JPH10112008A - Magnetic disk device - Google Patents

Magnetic disk device

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JPH10112008A
JPH10112008A JP26403996A JP26403996A JPH10112008A JP H10112008 A JPH10112008 A JP H10112008A JP 26403996 A JP26403996 A JP 26403996A JP 26403996 A JP26403996 A JP 26403996A JP H10112008 A JPH10112008 A JP H10112008A
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JP
Japan
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conductor layer
layer
magnetic disk
conductor
insulator
Prior art date
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Pending
Application number
JP26403996A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomio Iwasaki
富生 岩▲崎▼
Hiroaki Doi
博昭 土居
Akio Yasukawa
彰夫 保川
Naoto Saito
直人 斉藤
Ritsu Imanaka
律 今中
Kiyonori Shiraki
清典 白木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH10112008A publication Critical patent/JPH10112008A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize high density, small size and fast access time by forming such a region in a joined part that the outer edge of a first joining face and the outer edge of a second joining face are directly joined without an insulating material interposed. SOLUTION: The outer edges 8, 9, 10 of the joining face of a first conductive layer 5 are exposed. Then a second conductive layer 7 such as copper having thin adhesive layers such as chromium on both surfaces is formed and etched through a mask 11 to obtain a direct joined structure between the whole joining face of the first conductive layer 5 and the whole joining face of the second conductive layer 7. By this method, a joined structure having no insulating material around the joined part of the first conductive layer 5 and the second conductive layer 7 can be obtd. and this joined part hardly causes peeling during heat treatment.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク装置に
係り、特に薄膜積層構造を有する薄膜磁気ヘッドを備え
た磁気ディスク装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk drive, and more particularly to a magnetic disk drive having a thin-film magnetic head having a thin-film laminated structure.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、磁気ディスク装置の高密度化およ
び高速アクセス化を図る手段として、限られた領域に多
数の導電体を巻き回した構造をもつ薄膜磁気ヘッドを備
えた磁気ディスク装置が考えられている。例えば特開昭
62−173607号公報(以下、公知技術という)に
開示された絶縁体層と導電体層とを積層した薄膜磁気ヘ
ッドを備えた磁気ディスク装置が考えられる。
2. Description of the Related Art In recent years, a magnetic disk device having a thin film magnetic head having a structure in which a large number of conductors are wound around a limited area has been considered as a means for increasing the density and increasing the speed of a magnetic disk device. Have been. For example, a magnetic disk drive provided with a thin-film magnetic head in which an insulator layer and a conductor layer are stacked, which is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-173607 (hereinafter referred to as a known technique), can be considered.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】磁気ディスク装置が備
えている公知技術の薄膜磁気ヘッドは、導電体層の膜厚
が厚いほど導電体の抵抗を大きくすることなく導電体コ
イルの幅を小さくすることができるので磁気ヘッドの高
密度化および小型化を可能にし、磁気ディスク装置の高
密度化、高速アクセス化が可能になる。しかしながら公
知技術の薄膜磁気ヘッドは、導電体層の膜厚が厚いほど
製造工程におけるフォトレジストの熱硬化や磁場中アニ
ールといった熱処理の際に導電体層同士の接合部におい
て剥離や断線が起こるという問題があり、導電体層の膜
を厚くすることができず磁気ディスク装置の高密度化、
高速アクセス化の支障になっている。
The thin-film magnetic head of the prior art provided in the magnetic disk drive has a structure in which, as the thickness of the conductor layer increases, the width of the conductor coil decreases without increasing the resistance of the conductor. Therefore, the density and size of the magnetic head can be increased, and the density and speed of the magnetic disk drive can be increased. However, the known thin-film magnetic head has a problem that as the thickness of the conductor layer increases, peeling or disconnection occurs at the junction between the conductor layers during heat treatment such as thermal curing of a photoresist in a manufacturing process or annealing in a magnetic field. The thickness of the conductor layer cannot be increased, and the density of the magnetic disk drive increases,
This is an obstacle to high-speed access.

【0004】本発明の課題は、磁気ヘッドの高密度化お
よび小型化を可能にし、磁気ディスク装置の高密度化、
高速アクセス化を図ることである。
An object of the present invention is to make it possible to increase the density and reduce the size of a magnetic head, and to increase the density of a magnetic disk drive.
This is to achieve high-speed access.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】磁気ディスク装置が備え
ている公知技術の薄膜磁気ヘッドが、その製造工程にお
けるフォトレジストの熱硬化や磁場中アニールといった
熱処理の際に導電体層同士の接合部において剥離や断線
する原因を鋭意究明したところ、導電体層同士の接合面
の外縁部に介在している絶縁体が剥離や断線の主要因で
あることを見いだした。すなわち、絶縁体層を構成する
絶縁体の熱膨張係数が導電体層を構成する導電体の熱膨
張係数と異なるので熱処理における絶縁体と導電体との
膨張量の差により導電体層同士の接合面の外縁部に介在
している絶縁体が接合部を剥離、断線させることおよび
その現象は導電体層の膜厚が厚い程顕著であることを解
析および実験等により確認した。
A thin-film magnetic head of the prior art provided in a magnetic disk drive is used at a joint between conductive layers at the time of heat treatment such as thermal curing of a photoresist or annealing in a magnetic field in a manufacturing process. When the cause of peeling or disconnection was intensively investigated, it was found that an insulator interposed at the outer edge of the bonding surface between the conductive layers was a main cause of peeling or disconnection. That is, since the thermal expansion coefficient of the insulator constituting the insulator layer is different from the thermal expansion coefficient of the conductor constituting the conductor layer, bonding between the conductor layers is caused by a difference in the amount of expansion between the insulator and the conductor during the heat treatment. It has been confirmed by analysis, experiment, and the like that the insulator interposed at the outer edge of the surface peels and breaks the joint, and that the phenomenon is more remarkable as the thickness of the conductor layer is larger.

【0006】この接合部の剥離、断線の原因となる接合
面外縁部に介在する絶縁体は、接合工程における導電体
層の断線を防止するために必要である。
[0006] An insulator interposed at the outer edge of the joint surface, which causes separation and disconnection of the joint, is necessary to prevent disconnection of the conductor layer in the joining step.

【0007】従来技術の導電体層同士の接合部は次の工
程により形成される。
[0007] The junction between the prior art conductor layers is formed by the following steps.

【0008】工程1.導電体層(以下、第一導電体層と
いう)の上に絶縁体層を形成させる。
Step 1. An insulator layer is formed over a conductor layer (hereinafter, referred to as a first conductor layer).

【0009】工程2.絶縁体層の一部を除去することに
より第一導電体層の接合面の中央部を露出させる。(第
一導電体層の接合面の外縁部には絶縁体層を残存させ
る。)工程3.第一導電体層に接合させる導電体層(以
下、第二導電体層という)を絶縁体層の上に積層させ
る。
Step 2. By removing a part of the insulator layer, the central part of the bonding surface of the first conductor layer is exposed. (The insulator layer is left at the outer edge of the bonding surface of the first conductor layer.) A conductor layer (hereinafter, referred to as a second conductor layer) to be bonded to the first conductor layer is laminated on the insulator layer.

【0010】工程4.エッチングにより第二導電体層の
不要部を除去して第一導電体層の接合面とほぼ同じ形状
の接合面を第二導電体層に形成する。
Step 4. Unnecessary portions of the second conductor layer are removed by etching to form a joint surface having substantially the same shape as the joint surface of the first conductor layer on the second conductor layer.

【0011】そして、上記の工程2で第一導電体層の接
合面の外縁部に絶縁体層を残存させることにより、工程
4における第一導電体層へのオーバーエッチングによる
断線を防止している。
In the above step 2, the insulation layer is left at the outer edge of the bonding surface of the first conductor layer, thereby preventing disconnection due to overetching of the first conductor layer in step 4. .

【0012】この方法によれば、導電体層の膜厚を厚く
することはできないが、第一導電体層の断線の防止に対
して効果があるため最適な方法とされている。
According to this method, the thickness of the conductor layer cannot be increased, but this method is effective because it is effective in preventing disconnection of the first conductor layer.

【0013】しかし、前述のように、接合面外縁部に介
在する絶縁体が接合面剥離、断線の原因であり、また導
電体層の膜厚を厚くできない原因であることが判明した
ので、この接合面外縁部に介在する絶縁体を除去すれば
接合面の剥離、断線を防止でき、さらに導電体層の膜厚
が厚くできる。
However, as described above, it has been found that the insulator interposed at the outer edge of the bonding surface is a cause of separation and disconnection of the bonding surface and a cause that the thickness of the conductor layer cannot be increased. By removing the insulator interposed at the outer edge of the bonding surface, peeling and disconnection of the bonding surface can be prevented, and the thickness of the conductor layer can be increased.

【0014】本発明の課題は、データを記録するための
磁気ディスクと、この磁気ディスクに前記データを記
録、再生させる磁気ヘッドを備えた磁気ディスク装置に
おいて、次のように構成することにより解決できる。 (1)前記磁気ヘッドは導電体層と絶縁体層とが積層さ
れた積層構造であり、前記導電体層のうち前記絶縁層の
基板に対向する面に積層された第一導電体層と、前記絶
縁層の他方の面に積層された第二導電体層とが前記第一
導電体層に形成された第一接合面と前記第二導電体層に
形成された第二接合面とを接合した接合部にて互いに電
気的に接合されており、前記接合部において前記第一接
合面の外縁部と前記第二接合面の外縁部とが絶縁体を挾
まずに直接接合している領域を有する。
The object of the present invention can be solved by the following configuration in a magnetic disk device having a magnetic disk for recording data and a magnetic head for recording and reproducing the data on and from the magnetic disk. . (1) The magnetic head has a laminated structure in which a conductor layer and an insulator layer are laminated, and a first conductor layer laminated on a surface of the conductor layer facing the substrate of the insulating layer; A second conductor layer laminated on the other surface of the insulating layer joins a first joint surface formed on the first conductor layer and a second joint surface formed on the second conductor layer. Are electrically connected to each other at the joined portion, and the outer edge of the first joining surface and the outer edge of the second joining surface are directly joined to each other without sandwiching an insulator in the joined portion. Have.

【0015】(2)前記磁気ヘッドは導電体層と絶縁体
層とが積層された積層構造であり、前記導電体層のうち
前記絶縁層の基板に対向する面に積層された第一導電体
層と、前記絶縁層の他方の面に積層された第二導電体層
とが前記第一導電体層に形成された第一接合面と前記第
二導電体層に形成された第二接合面とを接合した接合部
にて互いに電気的に接合されており、前記第一接合面近
傍の第一導電体層に肉厚が減肉している領域を有する。
(2) The magnetic head has a laminated structure in which a conductor layer and an insulator layer are laminated, and a first conductor laminated on a surface of the conductor layer facing the substrate of the insulating layer. Layer, a second conductive layer laminated on the other surface of the insulating layer, a first bonding surface formed on the first conductive layer, and a second bonding surface formed on the second conductive layer And a first conductive layer near the first bonding surface has a region where the thickness is reduced.

【0016】(3)前記磁気ヘッドは導電体層と絶縁体
層とが積層された積層構造であり、前記導電体層のうち
前記絶縁層の基板に対向する面に積層された第一導電体
層と、前記絶縁層の他方の面に積層された第二導電体層
とが前記第一導電体層に形成された第一接合面と前記第
二導電体層に形成された第二接合面とを接合した接合部
にて互いに電気的に接合されており、さらに、前記接合
部において前記第一導電体層と前記第二導電体層とが、
前記第一接合面および前記第二接合面とは異なる面にて
接合されている領域を有する。
(3) The magnetic head has a laminated structure in which a conductor layer and an insulator layer are laminated, and a first conductor laminated on a surface of the conductor layer facing the substrate of the insulating layer. Layer, a second conductive layer laminated on the other surface of the insulating layer, a first bonding surface formed on the first conductive layer, and a second bonding surface formed on the second conductive layer Are electrically joined to each other at a joining portion where the first conductor layer and the second conductor layer are joined at the joining portion.
It has a region joined by a different surface from the first joint surface and the second joint surface.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】はじめに、磁気ディスク装置に用
いられる従来の薄膜磁気ヘッドの導電体層同士の接合構
造における剥離・断線のメカニズムを図19を用いて説
明する。この図では、基板1の上に下地膜2、ギャップ
材3、第一絶縁体層4、第一導電体層5、第二絶縁体層
6、第二導電体層7を積層した構造となっており、図1
9(a)に示すように、第一導電体層5と第二導電体層
7との接合面外縁部に絶縁体34が介在している。薄膜
磁気ヘッドの場合、導電体として例えば銅、絶縁体とし
て例えばフォトレジストが使用されており、これらの熱
膨張係数の差が大きいために熱処理を施すと絶縁体が導
電体よりも大きく膨張しようとする。これによって、図
19(b)中の矢印で表されるように、接合部を押し開
くような応力が発生し、図19(b)の35、36の部
分に剥離が生じ、これが進むと図19(c)に示すよう
に断線に至る。接合部周囲に絶縁体が介在していなけれ
ば、図19(b)の矢印で表されるような応力は発生し
ないので、剥離・断線は起こりにくくなる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, the mechanism of peeling / breaking in a junction structure between conductor layers of a conventional thin-film magnetic head used in a magnetic disk drive will be described with reference to FIG. In this drawing, a structure in which a base film 2, a gap material 3, a first insulator layer 4, a first conductor layer 5, a second insulator layer 6, and a second conductor layer 7 are laminated on a substrate 1 is shown. Figure 1
As shown in FIG. 9A, an insulator 34 is interposed at the outer edge of the joint surface between the first conductor layer 5 and the second conductor layer 7. In the case of a thin-film magnetic head, for example, copper is used as a conductor, and photoresist is used as an insulator, and the insulator tends to expand more than the conductor when subjected to heat treatment due to a large difference in thermal expansion coefficient between them. I do. As a result, as shown by the arrow in FIG. 19B, a stress is generated to push the joint part open, and peeling occurs at portions 35 and 36 in FIG. 19B. As shown in FIG. 19 (c), disconnection occurs. If no insulator is interposed around the joint, no stress is generated as indicated by the arrow in FIG. 19B, so that peeling and disconnection hardly occur.

【0018】本発明によれば、導電体層と絶縁体層の積
層により形成された薄膜積層構造において、第一導電体
層と第二導電体層との接合面の外縁部同士が直接接合す
る領域を有するので、絶縁体の熱膨張によって誘起され
る応力は低減され、接合部の剥離・断線を防止すること
ができる。なお、製造工程におけるオーバーエッチング
による第一導電体層の膜切れは第一導電体層の膜厚を調
節することにより防止することができる。
According to the present invention, in a thin film laminated structure formed by laminating a conductor layer and an insulator layer, the outer edges of the joining surfaces of the first conductor layer and the second conductor layer are directly joined to each other. With the region, the stress induced by the thermal expansion of the insulator is reduced, and peeling and disconnection of the joint can be prevented. Note that breakage of the first conductor layer due to over-etching in the manufacturing process can be prevented by adjusting the thickness of the first conductor layer.

【0019】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明
する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0020】まず、本発明の第1実施例である磁気ディ
スク装置用薄膜磁気ヘッドの接合構造を図1から図5を
用いて説明する。図1は磁気ディスク装置に用いられる
薄膜磁気ヘッドの導電体層同士の薄膜接合構造図であ
り、導電体層の接合面全面が直接接合されている。図2
および図3はこれを製造するプロセスと接合構造を説明
するためのプロセス断面図である。図2は図1における
面ABCで切断した断面図であり、図3は図1における
面DEFで切断した断面図である。本構造は図2および
図3に示すように基板1に下地膜2、ギャップ材3、第
一絶縁体層4、第一導電体層5、第二絶縁体層6、第二
導電体層7を積層した構造であるが、接合部構造を明確
にするため図1には第一導電体層5と第二導電体層7の
みを示す。
First, a bonding structure of a thin-film magnetic head for a magnetic disk drive according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a diagram showing a thin-film bonding structure between conductive layers of a thin-film magnetic head used in a magnetic disk drive. The entire bonding surface of the conductive layers is directly bonded. FIG.
And FIG. 3 is a process cross-sectional view for explaining a manufacturing process and a joint structure. 2 is a cross-sectional view taken along a plane ABC in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along a plane DEF in FIG. As shown in FIG. 2 and FIG. 3, this structure comprises a substrate 1, a base film 2, a gap material 3, a first insulator layer 4, a first conductor layer 5, a second insulator layer 6, and a second conductor layer 7. Are stacked, but FIG. 1 shows only the first conductor layer 5 and the second conductor layer 7 in order to clarify the joint structure.

【0021】この第一実施例を製造プロセスに沿って説
明する。まず、基板1の上に下地膜2とギャップ材3を
例えばスパッタにより成膜し、その上にフォトレジスト
等の絶縁体を塗布した後、熱処理により硬化させ表面の
平坦な第一絶縁体層4を形成する。この上に、例えばク
ロム等の薄い接着層を下面に有する銅等の第一導電体層
5を形成し、エッチングを行うと図2(a)、図3
(a)に示す状態となる。次にフォトレジスト等からな
る第二絶縁体層6を塗布すると図2(b)、図3(b)
に示す状態となる。この後、第二絶縁体層6を露光し、
現像した後、熱硬化すると図2(c)、図3(c)に示
す状態が得られる。この場合、従来は、第一導電体層5
の接合面外縁部8、9、10が露出しないようにしたた
めに、接合面外縁部8、9、10の上面にフォトレジス
ト等の絶縁体が残され、第二導電体層7を形成したとき
に接合面外縁部に絶縁体が介在する構造となった。本第
1実施例では、図2(c)、図3(c)に示すように第
一導電体層5の接合面外縁部8、9、10を露出させ
る。この後、例えばクロム等の薄い接着層を上面および
下面に有する銅等の第二導電体層7を形成し、マスク1
1を付けてエッチングを行うと第一導電体層5の接合面
全面と第二導電体層7の接合面全面が直接接合する構造
が得られる。この過程を図2(d)、図2(e)、図3
(d)、図3(e)に示す。このようにすれば、第一導
電体層5と第二導電体層7の接合部周囲に絶縁体が介在
しない接合構造が得られ、熱処理の際に該接合部におい
て剥離を生じにくい構造が得られる。この場合、図1の
部分12に示されるように、第一導電体層5はオーバー
エッチングされて薄くなるが、第一導電体層5の厚さを
調節することにより膜切れを防ぐことができる。
The first embodiment will be described along the manufacturing process. First, a base film 2 and a gap material 3 are formed on the substrate 1 by, for example, sputtering, and an insulator such as a photoresist is applied thereon, and then cured by heat treatment to form a first insulator layer 4 having a flat surface. To form A first conductor layer 5 made of copper or the like having a thin adhesive layer made of, for example, chromium on the lower surface is formed thereon and etched to perform the etching as shown in FIGS.
The state shown in FIG. Next, when a second insulator layer 6 made of a photoresist or the like is applied, FIGS. 2B and 3B
The state shown in FIG. After that, the second insulator layer 6 is exposed,
After development, heat curing is performed to obtain the state shown in FIGS. 2 (c) and 3 (c). In this case, conventionally, the first conductor layer 5
When the second conductor layer 7 is formed, an insulator such as a photoresist is left on the upper surfaces of the joining surface outer edges 8, 9, and 10 because the joining surface outer edges 8, 9, and 10 are not exposed. In this case, an insulator is interposed at the outer edge of the bonding surface. In the first embodiment, as shown in FIGS. 2C and 3C, the outer edges 8, 9, and 10 of the first conductive layer 5 are exposed. Thereafter, a second conductor layer 7 of copper or the like having a thin adhesive layer of, for example, chromium on the upper and lower surfaces is formed, and the mask 1 is formed.
When etching is performed with 1 attached, a structure is obtained in which the entire bonding surface of the first conductive layer 5 and the entire bonding surface of the second conductive layer 7 are directly bonded. This process is shown in FIGS. 2 (d), 2 (e) and 3
(D) and shown in FIG. In this way, a bonding structure in which an insulator does not intervene around the bonding portion between the first conductive layer 5 and the second conductive layer 7 can be obtained, and a structure that does not easily peel at the bonding portion during heat treatment can be obtained. Can be In this case, as shown in a portion 12 in FIG. 1, the first conductor layer 5 is over-etched and thinned, but by adjusting the thickness of the first conductor layer 5, film breakage can be prevented. .

【0022】図4も磁気ディスク装置に用いられる薄膜
磁気ヘッドの導電体層同士の薄膜接合構造図であり、導
電体層の接合面全面が直接接合されている。図1は第二
導電体層7の上面の方からのぞき込んだ立体図であった
が、図4は第一導電体層5の下面の方からのぞき込んだ
立体図である。図5は図4の面GHIで切断した断面図
である。これは、図1〜図3の薄膜接合構造においてマ
スク11の幅を大きくし、図2(d)、図2(e)に示
すエッチングのプロセスを図5(d)、図5(e)に置
き換えることにより得られる。図4の面JKLで切断し
た断面図は図3と同じである。この場合も、図2に示さ
れるように、第一導電体層5はオーバーエッチングされ
て薄くなるが、第一導電体層5の厚さを調節することに
より膜切れを防ぐことができる。
FIG. 4 is also a thin-film joining structure diagram of the conductor layers of the thin-film magnetic head used in the magnetic disk drive, in which the entire joining surface of the conductor layers is directly joined. FIG. 1 is a three-dimensional view looking into the upper surface of the second conductive layer 7, whereas FIG. 4 is a three-dimensional view looking into the lower surface of the first conductive layer 5. FIG. 5 is a sectional view taken along plane GHI of FIG. This is because the width of the mask 11 is increased in the thin film junction structure shown in FIGS. 1 to 3, and the etching process shown in FIGS. 2D and 2E is performed as shown in FIGS. 5D and 5E. Obtained by substituting. The cross-sectional view taken along the plane JKL in FIG. 4 is the same as FIG. Also in this case, as shown in FIG. 2, the first conductor layer 5 is over-etched and thinned, but by adjusting the thickness of the first conductor layer 5, it is possible to prevent the film from being cut.

【0023】図4の構造は、図1に比べて接合面積が大
きいために剥離の起こりにくい構造となっている。ただ
し、図4の構造では、第一導電体層5のGH方向の幅は
第二導電体層7の幅よりも小さくなければならないの
で、第一導電体層5の段差部に応力が集中しやすい。こ
れに対して図1の構造は、第一導電体層5のAB方向の
幅においてはこのような制限を受けないので、第一導電
体層5の段差部におけるAB方向の幅を大きくすること
により、段差部での応力集中を緩和することができる。
したがって、段差部の応力集中の緩和という点では、図
1の構造の方が優れている。
The structure of FIG. 4 has a larger bonding area than that of FIG. However, in the structure of FIG. 4, since the width of the first conductor layer 5 in the GH direction must be smaller than the width of the second conductor layer 7, stress concentrates on the step portion of the first conductor layer 5. Cheap. On the other hand, in the structure of FIG. 1, the width of the first conductor layer 5 in the AB direction is not limited as described above, so that the width of the step portion of the first conductor layer 5 in the AB direction is increased. Thereby, stress concentration at the step portion can be reduced.
Therefore, the structure of FIG. 1 is superior in reducing the stress concentration at the step.

【0024】次に、本発明の第2実施例である磁気ディ
スク装置用薄膜磁気ヘッドの接合構造を図6から図13
を用いて説明する。これらは第一導電体層5と第二導電
体層7の接合面外縁部の一部分には絶縁体が介在してい
るが、他の部分には絶縁体が介在していない構造となっ
ている。図6の38、39の部分が絶縁体の介在する場
所を表す。図6の面ABCで切断した断面図は、図2
(e)と全く同じである。このように接合面外縁部に接
合面同士が直接接合している領域が一ヶ所でもあれば、
接合面外縁部全体に絶縁体が介在した接合構造よりは剥
離の応力は低減される。
Next, the bonding structure of the thin-film magnetic head for a magnetic disk drive according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG. These have a structure in which an insulator is interposed in a part of the outer peripheral portion of the joint surface between the first conductor layer 5 and the second conductor layer 7, but no insulator is interposed in the other part. . The portions 38 and 39 in FIG. 6 represent places where the insulator is interposed. FIG. 2 is a sectional view taken along the plane ABC in FIG.
This is exactly the same as (e). In this way, if there is at least one region where the joining surfaces are directly joined to the outer edge of the joining surface,
The peeling stress is reduced as compared with the joint structure in which an insulator is interposed on the entire outer edge of the joint surface.

【0025】図7は、図8に面RSTで切断した断面図
を示すように接合面外縁部に接合面同士が直接接合して
いる領域があり、接合面外縁部全体に絶縁体が介在した
接合構造よりは剥離の応力は低減される。なお、図7の
構造は第一導電体層5がオーバーエッチングされないと
いう点で優れている。
FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the plane RST in FIG. 8, and there is a region where the bonding surfaces are directly bonded to each other at the outer edge of the bonding surface, and an insulator is interposed over the entire outer edge of the bonding surface. The peeling stress is reduced as compared with the joint structure. The structure shown in FIG. 7 is excellent in that the first conductor layer 5 is not over-etched.

【0026】また、図9に示される実施例も、図7の構
造と同様に第一導電体層5がオーバーエッチングされな
い。図10は、図9の面R’S’T’で切断した断面図
である。図10に示されるように、この例もこのように
接合面外縁部に接合面同士が直接接合している領域があ
り、接合面外縁部全体に絶縁体が介在した接合構造より
は剥離の応力は低減される。
Also in the embodiment shown in FIG. 9, the first conductor layer 5 is not over-etched similarly to the structure of FIG. FIG. 10 is a cross-sectional view taken along plane R′S′T ′ in FIG. As shown in FIG. 10, also in this example, there is a region where the bonding surfaces are directly bonded to each other at the outer edge of the bonding surface as described above. Is reduced.

【0027】第一導電体層5と第二導電体層7が角度を
もって接続する場合として、例えば、図11のような接
合構造がある。図12は図11の面XYZで切断した断
面図であり、図13は、図11の面X’Y’Z’で切断
した断面図である。これらの図に示されるように、この
例も接合面外縁部に接合面同士が直接接合している領域
があり、接合面外縁部全体に絶縁体が介在した接合構造
よりは剥離の応力は低減される。
As a case where the first conductor layer 5 and the second conductor layer 7 are connected at an angle, for example, there is a joint structure as shown in FIG. FIG. 12 is a sectional view taken along plane XYZ in FIG. 11, and FIG. 13 is a sectional view taken along plane X′Y′Z ′ in FIG. As shown in these figures, also in this example, there is a region where the joining surfaces are directly joined to each other at the outer edge of the joining surface, and the peeling stress is reduced compared to the joining structure where the insulator is interposed on the entire outer edge of the joining surface. Is done.

【0028】次に本発明の第3実施例としての磁気ディ
スク装置用薄膜磁気ヘッドを図14〜図17を用いて説
明する。第3実施例は、第一導電体層5、第二導電体層
7、第三導電体層14からなる3層構造のインダクティ
ブヘッドであるが、本発明はこれに限るものではなく例
えば磁気抵抗効果(MR)ヘッドにも適用可能である。
図14は基板1を上方から見た図であり、図15は図1
4におけるUVで切断した断面図、図16は図14にお
けるVWで切断した断面図である。この実施例を製造プ
ロセスに沿って説明する。まず、基板1の上に下地膜2
と第一磁性体17、およびギャップ材3を例えばスパッ
タにより成膜し、その上にフォトレジスト等の絶縁体を
塗布した後、熱処理により硬化して表面の平坦な第一絶
縁体層4を形成する。この上に、例えばクロム等の薄い
接着層を下面に有する銅等の第一導電体層5を形成し、
エッチングを行う。この後、フォトレジスト等からなる
第二絶縁体層6を塗布し、露光・現像した後、熱硬化す
る。この際、第一導電体層5と第二導電体層7の接合部
19となる部分については、図2(c)、図3(c)に
示したのと同様に第一導電体層5の接合面外縁部が露出
するようにする。次に、例えばクロム等の薄い接着層を
上面および下面に有する銅等の第二導電体層7を形成
し、これをエッチングする。この際、第一導電体層5と
第二導電体層7の接合部19においては、図2(d)、
図2(e)、図3(d)、図3(e)と同様にエッチン
グを行い、さらに第三絶縁体層20、第三導電体層1
4、第四絶縁体層21を形成する。第二導電体層7と第
三導電体層14の接合部15の構造は、第一導電体層5
と第二導電体層7の接合部19と同様に製造する。次に
第二磁性体18をスパッタ等により形成する。この場
合、図5と同様の製造プロセスにより、第二磁性体18
と第三導電体層14の接合部16についても絶縁体が介
在しない構造とする。
Next, a thin-film magnetic head for a magnetic disk drive according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The third embodiment is an inductive head having a three-layer structure including the first conductor layer 5, the second conductor layer 7, and the third conductor layer 14, but the present invention is not limited to this, and may be, for example, a magnetoresistive head. It is also applicable to effect (MR) heads.
FIG. 14 is a view of the substrate 1 as viewed from above, and FIG.
4 is a cross-sectional view cut by UV, and FIG. 16 is a cross-sectional view cut by VW in FIG. This embodiment will be described along the manufacturing process. First, a base film 2 is formed on a substrate 1.
, The first magnetic body 17 and the gap material 3 are formed by, for example, sputtering, and an insulator such as a photoresist is applied thereon, and then cured by heat treatment to form the first insulator layer 4 having a flat surface. I do. A first conductor layer 5 such as copper having a thin adhesive layer such as chromium on the lower surface is formed thereon,
Perform etching. Thereafter, a second insulator layer 6 made of a photoresist or the like is applied, exposed and developed, and then thermally cured. At this time, the portion to be the joint 19 between the first conductor layer 5 and the second conductor layer 7 is the same as that shown in FIGS. 2C and 3C. So that the outer edge of the bonding surface is exposed. Next, a second conductor layer 7 made of copper or the like having a thin adhesive layer made of, for example, chromium on the upper and lower surfaces is formed, and is etched. At this time, at the joint 19 between the first conductor layer 5 and the second conductor layer 7, FIG.
Etching is performed in the same manner as in FIGS. 2 (e), 3 (d) and 3 (e), and the third insulator layer 20 and the third conductor layer 1 are further etched.
4. The fourth insulator layer 21 is formed. The structure of the joint 15 between the second conductor layer 7 and the third conductor layer 14 is the same as that of the first conductor layer 5.
And the joint 19 of the second conductor layer 7. Next, the second magnetic body 18 is formed by sputtering or the like. In this case, the second magnetic body 18 is manufactured by the same manufacturing process as in FIG.
The junction 16 between the first conductor layer 14 and the third conductor layer 14 also has a structure in which no insulator is interposed.

【0029】薄膜磁気ヘッドを構成する銅等の導電体と
フォトレジストなどの絶縁体は、熱膨張係数の差が大き
いため、従来の、絶縁体が介在した接合構造では接合部
を剥離する応力が大きくなる。したがって、本発明は、
特に薄膜磁気ヘッドに適用した場合に改善効果が大き
い。
A conductor such as copper and an insulator such as a photoresist, which constitute a thin-film magnetic head, have a large difference in thermal expansion coefficient. growing. Therefore, the present invention
Particularly when applied to a thin film magnetic head, the effect of improvement is great.

【0030】上記実施例の薄膜磁気ヘッドでは、第一導
電体層5と第二導電体層7の接合部19および第二導電
体層7と第三導電体層14の接合部15の構造は、図1
に示す構造を用いたが、図4、図6、または図7に示す
構造に置き換えてもよい。
In the thin-film magnetic head of the above embodiment, the structure of the junction 19 between the first conductor layer 5 and the second conductor layer 7 and the junction 15 between the second conductor layer 7 and the third conductor layer 14 are as follows. , FIG.
Is used, but may be replaced with the structure shown in FIG. 4, FIG. 6, or FIG.

【0031】また、本発明による薄膜磁気ヘッドとして
は他に、図17の構造が考えられる。図14との違い
は、第二導電体層7と第三導電体層14の接合部15
が、第二磁性体18に覆われていない部分に位置してい
ることであり、複雑な応力分布が生じにくい構造となっ
ている。このため、第二磁性体18の磁気特性が安定に
保たれるという利点がある。
Another structure of the thin-film magnetic head according to the present invention is shown in FIG. 14 is different from FIG. 14 in that a joint 15 between the second conductor layer 7 and the third conductor layer 14 is formed.
However, it is located at a portion that is not covered by the second magnetic body 18 and has a structure in which complicated stress distribution is unlikely to occur. Therefore, there is an advantage that the magnetic characteristics of the second magnetic body 18 are kept stable.

【0032】従来の接合構造を有する磁気ヘッドを用い
た場合、導電体間の接合部を剥離する応力が絶縁体の熱
膨張によって生じ、その応力は、磁気ヘッドを構成する
膜の厚さが厚いほど大きくなるため、あまり膜厚を厚く
することができない。本発明の接合構造を有する磁気ヘ
ッドでは、絶縁体の熱膨張によるこのような応力は低減
されるので、磁気ヘッドを構成する膜の厚さを厚くする
ことができる。導電体の膜厚を厚くした分だけ、導電体
の抵抗を大きくすることなく導電体コイルの幅を小さく
することができるので、導電体コイルの高密度化に適し
ているといえる。
When a magnetic head having a conventional joining structure is used, a stress for peeling off a joint between conductors is caused by thermal expansion of an insulator, and the stress is caused by a thick film constituting the magnetic head. Therefore, the film thickness cannot be increased so much. In the magnetic head having the bonding structure according to the present invention, such stress due to thermal expansion of the insulator is reduced, so that the thickness of the film constituting the magnetic head can be increased. Since the width of the conductor coil can be reduced by increasing the thickness of the conductor without increasing the resistance of the conductor, it can be said that this is suitable for increasing the density of the conductor coil.

【0033】次に本発明の第4実施例の磁気ディスク装
置を図18を用いて説明する。この実施例は、通常の磁
気ディスク装置と同様に、磁気記録媒体としての磁気デ
ィスク24と、本発明による薄膜磁気ヘッド22と、磁
気ヘッドを磁気ディスク上の所定位置に移動させるため
のアクチュエータ手段と、アクチュエータ手段の移動お
よび磁気ヘッド22が読み書きするデータの送信・受信
をコントロールする制御手段から構成される。
Next, a magnetic disk drive according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment comprises a magnetic disk 24 as a magnetic recording medium, a thin-film magnetic head 22 according to the present invention, and actuator means for moving the magnetic head to a predetermined position on the magnetic disk, as in a normal magnetic disk device. And control means for controlling movement of the actuator means and transmission / reception of data read / written by the magnetic head 22.

【0034】以下に、動作を含めてさらに詳しく解説す
る。磁気ヘッド22を支持するスライダ23は、回転軸
29によって支持された磁気ディスク24上に置かれ、
該磁気ディスク24が駆動モータ30により回転する
と、スライダ23は、磁気ディスク24の上を浮上す
る。スライダ23は、弾性力を有するジンバル25によ
ってアーム26に取り付けられる。ジンバル25の弾性
力と空気ベアリング力が釣り合うことにより、スライダ
23と磁気ディスク24の間は、一定距離に保たれる。
制御装置33は、ライン31、ライン32、ライン28
を通して制御信号を送信あるいは受信し、磁気ディスク
装置の動作を制御する。駆動モータ30は、ライン31
を通して制御装置33により制御される。ボイスコイル
モータ等のアクチュエータ27は、ライン28を通し
て、スライダ23を磁気ディスク24上の所定位置に移
動・位置決めするように制御される。磁気ヘッド22が
読み取った磁気ディスク24上のデータは電気信号に変
換され、ライン32を通して解読される。また、磁気デ
ィスク24上に書き込むデータは、電気信号としてライ
ン32を通して磁気ヘッド22に送信される。
The operation and the operation will be described below in more detail. A slider 23 supporting the magnetic head 22 is placed on a magnetic disk 24 supported by a rotating shaft 29,
When the magnetic disk 24 is rotated by the drive motor 30, the slider 23 flies above the magnetic disk 24. The slider 23 is attached to the arm 26 by a gimbal 25 having elasticity. By balancing the elastic force of the gimbal 25 and the air bearing force, a certain distance is maintained between the slider 23 and the magnetic disk 24.
The control device 33 includes a line 31, a line 32, a line 28
The control signal is transmitted or received through the controller to control the operation of the magnetic disk drive. The drive motor 30 is connected to a line 31
Through the control device 33. An actuator 27 such as a voice coil motor is controlled to move and position the slider 23 to a predetermined position on the magnetic disk 24 through a line 28. The data on the magnetic disk 24 read by the magnetic head 22 is converted into an electric signal and decoded through a line 32. Data to be written on the magnetic disk 24 is transmitted to the magnetic head 22 through the line 32 as an electric signal.

【0035】この磁気ディスク装置の磁気ヘッドとし
て、従来の薄膜磁気ヘッドを用いた場合、導電体間の接
合部を剥離する応力が絶縁体の熱膨張によって生じ、そ
の応力は、磁気ヘッドを構成する膜の厚さが厚いほど大
きくなるため、あまり膜厚を厚くすることができなかっ
た。本発明の接合構造を有する薄膜磁気ヘッドを用いた
場合、絶縁体の熱膨張によるこのような応力は低減され
るので、磁気ヘッドを構成する膜の厚さを厚くすること
ができる。導電体の膜厚を厚くした分だけ、導電体の抵
抗を大きくすることなく導電体コイルの幅を小さくする
ことができる。これは、図14や図17の例で考える
と、渦巻状のコイルの半径を小さくできることにつなが
る。接合部外縁部に介在していた絶縁体が削減される効
果も合わせて考慮すると、素子のパターンを小さくでき
るので、結果としてスライダ23の厚さを薄くできる。
こうしてスライダ23の質量を小さくし、サイズを小型
化することにより、スライダ23を磁気ディスク24上
の所定位置に高速にアクセスすることができる。さらに
ジンバル25やアーム26にかかる負担も低減すること
ができる。
When a conventional thin-film magnetic head is used as the magnetic head of the magnetic disk drive, a stress for peeling off the junction between the conductors is caused by thermal expansion of the insulator, and the stress constitutes the magnetic head. Since the larger the film thickness, the larger the film thickness, the film thickness could not be made too large. When a thin-film magnetic head having the bonding structure of the present invention is used, such stress due to thermal expansion of the insulator is reduced, so that the thickness of the film constituting the magnetic head can be increased. By increasing the thickness of the conductor, the width of the conductor coil can be reduced without increasing the resistance of the conductor. This leads to the fact that the radius of the spiral coil can be reduced in the examples of FIGS. In consideration of the effect of reducing the amount of the insulator interposed at the outer edge of the joint, the pattern of the element can be reduced. As a result, the thickness of the slider 23 can be reduced.
By reducing the mass and size of the slider 23 in this manner, the slider 23 can access a predetermined position on the magnetic disk 24 at high speed. Further, the load on the gimbal 25 and the arm 26 can be reduced.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明によれば、薄膜磁気ヘッドの高密
度化、小型化が図れ、磁気ディスク装置の高密度化、高
速アクセス化が可能になる。
According to the present invention, the density and size of the thin-film magnetic head can be increased, and the density of the magnetic disk device can be increased and the access speed can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例の薄膜接合構造図である。FIG. 1 is a diagram showing a thin film bonding structure according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の薄膜接合構造のプロセス断面図である。FIG. 2 is a process sectional view of the thin film bonding structure of FIG.

【図3】図1の薄膜接合構造のプロセス断面図である。FIG. 3 is a process sectional view of the thin film bonding structure of FIG. 1;

【図4】本発明の第1実施例の薄膜接合構造図である。FIG. 4 is a diagram showing a thin film bonding structure according to a first embodiment of the present invention.

【図5】図4の薄膜接合構造のプロセス断面図である。FIG. 5 is a process sectional view of the thin film bonding structure of FIG. 4;

【図6】本発明の第2実施例の薄膜接合構造図である。FIG. 6 is a diagram showing a thin film junction structure according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第2実施例の薄膜接合構造図である。FIG. 7 is a diagram showing a thin film junction structure according to a second embodiment of the present invention.

【図8】図7の薄膜接合構造の断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of the thin film bonding structure of FIG.

【図9】本発明の第2実施例の薄膜接合構造図である。FIG. 9 is a diagram showing a thin film junction structure according to a second embodiment of the present invention.

【図10】図10の薄膜接合構造の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of the thin film bonding structure of FIG.

【図11】本発明の第2実施例の薄膜接合構造図であ
る。
FIG. 11 is a diagram showing a thin film bonding structure according to a second embodiment of the present invention.

【図12】図11の薄膜接合構造の断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view of the thin film bonding structure of FIG.

【図13】図11の薄膜接合構造の断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view of the thin film bonding structure of FIG.

【図14】本発明の第3実施例の薄膜磁気ヘッド構造図
である。
FIG. 14 is a structural diagram of a thin-film magnetic head according to a third embodiment of the present invention.

【図15】図14の薄膜磁気ヘッドの断面図である。FIG. 15 is a sectional view of the thin-film magnetic head of FIG. 14;

【図16】図14の薄膜磁気ヘッドの断面図である。FIG. 16 is a sectional view of the thin-film magnetic head of FIG.

【図17】本発明の第4実施例の薄膜磁気ヘッド構造図
である。
FIG. 17 is a structural diagram of a thin-film magnetic head according to a fourth embodiment of the present invention.

【図18】本発明の第5実施例の磁気ディスク装置の構
成図である。
FIG. 18 is a configuration diagram of a magnetic disk drive according to a fifth embodiment of the present invention.

【図19】従来の薄膜接合構造の接合部剥離メカニズム
の説明図である。
FIG. 19 is an explanatory view of a bonding part peeling mechanism of a conventional thin film bonding structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基板、2…下地膜、3…ギャップ材、4…第一絶縁
体層、5…第一導電体層、6…第二絶縁体層、7…第二
導電体層、8、9、10…第一導電体層の接合面外縁
部、11…マスク、14…第三導電体層、17…第一磁
性体、18…第二磁性体、20…第三絶縁体層、21…
第四絶縁体層、22…磁気ヘッド、23…スライダ、2
4…磁気ディスク、25…ジンバル、26…アーム、2
7…アクチュエータ、29…回転軸、30…駆動モー
タ、33…制御装置、37…保護膜。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Under film, 3 ... Gap material, 4 ... First insulator layer, 5 ... First conductor layer, 6 ... Second insulator layer, 7 ... Second conductor layer, 8, 9, Reference numeral 10: outer peripheral portion of the bonding surface of the first conductive layer, 11: mask, 14: third conductive layer, 17: first magnetic body, 18: second magnetic body, 20: third insulating layer, 21 ...
Fourth insulator layer, 22: magnetic head, 23: slider, 2
4: magnetic disk, 25: gimbal, 26: arm, 2
7 ... actuator, 29 ... rotary axis, 30 ... drive motor, 33 ... control device, 37 ... protective film.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斉藤 直人 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社日 立製作所機械研究所内 (72)発明者 今中 律 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 白木 清典 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Naoto Saito 502, Kandachicho, Tsuchiura-shi, Ibaraki Pref.Mechanical Research Laboratory, Hitachi, Ltd. Within Storage System Division (72) Inventor Kiyonori Shiraki 2880 Kozu, Odawara-shi, Kanagawa Prefecture Storage System Division, Hitachi, Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】データを記録するための磁気ディスクと、
この磁気ディスクに前記データを記録、再生させる磁気
ヘッドを備えた磁気ディスク装置において、前記磁気ヘ
ッドは導電体層と絶縁体層とが積層された積層構造であ
り、前記導電体層のうち前記絶縁層の基板に対向する面
に積層された第一導電体層と、前記絶縁層の他方の面に
積層された第二導電体層とが前記第一導電体層に形成さ
れた第一接合面と前記第二導電体層に形成された第二接
合面とを接合した接合部にて互いに電気的に接合されて
おり、前記接合部において前記第一接合面の外縁部と前
記第二接合面の外縁部とが絶縁体を挟まずに直接接合し
ている領域を有することを特徴とする磁気ディスク装
置。
1. A magnetic disk for recording data,
In a magnetic disk drive provided with a magnetic head for recording and reproducing the data on and from the magnetic disk, the magnetic head has a laminated structure in which a conductive layer and an insulating layer are stacked, and the insulating layer among the conductive layers A first conductor layer laminated on a surface of the layer facing the substrate, and a first bonding surface formed on the first conductor layer with a second conductor layer laminated on the other surface of the insulating layer And a second bonding surface formed on the second conductor layer, and are electrically connected to each other at a bonding portion, and an outer edge of the first bonding surface and the second bonding surface at the bonding portion. A magnetic disk drive having an area directly joined to an outer edge of the magnetic disk without interposing an insulator.
【請求項2】データを記録するための磁気ディスクと、
この磁気ディスクに前記データを記録、再生させる磁気
ヘッドを備えた磁気ディスク装置において、前記磁気ヘ
ッドは導電体層と絶縁体層とが積層された積層構造であ
り、前記導電体層のうち前記絶縁層の基板に対向する面
に積層された第一導電体層と、前記絶縁層の他方の面に
積層された第二導電体層とが前記第一導電体層に形成さ
れた第一接合面と前記第二導電体層に形成された第二接
合面とを接合した接合部にて互いに電気的に接合されて
おり、前記第一接合面近傍の第一導電体層に肉厚が減肉
している領域を有することを特徴とする磁気ディスク装
置。
2. A magnetic disk for recording data,
In a magnetic disk drive provided with a magnetic head for recording and reproducing the data on and from the magnetic disk, the magnetic head has a laminated structure in which a conductive layer and an insulating layer are stacked, and the insulating layer among the conductive layers A first conductor layer laminated on a surface of the layer facing the substrate, and a first bonding surface formed on the first conductor layer with a second conductor layer laminated on the other surface of the insulating layer And the second joint surface formed on the second conductor layer is electrically joined to each other at a joint portion, and the thickness of the first conductor layer near the first joint surface is reduced. A magnetic disk drive characterized in that the magnetic disk drive has a region where the magnetic disk drive operates.
【請求項3】データを記録するための磁気ディスクと、
この磁気ディスクに前記データを記録、再生させる磁気
ヘッドを備えた磁気ディスク装置において、前記磁気ヘ
ッドは導電体層と絶縁体層とが積層された積層構造であ
り、前記導電体層のうち前記絶縁層の基板に対向する面
に積層された第一導電体層と、前記絶縁層の他方の面に
積層された第二導電体層とが前記第一導電体層に形成さ
れた第一接合面と前記第二導電体層に形成された第二接
合面とを接合した接合部にて互いに電気的に接合されて
おり、さらに、前記接合部において前記第一導電体層と
前記第二導電体層とが、前記第一接合面および前記第二
接合面とは異なる面にて接合されている領域を有するこ
とを特徴とする磁気ディスク装置。
3. A magnetic disk for recording data,
In a magnetic disk drive provided with a magnetic head for recording and reproducing the data on and from the magnetic disk, the magnetic head has a laminated structure in which a conductive layer and an insulating layer are stacked, and the insulating layer among the conductive layers A first conductor layer laminated on a surface of the layer facing the substrate, and a first bonding surface formed on the first conductor layer with a second conductor layer laminated on the other surface of the insulating layer And a second joint surface formed on the second conductor layer, and are electrically joined to each other at a joint portion, and further, the first conductor layer and the second conductor at the joint portion. A magnetic disk drive, wherein the layer has a region joined by a surface different from the first joint surface and the second joint surface.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6836957B2 (en) 2000-12-26 2005-01-04 Alps Electric Co., Ltd. Method for making perpendicular magnetic recording head having inverted trapezoidal main magnetic pole layer

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6836957B2 (en) 2000-12-26 2005-01-04 Alps Electric Co., Ltd. Method for making perpendicular magnetic recording head having inverted trapezoidal main magnetic pole layer

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