JPH10100406A - インクジェット式記録ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

インクジェット式記録ヘッドおよびその製造方法

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JPH10100406A
JPH10100406A JP26186096A JP26186096A JPH10100406A JP H10100406 A JPH10100406 A JP H10100406A JP 26186096 A JP26186096 A JP 26186096A JP 26186096 A JP26186096 A JP 26186096A JP H10100406 A JPH10100406 A JP H10100406A
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    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
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    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/15Moving nozzle or nozzle plate

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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アクチュエータとしての薄膜状の圧電素子を
具備しながら、インク室をより高密度に配置可能なイン
クジェット式記録ヘッドを提供することである。 【解決手段】 インクジェット式記録ヘッド1の内部に
は、多数のインク室2が並列に形成され、その隣接する
2つのインク室は、容易に変形しない固定壁3、および
その固定壁3よりも薄くて比較的容易に変形可能な振動
壁4によって隔てられている。その振動壁4の基体10
の表裏各面には、その振動壁4を変形させて前記インク
室2の容積を変化させるための第1電極11、PZT膜
12および第2電極13が形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェットプ
リンタ等に搭載されるインクジェット式記録ヘッドと、
その製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、インクジェットプリンタ等に
搭載されるインクジェット式記録ヘッドとして、電圧印
加に伴って変形する圧電素子により、ヘッド内に形成さ
れたインク室の容積を変化させ、この容積変化に伴って
加圧されるインク室内のインクを、ノズルから外部へと
噴出する圧力制御形のものが知られている。
【0003】また、このタイプのインクジェット式記録
ヘッドとして、例えば特公昭62−22790号公報に
は、圧電素子として、スパッタ、スクリーン印刷などの
薄膜形成法により形成されたチタン酸ジルコン酸鉛の薄
膜(以下、PZT薄膜という)を備えたものが記載され
ている。同公報記載の記録ヘッドによれば、別途成形加
工された圧電素子を組み込む構造に比べ、小さなPZT
薄膜を高密度にヘッド上に形成できるので、記録ヘッド
の小型化を図ることができ、また、記録ヘッド作動時の
エネルギー消費を抑制できるといった利点があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報記載の記録ヘッドは、ある程度の面積が必要なPZT
薄膜を、同一基板面上に複数形成していたため、インク
室の配列ピッチが、ノズルの配列ピッチに比べてかなり
大きくなっていた。
【0005】そのため、上記公報記載の記録ヘッドにお
いては、インク室をノズルのごく近傍に配置することが
できず、インク室とノズルとの間を連絡するインク流路
が相応に長くなり、その分、インク流路内で圧力損失を
招き、ノズルからのインク噴射圧が低下しやすい、ある
いはインクを噴射する際のレスポンスが悪くなるという
問題があった。
【0006】また、複数のインク流路の内、両端部に配
置された流路と中央に配置された流路とでは、それらの
形状を同一にはできないため、インク流路の形状によっ
てインク流路内における圧力の伝播状態に差異が生じ、
PZT薄膜に対して同一の駆動制御を行っても、各ノズ
ルのインクの噴射状態が必ずしも均等にならず、例えば
ノズル毎に濃淡差が生じるなど、印字品質に悪影響を及
ぼす恐れがあった。
【0007】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたものであり、第1の目的は、アクチュエータとして
薄膜状の圧電素子を具備しながら、インク室をより高密
度に配置可能なインクジェット式記録ヘッドを提供する
ことにある。また、第2の目的は、上記インクジェット
式記録ヘッドを、容易に製造できるインクジェット式記
録ヘッドの製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段、および発明の効果】上記
第1の目的を達成するために、本発明のうち請求項1記
載の発明は、基体内部に並列に形成されたインク室と、
該インク室の容積を変化させることによってそのインク
室内のインクを加圧する圧電素子と、該圧電素子によっ
て加圧されたインクを前記インク室から外部へ噴出する
ノズルとを備えたインクジェット式記録ヘッドにおい
て、前記インク室を形成する壁の内、少なくとも隣接す
る2つのインク室間に配設される壁が変形可能に構成さ
れ、該変形可能な壁に、前記圧電素子が薄膜状に形成さ
れていることを特徴とする。
【0009】請求項1記載のインクジェット式記録ヘッ
ドにおいて、圧電素子は、薄膜状に形成されている。そ
のため、圧電素子を低電圧で駆動でき、より高速な応答
が可能である。また特に、薄膜状の圧電素子は、隣接す
る2つのインク室間に配設された壁に形成されている。
そのため、薄膜状の圧電素子の面積を十分に大きく確保
しても、複数のインク室全体の配列方向への寸法は、ノ
ズルの配列面と略同一面に薄膜状の圧電素子を形成する
場合に比べて格段に小さくなり、複数のインク室をきわ
めて高密度に配列できる。また、この様にインク室を高
密度に配列すると、インク室をノズルのごく近傍に配置
できるようになる。したがって、インク室からノズルに
至るインク流路を短くして、インク流路内での圧力損失
を抑制でき、インクを噴射する際のレスポンスが良好に
なる。更に、インク室をノズルと同等な密度で配列する
こともできるようになるので、インク室からノズルに至
るインク流路の形状をすべて同一にすることもでき、こ
れにより、各ノズルからのインクの噴射状態のばらつき
は発生せず、印字品質が良好になる。
【0010】なお、上記構成において、薄膜状の圧電素
子は、隣接する2つのインク室間に配設された壁に形成
されていれば、1つのインク室に対して両側に形成され
ていても、片側に形成されていてもよい。通常、両側に
形成されている方がインクを加圧するのには有利となる
が、片側に形成されているものの方がコスト的に有利、
あるいは駆動制御が容易となる場合もあるので、これら
は任意に選択すればよい。片側の壁に圧電素子を形成す
る場合、もう一方の壁は剛性の高い変形不能な壁とする
方が、圧力の損失を低減できる。
【0011】また、インク室の容積を変動させるには、
圧電素子が壁の表裏いずれかに形成されていても、表裏
双方に形成されていてもよい。更に、インク室の容積を
変動させる方法としては、圧電素子に電圧を印加した際
にインク室の容積が減少してインクを加圧・噴射するも
のでも、圧電素子に電圧を印加した際にインク室の容積
が増大してインクをインク室内へ吸入すると共に、電圧
印加を停止した際にインク室の容積が元に戻ってインク
を加圧・噴射するものでもよい。また、この様に圧電素
子を変形させるには、圧電素子に電圧を印加するための
電極が必要であるが、この電極は、圧電素子に所期の変
形を発生させるべく、発生させる電界の向きと圧電素子
の分極方向との関係を考慮してあれば、圧電素子の片側
の面に配設されていても両側の面に配設されていてもよ
い。
【0012】ところで、請求項1記載の記録ヘッドにお
いては、隣接する2つのインク室間に配設される壁が、
薄膜状の圧電素子と共に変形する構成を採用している
が、隣接する2つのインク室の内、一方のインク室の容
量を変化させるべく圧電素子を変形させた際に、他方の
インク室には極力影響を及ぼさないようにすることが望
ましい。
【0013】それには、請求項2記載の如く、前記隣接
する2つのインク室間に配設される壁が、間隔を空けて
略平行に配置された一対の変形可能な板状体からなり、
各板状体の表面及び/又は裏面に、前記圧電素子が薄膜
状に形成されているとよい。
【0014】この様な構成にすれば、一方のインク室の
容量を変化させるべく圧電素子を変形させた際に、一方
の板状体が変形しても、他方の板状体は変形しないの
で、他方のインク室の容量は全く変化しない。したがっ
て、隣接するインク室に影響を与えることなく各インク
室の容量を任意に変化させることができる。
【0015】なお、この様な一対の板状体によってイン
ク室間の壁を形成する場合、薄膜状の圧電素子は、各板
状体の表裏いずれかに形成されていても、表裏双方に形
成されていてもよい。さて、以上説明したインクジェッ
ト式記録ヘッドは、種々の製造方法によって製造可能と
考えられるが、従来技術として示した公報に記載の如
く、平面状の基板表面に薄膜状の圧電素子を形成する場
合とは異なり、単にスパッタ法や印刷法を用いて圧電材
料を堆積させるだけでは、凹部であるインク室間の壁に
薄膜状の圧電素子を直接的に形成することはできない。
【0016】そこで、上記第2の目的を達成するため
に、本発明のうち請求項3記載の発明は、基体内部に並
列に形成されたインク室と、該インク室の容積を変化さ
せることによってそのインク室内のインクを加圧する圧
電素子と、該圧電素子によって加圧されたインクを前記
インク室から外部へ噴出するノズルとを備えたインクジ
ェット式記録ヘッドの製造方法において、前記インク室
を形成する壁の内、少なくとも隣接する2つのインク室
間に配設される壁を変形可能に構成し、該変形可能な壁
に、電解析出法によって前記圧電素子を薄膜状に形成す
ることを特徴とする。
【0017】ここで、電解析出法とは、薄膜形成箇所に
電極が形成された基体と、対極となる電極を、圧電材料
となる組成物を含有する溶液中に浸漬して通電すること
により、基体側の電極に圧電材料を形成させる方法で、
圧電材料となる金属イオンないし金属酸化物イオン等が
陽イオンであれば、基体側の電極を陰極として通電を行
うことにより、陰極に金属酸化物あるいは水酸化物を堆
積させることができる。あるいは、電極を陽極として通
電し、陽極酸化を行うとともに、浴中の圧電材料となる
組成物のイオンを取り込ませ、複合酸化物を形成する手
法も含まれる。
【0018】請求項3記載のインクジェット式記録ヘッ
ドの製造方法によれば、電解析出法によって薄膜状の圧
電素子を形成しているので、スパッタ法や印刷法とは異
なり、凹部となるインク室間の壁にも、圧電材料の薄い
層を良好に堆積することができる。したがって、インク
室となる凹部が予め形成されている基体を使ってでも、
上記本発明のインクジェット式記録ヘッドを製造するこ
とができる。
【0019】なお、本製法においては、基体側の薄膜形
成箇所に予め電極を形成しておく必要があるが、この様
な電極は如何なる方法で形成してあってもよく、具体的
には、例えば基体に無電解メッキの手法で金属膜を形成
したり、別途形成した金属薄膜を貼り付ければよい。
【0020】一方、同じく上記第2の目的を達成するた
めに、本発明のうち請求項4記載の発明は、基体内部に
並列に形成されたインク室と、該インク室の容積を変化
させることによってそのインク室内のインクを加圧する
圧電素子と、該圧電素子によって加圧されたインクを前
記インク室から外部へ噴出するノズルとを備えたインク
ジェット式記録ヘッドの製造方法において、変形可能な
平板の表面及び/又は裏面に前記圧電素子を薄膜状に形
成し、前記平板を間隔を空けて略平行に配置すると共
に、該間隔の周囲を閉塞して前記インク室を形成するこ
とを特徴とする。
【0021】すなわち、請求項4記載のインクジェット
式記録ヘッドの製造方法によれば、圧電素子を形成する
に当たって、平板に対して薄膜を形成すればよいので、
上述の如き電解析出法はもちろんのこと、スパッタ法や
印刷法を使うこともできる。したがって、上記本発明の
インクジェット式記録ヘッドを製造するに当たって、薄
膜形成法を自由に選択することができる。
【0022】なお、先にも説明した通り、本発明のイン
クジェット式記録ヘッドにおいては、圧電素子が壁の表
裏いずれかに形成されていても、表裏双方に形成されて
いてもよいので、上記平板に対しては表裏いずれか一方
の面又は両方の面に圧電素子を形成すればよい。また、
インク室の片側の壁に圧電素子があるだけでも足りるの
で、上記平板を間隔を空けて略平行に配置する際には、
圧電素子が形成されている平板と、圧電素子が形成され
ていない平板とを、交互に配置してもよい。その場合、
圧電素子が形成されていない平板については、剛性の高
いものを選ぶとよい。
【0023】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。なお、以下に説明するインクジェッ
ト式記録ヘッドは、本発明の実施形態の一例に過ぎず、
本発明の構成手段は下記の例に限定されない。
【0024】[実施形態1]インクジェット式記録ヘッ
ド1は、図1(a)に示す通り、内部に複数のインク室
2を有し、隣接する2つのインク室2の間は、容易には
変形しない固定壁3、および固定壁3よりも薄くて比較
的容易に変形可能な振動壁4によって隔てられている。
振動壁4は、2枚を1対として間隔を空けて略平行に配
置され、1対の振動壁4の間には駆動室5が形成されて
いる。この駆動室5は、一方の振動壁4が変形した際
に、他方の振動壁4が従動しないように設けられた緩衝
空間である。
【0025】また、各インク室2の図示上部は、固定壁
3及び振動壁4の上端面に接着された1枚の蓋6によっ
て閉塞され、一方、各インク室2の図示下部は、固定壁
3及び振動壁4の下端面に接着された1枚のノズルプレ
ート7によって閉塞され、ノズルプレート7には、各イ
ンク室2に対応する位置にノズル8が形成されている。
そして、図1(a)には表れないが、インク室2の図示
正面側および背面側についても、所定形状の板状体を接
着することにより閉塞され、一方の板状体には、各イン
ク室2に連通するインク流入口が形成されている。各イ
ンク室2は、このインク流入口と上記ノズル8でのみ外
部と連通している。
【0026】更に、これらの構成の内、振動壁4は、図
1(b)に拡大して示す通り、基体10の表裏に、第1
電極11、PZT膜12、および第2電極13を、この
順序で積層した構造とされ、PZT膜12は、強電界中
で表裏とも同一方向に分極処理されている。そのため、
基体10を中心として表裏対称に形成された第1電極1
1および第2電極13のいずれか一方を陽極、他方を陰
極として電圧を印加すると、表裏にあるPZT膜12の
いずれか一方が伸長すると共に他方が収縮する。これに
より、振動壁4全体を変形させてインク室2内のインク
を加圧し、インクをノズル8から噴射することができ
る。
【0027】なお、固定壁3についても、振動壁4と同
様、基体15の表裏に第1金属膜16、PZT膜17、
および第2金属膜18を形成した構造になっている。但
し、これらは後述する製法によって、上記第1電極1
1、PZT膜12、および第2電極13を形成する際に
同時に形成されるものであり、本装置において圧電素子
としては利用されていない。
【0028】次に、上記インクジェット式記録ヘッド1
の製造方法について説明する。まず、上記基体10およ
び基体15を、図2に示す通り、それらの一端に形成さ
れる連結部21と共に一体成形する。これら基体10、
基体15および連結部21(以下、これらを基体10等
という)は、例えば、酸化ジルコニウム等のセラミック
材料などを、切削加工することによって形成すればよ
い。
【0029】続いて、上記基体10等に対し、図3に示
す通り、第1導電膜22、電解PZT膜23、第2導電
膜24を、この順序で形成する。本例において、第1導
電膜22は、ニッケル膜を無電解ニッケルメッキ法によ
って形成している。
【0030】より詳しく説明すると、上記基体10等
は、まずアルカリ脱脂液にて洗浄される。アルカリ脱脂
液は一般的に用いられているものでよく、一例を挙げれ
ば、水酸化ナトリウム5〜15g/l,炭酸ナトリウム
20〜40g/l,メタケイ酸ナトリウム5〜10g/
l,界面活性剤1〜3g/lの組成で、液温40〜70
℃で3〜5分程度浸せばよい。
【0031】次に、塩化第1すず70g/lと塩酸40
g/lを含む液に室温で3分間浸した後、塩化パラジウ
ム1g/lを含む浴に3分間浸す。これにより、上記基
体10等の表面に触媒が付与される。そして、触媒が付
与された上記基体10等を、無電解ニッケルメッキ浴に
浸漬することにより、その表面に第1導電膜22となる
Ni−P膜(P7〜9%)が形成される。無電解ニッケ
ルメッキ浴も一般的に知られているものでよく、その組
成の一例を挙げれば、硫酸ニッケル30〜35g/l,
クエン酸ナトリウム80〜85g/l,塩化アンモニウ
ム45〜50g/l,次亜リン酸ナトリウム15〜20
g/lで,pH=9〜10,浴温80〜90℃で使用さ
れる。この場合のNi−P膜の析出速度は約0.2μm
/min程度であるため、約5分の浸漬で膜厚1μmの
Ni−P膜が得られる。
【0032】なお、無電解Ni以外にも、同じく無電解
メッキの手法で銅、金、あるいはパラジウム等からなる
薄膜を形成可能であり、これらの薄膜も第1導電膜22
として利用することができる。さて、こうして第1導電
膜22を形成したら、引き続いて電解PZT膜23を形
成する。
【0033】本例においてPZTの電解析出に用いる浴
は、三塩化チタン0.001〜0.1M、硝酸ジルコニ
ル0.001〜0.1M,硝酸鉛0.002〜0.2M
を、[Pb2+]/([ZrO2+]+[TiO2+])=
0.8〜1.2の条件を満たすように含んでいる。浴の
pHは1.8〜3.0、浴温は25〜30℃で用いられ
る。
【0034】この浴に、第1導電膜22が形成された上
記基体10等と白金の対極が浸漬され、第1導電膜22
を陰極に、白金対極を陽極にして通電することにより、
陰極近傍でpHが上昇し、Pb,Zr,Tiの酸化物あ
るいは水酸化物の堆積が行われる。電析は電流密度20
〜100mA/cm2 の範囲で行われ、10〜15分の
電解で約10μm厚の電解PZT膜23が得られる。
【0035】なお、電解PZT以外にも、圧電性を示す
膜としては、チタン酸バリウム、チタン酸鉛、あるいは
Pb(Mg1/3 Nb2/3 )O3-PbZrO3-PbTiO
3 のような3元系複合酸化物からなるものが知られてお
り、電解PZT膜23に代えてこれらの薄膜を圧電膜と
して利用することもできる。
【0036】こうして電解PZT膜23を形成したら、
引き続いて第2導電膜24を形成する。なお、第2導電
膜24は、既に説明した第1導電膜22と全く同等の手
法で形成可能なので、詳細な説明は省略する。さて以上
の工程によって、図3に示す通り、第1導電膜22、電
解PZT膜23、および第2導電膜24を形成したら、
基体15の端部26および基体10の端部27を研削す
る。また、図3には表れないが、基体10および基体1
5の図示正面側および背面側の縁についても研削する。
これにより、図4に示す通り、基体10および基体15
の間にのみ、断面形状がコ字形となるように第1導電膜
22、電解PZT膜23、および第2導電膜24が残さ
れる。
【0037】続いて、端部26および端部27を削り落
としてできた端面に、図5に示す通り、蓋6を接着し、
その後で連結部21を切り落とす。この結果、図6に示
す通り、蓋6に対して固定壁3および振動壁4が列設さ
れた状態となる。この状態において、固定壁3および振
動壁4の表裏には、それぞれ独立に圧電素子が形成され
ていることになる。後は、連結部21を切り落としてで
きた端面に、図7に示す通り、ノズルプレート7を接着
することにより、所期のインクジェット式記録ヘッド1
を得ることができる。
【0038】この様に構成されたインクジェット式記録
ヘッド1によれば、薄膜状の圧電素子が、隣接する2つ
のインク室2の間に配設された振動壁4に形成されてい
るため、インク室2の配列方向への寸法が圧電素子の面
積拡大に伴って大きくなるといったことがない。したが
って、圧電素子の面積を十分に大きく確保しながら、複
数のインク室2をきわめて高密度に配列できる。また、
この様にインク室を高密度に配列すると、インク室2を
ノズル8のごく近傍に配置できるようになる。したがっ
て、インク室2からノズル8に至るインク流路を短くし
て、インク流路内での圧力損失を抑制でき、インクを噴
射する際のレスポンスが良好になる。更に、インク室2
をノズルと同等な密度で配列することも容易となるの
で、インク室2からノズル8に至るインク流路の形状を
すべて同一にすることもでき、これにより、各ノズル8
からのインクの噴射状態のばらつきは発生せず、印字品
質が良好になる。
【0039】また、上述したインクジェット式記録ヘッ
ド1を製造するに当たっては、電解析出法によって薄膜
状の圧電素子を形成しているので、スパッタ法や印刷法
とは異なり、凹部となるインク室2の間の壁面に、圧電
材料の薄い層を良好に堆積することができる。したがっ
て、インク室2となる凹部が予め形成されている基体を
使ってでも、所期のインクジェット式記録ヘッド1を製
造することができる。
【0040】[実施形態2]次に、別の実施形態につい
て説明する。インクジェット式記録ヘッド30は、図8
に示す通り、断面略L字形のヘッドエレメント31を複
数並べて互いに接着することにより、インクが流入する
インク室32と、緩衝空間となる駆動室33を形成した
もので、ヘッドエレメント31の配列方向両端には、そ
れぞれ側板34、側板35が接着され、全てのヘッドエ
レメント31の上部を閉塞する形で、上板36が接着さ
れている。また、全てのヘッドエレメント31の正面側
を閉塞する形で、ノズルプレート37が接着され、ノズ
ルプレート37のインク室32に対応する位置には、ノ
ズル38が形成されている。なお、図8には表れない
が、全てのヘッドエレメント31の背面側についても、
背面板を接着することにより閉塞されている。この背面
板には、インク室32に対応する位置に、インク流入路
が形成されている。
【0041】また、各ヘッドエレメント31には、薄膜
状の圧電素子39が形成されている。この圧電素子39
は、先に説明した実施形態1と同様、薄い金属膜間に薄
いPZT膜を挟み込む形で積層した三層構造のもので、
各ヘッドエレメント31に形成されたPZT膜は、あら
かじめ強電界中でいずれも同一方向に分極処理されてい
る。そのため、各圧電素子39は、表裏の金属膜のいず
れか一方を陽極、他方を陰極として電圧を印加すると伸
長し、陽極と陰極を入れ替えて電圧を印加すると収縮す
る。したがって、インク室32に露出する圧電素子39
を伸長させる一方、駆動室33に露出する圧電素子39
を収縮させることにより、インク室32の側壁面を変形
させ、インク室32内のインクを両側から加圧し、イン
クをノズル38から噴射することができる。
【0042】次に、上記インクジェット式記録ヘッド3
0の製造方法について説明する。まず、図9に示す通
り、板状の基体40の一方の面に、上記インク室32又
は駆動室33となる凹部41を形成すると共に、他方の
面に、第1導電膜42、PZT膜43、第2導電膜44
を、この順序で形成する。
【0043】これら第1導電膜42、PZT膜43およ
び第2導電膜44は、先に説明した実施形態1と同様、
無電解メッキ法および電解析出法によって形成すること
ができる。また、上記実施形態1とは異なり、平板の一
面に対して薄膜を形成すればよいので、周知のスパッタ
法や印刷法といった薄膜形成技術を使ってもよく、更に
は薄く加工した導電膜、PZT膜を接着して形成しても
構わない。
【0044】続いて、第1導電膜42、PZT膜43お
よび第2導電膜44が形成された基体40を、図10に
示す通り、中央部で切断することにより、2つのヘッド
エレメント31を得る。この状態において、基体40の
凹部41による薄肉部分には、第1導電膜42、PZT
膜43および第2導電膜44の積層膜である圧電素子3
9が設けられた形となる。
【0045】この様にして形成されるヘッドエレメント
31を、図11に示す様に順次重ねて接着することによ
り、基体40の凹部41は、インク室32又は駆動室3
3となる溝を形成し、後は、側板34、側板35、上板
36、ノズルプレート37(以上図8参照)、および背
面板(図示略)等を接着することにより、所期のインク
ジェット式記録ヘッド30を得ることができる。
【0046】この様に構成されたインクジェット式記録
ヘッド30によれば、薄膜状の圧電素子が、隣接する2
つのインク室32の間に配設された壁面に形成されてい
るため、インク室32の配列方向への寸法が圧電素子の
面積拡大に伴って大きくなるといったことがない。した
がって、圧電素子の面積を十分に大きく確保しながら、
複数のインク室32をきわめて高密度に配列できる。ま
た、この様にインク室を高密度に配列すると、インク室
32をノズル38のごく近傍に配置できるようになる。
したがって、インク室32からノズル38に至るインク
流路を短くして、インク流路内での圧力損失を抑制で
き、インクを噴射する際のレスポンスが良好になる。更
に、インク室32をノズルと同等な密度で配列すること
も容易となるので、インク室32からノズル38に至る
インク流路の形状をすべて同一にすることもでき、これ
により、各ノズル38からのインクの噴射状態のばらつ
きは発生せず、印字品質が良好になる。
【0047】更に、このインクジェット式記録ヘッド3
0を製造する際には、圧電素子39を形成するに当たっ
て、平板状の基体40に対して薄膜を形成すればよいの
で、実施形態1に示した無電解メッキ法や電解析出法は
もちろんのこと、スパッタ法や印刷法を使うこともで
き、更には、予め形成した薄膜を接着してもよい。した
がって、薄膜形成法を自由に選択することができるとと
もに、電極材料及び圧電材料の選択に関しても自由に行
うことができる。
【0048】以上、2つの例を挙げて本発明の実施形態
について説明したが、本発明の構成手段については上記
実施形態以外にも種々考えられる。例えば、PZT薄膜
を変形させるための電極は、発生させる電界の向きとP
ZT薄膜の分極方向とを考慮して、インク室内のインク
を加圧できるような形に配設されていればよく、電極の
形状や一対の電極の内いずれを陽極にするかは任意に変
更可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のインクジェット式記録ヘッドの一例
を示し、(a)はその断面図、(b)はその部分拡大断
面図である。
【図2】 第1実施形態におけるインクジェット式記録
ヘッドの製法の第1工程を説明するための断面図であ
る。
【図3】 第1実施形態におけるインクジェット式記録
ヘッドの製法の第2工程を説明するための断面図であ
る。
【図4】 第1実施形態におけるインクジェット式記録
ヘッドの製法の第3工程を説明するための断面図であ
る。
【図5】 第1実施形態におけるインクジェット式記録
ヘッドの製法の第4工程を説明するための断面図であ
る。
【図6】 第1実施形態におけるインクジェット式記録
ヘッドの製法の第5工程を説明するための断面図であ
る。
【図7】 第1実施形態におけるインクジェット式記録
ヘッドの製法の第6工程を説明するための断面図であ
る。
【図8】 本発明のインクジェット式記録ヘッドの別の
例を示す斜視図である。
【図9】 第2実施形態におけるインクジェット式記録
ヘッドの製法の第1工程を説明するための断面図であ
る。
【図10】 第2実施形態におけるインクジェット式記
録ヘッドの製法の第2工程を説明するための断面図であ
る。
【図11】 第2実施形態におけるインクジェット式記
録ヘッドの製法の第3工程を説明するための断面図であ
る。
【符号の説明】
1・・・インクジェット式記録ヘッド、2・・・インク
室、3・・・固定壁、4・・・振動壁、5・・・駆動
室、6・・・蓋、7・・・ノズルプレート、8・・・ノ
ズル、10・・・基体、11・・・第1電極、12・・
・PZT膜、13・・・第2電極、15・・・基体、1
6・・・第1金属膜、17・・・PZT膜、18・・・
第2金属膜、21・・・連結部、22・・・第1導電
膜、23・・・電解PZT膜、24・・・第2導電膜、
26,27・・・端部、30・・・インクジェット式記
録ヘッド、31・・・ヘッドエレメント、32・・・イ
ンク室、33・・・駆動室、34,35・・・側板、3
6・・・上板、37・・・ノズルプレート、38・・・
ノズル、39・・・圧電素子、40・・・基板、41・
・・凹部。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基体内部に並列に形成されたインク室
    と、該インク室の容積を変化させることによってそのイ
    ンク室内のインクを加圧する圧電素子と、該圧電素子に
    よって加圧されたインクを前記インク室から外部へ噴出
    するノズルとを備えたインクジェット式記録ヘッドにお
    いて、 前記インク室を形成する壁の内、少なくとも隣接する2
    つのインク室間に配設される壁が変形可能に構成され、 該変形可能な壁に、前記圧電素子が薄膜状に形成されて
    いることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のインクジェット式記録ヘ
    ッドにおいて、 前記隣接する2つのインク室間に配設される壁が、間隔
    を空けて略平行に配置された一対の変形可能な板状体か
    らなり、 各板状体の表面及び/又は裏面に、前記圧電素子が薄膜
    状に形成されていることを特徴とするインクジェット式
    記録ヘッド。
  3. 【請求項3】 基体内部に並列に形成されたインク室
    と、該インク室の容積を変化させることによってそのイ
    ンク室内のインクを加圧する圧電素子と、該圧電素子に
    よって加圧されたインクを前記インク室から外部へ噴出
    するノズルとを備えたインクジェット式記録ヘッドの製
    造方法において、 前記インク室を形成する壁の内、少なくとも隣接する2
    つのインク室間に配設される壁を変形可能に構成し、 該変形可能な壁に、電解析出法によって前記圧電素子を
    薄膜状に形成することを特徴とするインクジェット式記
    録ヘッドの製造方法。
  4. 【請求項4】 基体内部に並列に形成されたインク室
    と、該インク室の容積を変化させることによってそのイ
    ンク室内のインクを加圧する圧電素子と、該圧電素子に
    よって加圧されたインクを前記インク室から外部へ噴出
    するノズルとを備えたインクジェット式記録ヘッドの製
    造方法において、 変形可能な平板の表面及び/又は裏面に前記圧電素子を
    薄膜状に形成し、 前記平板を間隔を空けて略平行に配置すると共に、該間
    隔の周囲を閉塞して前記インク室を形成することを特徴
    とするインクジェット式記録ヘッドの製造方法。
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