JPH10105335A - Transparent touch panel - Google Patents

Transparent touch panel

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JPH10105335A
JPH10105335A JP25661796A JP25661796A JPH10105335A JP H10105335 A JPH10105335 A JP H10105335A JP 25661796 A JP25661796 A JP 25661796A JP 25661796 A JP25661796 A JP 25661796A JP H10105335 A JPH10105335 A JP H10105335A
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Japan
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touch panel
transparent
resin sheet
transparent touch
formula
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Tetsuya Kubota
哲哉 久保田
Akihiko Sakai
昭彦 坂井
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Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To avoid a problem accompanying the use of a glass substrate by turning the transparent substrate of at least one transparent electrode plate to the resin sheet of specified thickness and light transmittance obtained by turning a photosetting composition to a sheet shape and photosetting it. SOLUTION: The resin sheet whose thickness is more than 100μm and light transmittance in 550nm is more than 80% obtained by turning the photosetting composition to the sheet shape and photosetting it is used as the transparent substrate. Since the transparent resin sheet is the hardened object of the photosetting composition and bridged, it is generally full of rigidity compared to the thermoplastic resin of the same thickness, however, in the one thinner than 100μm, the rigidity becomes insufficient in the case of being assembled into this transparent touch panel and it is difficult to secure desired flatness. Also, when the light transmittance is less than 80%, lightness becomes insufficient in the case of being assembled into the transparent touch panel. Further, the visibility of display on a display element is deteriorated. Also, the transparent resin sheet is manufactured by irradiating the photosetting composition with light by a normal method and hardening it.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明タッチパネル
に関するものである。詳しくは本発明は、透明な合成樹
脂シートを基板として用いた、透明タッチパネルに関す
るものである。本発明に係る透明タッチパネルは、例え
ば電子手帳、パーソナルコンピュータ、ワードプロセッ
サ、複写機、電話機などに好適に利用される。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent touch panel. More specifically, the present invention relates to a transparent touch panel using a transparent synthetic resin sheet as a substrate. The transparent touch panel according to the present invention is suitably used for, for example, an electronic organizer, a personal computer, a word processor, a copying machine, a telephone, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】透明タッチパネルは、周知のように電子
手帳その他の種々の機器の入力装置に広く用いられてい
る。透明タッチパネルは、透明基板上に透明導電膜を有
する2枚の透明電極板を、その透明導電膜を対向させ且
つ両者間に適宜の間隙を設けて、配置した構造を有して
いる。通常は、透明なガラス基板上に酸化スズを主成分
とする透明導電膜を形成したものを一方の透明電極板と
し、透明な合成樹脂フィルムに同じく酸化スズを主成分
とする透明導電膜を形成したものを他方の透明電極板と
した透明タッチパネルが用いられている。
2. Description of the Related Art As is well known, a transparent touch panel is widely used for an input device of an electronic organizer and other various devices. The transparent touch panel has a structure in which two transparent electrode plates each having a transparent conductive film on a transparent substrate are arranged with the transparent conductive films facing each other and an appropriate gap is provided therebetween. Normally, a transparent conductive film mainly composed of tin oxide is formed on a transparent glass substrate and used as one transparent electrode plate, and a transparent conductive film mainly composed of tin oxide is also formed on a transparent synthetic resin film. A transparent touch panel is used in which the resulting transparent electrode plate is the other.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】透明タッチパネルの一
方の透明電極板を構成するガラス基板は、剛性が大き
く、光透過性とリターデーション値に代表される光学特
性及び表面粗さに代表される表面性に優れているが、比
重が大きく且つ衝撃に弱い点が問題とされている。ガラ
ス基板の有するこれらの欠点の無いものとして、透明な
合成樹脂シートを透明基板として用いることが検討され
ている。しかしながら、最も一般的な熱可塑性樹脂を押
出し成形して得られる樹脂シートは、一般に表面性と光
学特性に問題がある。またガラス基板に比して膜厚が薄
くて剛性に乏しく、透明タッチパネルに組立てた場合
に、平坦性を確保し難い。薄い樹脂シートでも積層すれ
ば所望の剛性を確保できるが、この方法では光学特性に
優れた樹脂シートは得難い。光学特性と表面性に優れた
樹脂シートを得る方法として、溶融キャスティング法が
知られているが、この方法においても、剛性を与えるた
め厚膜化すると、発泡等の欠陥が生じ易く、かつ生産性
が大きく低下するという問題がある。
The glass substrate forming one of the transparent electrode plates of the transparent touch panel has a high rigidity, a surface property represented by optical properties represented by light transmittance and retardation value, and a surface represented by surface roughness. However, it has a problem that it has high specific gravity and is weak against impact. To eliminate these disadvantages of a glass substrate, the use of a transparent synthetic resin sheet as a transparent substrate has been studied. However, resin sheets obtained by extruding the most common thermoplastic resins generally have problems in surface properties and optical properties. Further, the film thickness is thinner than the glass substrate and the rigidity is poor, and it is difficult to secure flatness when assembled on a transparent touch panel. The desired rigidity can be ensured by laminating even thin resin sheets, but it is difficult to obtain a resin sheet having excellent optical characteristics by this method. As a method for obtaining a resin sheet having excellent optical properties and surface properties, a melt casting method is known. However, in this method, when a film is thickened to provide rigidity, defects such as foaming are likely to occur, and productivity is increased. Is greatly reduced.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、光硬化
性組成物をシート状にして光硬化させて得た、厚さが1
00μm以上であり、550nmにおける光透過率が8
0%以上の樹脂シートを透明基板として用いることによ
り、従来のガラス基板の使用に伴う上述の問題を回避し
た透明タッチパネルを製作することができる。
According to the present invention, according to the present invention, a photocurable composition is formed into a sheet and photocured.
And the light transmittance at 550 nm is 8
By using 0% or more of the resin sheet as the transparent substrate, it is possible to manufacture a transparent touch panel that avoids the above-mentioned problems associated with the use of a conventional glass substrate.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明について詳細に説明する
と、本発明で従来のガラス基板の代替として用いる透明
樹脂シートは、厚さが100μm以上であることが必要
である。本発明で用いる透明樹脂シートは光硬化性組成
物の硬化物であって架橋しているので、同じ厚さの熱可
塑性樹脂に比して一般に剛性に富んでいるが、100μ
mよりも薄いものでは透明タッチパネルに組立てた場合
に剛性が不足して所望の平坦性が確保し難い。通常は1
50μm以上、好ましくは200μm以上の厚さのもの
が用いられる。透明樹脂シートの厚さの上限は任意であ
るが、通常は2000μmである。すなわち所望の平坦
性の確保に必要な厚さ以上の膜厚とすることは、樹脂量
の増加、したがって透明タッチパネルの重量とコストの
増加を招くので避けるべきである。一般に、500μm
〜1500μmの厚さのものを用いるのが最も好まし
い。透明樹脂シートの光透過率は、550nmにおいて
80%以上であることが必要である。光透過率が80%
未満では、透明タッチパネルに組立てた場合に明るさが
不足する。また表示素子上の表示の視認性が悪くなる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail. The transparent resin sheet used as a substitute for the conventional glass substrate in the present invention needs to have a thickness of 100 μm or more. Since the transparent resin sheet used in the present invention is a cured product of the photocurable composition and is crosslinked, it is generally richer in rigidity than a thermoplastic resin having the same thickness, but 100 μm.
If the thickness is smaller than m, the rigidity is insufficient when assembled into a transparent touch panel, and it is difficult to secure desired flatness. Usually 1
Those having a thickness of 50 μm or more, preferably 200 μm or more are used. The upper limit of the thickness of the transparent resin sheet is arbitrary, but is usually 2000 μm. That is, it is necessary to avoid setting the film thickness to a thickness equal to or more than the thickness required for securing desired flatness, because it increases the amount of resin, and thus increases the weight and cost of the transparent touch panel. Generally, 500 μm
It is most preferred to use one having a thickness of 1500 μm. The light transmittance of the transparent resin sheet needs to be 80% or more at 550 nm. 80% light transmittance
If it is less than 1, the brightness is insufficient when assembled on a transparent touch panel. Further, the visibility of the display on the display element is deteriorated.

【0006】更に、本発明で用いる透明樹脂シートのリ
ターデーシヨン値(R値)は20nm以下であるのが好
ましい。リターデーション値が大きいと、本発明に係る
透明タッチパネルを液晶表示装置等に組込んだ場合に、
表示斑を生ずるので好ましくない。また透明樹脂シート
の表面粗度(Ra)は0.05μm以下が好ましい。表
面粗度が大きいと、この透明樹脂シート上に形成される
透明導電膜との界面が乱れて表示品質が低下する。特に
微細な表面性の均一さを要求するSTN表示素子と一体
化ないしは組合せた場合には、この表面性の低下が液晶
層を均一な厚みとすることを阻害し、著るしく表示品質
を低下させる。光硬化性組成物をシート状にして光硬化
させる方法によれば、上述のようなリターデーション値
及び表面粗度を有する樹脂シートを得ることは容易であ
る。
Further, the retardation value (R value) of the transparent resin sheet used in the present invention is preferably 20 nm or less. When the retardation value is large, when the transparent touch panel according to the present invention is incorporated in a liquid crystal display device or the like,
This is not preferable because it causes display unevenness. The surface roughness (Ra) of the transparent resin sheet is preferably 0.05 μm or less. If the surface roughness is large, the interface with the transparent conductive film formed on the transparent resin sheet is disturbed, and the display quality is reduced. In particular, when integrated or combined with an STN display element that requires uniformity of fine surface properties, this decrease in surface properties hinders the liquid crystal layer from having a uniform thickness, and significantly lowers display quality. Let it. According to the method in which the photocurable composition is formed into a sheet and photocured, it is easy to obtain a resin sheet having the above-described retardation value and surface roughness.

【0007】本発明で用いる透明樹脂シートは、光硬化
性組成物に常法により光照射して硬化させることにより
製造される。光硬化性組成物としては、エチレン性不飽
和結合を有する重合性成分を主体とし、これに重合開始
剤その他の常用の補助成分を加えたものが用いられる。
重合に際し架橋反応を生起させるため、エチレン性不飽
和結合を有する重合性成分は、少くとも2個のエチレン
性不飽和結合を有するものを含んでいなければならな
い。好ましくは、少なくとも2個のエチレン性不飽和結
合を有する化合物を重合性成分の主体とする光硬化性組
成物を用いる。特に好ましいものは、少くとも2個の
(メタ)アクリル酸エステル基を有する化合物を重合性
成分の主体とするものである。例えば下記の(1)式又
は(2)式で示されるビス(メタ)アクリレートを主体
とするものが好んで用いられる。
The transparent resin sheet used in the present invention is produced by irradiating the photocurable composition with light by a conventional method to cure the composition. As the photocurable composition, a composition mainly composed of a polymerizable component having an ethylenically unsaturated bond and further added with a polymerization initiator and other commonly used auxiliary components is used.
In order to cause a cross-linking reaction during polymerization, the polymerizable component having an ethylenically unsaturated bond must include one having at least two ethylenically unsaturated bonds. Preferably, a photocurable composition mainly containing a compound having at least two ethylenically unsaturated bonds as a polymerizable component is used. Particularly preferred are those having a compound having at least two (meth) acrylate groups as a main component of the polymerizable component. For example, those mainly containing bis (meth) acrylate represented by the following formula (1) or (2) are preferably used.

【0008】[0008]

【化6】 Embedded image

【0009】式中、R1 及びR2 は、互に異っていても
よく、水素原子又はメチル基を示す。R3 は炭素鎖中に
酸素原子及び/又は硫黄原子を有していてもよい炭素数
1〜6の炭化水素基、好ましくは炭素数2〜4のアルキ
レン基を示す。R4 は炭素鎖中に酸素原子及び/又は硫
黄原子を有していてもよい炭素数1〜6の炭化水素基、
好ましくは炭素数1〜3のアルキレン基を示す。Xはハ
ロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜
6のアルコキシ基を示し、aは0〜4の整数を示す。但
しaが2以上の整数の場合には、複数のXは互に異って
いてもよい。
In the formula, R 1 and R 2 may be different from each other and represent a hydrogen atom or a methyl group. R 3 represents a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have an oxygen atom and / or a sulfur atom in a carbon chain, preferably an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms. R 4 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have an oxygen atom and / or a sulfur atom in a carbon chain;
It preferably represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms. X represents a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or 1 to 6 carbon atoms.
6 represents an alkoxy group, and a represents an integer of 0 to 4. However, when a is an integer of 2 or more, a plurality of Xs may be different from each other.

【0010】式(1)で示される化合物のいくつかを例
示すれば、次の通りである。p−ビス(β−メタクリロ
イルオキシエチルチオメチル)ベンゼン、p−ビス(β
−アクリロイルオキシエチルチオメチル)ベンゼン、m
−ビス(β−メタクリロイルオキシエチルチオメチル)
ベンゼン、m−ビス(β−アクリロイルオキシエチルチ
オメチル)ベンゼン、p−ビス(β−メタクリロイルオ
キシエチルオキシエチルチオメチル)ベンゼン、p−ビ
ス(β−メタクリロイルオキシエチルチオエチルチオメ
チル)ベンゼン、p−ビス(β−メタクリロイルオキシ
エチルチオメチル)テトラブロムベンゼン、m−ビス
(β−メタクリロイルオキシエチルチオメチル)テトラ
クロロベンゼン。これらの化合物は、例えば特開昭62
−195357号公報に開示されている方法で合成する
ことができる。
Some examples of the compound represented by the formula (1) are as follows. p-bis (β-methacryloyloxyethylthiomethyl) benzene, p-bis (β
-Acryloyloxyethylthiomethyl) benzene, m
-Bis (β-methacryloyloxyethylthiomethyl)
Benzene, m-bis (β-acryloyloxyethylthiomethyl) benzene, p-bis (β-methacryloyloxyethyloxyethylthiomethyl) benzene, p-bis (β-methacryloyloxyethylthioethylthiomethyl) benzene, p- Bis (β-methacryloyloxyethylthiomethyl) tetrabromobenzene, m-bis (β-methacryloyloxyethylthiomethyl) tetrachlorobenzene. These compounds are disclosed, for example, in
The compound can be synthesized by the method disclosed in JP-A-195357.

【0011】[0011]

【化7】 Embedded image

【0012】式中、R5 及びR6 は、互に異っていても
よく、水素原子又はメチル基を示す。bは1又は2を示
し、cは0又は1を示す。式(2)で示される化合物の
いくつかを例示すれば、次の通りである。ビス(オキシ
メチル)トリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカン=ジ
アクリレート、ビス(オキシメチル)トリシクロ〔5.
2.1.02.6 〕デカン=ジメタクリレート、ビス(オ
キシメチル)トリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカン
=アクリレートメタクリレート、ビス(オキシメチル)
ペンタシクロ〔6.5.1.13.6 2.7 .09.13〕ペ
ンタデカン=ジアクリレート、ビス(オキシメチル)ペ
ンタシクロ〔6.5.1.1.3.6 2.7 .09.13〕ペ
ンタデカン=ジメタクリレート、ビス(オキシメチル)
ペンタシクロ〔6.5.1.1.3.6 2.7.09.13
ペンタデカン=アクリレートメタクリレート。これらの
化合物は、例えば特開昭62−225508号公報に開
示されている方法で合成することができる。
In the formula, R 5 and R 6 may be different from each other and represent a hydrogen atom or a methyl group. b represents 1 or 2, and c represents 0 or 1. Some examples of the compound represented by the formula (2) are as follows. Bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2.6 ] decane = diacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.
2.1.0 2.6 ] decane = dimethacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2.6 ] decane = acrylate methacrylate, bis (oxymethyl)
Pentacyclo [6.5.1.1 3.6 0 2.7. 09.13 ] pentadecane diacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1. 3.6 0 2.7 . 0 9.13 ] pentadecane dimethacrylate, bis (oxymethyl)
Pentacyclo [6.5.1.1. 3.6 0 2.7 . 0 9.13 ]
Pentadecane acrylate methacrylate. These compounds can be synthesized, for example, by the method disclosed in JP-A-62-225508.

【0013】上記で例示した式(1)で示される化合物
及び式(2)で示される化合物は、単独で用いてもよ
く、また混合して用いてもよい。混合して用いる場合に
は、式(1)で示される化合物同志または式(2)で示
される化合物同志を混合してもよく、また所望ならば式
(1)で示される化合物と式(2)で示される化合物と
を混合して用いることもできる。式(1)で示される化
合物は、ナトリウムのD線(589.3nm)に対し
て、室温で1.54〜1.65と比較的高い屈折率を示
す樹脂シートを与える。また式(2)で示される化合物
は同じ条件下で1.47〜1.51と比較的低い屈折率
を示す樹脂シートを与える。従って両者を混合して用い
ると、1.47〜1.65の間で任意の屈折率を有する
樹脂シートを得ることができる。
The compound represented by the formula (1) and the compound represented by the formula (2) exemplified above may be used alone or as a mixture. When used as a mixture, the compounds represented by the formula (1) or the compounds represented by the formula (2) may be mixed, and if desired, the compound represented by the formula (1) and the compound represented by the formula (2) ) Can also be used as a mixture. The compound represented by the formula (1) gives a resin sheet having a relatively high refractive index of 1.54 to 1.65 at room temperature with respect to the D line of sodium (589.3 nm). The compound represented by the formula (2) gives a resin sheet exhibiting a relatively low refractive index of 1.47 to 1.51 under the same conditions. Therefore, when both are mixed and used, a resin sheet having an arbitrary refractive index between 1.47 and 1.65 can be obtained.

【0014】さらに、上記の式(1)又は式(2)で示
されるエチレン性不飽和結合を有する化合物には、所望
により他のエチレン性不飽和結合を有する化合物を併用
することができる。しかし、その併用量は、式(1)及
び式(2)で示される化合物から生ずる樹脂シートの特
性を損わないように、式(1)及び式(2)で示される
化合物に対して10重量%以下に止めるのが好ましい。
このような化合物とては、例えば、メチル(メタ)アク
リレート、フェニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート、メタクリロイルオキ
シメチルテトラシクロドデカン、メタクリロイルオキシ
メチルテトラシクロドデセン、エチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレート、2,2−ビス〔4−(β−メタクリ
ロイルオキシエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2′
−ビス〔4−(β−メタクリロイルオキシエトキシ)シ
クロヘキシル〕プロパン、1,4−ビス(メタクリロイ
ルオキシメチル)シクロヘキサン、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレー
ト化合物、スチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼ
ン、α−メチルスチレン等の核や側鎖に置換基を有して
いてもよいスチレンなどが挙げられる。これらのなかで
もメタクリロイルオキシメチルシクロドデカン、2,2
−ビス〔4−(β−メタクリロイルオキシエトキシ)フ
ェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(β−メタクリ
ロイルオキシエトキシ)シクロヘキシル〕プロパン、
1,4−ビス(メタクリロイルオキシメチル)シクロヘ
キサン、およびこれらの混合物が特に好ましい。
The compound having an ethylenically unsaturated bond represented by the above formula (1) or (2) may be used in combination with another compound having an ethylenically unsaturated bond, if desired. However, the amount of the compound represented by the formula (1) and the formula (2) is not more than 10% with respect to the compound represented by the formula (1) and the formula (2) so as not to impair the properties of the resin sheet formed from the compound represented by the formula (1) and the formula (2). It is preferred to keep it below weight%.
Such compounds include, for example, methyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, methacryloyloxymethyltetracyclododecane, methacryloyloxymethyltetracyclododecene, ethylene glycol di ( (Meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2 ′
(Meth) acrylate compounds such as -bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, 1,4-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, styrene, chlorostyrene, and divinyl Examples include styrene such as benzene and α-methylstyrene, which may have a substituent on the nucleus or side chain. Of these, methacryloyloxymethylcyclododecane, 2,2
-Bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane,
1,4-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane and mixtures thereof are particularly preferred.

【0015】光硬化性組成物はメルカプト化合物を含有
しているのが好ましい。メルカプト化合物は連鎖移動剤
として作用するので、重合が均一かつおだやかに進行
し、リターデーション値の小さな樹脂シートが生成す
る。メルカプト化合物としては、2個以上のメルカプト
基を有するものを用いるのが好ましい。このようなメル
カプト化合物を用いると耐熱性を大きく損うことなく、
リターデーション値が小さく、かつ適度の靱性を有する
樹脂シートを得ることができる。メルカプト化合物は、
エチレン性不飽和結合を有する重合性成分に対して通
常、25重量%以下、好ましくは1〜10重量%となる
ように用いる。メルカプト化合物の比率が大きくなりす
ぎると、得られる樹脂シートの耐熱性が低下する。光硬
化性組成物に含有させるメルカプト化合物としては、下
記の式(3)〜式(5)で示されるものが好ましい。
The photocurable composition preferably contains a mercapto compound. Since the mercapto compound acts as a chain transfer agent, polymerization proceeds uniformly and gently, and a resin sheet having a small retardation value is generated. As the mercapto compound, a compound having two or more mercapto groups is preferably used. When using such a mercapto compound, without significantly impairing the heat resistance,
A resin sheet having a small retardation value and appropriate toughness can be obtained. Mercapto compounds are
It is used usually in an amount of 25% by weight or less, preferably 1 to 10% by weight, based on the polymerizable component having an ethylenically unsaturated bond. When the ratio of the mercapto compound is too large, the heat resistance of the obtained resin sheet is reduced. As the mercapto compound to be contained in the photocurable composition, those represented by the following formulas (3) to (5) are preferable.

【0016】[0016]

【化8】 Embedded image

【0017】式中、複数のR7 は互に異っていてもよ
く、それぞれメチレン基又はエチレン基を示す。R8
炭素鎖中に酸素原子及び/又は硫黄原子を含んでいても
よい炭素数2〜15、好ましくは2〜6の炭化水素残基
を示す。dは2〜6の整数を示す。すなわち式(3)で
示される化合物は、チオグリコール酸又はチオプロピオ
ン酸とポリオールとのジエステル〜ヘキサエステルであ
る。そのいくつかを例示すると、ペンタエリスリトール
テトラキス(β−チオプロピオネート)、ペンタエリス
リトールテトラキス(チオグリコレート)、トリメチロ
ールプロパントリス(β−チオプロピオネート)、トリ
メチロールプロパントリス(チオグリコレート)、ジエ
チレングリコールビス(β−チオプロピオネート)、ジ
エチレングリコールビス(チオグリコレート)、トリエ
チレングリコールビス(β−チオプロピオネート)、ト
リエチレングリコールビス(チオグリコレート)、ジペ
ンタエリスリトールヘキサキス(β−チオプロピオネー
ト)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(チオグリコ
レート)などが挙げられる。
In the formula, a plurality of R 7 may be different from each other and each represents a methylene group or an ethylene group. R 8 is 2 to 15 carbon atoms which may contain an oxygen atom and / or sulfur atom in the carbon chain, preferably a hydrocarbon residue of 2-6. d shows the integer of 2-6. That is, the compound represented by the formula (3) is a diester to hexaester of thioglycolic acid or thiopropionic acid and a polyol. Some examples are pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), trimethylolpropane tris (β-thiopropionate), and trimethylolpropane tris (thioglycolate). , Diethylene glycol bis (β-thiopropionate), diethylene glycol bis (thioglycolate), triethylene glycol bis (β-thiopropionate), triethylene glycol bis (thioglycolate), dipentaerythritol hexakis (β -Thiopropionate), dipentaerythritol hexakis (thioglycolate) and the like.

【0018】[0018]

【化9】 Embedded image

【0019】式中、Yは互に異っていてもよく、HS−
(CH2 e −(CO)(OCH2−CH2 f −(C
2 g −を示す。但しeは1〜4の整数、fは1〜4
の整数、gは0〜2の整数をそれぞれ示す。すなわち式
(4)の化合物はω−SH基含有トリイソシアヌレート
である。そのいくつかを例示すると、トリス〔2−(β
−チオプロピオニルオキシ)エチル〕イソシアヌレー
ト、トリス(2−チオグリコニルオキシエチル)イソシ
アヌレート、トリス〔2−(β−チオプロピオニルオキ
シエトキシ)エチル〕イソシアヌレート、トリス(2−
チオグリコニルオキシエトキシエチル)イソシアヌレー
ト、トリス〔3−(β−チオプロピオニルオキシ)プロ
ピル〕イソシアヌレート、トリス(3−チオグリコニル
オキシプロピル)イソシアヌレートなどが挙げられる。
In the formula, Y may be different from each other, and HS-
(CH 2) e - (CO ) (OCH 2 -CH 2) f - (C
H 2 ) g −. Where e is an integer of 1 to 4, f is 1 to 4
And g represents an integer of 0 to 2, respectively. That is, the compound of the formula (4) is a ω-SH group-containing triisocyanurate. Some examples are Tris [2- (β
-Thiopropionyloxy) ethyl] isocyanurate, tris (2-thioglyconyloxyethyl) isocyanurate, tris [2- (β-thiopropionyloxyethoxy) ethyl] isocyanurate, tris (2-
Thioglyconyloxyethoxyethyl) isocyanurate, tris [3- (β-thiopropionyloxy) propyl] isocyanurate, tris (3-thioglyconyloxypropyl) isocyanurate, and the like.

【0020】[0020]

【化10】 Embedded image

【0021】式中、R9 及びR10は、互に異っていても
よく、炭素数1〜3の炭化水素基を示す。m及びnはそ
れぞれ0又は1を示す。pは1又は2を示す。すなわち
式(5)の化合物はα,ω−SH基含有化合物である。
そのいくつかを例示すると、ベンゼンジメルカプタン、
キシリレンジメルカプタン、4,4′−ジメルカプトジ
フェニルスルフィドなどが挙げられる。
In the formula, R 9 and R 10 may be different from each other and represent a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms. m and n each represent 0 or 1. p represents 1 or 2. That is, the compound of the formula (5) is an α, ω-SH group-containing compound.
Some examples are benzenedimercaptan,
Xylylene dimercaptan, 4,4'-dimercaptodiphenyl sulfide, and the like.

【0022】光硬化性組成物中には、通常は紫外線等の
活性エネルギー線によりラジカルを発生する光重合開始
剤が含まれる。通常用いられる光重合開始剤としては、
例えばベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェ
ノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキ
シド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキシド等が挙げられる。好ましくは、2,
4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キシド、又はベンゾフェノンが用いられる。これらの光
重合開始剤は単独で用いてもよく、また2種以上併用す
ることもできる。光重合開始剤は、エチレン性不飽和結
合を有する化合物に対し、通常0.01〜1重量%、好
ましくは0.02〜0.3重量%となるように用いる。
重合開始剤の量が多過ぎると、重合が急激に進行して、
往々にしてリターデーション値の大きな樹脂シートを与
える。
The photocurable composition usually contains a photopolymerization initiator which generates radicals by active energy rays such as ultraviolet rays. As a commonly used photopolymerization initiator,
For example, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone,
Examples thereof include 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide. Preferably, 2,
4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide or benzophenone is used. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. The photopolymerization initiator is used in an amount of usually 0.01 to 1% by weight, preferably 0.02 to 0.3% by weight, based on the compound having an ethylenically unsaturated bond.
If the amount of the polymerization initiator is too large, the polymerization proceeds rapidly,
Often, a resin sheet having a large retardation value is provided.

【0023】光硬化性組成物中には、さらに常用の添加
剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料や充填剤
などを含有させてもよい。光硬化性組成物からの樹脂シ
ートの作成は常法に従って行うことができる。通常は少
くとも一面が活性エネルギー線を透過可能な、2枚の平
板を対向させて形成した偏平なキャビティを有する成形
型に光硬化性組成物を注入し、活性エネルギー線を照射
して重合させればよい。キャビティの深さは、樹脂シー
トに要求される厚さと等しくすればよい。成形型は、活
性エネルギー線に対して十分な透過性を有し、熱変形し
難く、かつ表面性の良好な樹脂シートを与える研磨ガラ
スを用いて構成するのが好ましいが、アクリル板などで
構成することもできる。また、成形型には、剥離剤を塗
布したり、剥離層を蒸着させたりして、生成した樹脂シ
ートを成形型から取出し易くする処理を行っておくこと
も好ましい。
The photocurable composition may further contain conventional additives such as antioxidants, ultraviolet absorbers, dyes and pigments, and fillers. Preparation of the resin sheet from the photocurable composition can be performed according to a conventional method. Usually, a photocurable composition is injected into a mold having a flat cavity formed by facing two flat plates, at least one surface of which is capable of transmitting active energy rays, and is irradiated with active energy rays to polymerize. Just do it. The depth of the cavity may be equal to the thickness required for the resin sheet. The mold is preferably made of polished glass which has sufficient permeability to active energy rays, is hardly thermally deformed, and gives a resin sheet having good surface properties, but is preferably made of an acrylic plate, etc. You can also. It is also preferable that the mold is subjected to a process of applying a release agent or depositing a release layer to facilitate the removal of the formed resin sheet from the mold.

【0024】照射する活性エネルギー線としては、通常
は紫外線、特に200〜400nmの紫外線が用いられ
る。照射量は、光硬化性組成物中の重合性成分の種類、
光重合開始剤の種類や量に応じて、適宜調節すればよ
い。また、硬化をすみやかに完了させるために熱重合を
併用してもよい。この場合には、光照射と同時に光硬化
性組成物を30〜300℃に加熱する。また、光硬化性
組成物中に、ベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピル
パーオキシカーボネート、t−ブチルパーオキシ(2−
エチルヘキサノエート)等の熱重合開始剤を添加してお
いてもよい。その量は重合性成分に対して1重量%以下
が好ましく、使用量が多過ぎると、生成する樹脂シート
のリターデーション値が大きくなる。更に、活性エネル
ギー線の照射により生成した樹脂シートを加熱して、重
合反応の完結及び重合時に発生する内部歪を低減させる
こともできる。加熱温度は、光硬化性組成物の組成や生
成した樹脂シートのガラス転移温度に応じて適宜選択さ
れるが、通常はガラス転移温度付近かそれ以下が好まし
い。
As the active energy ray to be irradiated, ultraviolet rays, particularly, ultraviolet rays of 200 to 400 nm are used. Irradiation amount, the type of polymerizable component in the photocurable composition,
What is necessary is just to adjust suitably according to the kind and quantity of a photoinitiator. Further, thermal polymerization may be used in combination to quickly complete the curing. In this case, the photocurable composition is heated to 30 to 300 ° C. simultaneously with light irradiation. In addition, benzoyl peroxide, diisopropyl peroxycarbonate, t-butyl peroxy (2-
A thermal polymerization initiator such as ethylhexanoate) may be added. The amount is preferably 1% by weight or less based on the polymerizable component. If the amount is too large, the retardation value of the resulting resin sheet becomes large. Furthermore, the resin sheet generated by the irradiation of the active energy ray can be heated to complete the polymerization reaction and reduce internal strain generated during the polymerization. The heating temperature is appropriately selected depending on the composition of the photocurable composition and the glass transition temperature of the formed resin sheet, but is usually preferably around the glass transition temperature or lower.

【0025】このようにして得られた透明樹脂シート
に、常法により透明導電膜を形成して透明電極板とす
る。通常は、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムス
ズ酸化物、金、銀、パラジウム等の透明導電性物質を、
スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等に
より樹脂シートの一面に蒸着させればよい。なお、透明
樹脂シートには、酸素及び水蒸気を遮断するガスバリア
層を設けておくのが好ましい。ガスバリア層は、樹脂シ
ートの透明導電膜を形成する面に設けてもよく、またそ
の反対側に設けてもよい。すなわちガスバリア層の上に
透明導電膜を形成してもよい。ガスバリア層を設けてお
くと、タッチパネルを液晶表示素子と一体化又はこれと
組合せて用いる場合に、液晶部に気泡が生成したり、液
晶が劣化したりするのを防止することができる。
On the transparent resin sheet thus obtained, a transparent conductive film is formed by a conventional method to obtain a transparent electrode plate. Normally, transparent conductive materials such as indium oxide, tin oxide, indium tin oxide, gold, silver, palladium,
What is necessary is just to vapor-deposit on one surface of a resin sheet by sputtering, vacuum vapor deposition, ion plating, etc. Preferably, the transparent resin sheet is provided with a gas barrier layer that blocks oxygen and water vapor. The gas barrier layer may be provided on the surface of the resin sheet on which the transparent conductive film is formed, or may be provided on the opposite side. That is, a transparent conductive film may be formed on the gas barrier layer. By providing the gas barrier layer, when the touch panel is integrated with the liquid crystal display element or used in combination with the liquid crystal display element, generation of bubbles in the liquid crystal portion and deterioration of the liquid crystal can be prevented.

【0026】ガスバリア層としては、エチレン−ビニル
アルコール共重合体や塩化ビニリデン等を樹脂シートに
塗布して形成したものであってもよいが、SiOx (x
=1.5〜2)で表わされる酸化ケイ素や酸化アルミニ
ウム、またはこれらの混合物などの無機酸化物の蒸着膜
が好ましい。これらの蒸着膜は、真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法、CVD法など、従
来から用いられている方法により、容易に形成すること
ができる。なお、樹脂シート、ガスバリア層、透明導電
膜の間には、相互の密着性を向上させるため、従来から
用いられているアンダーコート剤やトップコート剤など
の塗布層を設けてもよい。
[0026] As the gas barrier layer, an ethylene - vinyl alcohol copolymer and vinylidene chloride may be formed by coating a resin sheet but, SiO x (x
= 1.5 to 2), a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide, or a mixture thereof is preferable. These deposited films can be easily formed by a conventionally used method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a CVD method. Note that a conventionally used coating layer such as an undercoat agent or a top coat agent may be provided between the resin sheet, the gas barrier layer, and the transparent conductive film in order to improve mutual adhesion.

【0027】本発明に係る透明タッチパネルにおいて、
上記で得られた光硬化性組成物から得られた樹脂シート
を基板とする電極板と対向する電極板としては、常用の
ものを用いることができる。その厚さは、入力方法にも
よるが通常100〜700μm、好ましくは150〜3
00μmである。所望ならば上記で得られたものを用い
ることもできる。以下に実施例により本発明をさらに具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。なお、実施例における各項目の評価法
は、以下の通りである。
In the transparent touch panel according to the present invention,
As the electrode plate facing the electrode plate using the resin sheet obtained from the photocurable composition obtained above as a substrate, a commonly used electrode plate can be used. Although its thickness depends on the input method, it is usually 100 to 700 μm, preferably 150 to 3 μm.
00 μm. If desired, those obtained above can be used. Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In addition, the evaluation method of each item in an Example is as follows.

【0028】(1)表面粗度(Ra) 表面粗さ測定器((株)東京精密社製サーフコム575
A)を用い、表面粗度(Ra、単位:μm)を、ダイヤ
モンド針(1μmR、90°円錐)、測定長さ0.5m
m、カットオフ値0.16mm、測定速度0.06mm
/sec、直線補正の条件で測定した。 (2)リタデーション値(R値) 自動複屈折測定装置((株)オーク製作所製ADR−1
50N)を用い、垂直入射によりリターデーション値
(R値、単位:nm)を測定した。 (3)シート厚み シックネスゲージによりシート厚みを測定した。単位:
μm (4)光線透過率 分光光度計((株)日立製作所製)を用い、波長550
nmでの透過率を測定した。 (5)重量 精密上皿天秤を用いて、樹脂シート(アンダーコート
層、導電膜等の形成なし)の重量を測定した。
(1) Surface roughness (Ra) Surface roughness measuring device (Surfcom 575 manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.)
Using A), the surface roughness (Ra, unit: μm) was measured using a diamond needle (1 μmR, 90 ° cone), measurement length 0.5 m.
m, cutoff value 0.16mm, measurement speed 0.06mm
/ Sec, measured under the condition of linear correction. (2) Retardation value (R value) Automatic birefringence measuring device (ADR-1 manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.)
50N) and the retardation value (R value, unit: nm) was measured by perpendicular incidence. (3) Sheet thickness The thickness of the sheet was measured using a thickness gauge. unit:
μm (4) Light transmittance Using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd.), wavelength 550
The transmittance in nm was measured. (5) Weight The weight of the resin sheet (without formation of an undercoat layer, a conductive film, etc.) was measured using a precision precision balance.

【0029】実施例1 幅5mm、厚さ1mmのシリコンゴム製スペーサーを挟
んで2枚の光学研磨ガラス平板(310×410×5m
m)を対向させ、周辺部を接着テープでシールして成形
型を形成した。ビス(オキシメチル)トリシクロ〔5.
2.1.02.6 〕デカンジメタクリレート94重量部、
ペンタエリスリトールテトラキス(β−チオプロピオネ
ート)6重量部、2,4,6−トリメチルベンゾイルジ
フェニルホスフィンオキシド〔BASF社製(ルシリン
TPO)〕0.06重量部、及びベンゾフェノン0.0
4重量部を混合し、攪拌して均一にしたのち脱泡して光
硬化性組成物を調製した。
Example 1 Two optically polished glass plates (310 × 410 × 5 m) sandwiching a silicon rubber spacer having a width of 5 mm and a thickness of 1 mm
m) were opposed to each other, and the peripheral portion was sealed with an adhesive tape to form a molding die. Bis (oxymethyl) tricyclo [5.
2.1.0 2.6 ] decane dimethacrylate 94 parts by weight,
6 parts by weight of pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate), 0.06 parts by weight of 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide [manufactured by BASF (luciline TPO)], and 0.0 of benzophenone
4 parts by weight were mixed, stirred to make uniform, and then defoamed to prepare a photocurable composition.

【0030】上記の成形型にこの光硬化性組成物を注入
し、成形型のそれぞれのガラス面から400mm離して
設置した2個の80W/cmのメタルハライドランプか
ら30分間紫外線を照射して重合反応を行わせた。得ら
れた樹脂シートは、300×400×1.0mmで、表
面粗度(Ra)0.004μm、リターデーション値8
nm、光線透過率90%であり、十分な剛性を有し平坦
性も良好であった。また市販のタッチパネル用光学ガラ
スの密度を約2.5g/cm3 とすると、同じ形状及び
厚さのタッチパネル用ガラス基板より約150g軽量で
ある。この樹脂シートに、インジウム−スズ酸化物を約
1000Åの膜厚となるようにスパッタリングにより蒸
着し、透明電極板を得た。この透明電極板を下部電極板
とし、これに常用の上部電極板を200μmの間隔をお
いて対向配置し、透明タッチパネルを製作した。このも
のはガラス基板を用いたタッチパネルと変らない性能で
あった。
The photocurable composition was poured into the above mold, and irradiated with ultraviolet rays for 30 minutes from two 80 W / cm metal halide lamps placed 400 mm apart from the respective glass surfaces of the mold to carry out the polymerization reaction. Was performed. The obtained resin sheet was 300 × 400 × 1.0 mm, the surface roughness (Ra) was 0.004 μm, and the retardation value was 8
nm, light transmittance 90%, sufficient rigidity, and good flatness. When the density of a commercially available optical glass for a touch panel is about 2.5 g / cm 3 , it is about 150 g lighter than a glass substrate for a touch panel having the same shape and thickness. Indium-tin oxide was deposited on the resin sheet by sputtering so as to have a thickness of about 1000 ° to obtain a transparent electrode plate. This transparent electrode plate was used as a lower electrode plate, and a common upper electrode plate was arranged opposite to this at an interval of 200 μm to produce a transparent touch panel. This had the same performance as a touch panel using a glass substrate.

【0031】実施例2 幅5mm、厚さ0.5mmのテフロン製スペーサーを用
いた以外は、実施例1と同様にして成形型を形成した。
この成形型を用いた以外は実施例1と全く同様にして樹
脂シートを製作した。得られた樹脂シートは、300×
400×0.5mm、表面粗度(Ra)0.004μ
m、リターデーション値5nm、光線透過率91%であ
り、剛性及び平坦性も良好であった。その重量は同じ形
状及び厚さのタッチパネル用ガラス基板よりも約76g
軽量である。この樹脂シートに実施例1と全く同様にし
て厚さ1000Åの透明導電膜を形成し、かつこれを用
いて実施例1と同様の透明タッチパネルを製作した。こ
のものはガラス基板を用いたタッチパネルと変らない性
能であった。
Example 2 A molding die was formed in the same manner as in Example 1 except that a Teflon spacer having a width of 5 mm and a thickness of 0.5 mm was used.
A resin sheet was manufactured in exactly the same manner as in Example 1 except that this mold was used. The obtained resin sheet is 300 ×
400 × 0.5mm, surface roughness (Ra) 0.004μ
m, the retardation value was 5 nm, the light transmittance was 91%, and the rigidity and flatness were good. Its weight is about 76g than the glass substrate for touch panel of the same shape and thickness
Lightweight. A transparent conductive film having a thickness of 1000 mm was formed on this resin sheet in exactly the same manner as in Example 1, and a transparent touch panel similar to that of Example 1 was manufactured using this. This had the same performance as a touch panel using a glass substrate.

【0032】実施例3 実施例1と全く同様にして得られた樹脂シートに、3×
10-5Torrの真空下、SiO(住友シチックス社
製)を高周波誘導加熱方式で蒸着させ、厚さ350Åの
珪素酸化物から成るガスバリア層を形成した。このガス
バリア層上に、実施例1と全く同様にして厚さ約100
0Åのインジウム−スズ酸化物薄膜を形成し、これを用
いて実施例1と同様のタッチパオルを製作した。このも
のはガラス基板を用いたタッチパネルと変らない性能で
あった。
Example 3 A resin sheet obtained in exactly the same manner as in Example 1
Under a vacuum of 10 -5 Torr, SiO (manufactured by Sumitomo Citix Co., Ltd.) was deposited by a high-frequency induction heating method to form a gas barrier layer made of silicon oxide with a thickness of 350 °. On this gas barrier layer, a thickness of about 100
A 0 ° indium-tin oxide thin film was formed, and a touch pawl similar to that of Example 1 was manufactured using the thin film. This had the same performance as a touch panel using a glass substrate.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に透明導電膜を有する2枚の
透明電極板を、その透明電極膜を対向させて配置してな
る透明タッチパネルにおいて、少くとも一方の透明電極
板の透明基板が、光硬化性組成物をシート状にして光硬
化させて得た、厚さが100μm以上であり、550n
mにおける光透過率が80%以上の樹脂シートであるこ
とを特徴とする透明タッチパネル。
1. A transparent touch panel in which two transparent electrode plates having a transparent conductive film on a transparent substrate are arranged with their transparent electrode films facing each other, wherein at least one of the transparent electrode plates has a transparent substrate, The photocurable composition was sheet-shaped and photocured, the thickness was 100 μm or more, and the thickness was 550 n
A transparent touch panel comprising a resin sheet having a light transmittance of 80% or more at m.
【請求項2】 樹脂シートのリターデーション値が20
nm以下であることを特徴とする請求項1記載の透明タ
ッチパネル。
2. A resin sheet having a retardation value of 20.
2. The transparent touch panel according to claim 1, wherein the thickness is equal to or less than nm.
【請求項3】 樹脂シートの表面粗度(Ra)が0.0
5μm以下であることを特徴とする請求項1又は2記載
の透明タッチパネル。
3. The resin sheet having a surface roughness (Ra) of 0.0
The transparent touch panel according to claim 1, wherein the thickness is 5 μm or less.
【請求項4】 光硬化性組成物の重合性成分が、少くと
も2個のエチレン性不飽和結合を有する化合物を主体と
するものであることを特徴とする請求項1ないし3のい
ずれかに記載の透明タッチパネル。
4. The photocurable composition according to claim 1, wherein the polymerizable component is mainly composed of a compound having at least two ethylenically unsaturated bonds. The transparent touch panel as described.
【請求項5】 光硬化性組成物が、少くとも2個の(メ
タ)アクリル酸エステル基を有する化合物を重合性成分
の主体とし、かつメルカプト化合物を含有していること
を特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の透明
タッチパネル。
5. A photocurable composition comprising a compound having at least two (meth) acrylate groups as a main component of a polymerizable component and a mercapto compound. 4. The transparent touch panel according to any one of 1 to 3.
【請求項6】 光硬化性組成物が、下記(1)式又は
(2)式で示されるビス(メタ)アクリレートから選ば
れた化合物を重合性成分の主体とし、かつ重合性成分に
対し25重量%以下の下記(3)式、(4)式又は
(5)式で示されるメルカプト化合物から選ばれた連鎖
移動剤を含有していることを特徴とする請求項5に記載
の透明タッチパネル。 【化1】 式中、R1 及びR2 は、互に異っていてもよく、水素原
子又はメチル基を示す。R3 及びR4 は、互に異ってい
てもよく、炭素鎖中に酸素原子及び/又は硫黄原子を有
していてもよい炭素数1〜6の炭化水素基を示す。Xは
ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基及び炭素数1
〜6のアルコキシ基から選ばれた置換基を示し、aは0
〜4の整数を示す。但しaが2以上の整数の場合には、
複数のXは互に異っていてもよい。 【化2】 式中、R5 及びR6 は、互に異っていてもよく、水素原
子又はメチル基を示す。bは1又は2を示し、cは0又
は1を示す。 【化3】 式中、複数のR7 は互に異っていてもよく、それぞれメ
チレン基又はエチレン基を示す。R8 は炭素鎖中に酸素
原子及び/又は硫黄原子を含んでいてもよい炭素数2〜
15の炭化水素残基を示す。dは2〜6の整数を示す。 【化4】 式中、Yは互に異っていてもよく、HS−(CH2 e
−(CO)(OCH2−CH2 f −(CH2 g −を
示す。但しeは1〜4の整数、fは1〜4の整数、gは
0〜2の整数をそれぞれ示す。 【化5】 式中、R9 及びR10は、互に異っていてもよく、炭素数
1〜3の炭化水素基を示す。m及びnはそれぞれ0又は
1を示す。pは1又は2を示す。
6. A photocurable composition comprising a compound selected from bis (meth) acrylate represented by the following formula (1) or (2) as a main component of a polymerizable component, and 25% based on the polymerizable component. The transparent touch panel according to claim 5, wherein the transparent touch panel contains a chain transfer agent selected from mercapto compounds represented by the following formulas (3), (4) or (5) by weight% or less. Embedded image In the formula, R 1 and R 2 may be different from each other and represent a hydrogen atom or a methyl group. R 3 and R 4 may be different from each other and represent a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have an oxygen atom and / or a sulfur atom in a carbon chain. X represents a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and 1 carbon atom.
And 6 represents a substituent selected from alkoxy groups;
Shows an integer of ~ 4. However, when a is an integer of 2 or more,
A plurality of Xs may be different from each other. Embedded image In the formula, R 5 and R 6 may be different from each other and represent a hydrogen atom or a methyl group. b represents 1 or 2, and c represents 0 or 1. Embedded image In the formula, a plurality of R 7 may be different from each other and each represents a methylene group or an ethylene group. R 8 has 2 to 2 carbon atoms which may contain an oxygen atom and / or a sulfur atom in the carbon chain.
Shows 15 hydrocarbon residues. d shows the integer of 2-6. Embedded image In the formula, Y may be different from each other, and HS- (CH 2 ) e
- (CO) (OCH 2 -CH 2) f - (CH 2) g - shows a. Here, e represents an integer of 1 to 4, f represents an integer of 1 to 4, and g represents an integer of 0 to 2, respectively. Embedded image In the formula, R 9 and R 10 may be different from each other and represent a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms. m and n each represent 0 or 1. p represents 1 or 2.
【請求項7】 樹脂シートがその少くとも一面にガスバ
リアー層を有するものであることを特徴とする請求項1
ないし6のいずれかに記載の透明タッチパネル。
7. The resin sheet according to claim 1, wherein the resin sheet has a gas barrier layer on at least one surface thereof.
7. The transparent touch panel according to any one of items 1 to 6.
【請求項8】 ガスバリアー層が、酸化ケイ素、酸化ア
ルミニウム又はこれらの混合物よりなる蒸着膜であるこ
とを特徴とする請求項7記載の透明タッチパネル。
8. The transparent touch panel according to claim 7, wherein the gas barrier layer is a deposited film made of silicon oxide, aluminum oxide, or a mixture thereof.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003108313A (en) * 2001-09-28 2003-04-11 Gunze Ltd Touch panel and display device
JP2007265440A (en) * 2007-07-06 2007-10-11 Nof Corp Antireflection touch panel
WO2013084872A1 (en) * 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film
JPWO2013084872A1 (en) * 2011-12-05 2015-04-27 日立化成株式会社 Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, touch panel manufacturing method, and resin cured film
US9488912B2 (en) 2011-12-05 2016-11-08 Hitachi Chemical Company, Ltd. Method of forming protective film for touch panel electrode, photosensitive resin composition and photosensitive element, and method of manufacturing touch panel

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003108313A (en) * 2001-09-28 2003-04-11 Gunze Ltd Touch panel and display device
JP2007265440A (en) * 2007-07-06 2007-10-11 Nof Corp Antireflection touch panel
WO2013084872A1 (en) * 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film
JPWO2013084872A1 (en) * 2011-12-05 2015-04-27 日立化成株式会社 Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, touch panel manufacturing method, and resin cured film
US9348223B2 (en) 2011-12-05 2016-05-24 Hitachi Chemical Company, Ltd. Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film
US9488912B2 (en) 2011-12-05 2016-11-08 Hitachi Chemical Company, Ltd. Method of forming protective film for touch panel electrode, photosensitive resin composition and photosensitive element, and method of manufacturing touch panel
US9964849B2 (en) 2011-12-05 2018-05-08 Hitachi Chemical Company, Ltd. Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film
US10042254B2 (en) 2011-12-05 2018-08-07 Hitachi Chemical Company, Ltd. Method of forming protective film for touch panel electrode photosensitive resin composition and photosensitive element, and method of manufacturing touch panel
US10386719B2 (en) 2011-12-05 2019-08-20 Hitachi Chemical Company, Ltd. Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film
US10663861B2 (en) 2011-12-05 2020-05-26 Hitachi Chemical Company, Ltd. Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film

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