JPH10101493A - Bismuth-substituted garnet material and its production - Google Patents
Bismuth-substituted garnet material and its productionInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ファラデー効果を
有する光学用ガーネット材料であるビスマス(Bi)置
換型ガーネット材料及びその製造方法に関し、特に、液
相成長法(LPE法)にて育成したGdBi系ガーネッ
ト及びTbBi系ガーネット単結晶厚膜及びその製造方
法の改良に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bismuth (Bi) -substituted garnet material, which is an optical garnet material having a Faraday effect, and a method for producing the same, and more particularly to GdBi grown by a liquid phase growth method (LPE method). Garnet and TbBi-based garnet single crystal thick film and an improvement in a method for producing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、光通信において、ファラデー回転
を応用したデバイスが開発、実用化されている。光通信
の際、半導体レーザを使用した場合、光ファイバーケー
ブルやコネクタ等からの反射光が半導体レーザ等に戻る
と発振が不安定となる。この不安定性を防止するため
に、光アイソレータが使用されている。2. Description of the Related Art Hitherto, devices using Faraday rotation in optical communication have been developed and put into practical use. At the time of optical communication, when a semiconductor laser is used, oscillation becomes unstable when reflected light from an optical fiber cable, a connector, or the like returns to the semiconductor laser or the like. An optical isolator is used to prevent this instability.
【0003】大きなファラデー回転を持つBi置換型希
土類鉄ガーネットは、LPE法、フラックス法等で育成
され、近赤外領域での光アイソレータに使用されてい
る。特に、LPE法による育成は、生産性に優れている
ので、低価格で光アイソレータ材料の供給を可能として
いる。A Bi-substituted rare earth iron garnet having a large Faraday rotation is grown by an LPE method, a flux method, or the like, and is used as an optical isolator in the near infrared region. In particular, since the growth by the LPE method is excellent in productivity, it is possible to supply an optical isolator material at low cost.
【0004】又、Bi置換型ガーネットの中でも、特
に、GdBi系ガーネット、TbBi系ガーネットは、
印加磁界が約1000Oe以下と小さく、小型の永久磁
石を印加磁場用として利用できる特徴がある。[0004] Among the Bi-substituted garnets, GdBi-based garnets and TbBi-based garnets are
The applied magnetic field is as small as about 1000 Oe or less, and there is a feature that a small permanent magnet can be used for the applied magnetic field.
【0005】ところで、光アイソレータは、順方向の光
に対してはより高い透過率を示し、逆方向の光に対して
は、より低い透過率を示すことが望ましい。したがっ
て、それに使用されるガーネット材料は、ファラデー回
転係数が約1000deg/cm以上と大きく、光透過
率が高い、即ち、光吸収損失が0.3dB以下と低いこ
とが要求される。更に、高性能な光アイソレータには、
挿入損失が0.1dB以下のガーネット材料が要求され
る方向にある。Incidentally, it is desirable that the optical isolator has a higher transmittance for light in the forward direction and a lower transmittance for light in the reverse direction. Therefore, the garnet material used therein is required to have a large Faraday rotation coefficient of about 1000 deg / cm or more and a high light transmittance, that is, a low light absorption loss of 0.3 dB or less. Furthermore, high-performance optical isolators include:
A garnet material having an insertion loss of 0.1 dB or less is required.
【0006】このような光アイソレータ材料に用いられ
るBi置換型ガーネットの液相成長は、次のようにして
行われている。白金るつぼの中に、酸化鉛(PbO)、
酸化ビスマス(Bi2O3)、酸化ホウ素(B2O3)をフ
ラックス成分とし、ガーネット育成成分[酸化ガドリニ
ウム(Gd2O3)、酸化テルビウム(Tb2O3)、酸化
第二鉄(Fe2O3)、酸化アルミニウム(Al2O3)、
酸化ガリウム(Ga2O3)等]を約900〜1000℃
にて溶解して成長用溶液を作製した後、降温して過飽和
状態とする。その溶液の中に、ガーネット基板を浸漬
し、長時間回転させながら、ガーネット結晶厚膜を育成
する。The liquid phase growth of the Bi-substituted garnet used for such an optical isolator material is performed as follows. Lead oxide (PbO) in a platinum crucible,
Bismuth oxide (Bi 2 O 3 ) and boron oxide (B 2 O 3 ) are used as flux components, and garnet growing components [gadolinium oxide (Gd 2 O 3 ), terbium oxide (Tb 2 O 3 ), ferric oxide (Fe) 2 O 3 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ),
Gallium oxide (Ga 2 O 3 ) or the like] at about 900 to 1000 ° C.
After dissolving in the above to prepare a growth solution, the temperature is lowered to a supersaturated state. The garnet substrate is immersed in the solution, and a garnet crystal thick film is grown while rotating for a long time.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】このように、LPE法
により、Bi置換型ガーネットを析出育成する場合、過
飽和成分の濃度管理が極めて重要となり、溶液の温度や
流動状態によって育成ガーネットの組成が変化し、材料
特性も変化することになる。LPE法では、溶液の温度
制御や基板の回転数制御等を実施することにより、結晶
育成状態を管理している。As described above, when the Bi-substituted garnet is deposited and grown by the LPE method, it is very important to control the concentration of the supersaturated component, and the composition of the grown garnet changes depending on the temperature and the flow state of the solution. However, the material properties will also change. In the LPE method, the crystal growth state is managed by controlling the temperature of the solution, controlling the number of rotations of the substrate, and the like.
【0008】しかしながら、析出するガーネットの組成
を十分に制御できる状態には至っていない。したがっ
て、特性のばらつきが生じ、光の透過率が小さくなるた
め、挿入損失が増大することになる。However, the composition of the deposited garnet has not yet been sufficiently controlled. Therefore, variations in characteristics occur, and the light transmittance is reduced, so that the insertion loss is increased.
【0009】そこで、本発明の技術的課題は、LPE法
によって、Bi2O3成分を多量に含有する溶液からBi
2O3を主成分とするBi置換型ガーネットを析出させる
際、材料特性に大きく影響する組成において、ガーネッ
トの主構成成分に、更に元素を適量範囲含有させ、熱処
理することにより、挿入損失を低減したBi置換型ガー
ネット材料及びその製造方法を提供することにある。[0009] Therefore, a technical problem of the present invention is to remove Bi 2 O 3 from a solution containing a large amount of Bi 2 O 3 component by the LPE method.
When depositing a Bi-substituted garnet containing 2 O 3 as a main component, in a composition that greatly affects material properties, the main constituent components of the garnet further contain an appropriate amount of elements and are subjected to heat treatment to reduce insertion loss. To provide a Bi-substituted garnet material and a method for producing the same.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は、GdBi系
ガーネット単結晶又はTbBi系ガーネット単結晶中
に、酸化鉛をPbO換算で0.05〜1.5wt%の範囲
で含有することを特徴とするビスマス置換型ガーネット
材料である。The present invention is characterized in that lead oxide is contained in a GdBi-based garnet single crystal or a TbBi-based garnet single crystal in a range of 0.05 to 1.5 wt% in terms of PbO. Bismuth-substituted garnet material.
【0011】又、本発明は、ガーネット基板上に、液
相成長法によりGdBi系ガーネット単結晶又はTbB
i系ガーネット単結晶を育成するビスマス置換型ガーネ
ット材料の製造方法において、GdBi系ガーネット単
結晶又はTbBi系ガーネット単結晶中に、酸化鉛をP
bO換算で0.05〜1.5wt%の範囲で含有させるこ
とを特徴とするビスマス置換型ガーネット材料の製造方
法である。The present invention also provides a method for forming a GdBi-based garnet single crystal or TbB on a garnet substrate by a liquid phase growth method.
In a method for producing a bismuth-substituted garnet material for growing an i-based garnet single crystal, lead oxide is contained in a GdBi-based garnet single crystal or a TbBi-based garnet single crystal.
A method for producing a bismuth-substituted garnet material, characterized in that it is contained in the range of 0.05 to 1.5 wt% in terms of bO.
【0012】又、本発明は、熱処理温度が1000〜
1150℃の範囲であることを特徴とする上記のビス
マス置換型ガーネット材料の製造方法である。Further, the present invention provides a heat treatment temperature of 1000-1000.
A method for producing a bismuth-substituted garnet material as described above, wherein the temperature is in the range of 1150 ° C.
【0013】又、本発明は、熱処理における雰囲気の
酸素濃度が20〜100vol%の範囲であることを特
徴とする上記又はのビスマス置換型ガーネット材料
の製造方法である。Further, the present invention is the above-mentioned or the method for producing a bismuth-substituted garnet material, wherein the oxygen concentration of the atmosphere in the heat treatment is in the range of 20 to 100 vol%.
【0014】本発明は、Bi置換型ガーネット材料に、
酸化鉛を、PbO換算で0.05〜1.5wt%含有させ
ることにより、ガーネット材料の挿入損失の低減を実現
するものである。これは、結晶格子内のエネルギー状態
が安定化するためと推察される。PbO含有量を0.0
5〜1.5wt%としたのは、0.05wt%以上でエネ
ルギー状態の安定化効果が顕著となり、挿入損失が著し
く低減するからであり、一方、1.5wt%を越える
と、エネルギー状態の不安定化を生じて、挿入損失が著
しく増加するからである。The present invention provides a Bi-substituted garnet material,
By containing 0.05 to 1.5 wt% of lead oxide in terms of PbO, the insertion loss of the garnet material can be reduced. This is presumably because the energy state in the crystal lattice is stabilized. PbO content of 0.0
The reason for setting the content to 5 to 1.5 wt% is that the effect of stabilizing the energy state becomes remarkable at 0.05 wt% or more, and the insertion loss is remarkably reduced. This is because instability occurs and the insertion loss increases significantly.
【0015】又、熱処理温度は、主にガーネット結晶の
組成均質化と、PbOのPbイオン化に関係するため、
熱処理温度を限定することにより、結晶格子の規則性の
向上と、イオン化バランスによるエネルギー状態の安定
性の向上に効果があると推察される。熱処理温度を10
00〜1150℃の範囲としたのは、1000℃以上
で、結晶格子の規則性の向上と、エネルギー状態の安定
性が向上し、挿入損失の低減が顕著となり、一方、11
50℃を越えると、Pb+の発生が著しくなり、エネル
ギー状態の安定性が低下し、挿入損失の増大が顕著にな
ると判断できるからである。The heat treatment temperature is mainly related to the homogenization of the composition of the garnet crystal and the Pb ionization of PbO.
It is presumed that limiting the heat treatment temperature is effective in improving the regularity of the crystal lattice and improving the stability of the energy state due to ionization balance. Heat treatment temperature 10
The reason for setting the temperature in the range of 00 to 1150 ° C. is that at 1000 ° C. or higher, the regularity of the crystal lattice and the stability of the energy state are improved, and the insertion loss is significantly reduced.
If the temperature exceeds 50 ° C., it can be determined that the generation of Pb + becomes remarkable, the stability of the energy state decreases, and the insertion loss increases remarkably.
【0016】又、本発明では、熱処理における雰囲気の
酸素濃度を限定したが、熱処理雰囲気は、主に酸素の空
格子の低減と、Pb2+からPb+への移行を抑制するの
に効果があると推察される。熱処理雰囲気の酸素濃度を
20〜100vol%の範囲としたのは、20vol%
以上で挿入損失の低減が顕著となるからである。In the present invention, the oxygen concentration in the atmosphere during the heat treatment is limited. However, the heat treatment atmosphere is effective in reducing the vacancies of oxygen and suppressing the transition from Pb 2+ to Pb + . It is presumed that there is. The reason why the oxygen concentration in the heat treatment atmosphere is set in the range of 20 to 100 vol% is that 20 vol%
This is because the insertion loss is significantly reduced as described above.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】高純度のGd2O3等の粉末を原料
として使用し、フラックスとしてPbO−Bi2O3−B
2O3系を使用して、LPE法により、Nd3Ga5O12基
板上に、PbOを所定量含有したGdBi系ガーネット
厚膜を育成した後、基板除去し、所定の条件で熱処理す
ることで、本発明の第1の実施の形態のBi置換型ガー
ネット材料が得られる。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS High purity powder such as Gd 2 O 3 is used as a raw material, and PbO—Bi 2 O 3 —B is used as a flux.
After growing a GdBi-based garnet thick film containing a predetermined amount of PbO on a Nd 3 Ga 5 O 12 substrate by an LPE method using a 2 O 3 system, the substrate is removed, and heat treatment is performed under predetermined conditions. Thus, the Bi-substituted garnet material according to the first embodiment of the present invention is obtained.
【0018】高純度のTb2O3等の粉末を原料として使
用し、フラックスとしてPbO−Bi2O3−B2O3系を
使用して、LPE法により、(GdCa)3(GaMg
Zr)5O12基板上に、PbOを所定量含有したTbB
i系ガーネット厚膜を育成した後、基板除去し、所定の
条件で熱処理することで、本発明の第2の実施の形態の
Bi置換型ガーネット材料が得られる。Using a high purity powder such as Tb 2 O 3 as a raw material and a PbO—Bi 2 O 3 —B 2 O 3 system as a flux, (GdCa) 3 (GaMg
Zr) TbB containing a predetermined amount of PbO on 5 O 12 substrate
After growing the i-based garnet thick film, the substrate is removed and heat-treated under predetermined conditions to obtain the Bi-substituted garnet material of the second embodiment of the present invention.
【0019】[0019]
【実施例】以下に、本発明の実施例について説明する。Embodiments of the present invention will be described below.
【0020】(実施例1)高純度(99.9%以上)の
酸化ガドリニウム(Gd2O3)、酸化第二鉄(Fe
2O3)、酸化アルミニウム(Al2O3)、酸化ガリウム
(Ga2O3)、酸化ビスマス(Bi2O3)、酸化鉛(P
bO)、酸化ホウ素(B2O3)の粉末を原料として使用
し、メルト中のPbO濃度を0〜60wt%まで変化さ
せて、LPE法により、酸化鉛を含有した(GdBi)
3(FeGaAl)5O12系ガーネットを育成した。この
とき使用した基板は、Nd3Ga5O12単結晶であり、格
子定数は15.509オングストローム、基板の方位は
〈111〉である。育成結晶として、厚さ約500μm
のGd2.1Bi0.9Fe4.6Ga0.2O12なる主組成にPb
Oを0〜2.97wt%含有するGdBi系ガーネット
厚膜単結晶11点を得た。Example 1 High-purity (99.9% or more) gadolinium oxide (Gd 2 O 3 ), ferric oxide (Fe)
2 O 3 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), gallium oxide (Ga 2 O 3 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), lead oxide (P
bO) and boron oxide (B 2 O 3 ) powder as raw materials, PbO concentration in the melt was changed from 0 to 60 wt%, and lead oxide was contained by the LPE method (GdBi).
3 (FeGaAl) 5 O 12 garnet was grown. The substrate used at this time was Nd 3 Ga 5 O 12 single crystal, the lattice constant was 15.509 angstroms, and the orientation of the substrate was <111>. Approximately 500μm thick as growing crystal
The main composition of Gd 2.1 Bi 0.9 Fe 4.6 Ga 0.2 O 12
Eleven GdBi-based garnet thick film single crystals containing 0 to 2.97 wt% of O were obtained.
【0021】次に、この試料の基板を除去した後、50
vol%の酸素濃度の雰囲気中、1100℃で20時間
保持し、熱処理した。次に、これらのGdBi系ガーネ
ット試料の両面を研磨し、厚さ約350μmの試料板と
した。上述したGdBi系ガーネット厚膜の組成は、こ
れら試料の両面について10点ずつEPMA分析を行
い、計20点の平均値として求めた。Next, after removing the substrate of this sample, 50
It was kept at 1100 ° C. for 20 hours in an atmosphere with an oxygen concentration of vol% and heat-treated. Next, both surfaces of these GdBi-based garnet samples were polished to obtain a sample plate having a thickness of about 350 μm. The composition of the GdBi-based garnet thick film described above was obtained as an average value of a total of 20 points by performing EPMA analysis on each side of each of these samples at 10 points.
【0022】次に、これら試料板にSiO2膜による無
反射被覆処理を行った後、約1kOeの磁界を印加し、
波長1.3μmにおける挿入損失を測定した。図1に、
GdBi系ガーネット厚膜結晶のPbO含有量と挿入損
失の関係を示す。図1より、PbO含有量が0.05〜
1.5wt%の範囲で、挿入損失が低くなる傾向を示し
ていることがわかる。Next, after subjecting these sample plates to a non-reflective coating treatment with a SiO 2 film, a magnetic field of about 1 kOe is applied,
The insertion loss at a wavelength of 1.3 μm was measured. In FIG.
4 shows the relationship between the PbO content of a GdBi-based garnet thick film crystal and insertion loss. From FIG. 1, the PbO content is 0.05 to
It can be seen that the insertion loss tends to decrease in the range of 1.5 wt%.
【0023】(実施例2)実施例1と同様にして、Pb
Oを0.8wt%含有するGdBi系ガーネット厚膜結
晶を育成、基板除去後、50vol%酸素雰囲気中、1
000〜1200℃で20時間熱処理した後、研磨し、
挿入損失を測定した。その結果を図2に示す。図2よ
り、熱処理温度が1000〜1150℃の範囲では、非
熱処理に比べ、挿入損失が低減していることがわかる。(Embodiment 2) In the same manner as in Embodiment 1, Pb
GdBi-based garnet thick film crystal containing 0.8 wt% of O is grown, and after removing the substrate, 1 g is grown in a 50 vol% oxygen atmosphere.
After heat treatment at 000-1200 ° C for 20 hours, polishing
The insertion loss was measured. The result is shown in FIG. FIG. 2 shows that when the heat treatment temperature is in the range of 1000 to 1150 ° C., the insertion loss is reduced as compared with the non-heat treatment.
【0024】(実施例3)実施例1と同様にして、Pb
Oを0.8wt%含有するGdBi系ガーネット厚膜結
晶を育成、基板除去後、酸素濃度を0〜100vol%
まで変化させた窒素混合雰囲気中、1100℃で20時
間熱処理した後、研磨し、挿入損失を測定した。その結
果を図3に示す。図3より、雰囲気の酸素濃度が20〜
100vol%では、挿入損失が低減していることがわ
かる。(Embodiment 3) In the same manner as in Embodiment 1, Pb
GdBi-based garnet thick film crystal containing 0.8 wt% of O is grown, and after removing the substrate, the oxygen concentration is reduced to 0 to 100 vol%.
After heat treatment at 1100 ° C. for 20 hours in a nitrogen mixed atmosphere changed to above, polishing was performed, and insertion loss was measured. The result is shown in FIG. From FIG. 3, the oxygen concentration of the atmosphere is 20 to
At 100 vol%, it can be seen that the insertion loss is reduced.
【0025】(実施例4)高純度(99.9%以上)の
酸化テルビウム(Tb2O3)、酸化第二鉄(Fe
2O3)、酸化ビスマス(Bi2O3)、酸化鉛(Pb
O)、酸化ホウ素(B2O3)の粉末を原料として使用
し、(GdCa)3(GaMgZr)5O12基板(格子定
数12.490オングストローム、基板の方位〈11
1〉)上に、実施例1と同様にして、PbOを0、0.
8wt%含有したTb2.1Bi0.9Fe5O12なる組成の
TbBi系ガーネット厚膜(約500μm厚)を育成し
た。Example 4 Terbium oxide (Tb 2 O 3 ) and ferric oxide (Fe) of high purity (99.9% or more)
2 O 3 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), lead oxide (Pb
O) and boron oxide (B 2 O 3 ) powder as raw materials, and a (GdCa) 3 (GaMgZr) 5 O 12 substrate (lattice constant 12.490 Å, substrate orientation <11
1)) In the same manner as in Example 1, PbO was set to 0, 0.
A TbBi-based garnet thick film (about 500 μm thick) having a composition of 8 wt% Tb 2.1 Bi 0.9 Fe 5 O 12 was grown.
【0026】次に、実施例1と同様にして、基板除去
後、熱処理、研磨、測定を行った。その挿入損失の測定
結果を表1に示す。Next, in the same manner as in Example 1, after removing the substrate, heat treatment, polishing, and measurement were performed. Table 1 shows the measurement results of the insertion loss.
【0027】 [0027]
【0028】表1より、TbBi系ガーネット厚膜の挿
入損失は、PbO含有量0.8wt%、熱処理試料で、
低減していることがわかる。As shown in Table 1, the insertion loss of the TbBi-based garnet thick film was as follows for a heat-treated sample with a PbO content of 0.8 wt%.
It can be seen that it has been reduced.
【0029】なお、本発明は、上記実施例の組成、波長
にとどまるものではなく、LPE法で作製されたGdB
i系ガーネット、TbBi系ガーネットに適用すること
ができるものであり、測定波長がガーネットの吸収スペ
クトルに対応していないものであれば、本発明の効果が
期待できる。It should be noted that the present invention is not limited to the compositions and wavelengths of the above-described embodiments, but rather the GdB manufactured by the LPE method.
The present invention can be applied to i-based garnet and TbBi-based garnet, and the effect of the present invention can be expected as long as the measurement wavelength does not correspond to the absorption spectrum of garnet.
【0030】上記実施例に示したガーネットは、波長
1.3μmにおけるファラデー回転係数が約1100d
eg/cm以上であり、飽和磁化がGdBi系ガーネッ
トで約200G、TbBi系ガーネットで約600〜8
00Gであり、ファラデー回転素子、例えば光アイソレ
ータとして実用できる特性を示している。The garnet shown in the above embodiment has a Faraday rotation coefficient at a wavelength of 1.3 μm of about 1100 d.
eg / cm or more, and the saturation magnetization is about 200 G for GdBi-based garnet and about 600 to 8 for TbBi-based garnet.
00G, which indicates characteristics that can be used as a Faraday rotation element, for example, an optical isolator.
【0031】[0031]
【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、材料特性に大きく影響する結晶性を改善し、挿入損
失を低減したBi置換型ガーネット材料及びその製造方
法を提供することができた。As described above, according to the present invention, it is possible to provide a Bi-substituted garnet material having improved crystallinity, which greatly affects material properties, and reduced insertion loss, and a method for producing the same. Was.
【図1】GdBi系ガーネット厚膜結晶におけるPbO
含有量と挿入損失の関係を示す図。FIG. 1. PbO in a GdBi-based garnet thick film crystal
The figure which shows the relationship between content and insertion loss.
【図2】GdBi系ガーネット厚膜結晶における熱処理
温度と挿入損失の関係を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a heat treatment temperature and an insertion loss in a GdBi-based garnet thick film crystal.
【図3】GdBi系ガーネット厚膜結晶における熱処理
雰囲気の酸素濃度と挿入損失の関係を示す図。FIG. 3 is a diagram showing a relationship between oxygen concentration in a heat treatment atmosphere and insertion loss in a GdBi-based garnet thick film crystal.
Claims (4)
i系ガーネット単結晶中に、酸化鉛をPbO換算で0.
05〜1.5wt%の範囲で含有することを特徴とする
ビスマス置換型ガーネット材料。1. A GdBi-based garnet single crystal or TbB
Lead oxide in the i-based garnet single crystal was calculated to be 0.1% in terms of PbO.
A bismuth-substituted garnet material, which is contained in the range of 0.5 to 1.5 wt%.
GdBi系ガーネット単結晶又はTbBi系ガーネット
単結晶を育成するビスマス置換型ガーネット材料の製造
方法において、GdBi系ガーネット単結晶又はTbB
i系ガーネット単結晶中に、酸化鉛をPbO換算で0.
05〜1.5wt%の範囲で含有させることを特徴とす
るビスマス置換型ガーネット材料の製造方法。2. A method for producing a bismuth-substituted garnet material for growing a GdBi-based garnet single crystal or a TbBi-based garnet single crystal on a garnet substrate by a liquid phase growth method, comprising the steps of:
Lead oxide in the i-based garnet single crystal was calculated to be 0.1% in terms of PbO.
A method for producing a bismuth-substituted garnet material, wherein the content is in the range of from 0.5 to 1.5 wt%.
囲であることを特徴とする請求項2記載のビスマス置換
型ガーネット材料の製造方法。3. The method for producing a bismuth-substituted garnet material according to claim 2, wherein the heat treatment temperature is in the range of 1000 to 1150 ° C.
〜100vol%の範囲であることを特徴とする請求項
2又は3記載のビスマス置換型ガーネット材料の製造方
法。4. The oxygen concentration of the atmosphere in the heat treatment is 20.
The method for producing a bismuth-substituted garnet material according to claim 2 or 3, wherein the content is in the range of 100 vol% to 100 vol%.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27713796A JPH10101493A (en) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | Bismuth-substituted garnet material and its production |
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JP27713796A JPH10101493A (en) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | Bismuth-substituted garnet material and its production |
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JP (1) | JPH10101493A (en) |
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1996
- 1996-09-27 JP JP27713796A patent/JPH10101493A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
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A761 | Written withdrawal of application |
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