JPH0999216A - Harmful gas purifying agent - Google Patents

Harmful gas purifying agent

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JPH0999216A
JPH0999216A JP8122735A JP12273596A JPH0999216A JP H0999216 A JPH0999216 A JP H0999216A JP 8122735 A JP8122735 A JP 8122735A JP 12273596 A JP12273596 A JP 12273596A JP H0999216 A JPH0999216 A JP H0999216A
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fluorine
hydroxide
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gas
purifying
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秀樹 福田
Kenji Otsuka
健二 大塚
Chitsu Arakawa
秩 荒川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a purifying agent capable of efficiently removing fluorine- contg. gases such as tungsten hexafluoride, hydrogen fluoride, fluorine, boron trifluoride and silicon tetrafluoride contained in waste gas discharged from a semiconductor producing process. SOLUTION: Strontium hydroxide as a base is molded with an org. binder as a molding agent and hydroxide of an alkaline earth metal other than strontium as a molding aid to obtain the objective purifying agent.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は有害ガスの浄化剤に
関し、さらに詳細には、フッ化水素、フッ素、六フッ化
タングステン、四フッ化珪素、三フッ化硼素など、主と
して半導体製造工程などで使用された後、排出される有
害ガス、特にフッ素原子を含むフッ素系ガスの浄化に用
いる浄化剤に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a toxic gas purifying agent, and more specifically, it is mainly used in semiconductor manufacturing processes such as hydrogen fluoride, fluorine, tungsten hexafluoride, silicon tetrafluoride, and boron trifluoride. The present invention relates to a purifying agent used for purifying harmful gases discharged after being used, particularly fluorine-based gas containing fluorine atoms.

【0002】近年、半導体工業やオプロエレクトロニク
ス工業の発展とともにフッ化水素、フッ素、六フッ化タ
ングステン、四フッ化珪素、三フッ化硼素などフッ素系
ガスの種類および使用量が増加している。これらのフッ
素系ガスはシリコン半導体や化合物半導体製造工業など
において、結晶性シリコン、アモルファスシリコンある
いは酸化シリコン膜の膜成長、あるいは、エッチングガ
スとして不可欠な物質である。またこれらのフッ素系ガ
スは、半導体製造工程などでそのまま、あるいはヘリウ
ム、アルゴン、窒素、水素などで希釈された状態で使用
された後、そのまま、あるいはさらに窒素、空気などの
ガスで希釈された状態で排出されることから、そのガス
濃度は一定していない。そしてこれらのフッ素系ガス
は、いずれも毒性が高く、人体および環境に悪影響を与
えるので、これらフッ素系ガスを含む有害ガスは半導体
製造工程などで使用された後、大気に放出するに先立っ
て浄化する必要がある。
In recent years, with the development of the semiconductor industry and the oproelectronics industry, the types and amounts of fluorine-based gases such as hydrogen fluoride, fluorine, tungsten hexafluoride, silicon tetrafluoride and boron trifluoride have increased. These fluorine-based gases are indispensable substances as film growth of crystalline silicon, amorphous silicon or silicon oxide films, or as etching gas in the manufacturing industry of silicon semiconductors and compound semiconductors. Further, these fluorine-based gases are used as they are in the semiconductor manufacturing process or after being used in a state diluted with helium, argon, nitrogen, hydrogen, etc., and then as they are or further diluted with a gas such as nitrogen or air. The gas concentration is not constant because the gas is discharged in. Since all of these fluorine-based gases are highly toxic and adversely affect the human body and the environment, harmful gases containing these fluorine-based gases are purified before being released into the atmosphere after being used in semiconductor manufacturing processes. There is a need to.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来、ガス中に含まれるフッ素系ガスを
含めハロゲン系ガスを除去する手段として、スクラバ
ー、スプレー塔、回転式微細気泡発生装置などを用い、
これらのガスを水酸化ナトリウムなどのアルカリ水溶液
と接触させて吸収分解させる湿式法(特開昭61−20
4022号公報、特開昭62−125827号公報な
ど)、およびマグネシウム、ナトリウム、カリウムの酸
化物、炭酸塩などの吸着剤(特開昭63−232844
号公報、特開昭60−68051号公報)、あるいはソ
ーダライムなどを有効成分とする浄化剤など固形状のも
のを充填筒に充填し、これらの有害ガスを流して浄化す
る乾式法が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a scrubber, a spray tower, a rotary fine bubble generator, etc. have been used as a means for removing halogen-containing gas including fluorine-containing gas.
Wet method of absorbing and decomposing these gases by contacting them with an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide (JP-A-61-20).
No. 4022, JP-A No. 62-125827, etc.) and adsorbents such as magnesium, sodium, potassium oxides and carbonates (JP-A No. 63-232844).
Japanese Patent Laid-Open No. 60-68051), or a dry method in which a solid substance such as a purifying agent containing soda lime as an active ingredient is filled in a filling cylinder and these harmful gases are caused to flow to purify. ing.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、湿式法
は一般的に後処理に困難性があり、装置が複雑で大型と
なるばかりでなく、設備、保守ともに多額の費用を要す
るという問題点がある。一方、乾式法として、マグネシ
ウム、ナトリウム、カリウムの酸化物、炭酸塩などの吸
着剤が用いられるが、吸着剤単位容積当たりの除去能力
が小さいという不都合がある。また、亜鉛化合物とアル
カリ金属化合物などを活性炭に含浸させた浄化剤も知ら
れているが、その除去容量が必ずしも十分とはいえず、
フッ素系ガス濃度が高かったり、処理ガス量が多い場合
には、処理しきれないという問題点があるばかりでな
く、活性炭を用いた浄化剤はフッ素など反応性の極めて
高いガスの処理においては火災の危険性もある。
However, the wet method generally has a problem in that post-treatment is difficult, and not only the apparatus is complicated and large, but also a large amount of equipment and maintenance are required. . On the other hand, as the dry method, an adsorbent such as an oxide of magnesium, sodium, potassium, or a carbonate is used, but there is a disadvantage that the removal capacity per unit volume of the adsorbent is small. Further, a purifying agent in which activated carbon is impregnated with a zinc compound and an alkali metal compound is also known, but its removal capacity is not always sufficient,
When the concentration of fluorine-based gas is high or the amount of treated gas is large, not only there is the problem that the treatment cannot be completed, but the purification agent using activated carbon causes a fire when treating highly reactive gases such as fluorine. There is also the risk of.

【0005】さらに、ソーダライムは上記の浄化剤より
は幾分処理量が大きいものの、浄化剤が乾燥したり、フ
ッ素系ガス濃度が低濃度の場合には、除去能力が大幅に
低下するという問題点がある。従って、有害ガスが低濃
度であり、しかも乾燥状態といった、半導体製造プロセ
スなどから排出されるような種々のフッ素系ガスに対し
て除去性能が優れ、浄化の際に火災などの危険性がな
く、かつ、高い効率で除去できる浄化剤の出現が望まれ
ていた。
Further, although soda lime has a somewhat larger treatment amount than the above-mentioned purifying agents, there is a problem that when the purifying agent is dried or when the concentration of fluorine-based gas is low, the removal ability is significantly lowered. There is a point. Therefore, the harmful gas has a low concentration, and is excellent in removing performance against various fluorine-based gases discharged from the semiconductor manufacturing process, such as a dry state, and there is no risk of fire during purification, Moreover, the advent of a cleaning agent that can be removed with high efficiency has been desired.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、これらの
問題点を解決するべく鋭意検討を重ねた結果、主成分と
して水酸化ストロンチウムに成形剤として有機系粘結剤
を用いるとともに、成形助剤としてストロンチウム以外
のアルカリ土類金属の水酸化物を用いて浄化剤とするこ
とにより、フッ素系ガスの除去に対し、大きな浄化能力
を有するとともに、乾燥した状態においても除去能力の
低下することがなく、しかも、火災の恐れがない、優れ
た安全性を有することを見出し、本発明を完成した。す
なわち本発明は、水酸化ストロンチウムを主成分とし、
成形剤として有機系粘結剤及び成形助剤として水酸化ス
トロンチウム以外のアルカリ土類金属水酸化物を用いて
成形し、有害なフッ素系ガスを含むガスと接触させ、該
フッ素系ガスを除去することを特徴とする有害ガスの浄
化剤である。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve these problems, the inventors of the present invention have used strontium hydroxide as a main component and an organic binder as a molding agent and By using a hydroxide of an alkaline earth metal other than strontium as an auxiliary agent as a cleaning agent, it has a large cleaning capacity for the removal of fluorine-based gas, and the removal capacity also decreases in the dry state. The present invention has been completed by finding that there is no fire, and there is no fear of fire and that it has excellent safety. That is, the present invention is mainly composed of strontium hydroxide,
Molding using an organic binder as a molding agent and an alkaline earth metal hydroxide other than strontium hydroxide as a molding aid, and contacting with a gas containing a harmful fluorine gas to remove the fluorine gas It is a toxic gas purifier characterized by the following.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明の浄化剤は、半導体プロセ
スから排出される排ガスなど、フッ素系ガスを含む有害
なガスの浄化に適用される。浄化の対象となる有害ガス
としては、窒素、アルゴン、ヘリウム、および空気など
にフッ素系ガス、例えば、フッ化水素、フッ素、三フッ
化硼素、六フッ化タングステンまたは四フッ化珪素など
のフッ素系ガスの1種以上を含むガスである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The purifying agent of the present invention is applied to purifying harmful gases including fluorine-containing gas such as exhaust gas discharged from a semiconductor process. As the harmful gas to be purified, nitrogen, argon, helium, air and the like are fluorine-based gas, for example, hydrogen fluoride, fluorine, boron trifluoride, tungsten hexafluoride or silicon tetrafluoride. It is a gas containing at least one kind of gas.

【0008】本発明において、浄化剤の主成分として水
酸化ストロンチウムが用いられる。水酸化ストロンチウ
ム[Sr(OH)2 ]は、例えば、塩化ストロンチウム
と苛性ソーダとの反応によって製造することもできる
が、8水和物などの形で純度98%以上のもが市販され
ているので、通常はこれらの市販品を用いることができ
る。水酸化ストロンチウムが8水和物の場合には、その
まま用いてもよいが、80℃程度に加熱すると比較的容
易に安定な1水和物が得られるので、この1水和物相当
とした形で用いてもよく、また結晶水を含まない無水物
を用いてもよい。
In the present invention, strontium hydroxide is used as the main component of the cleaning agent. Strontium hydroxide [Sr (OH) 2 ] can be produced, for example, by reacting strontium chloride with caustic soda, but since it is commercially available in the form of octahydrate or the like with a purity of 98% or more, Usually, these commercial products can be used. When strontium hydroxide is octahydrate, it may be used as it is, but since stable monohydrate can be obtained relatively easily when heated to about 80 ° C., a form corresponding to this monohydrate is obtained. May be used, or an anhydride containing no water of crystallization may be used.

【0009】水酸化ストロンチウムは成形して浄化剤と
されるが、成形に際しては成形性および成形強度を高め
るなどの目的で、成形剤としてポリビニルアルコール、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、
メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどの
有機系の粘結剤をそれぞれ単独、あるいはこれらを併用
して用いられる。成形剤の添加量は、水酸化ストロンチ
ウムの結晶水量、成型条件などによって定められるが、
水酸化ストロンチウムの無水物換算で100重量部に対
し、通常は0.1〜40重量部、好ましくは0.5〜2
0重量部である。
Although strontium hydroxide is molded into a purifying agent, polyvinyl alcohol, as a molding agent, is used for the purpose of enhancing moldability and molding strength during molding.
Polyethylene glycol, polypropylene glycol,
Organic binders such as methyl cellulose and carboxymethyl cellulose may be used alone or in combination. The amount of molding agent added is determined by the amount of strontium hydroxide water of crystallization, molding conditions, etc.
Usually, 0.1 to 40 parts by weight, preferably 0.5 to 2 parts by weight, relative to 100 parts by weight of strontium hydroxide in terms of anhydride.
0 parts by weight.

【0010】また、さらに成形性を高めるために、成形
助剤としてストロンチウム以外のアルカリ土類金属の水
酸化物が添加される。ストロンチウム以外のアルカリ土
類金属の水酸化物は水酸化ストロンチウムの浄化能力を
低下させることなく成形性を高められるほか、それ自身
も浄化能力を有することから、好都合である。さらにフ
ッ素、フッ化水素のような除去対象の有害ガス種によっ
ては、成型助剤として加えた水酸化ストロンチウム以外
のアルカリ土類金属水酸化物が水酸化ストロンチウムと
相乗効果を示すことから極めて好都合である。それらの
アルカリ土類金属としては、水酸化マグネシウム[Mg
(OH)2 ]、水酸化カルシウム[Ca(OH)2 ]、
水酸化バリウム[Ba(OH)2 ]などであり、通常は
これらの市販品を用いることができる。
Further, in order to further improve the moldability, a hydroxide of an alkaline earth metal other than strontium is added as a molding aid. A hydroxide of an alkaline earth metal other than strontium is advantageous because it can improve the formability without deteriorating the purification ability of strontium hydroxide and has a purification ability itself. Furthermore, depending on the harmful gas species to be removed such as fluorine and hydrogen fluoride, the alkaline earth metal hydroxides other than strontium hydroxide added as a molding aid show a synergistic effect with strontium hydroxide, which is extremely convenient. is there. As those alkaline earth metals, magnesium hydroxide [Mg
(OH) 2 ], calcium hydroxide [Ca (OH) 2 ],
Barium hydroxide [Ba (OH) 2 ] and the like, and commercially available products thereof can be usually used.

【0011】これらのストロンチウム以外のアルカリ土
類金属の水酸化物はそれぞれ単独で用いることもできる
が、2種以上混合して用いてもよい。水酸化ストロンチ
ウムに対するストロンチウム以外のアルカリ土類金属の
水酸化物との混合割合については、ストロンチウム以外
のアルカリ土類金属の水酸化物の割合が多すぎる場合は
浄化能力が低下すること、また少なすぎる場合は浄化能
力が低下するとともに成形性も悪くなることから、水酸
化ストロンチウムおよびストロンチウム以外のアルカリ
土類金属の水酸化物合計量(以下Mと略記する)のモル
比(Sr:M)で通常は1:0.05〜1、好ましくは
1:0.1〜0.5程度である。
These hydroxides of alkaline earth metals other than strontium may be used alone or in combination of two or more. Regarding the mixing ratio of hydroxides of alkaline earth metals other than strontium to strontium hydroxide, if the ratio of hydroxides of alkaline earth metals other than strontium is too high, the purification capacity will decrease, and it will also be too low. In this case, since the purifying ability is deteriorated and the moldability is deteriorated, the molar ratio (Sr: M) of strontium hydroxide and the total amount of hydroxides of alkaline earth metals other than strontium (hereinafter abbreviated as M) is usually Is about 1: 0.05 to 1, preferably about 1: 0.1 to 0.5.

【0012】本発明の浄化剤におけるフッ素系ガスの浄
化能力は、浄化剤中の水分量によって影響されることが
少なく、浄化剤中の水分が微量であっても浄化すること
ができる。しかし、浄化能力をより高めるなどの目的で
浄化剤に適量の水を含ませてもよい。その場合の水の含
有量としては、水酸化ストロンチウムの水和物を構成し
ている水分などを含め、成形調製後の含水率として、通
常は30重量%以下、好ましくは15重量%以下とされ
る。
The purifying ability of the purifying agent of the present invention for the fluorine-containing gas is less affected by the amount of water in the purifying agent, and it is possible to purify even a small amount of water in the purifying agent. However, an appropriate amount of water may be contained in the purifying agent for the purpose of further enhancing the purifying ability. The water content in that case is usually 30% by weight or less, preferably 15% by weight or less, as the water content after the molding and preparation, including the water constituting the hydrate of strontium hydroxide. It

【0013】浄化剤を調製する方法には種々の方法があ
るが、例えば水酸化ストロンチウムとその他のアルカリ
土類金属水酸化物を所定の割合で予備的に混合したもの
に、有機系粘結剤の水溶液を加えてかき混ぜ、得られた
スラリーまたはケーキを押し出し成型し、適当な長さに
切断して得られたペレットを乾燥機中で所定の水分量に
なるように乾燥して浄化剤とする方法、または、上記の
ようなスラリーまたはケーキを乾燥した後粉砕し、打錠
成型する方法、あるいはスラリーまたはケーキを造粒機
などを用いて、粒状に成型する方法などがある。このほ
か、水酸化ストロンチウム、有機系粘結剤、ストロンチ
ウム以外のアルカリ土類金属の水酸化物を所定割合で均
一に混合し、成形できる方法であれば本発明の浄化剤の
調製方法に適用することができる。これらのうち成形性
および形状、大きさの選択の容易さなどから押し出し成
型によりペレット状とするのが一般的に好ましい。
There are various methods for preparing the purifying agent. For example, a mixture of strontium hydroxide and other alkaline earth metal hydroxide preliminarily mixed in a predetermined ratio and an organic binder are used. The resulting slurry or cake is extruded and molded, and the pellets obtained by cutting into an appropriate length are dried in a drier to a specified water content and used as a purifying agent. There is a method, or a method in which the slurry or cake as described above is dried and then crushed and tablet-molded, or a method in which the slurry or cake is granulated using a granulator or the like. In addition, strontium hydroxide, an organic binder, a hydroxide of an alkaline earth metal other than strontium is uniformly mixed at a predetermined ratio, and any method capable of molding is applied to the method for preparing the purifying agent of the present invention. be able to. Of these, it is generally preferable to extrude into pellets in terms of moldability, ease of selection of shape and size.

【0014】成形体の大きさおよび形状には特に制限は
ないが、球形、円柱状、円筒形および粒状などが代表例
として挙げられる。その大きさは球状であれば直径0.
5〜10mm、ペレット、タブレットなど円柱状であれ
ば直径0.5〜10mm、高さ2〜20mm程度であ
り、粒状、破砕状など不定形のものであれば、ふるいの
目の開きで0.8〜6mm程度のものである。成形体を
浄化筒に充填した場合の充填密度は通常は0.4〜2.
0g/ml程度のものである。
The size and shape of the molded product are not particularly limited, but typical examples include spherical, cylindrical, cylindrical and granular forms. If the size is spherical, the diameter is 0.
5 to 10 mm, pellets, tablets and the like having a cylindrical shape have a diameter of 0.5 to 10 mm and a height of about 2 to 20 mm. It is about 8 to 6 mm. The packing density when the molded body is packed in the purifying cylinder is usually 0.4 to 2.
It is about 0 g / ml.

【0015】本発明の浄化剤は固定床の他、移動床、流
動床として用いることも可能であるが、通常は固定床と
して用いられる。浄化剤は浄化筒内に充填され、フッ素
系ガスを含有する有害ガスはこの浄化筒内に流され、浄
化剤と接触させることにより、有害成分であるフッ素系
ガスが除去される。本発明の浄化剤が適応される有害ガ
ス中に含まれるフッ素系ガスの濃度に特に限定はない
が、一般的に半導体製造時に排出される数万ppmの高
濃度から数ppmの低濃度まで浄化が可能である。
The purifying agent of the present invention can be used not only as a fixed bed but also as a moving bed or a fluidized bed, but it is usually used as a fixed bed. The purifying agent is filled in the purifying cylinder, and the harmful gas containing the fluorine-based gas is caused to flow into the purifying cylinder and brought into contact with the purifying agent to remove the fluorine-based gas as a harmful component. The concentration of the fluorine-based gas contained in the harmful gas to which the purifying agent of the present invention is applied is not particularly limited, but is generally purified from a high concentration of tens of thousands ppm to a low concentration of several ppm emitted during semiconductor manufacturing. Is possible.

【0016】浄化筒はフッ素系ガスの濃度、浄化対象と
なる有害ガスの量、許容できる圧力損失などに応じて設
計される。浄化筒内の浄化剤の充填長はガスの流量およ
び有害ガスの濃度などによって異なり一概に特定はでき
ないが、実用上通常は50〜1500mm程度とされ
る。浄化筒の内径は筒内を流れるガスの空筒基準線速度
(LV)が0.1〜150cm/sec程度となるよう
に設計される。一般的にはこれらの条件は充填層の圧力
損失、ガスの接触効率およびフッ素系ガスの濃度などに
よって定められる。
The purifying cylinder is designed according to the concentration of fluorine-based gas, the amount of harmful gas to be purified, the allowable pressure loss, and the like. The filling length of the purifying agent in the purifying cylinder varies depending on the flow rate of the gas, the concentration of the harmful gas and the like and cannot be specified unconditionally, but in practice, it is usually about 50 to 1500 mm. The inner diameter of the purifying cylinder is designed so that the empty cylinder reference linear velocity (LV) of the gas flowing in the cylinder is about 0.1 to 150 cm / sec. Generally, these conditions are determined by the pressure loss of the packed bed, the gas contact efficiency, the concentration of the fluorine-based gas, and the like.

【0017】接触温度は通常は0〜90℃、好ましくは
室温付近の温度(0〜40℃)で操作され、特に加熱や
冷却を必要としない。なお、接触開始後は反応熱によ
り、フッ素系ガスの種類、濃度などによっては温度が若
干上昇することもあるが、活性炭など可燃物を使用して
いないため発火などの危険性はない。接触時の圧力に特
に制限はなく、通常は常圧で行われるが、0.5〜2k
g/cm2 absのような減圧乃至加圧下で操作するこ
とも可能である。次に本発明を実施例によりさらに詳し
く説明するが、本発明はこれらの例により限定されるも
のではない。
The contact temperature is usually 0 to 90 ° C., preferably operating at a temperature around room temperature (0 to 40 ° C.), and heating or cooling is not particularly required. After the contact is initiated, the reaction heat may cause a slight temperature rise depending on the type and concentration of the fluorine-based gas, but there is no danger of ignition because no combustible material such as activated carbon is used. There is no particular limitation on the pressure at the time of contact, and it is usually performed at normal pressure, but 0.5 to 2 k
It is also possible to operate under reduced pressure or increased pressure such as g / cm 2 abs. Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0018】[0018]

【実施例】【Example】

実施例1 水酸化ストロンチウム[Sr(OH)2 ・8H2 O]
(純度99%)248gを乾燥機中80℃で18時間乾
燥することによって、乾燥水酸化ストロンチウム130
gを得た。このものは1水和物に相当する重量であっ
た。この乾燥水酸化ストロンチウム130gに水酸化カ
ルシウム(関東化学(株)製、試薬1級、)35gを混
合し(モル比、Sr:Ca=1:0.5)、これにポリ
ビニルアルコール(PVAと略記、信越化学工業(株)
製、PA−05)8gを48gの水に溶かした溶液を加
えてかき混ぜた。得られたケーキを1.6mmφのノズ
ル板より押し出し、得られた成形物を切断して長さ3〜
5mm程度のペレットとし、乾燥機中100℃で約24
時間乾燥することによって160gの浄化剤Aを得た。
この浄化剤Aの充填密度は0.60g/mlであった。
また、浄化剤Aの含水率を乾量式水分計(株式会社チノ
ー製、CZA1000)で測定したところ、0.9重量
%であった。
Example 1 Strontium hydroxide [Sr (OH) 2 · 8H 2 O]
Dry strontium hydroxide 130 by drying 248 g (purity 99%) in a dryer at 80 ° C. for 18 hours.
g was obtained. This had a weight corresponding to monohydrate. To 130 g of this dried strontium hydroxide was mixed 35 g of calcium hydroxide (Kanto Kagaku Co., Ltd., first-grade reagent) (molar ratio, Sr: Ca = 1: 0.5), and polyvinyl alcohol (abbreviated as PVA) was added thereto. , Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
(Manufactured by PA-05), a solution prepared by dissolving 8 g of PA-05) in 48 g of water was added and stirred. The obtained cake is extruded through a 1.6 mmφ nozzle plate, and the obtained molded product is cut to a length of 3 to
Approximately 24 mm at 100 ° C in a dryer with pellets of about 5 mm
After drying for 160 hours, 160 g of Purifying Agent A was obtained.
The packing density of this cleaning agent A was 0.60 g / ml.
The water content of the purifying agent A was measured by a dry moisture meter (CZA1000, manufactured by Chino Co., Ltd.) and found to be 0.9% by weight.

【0019】次に、この浄化剤Aを内径40mm、長さ
200mmの石英ガラス製の浄化筒に125.6ml
(充填長100mm)充填し、これに六フッ化タングス
テンガスを1000ppm含有する窒素を20℃、常圧
下で2260ml/min(空筒基準線速度LV=3c
m/sec)の流量で流通させ、破過までの時間を測定
し、これより浄化剤1リットル当たりに対する六フッ化
タングステンガスの除去量を求めた。六フッ化タングス
テンガスの破過の検知は浄化筒出口ガスの一部をサンプ
リングし、フッ化物用の検知器(バイオニクス機器
(株)製、TG−3700)を用いて測定した。なお、
六フッ化タングステンガスの検知下限界は0.6ppm
である。浄化剤組成を表1に、浄化試験結果を表2に示
した。
Next, 125.6 ml of this purifying agent A was put into a purifying cylinder made of quartz glass having an inner diameter of 40 mm and a length of 200 mm.
(Filling length 100 mm), filled with nitrogen containing 1000 ppm of tungsten hexafluoride gas at 20 ° C. under normal pressure, 2260 ml / min (empty cylinder reference linear velocity LV = 3 c
(m / sec), the time until breakthrough was measured, and the amount of tungsten hexafluoride gas removed per liter of the cleaning agent was determined from this. The breakthrough of the tungsten hexafluoride gas was detected by sampling a part of the purification cylinder outlet gas and using a detector for fluoride (TG-3700 manufactured by Bionics Instruments Co., Ltd.). In addition,
Lower limit of detection of tungsten hexafluoride gas is 0.6 ppm
It is. The cleaning agent composition is shown in Table 1, and the cleaning test result is shown in Table 2.

【0020】実施例2〜6 水酸化ストロンチウム[Sr(OH)2 ・8H2 O]2
47gに水酸化カルシウム35gを混合し、これにポリ
ビニルアルコール8gを48gの水に溶かした溶液を加
えてかき混ぜた。得られたケーキから実施例1と同様の
方法で、158gの浄化剤Bを得た。この浄化剤Bの充
填密度は0.57g/mlであった。また、含水率は
1.2重量%であった。
Examples 2 to 6 Strontium hydroxide [Sr (OH) 2 .8H 2 O] 2
35 g of calcium hydroxide was mixed with 47 g, and a solution prepared by dissolving 8 g of polyvinyl alcohol in 48 g of water was added thereto and stirred. From the obtained cake, 158 g of purifying agent B was obtained in the same manner as in Example 1. The packing density of this cleaning agent B was 0.57 g / ml. The water content was 1.2% by weight.

【0021】この浄化剤Bについて、実施例1と同様の
方法で、六フッ化タングステン、四フッ化珪素、三フッ
化ホウ素、フッ素、フッ化水素の浄化試験を行った。そ
れぞれのフッ素系ガスの供給濃度はいずれも1000p
pmで行った。また破過検知は浄化筒出口ガスの一部を
サンプリングし、下記フッ化物用の検知器(バイオニク
ス機器(株)製)を用いて測定した。なお、それぞれの
フッ素系ガスの検知下限界は下記の通りである フッ素系ガス 検知器 検知下限界 (ppm) 六フッ化タングステン TG−3700 0.6 四フッ化珪素 TG−3700 0.6 三フッ化ホウ素 TG−3700 0.6 フッ素 TG−1400 0.2 フッ化水素 TG− 700 0.6 浄化剤組成を表1に、浄化試験結果を表2に示した。
The purification agent B was subjected to a purification test for tungsten hexafluoride, silicon tetrafluoride, boron trifluoride, fluorine and hydrogen fluoride in the same manner as in Example 1. The supply concentration of each fluorine-based gas is 1000 p
It was done in pm. In the breakthrough detection, a part of the purification cylinder outlet gas was sampled and measured using a fluoride detector (manufactured by Bionics Instruments Co., Ltd.) below. The lower detection limit of each fluorine-based gas is as follows: Fluorine-based gas detector Lower detection limit (ppm) Tungsten hexafluoride TG-3700 0.6 Silicon tetrafluoride TG-3700 0.6 Boron bromide TG-3700 0.6 Fluorine TG-1400 0.2 Hydrogen fluoride TG-700 0.6 The cleaning agent composition is shown in Table 1, and the cleaning test result is shown in Table 2.

【0022】実施例7 水酸化ストロンチウム[Sr(OH)2 ・8H2 O]2
47gに水酸化カルシウム35gを混合し、これにメチ
ルセルロース(MCと略記、関東化学(株)製)8gを
48gの水に溶かした溶液を加えてかき混ぜた。得られ
たケーキから実施例1と同様の方法で160gの浄化剤
Cを得た。この浄化剤Cの充填密度は0.58g/ml
であった。また、含水率は1.0重量%であった。この
浄化剤Cについて、実施例1と同様にして、六フッ化タ
ングステンを1000ppm含有する窒素の浄化試験を
行った。浄化剤組成を表1に、浄化試験結果を表2に示
した。
Example 7 Strontium hydroxide [Sr (OH) 2 .8H 2 O] 2
A solution of 8 g of methyl cellulose (abbreviated as MC, manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) in 48 g of water was added to 47 g of calcium hydroxide, and the mixture was stirred. 160 g of the purifying agent C was obtained from the obtained cake in the same manner as in Example 1. The packing density of this purifying agent C is 0.58 g / ml
Met. The water content was 1.0% by weight. With respect to this purifying agent C, a purifying test of nitrogen containing 1000 ppm of tungsten hexafluoride was conducted in the same manner as in Example 1. The cleaning agent composition is shown in Table 1, and the cleaning test result is shown in Table 2.

【0023】実施例8 水酸化カルシウムの添加量を7gに変えたほかは、実施
例2と同様にして、135gの浄化剤Dを得た。この浄
化剤Dの充填密度は0.55g/mlであった。また、
含水率は1.2重量%であった。この浄化剤Dについ
て、実施例1と同様にして、六フッ化タングステンを1
000ppm含有する窒素の浄化試験を行った。浄化剤
組成を表1に、浄化試験結果を表2に示した。
Example 8 Purification agent D (135 g) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the amount of calcium hydroxide added was changed to 7 g. The packing density of this cleaning agent D was 0.55 g / ml. Also,
The water content was 1.2% by weight. About this purifying agent D, in the same manner as in Example 1, 1 part of tungsten hexafluoride was added.
A purification test of nitrogen containing 000 ppm was conducted. The cleaning agent composition is shown in Table 1, and the cleaning test result is shown in Table 2.

【0024】実施例9 水酸化カルシウムに代えて水酸化マグネシウム[Mg
(OH)2 ](関東化学(株)製、試薬1級)54gを
用いたほかは、実施例2と同様にして、181gの浄化
剤Eを得た。この浄化剤Eの充填密度は0.65g/m
lであった。また、含水率は1.2重量%であった。こ
の浄化剤Eについて、実施例1と同様にして、六フッ化
タングステンを1000ppm含有する窒素の浄化試験
を行った。浄化剤組成を表1に、浄化試験結果を表2に
示した。
Example 9 Instead of calcium hydroxide, magnesium hydroxide [Mg
(OH) 2 ] (Kanto Chemical Co., Inc., reagent grade 1) 54 g was used in the same manner as in Example 2 to obtain 181 g of the purifying agent E. The packing density of this purifying agent E is 0.65 g / m
It was l. The water content was 1.2% by weight. With respect to this purifying agent E, a purifying test of nitrogen containing 1000 ppm of tungsten hexafluoride was conducted in the same manner as in Example 1. The cleaning agent composition is shown in Table 1, and the cleaning test result is shown in Table 2.

【0025】実施例10 水酸化カルシウムに代えて、水酸化バリウム[Ba(O
H)2 ・8H2 O](関東化学(株)製、試薬1級)8
0gを用いたほかは、実施例2と同様にして、209g
の浄化剤Fを得た。この浄化剤Fの充填密度は0.68
g/mlであった。また、含水率は1.3重量%であっ
た。この浄化剤Fについて、実施例1と同様にして、六
フッ化タングステンを1000ppm含有する窒素の浄
化試験を行った。浄化剤組成を表1に、浄化試験結果を
表2に示した。
Example 10 Instead of calcium hydroxide, barium hydroxide [Ba (O
H) 2 · 8H 2 O] ( Kanto Chemical Co., Ltd., first grade reagent) 8
209 g in the same manner as in Example 2 except that 0 g was used.
Purifying agent F was obtained. The packing density of this purifying agent F is 0.68
It was g / ml. The water content was 1.3% by weight. This purifying agent F was subjected to a purifying test for nitrogen containing 1000 ppm of tungsten hexafluoride in the same manner as in Example 1. The cleaning agent composition is shown in Table 1, and the cleaning test result is shown in Table 2.

【0026】実施例11 水酸化ストロンチウム[Sr(OH)2 ・8H2 O]2
47gに水酸化カルシウム35g、水酸化マグネシウム
54gを混合し、これにポリビニルアルコール8gを4
8gの水に溶かした溶液を加えてかき混ぜた。得られた
ケーキを実施例1と同様にして、215gの浄化剤Gを
得た。この浄化剤Gの充填密度は0.64g/mlであ
った。また、含水率は0.9重量%であった。この浄化
剤Gについて、実施例1と同様にして、六フッ化タング
ステンを1000ppm含有する窒素の浄化試験を行っ
た。浄化剤組成を表1に、浄化試験結果を表2に示し
た。
Example 11 Strontium hydroxide [Sr (OH) 2 .8H 2 O] 2
To 47 g, 35 g of calcium hydroxide and 54 g of magnesium hydroxide were mixed, and 8 g of polyvinyl alcohol was mixed with 4 g of this.
A solution dissolved in 8 g of water was added and stirred. The obtained cake was treated in the same manner as in Example 1 to obtain 215 g of a purifying agent G. The packing density of this cleaning agent G was 0.64 g / ml. The water content was 0.9% by weight. With respect to this purifying agent G, a purifying test of nitrogen containing 1000 ppm of tungsten hexafluoride was conducted in the same manner as in Example 1. The cleaning agent composition is shown in Table 1, and the cleaning test result is shown in Table 2.

【0027】比較例1 粒径が3.5〜5.5mmのソーダーライム(和光純薬
(株)製、ソーダーライム2号)を窒素気流中、100
℃の乾燥噐にて24時間乾燥させた。この乾燥ソーダー
ライムの充填密度は0.78g/mlであり、含水率は
1.0重量%であった。この乾燥ソーダーライムを用
い、実施例1と同様にして、六フッ化タングステンを1
000ppm含有する窒素の浄化試験を行った。結果を
表3に示した。
Comparative Example 1 Soda lime (Soda Lime No. 2, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) having a particle size of 3.5 to 5.5 mm was subjected to 100 in a nitrogen stream.
It was dried for 24 hours in a drying pot at ℃. The packing density of this dried soda lime was 0.78 g / ml, and the water content was 1.0% by weight. Using this dried soda lime, in the same manner as in Example 1, tungsten hexafluoride 1
A purification test of nitrogen containing 000 ppm was conducted. The results are shown in Table 3.

【0028】比較例2 粒度5〜8meshのヤシガラ活性炭(BET法表面積
で1200m2 /g)に水酸化ナトリウム水溶液を含浸
させた後、窒素気流中、100℃の乾燥器で24時間乾
燥させ、水酸化ナトリウム10重量%担持の浄化剤Iを
得た。この浄化剤Iの充填密度は0.63g/mlであ
り、含水率は0.5重量%であった。この浄化剤Iを用
い、実施例1と同様にして、六フッ化タングステンを1
000ppm含有する窒素の浄化試験を行った。結果を
表3に示した。
Comparative Example 2 Coconut husk activated carbon having a particle size of 5 to 8 mesh (BET method surface area: 1200 m 2 / g) was impregnated with an aqueous sodium hydroxide solution, and then dried in a drier at 100 ° C. for 24 hours in a nitrogen stream to obtain water. A purifying agent I supporting 10% by weight of sodium oxide was obtained. The packing density of this cleaning agent I was 0.63 g / ml, and the water content was 0.5% by weight. Using this purifying agent I, tungsten hexafluoride was added to 1 in the same manner as in Example 1.
A purification test of nitrogen containing 000 ppm was conducted. The results are shown in Table 3.

【0029】[0029]

【表1】 表1 実施例 成形助剤 モル比 成形剤 含水率 M1 orM2 Sr:M1 +M2 (wt%) 1 Ca(OH)2 1:0.5 PVA 0.9 2〜6 Ca(OH)2 1:0.5 PVA 1.2 7 Ca(OH)2 1.0.5 MC 1.0 8 Ca(OH)2 1:0.1 PVA 1.2 9 Mg(OH)2 1:0.5 PVA 1.2 10 Ba(OH)2 1:0.5 PVA 1.3 11 Ca(OH)2 +Mg(OH)2 1:0.5 +0.5 PVA 0.9[Table 1] Table 1 Examples Molding aid Molar ratio Molding agent Water content M 1 or M 2 Sr: M 1 + M 2 (wt%) 1 Ca (OH) 2 1: 0.5 PVA 0.9 2-6 Ca (OH) 2 1: 0.5 PVA 1.2 7 Ca (OH) 2 1.0.5 MC 1.0 8 Ca (OH) 2 1: 0.1 PVA 1.2 9 Mg (OH) 2 1 : 0.5 PVA 1.2 10 Ba (OH) 2 1: 0.5 PVA 1.3 11 Ca (OH) 2 + Mg (OH) 2 1: 0.5 +0.5 PVA 0.9

【0030】[0030]

【表2】 表2 実施例 フッ素系ガスの種類 破過までの フッ素系ガスの 時間 除去量 (min) (L/L浄化剤) 1 六フッ化タングステン 2223 40 2 六フッ化タングステン 2278 41 3 フッ化水素 11392 205 4 フッ素 6113 110 5 四フッ化珪素 3223 58 6 三フッ化ホウ素 4334 78 7 六フッ化タングステン 2167 39 8 六フッ化タングステン 2501 45 9 六フッ化タングステン 2056 37 10 六フッ化タングステン 2056 37 11 六フッ化タングステン 2167 39[Table 2] Table 2 Examples Fluorine-based gas type Time to remove fluorine-based gas until breakthrough (min) (L / L purification agent) 1 Tungsten hexafluoride 2223 40 2 Tungsten hexafluoride 2278 41 3 Hydrogen hydride 11392 205 4 Fluorine 6113 110 5 Silicon tetrafluoride 3223 58 6 Boron trifluoride 4334 78 7 Tungsten hexafluoride 2167 39 8 Tungsten hexafluoride 2501 45 9 Tungsten hexafluoride 2056 37 10 Tungsten hexafluoride 2056 37 11 Tungsten hexafluoride 2167 39

【0031】[0031]

【表3】 表3 比較例 フッ素系ガスの種類 破過までの フッ素系ガスの 時間 除去量 (min) (L/L浄化剤) 1 六フッ化タングステン 406 7.3 2 六フッ化タングステン 311 5.6[Table 3] Table 3 Comparative example Fluorine-based gas type Time to remove fluorine-based gas Removal amount (min) (L / L purifying agent) 1 Tungsten hexafluoride 406 7.3 2 Tungsten hexafluoride 311 5 .6

【0032】実施例12 水酸化ストロンチウム[Sr(OH)2 ・8H2 O]2
66gに水酸化カルシウム74gを混合し、これにポリ
ビニルアルコール8gを48gの水に溶かした溶液を加
えてかき混ぜた。得られたケーキを押し出し成型し、直
径1.6mmφ、長さ3〜5mm程度のペレットとし、
乾燥器中100℃で24時間乾燥し、202gの浄化剤
Jを得た。この浄化剤Jの充填密度は0.6g/mlで
あった。また含水率は0.9重量%であった。この浄化
剤Jについて、実施例1と同様の方法でフッ化水素を1
000ppm含有する窒素について浄化試験を行った。
浄化剤組成を表4に、浄化試験結果を表5に示した。
Example 12 Strontium hydroxide [Sr (OH) 2 .8H 2 O] 2
To 66 g, 74 g of calcium hydroxide was mixed, to which a solution of 8 g of polyvinyl alcohol in 48 g of water was added and stirred. The obtained cake is extruded into pellets having a diameter of 1.6 mmφ and a length of 3 to 5 mm,
After drying in a dryer at 100 ° C. for 24 hours, 202 g of purifying agent J was obtained. The packing density of this cleaning agent J was 0.6 g / ml. The water content was 0.9% by weight. For this purifying agent J, hydrogen fluoride was added to 1 in the same manner as in Example 1.
A purification test was performed on nitrogen containing 000 ppm.
The cleaning agent composition is shown in Table 4, and the cleaning test result is shown in Table 5.

【0033】実施例13 水酸化カルシウムの添加量を37gに変えたほかは、実
施例12と同様にして160gの浄化剤Kを得た。この
浄化剤Kの充填密度は0.5g/mlであった。また含
水率は0.9重量%であった。この浄化剤Kについて、
実施例1と同様の方法でフッ化水素を1000ppm含
有する窒素の浄化試験を行った。浄化剤組成を表4に、
浄化試験結果を表5に示した。
Example 13 160 g of Purifying Agent K was obtained in the same manner as in Example 12 except that the amount of calcium hydroxide added was changed to 37 g. The packing density of this cleaning agent K was 0.5 g / ml. The water content was 0.9% by weight. About this purification agent K
A method for purifying nitrogen containing 1000 ppm of hydrogen fluoride was conducted in the same manner as in Example 1. The cleaning agent composition is shown in Table 4,
The purification test results are shown in Table 5.

【0034】実施例14 水酸化ストロンチウム[Sr(OH)2 ・8H2 O]2
66gに水酸化カルシウム14gを混合し、これにポリ
ビニルアルコール6gを36gの水に溶かした溶液を加
えてかき混ぜた。得られたケーキを押し出し成型し、直
径1.6mmφ、長さ3〜5mm程度のペレットとし、
乾燥器中100℃で24時間乾燥し、135gの浄化剤
Lを得た。この浄化剤Lの充填密度は0.57g/ml
であった。また含水率は1.2重量%であった。この浄
化剤Lについて、実施例1と同様の方法でフッ化水素を
1000ppm含有する窒素の浄化試験を行った。浄化
剤組成を表4に、浄化試験結果を表5に示した。
Example 14 Strontium hydroxide [Sr (OH) 2 .8H 2 O] 2
66 g was mixed with 14 g of calcium hydroxide, and a solution prepared by dissolving 6 g of polyvinyl alcohol in 36 g of water was added thereto and stirred. The obtained cake is extruded into pellets having a diameter of 1.6 mmφ and a length of 3 to 5 mm,
It dried at 100 degreeC in the dryer for 24 hours, and obtained 135 g of purifying agents L. The packing density of this purifying agent L is 0.57 g / ml
Met. The water content was 1.2% by weight. This purifying agent L was subjected to a purifying test for nitrogen containing 1000 ppm of hydrogen fluoride in the same manner as in Example 1. The cleaning agent composition is shown in Table 4, and the cleaning test result is shown in Table 5.

【0035】実施例15 水酸化ストロンチウム[Sr(OH)2 ・8H2 O]2
66gに水酸化カルシウム3.5gを混合し、これにポ
リビニルアルコール4gを24gの水に溶かした溶液を
加えてかき混ぜた。得られたケーキを押し出し成型し、
直径1.6mmφ、長さ3〜5mm程度のペレットと
し、乾燥器中100℃で24時間乾燥し、120gの浄
化剤Mを得た。 この浄化剤Mの充填密度は0.58g
/mlであった。また含水率は1.0重量%であった。
この浄化剤Mについて、実施例1と同様の方法でフッ化
水素を1000ppm含有する窒素の浄化試験を行っ
た。浄化剤組成を表4に、浄化試験結果を表5に示し
た。
Example 15 Strontium hydroxide [Sr (OH) 2 .8H 2 O] 2
Calcium hydroxide (3.5 g) was mixed with 66 g, and a solution prepared by dissolving 4 g of polyvinyl alcohol in 24 g of water was added and stirred. Extrude the obtained cake,
Pellets having a diameter of 1.6 mmφ and a length of 3 to 5 mm were prepared, and dried in a dryer at 100 ° C. for 24 hours to obtain 120 g of the purifying agent M. The packing density of this purifying agent M is 0.58 g
/ Ml. The water content was 1.0% by weight.
This purifying agent M was subjected to a purifying test for nitrogen containing 1000 ppm of hydrogen fluoride in the same manner as in Example 1. The cleaning agent composition is shown in Table 4, and the cleaning test result is shown in Table 5.

【0036】実施例16〜19 実施例12〜15で調製した浄化剤J〜Mについて、実
施例1と同様の方法でフッ素を1000ppm含有する
窒素の浄化実験を行った。浄化剤組成を表4に、浄化試
験結果を表5に示した。
Examples 16 to 19 Purifying agents J to M prepared in Examples 12 to 15 were subjected to a purifying experiment of nitrogen containing 1000 ppm of fluorine in the same manner as in Example 1. The cleaning agent composition is shown in Table 4, and the cleaning test result is shown in Table 5.

【0037】比較例3 水酸化ストロンチウム[Sr(OH)2 ・8H2 O]2
66gに水酸化カルシウム111gを混合し、これにポ
リビニルアルコール10gを48gの水に溶かした溶液
を加えてかき混ぜた。得られたケーキを押し出し成型
し、直径1.6mmφ、長さ3〜5mm程度のペレット
とし、乾燥器中100℃で24時間乾燥し、235gの
浄化剤Nを得た。この浄化剤Nの充填密度は0.55g
/mlであった。また含水率は1.2重量%であった。
この浄化剤Nについて、実施例1と同様の方法でフッ化
水素の浄化試験を行った。浄化剤組成を表6に、浄化試
験結果を表7に示した。
Comparative Example 3 Strontium hydroxide [Sr (OH) 2 .8H 2 O] 2
To 66 g, 111 g of calcium hydroxide was mixed, to which a solution of 10 g of polyvinyl alcohol in 48 g of water was added and stirred. The obtained cake was extruded to form pellets having a diameter of 1.6 mmφ and a length of about 3 to 5 mm, and dried in a dryer at 100 ° C. for 24 hours to obtain 235 g of a purifying agent N. The packing density of this purifying agent N is 0.55 g
/ Ml. The water content was 1.2% by weight.
With this purifying agent N, a hydrogen fluoride purification test was conducted in the same manner as in Example 1. The cleaning agent composition is shown in Table 6, and the cleaning test result is shown in Table 7.

【0038】比較例4 水酸化ストロンチウム[Sr(OH)2 ・8H2 O]2
66gにポリビニルアルコール8gを48gの水に溶か
した溶液を加えてかき混ぜた。得られたケーキを押し出
し成型し、直径1.6mmφ、長さ3〜5mm程度のペ
レットとし、乾燥器中100℃で24時間乾燥し、12
0gの浄化剤Oを得た。この浄化剤Oの充填密度は0.
48g/mlであった。また含水率は1.2重量%であ
った。なお、この浄化剤Oの調製において、押し出し成
形時の形状保持性が悪かったほか、乾燥の過程で一部が
粉化した。この浄化剤Oについて、実施例1と同様の方
法でフッ化水素の浄化試験を行った。浄化剤組成を表6
に、浄化試験結果を表7に示した。
Comparative Example 4 Strontium hydroxide [Sr (OH) 2 .8H 2 O] 2
A solution prepared by dissolving 8 g of polyvinyl alcohol in 48 g of water was added to 66 g and the mixture was stirred. The obtained cake is extruded to form pellets having a diameter of 1.6 mmφ and a length of 3 to 5 mm, and dried in a dryer at 100 ° C. for 24 hours.
0 g of purifier O was obtained. The packing density of this purifying agent O is 0.
It was 48 g / ml. The water content was 1.2% by weight. In the preparation of this purifying agent O, the shape retention during extrusion was poor, and part of the powder was pulverized during the drying process. With respect to this purifying agent O, a hydrogen fluoride purification test was conducted in the same manner as in Example 1. Table 6 shows the composition of the cleaning agent
Table 7 shows the purification test results.

【0039】比較例5〜6 比較例3〜4で調製した浄化剤N〜Oについて、実施例
1と同様の方法でフッ素の浄化実験を行った。浄化剤組
成を表6に、浄化試験結果を表7に示した。
Comparative Examples 5 to 6 With respect to the cleaning agents N to O prepared in Comparative Examples 3 to 4, a fluorine cleaning experiment was conducted in the same manner as in Example 1. The cleaning agent composition is shown in Table 6, and the cleaning test result is shown in Table 7.

【0040】[0040]

【表4】 表4 実施例 成形助剤 モル比 成形剤 含水率 M1 Sr:M1 (wt%) 12、16 Ca(OH)2 1:1 PVA 0.9 13、17 Ca(OH)2 1:0.5 PVA 0.9 14、18 Ca(OH)2 1:0.18 PVA 1.2 15、19 Ca(OH)2 1:0.05 PVA 1.0[Table 4] Table 4 Examples Molding aid Molar ratio Molding agent Moisture content M 1 Sr: M 1 (wt%) 12,16 Ca (OH) 2 1: 1 PVA 0.9 13,17 Ca (OH) 2 1: 0.5 PVA 0.9 14,18 Ca ( OH) 2 1: 0.18 PVA 1.2 15,19 Ca (OH) 2 1: 0.05 PVA 1.0

【0041】[0041]

【表5】 表5 実施例 フッ素系ガスの種類 破過までの フッ素系ガスの 時間 除去量 (min) (L/L浄化剤) 12 フッ化水素 8058 145 13 フッ化水素 11392 205 14 フッ化水素 11115 200 15 フッ化水素 8614 155 16 フッ素 5557 100 17 フッ素 6113 110 18 フッ素 6115 110 19 フッ素 5003 90[Table 5] Table 5 Examples Types of fluorine-based gas Time of fluorine-based gas until breakthrough Removal amount (min) (L / L purifying agent) 12 Hydrogen fluoride 8058 145 13 Hydrogen fluoride 11392 205 205 14 Hydrogen fluoride 11115 200 15 Hydrogen fluoride 8614 155 16 Fluorine 5557 100 17 Fluorine 6113 110 18 Fluorine 6115 110 19 Fluorine 5003 90

【0042】[0042]

【表6】 表6 比較例 成形助剤 モル比 成形剤 含水率 M1 Sr:M1 (wt%) 3、5 Ca(OH)2 1:1.5 PVA 0.9 4、6 ──── 1:0 PVA 0.9Table 6 Comparative Examples Molding Aid Molar Ratio Molding Agent Moisture Content M 1 Sr: M 1 (wt%) 3,5 Ca (OH) 2 1: 1.5 PVA 0.9 4,6 ─── ─ 1: 0 PVA 0.9

【0043】[0043]

【表7】 表7 比較例 フッ素系ガスの種類 破過までの フッ素系ガスの 時間 除去量 (min) (L/L浄化剤) 3 フッ化水素 4168 75 4 フッ化水素 2668 48 5 フッ素 1945 35 6 フッ素 1339 24[Table 7] Table 7 Comparative Examples Type of Fluorine-based gas Time of Fluorine-based gas until breakthrough Removal amount (min) (L / L purification agent) 3 Hydrogen fluoride 4168 75 4 Hydrogen fluoride 2668 48 5 Fluorine 1945 35 6 Fluorine 1339 24

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明の有害ガスの浄化剤は、フッ素系
ガスの除去能力が大きく、六フッ化タングステン、フッ
化水素、フッ素、四フッ化珪素などのフッ素系ガスを効
率よく、しかも、安全に除去することができるので、半
導体製造工程などから排出されるフッ素系ガスを含む有
害ガスの浄化に優れた効果が得られる。
Industrial Applicability The harmful gas purifying agent of the present invention has a large ability to remove fluorine-based gas, and efficiently uses fluorine-based gas such as tungsten hexafluoride, hydrogen fluoride, fluorine, and silicon tetrafluoride. Since it can be safely removed, an excellent effect can be obtained in purification of harmful gas containing fluorine-based gas discharged from the semiconductor manufacturing process or the like.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 水酸化ストロンチウムを主成分とし、成
形剤として有機系粘結剤及び成形助剤として水酸化スト
ロンチウム以外のアルカリ土類金属水酸化物を用いて成
形し、有害なフッ素系ガスを含むガスと接触させ、該フ
ッ素系ガスを除去することを特徴とする有害ガスの浄化
剤。
1. A strontium hydroxide as a main component, an organic binder as a molding agent, and an alkaline earth metal hydroxide other than strontium hydroxide as a molding aid are molded to remove harmful fluorine gas. A toxic gas purifying agent, which is characterized in that it is brought into contact with a gas containing the fluorinated gas to remove the fluorinated gas.
【請求項2】 有機系粘結剤がポリビニルアルコール、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、
メチルセルロースおよびカルボキシメチルセルロースか
ら選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載の浄化
剤。
2. The organic binder is polyvinyl alcohol,
Polyethylene glycol, polypropylene glycol,
The cleaning agent according to claim 1, which is at least one selected from methyl cellulose and carboxymethyl cellulose.
【請求項3】 成形助剤として用いる水酸化ストロンチ
ウム以外のアルカリ土類金属水酸化物が水酸化マグネシ
ウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウムから選ばれる
少なくとも1種である請求項1に記載の浄化剤。
3. The purifying agent according to claim 1, wherein the alkaline earth metal hydroxide other than strontium hydroxide used as a molding aid is at least one selected from magnesium hydroxide, calcium hydroxide and barium hydroxide. .
【請求項4】 水酸化ストロンチウムに対して成形助剤
として用いる水酸化ストロンチウム以外のアルカリ土類
金属水酸化物合計量の割合がモル比で1:0.05〜1
である請求項1に記載の浄化剤。
4. The ratio of the total amount of alkaline earth metal hydroxides other than strontium hydroxide used as a molding aid to strontium hydroxide in a molar ratio of 1: 0.05-1.
The purifying agent according to claim 1, which is
【請求項5】 フッ素系ガスがフッ化水素、フッ素、六
フッ化タングステン、四フッ化珪素、三フッ化硼素の少
なくとも1種以上である請求項1に記載の浄化剤。
5. The purifying agent according to claim 1, wherein the fluorine-based gas is at least one of hydrogen fluoride, fluorine, tungsten hexafluoride, silicon tetrafluoride, and boron trifluoride.
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