JPH10115840A - Matrix type liquid crystal display device - Google Patents

Matrix type liquid crystal display device

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JPH10115840A
JPH10115840A JP8284600A JP28460096A JPH10115840A JP H10115840 A JPH10115840 A JP H10115840A JP 8284600 A JP8284600 A JP 8284600A JP 28460096 A JP28460096 A JP 28460096A JP H10115840 A JPH10115840 A JP H10115840A
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JP
Japan
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distance
liquid crystal
scanning line
pixel electrode
signal line
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Pending
Application number
JP8284600A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshinaga Miyazawa
善永 宮澤
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Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To lessen the light leakage by disinclination and to increase the numeral aperture by forming the opening edges of the apertures of light shielding films so as to satisfy a specific equation and arranging these opening edges in specific positions. SOLUTION: The light shielding film 42 provided with the aperture 42a having the inner side at the end of pixel electrode 34 as the opening edge is formed on the first or second substrate 24. The opening edge of the aperture 42a of the light shielding film 42 is arranged in the position where the distance from the scanning line 31 or signal line 32 on the side, where the light leakage by the disclination is largest, is larger than the distance from the scanning line 31 or signal line 32 on the side, where the light leakage is min. on condition that the equation: L>=a0 d+a1 t+a2 t<2> /d is satisfied, where 0.50<=a0 <=0.90, 0.70<=a1 <=0.85, 0.015<=a2 <=0.040. In the equation, L is the distances between the opening edges and the scanning lines 31 or the signal lines 32; d is the spacing between first and second oriented films; t is the distances between the pixel electrodes 34 and the scanning lines 31 or the signal lines 32.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明はマトリックス型液
晶表示装置に関する。
The present invention relates to a matrix type liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】マトリックス型液晶表示装置には、例え
ば図18に示すように、アクティブ駆動される捩じれネ
マティック型液晶表示装置(以下、TN−LCDとい
う)がある。このTN−LCDは、2枚の偏光板1、2
間に配置された液晶セル3を備えている。液晶セル3
は、対向して配置された2枚のガラス基板等からなる下
基板4と上基板5及びその間に介在された液晶6等を備
えている。液晶6は、90°連続して捩じれた捩じれネ
マティック液晶からなっている。下基板4の上面には画
素電極7がマトリックス状に配置され、その上面には下
配向膜8が設けられている。また、下基板4の上面側に
は、一部しか図示していないが、複数の走査線(ゲート
ライン)と複数の信号線(ドレインライン)9が交差し
て設けられ、その各交点近傍には薄膜トランジスタが設
けられている。薄膜トランジスタは、スイッチング素子
であり、画素電極7と走査線及び信号線9とを接続して
いる。上基板4の下面には共通電極(対向電極)10が
設けられ、その下面には上配向膜11が設けられてい
る。
2. Description of the Related Art As a matrix type liquid crystal display device, for example, as shown in FIG. 18, there is a twisted nematic type liquid crystal display device (hereinafter referred to as a TN-LCD) which is driven actively. This TN-LCD has two polarizing plates 1, 2
It has a liquid crystal cell 3 arranged between them. Liquid crystal cell 3
Is provided with a lower substrate 4 and an upper substrate 5 composed of two glass substrates and the like arranged facing each other, and a liquid crystal 6 and the like interposed therebetween. The liquid crystal 6 is composed of a twisted nematic liquid crystal twisted continuously by 90 °. Pixel electrodes 7 are arranged in a matrix on the upper surface of the lower substrate 4, and a lower alignment film 8 is provided on the upper surface. Although not shown, a plurality of scanning lines (gate lines) and a plurality of signal lines (drain lines) 9 are provided on the upper surface of the lower substrate 4 so as to intersect with each other. Is provided with a thin film transistor. The thin film transistor is a switching element, and connects the pixel electrode 7 with the scanning line and the signal line 9. A common electrode (counter electrode) 10 is provided on the lower surface of the upper substrate 4, and an upper alignment film 11 is provided on the lower surface.

【0003】そして、ある行の走査線に走査信号が入力
されてこの走査線と接続されているすべての薄膜トラジ
スタがオンした状態で、ある列の信号線9に画像データ
に応じた電圧信号が入力されると、この信号線9からオ
ン状態にある薄膜トラジスタを介して画素電極7に電圧
が印加され、この電圧の印加された画素電極7と共通電
極10との間の液晶6に電圧が印加され、これによって
その部分の液晶分子の配向が変化し、この変化に伴う光
学的な変化が偏光板1、2により視覚化され、所望の表
示、例えば白黒表示が行なわれることになる。
When a scanning signal is input to a scanning line in a certain row and all the thin film transistors connected to the scanning line are turned on, a voltage signal corresponding to image data is applied to a signal line 9 in a certain column. When input, a voltage is applied to the pixel electrode 7 from the signal line 9 via the thin-film transistor in the ON state, and a voltage is applied to the liquid crystal 6 between the pixel electrode 7 to which the voltage is applied and the common electrode 10. This changes the orientation of the liquid crystal molecules in that portion, and the optical change accompanying this change is visualized by the polarizing plates 1 and 2, and a desired display, for example, a black and white display is performed.

【0004】ところで、このようなTN−LCDにおい
ては、特に画素電極7を多くして高精細な表示を可能に
した場合、ディスクリネーション(discrination)の発生
による表示品質の大幅な低下が大きな問題になってい
る。すなわち、TN−LCDがノーマリー・ホワイトモ
ードのものである場合、画素電極7に6V程度の電圧を
印加すると、1つの画素部12のうち、例えば図18に
おいて符号12aで示す点線の左側がプレチルト方向と
同一のチルト方向を持つノーマルチルト・ドメイン領域
12bで正常表示部となり、右側がプレチルト方向と逆
のチルト方向を持つリバースチルト・ドメイン領域12
cで光漏れを生じて白抜けをおこす異常表示部となり、
その間の符号12aで示す点線がディスクリネーション
・ラインとなる。この場合の1つの画素部12の平面図
を図19に示すと、同図において斜線で示す領域がリバ
ースチルト・ドメイン領域12cで光漏れを生じて白抜
けをおこす異常表示部となる。このように、画素部12
の一部に白抜けの部分が生じると、TN−LCDの表示
部全体でのコントラストが著しく低下し、表示品質が大
幅に低下してしまう。
[0004] In such a TN-LCD, particularly when the number of pixel electrodes 7 is increased to enable high-definition display, a significant problem is that display quality is greatly reduced due to occurrence of disclination. It has become. That is, when the TN-LCD is of the normally white mode, when a voltage of about 6 V is applied to the pixel electrode 7, the left side of the dotted line indicated by the reference numeral 12a in FIG. The normal display portion is formed by the no-multi tilt domain area 12b having the same tilt direction as the reverse tilt domain area 12 having the tilt direction opposite to the pre-tilt direction on the right side.
An abnormal display part that causes light leakage due to c and causes white spots,
A dotted line indicated by reference numeral 12a therebetween is a disclination line. FIG. 19 is a plan view of one pixel unit 12 in this case. In FIG. 19, the hatched region is an abnormal display unit that causes light leakage in the reverse tilt domain region 12c to cause white spots. Thus, the pixel portion 12
When a white spot occurs in a part of the TN-LCD, the contrast of the entire display portion of the TN-LCD is significantly reduced, and the display quality is significantly reduced.

【0005】このようなディスクリネーションの発生位
置について説明すると、下配向膜8及び上配向膜11の
各配向方向(ラビング方向)によって決定されるプレチ
ルト方向(液晶6の下配向膜8側及び上配向膜11側で
の両界面における液晶分子長軸の傾斜方向)と、画素電
極7と走査線及び信号線9との間に発生する横方向電界
の方向とが直交する位置に発生する。その理由は、誘電
率異方性Δεが正である液晶6のディレクタ(液晶分子
長軸が優先的に配向している方向の単位ベクトル)が局
所的な電界方向に沿って配向するため、プレチルト方向
と横方向電界の方向が直交する位置を境目にしてその左
右でディレクタが逆のチルト角で配向するからである。
The position where such disclination occurs will be described. The pretilt direction (the lower alignment film 8 side and the upper direction of the liquid crystal 6) is determined by the respective alignment directions (rubbing directions) of the lower alignment film 8 and the upper alignment film 11. It is generated at a position where the direction of the horizontal electric field generated between the pixel electrode 7 and the scanning line and the signal line 9 is orthogonal to the direction of inclination of the long axis of the liquid crystal molecules at both interfaces on the alignment film 11 side. The reason is that the director (unit vector in the direction in which the long axis of the liquid crystal molecules is preferentially oriented) of the liquid crystal 6 having the positive dielectric anisotropy Δε is oriented along the local electric field direction, and thus the pretilt This is because the director is oriented at opposite tilt angles on the left and right sides of the position where the direction is perpendicular to the direction of the lateral electric field.

【0006】このようなディスクリネーションは、画素
ピッチが小さい高精細画素で起こりやすく、また液晶界
面のプレチルト角が小さい配向膜で起こりやすく、また
高温動作時と室温動作時とでは前者の方がプレチルト角
が小さくなるので起こりやすく、さらに横方向電界が強
く発生する場合に起こりやすい。特に、画素ピッチが小
さくなるほど、正常表示部12bの画素部12に対する
相対面積比が減少するため、コントラストの低下が一層
ひどくなる。また、プレチルト角が小さくなると、リバ
ースチルトが起こりやすくなり、プレチルト方向と横方
向電界の方向とが直交する位置すなわちディスクリネー
ションの発生位置が画素部12内においてその内側に移
動する。したがって、自動車に搭載される場合やプロジ
ェクタに使用される場合のように高精細あるいは高温動
作を要求されるTN−LCDほどディスクリネーション
が発生しやすい。そこで、従来では、ディスクリネーシ
ョンの発生位置に応じて遮光膜を設けることにより、デ
ィスクリネーションによる光漏れを低減するようにして
いた。
Such disclination is likely to occur in a high-definition pixel having a small pixel pitch, and is likely to occur in an alignment film having a small pretilt angle at a liquid crystal interface. In the case of high-temperature operation and room-temperature operation, the former is more likely to occur. This is likely to occur because the pretilt angle is small, and is likely to occur when a lateral electric field is strongly generated. In particular, as the pixel pitch decreases, the relative area ratio of the normal display section 12b to the pixel section 12 decreases, so that the decrease in contrast becomes more severe. When the pretilt angle is small, reverse tilt is likely to occur, and the position where the pretilt direction and the direction of the lateral electric field are orthogonal to each other, that is, the position where disclination occurs, moves inside the pixel section 12. Therefore, disclinations are more likely to occur in TN-LCDs that require high definition or high-temperature operation, such as when mounted on an automobile or used in a projector. Therefore, conventionally, light leakage due to disclination has been reduced by providing a light shielding film in accordance with the position where disclination occurs.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
遮光膜を設ける方法では、遮光膜の開口部の各開口縁
を、最寄りの走査線及び信号線9から、ディスクリネー
ションの最大浸透距離(例えば、両配向膜8、11間の
間隔(セルギャップ)の2倍程度)だけ等距離に離間し
た位置に設定しているので、開口率が大幅に低下してし
まうという問題があった。この発明の課題は、ディスク
リネーションによる光漏れを低減するとともに、開口率
をなるべく大きくすることである。
However, in the conventional method of providing a light-shielding film, each opening edge of the opening of the light-shielding film is moved from the nearest scanning line and signal line 9 to the maximum penetration distance of disclination (for example, In addition, since the apertures are set at positions equidistant from each other by an interval (about twice the cell gap) between the alignment films 8 and 11, there is a problem that the aperture ratio is significantly reduced. An object of the present invention is to reduce light leakage due to disclination and to increase the aperture ratio as much as possible.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明は、複数の走査
線と複数の信号線が交差して形成され、隣接する前記走
査線と隣接する前記信号線との間に画素電極が形成さ
れ、該画素電極とそれに対応する前記走査線及び前記信
号線とを接続するスイッチング素子が形成され、前記画
素電極上に第1の配向膜が形成された第1の基板と、前
記画素電極に対向する対向電極が形成され、該対向電極
上に前記第1の配向膜と直交する方向に配向された第2
の配向膜が形成された第2の基板と、前記第1と第2の
配向膜間に介在された液晶とを備えたマトリックス型液
晶表示装置において、前記画素電極の端部の内側を開口
縁とされた開口部が形成された遮光膜を前記第1または
第2の基板に形成し、且つ前記遮光膜の開口部の開口縁
を、該開口縁と前記走査線または前記信号線との間の距
離をL、前記第1と第2の配向膜間の間隔をd、前記画
素電極と前記走査線または前記信号線との間の距離をt
としたとき、次式を満足することを条件として(ただ
し、0.50≦a0≦0.90、0.70≦a1≦0.8
5、0.015≦a2≦0.040)、 L≧a0d+a1t+a22/d ディスクリネーションによる光漏れが最大となる側の前
記走査線または前記信号線からの距離が最小となる側の
前記走査線または前記信号線からの距離よりも大きくな
る位置に配置したものである。
According to the present invention, a plurality of scanning lines and a plurality of signal lines are formed so as to intersect, and a pixel electrode is formed between the adjacent scanning lines and the adjacent signal lines. A switching element for connecting the pixel electrode to the scanning line and the signal line corresponding thereto is formed, and a first substrate having a first alignment film formed on the pixel electrode is opposed to the pixel electrode. A counter electrode is formed, and a second electrode oriented on the counter electrode in a direction orthogonal to the first alignment film is formed.
In a matrix type liquid crystal display device comprising a second substrate on which an alignment film is formed and a liquid crystal interposed between the first and second alignment films, an inner edge of the pixel electrode has an opening edge. Forming a light-shielding film in which an opening is formed on the first or second substrate, and setting an opening edge of the opening of the light-shielding film between the opening edge and the scanning line or the signal line. Is L, the distance between the first and second alignment films is d, and the distance between the pixel electrode and the scanning line or the signal line is t.
When the following expression is satisfied (provided that 0.50 ≦ a 0 ≦ 0.90, 0.70 ≦ a 1 ≦ 0.8
5, 0.015 ≦ a 2 ≦ 0.040), L ≧ a 0 d + a 1 t + a 2 t 2 / d The distance from the scanning line or the signal line on the side where light leakage due to disclination is maximum is minimum. And is disposed at a position larger than the distance from the scanning line or the signal line on the side where

【0009】この発明によれば、遮光膜の開口部の開口
縁を、所定の式を満足することを条件として、ディスク
リネーションによる光漏れが最大となる側の走査線また
は信号線からの距離が最小となる側の走査線または信号
線からの距離よりも大きくなる位置に配置しているの
で、ディスクリネーションによる光漏れを低減すること
ができるとともに、開口率をなるべく大きくすることが
できる。
According to the present invention, the edge of the opening of the light-shielding film is set at a distance from the scanning line or the signal line on the side where light leakage due to disclination is maximized, provided that a predetermined formula is satisfied. Is arranged at a position larger than the distance from the scanning line or the signal line on the side where is minimum, so that light leakage due to disclination can be reduced and the aperture ratio can be increased as much as possible.

【0010】[0010]

【実施形態】図1及び図2はこの発明の一実施形態にお
けるマトリックス型液晶表示装置の要部を示したもので
ある。ただし、図1は、図2における下基板24側のう
ち下配向膜41を省略した状態の平面図を示す。このマ
トリックス型液晶表示装置は、アクティブ駆動される透
過型の捩じれネマティック型液晶表示装置(以下、TN
−LCDという)であり、2枚の偏光板21、22間に
配置された液晶セル23を備えている。液晶セル23
は、対向して配置された2枚のガラス基板等からなる下
基板24と上基板25及びその間に介在された液晶26
等を備えている。液晶26は、90°連続して捩じれた
捩じれネマティック液晶からなっている。
1 and 2 show a main portion of a matrix type liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 1. However, FIG. 1 is a plan view showing a state where the lower alignment film 41 is omitted from the lower substrate 24 side in FIG. This matrix type liquid crystal display device is a transmission type twisted nematic type liquid crystal display device (hereinafter referred to as a TN type) which is actively driven.
−LCD), and includes a liquid crystal cell 23 disposed between the two polarizing plates 21 and 22. Liquid crystal cell 23
Are a lower substrate 24 and an upper substrate 25 composed of two glass substrates and the like disposed opposite to each other, and a liquid crystal 26 interposed therebetween.
Etc. are provided. The liquid crystal 26 is made of a twisted nematic liquid crystal twisted continuously by 90 °.

【0011】下基板24の上面側には複数の走査線(ゲ
ートライン)31と複数の信号線(ドレインライン)3
2が交差して設けられ、その各交点近傍にはスイッチン
グ素子としての薄膜トランジスタ33、画素電極34及
びシールド型の補助容量電極35が設けられている。す
なわち、下基板24の上面の所定の箇所にはゲート電極
36を含む走査線31が形成され、他の所定の箇所には
補助容量電極35が形成され、その上面全体にはゲート
絶縁膜37が形成されている。ゲート絶縁膜37の上面
の所定の箇所にはアモルファスシリコンやポリシリコン
等からなる半導体薄膜38が形成されている。半導体薄
膜38の上下両端部の各上面及びその近傍にはソース電
極39及びドレイン電極40が形成され、またこれら電
極39、40の形成と同時に信号線32が形成されてい
る。ゲート絶縁膜37の上面の所定の箇所には透明な画
素電極34がソース電極39に接続されて形成されてい
る。そして、全上面には下配向膜41が形成されてい
る。
On the upper surface of the lower substrate 24, a plurality of scanning lines (gate lines) 31 and a plurality of signal lines (drain lines) 3
In the vicinity of each intersection, a thin film transistor 33 as a switching element, a pixel electrode 34, and a shield type auxiliary capacitance electrode 35 are provided. That is, the scanning line 31 including the gate electrode 36 is formed at a predetermined position on the upper surface of the lower substrate 24, the auxiliary capacitance electrode 35 is formed at another predetermined position, and the gate insulating film 37 is formed over the entire upper surface. Is formed. A semiconductor thin film 38 made of amorphous silicon, polysilicon, or the like is formed at a predetermined location on the upper surface of the gate insulating film 37. A source electrode 39 and a drain electrode 40 are formed on and near each upper surface of the upper and lower ends of the semiconductor thin film 38, and a signal line 32 is formed simultaneously with the formation of these electrodes 39 and 40. A transparent pixel electrode 34 is formed at a predetermined location on the upper surface of the gate insulating film 37 so as to be connected to the source electrode 39. The lower alignment film 41 is formed on the entire upper surface.

【0012】一方、上基板25の下面の所定の箇所には
遮光膜(ブラックマスク)42が形成され、その他の部
分つまり遮光膜42の各開口部42a内には赤(R)、
緑(G)、青(B)の各カラーフィルタ要素43が形成
されている。カラーフィルタ要素43及び遮光膜42の
下面には共通電極(対向電極)44が形成され、共通電
極44の下面には上配向膜45が形成されている。な
お、図1における一点鎖線は遮光膜42の開口部42a
の開口縁を示す。
On the other hand, a light-shielding film (black mask) 42 is formed at a predetermined location on the lower surface of the upper substrate 25, and red (R),
Green (G) and blue (B) color filter elements 43 are formed. A common electrode (counter electrode) 44 is formed on the lower surface of the color filter element 43 and the light shielding film 42, and an upper alignment film 45 is formed on the lower surface of the common electrode 44. The dashed line in FIG. 1 indicates the opening 42 a of the light shielding film 42.
3 shows an opening edge.

【0013】ここで、画素電極34、補助容量電極35
及び遮光膜42の開口部42aの位置関係について説明
する。補助容量電極35は、画素電極34の上辺部に対
応する位置において走査線31と平行して設けられた共
通直線部35aと、この共通直線部35aから画素電極
34の左辺部に沿って引き出された左側引出部35b
と、共通直線部35aから画素電極34の右辺部に沿っ
て引き出された右側引出部35cとからなっている。そ
して、共通直線部35aは画素電極34の上辺の内側に
配置され、全体的に画素電極34の上辺部と重ね合わさ
れている。左側引出部35bの右側部は画素電極34の
左辺部と重ね合わされている。右側引出部35cの左側
部は画素電極34の右辺部と重ね合わされている。そし
て、このような補助容量電極35と画素電極34との重
ね合わされた部分によって補助容量部が形成されてい
る。遮光膜42の開口部42aの上辺開口縁は画素電極
34の上辺の内側で且つ補助容量電極35の共通直線部
35aの内側に配置されている。遮光膜42の開口部4
2aの左辺開口縁は画素電極34の左辺の内側で且つ補
助容量電極35の左側引出部35bの外側に配置されて
いる。遮光膜42の開口部42aの右辺開口縁は画素電
極34の右辺の内側で且つ補助容量電極35の右側引出
部35cの外側に配置されている。遮光膜42の開口部
42aの下辺開口縁は画素電極34の下辺の内側に配置
されている。
Here, the pixel electrode 34, the auxiliary capacitance electrode 35
The positional relationship between the openings 42a of the light shielding film 42 will be described. The auxiliary capacitance electrode 35 is provided at a position corresponding to the upper side of the pixel electrode 34 in parallel with the scanning line 31, and is drawn out from the common linear portion 35 a along the left side of the pixel electrode 34. Left drawer 35b
And a right extraction portion 35c extending from the common linear portion 35a along the right side of the pixel electrode 34. The common linear portion 35a is disposed inside the upper side of the pixel electrode 34, and entirely overlaps with the upper side of the pixel electrode 34. The right side of the left extraction portion 35b is overlapped with the left side of the pixel electrode 34. The left side portion of the right extraction portion 35c is overlapped with the right side portion of the pixel electrode 34. A portion where the auxiliary capacitance electrode 35 and the pixel electrode 34 overlap each other forms an auxiliary capacitance portion. The upper opening edge of the opening 42 a of the light-shielding film 42 is arranged inside the upper side of the pixel electrode 34 and inside the common linear portion 35 a of the auxiliary capacitance electrode 35. Opening 4 of light shielding film 42
The opening edge of the left side of 2a is disposed inside the left side of the pixel electrode 34 and outside the left extraction portion 35b of the auxiliary capacitance electrode 35. The opening edge of the right side of the opening 42 a of the light-shielding film 42 is arranged inside the right side of the pixel electrode 34 and outside the right extraction portion 35 c of the auxiliary capacitance electrode 35. The lower opening edge of the opening 42 a of the light-shielding film 42 is arranged inside the lower edge of the pixel electrode 34.

【0014】次に、画素電極34と遮光膜42の開口部
42aとの具体的な位置関係について説明するに、ま
ず、両配向膜41、45の配向方向とディスクリネーシ
ョンの発生位置との関係について説明する。まず、図3
に1つの画素電極34とその周囲の走査線31及び信号
線32の概略平面図を示す。この場合、画素電極34と
走査線31及び信号線32間の間隙部(以下、単に間隙
部という)の幅を一律にLとする。また、図3において
点線の矢印で示すように、下配向膜41の配向方向を左
斜め上方向とし、同図において実線の矢印で示すよう
に、上配向膜45の配向方向を左斜め下方向とした。ま
た、図3のZ−Z線に沿う概略断面図を図4に示す。こ
の場合、両配向膜41、45間の間隔(セルギャップ)
dを5μmとし、間隙部の幅tをdとし、プレチルト角
θeを3°とした。
Next, the specific positional relationship between the pixel electrode 34 and the opening 42a of the light-shielding film 42 will be described. First, the relationship between the alignment direction of both alignment films 41 and 45 and the position where disclination occurs is described. Will be described. First, FIG.
FIG. 1 shows a schematic plan view of one pixel electrode 34 and its surrounding scanning lines 31 and signal lines 32. In this case, the width of the gap between the pixel electrode 34 and the scanning line 31 and the signal line 32 (hereinafter simply referred to as the gap) is uniformly L. In addition, as shown by a dotted arrow in FIG. 3, the orientation direction of the lower alignment film 41 is set to an upper left diagonal direction, and as shown by a solid arrow in FIG. And FIG. 4 is a schematic sectional view taken along the line ZZ in FIG. In this case, the distance between the two alignment films 41 and 45 (cell gap)
d was 5 μm, the width t of the gap was d, and the pretilt angle θe was 3 °.

【0015】そして、画素電極34に+6V、この画素
電極34の右側の信号線32に−6V、共通電極44及
び補助容量電極35に0Vそれぞれ印加し、液晶26の
配向ベクトルと等電位曲線を調べたところ、図5(A)
に示す結果が得られ、また液晶26の配向ベクトルとY
値(Y値透過率曲線)を調べたところ、図5(B)に示
す結果が得られた。図5(A)を見ると、電気力線が電
位カーブと垂直方向に生じ、間隙部の中心に対して同心
円状に走り、画素電極34から信号線31方向への横方
向電界の電気力線と両配向膜41、45の配向力による
チルトの向きが不自然な場所つまり間隙部の左側におい
てリバースチルトが発生し、間隙部の左側にディスクリ
ネーションが発生していることが分かる。一方、図5
(B)を見ると、間隙部の左側にディスクリネーション
による光漏れのピークが発生し、このピーク側での光漏
れの浸透距離が0.5d程度でピーク点でのY値が12
程度であり、一方ピーク反対側での光漏れの浸透距離が
0.3d程度で信号線端でのY値が10程度であること
が分かる。ただし、光漏れの浸透距離は、光漏れのY値
が完全な暗状態の10倍の明るさになる地点と画素電極
34の端部との距離Δxをdで割った値とした。
Then, + 6V is applied to the pixel electrode 34, -6V is applied to the signal line 32 on the right side of the pixel electrode 34, and 0V is applied to the common electrode 44 and the auxiliary capacitance electrode 35, respectively, and the orientation vector and the equipotential curve of the liquid crystal 26 are examined. As shown in FIG.
Are obtained, and the orientation vector of the liquid crystal 26 and Y
When the value (Y value transmittance curve) was examined, the result shown in FIG. 5B was obtained. Referring to FIG. 5A, electric lines of force are generated in a direction perpendicular to the potential curve, run concentrically with respect to the center of the gap, and the electric lines of force of the horizontal electric field from the pixel electrode 34 toward the signal line 31 are formed. It can be seen that reverse tilt occurs at a place where the tilt direction due to the alignment force of both alignment films 41 and 45 is unnatural, that is, at the left side of the gap, and disclination occurs at the left side of the gap. On the other hand, FIG.
Referring to (B), a peak of light leakage due to disclination occurs on the left side of the gap, and the penetration distance of light leakage on the peak side is about 0.5 d, and the Y value at the peak point is 12
On the other hand, it can be seen that the penetration distance of light leakage on the opposite side of the peak is about 0.3 d and the Y value at the signal line end is about 10. However, the penetration distance of the light leakage was a value obtained by dividing the distance Δx between the point where the Y value of the light leakage became 10 times the brightness of the completely dark state and the end of the pixel electrode 34 by d.

【0016】次に、図3に示す配向状態を時計方向に4
5°回転させた場合の配向状態を図6に示す。したがっ
て、この場合には、図6において点線の矢印で示すよう
に、下配向膜41の配向方向が上方向となり、同図にお
いて実線の矢印で示すように、上配向膜45の配向方向
が左方向となる。そして、その他の条件を図3に示す配
向状態の場合と同じとしたところ、図7(A)及び
(B)に示す結果が得られた。この場合には、特に図7
(B)を見ると、間隙部の右側にディスクリネーション
による光漏れのピークが発生し、このピーク側での光漏
れの浸透距離が0.7d程度でピーク点でのY値が25
程度であり、一方ピーク反対側での光漏れの浸透距離が
0.3d程度でY値が0程度であることが分かる。
Next, the orientation state shown in FIG.
FIG. 6 shows the orientation state when rotated by 5 °. Accordingly, in this case, the orientation direction of the lower alignment film 41 becomes the upward direction as shown by the dotted arrow in FIG. 6, and the alignment direction of the upper alignment film 45 becomes the left direction as shown by the solid arrow in FIG. Direction. Then, when the other conditions were the same as those in the case of the orientation state shown in FIG. 3, the results shown in FIGS. 7A and 7B were obtained. In this case, in particular, FIG.
Referring to (B), a peak of light leakage due to disclination occurs on the right side of the gap, and the penetration distance of the light leakage on this peak side is about 0.7d, and the Y value at the peak point is 25.
On the other hand, it can be seen that the Y value is about 0 when the penetration distance of light leakage on the opposite side of the peak is about 0.3 d.

【0017】次に、図6に示す配向状態を時計方向に4
5°回転させた場合の配向状態を図8に示す。したがっ
て、この場合には、図8において点線の矢印で示すよう
に、下配向膜41の配向方向が右斜め上方向となり、同
図において実線の矢印で示すように、上配向膜45の配
向方向が左斜め上方向となる。そして、その他の条件を
図3に示す配向状態の場合と同じとしたところ、図9
(A)及び(B)に示す結果が得られた。この場合に
は、特に図9(B)を見ると、間隙部の右側にディスク
リネーションによる光漏れのピークが発生し、このピー
ク側での光漏れの浸透距離が0.8d程度で信号線端で
のY値が28程度であり、一方ピーク反対側での光漏れ
の浸透距離が0.6d程度で画素電極端でのY値が28
程度であることが分かる。
Next, the orientation state shown in FIG.
FIG. 8 shows the orientation state when rotated by 5 °. Therefore, in this case, the orientation direction of the lower alignment film 41 is obliquely upward to the right, as indicated by the dotted arrow in FIG. 8, and the orientation direction of the upper alignment film 45, as indicated by the solid arrow in FIG. Is the diagonally upper left direction. Then, the other conditions were the same as in the case of the orientation state shown in FIG.
The results shown in (A) and (B) were obtained. In this case, especially when looking at FIG. 9B, a peak of light leakage due to disclination occurs on the right side of the gap, and the penetration distance of the light leakage on this peak side is about 0.8 d, and the signal line The Y value at the end is about 28, while the penetration distance of light leakage on the opposite side of the peak is about 0.6 d and the Y value at the pixel electrode end is about 28 d.
It turns out that it is about.

【0018】次に、図8に示す配向状態を時計方向に4
5°回転させた場合の配向状態を図10に示す。したが
って、この場合には、図10において点線の矢印で示す
ように、下配向膜41の配向方向が右方向となり、同図
において実線の矢印で示すように、上配向膜45の配向
方向が上方向となる。そして、その他の条件を図3に示
す配向状態の場合と同じとしたところ、図11(A)及
び(B)に示す結果が得られた。この場合には、特に図
11(B)を見ると、間隙部の右側にディスクリネーシ
ョンによる光漏れのピークが発生し、このピーク側での
光漏れの浸透距離が0.7d程度でピーク点でのY値が
8程度であり、一方ピーク反対側での光漏れの浸透距離
が0.5d程度で画素電極端でのY値が5程度であるこ
とが分かる。
Next, the orientation state shown in FIG.
FIG. 10 shows the orientation state when rotated by 5 °. Therefore, in this case, the orientation of the lower alignment film 41 is rightward as shown by the dotted arrow in FIG. 10, and the orientation of the upper alignment film 45 is upward as shown by the solid arrow in FIG. Direction. Then, when the other conditions were the same as those in the case of the orientation state shown in FIG. 3, the results shown in FIGS. 11A and 11B were obtained. In this case, especially when looking at FIG. 11B, a peak of light leakage due to disclination occurs on the right side of the gap, and the light leakage penetration distance on this peak side is about 0.7 d, and the peak point is reached. It can be seen that the Y value at the end of the pixel electrode is about 8, while the penetration distance of light leakage on the side opposite to the peak is about 0.5d, and the Y value at the pixel electrode end is about 5.

【0019】以上のことから、両配向膜41、45の配
向方向とディスクリネーション発生位置との関係は、図
3に示す配向状態の場合と図6に示す配向状態の場合に
は、図12(A)及び図13(A)にそれぞれ示すよう
になる。まず、図3に示す配向状態の場合について説明
する。図5(B)に示すように、ピーク側での光漏れの
浸透距離が0.5d程度でピーク点でのY値が12程度
であり、ピーク反対側での光漏れの浸透距離が0.3d
程度で信号線端でのY値が10程度であるので、図12
(A)に示すように、画素電極34の右辺から内側に
0.5d程度離れた領域にY値12程度の光漏れが発生
し、また画素電極34の左辺から内側に0.3d程度離
れた領域にY値10程度の光漏れが発生する。一方、図
3に示す配向状態を時計方向に90°回転させると、図
8に示す配向状態となる。したがって、図8に示す配向
状態の左右方向のディスクリネーション発生位置は、図
3に示す配向状態の上下方向のディスクリネーション発
生位置とみなすことができる。そして、図9(B)に示
すように、ピーク側での光漏れの浸透距離が0.8d程
度で信号端でのY値が28程度であり、ピーク反対側で
の光漏れの浸透距離が0.6d程度で画素電極端でのY
値が28程度であるので、図12(A)に示すように、
画素電極34の下辺から内側に0.8d程度離れた領域
にY値28程度の光漏れが発生し、また画素電極34の
上辺から内側に0.6d程度離れた領域にY値28程度
の光漏れが発生する。
From the above, the relationship between the alignment directions of the alignment films 41 and 45 and the position where the disclination occurs is as shown in FIG. 12 between the alignment state shown in FIG. 3 and the alignment state shown in FIG. 13 (A) and FIG. 13 (A). First, the case of the orientation state shown in FIG. 3 will be described. As shown in FIG. 5B, the permeation distance of light leakage on the peak side is about 0.5d, the Y value at the peak point is about 12, and the permeation distance of light leakage on the opposite side of the peak is 0.1. 3d
Since the Y value at the end of the signal line is about 10 in FIG.
As shown in (A), light leakage of about Y value 12 occurs in a region about 0.5 d inward from the right side of the pixel electrode 34, and about 0.3 d inward from the left side of the pixel electrode 34. Light leakage with a Y value of about 10 occurs in the region. On the other hand, when the orientation state shown in FIG. 3 is rotated clockwise by 90 °, the orientation state shown in FIG. 8 is obtained. Therefore, the disclination occurrence position in the horizontal direction in the orientation state shown in FIG. 8 can be regarded as the disclination occurrence position in the vertical direction in the orientation state shown in FIG. Then, as shown in FIG. 9B, the light leakage penetration distance on the peak side is about 0.8 d, the Y value at the signal end is about 28, and the light leakage penetration distance on the opposite side of the peak is About 0.6d, Y at the pixel electrode end
Since the value is about 28, as shown in FIG.
Light leakage of about Y value 28 occurs in an area about 0.8 d inward from the lower side of the pixel electrode 34, and light of about 28 value in an area 0.6 d inward from the upper side of the pixel electrode 34. Leaks occur.

【0020】そして、図8に示す配向状態の場合には、
図3に示す配向状態を時計方向に90°回転させた場合
に相当するので、図12(B)に示すようになる。ま
た、図8に示す配向状態を時計方向に90°回転させた
場合の配向状態では、図12(C)に示すようになり、
さらに時計方向に90°回転させた場合の配向状態で
は、図12(D)に示すようになる。
Then, in the case of the orientation state shown in FIG.
Since this corresponds to the case where the orientation state shown in FIG. 3 is rotated clockwise by 90 °, it becomes as shown in FIG. Further, in the orientation state when the orientation state shown in FIG. 8 is rotated clockwise by 90 °, the orientation state becomes as shown in FIG.
FIG. 12D shows the orientation state when rotated further by 90 ° clockwise.

【0021】次に、図6に示す配向状態の場合について
説明する。図7(B)に示すように、ピーク側での光漏
れの浸透距離が0.7d程度でピーク点でのY値が25
程度であり、ピーク反対側での光漏れの浸透距離が0.
3d程度でY値が0程度であるので、図13(A)に示
すように、画素電極34の左辺から内側に0.7d程度
離れた領域にY値25程度の光漏れが発生し、また画素
電極34の右辺から内側に0.3d程度離れた領域にY
値0程度の光漏れが発生する。一方、図6に示す配向状
態を時計方向に90°回転させると、図10に示す配向
状態となる。したがって、図10に示す配向状態の左右
方向のディスクリネーション発生位置は、図6に示す配
向状態の上下方向のディスクリネーション発生位置とみ
なすことができる。そして、図11(B)に示すよう
に、ピーク側での光漏れの浸透距離が0.7d程度でピ
ーク点でのY値が8程度であり、ピーク反対側での光漏
れの浸透距離が0.5d程度で画素電極端でのY値が5
程度であるので、図13(A)に示すように、画素電極
34の下辺から内側に0.7d程度離れた領域にY値8
程度の光漏れが発生し、また画素電極34の上辺から内
側に0.5d程度離れた領域にY値5程度の光漏れが発
生する。
Next, the case of the orientation state shown in FIG. 6 will be described. As shown in FIG. 7B, the permeation distance of the light leakage on the peak side is about 0.7 d, and the Y value at the peak point is 25.
And the penetration distance of light leakage on the opposite side of the peak is 0.1.
Since the Y value is about 0 at about 3d, as shown in FIG. 13A, light leakage of about 25 Y values occurs in a region about 0.7d inward from the left side of the pixel electrode 34, and Y is located in a region about 0.3d inward from the right side of the pixel electrode 34.
Light leakage of about 0 occurs. On the other hand, when the orientation state shown in FIG. 6 is rotated clockwise by 90 °, the orientation state shown in FIG. 10 is obtained. Therefore, the position of occurrence of disclination in the horizontal direction in the orientation state shown in FIG. 10 can be regarded as the position of occurrence of disclination in the vertical direction in the orientation state shown in FIG. Then, as shown in FIG. 11B, the permeation distance of light leakage on the peak side is about 0.7d, the Y value at the peak point is about 8, and the permeation distance of light leakage on the opposite side of the peak is When about 0.5d, the Y value at the pixel electrode end is 5
As shown in FIG. 13A, the Y value of 8 is set in a region about 0.7d inward from the lower side of the pixel electrode 34.
A light leak of about 5 occurs, and a light leak of about Y value 5 occurs in a region about 0.5 d inward from the upper side of the pixel electrode 34.

【0022】そして、図10に示す配向状態の場合に
は、図6に示す配向状態を時計方向に90°回転させた
場合に相当するので、図13(B)に示すようになる。
また、図10に示す配向状態を時計方向に90°回転さ
せた場合の配向状態では、図13(C)に示すようにな
り、さらに時計方向に90°回転させた場合の配向状態
では、図13(D)に示すようになる。
The orientation state shown in FIG. 10 corresponds to a case where the orientation state shown in FIG. 6 is rotated clockwise by 90 °, and is as shown in FIG. 13B.
FIG. 13C shows an orientation state when the orientation state shown in FIG. 10 is rotated 90 ° clockwise, and FIG. 13C shows an orientation state when the orientation state is further rotated clockwise 90 °. 13 (D).

【0023】このように、図12及び図13に示す8つ
の配向状態でのディスクリネーション発生位置がそれぞ
れ異なることになる。そこで、例えば図12(A)に示
す配向状態の場合には、図1及び図2に示す遮光膜42
の開口部42aの左辺開口縁と画素電極34の左辺との
間隔を0.3dとし、遮光膜42の開口部42aの右辺
開口縁と画素電極34の右辺との間隔を0.5dとし、
遮光膜42の開口部42aの下辺開口縁と画素電極34
の下辺との間隔を0.8dとし、遮光膜42の開口部4
2aの上辺開口縁と画素電極34の上辺との間隔を0.
6dとすると、ディスクリネーションによる光漏れを低
減することができるとともに、開口率をなるべく大きく
することができることになる。ところで、図12(A)
〜(D)に示す配向状態の場合には、光漏れの浸透距離
が最大の場合と最小の場合の差が0.5dであり、図1
3(A)〜(D)に示す配向状態の場合には、光漏れの
浸透距離が最大の場合と最小の場合の差が0.4dであ
り、したがってこのような差は0.4d以上とした方が
望ましい。
As described above, the disclination positions in the eight orientation states shown in FIGS. 12 and 13 are different from each other. Thus, for example, in the case of the orientation state shown in FIG. 12A, the light shielding film 42 shown in FIGS.
The distance between the left edge of the opening 42a of the opening 42a and the left side of the pixel electrode 34 is 0.3d, the distance between the right edge of the opening 42a of the light shielding film 42 and the right side of the pixel electrode 34 is 0.5d,
The lower opening edge of the opening 42a of the light shielding film 42 and the pixel electrode 34
Of the light shielding film 42 is set to 0.8d.
2a is set to 0.
With 6d, light leakage due to disclination can be reduced, and the aperture ratio can be made as large as possible. By the way, FIG.
1D, the difference between the case where the penetration distance of light leakage is the maximum and the case where the penetration distance of the light leakage is the minimum is 0.5 d.
In the orientation states shown in FIGS. 3 (A) to 3 (D), the difference between the case where the penetration distance of the light leakage is the maximum and the case where the penetration distance is the minimum is 0.4d. It is desirable to do.

【0024】なお、図12及び図13に示されたディス
クリネーションによる光漏れの発生状況の平面図に対し
て、遮光膜42の開口縁の位置は、必ずしも画素電極3
4の各辺において異なるものとする必要はない。図12
(A)〜(D)を観察すると画素電極34の対辺側に現
れる光漏れの浸透距離及びY値は相互に近似しているか
ら、遮光膜42の開口縁を各対辺同士では同じ位置とす
ることもできる。また、特にY値が大きい方の対辺側の
開口縁の位置をそれぞれ異なる値、例えば0.6d及び
0.8d程度として、Y値が小さい方の対辺側の開口縁
の位置を共に同じ値、例えば0.3d〜0.5d程度と
してもよい。また、図13(A)〜(D)を観察すると
光漏れの浸透距離は隣接する2辺側で大きく、残りの2
辺側では小さいが、Y値は1辺側のみで大きく残りの3
辺側で小さいので、光漏れの浸透距離の大きい隣接する
2辺側の開口縁の位置を同じにして、残りの2辺側の開
口縁の位置をそれよりも小さくするか、あるいは、光漏
れの浸透距離及びY値が共に大きい1辺側の開口縁の位
置を大きくし、残りの辺側の開口縁の位置をそれよりも
小さく且つ同じ位置にしてもよい。
In the plan views of the light leakage due to the disclination shown in FIGS. 12 and 13, the position of the opening edge of the light shielding film 42 is not necessarily the pixel electrode 3.
It is not necessary that each side of 4 be different. FIG.
When observing (A) to (D), the penetration distance and the Y value of the light leakage appearing on the opposite side of the pixel electrode 34 are close to each other, so that the opening edge of the light shielding film 42 is set to the same position on each opposite side. You can also. Further, particularly, the position of the opening edge on the opposite side where the Y value is larger is set to different values, for example, about 0.6d and 0.8d, and the position of the opening edge on the opposite side where the Y value is smaller is the same value. For example, it may be about 0.3d to 0.5d. Also, when observing FIGS. 13 (A) to 13 (D), the penetration distance of light leakage is large on two adjacent sides, and the remaining 2
Although the value is small on the side, the Y value is large only on one side and the remaining 3
Since the side edges are small, the positions of the opening edges on the adjacent two sides where the penetration distance of light leakage is large are the same, and the positions of the opening edges on the remaining two sides are smaller than that. , The position of the opening edge on one side where both the penetration distance and the Y value are large may be increased, and the positions of the opening edges on the remaining sides may be smaller and the same position.

【0025】次に、図10に示す配向状態において、間
隙部の幅tを変化させてディスクリネーションに対する
依存性を調べたところ、図14及び図15に示す結果が
得られた。このうち図14は間隙部の幅tとピークのY
値との関係を示し、図15(A)は間隙部の幅tとピー
ク側での光漏れの浸透距離との関係を示し、(B)は間
隙部の幅tとピーク反対側での光漏れの浸透距離との関
係を示す。そして、図14を見ると、間隙部の幅tが小
さくなってもディスクリネーションのピークの明るさは
あまり変化しないことが分かる。これに対して、図15
(A)及び(B)を見ると、間隙部の幅tが小さくなる
ほど光漏れの浸透距離が大きくなることが分かる。逆に
言えば、間隙部の幅tが大きくなるほど光漏れの浸透距
離が小さくなる。このことが通常言われていることであ
り、これに基づいて従来では、上述したように、間隙部
の幅tを2d程度としている。
Next, in the orientation state shown in FIG. 10, the dependence on the disclination was examined by changing the width t of the gap, and the results shown in FIGS. 14 and 15 were obtained. 14 shows the width t of the gap and the Y of the peak.
15A shows the relationship between the width t of the gap and the penetration distance of light leakage on the peak side, and FIG. 15B shows the relationship between the width t of the gap and the light on the side opposite to the peak. 4 shows the relationship between the leakage distance and the penetration distance. FIG. 14 shows that the brightness of the peak of the disclination does not change much even when the width t of the gap becomes small. In contrast, FIG.
It can be seen from (A) and (B) that the smaller the width t of the gap, the longer the penetration distance of light leakage. Conversely, as the width t of the gap increases, the penetration distance of light leakage decreases. This is what is usually said. Based on this, the width t of the gap is set to about 2d as described above.

【0026】ところで、本発明者は、光漏れの浸透距離
の起点を画素電極34の端部ではなく走査線31及び信
号線32の端部としたところ、間隙部の幅tが小さくな
るほど光漏れの浸透距離も小さくなることを見い出し
た。すなわち、図10に示す配向状態において、光漏れ
の浸透距離の起点を走査線31及び信号線32の端部と
し、間隙部の幅tを変化させてディスクリネーションに
対する依存性を調べたところ、図16(A)及び(B)
に示す結果が得られた。このうち図16(A)は間隙部
の幅tとピーク側での光漏れの浸透距離との関係を示
し、(B)は間隙部の幅tとピーク反対側での光漏れの
浸透距離との関係を示す。ただし、この場合の光漏れの
浸透距離は、走査線31及び信号線32の端部を起点と
したものであるので、(t+Δx)/dとなる。この図
16(A)及び(B)から明らかなように、間隙部の幅
tが小さくなるほど光漏れの浸透距離も小さくなること
が分かる。このことは、図10に示す配向状態だけでは
なく、図3、図6及び図8にそれぞれ示す配向状態の場
合も同様であると言える。
The inventor of the present invention assumed that the starting point of the penetration distance of light leakage was not the end of the pixel electrode 34 but the end of the scanning line 31 and the signal line 32. As the width t of the gap became smaller, the light leakage became smaller. It was also found that the permeation distance became smaller. That is, in the orientation state shown in FIG. 10, when the starting point of the penetration distance of light leakage was set to the ends of the scanning line 31 and the signal line 32, and the width t of the gap was changed to examine the dependence on disclination, FIG. 16 (A) and (B)
The result shown in FIG. 16A shows the relationship between the width t of the gap and the penetration distance of light leakage on the peak side, and FIG. 16B shows the relationship between the width t of the gap and the penetration distance of light leakage on the side opposite to the peak. Shows the relationship. However, the permeation distance of the light leakage in this case is (t + Δx) / d since the end of the scanning line 31 and the end of the signal line 32 is the starting point. As is clear from FIGS. 16A and 16B, the smaller the width t of the gap, the smaller the penetration distance of light leakage. This can be said to be the same not only in the orientation state shown in FIG. 10 but also in the orientation states shown in FIGS. 3, 6, and 8, respectively.

【0027】そして、図16(A)に示すグラフから次
の式(1)が導き出される。 (t+Δx)/d=a0+a1(t/d)+a2(t/d)2 ……(1) ただし、0.50≦a0≦0.90、0.70≦a1
0.85、0.015≦a2≦0.040)とする。こ
の場合、a0、a1、a2の各値に幅があるのは、既に説
明したように、図12及び図13に示す8つの配向状態
でのディスクリネーション発生位置がそれぞれ異なるの
で、これを見積って求めたからである。そして、式
(1)から次の式(2)が求められる。 (t+Δx)=a0d+a1t+a22/d ……(2)
The following equation (1) is derived from the graph shown in FIG. (T + Δx) / d = a 0 + a 1 (t / d) + a 2 (t / d) 2 (1) where 0.50 ≦ a 0 ≦ 0.90 and 0.70 ≦ a 1
0.85, 0.015 ≦ a 2 ≦ 0.040). In this case, there is a range in each value of a 0 , a 1 , and a 2 because , as described above, the disclination occurrence positions in the eight orientation states shown in FIGS. 12 and 13 are different from each other. This is because it was estimated and obtained. Then, the following equation (2) is obtained from the equation (1). (T + Δx) = a 0 d + a 1 t + a 2 t 2 / d (2)

【0028】ここで、遮光膜42の開口部42aの開口
縁と走査線31及び信号線32との間の距離をLとし、
このLを(t+Δx)とすると、図12及び図13に示
す8つの配向状態でのディスクリネーション発生位置が
それぞれ異なることと相俟って、ディスクリネーション
による光漏れをより一層低減することができるととも
に、開口率をさらに大きくすることができる。この場
合、配向膜41、45の配向方向が走査線31に対し
て、斜め方向の場合でも、あるいは平行または直交する
方向の場合でも、実際の駆動では、走査線31に供給さ
れる電圧の方が信号線32に供給される電圧よりも高い
ものであるし、また、セルギャップの大きさとか、走査
線31と画素電極34の距離と信号線32と画素電極3
4の距離とが相違し、横方向電界の条件が異なるので、
そのときの条件に合わせて、ディスクリネーションによ
る光漏れが小さく且つ開口率が大きくなるように適切に
開口縁の位置を定めればよい。したがって、Lは(t+
Δx)以上とすることもある。
Here, the distance between the edge of the opening 42a of the light shielding film 42 and the scanning line 31 and the signal line 32 is L,
Assuming that L is (t + Δx), light leakage due to disclination can be further reduced, in addition to the fact that disclination positions in the eight orientation states shown in FIGS. 12 and 13 are different from each other. And the aperture ratio can be further increased. In this case, even when the alignment direction of the alignment films 41 and 45 is oblique to the scanning line 31 or in a direction parallel or orthogonal to the scanning line 31, in actual driving, the voltage supplied to the scanning line 31 is smaller. Is higher than the voltage supplied to the signal line 32, the size of the cell gap, the distance between the scanning line 31 and the pixel electrode 34, the signal line 32 and the pixel electrode 3
4 and the conditions of the lateral electric field are different.
The position of the opening edge may be appropriately determined in accordance with the condition at that time so that light leakage due to disclination is small and the aperture ratio is large. Therefore, L is (t +
Δx) or more.

【0029】次に、図17はこの発明の他の実施形態に
おけるマトリックス型液晶表示装置の要部を示したもの
である。この図において、図2と同一名称部分には同一
の符号を付し、その説明を適宜省略する。この実施形態
では、図示していないが、薄膜トランジスタに対応する
部分における上基板25の下面にのみ遮光膜が設けら
れ、それ以外の部分にはカラーフィルタ要素43のみが
設けられ、その代わりに、補助容量電極35が遮光膜を
兼ねている。そして、例えば図2に示す場合と同様に、
補助容量電極35の開口部35aの左辺開口縁と画素電
極34の左辺との間隔を0.3dとし、補助容量電極3
5の開口部35aの右辺開口縁と画素電極34の右辺と
の間隔を0.5dとすると、ディスクリネーションによ
る光漏れを低減することができるとともに、開口率をな
るべく大きくすることができることになる。
Next, FIG. 17 shows a main part of a matrix type liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention. In this figure, the same parts as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate. In this embodiment, although not shown, a light-shielding film is provided only on the lower surface of the upper substrate 25 in a portion corresponding to the thin film transistor, and only the color filter element 43 is provided in other portions. The capacitance electrode 35 also serves as a light shielding film. Then, for example, as in the case shown in FIG.
The distance between the left side edge of the opening 35a of the auxiliary capacitance electrode 35 and the left side of the pixel electrode 34 is 0.3d, and the auxiliary capacitance electrode 3
If the distance between the right side edge of the opening 35a of the No. 5 and the right side of the pixel electrode 34 is 0.5d, light leakage due to disclination can be reduced and the aperture ratio can be increased as much as possible. .

【0030】なお、薄膜トランジスタを遮光する遮光膜
を下基板24に設けた場合には、上基板25には遮光膜
を設ける必要はない。また、スイッチング素子として、
薄膜トラジスタの代わりに、MIM(金属−絶縁膜−金
属)等の非線形素子を用いてもよい。また、下配向膜4
1と上配向膜45の配向方向は、必ずしも90°の角度
で交差するもののみに限らず、90°〜130°の角度
で交差するものにも適用可能である。さらに、この発明
は、カラー表示や透過型でなく、白黒表示や反射型のT
N−LCDにも適用することができる。
When a light-shielding film for shielding the thin film transistor is provided on the lower substrate 24, it is not necessary to provide the upper substrate 25 with a light-shielding film. In addition, as a switching element,
Instead of the thin film transistor, a non-linear element such as MIM (metal-insulating film-metal) may be used. The lower alignment film 4
The orientation directions of 1 and the upper alignment film 45 are not limited to those that intersect at an angle of 90 °, but can be applied to those that intersect at an angle of 90 ° to 130 °. Further, the present invention is not limited to a color display or a transmission type, but a black and white display or a reflection type T
It can also be applied to N-LCDs.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、所定の式を満足することを条件として、遮光膜の開
口部の開口縁を、ディスクリネーションによる光漏れが
最大となる側の走査線または信号線からの距離が最小と
なる側の走査線または信号線からの距離よりも大きくな
る位置に配置しているので、ディスクリネーションによ
る光漏れを低減することができるとともに、開口率をな
るべく大きくすることができる。
As described above, according to the present invention, on the condition that a predetermined formula is satisfied, the opening edge of the opening of the light-shielding film is set on the side where light leakage due to disclination is maximized. Since it is arranged at a position where the distance from the scanning line or the signal line that is the shortest from the scanning line or the signal line is greater than the distance from the scanning line or the signal line, light leakage due to disclination can be reduced and the aperture ratio can be reduced. Can be made as large as possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施形態におけるマトリックス型
液晶表示装置の要部を示す平面図。
FIG. 1 is a plan view showing a main part of a matrix type liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1のX−X線に沿う断面図。FIG. 2 is a sectional view taken along line XX of FIG. 1;

【図3】1つの画素電極とその周囲の走査線及び信号線
の部分を示す概略平面図。
FIG. 3 is a schematic plan view showing one pixel electrode and portions of a scanning line and a signal line around the pixel electrode.

【図4】図3のZ−Z線に沿う概略断面図。FIG. 4 is a schematic sectional view taken along the line ZZ in FIG. 3;

【図5】(A)は図3に示す配向状態における液晶の配
向ベクトル図と等電位曲線とを重ね合わせた図、(B)
は同配向状態における液晶の配向ベクトル図とY値とを
重ね合わせた図。
5A is a diagram in which an alignment vector diagram of the liquid crystal in the alignment state shown in FIG. 3 and an equipotential curve are superimposed, and FIG.
FIG. 3 is a diagram in which the orientation vector diagram of the liquid crystal and the Y value in the same orientation state are superimposed.

【図6】図3に示す配向状態を時計方向に45°回転さ
せた場合の配向状態を示す概略平面。
FIG. 6 is a schematic plan view showing an orientation state when the orientation state shown in FIG. 3 is rotated clockwise by 45 °.

【図7】(A)は図6に示す配向状態における液晶の配
向ベクトル図と等電位曲線とを重ね合わせた図、(B)
は同配向状態における液晶の配向ベクトル図とY値とを
重ね合わせた図。
7A is a diagram in which an orientation vector diagram of the liquid crystal in the orientation state shown in FIG. 6 and an equipotential curve are superimposed, and FIG.
FIG. 3 is a diagram in which the orientation vector diagram of the liquid crystal and the Y value in the same orientation state are superimposed.

【図8】図6に示す配向状態を時計方向に45°回転さ
せた場合の配向状態を示す概略平面。
FIG. 8 is a schematic plan view showing an alignment state when the alignment state shown in FIG. 6 is rotated clockwise by 45 °.

【図9】(A)は図8に示す配向状態における液晶の配
向ベクトル図と等電位曲線とを重ね合わせた図、(B)
は同配向状態における液晶の配向ベクトル図とY値とを
重ね合わせた図。
9A is a diagram in which an orientation vector diagram of the liquid crystal in the orientation state shown in FIG. 8 and an equipotential curve are superimposed, and FIG.
FIG. 3 is a diagram in which the orientation vector diagram of the liquid crystal and the Y value in the same orientation state are superimposed.

【図10】図8に示す配向状態を時計方向に45°回転
させた場合の配向状態を示す概略平面。
FIG. 10 is a schematic plan view showing an orientation state when the orientation state shown in FIG. 8 is rotated clockwise by 45 °.

【図11】(A)は図10に示す配向状態における液晶
の配向ベクトル図と等電位曲線とを重ね合わせた図、
(B)は同配向状態における液晶の配向ベクトル図とY
値とを重ね合わせた図。
11A is a diagram in which an alignment vector diagram of a liquid crystal in the alignment state shown in FIG. 10 and an equipotential curve are superimposed, FIG.
(B) shows the orientation vector diagram of the liquid crystal in the same orientation state and Y
The figure which superimposed the value.

【図12】(A)は図3に示す配向状態におけるディス
クリネーション発生位置を説明するために示す図、
(B)〜(D)はそれぞれ(A)に示す配向状態から時
計方向に90°ずつ回転させた場合の各配向状態におけ
るディスクリネーション発生位置を説明するために示す
図。
12A is a diagram illustrating a disclination generation position in the orientation state illustrated in FIG. 3;
(B)-(D) is a figure shown for demonstrating the disclination generation position in each orientation state at the time of rotating 90 degrees clockwise from the orientation state shown in (A), respectively.

【図13】(A)は図6に示す配向状態におけるディス
クリネーション発生位置を説明するために示す図、
(B)〜(D)はそれぞれ(A)に示す配向状態から時
計方向に90°ずつ回転させた場合の各配向状態におけ
るディスクリネーション発生位置を説明するために示す
図。
13A is a view for explaining a disclination occurrence position in the orientation state shown in FIG. 6, FIG.
(B)-(D) is a figure shown for demonstrating the disclination generation position in each orientation state at the time of rotating 90 degrees clockwise from the orientation state shown in (A), respectively.

【図14】間隙部の幅tとピークのY値との関係を示す
図。
FIG. 14 is a diagram illustrating a relationship between a width t of a gap and a Y value of a peak.

【図15】光漏れの浸透距離の起点を画素電極端とした
場合において、(A)は間隙部の幅tとピーク側での光
漏れの浸透距離との関係を示す図、(B)は間隙部の幅
tとピーク反対側での光漏れの浸透距離との関係を示す
図。
15A is a diagram showing a relationship between the width t of the gap and the penetration distance of light leakage on the peak side when the starting point of the penetration distance of light leakage is the pixel electrode end; FIG. The figure which shows the relationship between the width | variety t of the gap part, and the penetration distance of the light leak in the opposite side of a peak.

【図16】光漏れの浸透距離の起点を走査線端及び信号
線端とした場合において、(A)は間隙部の幅tとピー
ク側での光漏れの浸透距離との関係を示す図、(B)は
間隙部の幅tとピーク反対側での光漏れの浸透距離との
関係を示す図。
16A is a diagram showing a relationship between a width t of a gap and a penetration distance of light leakage on a peak side when a starting point of a penetration distance of light leakage is a scanning line end and a signal line end; FIG. (B) is a diagram showing the relationship between the width t of the gap and the penetration distance of light leakage on the side opposite to the peak.

【図17】この発明の他の実施形態におけるマトリック
ス型液晶表示装置の要部を示す断面図。
FIG. 17 is a sectional view showing a main part of a matrix type liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.

【図18】従来のマトリックス型液晶表示装置の一部の
断面図。
FIG. 18 is a cross-sectional view of a part of a conventional matrix type liquid crystal display device.

【図19】1つの画素部においてディスクリネーション
が発生した様子を示す平面図。
FIG. 19 is a plan view showing a state where disclination has occurred in one pixel portion.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

24 下基板 25 上基板 26 液晶 31 走査線 32 信号線 33 薄膜トランジスタ 34 画素電極 41 下配向膜 42 遮光膜 42a 開口部 44 共通電極(対向電極) 45 上配向膜 24 lower substrate 25 upper substrate 26 liquid crystal 31 scanning line 32 signal line 33 thin film transistor 34 pixel electrode 41 lower alignment film 42 light shielding film 42a opening 44 common electrode (counter electrode) 45 upper alignment film

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の走査線と複数の信号線が交差して
形成され、隣接する前記走査線と隣接する前記信号線と
の間に画素電極が形成され、該画素電極とそれに対応す
る前記走査線及び前記信号線とを接続するスイッチング
素子が形成され、前記画素電極上に第1の配向膜が形成
された第1の基板と、前記画素電極に対向する対向電極
が形成され、該対向電極上に前記第1の配向膜とほぼ直
交する方向に配向された第2の配向膜が形成された第2
の基板と、前記第1と第2の配向膜間に介在された液晶
とを備えたマトリックス型液晶表示装置において、 前記画素電極の端部の内側を開口縁とされた開口部が形
成された遮光膜を前記第1または第2の基板に形成し、
且つ前記遮光膜の開口部の開口縁を、該開口縁と前記走
査線または前記信号線との間の距離をL、前記第1と第
2の配向膜間の間隔をd、前記画素電極と前記走査線ま
たは前記信号線との間の距離をtとしたとき、次式を満
足することを条件として(ただし、0.50≦a0
0.90、0.70≦a1≦0.85、0.015≦a2
≦0.040)、 L≧a0d+a1t+a22/d ディスクリネーションによる光漏れが最大となる側の前
記走査線または前記信号線からの距離が最小となる側の
前記走査線または前記信号線からの距離よりも大きくな
る位置に配置したことを特徴とするマトリックス型液晶
表示装置。
1. A plurality of scanning lines and a plurality of signal lines are formed to intersect with each other, and a pixel electrode is formed between the adjacent scanning line and the adjacent signal line, and the pixel electrode and the corresponding pixel electrode are formed. A switching element for connecting a scanning line and the signal line is formed, a first substrate on which a first alignment film is formed on the pixel electrode, and a counter electrode facing the pixel electrode are formed. A second alignment film formed on an electrode and having a second alignment film oriented in a direction substantially orthogonal to the first alignment film;
And a liquid crystal interposed between the first and second alignment films, wherein an opening having an opening edge inside an end of the pixel electrode is formed. Forming a light-shielding film on the first or second substrate;
In addition, the distance between the opening edge and the scanning line or the signal line is L, the distance between the first and second alignment films is d, the distance between the opening edge of the opening of the light-shielding film and the pixel electrode, Assuming that the distance between the scanning line and the signal line is t, the following condition is satisfied (provided that 0.50 ≦ a 0
0.90, 0.70 ≦ a 1 ≦ 0.85, 0.015 ≦ a 2
≦ 0.040), L ≧ a 0 d + a 1 t + a 2 t 2 / d The scanning line on the side where the light leakage due to disclination is the maximum or the scanning line on the side where the distance from the signal line is the minimum or A matrix-type liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device is arranged at a position larger than a distance from the signal line.
【請求項2】 請求項1記載の発明において、前記遮光
膜の開口部の開口縁を、ディスクリネーションによる光
漏れが最大となる側の前記走査線または前記信号線から
の距離が最小となる側の前記走査線または前記信号線か
らの距離よりも0.4d以上大きくなる位置に配置した
ことを特徴とするマトリックス型液晶表示装置。
2. The invention according to claim 1, wherein the distance between the edge of the opening of the light-shielding film and the scanning line or the signal line on the side where light leakage due to disclination is maximized is minimized. A liquid crystal display device arranged at a position which is at least 0.4d larger than a distance from the scanning line or the signal line.
【請求項3】 請求項1または2記載の発明において、
前記遮光膜の開口部の4つの開口縁を、前記走査線また
は前記信号線からの距離がそれぞれ異なる位置に配置し
たことを特徴とするマトリックス型液晶表示装置。
3. The method according to claim 1, wherein
A matrix type liquid crystal display device, wherein four opening edges of the opening of the light-shielding film are arranged at different distances from the scanning line or the signal line.
【請求項4】 請求項3記載の発明において、前記第1
の配向膜の配向方向を、前記走査線に対して斜め方向と
したことを特徴とするマトリックス型液晶表示装置。
4. The method according to claim 3, wherein the first
Wherein the alignment direction of the alignment film is inclined with respect to the scanning line.
【請求項5】 請求項1または2記載の発明において、
前記遮光膜の開口部の隣接する2つの開口縁を、前記走
査線または前記信号線からの距離が同じとなる位置に配
置したことを特徴とするマトリックス型液晶表示装置。
5. The method according to claim 1, wherein
2. A matrix-type liquid crystal display device, wherein two adjacent edges of the opening of the light-shielding film are arranged at positions where the distance from the scanning line or the signal line is the same.
【請求項6】 請求項5記載の発明において、前記第1
の配向膜の配向方向を、前記走査線に対して平行または
直交する方向としたことを特徴とするマトリックス型液
晶表示装置。
6. The invention according to claim 5, wherein the first
Wherein the alignment direction of the alignment film is parallel or orthogonal to the scanning line.
【請求項7】 請求項1または2記載の発明において、
前記遮光膜の開口部の一の対向する開口縁を前記走査線
または前記信号線からの距離が大きくなる位置に配置す
るとともに、他の対向する開口縁を前記走査線または前
記信号線からの距離が小さくなる位置に配置したことを
特徴とするマトリックス型液晶表示装置。
7. The method according to claim 1, wherein
An opposite opening edge of the opening of the light-shielding film is arranged at a position where the distance from the scanning line or the signal line is increased, and another opposite opening edge is positioned at a distance from the scanning line or the signal line. A matrix-type liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device is disposed at a position where the size of the liquid crystal display becomes smaller.
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