添して得ることができる。ここで使用さ
れる水素化触媒としては、例えばニッケル、コバルト、
ルテニウム、ロジウム、白金、パラジウム等の金属又は
その酸化物、塩、錯体及びこれらを活性炭、ケイソウ
土、アルミナ等の担体に担持したもの等が挙げられる。
これらの中でも特にラネーニッケル、ラネーコバルト、
安定化ニッケル及びルテニウ、ロジウム又は白金のカー
ボン又はアルミナ担持触媒が、反応性の面から好まし
い。
The polyvinylcyclohexane-based resin can be obtained by hydrogenating such a styrene-based polymer in the presence of a hydrogenation catalyst having an aromatic hydrogenation ability. As the hydrogenation catalyst used here, for example, nickel, cobalt,
Examples thereof include metals such as ruthenium, rhodium, platinum, and palladium, and oxides, salts, and complexes thereof, and those in which these are supported on a carrier such as activated carbon, diatomaceous earth, and alumina.
Among these, Raney nickel, Raney cobalt,
Stabilized nickel and ruthenium, rhodium or platinum carbon or alumina supported catalysts are preferred in terms of reactivity.

核水添反応は、50〜250kg/cm2の圧力、100〜200℃の
温度下にて、溶媒としてシクロヘキサン、メチルシクロ
ヘキサン、n−オクタン、デカリン、テトラリン、ナフ
サ等の飽和炭化水素系溶媒を用いて行なうのが好まし
い。
The nuclear hydrogenation reaction uses a saturated hydrocarbon solvent such as cyclohexane, methylcyclohexane, n-octane, decalin, tetralin, or naphtha as a solvent at a pressure of 50 to 250 kg / cm 2 and a temperature of 100 to 200 ° C. It is preferable to carry out.

なお、通常、スチレン系重合体の核水添においては、
副反応として重合体の分子鎖の切断を伴う。この分子鎖
切断を防ぐために、水素化はできるだけ高い水素圧力
で、かつ短時間で行なうことが好ましい。
Incidentally, usually, in the nuclear hydrogenation of the styrene polymer,
As a side reaction, the molecular chain of the polymer is cut. In order to prevent this molecular chain scission, it is preferable to carry out the hydrogenation at as high a hydrogen pressure as possible and in a short time.

核水添反応による芳香核の核水添率は90%以上、特に
95%以上であることが好ましい。核水添率が低く、90%
未満であると、得られる樹脂の耐熱性の低下、複屈折の
増大等の問題があり好ましくない。なお、本発明におい
て、樹脂の耐熱性としては、サーモメカニカルアナライ
ザーで測定した軟化点が150℃以上であることが好まし
く、複屈折率としては光ディスク基板として成形した場
合、後述するΔn5.5の値が30nm以下となるものが好ま
しい。
The nuclear hydrogenation rate of aromatic nuclei by nuclear hydrogenation reaction is 90% or more, especially
It is preferably at least 95%. Low nuclear hydrogenation rate, 90%
If it is less than this, there are problems such as a decrease in heat resistance of the obtained resin and an increase in birefringence, which is not preferred. In the present invention, as the heat resistance of the resin, it is preferable that the softening point measured by a thermomechanical analyzer is 150 ° C. or more, and when molded as an optical disc substrate, the value of Δn 5.5 described below is obtained. Those having a thickness of 30 nm or less are preferred.

本発明において、このようにして得られるポリビニル
シクロヘキサン系樹脂の分子量は、原料となるスチレン
系重合体の組成、分子量、水素化(水添)条件等に依存
し、またその適正範囲も、組成により異なるが、通常、
数平均分子量で30,000より大きく、好ましくは50,000よ
り大である。靭性の面からは、ジエン系重合体の含有量
が小であるもの程、分子量が高いことが要求され、ジエ
ン系重合体を含有しないものに関しては、分子量は40,0
00より大であり、好ましくは60,000より大であることが
必要である。分子量の上限は、成形性の面から規定され
るが、通常は数平均分子量で300,000以下である。
In the present invention, the molecular weight of the polyvinylcyclohexane-based resin thus obtained depends on the composition, molecular weight, hydrogenation (hydrogenation) conditions and the like of the styrene-based polymer as a raw material, and the appropriate range also depends on the composition. Different, but usually
The number average molecular weight is greater than 30,000, preferably greater than 50,000. From the viewpoint of toughness, the smaller the content of the diene-based polymer, the higher the molecular weight is required.For those containing no diene-based polymer, the molecular weight is 40,0.
It needs to be greater than 00, preferably greater than 60,000. The upper limit of the molecular weight is defined from the viewpoint of moldability, but is usually 300,000 or less in number average molecular weight.

本発明においては、このようなポリビニルシクロヘキ
サン系樹脂に、安定剤として、熱重量計において空気気
流下で測定されるところの5%重量減少温度が295℃以
上であるヒンダードフェノール系熱安定剤の少なくとも
一種と、同じく5%重量減少温度が295℃以上であるリ
ン系熱安定剤の少なくとも一種とを組み合わせて配合す
る。
In the present invention, a hindered phenol-based heat stabilizer having a 5% weight loss temperature of 295 ° C. or higher as measured in a thermogravimeter under an air stream is used as a stabilizer for such a polyvinylcyclohexane-based resin. At least one is combined with at least one phosphorus-based heat stabilizer having a 5% weight loss temperature of 295 ° C. or higher.

なお、本発明において、熱重量計において空気気流下
で測定されるところの5%重量減少温度とは、空気流量
100ml/分の流通下、20℃/分の昇温速度で加熱した時の
重量減を測定し、重量減が5.0重量%となった時の温度
である。
In the present invention, the 5% weight loss temperature measured in a thermogravimeter under an air stream is the air flow rate.
The weight loss when heated at a heating rate of 20 ° C./min under a flow rate of 100 ml / min is measured, and the temperature at which the weight loss reaches 5.0% by weight.

本発明で採用されるヒンダードフェノール系熱安定剤
としては、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートメ
タン、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t
−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロ
ピオニルオキシ}エチル]−2,4,8,10−テトラオキサス
ピロ[5,5]ウンデカン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシベンジン−s−トリアジン−
2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、1,3,5−トリメチル−2,
4,6−トリス(3,5,−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)ベンゼン等が挙げられる。
Examples of the hindered phenol-based heat stabilizer employed in the present invention include tetrakis [methylene-3- (3,5-di-t).
-Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate methane, 3,9-bis [1,1-dimethyl-2- {β- (3-t
-Butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxydiethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, 1,3,5-tris (3,5-di- t
-Butyl-4-hydroxybenzine-s-triazine-
2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 1,3,5-trimethyl-2,
4,6-tris (3,5, -di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene and the like.

また、リン系熱安定剤としては、テトラキス(2,4−
ジ−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンホス
ファナイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル
フェニル)ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト等
が挙げられる。
In addition, tetrakis (2,4-
Di-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylenephosphanite, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol-di-phosphite and the like.

これらの安定剤のうち、ヒンダードフェノール系安定
剤としては1分子中にヒンダードフェノール基を4つ以
上持つものを用いた時に最も優れた効果が得られる。
Among these stabilizers, the best effect is obtained when a hindered phenol-based stabilizer having four or more hindered phenol groups in one molecule is used.

これら安定剤の好適な添加量は、ポリビニルシクロヘ
キサン系樹脂100重量部に対して、ヒンダードフェノー
ル系熱安定剤及びリン系安定剤を各々0.01〜3重量部、
好ましくは0.05〜1重量部である。安定剤の添加量がこ
の範囲未満では、劣化防止効果が不十分であり、この範
囲を越える添加量ではブリードが生じたり、光ディスク
基板として必要な透明性が低下する等の問題を生じる場
合がある。
A suitable amount of these stabilizers is 0.01 to 3 parts by weight of a hindered phenol-based heat stabilizer and 0.01 to 3 parts by weight of a phosphorus-based stabilizer with respect to 100 parts by weight of a polyvinylcyclohexane-based resin.
Preferably it is 0.05 to 1 part by weight. If the added amount of the stabilizer is less than this range, the effect of preventing deterioration is insufficient, and if the added amount exceeds this range, problems such as bleeding and reduction in transparency required as an optical disk substrate may occur. .

これらの安定剤とポリビニルシクロヘキサン系樹脂と
の混合方法については特に制限はないが、通常は樹脂と
安定剤とをリボンブレンダー、タンブラーブレンダー、
ヘンシェルミキサー等で混合し、その後、バンバリーミ
キサー、一軸押出機、二軸押出機等で溶融混練し、ペレ
ット形状とすることにより混合する。しかして、このよ
うにして得られたペレットを用い、成形温度270〜330
℃、特に280〜320℃で射出成形することにより、透明
性、耐熱性等に優れ、着色もなく光学歪の著しく小さい
光ディスク基板を得ることができる。
There is no particular limitation on the method of mixing these stabilizers with the polyvinylcyclohexane-based resin, but usually the resin and the stabilizer are blended with a ribbon blender, a tumbler blender,
The mixture is mixed with a Henschel mixer or the like, and then melt-kneaded with a Banbury mixer, a single-screw extruder, a twin-screw extruder, or the like, and mixed in a pellet form. Then, using the pellets obtained in this manner, at a molding temperature of 270 to 330
By performing the injection molding at a temperature of 280 ° C., particularly 280 to 320 ° C., it is possible to obtain an optical disk substrate which is excellent in transparency, heat resistance and the like, has no coloring, and has extremely small optical distortion.

本発明の光ディスク基板を用いて光ディスクを製造す
る際には、該基板表面に金属蒸着等により前述の記録媒
体の皮膜を形成するか、或いは塗布等の方法で有機色素
系材料の皮膜を設け、これらを更に保護膜で覆う等の方
法を採用することができる。
When an optical disk is manufactured using the optical disk substrate of the present invention, a film of the above-described recording medium is formed on the surface of the substrate by metal evaporation or the like, or a film of an organic dye-based material is provided by a method such as coating, A method of further covering these with a protective film or the like can be adopted.

[実施例] 以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的
に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下
の実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited to the following Examples as long as the gist of the present invention is not exceeded.

なお、以下の実施例及び比較例における各種物性は、
次の方法によって測定したものである。
In addition, various physical properties in the following Examples and Comparative Examples,
It was measured by the following method.

数平均分子量: ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GP
C)により、THFを溶媒としてポリスチレンと同様に測定
し、ポリステレン換算の数平均分子量を求めた。
Number average molecular weight: gel permeation chromatography (GP
According to C), the same measurement as in polystyrene was performed using THF as a solvent, and the number average molecular weight in terms of polysterene was determined.

核水添率(%): ポリビニルシクロヘキサン系樹脂をテトラヒドロフラ
ン(THF)に溶解し、UV吸収により測定した。
Nuclear hydrogenation rate (%): A polyvinylcyclohexane-based resin was dissolved in tetrahydrofuran (THF) and measured by UV absorption.

軟化温度(℃): Dupont社製サーモメカニカルアナライザーを用いて、
5℃/分の昇温速度で軟化温度を測定した。
Softening temperature (° C): Using a Dupont thermomechanical analyzer,
The softening temperature was measured at a heating rate of 5 ° C./min.

光ディスク基板の光線透過率(%): JIS K 6714に準拠して測定した。 Light transmittance (%) of optical disk substrate: Measured according to JIS K6714.

光ディスク基板の複屈折(nm): 成形した厚さ1.2mm、直径130mmのディスクの中央から
5.5cm位置での複屈折(以下「Δn5.5」と略記する。)
で評価した。複屈折は日本光学社製の偏光顕微鏡により
測定した。
Birefringence (nm) of optical disc substrate: From the center of a molded 1.2mm thick, 130mm diameter disc
Birefringence at 5.5 cm position (hereinafter abbreviated as “Δn 5.5 ”)
Was evaluated. The birefringence was measured with a polarizing microscope manufactured by Nippon Kogaku.

光ディスク基板の反り量(mm): NiDEK社フラットテスターFT−7を用いて測定した。 Amount of warpage of optical disc substrate (mm): Measured using a flat tester FT-7 manufactured by NiDEK.

光ディスク基板の外観: 後述する方法で成形した光ディスク基板に関して、着
色、シルバーストリークの発生等を目視により調べた。
Appearance of optical disk substrate: Coloring, generation of silver streaks, and the like were visually inspected for an optical disk substrate formed by a method described later.

実施例1 スチレン単独重合体の水添により得られた、数平均分
子量70,000、核水添率99%のポリビニルシクロヘキサン
100重量部に、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキフェニル)プロピオネートメ
タン(日本チバガイガー社製「Irganox1010」)0.2重量
部、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,
4′−ビフェニレンホスホフォナイト(同「Irgaphos P
−EPQ」)0.2重量部を添加し、押出機を用いて260℃で
溶融混練を行ないペレット化した。
Example 1 Polyvinylcyclohexane having a number average molecular weight of 70,000 and a nucleus hydrogenation rate of 99% obtained by hydrogenating a styrene homopolymer.
100 parts by weight of tetrakis [methylene-3- (3,5-di-
0.2 parts by weight of t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate methane ("Irganox1010" manufactured by Ciba Geiger Japan), tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) -4,
4'-biphenylenephosphonite (Irgaphos P
-EPQ ”), and melt-kneaded at 260 ° C. using an extruder to form pellets.

このペレットを射出成形機(各機社製「M140A」)を
用いて、可動金型側にグルーブ付スタンバーを取り付
け、樹脂温度300℃で厚さ1.2mm、直径130mmの円盤状光
ディスク基板を成形した。
Using an injection molding machine ("M140A" manufactured by each machine company), the pellet was attached to a movable mold side with a grooved stand bar, and a disc-shaped optical disc substrate having a thickness of 1.2 mm and a diameter of 130 mm was formed at a resin temperature of 300 ° C. .

得られた光ディスク基板の物性を第1表に示す。 Table 1 shows the physical properties of the obtained optical disk substrate.

実施例2 アニオン重合によるスチレン−ブタジエン−スチレン
ブロック共重合体(ブタジエン含量5重量%)の水添に
より得られた数平均分子量60,000、核水素率99%のポリ
ビニルシクロヘキサン系樹脂100重量部に3,9−ビス[1,
1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エ
チル]−2,4,8,10テトラオキシサスピロ[5,5]ウンデ
カン(アデカ・アーガス社製「Mark Aφ−80」)0.2重
量部、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル−4,
4′−ビフェニレンホスフォナイト(日本チバガイギーI
rgaphos P−EPQ)0.2重量部を添加し、実施例1と同様
にしてペレット化及び射出成形を行なった。
Example 2 A hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer (butadiene content 5% by weight) obtained by anionic polymerization was obtained by hydrogenating a 100% by weight polyvinylcyclohexane-based resin having a number average molecular weight of 60,000 and a nuclear hydrogen rate of 99%. 9-bis [1,
1-dimethyl-2- {β- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} ethyl] -2,4,8,10-tetraoxyspiro [5,5] undecane (ADEKA・ Argus “Mark Aφ-80”) 0.2 parts by weight, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl-4,
4'-biphenylenephosphonite (Nippon Ciba Geigy I
(rgaphos P-EPQ) 0.2 part by weight was added, and pelletization and injection molding were carried out in the same manner as in Example 1.

得られた光ディスク基板の物性を第1表に示す。 Table 1 shows the physical properties of the obtained optical disk substrate.

比較例1 安定剤としてブチルヒドロキシトルエン0.2重量部を
用い、射出成形温度を260℃としたこと以外は実施例1
と同様にして光ディスク基板を得た。
Comparative Example 1 Example 1 was repeated except that 0.2 parts by weight of butylhydroxytoluene was used as a stabilizer and the injection molding temperature was 260 ° C.
An optical disk substrate was obtained in the same manner as described above.

得られた光ディスク基板の物性を第1表に示す。 Table 1 shows the physical properties of the obtained optical disk substrate.

比較例2 実施例1において「Irgaphos P−EPQ」の代わりにジ
ステアリルチオプロピオネート0.2重量部を加えたこと
以外は同様にして光ディスク基板を得た。
Comparative Example 2 An optical disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.2 parts by weight of distearyl thiopropionate was added instead of “Irgaphos P-EPQ”.

得られた光ディスク基板の物性を第1表に示す。 Table 1 shows the physical properties of the obtained optical disk substrate.

第1表により明らかなように、特定のヒンダードフェ
ノール系熱安定剤及びリン系熱安定剤を配合したポリビ
ニルシクロヘキサン系樹脂を用いることにより、耐熱
性、透明性、光特性、形状安定性に優れ、シルバースト
リークや着色のない高特性光ディスク基板が得られる。
これに対し、比較例1のものでは、ディスクの軟化温
度、透明性等には変化はなかったが、若干の着色、シル
バーストリークの発生があり、反り量は0.5mm、複屈折
Δn5.5=8nmと高い。また、比較例2のものでは、着色
(黄色)が認められ、若干のシルバーストリークの発生
が認められた。
As is clear from Table 1, by using a polyvinylcyclohexane-based resin containing a specific hindered phenol-based heat stabilizer and a phosphorus-based heat stabilizer, excellent heat resistance, transparency, optical properties, and shape stability are obtained. Thus, a high-performance optical disk substrate free of silver streaks and coloring can be obtained.
On the other hand, in the case of Comparative Example 1, although there was no change in the softening temperature, transparency and the like of the disk, slight coloring and silver streak occurred, the warpage was 0.5 mm, and the birefringence Δn 5.5 = 8 nm. And high. Further, in the case of Comparative Example 2, coloring (yellow) was observed, and generation of some silver streaks was observed.

[発明の効果] 以上詳述した通り、本発明によれば、耐熱性、透明性
等に優れ、低吸湿性、低複屈折性の高特性ポリビニルシ
クロヘキサン樹脂から樹脂の劣化の問題もなく安定生産
することが可能な光ディスク基板が提供される。
[Effects of the Invention] As described in detail above, according to the present invention, stable production of a high-performance polyvinylcyclohexane resin having excellent heat resistance, transparency, etc., low hygroscopicity, and low birefringence without deterioration of the resin is achieved. An optical disk substrate is provided.

本発明においては、特にヒンダードフェノール系熱安
定剤として、1分子中にヒンダードフェノール基を4つ
以上有するものを、リン系熱安定剤として、テトラキス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレ
ンホスフォナイト及び/又はビス(2,6−ジ−t−ブチ
ル−4−メチルフェニル)ペンタエリストリトール−ジ
−ホスファイトを用い、また、ポリビニルシクロヘキサ
ン系樹脂の数平均分子量が40,000〜300,000である場合
に極めて優れた効果が得られる。
In the present invention, in particular, as a hindered phenol-based heat stabilizer, one having four or more hindered phenol groups in one molecule, and as a phosphorus-based heat stabilizer, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) ) -4,4'-biphenylenephosphonite and / or bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol-di-phosphite; When the number average molecular weight is from 40,000 to 300,000, an extremely excellent effect can be obtained.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 //(C08K 5/00 5:13 5:49) Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Agency reference number FI Technical display location // (C08K 5/00 5:13 5:49)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】熱重量計で測定した5%重量減少温度が29
5℃以上である、ヒンダードフェノール系熱安定剤及び
リン系熱安定剤を配合したポリビニルシクロヘキサン系
樹脂からなることを特徴とする光ディスク基板。
(1) The 5% weight loss temperature measured by a thermogravimeter is 29.
An optical disc substrate comprising a polyvinylcyclohexane-based resin blended with a hindered phenol-based heat stabilizer and a phosphorus-based heat stabilizer at a temperature of 5 ° C. or higher.
【請求項2】ヒンダードフェノール系熱安定剤が、1分
子中にヒンダードフェノール基を4つ以上有することを
特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の光ディスク基
板。
2. The optical disc substrate according to claim 1, wherein the hindered phenol-based heat stabilizer has four or more hindered phenol groups in one molecule.
【請求項3】リン系熱安定剤が、テトラキス(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンホスフ
ォナイト及び/又はビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−
メチルフェニル)ペンタエリスリトール−ジ−ホスファ
イトであることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は
第2項に記載の光ディスク基板。
3. The method according to claim 1, wherein the phosphorus heat stabilizer is tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylenephosphonite and / or bis (2,6-di-t-butyl-butyl). 4-
3. The optical disk substrate according to claim 1, wherein the substrate is methylphenyl) pentaerythritol di-phosphite.
【請求項4】ポリビニルシクロヘサン系樹脂の数平均分
子量が40,000〜300,000であることを特徴とする特許請
求の範囲第1項ないし第3項のいずれか1項に記載の光
ディスク基板。
4. The optical disk substrate according to claim 1, wherein the number average molecular weight of the polyvinyl cyclohsan resin is from 40,000 to 300,000.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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US6815475B2 (en) 1999-06-11 2004-11-09 Dow Global Technologies Inc. Compositions comprising hydrogenated block copolymers and end-use applications thereof
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2022027A1 (en) * 1989-07-28 1991-01-29 Yoshinori Suga Substrate of optical disc
JP2995884B2 (en) * 1991-03-18 1999-12-27 三菱化学株式会社 Hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon polymer composition and optical disk substrate
WO1999041307A1 (en) * 1998-02-17 1999-08-19 The Dow Chemical Company Hydrogenated aromatic polymer compositions containing stabilizers
DE19906983A1 (en) 1999-02-19 2000-08-31 Bayer Ag Mixture of vinylcyclohexane based polymer / copolymer and stabilizer system
TWI719148B (en) 2016-03-25 2021-02-21 日商日本瑞翁股份有限公司 Thermoplastic resin composition

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6632890B1 (en) 1999-03-19 2003-10-14 Dow Global Technologies Inc. Hydrogenated block copolymer compositions
US6815475B2 (en) 1999-06-11 2004-11-09 Dow Global Technologies Inc. Compositions comprising hydrogenated block copolymers and end-use applications thereof
US6914091B2 (en) 1999-06-11 2005-07-05 The Dow Chemical Company Compositions comprising hydrogenated block copolymers and end-use applications thereof

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