JPH09267027A - Purifying agent for harmful gas - Google Patents
Purifying agent for harmful gasInfo
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- JPH09267027A JPH09267027A JP8104077A JP10407796A JPH09267027A JP H09267027 A JPH09267027 A JP H09267027A JP 8104077 A JP8104077 A JP 8104077A JP 10407796 A JP10407796 A JP 10407796A JP H09267027 A JPH09267027 A JP H09267027A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は有害ガスの浄化剤に
関し、さらに詳細にはふっ素、塩素、六ふっ化タングス
テン、三ふっ化塩素、など半導体製造工程において使用
されるハロゲン系ガスの浄化剤に関する。近年、半導体
工業やオプロエレクトロニクス工業の発展とともに、こ
れらの産業で使用されるふっ素、塩素、六フッ化タング
ステン、三ふっ化塩素などのハロゲン系ガスの種類およ
び使用量が増加している。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a harmful gas purifying agent, and more particularly to a halogen-based gas purifying agent used in semiconductor manufacturing processes such as fluorine, chlorine, tungsten hexafluoride, and chlorine trifluoride. . In recent years, with the development of the semiconductor industry and the oproelectronics industry, the types and the amounts of halogen-based gases such as fluorine, chlorine, tungsten hexafluoride, and chlorine trifluoride used in these industries have increased.
【0002】これらのハロゲン系ガスはシリコン半導体
や化合物半導体製造工程などにおいて、エッチングガ
ス、クリーニングガス、膜成長用ガスとして不可欠な物
質である。そしてこれらのハロゲン系ガスは半導体製造
工程でそのまま、あるいはヘリウム、アルゴン、窒素な
どで希釈された状態で使用されたのち、そのまま、ある
いはさらに窒素、空気などで希釈された状態で排出され
ることから、その濃度は一定していない。そしてこれら
ハロゲン系ガスは、いずれも毒性が高く、人体及び環境
に悪影響を与えるので、これらハロゲン系ガスを含む有
害なガスは半導体製造工程などで使用された後、大気に
放出されるに先立って浄化する必要がある。These halogen-based gases are indispensable substances as etching gas, cleaning gas, and film growth gas in the manufacturing process of silicon semiconductors and compound semiconductors. Since these halogen-based gases are used as they are in the semiconductor manufacturing process or after being diluted with helium, argon, nitrogen, etc., they are discharged as they are or in a state further diluted with nitrogen, air, etc. , Its concentration is not constant. Since all of these halogen-based gases are highly toxic and have an adverse effect on the human body and the environment, harmful gases containing these halogen-based gases are used in semiconductor manufacturing processes, etc., and then released into the atmosphere. It needs to be purified.
【0003】[0003]
【従来の技術】従来、ガス中に含まれるハロゲン系ガス
を除去する手段として、スクラバー、スプレー塔、回転
式微細気泡発生装置などを用い、これらのガスを水酸化
ナトリウムなどのアルカリ水溶液と接触させて吸収分解
させる湿式法(特開昭61−204022号公報、特開
昭62−125827号公報など)、およびマグネシウ
ム、ナトリウム、カリウムの酸化物、炭酸塩などの吸着
剤(特開昭63−232844号公報、特開昭60−6
8051号公報)、あるいはソーダライムなどを有効成
分とする吸着剤、さらに最近は四三酸化鉄を主成分とす
る組成物を用いた浄化剤(特開平7−275646号公
報)等を用いる乾式法が知られている。2. Description of the Related Art Conventionally, a scrubber, a spray tower, a rotary fine bubble generator or the like has been used as a means for removing a halogen-based gas contained in a gas, and these gases are contacted with an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide. Method of absorbing and decomposing by adsorption (JP-A-61-240222, JP-A-62-125827 and the like), and an adsorbent such as magnesium, sodium and potassium oxides and carbonates (JP-A-63-232844). Japanese Patent Laid-Open No. 60-6
8051), or an adsorbent containing soda lime as an active ingredient, and more recently, a purifying agent using a composition containing iron trioxide as a main component (JP-A-7-275646) and the like. It has been known.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、湿式法
は一般的に後処理に困難性があり、装置が複雑で大型と
なるばかりでなく、設備、保守ともに費用を要するとい
う問題点がある。一方、乾式法として、マグネシウム、
ナトリウム、カリウムの酸化物、炭酸塩などの吸着剤で
は吸着剤単位容積当たりの除去能力が小さい。また、亜
鉛化合物とアルカリ金属化合物などを活性炭に含浸させ
た吸着剤を用いた浄化剤も除去容量が必ずしも十分とは
いえず、対象ガス量の濃度が高かったり、ガス量が多い
場合には、処理しきれないという問題点があるばかりで
なく、ふっ素など反応性の極めて高いガスの処理におい
ては火災の危険性もある。However, the wet method generally has a problem in that post-treatment is difficult, and not only the apparatus is complicated and large, but also the equipment and maintenance are expensive. On the other hand, as a dry method, magnesium,
Adsorbents such as sodium and potassium oxides and carbonates have small removal capacity per unit volume of adsorbent. In addition, a purifier using an adsorbent in which activated carbon is impregnated with a zinc compound and an alkali metal compound does not always have a sufficient removal capacity, and when the concentration of the target gas amount is high or the gas amount is large, Not only is there a problem that it cannot be completely processed, but there is also a risk of fire when processing highly reactive gases such as fluorine.
【0005】さらに、ソーダライムは上記の浄化剤に比
べ幾分処理能力が大きいものの、浄化剤が乾燥したり、
ハロゲン系ガスの濃度が低い場合には、処理能力が大幅
に低下するという問題点があるほか、ソダーライムは潮
解性を有しており、処理ガス中に含まれる水分量によっ
て浄化筒の閉塞が起こる恐れがあるなどの不都合があっ
た。一方、四三酸化鉄を主成分とする浄化剤の場合は、
常温で大きな浄化能力を有し、安全にしかも完全に浄化
できるなど優れた浄化剤であるが、浄化剤が乾燥した場
合には浄化能力が低下するという不都合があった。従っ
て、有害ガスが低濃度であり、しかも乾燥状態といっ
た、半導体製造プロセスなどから排出されるようなハロ
ゲン系ガスに対して除去性能が優れ、浄化の際に火災な
どの危険性がなく、かつ、高い効率で除去できる浄化剤
の出現が望まれていた。Further, although soda lime has a processing capacity somewhat higher than that of the above-mentioned cleaning agents, the cleaning agents may be dried,
When the concentration of halogen-based gas is low, there is a problem that the processing capacity is significantly reduced, and soda lime has deliquescent, and the purification tube is clogged due to the amount of water contained in the processing gas. There was an inconvenience such as fear. On the other hand, in the case of a purifying agent containing iron trioxide as the main component,
Although it is an excellent purifying agent that has a large purifying ability at room temperature and can be safely and completely purified, when the purifying agent is dried, the purifying ability deteriorates. Therefore, the harmful gas has a low concentration, and is excellent in removing performance against halogen-based gas discharged from the semiconductor manufacturing process such as a dry state, and there is no risk of fire during purification, and The advent of a cleaning agent that can be removed with high efficiency has been desired.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、これらの
問題点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、二酸化マン
ガン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物の3
成分を主成分とした浄化剤を用いることにより、半導体
製造工程などから排出されるハロゲン系ガスの除去に対
し、乾燥した状態においても浄化能力の低下することが
なく、火災などを生ずる危険性がなく安全に、しかも極
めて効率よく浄化することができることを見いだし、本
発明を完成した。すなわち本発明は、有害なハロゲン系
ガスを含むガスから、該ハロゲン系ガスを除去するため
の浄化剤であって、二酸化マンガン、水酸化カリウム、
アルカリ土類金属水酸化物の3成分を主成分とすること
を特徴とする有害ガスの浄化剤である。As a result of intensive studies to solve these problems, the present inventors have found that manganese dioxide, potassium hydroxide and alkaline earth metal hydroxide 3
By using a purifying agent whose main component is the removal of halogen-based gas emitted from semiconductor manufacturing processes, etc., the purifying ability does not deteriorate even in a dry state, and there is a risk of causing a fire. The present invention has been completed based on the finding that it can be purified without any risk and with extremely high efficiency. That is, the present invention is a purifying agent for removing a halogen-containing gas from a gas containing a harmful halogen-based gas, such as manganese dioxide, potassium hydroxide,
It is a toxic gas purifier characterized by having three components of alkaline earth metal hydroxide as a main component.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】本発明の浄化剤は、半導体プロセ
スなどから排出される排ガスなどに含まれるハロゲン系
ガスの浄化に適用される。浄化の対象となる有害ガスと
しては、窒素、アルゴン、ヘリウム、空気などに含まれ
る、ふっ素、塩素、六フッ化タングステン、三ふっ化塩
素、などのハロゲン系ガスの1種または2種以上を含む
ガスである。特に本発明の浄化剤により、多量の有害ガ
スを迅速にかつ効率よく、しかも常温で浄化することが
できる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The purifying agent of the present invention is applied to purifying halogen-based gas contained in exhaust gas discharged from a semiconductor process or the like. The harmful gas to be purified includes one or more halogen-containing gases such as fluorine, chlorine, tungsten hexafluoride, chlorine trifluoride contained in nitrogen, argon, helium and air. It is gas. Particularly, the purifying agent of the present invention can purify a large amount of harmful gas rapidly and efficiently at room temperature.
【0008】本発明において、浄化剤は二酸化マンガ
ン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物の3成
分を主成分としたものである。二酸化マンガン(MnO
2 )は、粉末状で純度85%以上、あるいは91%以上
の物が市販されているので、通常はこれらのものを用い
ることができる。水酸化カリウム(KOH)は、純度8
5%以上の物が市販されているので、通常はこれらの市
販品を用いることができる。In the present invention, the purifying agent is mainly composed of three components of manganese dioxide, potassium hydroxide and alkaline earth metal hydroxide. Manganese dioxide (MnO
As 2 ), powdered products having a purity of 85% or more, or a purity of 91% or more are commercially available, and thus these can be usually used. Potassium hydroxide (KOH) has a purity of 8
Since 5% or more of the products are commercially available, these commercially available products can usually be used.
【0009】アルカリ土類金属の水酸化物としては、水
酸化マグネシウム(Mg(OH)2)、水酸化カルシウ
ム(Ca(OH)2 )、水酸化ストロンチウム(Sr
(OH)2 )、水酸化バリウム(Ba(OH)2 )など
である。水酸化ストロンチウム、水酸化バリウムは8水
和物(Sr(OH)2 ・8H2O、Ba(OH)2 ・8
H2 O)が通常の市販品であるため、予め乾燥を行い、
無水物としたのちに使用することが好ましい。これらの
アルカリ土類金属の水酸化物はそれぞれ単独で用いても
よく、または2種以上混合した状態で使用してもよい。The hydroxides of alkaline earth metals include magnesium hydroxide (Mg (OH) 2 ), calcium hydroxide (Ca (OH) 2 ), strontium hydroxide (Sr).
(OH) 2 ) and barium hydroxide (Ba (OH) 2 ). Strontium hydroxide, barium hydroxide octahydrate (Sr (OH) 2 · 8H 2 O, Ba (OH) 2 · 8
H 2 O) is an ordinary commercial product, so it should be dried in advance.
It is preferably used after being made into an anhydride. These alkaline earth metal hydroxides may be used alone or as a mixture of two or more thereof.
【0010】二酸化マンガン、水酸化カリウム、アルカ
リ土類金属の水酸化物の割合は、有害ガス中に含まれる
ハロゲン系ガスの種類によって異なり一概に特定できな
いが、二酸化マンガン、水酸化カリウム、アルカリ土類
金属水酸化物のモル比(MnO2 :KOH:M(以後ア
ルカリ土類金属の水酸化物をMと略する))で通常は
1:0.2〜2:0.1〜2、好ましくは1:0.25
〜1:0.3〜1.5程度とされる。The proportions of manganese dioxide, potassium hydroxide, and hydroxides of alkaline earth metals differ depending on the type of halogen-based gas contained in the harmful gas and cannot be specified unconditionally, but manganese dioxide, potassium hydroxide, alkaline earth metal The molar ratio of the group metal hydroxide (MnO 2 : KOH: M (hereinafter, the alkaline earth metal hydroxide is abbreviated as M)) is usually 1: 0.2 to 2: 0.1 to 2, preferably. Is 1: 0.25
˜1: 0.3 to 1.5.
【0011】浄化剤の調製方法としては種々の方法を用
いることができる。例えば二酸化マンガン、水酸化カリ
ウム、アルカリ土類金属水酸化物を所定の割合で均一に
混合したのち打錠成型する方法、あるいは二酸化マンガ
ン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物を所定
の割合に混合したものに水を加えてかき混ぜ得られたス
ラリーまたはケーキを押し出し成型し、適当な長さに切
断して得られたペレットを乾燥機中不活性雰囲気下で所
定の加熱乾燥して浄化剤とする方法、そのほか二酸化マ
ンガン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物か
らなる混合粉体を造粒機などを用いて、粒状に成型し不
活性雰囲気下で加熱乾燥をして浄化剤とする方法などが
ある。このほか、二酸化マンガン、水酸化カリウム、ア
ルカリ土類金属水酸化物を所定の割合で均一に混合し、
成型することがきる方法であれば本発明の浄化剤の調製
方法に適用することができる。これらのうち加工性およ
び形状、大きさの選択の容易さなどから、一般的には押
し出し成型によりペレット状とするのが好ましい。Various methods can be used to prepare the purifying agent. For example, a method of uniformly mixing manganese dioxide, potassium hydroxide, and an alkaline earth metal hydroxide at a predetermined ratio and then tableting, or manganese dioxide, potassium hydroxide, and an alkaline earth metal hydroxide at a predetermined ratio. The mixture obtained by adding water to the mixture and stirring the resulting slurry or cake is extruded and molded, and the pellets obtained by cutting into an appropriate length are dried by heating in an inert atmosphere in a dryer for a predetermined period of time, and then a purifying agent. In addition to the above method, a mixed powder of manganese dioxide, potassium hydroxide, and alkaline earth metal hydroxide is granulated using a granulator or the like and heat-dried in an inert atmosphere to obtain a purifying agent. There are ways to do it. In addition to this, manganese dioxide, potassium hydroxide, and alkaline earth metal hydroxides are uniformly mixed at a predetermined ratio,
Any method capable of molding can be applied to the method for preparing the purifying agent of the present invention. Of these, it is generally preferable to extrude into pellets in terms of workability and ease of selection of shape and size.
【0012】成型体の大きさおよび形状には特に制限は
ないが、球形、円柱状、円筒形および粒状などが代表例
として挙げられる。その大きさは球状であれば直径0.
5〜10mm、ペレット、タブレットなど円柱状であれ
ば直径0.5〜10mm、高さ2〜20mm程度であ
り、破砕状など不定形のものであれば、ふるいの目の開
きで0.8〜6mm程度のものである。成型体を浄化筒
に充填した場合の充填密度は通常は0.8〜2.0g/
ml程度である。The size and shape of the molded body are not particularly limited, but typical examples include spherical, cylindrical, cylindrical and granular shapes. If the size is spherical, the diameter is 0.
5 to 10 mm, diameter of 0.5 to 10 mm and height of about 2 to 20 mm for pellets, tablets, etc. It is about 6 mm. The packing density when the molded body is packed in the purification cylinder is usually 0.8 to 2.0 g /
It is about ml.
【0013】本発明の浄化剤は、その水分含量が低い場
合においても浄化能力が低下しない特徴を有している。
浄化剤中の水分含量として、結晶水を含め通常は0〜1
0wt%程度の物が使用される。浄化剤中の水分含量が
多い場合には、浄化剤が乾燥したガスと接触した際に乾
燥収縮を生じ、浄化筒内に空隙ができることによりガス
の偏流を生じる恐れがあることから、好ましくは水分含
量として0〜5wt%程度である。本発明の浄化剤は水
分含量を上記のように調製することにより、乾燥したガ
スの場合であっても浄化能力が低下することがなく、浄
化能力を安定に保持させることができる。The purifying agent of the present invention is characterized in that its purifying ability does not decrease even when its water content is low.
The water content in the purifying agent is usually 0 to 1 including crystal water.
About 0 wt% is used. When the water content of the purifying agent is high, drying contraction occurs when the purifying agent comes into contact with dry gas, and a gas drift may occur due to the formation of voids in the purifying cylinder. The content is about 0 to 5 wt%. By adjusting the water content of the purifying agent of the present invention as described above, the purifying ability does not decrease even in the case of dry gas, and the purifying ability can be stably maintained.
【0014】本発明の浄化剤は、調製の際に空気に長時
間接触させた状態で加熱乾燥をおこなうと浄化能力が著
しく低下する。したがて、浄化剤の調製において加熱乾
燥を行う場合は窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性
ガス雰囲気下で行うことが好ましい。When the cleaning agent of the present invention is heated and dried while being kept in contact with air for a long period of time during preparation, the cleaning ability is significantly reduced. Therefore, when heat drying is performed in the preparation of the cleaning agent, it is preferable to perform it under an atmosphere of an inert gas such as nitrogen, argon or helium.
【0015】本発明の浄化剤は固定床の他、移動床、流
動床として用いることも可能であるが、通常は固定床と
して用いられる。浄化剤は浄化筒内に充填され、ハロゲ
ン系ガスを含有するガスはこの浄化筒内に流され、浄化
剤と接触させることにより、有害成分であるハロゲン系
ガスのみが除去される。本発明の浄化剤が適用される有
害ガス中に含まれるハロゲン系ガスの濃度に特に制限は
ないが、一般的に半導体製造時における排ガスを浄化す
る場合、数万ppmの高濃度から、数ppmの低濃度で
あっても充分に浄化可能である。The purifying agent of the present invention can be used not only as a fixed bed but also as a moving bed or a fluidized bed, but it is usually used as a fixed bed. The purifying agent is filled in the purifying cylinder, and the gas containing the halogen-based gas is caused to flow in the purifying cylinder and brought into contact with the purifying agent to remove only the halogen-based gas which is a harmful component. The concentration of the halogen-based gas contained in the harmful gas to which the purifying agent of the present invention is applied is not particularly limited, but generally when purifying exhaust gas during semiconductor manufacturing, from a high concentration of tens of thousands ppm to several ppm Even if the concentration is low, it can be sufficiently purified.
【0016】浄化筒はハロゲン系ガス濃度、浄化対象と
なる有害ガスの量、許容できる圧力損失などに応じて設
計される。浄化筒内の浄化剤の充填長はガスの流量およ
び有害ガスの濃度などによって異なり一概に特定はでき
ないが、通常は、50〜1500mm程度とされる。ま
た浄化筒の内径は筒内を流れるガスの空筒基準線速度
(LV)が0.1〜50cm/sec程度となるように
設計される。一般的にはこれらは充填層の圧力損失、ガ
スの接触効率およびハロゲン系ガスの濃度などによって
定められる。The purifying cylinder is designed according to the halogen-based gas concentration, the amount of harmful gas to be purified, the allowable pressure loss, and the like. The filling length of the purifying agent in the purifying cylinder varies depending on the flow rate of gas and the concentration of harmful gas and cannot be specified unconditionally, but is usually about 50 to 1500 mm. The inner diameter of the purifying cylinder is designed so that the empty cylinder reference linear velocity (LV) of the gas flowing in the cylinder is about 0.1 to 50 cm / sec. Generally, these are determined by the pressure loss of the packed bed, the gas contact efficiency, the halogen-based gas concentration, and the like.
【0017】浄化を行う際の温度は通常は0〜90℃で
あり、空気に含まれるハロゲン系ガスを浄化する場合は
温度が低い方が良いことなどから、好ましくは常温付近
の温度(0〜40℃)で操作され、特に加熱や冷却を必
要としない。なお、接触開始後は反応熱により、ハロゲ
ン系ガスの種類、濃度などによっては温度が若干上昇す
ることもあるが、活性炭などのような可燃物を使用して
いないため発火などの危険性はない。接触時の圧力は通
常は常圧で行われるが、0.5〜2kg/cm2 abs
などのような減圧乃至加圧下で操作することも可能であ
る。次に本発明を実施例によりさらに詳しく説明する
が、本発明はこれらの例により限定されるものではな
い。The temperature at the time of purification is usually 0 to 90 ° C., and when purifying the halogen-based gas contained in the air, the lower temperature is better. It is operated at 40 ° C.) and does not require heating or cooling. After contact, the reaction heat may cause the temperature to rise slightly depending on the type and concentration of halogen-based gas, but there is no danger of ignition because no combustible material such as activated carbon is used. . The pressure at the time of contact is usually atmospheric pressure, but 0.5 to 2 kg / cm 2 abs
It is also possible to operate under reduced pressure or increased pressure. Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0018】[0018]
(浄化剤の調製) 実施例1 二酸化マンガン(MnO2 )348g、水酸化カリウム
(KOH)225g、水酸化カルシウム(Ca(OH)
2 )148gを均一に混合し、これに水30gを加えて
充分に分散混合させた(mol比、MnO2 :KOH:
M=1:1:0.5)。得られたケーキを押し出し成型
機(フジパウダル(株)製)によって1.6mmφのノ
ズル板より押し出した成型物を切断して長さ3〜5mm
程度のペレットとし、窒素雰囲気中乾燥器で90℃で加
熱しながら12時間加熱乾燥し、720gの浄化剤Aを
得た。この浄化剤の充填密度は1.31g/mlであっ
た。浄化剤の水分含水率を乾量式水分計(株式会社チノ
ー製CZA1000)で測定したところ、0.1wt%
であった。結果を表1に示す。(Preparation of Purifying Agent) Example 1 348 g of manganese dioxide (MnO 2 ), 225 g of potassium hydroxide (KOH), calcium hydroxide (Ca (OH))
2 ) 148 g was uniformly mixed, and 30 g of water was added thereto and sufficiently dispersed and mixed (mol ratio, MnO 2 : KOH:
M = 1: 1: 0.5). The obtained cake was extruded from a 1.6 mmφ nozzle plate by an extrusion molding machine (manufactured by Fuji Paudal Co., Ltd.) to cut a molded product, and a length of 3 to 5 mm.
The resulting pellets were heated and dried in a nitrogen atmosphere at 90 ° C. for 12 hours in a drier to obtain 720 g of a purifying agent A. The packing density of this cleaning agent was 1.31 g / ml. The water content of the purifying agent was measured by a dry-type water content meter (CZA1000 manufactured by Chino Co., Ltd.) and found to be 0.1 wt%.
Met. The results are shown in Table 1.
【0019】実施例2 二酸化マンガン348g、水酸化カリウム225g、水
酸化カルシウム148g、水酸化ストロンチウム(Sr
(OH)2 )61g、水30gを均一に混合した(mo
l比、MnO2 :KOH:M=1:1:0.625)。
得られたケーキを実施例1と同様の方法で成型、窒素雰
囲気下90℃で12時間加熱乾燥を行い、775gの浄
化剤Bを得た。この浄化剤の充填密度は1.28g/m
lであった。また、浄化剤の含水率は0.2wt%であ
った。結果を表1に示す。Example 2 348 g of manganese dioxide, 225 g of potassium hydroxide, 148 g of calcium hydroxide, strontium hydroxide (Sr
61 g of (OH) 2 and 30 g of water were uniformly mixed (mo
1 ratio, MnO 2 : KOH: M = 1: 1: 0.625).
The obtained cake was molded in the same manner as in Example 1 and heat-dried at 90 ° C. for 12 hours in a nitrogen atmosphere to obtain 775 g of a purifying agent B. The packing density of this purifying agent is 1.28 g / m
l. The water content of the purifying agent was 0.2 wt%. The results are shown in Table 1.
【0020】実施例3 二酸化マンガン696g、水酸化カリウム225g、水
酸化カルシウム148g、水酸化ストロンチウム61
g、水60gを均一に混合した(mol比、MnO2 :
KOH:M=1:0.5:0.313)。得られたケー
キから実施例1と同様の方法で成型後、窒素雰囲気下9
0℃で12時間加熱乾燥を行い、1125gの浄化剤C
を得た。この浄化剤の充填密度は1.31g/mlであ
った。また、浄化剤の含水率は0.1wt%であった。
結果を表1に示す。Example 3 Manganese dioxide 696 g, potassium hydroxide 225 g, calcium hydroxide 148 g, strontium hydroxide 61
g and 60 g of water were uniformly mixed (mol ratio, MnO 2 :
KOH: M = 1: 0.5: 0.313). The obtained cake was molded in the same manner as in Example 1 and then under a nitrogen atmosphere 9
After heating and drying at 0 ° C for 12 hours, 1125 g of the purifying agent C
I got The packing density of this cleaning agent was 1.31 g / ml. The water content of the purifying agent was 0.1 wt%.
The results are shown in Table 1.
【0021】実施例4 二酸化マンガン348g、水酸化カリウム113g、水
酸化カルシウム148g、水酸化ストロンチウム61
g、水30gを均一に混合した(mol比、MnO2 :
KOH:M=1:0.5:0.625)。得られたケー
キから実施例1と同様の方法で成型後、窒素雰囲気下9
0℃で12時間加熱乾燥を行い、665gの浄化剤Dを
得た。この浄化剤の充填密度は1.26g/mlであっ
た。また浄化剤の含水率は0.1wt%であった。結果
を表1に示す。Example 4 Manganese dioxide 348 g, potassium hydroxide 113 g, calcium hydroxide 148 g, strontium hydroxide 61
g and 30 g of water were uniformly mixed (mol ratio, MnO 2 :
KOH: M = 1: 0.5: 0.625). The obtained cake was molded in the same manner as in Example 1 and then under a nitrogen atmosphere 9
It heat-dried at 0 degreeC for 12 hours, and obtained 665-g purification agent D. The packing density of this cleaning agent was 1.26 g / ml. The water content of the purifying agent was 0.1 wt%. The results are shown in Table 1.
【0022】実施例5 二酸化マンガン348g、水酸化カリウム225g、水
酸化カルシウム296g、水酸化ストロンチウム61
g、水45gを均一に混合した(mol比,MnO2 :
KOH:M=1:1:1.125)。得られたケーキか
ら実施例1と同様の方法で成型後、窒素雰囲気下90℃
で12時間加熱乾燥を行い、920gの浄化剤Eを得
た。この浄化剤の充填密度は1.33g/mlであっ
た。また浄化剤の含水率は0.2wt%であった。結果
を表1に示す。Example 5 Manganese dioxide 348 g, potassium hydroxide 225 g, calcium hydroxide 296 g, strontium hydroxide 61
g and 45 g of water were uniformly mixed (mol ratio, MnO 2 :
KOH: M = 1: 1: 1.125). The obtained cake was molded in the same manner as in Example 1 and then under a nitrogen atmosphere at 90 ° C.
And dried by heating for 12 hours to obtain 920 g of the purifying agent E. The packing density of this cleaning agent was 1.33 g / ml. The water content of the purifying agent was 0.2 wt%. The results are shown in Table 1.
【0023】実施例6 二酸化マンガン696g、水酸化カリウム113g、水
酸化カルシウム148g、水酸化ストロンチウム61
g、水60gを均一に混合した(mol比、MnO2 :
KOH:M=1:0.25:0.313)。得られたケ
ーキから実施例1と同様の方法で成型後、窒素雰囲気下
90℃で12時間加熱乾燥を行い、1006gの浄化剤
Fを得た。この浄化剤の充填密度は1.34g/mlで
あった。また浄化剤の含水率は0.1wt%であった。
結果を表1に示す。Example 6 Manganese dioxide 696 g, potassium hydroxide 113 g, calcium hydroxide 148 g, strontium hydroxide 61
g and 60 g of water were uniformly mixed (mol ratio, MnO 2 :
KOH: M = 1: 0.25: 0.313). The obtained cake was molded in the same manner as in Example 1 and then heat-dried at 90 ° C. for 12 hours in a nitrogen atmosphere to obtain 1006 g of the purifying agent F. The packing density of this cleaning agent was 1.34 g / ml. The water content of the purifying agent was 0.1 wt%.
The results are shown in Table 1.
【0024】実施例7 二酸化マンガン348g、水酸化カリウム225g、水
酸化カルシウム148g、水酸化マグネシウム(Mg
(OH)2 )58g、水30gを均一に混合した(mo
l比、MnO2 :KOH:M=1:1:0.75)。得
られたケーキから実施例1と同様の方法で成型後、窒素
雰囲気下90℃で12時間加熱乾燥を行い、769gの
浄化剤Gを得た。この浄化剤の充填密度は1.30g/
mlであった。また浄化剤の含水率は0.1wt%であ
った。結果を表1に示す。Example 7 Manganese dioxide (348 g), potassium hydroxide (225 g), calcium hydroxide (148 g), magnesium hydroxide (Mg)
58 g of (OH) 2 and 30 g of water were uniformly mixed (mo
1 ratio, MnO 2 : KOH: M = 1: 1: 0.75). The cake thus obtained was molded in the same manner as in Example 1 and then heat-dried at 90 ° C. for 12 hours in a nitrogen atmosphere to obtain 769 g of a purifying agent G. The packing density of this purifying agent is 1.30 g /
ml. The water content of the purifying agent was 0.1 wt%. The results are shown in Table 1.
【0025】[0025]
【表1】 表 1 実施例 mol比 充填密度 水分含量 MnO2 : KOH : Ca(OH)2 + Sr(OH)2 + Mg(OH)2 g/ml wt% 1 1 1 0.5 0 1.31 0.1 2 1 1 0.5 0.125 1.28 0.2 3 1 0.5 0.25 0.063 1.31 0.1 4 1 0.5 0.5 0.125 1.26 0.1 5 1 1 1 0.125 1.33 0.2 6 1 0.25 0.25 0.063 1.34 0.1 7 1 1 0.50 0.25 1.30 0.1[Table 1] Table 1 Examples mol ratio Packing density Moisture content MnO 2 : KOH: Ca (OH) 2 + Sr (OH) 2 + Mg (OH) 2 g / ml wt% 1 1 1 0.5 0 1.31 0.1 2 1 1 0.5 0.125 1.28 0.2 3 1 0.5 0.25 0.063 1.31 0.1 4 1 0.5 0.5 0.125 1.26 0.1 5 1 1 1 0.125 1.33 0.2 6 1 0.25 0.25 0.063 1.34 0.1 7 1 1 0.50 0.25 1.30 0.1
【0026】比較例1 二酸化マンガン348gに水15gを均一に混合した。
得られたケーキを押し出し成型機(フジパウダル(株)
製)を用い、1.6mmφのノズル板より押し出した成
型物を切断して長さ3〜5mm程度のペレットとし、窒
素雰囲気下乾燥機で90℃で12時間加熱乾燥すること
によって330gの浄化剤Hを得た。この浄化剤の充填
密度は1.01g/mlであった。また浄化剤の含水率
は0.1wt%であった。結果を表2に示す。Comparative Example 1 348 g of manganese dioxide was uniformly mixed with 15 g of water.
Extrusion machine for the obtained cake (Fuji Paudal Co., Ltd.)
Manufactured by K.K.), a molded product extruded from a 1.6 mmφ nozzle plate is cut into pellets having a length of about 3 to 5 mm, and the pellets are heated and dried at 90 ° C. for 12 hours in a nitrogen atmosphere dryer to obtain 330 g of a cleaning agent. H was obtained. The packing density of this cleaning agent was 1.01 g / ml. The water content of the purifying agent was 0.1 wt%. Table 2 shows the results.
【0027】比較例2 5mmφの粒状水酸化カリウム225gを窒素雰囲気下
乾燥機で90℃で12時間加熱乾燥し218gの浄化剤
Iを得た。この浄化剤の含水率は0.1wt%であっ
た。結果を表2に示す。Comparative Example 2 225 g of 5 mmφ granular potassium hydroxide was heated and dried at 90 ° C. for 12 hours in a dryer under a nitrogen atmosphere to obtain 218 g of Purifying Agent I. The water content of this purifying agent was 0.1 wt%. Table 2 shows the results.
【0028】比較例3 水酸化カルシウム148gに水15gを混合し、実施例
1と同様の方法で成型、乾燥し140gの浄化剤Jを得
た。この浄化剤の充填密度は1.12g/mlであっ
た。また浄化剤の含水率は0.1wt%であった。結果
を表2に示す。Comparative Example 3 148 g of calcium hydroxide was mixed with 15 g of water, molded in the same manner as in Example 1 and dried to obtain 140 g of Purifying Agent J. The packing density of this cleaning agent was 1.12 g / ml. The water content of the purifying agent was 0.1 wt%. Table 2 shows the results.
【0029】比較例4 二酸化マンガン348g、水酸化カリウム225g、水
14gを均一に混合し、得られたケーキから実施例1と
同様の方法で成型後、窒素雰囲気下90℃で12時間加
熱乾燥を行い、570gの浄化剤Kを得た。この浄化剤
の充填密度は1.12g/mlであった。また浄化剤の
含水率は0.1wt%であった。結果を表2に示す。Comparative Example 4 348 g of manganese dioxide, 225 g of potassium hydroxide and 14 g of water were uniformly mixed, and the obtained cake was molded in the same manner as in Example 1 and then dried by heating at 90 ° C. for 12 hours in a nitrogen atmosphere. Then, 570 g of a purifying agent K was obtained. The packing density of this cleaning agent was 1.12 g / ml. The water content of the purifying agent was 0.1 wt%. Table 2 shows the results.
【0030】比較例5 二酸化マンガン348g、水酸化カルシウム148g、
乾燥水酸化ストロンチウム61g、水15gを均一に混
合した。得られたケーキから実施例1と同様の方法で成
型後、窒素雰囲気下90℃で12時間加熱乾燥を行い、
550gの浄化剤Lを得た。この浄化剤の充填密度は
1.05g/mlであった。また浄化剤の含水率は0.
2wt%であった。結果を表2に示す。Comparative Example 5 348 g of manganese dioxide, 148 g of calcium hydroxide,
61 g of dry strontium hydroxide and 15 g of water were uniformly mixed. After molding from the obtained cake in the same manner as in Example 1, heat drying was performed at 90 ° C. for 12 hours in a nitrogen atmosphere,
550 g of purification agent L was obtained. The packing density of this cleaning agent was 1.05 g / ml. The water content of the purifying agent is 0.
It was 2 wt%. Table 2 shows the results.
【0031】比較例6 水酸化カリウム225gに、水酸化カルシウム148
g、乾燥水酸化ストロンチウム61g、水10gを均一
に混合した。得られたケーキから実施例1と同様の方法
で成型後、窒素雰囲気下90℃で12時間加熱乾燥を行
い、429gの浄化剤Mを得た。この浄化剤の充填密度
は1.18g/mlであった。また浄化剤の含水率は
0.2wt%であった。結果を表2に示す。Comparative Example 6 225 g of potassium hydroxide and 148 of calcium hydroxide
g, 61 g of dry strontium hydroxide and 10 g of water were uniformly mixed. The cake thus obtained was molded in the same manner as in Example 1 and then heat-dried at 90 ° C. for 12 hours in a nitrogen atmosphere to obtain 429 g of a purifying agent M. The packing density of this cleaning agent was 1.18 g / ml. The water content of the purifying agent was 0.2 wt%. Table 2 shows the results.
【0032】[0032]
【表2】 表 2 比較例 mol比 充填密度 水分含量 MnO2 : KOH : Ca(OH)2 + Sr(OH)2 + Mg(OH)2 g/ml wt% 1 1 1.01 0.1 2 1 0.1 3 1 1.12 0.1 4 1 1 1.12 0.1 5 1 0.5 0.125 1.05 0.2 6 1 0.5 0.125 1.18 0.2[Table 2] Table 2 Comparative Examples mol ratio Packing density Water content MnO 2 : KOH: Ca (OH) 2 + Sr (OH) 2 + Mg (OH) 2 g / ml wt% 1 1 1.01 0.1 2 1 0.1 3 1 1.12 0.1 4 1 1 1.12 0.1 5 1 0.5 0.125 1.05 0.2 6 1 0.5 0.125 1.18 0.2
【0033】実施例8 実施例2と同一の組成で成型後、アルゴン雰囲気下90
℃で12時間で加熱乾燥を行い、765gの浄化剤Nを
得た。この浄化剤の充填密度は1.30g/mlであっ
た。また浄化剤の含水率は0.1wt%であった。結果
を表3に示す。Example 8 After being molded with the same composition as in Example 2, it was subjected to an argon atmosphere at 90
It heat-dried at 12 degreeC for 12 hours, and obtained the purifying agent N of 765g. The packing density of this cleaning agent was 1.30 g / ml. The water content of the purifying agent was 0.1 wt%. The results are shown in Table 3.
【0034】実施例9 実施例2と同一の組成で成型後、ヘリウム雰囲気下90
℃で12時間加熱乾燥を行い、766gの浄化剤Oを得
た。この浄化剤の充填密度は1.30g/mlであっ
た。浄化剤の含水率は0.1wt%であった。結果を表
3に示す。Example 9 After molding with the same composition as in Example 2, 90 in a helium atmosphere
It heat-dried at 12 degreeC for 12 hours, and obtained 766g of purifying agent O. The packing density of this cleaning agent was 1.30 g / ml. The water content of the purifying agent was 0.1 wt%. The results are shown in Table 3.
【0035】比較例7 実施例2と同一の組成で成型後、空気中90℃で12時
間で加熱乾燥を行い、781gの浄化剤Pを得た。この
浄化剤の充填密度は1.25g/mlであった。浄化剤
の含水率は0.1wt%であった。結果を表4に示す。Comparative Example 7 After molding with the same composition as in Example 2, heat drying was performed in air at 90 ° C. for 12 hours to obtain 781 g of the purifying agent P. The packing density of this cleaning agent was 1.25 g / ml. The water content of the purifying agent was 0.1 wt%. The results are shown in Table 4.
【0036】[0036]
【表3】 表 3 実施例 mol比 乾燥雰囲気 充填密度 水分含量 g/ml wt% 8 実施例2に同じ アルゴン 1.30 0.1 9 実施例2に同じ ヘリウム 1.30 0.1Table 3 Table 3 Examples mol ratio Dry atmosphere Packing density Moisture content g / ml wt% 8 Same as example 2 Argon 1.30 0.1 9 Same as example 2 Helium 1.30 0.1
【0037】[0037]
【表4】 表 4 比較例 mol比 乾燥雰囲気 充填密度 水分含量 g/ml wt% 7 実施例2に同じ 空気 1.25 0.1[Table 4] Table 4 Comparative Examples mol ratio Dry atmosphere Filling density Moisture content g / ml wt% 7 Same as Example 2 Air 1.25 0.1
【0038】(浄化実験)実施例1〜9、比較例1〜7
で調製した浄化剤のそれぞれについて、ハロゲン系ガス
を含む有害ガスの浄化試験を行った。内径40mm、長
さ200mmの石英ガラス製の浄化筒に、浄化剤を12
5.6mml(充填長100mm)充填し、これに各種
ハロゲン系ガス1000ppmを含む窒素を20℃、常
圧下で2260ml/min(空筒基準線速度LV=3
cm/sec)の流量で流通させ、破過までの時間を測
定し、これより浄化剤1リットル当たりに対するハロゲ
ン系ガスの浄化量(浄化能力)を求めた。ハロゲン系ガ
スの破過の検知は浄化筒の出口ガスの一部をサンプリン
グし、ガス種に応じて検知管(ガステック(株)製)に
て測定し、1ppmに到達した時点を破過とした。それ
ぞれの浄化剤およびガスの種類についての実験結果を表
5に示す。(Purification Experiment) Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 7
With respect to each of the cleaning agents prepared in (1), a cleaning test for harmful gas containing halogen-based gas was conducted. The purification agent is placed in a purification tube made of quartz glass with an inner diameter of 40 mm and a length of 200 mm.
It was filled with 5.6 ml (filling length 100 mm), and nitrogen containing 1000 ppm of various halogen-based gases was filled at 20 ° C. and normal pressure at 2260 ml / min (empty cylinder reference linear velocity LV = 3).
(cm / sec), and the time until breakthrough was measured, and the purification amount (purification ability) of the halogen-based gas per liter of the cleaning agent was obtained from this. To detect the breakthrough of halogen-based gas, a part of the outlet gas of the purification tube is sampled and measured with a detection tube (made by Gastec Co., Ltd.) according to the gas type. did. Table 5 shows the experimental results for each type of purifying agent and gas.
【0039】[0039]
【表5】 表 5 実験番号 浄化剤の ハロゲン系ガスの 破過までの ハロゲン系ガスの 種類 種類 濃度 時間 浄化能力 (実施例番号) (ppm) (min)(L/L浄化剤) 1 A(実施例1) 塩素 1000 2468 45 2 B(実施例2) 塩素 1000 3134 56 3 B 〃 ふっ素 1000 1589 29 4 B 〃 六フッ化タンク゛ステン1000 883 16 5 B 〃 三ふっ化塩素1000 1199 19 6 C(実施例3) 塩素 1000 2556 46 7 D(実施例4) 塩素 1000 2390 43 8 E(実施例5) 塩素 1000 2223 40 9 F(実施例6) 塩素 1000 2223 40 10 G(実施例7) 塩素 1000 2779 50 11 H(比較例1) 塩素 1000 15 1> 12 I(比較例2) 塩素 1000 16 1> 13 J(比較例3) 塩素 1000 15 1> 14 K(比較例4) 塩素 1000 189 3 15 L(比較例5) 塩素 1000 16 1> 16 M(比較例6) 塩素 1000 15 1> 17 N(実施例8) 塩素 1000 3135 56 18 O(実施例9) 塩素 1000 3096 56 19 P(比較例7) 塩素 1000 15 1>[Table 5] Table 5 Experiment number Type of halogen-based gas until breakthrough of halogen-based gas of purifying agent Type Concentration time Purifying ability (Example number) (ppm) (min) (L / L purifying agent) 1 A ( Example 1) Chlorine 1000 2468 45 2 B (Example 2) Chlorine 1000 3134 56 3 B 〃 Fluorine 1000 1589 29 4 B 〃 Hexafluoride tank Sten 1000 883 16 5 B B 〃 Chlorine trifluoride 1000 1199 196 C (Implementation) Example 3) Chlorine 1000 2556 46 7 D (Example 4) Chlorine 1000 2390 43 8 E (Example 5) Chlorine 1000 2223 40 9 F (Example 6) Chlorine 1000 2223 40 10 G (Example 7) Chlorine 1000 2779 50 11 H (Comparative Example 1) Chlorine 1000 15 1> 12 I (Comparative Example 2) Chlorine 100 16 1> 13 J (Comparative example 3) Chlorine 1000 15 15 1> 14 K (Comparative example 4) Chlorine 1000 189 3 15 L (Comparative example 5) Chlorine 1000 16 1 1> 16 M (Comparative example 6) Chlorine 1000 15 1> 17 N (Example 8) Chlorine 1000 3135 56 18 O (Example 9) Chlorine 1000 3096 56 19 P (Comparative Example 7) Chlorine 1000 15 1>
【0040】[0040]
【発明の効果】本発明の浄化剤は、乾燥した状態におい
てもハロゲン系ガスの浄化能力が大きく、しかも安全に
浄化できるので、半導体製造工程などから排出されるハ
ロゲン系ガスを含むガスの浄化に優れた効果が得られ
る。EFFECTS OF THE INVENTION The purifying agent of the present invention has a large halogen-based gas purifying ability even in a dry state and can be safely purified. Therefore, it is suitable for purifying gas containing halogen-based gas discharged from a semiconductor manufacturing process or the like. Excellent effect can be obtained.
Claims (4)
ハロゲン系ガスを除去するための浄化剤であって、二酸
化マンガン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化
物の3成分を主成分とすることを特徴とする有害ガスの
浄化剤。1. A purifying agent for removing a halogen-containing gas from a gas containing a harmful halogen-containing gas, which contains three components of manganese dioxide, potassium hydroxide and an alkaline earth metal hydroxide as main components. A toxic gas purifier characterized by:
タングステン、三ふっ化塩素から選ばれる1種または2
種以上である請求項1に記載の浄化剤2. The halogen-based gas is one or two selected from fluorine, chlorine, tungsten hexafluoride and chlorine trifluoride.
The purifying agent according to claim 1, which is more than one kind.
シウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水
酸化バリウムから選ばれる1種または2種以上である請
求項1に記載の浄化剤。3. The purifying agent according to claim 1, wherein the alkaline earth metal hydroxide is one kind or two or more kinds selected from magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide and barium hydroxide.
ある請求項1に記載の浄化剤。4. The purifying agent according to claim 1, which is prepared without heating and drying in air.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8104077A JPH09267027A (en) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | Purifying agent for harmful gas |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP8104077A JPH09267027A (en) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | Purifying agent for harmful gas |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH09267027A true JPH09267027A (en) | 1997-10-14 |
Family
ID=14371096
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JP (1) | JPH09267027A (en) |
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