JPH10106878A - 導波路の表面上に強磁性膜を析出する方法、および本方法により析出された強磁性薄膜を含む磁気光学装置 - Google Patents

導波路の表面上に強磁性膜を析出する方法、および本方法により析出された強磁性薄膜を含む磁気光学装置

Info

Publication number
JPH10106878A
JPH10106878A JP9254863A JP25486397A JPH10106878A JP H10106878 A JPH10106878 A JP H10106878A JP 9254863 A JP9254863 A JP 9254863A JP 25486397 A JP25486397 A JP 25486397A JP H10106878 A JPH10106878 A JP H10106878A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
waveguide
ferromagnetic
ferromagnetic film
film
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9254863A
Other languages
English (en)
Inventor
Christian Belouet
クリスチアン・ブルエ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alcatel Lucent SAS
Original Assignee
Alcatel Alsthom Compagnie Generale dElectricite
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Alcatel Alsthom Compagnie Generale dElectricite filed Critical Alcatel Alsthom Compagnie Generale dElectricite
Publication of JPH10106878A publication Critical patent/JPH10106878A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
    • H01F41/18—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by cathode sputtering
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/09—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on magneto-optical elements, e.g. exhibiting Faraday effect
    • G02F1/095—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on magneto-optical elements, e.g. exhibiting Faraday effect in an optical waveguide structure
    • G02F1/0955—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on magneto-optical elements, e.g. exhibiting Faraday effect in an optical waveguide structure used as non-reciprocal devices, e.g. optical isolators, circulators
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/26—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by the substrate or intermediate layers
    • H01F10/28—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by the substrate or intermediate layers characterised by the composition of the substrate
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
    • H01F41/18—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by cathode sputtering
    • H01F41/186—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by cathode sputtering for applying a magnetic garnet film

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 既存の直接析出方法と比較して膜の結晶配向
がきわめて顕著に改善された、ＹＩＧコア導波路型要素
上に電磁膜を直接析出する方法を提供する。 【解決手段】 所定の配向を有さない核を粉砕すること
により、強磁性膜（１６）の結晶配向を前記の所定の配
向に限定して強磁性膜（１６）を導波路（９）上に直接
析出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、導波路の表面上に
強磁性薄膜を析出する方法、および前記方法により析出
された強磁性薄膜を有する導波路を含む磁気光学装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気光学アイソレータは、波がその発生
源に向かって反射するのを最大限に制限するのにとくに
使用される。ファラデー効果磁気光学アイソレータは、
ファラデー回転の原理、すなわち一定方向の飽和磁化Ｙ
ＩＧ導波路型要素内の波の偏光方向の回転に基づく動作
は以下のとおりである。発生した波は、発生した波の偏
光に平行な向きに向けられた偏光子１を通る。次にファ
ラデー回転型要素を通過する。その結果、波の偏光が４
５°回転する。出力部では、偏光子から４５°オフセッ
トした検光子を波が通過する。反射波は、ファラデー回
転要素内を反対方向に通過し、反射波の偏光は４５°回
転する。したがって反射波は偏光子１の方向に対し９０
°の角度（進行方向において＋４５°、戻りにおいて＋
４５°）をなす偏光を有する。このため、反射波は偏光
子によって停止され、発生源には影響を及ぼさない。
【０００３】ファラデー回転要素内でファラデー効果を
得るためには、波の伝播方向と平行な方向の磁界内にこ
の要素を入れることが必要である。この飽和磁界を発生
させるために、ＹＩＧコア導波路型要素を、波の伝播方
向において、前記ＹＩＧコア導波路型要素を飽和点まで
磁化するのに十分であって適当な方向の磁界を発生する
磁気膜で取り囲む。
【０００４】磁気膜を作製する一つの方法は、基板上
で、ＳｍＣｏ、ＦｅＣｏ型あるいはそれと同等の多結晶
構造の膜を成長させ、膜のエピタキシャル成長特性を促
進することから成る。基板はたとえばＧａＡｓまたはコ
リドンＡｌ2Ｏ3である。
【０００５】第二段階では、できた膜を化学的分離（エ
ピタキシャルリフトオフ）により基板から分離する。
【０００６】最後に、分離した膜をＹＩＧコア導波路型
要素に設置し、ファンデルワールス力、または樹脂を使
用する接着剤により接着する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】この方法の段階数のた
め、これら磁気光学アイソレータの大量生産には適さな
い生産コストが生じる。また、膜付加方法では、膜を受
けるための要素は幾何学的に単純な外表面を有すること
が必要である。これによって導波路の幾何学的構造が著
しく制限される。
【０００８】他の方法は、ＹＩＧコア導波路型要素上で
膜を直接成長させることから成る。しかしながら、導波
路型要素の外部層は、Ａｌ2Ｏ3またはＧａＡｓよりも膜
のエピタキシャル成長にとって不利な材料から成る。結
果として生じる磁界は振幅および／または方向において
一様ではない。そのため、磁気光学導波路のあらゆる点
においてその飽和点までの磁化が保証されるわけではな
く、アイソレータの絶縁特性には限度がある。
【０００９】本発明の一つの目的は、既存の直接析出方
法と比較して膜の結晶配向がきわめて顕著に改善され
た、ＹＩＧコア導波路型要素上に磁気膜を直接析出する
方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この目的のため、本発明
は、強磁性膜を導波路上に直接析出する、導波路の表面
上に強磁性薄膜を析出する方法に関する。本発明によれ
ば、所定の配向を有さない核を粉砕することにより、強
磁性膜の結晶配向を前記の所定の配向（導波路に平行な
供給方向）に限定する。
【００１１】本方法によれば、表面のイオン衝撃と組み
合わせた蒸気相物理的析出方法により、強磁性材料を導
波路の外表面に析出する。
【００１２】同時に、薄膜が所定の結晶方向を有するよ
うにチャネル化入射角で、前記外表面にイオンビームを
照射し、所定の結晶組織とは異なる結晶組織で形成され
る核がイオンビームによって粉砕されるように、イオン
ビームのエネルギーを（数十電子ボルトから数百電子ボ
ルトまで）調節する。
【００１３】本方法の実施の形態によれば、強磁性材料
の析出に先立ち、強磁性膜の付着を促進する材料のサブ
ミクロンバッファ層を析出する。
【００１４】有利には、この付着サブミクロン層は、導
波路上への付着に最適な材料から始まる組成勾配を有す
ることができる。
【００１５】本発明はまた、前述の方法に従って磁性膜
が析出されたファラデー回転磁気光学アイソレータにも
関する。
【００１６】本発明の長所は、磁性膜の平均結晶配向が
顕著に改善されることによって生じる。
【００１７】結果として生じる磁界は、振幅および方向
の均質性が向上する。アイソレータの減衰量は、先行技
術のアイソレータに比べ増加する。
【００１８】さらに、バッファ層を導波路要素上に直接
析出することにより、磁性膜によって導波路要素上で発
生する機械的応力を変更することができ、したがって、
導波路の形状の複屈折の種々の発生源からの総体的線形
複屈折、導波路要素（基板も含む）を構成する全層間の
種々の結晶パラメータにより生じる応力にともなう複屈
折、導波路要素（基板も含む）の各層について異なる熱
膨張係数によって生じる応力にともなう複屈折をより良
く制御することが可能となる。
【００１９】複屈折現象により、入射波の楕円形偏光が
生じ、その結果、反射波は偏光子によって完全には阻止
されない。
【００２０】導波路内の線形複屈折が減少することによ
り、この効果が減少し、したがって磁気光学アイソレー
タの絶縁特性が向上する。
【００２１】本発明の他の長所および特徴は、添付の図
面を参照して行う以下の説明から明らかになろう。
【００２２】
【発明の実施の形態】磁気光学アイソレータは、発生源
３が発する波２の偏光Ｐ１に平行な方向に向けられた偏
光子１と、磁気膜５に囲まれたＹＩＧコア導波路型要素
４と、偏光子１から４５°オフセットした検光子６とを
含む。
【００２３】動作は以下のとおりである。図示しない発
生源が発する偏光Ｐ１を有する波２は、Ｐ１に配向され
た偏光子１を通り、次にファラデー回転型要素４を通過
する。その結果、波２の偏光が４５°回転し、偏光Ｐ１
から偏光Ｐ２に移行する。
【００２４】出力部では、偏光子１から４５°オフセッ
トした、すなわちＰ２に従った検光子６を波２が通過す
る。
【００２５】反射波７に関しては、４５°の偏光Ｐ２を
有する波８のみが検光子６を通過し、他の波は阻止され
る。これら反射波８は、ファラデー回転要素４内を反対
方向に通過する。その結果、出力部では、偏光子１の方
向Ｐ１に対し９０°の角度をなす偏光Ｐ３を有する。
【００２６】このため、反射波８は偏光子１によって停
止され、発生源３には影響を及ぼさない。
【００２７】本発明は、強磁性膜１６を導波路９上に直
接析出する、導波路９の表面上に強磁性薄膜１６を析出
する方法に関する。本発明によれば、所定の配向を有さ
ない核を粉砕することにより、強磁性膜１６の結晶配向
を前記の所定の配向に限定する。
【００２８】本方法によれば、蒸気相物理的析出方法に
より、強磁性材料を導波路の外表面に析出する。
【００２９】同時に、所定の結晶組織を促進する入射角
で、前記外表面にイオンビームを照射し、所定の結晶組
織とは異なる結晶組織で形成される核がイオンビームに
よって粉砕されるように、イオンビームのエネルギーを
調節する。
【００３０】本発明の実施の形態によれば、強磁性材料
の析出に先立ち、強磁性膜１６の付着を促進する材料の
サブミクロン層１５を析出する。
【００３１】有利には、この付着サブミクロン層１５
は、導波路上への付着に最適な材料から始まって、強磁
性膜１６に近い組成までの組成勾配を有することができ
る。
【００３２】本発明はまた、前述の方法に従って磁性膜
１６が析出されたファラデー回転磁気光学アイソレータ
２０にも関する。
【００３３】非限定的な実施の形態では、磁気光学アイ
ソレータ２０は、 − たとえばＧＧＧの基板１０と、 − たとえばＲＥ−ＩＧのバッファ層１１と、 − たとえば（Ｂｉ−Ｇａ）ＹＩＧの中間層１２と、 − たとえば（Ｂｉ−Ｇａ）ＹＩＧの導波路１７を有す
る能動層１３と、 − たとえばＳｉＯ2またはＳｉ3Ｎ4の絶縁被覆層１４
（導波路の不可欠構成部分）と、 − 組成勾配を有する付着サブミクロン層１５と、 − たとえばＳｍＣｏを主組成とする磁気層１６とを含
む導波路９を含むことができる。
【００３４】もちろん本発明は、説明し図示した応用ま
たは実施の形態に限定されるものではなく、本発明から
逸脱することなく、当業者にとって実現可能な多くの変
形例が可能である。とくに、ＹＩＧコア導波路の形状
は、本発明の範囲から逸脱することなく種々の形状をと
ることができる。同様に、磁性膜を構成する材料も、本
発明の範囲から逸脱することなく変更することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】ファラデー回転型アイソレータの略図である。
【図２】本発明による磁気光学アイソレータの実施の形
態を構成する層の略図である。
【符号の説明】
１ 偏光子 ２ 波 ４ ファラデー回転型要素 ５ 磁気膜 ６ 検光子 ７、８ 反射波 ９ 導波路 １０ 基板 １１ バッファ層 １２ 中間層 １３ 能動層 １４ 絶縁被覆層 １５ サブミクロン層 １６ 強磁性膜 １７ ＹＩＧ導波路 ２０ ファラデー回転磁気光学アイソレータ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 導波路（９）の表面上に強磁性薄膜（１
    ６）を析出する方法であって、所定の配向を有さない核
    を粉砕することにより、強磁性膜（１６）の結晶配向を
    前記所定の配向に限定することを特徴とする強磁性膜
    （１６）を導波路（９）上に直接析出する方法。
  2. 【請求項２】 蒸気相物理的析出方法により、強磁性材
    料を導波路（９）の外表面に析出し、 同時に、所定の結晶組織を促進する入射角で、前記外表
    面にイオンビームを照射し、 所定の結晶組織とは異なる結晶組織で形成される核が前
    記イオンビームによって粉砕されるように、該イオンビ
    ームのエネルギーを調節することを特徴とする請求項１
    に記載の方法。
  3. 【請求項３】 前記強磁性材料の析出に先立ち、前記強
    磁性膜（１６）の付着を促進する材料のサブミクロン層
    （１５）を析出することを特徴とする請求項２に記載の
    方法。
  4. 【請求項４】 前記付着サブミクロン層（１５）が、導
    波路（９）上への付着に最適な材料から始まり、前記強
    磁性膜（１６）に近い組成までの組成勾配を有すること
    を特徴とする請求項３に記載の方法。
  5. 【請求項５】 請求項１から４のいずれか一項に記載の
    方法に従って磁気膜が析出されたことを特徴とするＹＩ
    Ｇコア（１３、１４）導波路（９）および磁気膜（１
    ６）を含むファラデー回転磁気光学アイソレータ。
JP9254863A 1996-09-19 1997-09-19 導波路の表面上に強磁性膜を析出する方法、および本方法により析出された強磁性薄膜を含む磁気光学装置 Pending JPH10106878A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9611425A FR2753567B1 (fr) 1996-09-19 1996-09-19 Procede de depot d'un film ferromagnetique sur un guide d'onde, et un composant magneto-optique comprenant un film mince ferromagnetique depose selon le procede
FR9611425 1996-09-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10106878A true JPH10106878A (ja) 1998-04-24

Family

ID=9495885

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9254863A Pending JPH10106878A (ja) 1996-09-19 1997-09-19 導波路の表面上に強磁性膜を析出する方法、および本方法により析出された強磁性薄膜を含む磁気光学装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6103010A (ja)
EP (1) EP0831354A1 (ja)
JP (1) JPH10106878A (ja)
CA (1) CA2214482A1 (ja)
FR (1) FR2753567B1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007522520A (ja) * 2004-02-12 2007-08-09 パノラマ ラブズ ピーティーワイ リミテッド 再帰ゾーンを含む構造化された導波管のための装置、方法及びコンピュータプログラム製品

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6605321B1 (en) * 2000-07-20 2003-08-12 Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) Method of treating materials by irradiation
US6515789B1 (en) 2000-08-16 2003-02-04 Corvis Corporation Compact optical assembly systems and devices for use in optical communication networks
US20050014295A1 (en) * 2003-07-16 2005-01-20 Manish Sharma Method of manufacture of a magneto-resistive device
US20060056793A1 (en) * 2004-02-12 2006-03-16 Panorama Flat Ltd. System, method, and computer program product for structured waveguide including nonlinear effects
US20050201679A1 (en) * 2004-02-12 2005-09-15 Panorama Flat Ltd. System, method, and computer program product for structured waveguide including modified output regions
US20050180674A1 (en) * 2004-02-12 2005-08-18 Panorama Flat Ltd. Faraday structured waveguide display
US20050180722A1 (en) * 2004-02-12 2005-08-18 Panorama Flat Ltd. Apparatus, method, and computer program product for structured waveguide transport
US7099547B2 (en) * 2004-02-12 2006-08-29 Panorama Labs Pty Ltd Apparatus, method, and computer program product for structured waveguide transport using microbubbles
US20050180673A1 (en) * 2004-02-12 2005-08-18 Panorama Flat Ltd. Faraday structured waveguide
US20050201705A1 (en) * 2004-02-12 2005-09-15 Panorama Flat Ltd. Apparatus, method, and computer program product for structured waveguide including recursion zone
US20050180675A1 (en) * 2004-02-12 2005-08-18 Panorama Flat Limited, A Western Australia Corporation Apparatus, method, and computer program product for structured waveguide including performance_enhancing bounding region
US20050201651A1 (en) * 2004-02-12 2005-09-15 Panorama Flat Ltd. Apparatus, method, and computer program product for integrated influencer element
US20050201654A1 (en) * 2004-02-12 2005-09-15 Panorama Flat Ltd. Apparatus, method, and computer program product for substrated waveguided display system
US20050180723A1 (en) * 2004-02-12 2005-08-18 Panorama Flat Ltd. Apparatus, method, and computer program product for structured waveguide including holding bounding region
US7254287B2 (en) * 2004-02-12 2007-08-07 Panorama Labs, Pty Ltd. Apparatus, method, and computer program product for transverse waveguided display system
US20050180672A1 (en) * 2004-02-12 2005-08-18 Panorama Flat Ltd. Apparatus, Method, and Computer Program Product For Multicolor Structured Waveguide
US20060056792A1 (en) * 2004-02-12 2006-03-16 Panorama Flat Ltd. System, method, and computer program product for structured waveguide including intra/inter contacting regions
US20050185877A1 (en) * 2004-02-12 2005-08-25 Panorama Flat Ltd. Apparatus, Method, and Computer Program Product For Structured Waveguide Switching Matrix
US20060056794A1 (en) * 2004-02-12 2006-03-16 Panorama Flat Ltd. System, method, and computer program product for componentized displays using structured waveguides
US7224854B2 (en) * 2004-02-12 2007-05-29 Panorama Labs Pty. Ltd. System, method, and computer program product for structured waveguide including polarizer region
US20050201698A1 (en) * 2004-02-12 2005-09-15 Panorama Flat Ltd. System, method, and computer program product for faceplate for structured waveguide system
US9829728B2 (en) 2015-11-19 2017-11-28 Massachusetts Institute Of Technology Method for forming magneto-optical films for integrated photonic devices
US10529290B1 (en) * 2018-02-27 2020-01-07 Facebook Technologies, Llc Non-uniformly patterned photonic crystal structures with quantum dots for pixelated color conversion
US10503007B1 (en) 2018-02-27 2019-12-10 Facebook Technologies, Llc Directional color conversion using photonic crystals with quantum dots

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3865625A (en) * 1972-10-13 1975-02-11 Bell Telephone Labor Inc Molecular beam epitaxy shadowing technique for fabricating dielectric optical waveguides
JPS5814644B2 (ja) * 1975-05-14 1983-03-22 松下電器産業株式会社 ヒカリデンソウロノセイゾウホウホウ
CA1148655A (en) * 1979-02-23 1983-06-21 Toshinori Takagi Magnetic recording medium and process for production thereof
US4888202A (en) * 1986-07-31 1989-12-19 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Method of manufacturing thin compound oxide film and apparatus for manufacturing thin oxide film
US4925700A (en) * 1988-10-28 1990-05-15 International Business Machines Corporation Process for fabricating high density disc storage device
EP0400263B1 (en) * 1989-05-31 1994-05-11 International Business Machines Corporation New class of magnetic materials for solid state devices
JP2896193B2 (ja) * 1989-07-27 1999-05-31 株式会社東芝 酸化物結晶配向膜の製造方法及び酸化物結晶配向膜並びに光磁気記録媒体
US5356522A (en) * 1992-02-18 1994-10-18 Hmt Technology Corporation Method for manufacturing thin-film medium with chromium underlayer gradient
US5408565A (en) * 1993-02-22 1995-04-18 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Thin-film magneto-optic polarization rotator
US5616218A (en) * 1994-09-12 1997-04-01 Matereials Research Corporation Modification and selection of the magnetic properties of magnetic recording media through selective control of the crystal texture of the recording layer
US5830270A (en) * 1996-08-05 1998-11-03 Lockheed Martin Energy Systems, Inc. CaTiO3 Interfacial template structure on semiconductor-based material and the growth of electroceramic thin-films in the perovskite class
US5612098A (en) * 1996-08-14 1997-03-18 Read-Rite Corporation Method of forming a thin film magnetic structure having ferromagnetic and antiferromagnetic layers

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007522520A (ja) * 2004-02-12 2007-08-09 パノラマ ラブズ ピーティーワイ リミテッド 再帰ゾーンを含む構造化された導波管のための装置、方法及びコンピュータプログラム製品

Also Published As

Publication number Publication date
FR2753567B1 (fr) 1998-11-13
US6103010A (en) 2000-08-15
EP0831354A1 (fr) 1998-03-25
FR2753567A1 (fr) 1998-03-20
CA2214482A1 (fr) 1998-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10106878A (ja) 導波路の表面上に強磁性膜を析出する方法、および本方法により析出された強磁性薄膜を含む磁気光学装置
US20020063941A1 (en) Magneto-optical member and optical isolator using the same
Levy et al. Integrated optical isolators with sputter-deposited thin-film magnets
US20020154403A1 (en) Photonic crystal optical isolator
JP2815509B2 (ja) 光アッテネータ
JPH08507160A (ja) 薄膜磁気光学偏光回転子
KR20080110767A (ko) 가시광을 갖는 보강된 패러데이 회전을 갖는 자기-광학 광결정 다층 구조
US20100158430A1 (en) Optical device, optical integrated device, and method of manufacturing the same
JP3720616B2 (ja) ファラデー回転角可変装置
US5640516A (en) Faraday rotator
JPH11249095A (ja) ファラデー回転子
JP2001075063A (ja) ファラデー回転子
JP2022057406A (ja) 磁性体薄膜
JP3764825B2 (ja) 光アッテネータ
JPH0961772A (ja) 偏波制御装置
CN110687696B (zh) 一种集成式光隔离器的封装方法以及集成式光隔离器
JPS58169106A (ja) 光アイソレ−タ
Krichevtsov et al. Substrate induced magnetic anisotropies and magneto-optical response in YIG nanosized epitaxial films on NdGG (111)
JP3704429B2 (ja) ファラデー回転角可変装置
JP2636860B2 (ja) 光磁気記録用薄膜の製造方法
US6646783B1 (en) Light modulation device and filter device
JPH0634926A (ja) ファラデー回転子
JP2007322832A (ja) ファラデー回転子、それを用いた光アイソレータ、並びにファラデー回転子の製造方法
JP3472524B2 (ja) 光アッテネータ
JPS5974526A (ja) 光アイソレ−タおよびその製造方法