JPH10106946A - レチクルカセット - Google Patents

レチクルカセット

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JPH10106946A
JPH10106946A JP25894297A JP25894297A JPH10106946A JP H10106946 A JPH10106946 A JP H10106946A JP 25894297 A JP25894297 A JP 25894297A JP 25894297 A JP25894297 A JP 25894297A JP H10106946 A JPH10106946 A JP H10106946A
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JP
Japan
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reticle
clamp
lid
support member
cassette
Prior art date
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Pending
Application number
JP25894297A
Other languages
English (en)
Inventor
Ikushun Kin
▲イク▼峻 金
Byunko Tei
▲ビュン▼虎 鄭
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Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH10106946A publication Critical patent/JPH10106946A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐静電気性及び耐久性の向上されたレチクル
カセットを提供することを目的とする。 【解決手段】 レチクルの挿入される空間部が形成さ
れ、BAYONよりなる胴体と、この胴体の背面に回動
自在に取付けられて胴体を覆い、BAYONよりなる蓋
部と、この蓋部の前面に回動自在に取付けられて空間部
の入口を密閉して一側端部が胴体の側面から所定の長さ
ほど突出され、BAYONよりなるドアと、胴体の両外
側壁に付着され、ステンレス鋼よりなるクリック止め3
1が付着されたクランプ手段とを含む構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は精密なレチクルをさ
らに安全に保管しうるレチクルカセットに係り、特に静
電気防除性と耐久性の向上されたレチクルカセットに関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子の製造において、パターンを
形成するための写真工程及び蝕刻工程が必須的に要求さ
れ、写真工程で感光膜パターンを形成するためレチクル
が使用される。レチクルとは、通常ウェーハ上または液
晶表示素子用のガラス基板上にパターンを形成する場
合、このパターンと同一なパターンが刻まれたガラス基
板を言う。レチクルの基板面には通常活性領域パター
ン、ゲート電極パターンの相異なるクロムパターンが形
成される。
【0003】本発明におけるレチクルとは、マスターマ
スクを製作する際、基本となる母板マスクを称する。こ
のようなレチクルはマスクとはその整列及び露光方式の
点において区別される。具体的に、感光原板とウェーハ
とが相互数十ミクロン離れた状態から1:1倍率でウェ
ーハに走査して露光させる近接形(proximit
y)に使用されるものをマスクと称し、光学レンズを用
いて拡大した感光原板の像を一定の倍率に縮少した後、
ウェーハに走査して露光させるステッパ(steppe
r)形に使用するものをレチクルと称する。このような
レチクルの構造はその上面に所定の露光パターン、例え
ばクロムパターンが形成されたガラス基板と、このガラ
ス基板の上下面に設けられて各々埃のような異物がガラ
ス基板に付着されることを防止する上下部薄膜を具備し
てなる。
【0004】このようにレチクルはガラスよりなるた
め、他物とぶつかると傷付きやすい。また、レチクル表
面のパターンは約1kVほどの静電気の影響を受ける
と、誘電破壊等の損傷を受ける。さらに、レチクルは製
作が非常に難しく、高価である。従って、レチクルは細
心に取扱われるべきであり、使用待機中や保管が必要な
場合にはレチクルカセットに保管されるべきである。
【0005】図1は従来のレチクルカセットを蓋部13
が開いた状態で簡略に示したものである。前記カセット
は内部にレチクルが挿入される空間部が形成され、前記
空間部の左右縁部に沿ってレチクル支持台17が形成さ
れ、前記レチクル支持台17の先端の所定位置にはレチ
クル固定ロッド19が形成されている胴体11と、この
胴体11の後面に回動自在に設けられて前記胴体11を
覆う蓋部13と、この蓋部13の前面に回動自在に設け
られて前記空間部の入口を密閉し、一側端部が胴体11
の側面から所定長さほど突出されたドア15と、前記胴
体11の両外側壁に付着されたクランプ手段(21・2
3)を含んで構成される。前記クランプ手段(21・2
3)はクリック止め29を具備したクランプ支持部材2
3とクランプ弾性部材21で構成され、前記クランプ弾
性部材21はレチクルカセットの胴体11の前方に位置
したクランプ部25とこれに連結された後方のロック部
27で構成される。一方、前記クランプ支持部材23の
後方の内側壁22には前記ロック部27に対応してクリ
ック止め29が形成されている。
【0006】前記クランプ弾性部材21は前記クランプ
支持部材23との前後連結部24を軸として回動自在に
設けられる。前記クランプ支持部材23の後方に形成さ
れたクリック止め29は前記ロック部27を係止して前
記クランプ弾性部材21を固定させる。
【0007】図2は前記蓋部13が閉まった状態の従来
のレチクルカセットを簡略に示したものである。具体的
に、前記クランプ支持部材23の前方に形成されたクラ
ンプ部25が前記蓋部13を押圧して蓋部13と胴体1
1とを締結させる。以下、図1と図2に基づきクランプ
手段(21・23)によるレチクルカセットの開閉動作
を説明する。前記クランプ弾性部材21はその両端にク
ランプ部25とロック部27を含んで構成され、前記ク
ランプ部25は前記蓋部13が胴体11に係止されるよ
うにベンディングされており、前記ロック部27を前記
クランプ支持部材23の内側壁22に突出されたクリッ
ク止め29に掛けて前記蓋部13と前記胴体11とを固
く締結させる。即ち、図1において前記ロック部27を
前記胴体11の左右に押すと、前記クランプ弾性部材2
1は固定軸24を中心として回転しながら前記クリック
止め29の外部に抜出し、前記クランプ部25は蓋部1
3を放して開いた状態となる。逆に、前記ロック部27
に胴体11側に向けて力を加え、クリック止め29内に
押圧するとクランプ部25は蓋部13と係合されて前記
閉まった状態となる。
【0008】図3は前記クリック止め29の簡略な側面
図である。従来のクリック止め29はその材質がプラス
チックで形成されている。前記のようにクリック止め2
9は開閉動作時に力を受け、かつその材質がプラスチッ
クよりなるため摩耗が早く発生する。このような摩耗は
破砕微粒子を発生させるだけでなくレチクルカセット製
品の寿命を早く短縮させる。即ち、ただクリック止め2
9のみが摩耗されてもレチクルカセット全体を交換すべ
き問題がある。
【0009】以下、レチクルが前記レチクルカセットに
引入、引出される動作を説明する。レチクルはレチクル
支持台17上に置かれてレチクル固定ロッド19の内側
で固定されてから次のマニピュレータ(図示せず)によ
り引入、引出される。マニピュレータはレチクル固定ロ
ッド19の内側に置かれたレチクルの下に入って吸着孔
を通した吸着でレチクルを取ってからこれを引出す。前
記従来のレチクル固定ロッド19はこのようなレチクル
引入、引出過程で折れやすい問題があった。
【0010】一方、前記カセットの形成材質のポリカー
ボネートは代表的なエンジニアリングプラスチックとし
てその機械的性質、絶縁性、透明性等が優秀である。し
かし、ポリカーボネート材質のレチクルカセットは半導
体装置の製造工程、またはカセットの使用時に発生する
静電気からレチクルを確実に保護できない短所がある。
具体的にポリカーボネートはその機械的性質が金属に近
いほど優秀であるが、13ー15kVの静電気を発生さ
せる。このように発生された静電気はレチクル表面のパ
ターンに誘電破壊のような損傷を加える原因となる。結
局、従来のレチクルカセットは耐静電気性と、クリック
止め29及びレチクル固定ロッド19の耐久性面で短所
を有している。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は耐静電気性と
耐久性を同時に向上させたレチクルカセットを提供する
にその目的がある。
【0012】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明では、レチクルの挿入される空間部が形成され、
前記空間部の左右側縁部に沿ってレチクル支持台が形成
され、前記レチクル支持台の先端の所定位置にはレチク
ル固定ロッドが形成されている胴体と、前記胴体の背面
に回動自在に取付けられて前記胴体を覆う蓋部と、前記
蓋部の前面に回動自在に取付けられて前記空間部の入口
を密閉して一側端部が前記胴体の側面から所定の長さほ
ど突出されたドアと、前記胴体の両外側壁に付着され、
クランプ支持部材とクランプ及びこれに繋がれたロック
部を具備したクランプ弾性部材よりなるクランプ手段
と、前記ロック部に対応して前記クランプ支持部材の一
端に形成され、ステンレス鋼で形成されたクリック止め
を含んで構成されたことを特徴とするレチクルカセット
を提供する。
【0013】本発明の望ましい実施の形態によれば、前
記レチクル支持台は与えられたレチクルカセットの設計
モジュール下で最高の破断強度を有するように設計され
る。また、前記クリック止めは前記クランプ支持部材に
挿入されたピン形なので挿脱または交換可能なのが望ま
しい。このような本発明のレチクルカセット構造はその
耐久性を向上させる作用をする。前記胴体、蓋部、クラ
ンプ支持部材及びドアの材質はBAYON(日本国呉羽
化学工業株式会社製)で形成する。また、前記ステンレ
ス鋼はsusステンレスであることが望ましい。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の望ましい実施の形
態を図面に基づき詳しく説明する。本発明のレチクルカ
セットは従来のクランプ手段を変えて形成した。図4を
参照すれば、本発明のクリック止め31としてステンレ
ス鋼がピン形で挿入されている。望ましくは、前記ステ
ンレス鋼はsusステンレスである。前記susステン
レス鋼ピンはその耐静電気性に優れるだけでなく耐摩耗
性が抜群である。一方、ポリカーボネート材質のレチク
ルカセットが13ー15kVの静電気を発生させるに比
べて本発明のBAYON材質レチクルカセットは0.0
1ー0.03kVのみの静電気を発生させる。これは実
際の半導体製造工程で無視しても良い極微な数値であ
る。
【0015】以下、BAYONという商品名のみで呼ば
れ、その一般名称のない物質に対して詳述することによ
り前記物質を特定する。具体的に前記商品名、即ち、B
AYONを特許請求の範囲に記載しうるほどにその組成
及び物性を総合的に特定する。BAYONは2つの共重
合体を混合して製造される。具体的に、BAYONはブ
タジエン、メチルメタクリレート、ブチルアクリレー
ト、及びメトキシポリエチレングリコール、メタアクリ
レートよりなる第1共重合体と、メチルメタクリレー
ト、メチルアクリレートよりなる第2共重合体の混合物
で構成される。BAYONの化学組成は前記第1共重合
体30ー60%と前記第2共重合体40ー70%の割合
で構成される。前述したように構成されるBAYONの
分子量はその溶融粘度を測ることにより計算される。
【0016】前記BAYONの外観、比重及び電気的抵
抗は次の表1のようである。測定はYM−201、YM
−301の2つの等級のBAYONで行われた。
【表1】 前記表1に示されたようにBAYONは透明性を有する
のでBAYONでレチクルカセットを形成する際、内部
にレチクルが装着されたかを肉眼でも観察しやすい。ま
た、水で洗っても静電気の防除効果がほとんど劣らず、
低湿度下でも静電気の防除効果が十分に発揮され、長時
間に亙って静電気の防除効果がほとんど劣らない。一
方、BAYONは押出成形、射出成形等の方法で成形し
やすい。
【0017】下記の表2はBAYONの総合的な物性を
示したものである。
【表2】 BAYONの耐静電気効果は前記表面電荷Vmaxと半
減期の測定を通して判断できる。具体的に試料の表面に
コロナ放電を用いて電荷を蓄積させて飽和帯電圧に達し
た後、放電して表面電荷が減少する挙動を検出電極で検
出する。飽和帯電圧が半分まで減少する時間を半減期と
称し、秒単位で示す。
【0018】以上の説明からわかるように、本発明の1
つの構成要素となるBAYONはその物性及び組成が特
定されているため特許請求の範囲に記載されうる。本発
明のレチクルカセットはまた耐久性の弱い部分が補強さ
れたものである。具体的に、本発明のレチクル固定ロッ
ドは従来と異なって高さ3.0mm、直径3.0mmの
円筒形で形成されることにより反復使用にも折れる恐れ
が減少されたものである。さらに、前記直径を4.0m
mまでに形成しても良い。
【0019】
【発明の効果】前述したような本発明の実施の形態によ
れば、静電気の発生が防止されるだけでなく、耐久性に
優れたレチクルカセットが提供される。特に、前記カセ
ットにおいて最も耐久性の脆弱な部分であったクリック
止め部分とレチクル固定ロッドが強化されることによ
り、前記脆弱部分から発生した破片等に起因した問題点
が解決されると同時にレチクルカセットの半永久的な使
用が可能になる。本発明は前記実施の形態に限定されな
く、当分野において通常の知識を有する者による他の変
形で類似のものについても実施可能なのは明白である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来のレチクルカセットを蓋部が開いた状態
で簡略に示した斜視図である。
【図2】 従来のレチクルカセットを蓋部が閉まった状
態で簡略に示した斜視図である。
【図3】 従来のレチクルカセットに具備されたクリッ
ク止めを簡略に示した断面図である。
【図4】 本発明のレチクルカセットに具備されたクリ
ック止めを簡略に示した断面図である。
【符号の説明】
31 クリック止め 23 クランプ支持部材

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レチクルの挿入される空間部が形成さ
    れ、前記空間部の左右側縁部に沿ってレチクル支持台が
    形成され、前記レチクル支持台の先端の所定位置にはレ
    チクル固定ロッドが形成されている胴体と、 前記胴体の背面に回動自在に取付けられて前記胴体を覆
    う蓋部と、 前記蓋部の前面に回動自在に取付けられて前記空間部の
    入口を密閉して一側端部が前記胴体の側面から所定の長
    さほど突出されたドアと、 前記胴体の両外側壁に付着され、クランプ支持部材とク
    ランプ及びこれに繋がれたロック部を具備したクランプ
    弾性部材よりなるクランプ手段と、 前記ロック部に対応して前記クランプ支持部材の一端に
    形成され、ステンレス鋼で形成されたクリック止めとを
    含んで構成されたことを特徴とするレチクルカセット。
  2. 【請求項2】 前記胴体、前記蓋部、前記クランプ支持
    部材及び前記ドアはBAYONよりなることを特徴とす
    る請求項1に記載のレチクルカセット。
  3. 【請求項3】 前記ステンレス鋼はsusステンレスで
    あることを特徴とする請求項1に記載のレチクルカセッ
    ト。
  4. 【請求項4】 前記ステンレス鋼は前記クランプ支持部
    材に挿入されたピン形であることを特徴とする請求項1
    に記載のレチクルカセット。
  5. 【請求項5】 前記レチクル固定ロッドは高さ3.0m
    m、直径3.0mm−4.0mmである円筒形で形成さ
    れたことを特徴とする請求項1に記載のレチクルカセッ
    ト。
JP25894297A 1996-09-23 1997-09-24 レチクルカセット Pending JPH10106946A (ja)

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