JPH10113538A - 光触媒併用放電ガス処理装置 - Google Patents
光触媒併用放電ガス処理装置Info
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- JPH10113538A JPH10113538A JP8303431A JP30343196A JPH10113538A JP H10113538 A JPH10113538 A JP H10113538A JP 8303431 A JP8303431 A JP 8303431A JP 30343196 A JP30343196 A JP 30343196A JP H10113538 A JPH10113538 A JP H10113538A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】光触媒の有効利用が図れ、かつ、メンテナンス
性の良い光触媒併用放電ガス処理装置を提供すること 【解決手段】内部中心部に軸方向に伸びる放電電極１７
を配置した同軸円筒型の放電プラズマ容器１３の被処理
ガスを導入する側に光触媒の微粒子１６を供給する光触
媒供給装置１４を設け、被処理ガスに光触媒の微粒子１
６を注入して放電プラズマ容器１３内に送り、該容器１
３内で放電プラズマの放電化学反応と発光により活性化
した光触媒１６によって有害物質が処理され、処理後、
放電プラズマ容器１３の排出側の光触媒回収装置１５に
より光触媒１６を回収し、循環装置２１により光触媒供
給装置１４に戻す。光触媒が微粒子使用であるので、光
触媒の単位重量あたりの表面積が大きく光の利用効率が
高く、また、放電プラズマ反応容器１３を分解すること
なく光触媒を交換することができる。
性の良い光触媒併用放電ガス処理装置を提供すること 【解決手段】内部中心部に軸方向に伸びる放電電極１７
を配置した同軸円筒型の放電プラズマ容器１３の被処理
ガスを導入する側に光触媒の微粒子１６を供給する光触
媒供給装置１４を設け、被処理ガスに光触媒の微粒子１
６を注入して放電プラズマ容器１３内に送り、該容器１
３内で放電プラズマの放電化学反応と発光により活性化
した光触媒１６によって有害物質が処理され、処理後、
放電プラズマ容器１３の排出側の光触媒回収装置１５に
より光触媒１６を回収し、循環装置２１により光触媒供
給装置１４に戻す。光触媒が微粒子使用であるので、光
触媒の単位重量あたりの表面積が大きく光の利用効率が
高く、また、放電プラズマ反応容器１３を分解すること
なく光触媒を交換することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、放電により窒素酸
化物、硫黄酸化物などの有害ガスを放電と光触媒により
処理する光触媒併用放電ガス処理装置に関するものであ
る。
化物、硫黄酸化物などの有害ガスを放電と光触媒により
処理する光触媒併用放電ガス処理装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】燃焼炉や燃焼機関から排出されるガスを
放電プラズマ中に晒し、放電プラズマ中の高速電子によ
って生成されたラジカル等による放電化学反応によって
ガス中の窒素酸化物ＮＯｘや硫黄酸化物ＳＯｘなどの有
害ガスを処理することが行われている。この場合、放電
プラズマは一部のエネルギーが光の形で放出されてお
り、このエネルギーは放電化学反応としては積極的に寄
与していない。
放電プラズマ中に晒し、放電プラズマ中の高速電子によ
って生成されたラジカル等による放電化学反応によって
ガス中の窒素酸化物ＮＯｘや硫黄酸化物ＳＯｘなどの有
害ガスを処理することが行われている。この場合、放電
プラズマは一部のエネルギーが光の形で放出されてお
り、このエネルギーは放電化学反応としては積極的に寄
与していない。
【０００３】そこで、光触媒、例えばバンドギャッツプ
が紫外線領域（放電プラズマの発光エネルギーは特に紫
外線領域の波長が多い。）にあるＴｉＯ２、ＺｎＯ、Ｓ
ｒＴｉＯ２、ＺｎＳ等の光触媒を放電プラズマ反応容器
内に層状やペレットなどの形で固定化して配置し、放電
プラズマの光エネルギーを有効利用して有害ガスの処理
の効率を高める放電ガス処理装置が提案されている（例
えば、特開平５−２３７３３７号公報、特開平６−１５
１４３号公報）。
が紫外線領域（放電プラズマの発光エネルギーは特に紫
外線領域の波長が多い。）にあるＴｉＯ２、ＺｎＯ、Ｓ
ｒＴｉＯ２、ＺｎＳ等の光触媒を放電プラズマ反応容器
内に層状やペレットなどの形で固定化して配置し、放電
プラズマの光エネルギーを有効利用して有害ガスの処理
の効率を高める放電ガス処理装置が提案されている（例
えば、特開平５−２３７３３７号公報、特開平６−１５
１４３号公報）。
【０００４】図３は、このような光触媒を層状に形成し
た従来の放電ガス処理装置の放電プラズマ容器の一例の
構成を示す図で、１はプラズマ容器、２は中心電極、３
は接地電極、４は光触媒層である。放電プラズマ容器
は、円筒状に形成されたプラズマ容器１の外周に接地電
極３を形成し、内部中心部に軸方向に伸びる中心電極２
を配置した同軸円筒型に形成され、光触媒４はプラズマ
反応器１の内周面に層状に形成されて取り付けられてい
る。
た従来の放電ガス処理装置の放電プラズマ容器の一例の
構成を示す図で、１はプラズマ容器、２は中心電極、３
は接地電極、４は光触媒層である。放電プラズマ容器
は、円筒状に形成されたプラズマ容器１の外周に接地電
極３を形成し、内部中心部に軸方向に伸びる中心電極２
を配置した同軸円筒型に形成され、光触媒４はプラズマ
反応器１の内周面に層状に形成されて取り付けられてい
る。
【０００５】排ガス、すなわち被処理ガスの処理時、外
部電極３と内部電極２間に交流あるいは直流の高電圧を
印加して放電を発生させ、被処理ガスをプラズマ容器１
の内部を通流させる。その通流過程で放電化学反応によ
る有害ガスの処理と併用して、放電プラズマの発光によ
り活性化された光触媒層４よる有害ガスの処理がなされ
る。
部電極３と内部電極２間に交流あるいは直流の高電圧を
印加して放電を発生させ、被処理ガスをプラズマ容器１
の内部を通流させる。その通流過程で放電化学反応によ
る有害ガスの処理と併用して、放電プラズマの発光によ
り活性化された光触媒層４よる有害ガスの処理がなされ
る。
【０００６】図４は、光触媒をペレット状に形成した従
来の放電ガス処理装置の放電プラズマ容器の一例の構成
を示す図で、５はプラズマ容器、６及び７は網目状の電
極、８はペレット状の光触媒、９は高圧電源である。放
電プラズマ容器は、筒状に形成されたプラズマ容器５の
内部に網目状の電極６及び７を適宜間隔を設けて対向し
て配置し、その間隔内にペレット状の光触媒８が挿入さ
れている。網目状の電極６及び７はペレット状の光触媒
８を担持するとともに、高圧電源９に接続されている。
来の放電ガス処理装置の放電プラズマ容器の一例の構成
を示す図で、５はプラズマ容器、６及び７は網目状の電
極、８はペレット状の光触媒、９は高圧電源である。放
電プラズマ容器は、筒状に形成されたプラズマ容器５の
内部に網目状の電極６及び７を適宜間隔を設けて対向し
て配置し、その間隔内にペレット状の光触媒８が挿入さ
れている。網目状の電極６及び７はペレット状の光触媒
８を担持するとともに、高圧電源９に接続されている。
【０００７】被処理ガスの処理時、網目状の電極６及び
７間に高電圧を印加して光触媒ペレット間１０に放電を
発生させ、被処理ガスをプラズマ容器５の内部を通流さ
せる。その通流過程で放電化学反応による有害ガスの処
理と併用して、放電プラズマの発光により活性化された
光触媒８によっても処理される。
７間に高電圧を印加して光触媒ペレット間１０に放電を
発生させ、被処理ガスをプラズマ容器５の内部を通流さ
せる。その通流過程で放電化学反応による有害ガスの処
理と併用して、放電プラズマの発光により活性化された
光触媒８によっても処理される。
【０００８】なお、放電プラズマ容器の前後には、図５
のブロック図に示すように、必要に応じて還元材、例え
ばアンモニア等を添加する還元材添加装置１１や有害ガ
スの分解処理過程で生じた生成物を取り出す集塵装置１
２が設けられる。
のブロック図に示すように、必要に応じて還元材、例え
ばアンモニア等を添加する還元材添加装置１１や有害ガ
スの分解処理過程で生じた生成物を取り出す集塵装置１
２が設けられる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところで、光触媒は本
来微粒子のため、固定化して使用する場合には焼結、担
持／添着、有機／無機バインダーの使用などが必要とな
る。担体やバインダーを使用する場合、放電プラズマか
らの発光はこれら担体やバインダーにも吸収され光の利
用効率が低下する。また、光触媒反応は表面反応であ
り、光触媒の活性は表面積に依存する。固定化すると単
位重量あたりの有効表面積が低下し、光触媒材の利用効
率が悪くなる。
来微粒子のため、固定化して使用する場合には焼結、担
持／添着、有機／無機バインダーの使用などが必要とな
る。担体やバインダーを使用する場合、放電プラズマか
らの発光はこれら担体やバインダーにも吸収され光の利
用効率が低下する。また、光触媒反応は表面反応であ
り、光触媒の活性は表面積に依存する。固定化すると単
位重量あたりの有効表面積が低下し、光触媒材の利用効
率が悪くなる。
【００１０】さらに、光触媒は有害ガスの処理過程で生
じた生成物が表面に付着するため、連続使用すると活性
が次第に低下する傾向があり、定期的な交換を必要とす
る。光触媒は放電プラズマからの発光で活性化させるた
め、放電プラズマ容器内でしかも放電プラズマに近い部
分に配置する必要がある。このため、活性が低下すると
装置を分解して光触媒を交換する必要があり、メンテナ
ンス性が悪いという問題がある。。
じた生成物が表面に付着するため、連続使用すると活性
が次第に低下する傾向があり、定期的な交換を必要とす
る。光触媒は放電プラズマからの発光で活性化させるた
め、放電プラズマ容器内でしかも放電プラズマに近い部
分に配置する必要がある。このため、活性が低下すると
装置を分解して光触媒を交換する必要があり、メンテナ
ンス性が悪いという問題がある。。
【００１１】本発明は、このような問題に鑑みなされた
もので、光触媒の有効利用が図れ、かつ、メンテナンス
性の良い光触媒併用放電ガス処理装置を提供することを
目的とする。
もので、光触媒の有効利用が図れ、かつ、メンテナンス
性の良い光触媒併用放電ガス処理装置を提供することを
目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、光触媒
の微粒子を供給する光触媒供給装置と、被処理ガスを通
流する放電プラズマ容器と、光触媒の微粒子を回収する
光触媒回収装置とを備え、放電プラズマ容器内を通流す
る被処理ガスに光触媒の微粒子を注入してなることを特
徴とする光触媒併用放電ガス処理装置とすることにより
達成される。
の微粒子を供給する光触媒供給装置と、被処理ガスを通
流する放電プラズマ容器と、光触媒の微粒子を回収する
光触媒回収装置とを備え、放電プラズマ容器内を通流す
る被処理ガスに光触媒の微粒子を注入してなることを特
徴とする光触媒併用放電ガス処理装置とすることにより
達成される。
【００１３】本発明の特徴によれば、放電プラズマ容器
内を通流する被処理ガスに微粒子の状態の光触媒が混ぜ
られていて、放電プラズマの発光は担体／バインダーに
吸収されることなく光触媒に効率よく伝達され、また光
触媒の単位重量あたりの表面積が大きく、放電プラズマ
容器内で発生する放電プラズマの発光の利用効率が向上
し、有害ガスの処理効率が向上する。また、光触媒は放
電プラズマ容器に固定して取付けられていないので、放
電ガス処理装置を分解することなく容易に劣化した光触
媒を交換することができ、メンテナンスも容易である。
内を通流する被処理ガスに微粒子の状態の光触媒が混ぜ
られていて、放電プラズマの発光は担体／バインダーに
吸収されることなく光触媒に効率よく伝達され、また光
触媒の単位重量あたりの表面積が大きく、放電プラズマ
容器内で発生する放電プラズマの発光の利用効率が向上
し、有害ガスの処理効率が向上する。また、光触媒は放
電プラズマ容器に固定して取付けられていないので、放
電ガス処理装置を分解することなく容易に劣化した光触
媒を交換することができ、メンテナンスも容易である。
【００１４】さらに、光触媒供給装置と光触媒回収装置
とを連結し光触媒循環部を形成し、光触媒を装置内で循
環再利用することが可能になり、この場合、光触媒の使
用量も少なくて済む。また、放電プラズマに接しない光
触媒循環部で劣化した光触媒を交換することができ、メ
ンテナンスも容易である。さらにまた、光触媒は光触媒
循環部で水洗等により再生（劣化抑制）することが可能
となり、光触媒の交換サイクルを長くすることができ
る。
とを連結し光触媒循環部を形成し、光触媒を装置内で循
環再利用することが可能になり、この場合、光触媒の使
用量も少なくて済む。また、放電プラズマに接しない光
触媒循環部で劣化した光触媒を交換することができ、メ
ンテナンスも容易である。さらにまた、光触媒は光触媒
循環部で水洗等により再生（劣化抑制）することが可能
となり、光触媒の交換サイクルを長くすることができ
る。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光触媒併用放
電ガス処理装置の実施の形態について、図を参照して説
明する。図１は本発明に係る実施の形態の光触媒併用放
電ガス処理装置の構成図、図２は図１に示す光触媒併用
放電ガス処理装置の概要を説明するブロック図である。
図１において、１３は放電プラズマ容器、１４は光触媒
供給装置、１５は光触媒回収装置、１６は光触媒、１７
は放電電極、１８は電源、１９は絶縁碍管、２０は絶縁
碍子、２１は光触媒循環装置、２２は光触媒再生装置で
ある。
電ガス処理装置の実施の形態について、図を参照して説
明する。図１は本発明に係る実施の形態の光触媒併用放
電ガス処理装置の構成図、図２は図１に示す光触媒併用
放電ガス処理装置の概要を説明するブロック図である。
図１において、１３は放電プラズマ容器、１４は光触媒
供給装置、１５は光触媒回収装置、１６は光触媒、１７
は放電電極、１８は電源、１９は絶縁碍管、２０は絶縁
碍子、２１は光触媒循環装置、２２は光触媒再生装置で
ある。
【００１６】放電プラズマ容器１３は、内部中心部に軸
方向に伸びる放電電極１７を配置した同軸円筒型に形成
され、放電電極１７の一端は絶縁碍子２０を介して容器
１３に絶縁支持され、他端は絶縁碍管１９を介して電源
１８に接続されている。光触媒供給装置１４は、放電プ
ラズマ容器１３の被処理ガスを導入する側に設置され、
放電プラズマ容器１３に導入する被処理ガスに微粒子の
光触媒１６を乾燥微粒子の状態、あるいは水などの液体
中に混濁させた状態で噴霧等により注入する。
方向に伸びる放電電極１７を配置した同軸円筒型に形成
され、放電電極１７の一端は絶縁碍子２０を介して容器
１３に絶縁支持され、他端は絶縁碍管１９を介して電源
１８に接続されている。光触媒供給装置１４は、放電プ
ラズマ容器１３の被処理ガスを導入する側に設置され、
放電プラズマ容器１３に導入する被処理ガスに微粒子の
光触媒１６を乾燥微粒子の状態、あるいは水などの液体
中に混濁させた状態で噴霧等により注入する。
【００１７】光触媒回収装置１５は、放電プラズマ容器
１３の処理ガスを排出する側に設置され光触媒供給装置
１４により注入された微粒子の光触媒１６を集塵機によ
り回収する。なお、この回収は、液体シャワー又はフィ
ルターで回収してもよいし、放電プラズマ容器１３内で
被処理ガスに接する側壁に液体を流して回収してもよ
い。
１３の処理ガスを排出する側に設置され光触媒供給装置
１４により注入された微粒子の光触媒１６を集塵機によ
り回収する。なお、この回収は、液体シャワー又はフィ
ルターで回収してもよいし、放電プラズマ容器１３内で
被処理ガスに接する側壁に液体を流して回収してもよ
い。
【００１８】光触媒再生装置２２は、光触媒回収装置１
５により回収した光触媒１６を定期的に水洗する装置
で、導入部は光触媒回収装置１５に連結され排出部は光
触媒循環装置２１に連結されている。光触媒循環装置２
１は光触媒回収装置１５及び光触媒再生装置２２に連結
され、回収した光触媒１６を光触媒供給装置１４へ送出
する。
５により回収した光触媒１６を定期的に水洗する装置
で、導入部は光触媒回収装置１５に連結され排出部は光
触媒循環装置２１に連結されている。光触媒循環装置２
１は光触媒回収装置１５及び光触媒再生装置２２に連結
され、回収した光触媒１６を光触媒供給装置１４へ送出
する。
【００１９】このように構成された光触媒併用放電ガス
処理装置は、被処理ガスの処理時、放電プラズマ容器１
３の側壁（接地電位とされている。）と放電電極１７間
に高電圧を印加して放電プラズマ反応容器１３の側壁と
放電電極１７間に放電を発生させ、光触媒１６を混入し
た被処理ガスをプラズマ容器１３の内部を通流させる。
放電プラズマ反応容器１３内では、放電プラズマ中の放
電化学反応と放電プラズマからの発光により活性化した
光触媒（被処理ガス中に混入）１６によって有害物質が
処理される。放電プラズマ容器１３から排出された処理
後のガスは光触媒回収装置１５で光触媒１６を回収した
後、無害化ガスとして排出される。
処理装置は、被処理ガスの処理時、放電プラズマ容器１
３の側壁（接地電位とされている。）と放電電極１７間
に高電圧を印加して放電プラズマ反応容器１３の側壁と
放電電極１７間に放電を発生させ、光触媒１６を混入し
た被処理ガスをプラズマ容器１３の内部を通流させる。
放電プラズマ反応容器１３内では、放電プラズマ中の放
電化学反応と放電プラズマからの発光により活性化した
光触媒（被処理ガス中に混入）１６によって有害物質が
処理される。放電プラズマ容器１３から排出された処理
後のガスは光触媒回収装置１５で光触媒１６を回収した
後、無害化ガスとして排出される。
【００２０】光触媒回収装置１５で回収された微粒子の
光触媒１６は、図２に示されるように、通常光触媒循環
装置２１により光触媒回収装置１５から光触媒供給装置
１４に送られて再利用されるが、連続使用時の表面の付
着物による活性低下を防ぐため、光触媒回集装置１５で
回集された光触媒１６は、光触媒１６の活性の低下度に
応じて定期的もしくは連続的に光触媒再生装置２２に送
られ、再生処理の後の光触媒１６を光触媒供給装置１４
に送られる。
光触媒１６は、図２に示されるように、通常光触媒循環
装置２１により光触媒回収装置１５から光触媒供給装置
１４に送られて再利用されるが、連続使用時の表面の付
着物による活性低下を防ぐため、光触媒回集装置１５で
回集された光触媒１６は、光触媒１６の活性の低下度に
応じて定期的もしくは連続的に光触媒再生装置２２に送
られ、再生処理の後の光触媒１６を光触媒供給装置１４
に送られる。
【００２１】なお、この実施形態では、放電プラズマ容
器１３は、同軸円筒型に形成され、図では１個が示され
ているが、被処理ガスの導入部及び排出部を共通にして
１つの放電プラズマ容器内に複数の放電プラズマ反応部
が形成されても良い。また、光触媒は微粒子であり、被
処理ガス中に混入しても放電特性に与える影響は小さ
く、直流放電、パルスコロナ放電、無声放電、パルスグ
ロー放電、パルスバリヤ放電など種々の形態が適用可能
であり、加えて、放電プラズマ反応部の容器形状も同軸
円筒型に限らず線−板型など種々の形状が適用できる。
器１３は、同軸円筒型に形成され、図では１個が示され
ているが、被処理ガスの導入部及び排出部を共通にして
１つの放電プラズマ容器内に複数の放電プラズマ反応部
が形成されても良い。また、光触媒は微粒子であり、被
処理ガス中に混入しても放電特性に与える影響は小さ
く、直流放電、パルスコロナ放電、無声放電、パルスグ
ロー放電、パルスバリヤ放電など種々の形態が適用可能
であり、加えて、放電プラズマ反応部の容器形状も同軸
円筒型に限らず線−板型など種々の形状が適用できる。
【００２２】また、光触媒を単独で使用すると光触媒反
応による無害化過程での有害な中間生成物が一部光触媒
から脱離して処理ガス中に混入する場合がある。この場
合は光触媒と活性炭を混合したものを被処理ガス中に供
給すると、有害中間生成物が活性炭に吸着され、処理ガ
ス中への混入が回避できる。この場合、光触媒と活性炭
を混合したもの循環再利用すれば、光触媒とともに活性
炭の使用量も少なくて済む。
応による無害化過程での有害な中間生成物が一部光触媒
から脱離して処理ガス中に混入する場合がある。この場
合は光触媒と活性炭を混合したものを被処理ガス中に供
給すると、有害中間生成物が活性炭に吸着され、処理ガ
ス中への混入が回避できる。この場合、光触媒と活性炭
を混合したもの循環再利用すれば、光触媒とともに活性
炭の使用量も少なくて済む。
【００２３】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
光触媒を微粒子として使用するので、放電プラズマの発
光の利用効率が向上し、光触媒併用がより効果的とな
り、有害ガス処理効率が向上する。また、放電プラズマ
に接しない個所で劣化した光触媒を交換することがで
き、メンテナンスも容易である。さらには、光触媒を装
置内で循環再利用することが可能になり、この場合、光
触媒の使用量も少なくて済むだけでなく、メンテナンス
も容易であるとともに、光触媒は光触媒循環部で水洗等
により再生（劣化抑制）することが可能となり、光触媒
の交換サイクルを長くすることができる。
光触媒を微粒子として使用するので、放電プラズマの発
光の利用効率が向上し、光触媒併用がより効果的とな
り、有害ガス処理効率が向上する。また、放電プラズマ
に接しない個所で劣化した光触媒を交換することがで
き、メンテナンスも容易である。さらには、光触媒を装
置内で循環再利用することが可能になり、この場合、光
触媒の使用量も少なくて済むだけでなく、メンテナンス
も容易であるとともに、光触媒は光触媒循環部で水洗等
により再生（劣化抑制）することが可能となり、光触媒
の交換サイクルを長くすることができる。
【図１】本発明に係る実施の形態の光触媒併用放電ガス
処理装置の構成図である。
処理装置の構成図である。
【図２】図１に示す光触媒併用放電ガス処理装置の概要
を説明するブロック図である。
を説明するブロック図である。
【図３】従来の放電プラズマ容器の一例の構成図であ
る。。
る。。
【図４】従来の放電プラズマ容器の他の例の構成図であ
る。。
る。。
【図５】従来の光触媒併用放電ガス処理装置の概要を説
明するブロック図である。
明するブロック図である。
１３ 放電プラズマ容器 １４ 光触媒供給装置 １５ 光触媒回収装置 １６ 光触媒 １７ 放電電極 １８ 電源 ２１ 光触媒循環装置 ２２ 光触媒再生装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｄ 53/60 Ｂ０１Ｄ 53/34 １３２Ａ Ｂ０１Ｊ 35/02
Claims (1)
- 【請求項１】 光触媒の微粒子を供給する光触媒供給装
置と、被処理ガスを通流する放電プラズマ容器と、光触
媒の微粒子を回収する光触媒回収装置とを備え、放電プ
ラズマ容器内を通流する被処理ガスに光触媒の微粒子を
注入してなることを特徴とする光触媒併用放電ガス処理
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8303431A JPH10113538A (ja) | 1996-10-10 | 1996-10-10 | 光触媒併用放電ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8303431A JPH10113538A (ja) | 1996-10-10 | 1996-10-10 | 光触媒併用放電ガス処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10113538A true JPH10113538A (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=17920930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8303431A Pending JPH10113538A (ja) | 1996-10-10 | 1996-10-10 | 光触媒併用放電ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10113538A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000140614A (ja) * | 1998-10-20 | 2000-05-23 | Boc Group Inc:The | 静電気制御された気体と固体粒子との接触方法 |
| JP2002028500A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-29 | Fujitsu Ltd | 触媒調製装置及び方法並びに化学反応装置及び方法 |
| KR100339849B1 (ko) * | 1999-12-27 | 2002-06-05 | 손재익 | 탈질이나 탈황 또는 탈질/탈황의 동시 처리용 광촉매반응/ 플라즈마 복합 시스템 |
| KR100503921B1 (ko) * | 2002-05-27 | 2005-07-27 | 주식회사 에이스랩 | 저온 플라즈마와 광촉매 필터를 이용한 유해가스 처리장치 |
| WO2007010665A1 (ja) * | 2005-07-21 | 2007-01-25 | Sarutashiki Nousan Limited Company | 高分散性二酸化チタン粉末 |
| JP2009155202A (ja) * | 2009-04-06 | 2009-07-16 | Saruta Shiki Nosan Kk | 高分散性二酸化チタン粉末 |
| JP2015505721A (ja) * | 2011-12-01 | 2015-02-26 | ベーウェールＢｅｅｗａｉｒ | 排出物をマイクロビーズの床において低温プラズマおよび光触媒作用により処理するための方法 |
| CN105879642A (zh) * | 2016-06-27 | 2016-08-24 | 沈阳汇川环境工程有限公司 | 一种燃煤烟气脱硝脱硫方法 |
| CN108404657A (zh) * | 2018-05-11 | 2018-08-17 | 章旭明 | 一种放电基本单元、废气净化器及废气净化系统 |
| CN110813054A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-02-21 | 中核新科（天津） 精密机械制造有限公司 | 工件发黑后的多余漆雾处理装置 |
| CN113144899A (zh) * | 2021-04-20 | 2021-07-23 | 重庆科技学院 | 一种用于净化尾气的低温等离子体催化实验装置 |
-
1996
- 1996-10-10 JP JP8303431A patent/JPH10113538A/ja active Pending
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| CN113144899A (zh) * | 2021-04-20 | 2021-07-23 | 重庆科技学院 | 一种用于净化尾气的低温等离子体催化实验装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050830 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050906 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060214 |