JPH0991974A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH0991974A
JPH0991974A JP24575595A JP24575595A JPH0991974A JP H0991974 A JPH0991974 A JP H0991974A JP 24575595 A JP24575595 A JP 24575595A JP 24575595 A JP24575595 A JP 24575595A JP H0991974 A JPH0991974 A JP H0991974A
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JP
Japan
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circuit
current
bit line
voltage
cmos logic
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JP24575595A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Nishimura
晃一 西村
Shigeo Kuboki
茂雄 久保木
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Hitachi Ltd
Hitachi Power Semiconductor Device Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Haramachi Electronics Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure the operation over a wide potential range by providing a clock gate type CMOS logic gate on a concerned bit line in a current detection read circuit. SOLUTION: An NMOS transistor NM1 feeds a current from a current supply means through a resistor means 18 to the node BB0 of bit lines Bit0-Bit31 in a memory cell array 10. A clock gate type CMOS logic circuit 17 applies a precharge voltage to the bit line. The clock signal of clock gate type CMOS logic circuit 17 can deal with both 'H' and 'L'. When several inverters are provided additionally for the clock signal to constitute a delay circuit, the operating interval of CMOS logic circuit can be set arbitrarily.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体メモリ装置
に関し、広範囲な電源電圧、例えば0.9〜6.0V動作
するのに好適な読みだし専用メモリ、あるいは、不揮発
性半導体メモリ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a read-only memory or a non-volatile semiconductor memory device suitable for operating a wide range of power supply voltage, for example, 0.9 to 6.0V.

【0002】[0002]

【従来の技術】読みだし専用あるいは不揮発性半導体メ
モリ装置の読みだし回路には、ディスチャージ形読みだ
し回路,差動形比較回路,電流検出形回路などが使われ
ている。
2. Description of the Related Art As a read circuit for a read-only or non-volatile semiconductor memory device, a discharge-type read circuit, a differential-type comparison circuit, a current detection type circuit, etc. are used.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ディスチャージ形読み
だし回路は、ビット線はプリチャージ期間制限電圧(ク
ランプ電圧)に充電され、非プリチャージ(データ出
力)期間選択されたメモリMOSトランジスタのしきい
値電圧の高低に応じて、ビット線の寄生容量に充電され
た電荷を放電するか,保持するかが決定される。読みだ
し動作は、ビット線電圧を論理ゲート回路で論理レベル
(上記クランプ電圧及び接地電位)に変換して行われ
る。従来の該論理ゲート回路出力を電源電圧レベルに変
換する電圧レベル変換回路は、定電圧動作,回路規模の
点で充分ではなかった。
In the discharge type read circuit, the bit line is charged to the precharge period limit voltage (clamp voltage) and the threshold value of the memory MOS transistor selected in the non-precharge (data output) period. Depending on the level of the voltage, whether to discharge or hold the charge charged in the parasitic capacitance of the bit line is determined. The read operation is performed by converting the bit line voltage into a logic level (the above clamp voltage and ground potential) by a logic gate circuit. The conventional voltage level conversion circuit for converting the output of the logic gate circuit into the power supply voltage level is not sufficient in terms of constant voltage operation and circuit scale.

【0004】また、差動形比較回路は、差動形増幅器を
使い基準電圧に対してビット線をコントロールするも
の、電流検出形回路は、MOSトランジスタ抵抗に流れ
るビット線電流による電圧変化を電圧レベル変換回路で
論理レベルに変換するものであるが、これらは、低電源
電圧範囲では、使用しているMOS単体特性が飽和領域
から非飽和領域に入ってくるため設計動作点(バイアス
電圧,電流,論理しきい値電圧など)が大きく変動し、
安定な動作,特性を満足することができなくなり、低電
圧化に適した回路方式とは言えない。例えば、差動形増
幅器では電源と接地間に少なくとも負荷用,駆動用,電
流源用の3個のMOSトランジスタが直列につながれ、
広い電源電圧範囲に渡って設計動作点を確保することは
難しい。特に、1.5V 以下の低電圧域では、MOSは
テーリング領域で動作するため、論理しきい値電圧など
の回路設計定数は単にPMOS,NMOSのチャンネル
比によっては制御困難になるので設計チューニングは難
しい問題がある。さらに、差動形比較回路,電流検出形
回路方式では電流駆動のため動作速度は速いが、一般
に、バイアス電流が流れ消費電流が大きい問題がある。
また、電流検出形回路方式では高速化の点からは該電流
供給及び抵抗手段の電流駆動能力を増加させる必要があ
るが、低電圧になってくるとメモリMOSのドレイン電
流が小さくなる(メモリMOSの等価抵抗大)ので
“1”読みだし(メモリMOSのしきい値電圧MVth
低い)時の出力端子の電圧レベルが増大し、正常な読み
だし動作ができない問題があった。すなわち、メモリM
OSの抵抗値が増大するので、該電流供給及び抵抗手段
の等価抵抗とメモリMOS等価抵抗の分圧比で決まる出
力電圧は上昇する。そのため、該電流供給及び抵抗手段
の電流能力を小さくすると、今度は、“0”読みだし時
(メモリMOSのしきい値電圧MVth高い)ビット線
及び出力端子容量間電荷のチャージシェアにより読みだ
し時間の増加,誤読みだし動作を招く問題があった。
The differential comparison circuit controls a bit line with respect to a reference voltage by using a differential amplifier, and the current detection circuit changes a voltage level due to a bit line current flowing through a MOS transistor resistance to a voltage level. These are converted to logic levels by a conversion circuit. However, in the low power supply voltage range, these are designed operating points (bias voltage, current, Logic threshold voltage etc.)
It cannot be said that the circuit system is suitable for lowering the voltage because stable operation and characteristics cannot be satisfied. For example, in a differential amplifier, at least three load, drive, and current source MOS transistors are connected in series between a power supply and ground.
It is difficult to secure the design operating point over a wide power supply voltage range. In particular, in the low voltage range of 1.5 V or less, since the MOS operates in the tailing region, it is difficult to control the circuit design constants such as the logical threshold voltage depending on the channel ratio of the PMOS and NMOS, so that the design tuning is difficult. There's a problem. Further, in the differential type comparison circuit and the current detection type circuit system, the operation speed is high because of current driving, but in general, there is a problem that the bias current flows and the current consumption is large.
Further, in the current detection type circuit system, it is necessary to increase the current drive capability of the current supply and the resistance means from the viewpoint of speeding up, but when the voltage becomes low, the drain current of the memory MOS becomes small (memory MOS. Is equivalent to a large equivalent resistance), so "1" is read (threshold voltage MVth of memory MOS MVth
(Low), the voltage level of the output terminal increased and there was a problem that normal reading operation could not be performed. That is, the memory M
Since the resistance value of OS increases, the output voltage determined by the voltage dividing ratio of the equivalent resistance of the current supply and resistance means and the memory MOS equivalent resistance increases. Therefore, if the current supply and the current capability of the resistance means are reduced, this time, when reading "0" (the threshold voltage MVth of the memory MOS is high), the reading time is obtained by the charge sharing of the charges between the bit line and the output terminal capacitance. However, there was a problem of increasing the number of readings and causing misreading.

【0005】本発明は、上述した問題を解決して、広い
電源電圧範囲に渡って動作可能で、低消費電力化,小型
化に好適な読みだし専用あるいは不揮発性半導体メモリ
を提供することにある。
The present invention solves the above problems and provides a read-only or non-volatile semiconductor memory that can operate over a wide power supply voltage range and is suitable for low power consumption and size reduction. .

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前記問題を解決するため
の手段として、少なくとも定電流回路手段と電流印加ス
イッチ手段からなる電流検出回路、及びレベル変換手段
からなるメモリ装置において、メモリMOSが“1”読
みだし状態(メモリMOSのしきい値電圧MVth低い)の
時、極力低電圧動作させるためには、該ビット線のプリ
チャージ電圧を少なくとも該メモリMOSのしきい値電
圧MVthよりも高い範囲で極力低くすることが必要で
ある。この為には、該定電流回路の抵抗値を大きくすれ
ば良いが、大きすぎるとビット線プリチャージ能力が低
下するため、該メモリMOSが“0”読みだし(メモリ
MOSのしきい値電圧MVth高い)時、該ビット線と
出力端子間電荷のチャージシェアにより、プリチャージ
された該ビット線電位が低下してしまい、読みだし時間
の増加,誤読みだし動作を招く問題が生じる。本発明で
は、ビット線にクロックドゲート構造のCMOS論理ゲ
ートを設け、CMOS論理ゲートが動作する期間、ビット線
をプリチャージすることによりチャージシェアを低減す
ることができ、低電圧動作、及び、高速動作が可能とな
る。また、クロックドゲート構造のCMOS論理ゲート
が動作する期間は任意に設定可能であり、該メモリMO
Sが“1”読みだし(メモリMOSのしきい値電圧MV
th低い)時も、低電圧動作、及び、高速動作が可能で
あることは言うまでもない。さらに、従来、信号線のプ
リチャージ回路には、電源電圧をクランプしてプリチャ
ージするためにDMOSが使用されるケースが多いが、
DMOSを用いた場合特性のコントロールが難しいとい
う問題があった。本発明では、プリチャージの方法にク
ロックドゲート構造のCMOS論理回路のVlt特性を
利用しているため、安定した動作を期待できることはも
ちろん、DMOS用のホトマスクやイオン打ち込みなど
が不必要であるため、製品を生産する上で、コストの低
減や製作工程の削減などのメリットがある。
As means for solving the above problems, in a memory device including at least a current detecting circuit including a constant current circuit means and a current applying switch means, and a level converting means, a memory MOS has a "1". In the read state (low threshold voltage MVth of the memory MOS), in order to operate as low a voltage as possible, the precharge voltage of the bit line is at least higher than the threshold voltage MVth of the memory MOS. It is necessary to make it as low as possible. For this purpose, the resistance value of the constant current circuit may be increased. However, if the resistance value is too large, the bit line precharge capability is lowered, so that the memory MOS reads "0" (the threshold voltage MVth of the memory MOS. High), the charge sharing of the charge between the bit line and the output terminal lowers the potential of the precharged bit line, which causes a problem of increased read time and erroneous read operation. According to the present invention, a CMOS logic gate having a clocked gate structure is provided on a bit line, and the charge share can be reduced by precharging the bit line during the operation of the CMOS logic gate, which enables low voltage operation and high speed operation. It becomes possible to operate. Further, the period during which the CMOS logic gate having the clocked gate structure operates can be set arbitrarily, and the memory MO
S reads out "1" (threshold voltage MV of memory MOS
Needless to say, low voltage operation and high-speed operation are possible even when (th is low). Further, conventionally, a DMOS is often used in a signal line precharge circuit to clamp and precharge a power supply voltage.
When using DMOS, there is a problem that it is difficult to control the characteristics. In the present invention, since the Vlt characteristic of the CMOS logic circuit having the clocked gate structure is used for the precharge method, stable operation can be expected, and the photomask for DMOS and ion implantation are unnecessary. In producing a product, there are merits such as cost reduction and manufacturing process reduction.

【0007】メモリMOSのしきい値電圧MVth(以
下MVthと称す)は、メモリMOSをONさせるため
に必要な電圧である。読みだし回路の状態は、MVth
が低いときは“1”読みだし状態であり、MVthが高
いときは“0”読みだし状態である。“1”読みだし状
態というのは、該メモリMOSがONしている場合であ
り、“0"読みだし状態は、該メモリMOSがOFFし
ている状態である。“1"読みだし時に、低電圧動作、
及び、高速動作させるためには、該定電流回路の抵抗を
大きくすれば良い。しかし、該定電流回路の抵抗を大き
くすることは、逆に、“0”読みだし時の該ビット線を
プリチャージする能力を低下させることになる。このた
め、該電圧レベル変換回路の出力端子電荷と該ビット線
の電荷の差により発生するチャージシェアの影響を受
け、低電圧動作,高速動作が難しくなり、誤読みだしを
招くという問題がある。本発明による電流検出形読みだ
し回路においては、該電圧レベル変換回路出力端子がプ
リチャージされることはもちろん、該ビット線にクロッ
クドゲート形CMOS論理ゲートを設けることにより、
該ビット線もプリチャージされるので、該メモリMOS
“0”読みだし時(MVth=高い)のチャージシェアを低
減することができる。
The threshold voltage MVth (hereinafter referred to as MVth) of the memory MOS is a voltage required to turn on the memory MOS. The read circuit status is MVth
When is low, it is in the "1" read state, and when MVth is high, it is in the "0" read state. The "1" read state is a case where the memory MOS is ON, and the "0" read state is a state where the memory MOS is OFF. When reading "1", low voltage operation,
Also, in order to operate at high speed, the resistance of the constant current circuit may be increased. However, increasing the resistance of the constant current circuit, conversely, reduces the ability to precharge the bit line at the time of reading "0". For this reason, there is a problem that low voltage operation and high speed operation become difficult due to the influence of charge sharing generated by the difference between the output terminal charge of the voltage level conversion circuit and the charge of the bit line, resulting in erroneous reading. In the current detection type read circuit according to the present invention, not only the output terminal of the voltage level conversion circuit is precharged but also the bit line is provided with a clocked gate type CMOS logic gate,
Since the bit line is also precharged, the memory MOS
The charge share at the time of reading "0" (MVth = high) can be reduced.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図を用い
て説明する。図5は本発明の4kワード×8ビット容量
不揮発性メモリ(以後ROMと称す)の全体ブロック構
成を示すものである。図5において、ROMは、メモリ
セルアレイ10,ワードアドレス(X)デコーダ11,ビ
ット線アドレス(Y)デコーダ12,Yセレクタ回路ブ
ロック13,センスアンプ回路ブロック14,データバ
ッファブロック15により構成される。また、12本の
アドレス信号線AD0〜AD11のうち下位アドレス信
号線AD0〜AD4は該Yデコーダ12に入力され、上
位アドレス信号線AD5〜AD11はXデコーダ11に
入力される。8ビットのデータ出力線DB0〜DB7は
データバッファブロック15から、出力クロックPIL
のタイミングで出力される。また、該Xデコーダ11は
基本クロックPI2の立上りに同期して128本のワー
ド線信号WS0〜WS127を出力する。アクティブに
成ったワード線信号WSnに接続されたメモリ素子群が
選択され、該メモリ素子群の記憶データは、該Yデコー
ダ12,Yセレクタ回路ブロック13により、各データ
出力ごとに32本から1本が選択され、データ出力線D
Bnに出力されるメモリセルアレイ10は128行(W
S0〜WS127)×8列(#1〜#8)個のメモリセ
ルブロック16により構成される。各メモリセルブロッ
ク16は図6に示すように、32個のメモリMOSトラ
ンジスタFM0〜FM31から構成される。メモリセル
ブロック16は横型ROM構成である。メモリMOS
FM0〜FM31 はソースが電極に接地され、ドレイン電極が
それぞれビット線Bit0〜Bit31に接続されゲート
電極が共通に接続され、ワード線信号WSnがアクティ
ブレベル(メモリMOSがNMOSのとき“H”レベ
ル)になったとき選択される。メモリMOS FM0〜
FM31に“0”,“1”のデータをプログラムするた
め、通常イオン注入するか否かでメモリMOSのしきい
値電圧MVthを高く(ワード線が“H”レベルでもONし
ない程度に高く)、または低く(ワード線が“H”レベ
ルでもONする程度に低く)作り分ける。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 5 shows an overall block configuration of a 4 k word.times.8 bit capacity nonvolatile memory (hereinafter referred to as ROM) of the present invention. In FIG. 5, the ROM is composed of a memory cell array 10, a word address (X) decoder 11, a bit line address (Y) decoder 12, a Y selector circuit block 13, a sense amplifier circuit block 14, and a data buffer block 15. The lower address signal lines AD0 to AD4 of the 12 address signal lines AD0 to AD11 are input to the Y decoder 12, and the upper address signal lines AD5 to AD11 are input to the X decoder 11. The 8-bit data output lines DB0 to DB7 are connected to the output clock PIL from the data buffer block 15.
Is output at the timing of. Further, the X decoder 11 outputs 128 word line signals WS0 to WS127 in synchronization with the rise of the basic clock PI2. A memory element group connected to the active word line signal WSn is selected, and the stored data of the memory element group is selected from 32 to 1 for each data output by the Y decoder 12 and the Y selector circuit block 13. Is selected and the data output line D
The memory cell array 10 output to Bn has 128 rows (W
S0 to WS127) × 8 columns (# 1 to # 8) of memory cell blocks 16. As shown in FIG. 6, each memory cell block 16 is composed of 32 memory MOS transistors FM0 to FM31. The memory cell block 16 has a horizontal ROM configuration. Memory MOS
In FM0 to FM31, the source is grounded to the electrodes, the drain electrodes are connected to the bit lines Bit0 to Bit31, the gate electrodes are commonly connected, and the word line signal WSn is at the active level (“H” level when the memory MOS is NMOS). Will be selected. Memory MOS FM0
Since the data of "0" and "1" is programmed in the FM 31, the threshold voltage MVth of the memory MOS is set high (high enough not to turn on even when the word line is at "H" level) depending on whether or not normal ion implantation is performed. Or, make it low (low enough to turn on even when the word line is at “H” level).

【0009】図1はROM電流検出型読みだし回路の実
施例を示す。本実施例は、メモリセルアレイ10,Yセ
レクタ回路ブロック13の外に、電流供給手段及び抵抗
手段(以下電流源と称す)18,電流源18からの電流
をビット線Bit0〜Bit31及びノードBB0に供
給するための手段を構成するNMOSトランジスタNM
1,出力端子SOの電圧変化を論理レベルに変換する電
圧レベル変換回路19、それにビット線にプリチャージ
電圧を印加するための手段を構成するクロックドゲート
構造のCMOS論理回路17から成る。
FIG. 1 shows an embodiment of a ROM current detection type read circuit. In this embodiment, in addition to the memory cell array 10 and the Y selector circuit block 13, a current supply unit and a resistance unit (hereinafter referred to as a current source) 18, a current from the current source 18 is supplied to the bit lines Bit0 to Bit31 and a node BB0. NMOS transistor NM forming means for
1, a voltage level conversion circuit 19 for converting a voltage change at the output terminal SO into a logic level, and a CMOS logic circuit 17 having a clocked gate structure which constitutes a means for applying a precharge voltage to a bit line.

【0010】次に、この読みだし回路の動作を図7のタ
イムチャートを参照しながら述べる。まず、プリチャー
ジ期間(PI2=“H”,PI2N=“L”)ではNM
OSNM1がOFF状態となりノードBB0と出力端子
SOは電源電圧Vccに充電される。この時、クロック
ドゲート構造のCMOS論理回路17は、PI2N=
“L”の期間だけONし、ビット線をクロックドゲート
構造のCMOS論理回路17の論理しきい値(以下Vl
tと称す)までプリチャージする。プリチャージ期間終
了後(PI2=“L”,PI2N=“H”)、NMOSト
ランジスタNM1はON状態に、クロックドゲート構造
のCMOS論理回路はOFF状態になり、選択されたメ
モリMOSのしきい値電圧MVthの高低によって、ビ
ット線に電流が流れないか,流れるかが決まる。上記M
Vthが低い場合(“1”リード時)電流源18からYセ
レクタ回路ブロック13内NMOSスイッチ,メモリM
OSを介して接地電位へ直流パスができ、電流源18に
流れる電流により出力端子SOの電位が低下する。この
電圧変化は、電圧レベル変換回路19により論理レベル
に変換される。この場合、負荷電流駆動であるので高速
読みだしの特徴がある。一方、上記MVthが高い場合
(“0”リード時)直流パスはできず、出力端子SOの
電位は最終的に“H”レベルに保持されるが、プリチャ
ージ期間終了(PI2=“L”に切り替った)直後、出力
端子の寄生容量C2,ノードBB0の等価寄生容量C1
の間でチャージシェアが起こり、一時的に電位低下が起
こる。本実施例では、クロックドゲート構造のCMOS
論理ゲート17のプリチャージ機能により上記チャージ
シェアによる電位低下を低減できる。また、このプリチ
ャージ機能が働く期間は、PI2N=Lの期間のみであ
り、“1”リード時のディスチャージ時間を早める効果
がある。
Next, the operation of the read circuit will be described with reference to the time chart of FIG. First, during the precharge period (PI2 = "H", PI2N = "L"), NM
The OSNM1 is turned off, and the node BB0 and the output terminal SO are charged to the power supply voltage Vcc. At this time, the CMOS logic circuit 17 having the clocked gate structure has PI2N =
It is turned on only during the "L" period, and the bit line is set to the logic threshold value of the CMOS logic circuit 17 of the clocked gate structure (hereinafter referred to as Vl
Precharge up to t). After the end of the precharge period (PI2 = “L”, PI2N = “H”), the NMOS transistor NM1 is turned on, the CMOS logic circuit having the clocked gate structure is turned off, and the threshold value of the selected memory MOS is turned on. Whether the current flows through the bit line or not depends on the level of the voltage MVth. M above
When Vth is low (when "1" is read), the current source 18 to the NMOS switch in the Y selector circuit block 13 and the memory M
A direct current path is formed through the OS to the ground potential, and the current at the current source 18 causes the potential at the output terminal SO to drop. This voltage change is converted into a logic level by the voltage level conversion circuit 19. In this case, since it is driven by a load current, it has a feature of high-speed reading. On the other hand, when the MVth is high (when "0" is read), a DC path cannot be made and the potential of the output terminal SO is finally held at "H" level, but the precharge period ends (PI2 = "L"). Immediately after (switching), the parasitic capacitance C2 of the output terminal, the equivalent parasitic capacitance C1 of the node BB0
Charge sharing occurs between the two, and the potential drops temporarily. In this embodiment, a CMOS having a clocked gate structure is used.
The precharge function of the logic gate 17 can reduce the potential drop due to the charge sharing. Also, the period during which this precharge function works is only the period of PI2N = L, and there is an effect of accelerating the discharge time at the time of "1" read.

【0011】図2はクロックドゲート構造のCMOS論
理回路1の構成を示す。このクロックドゲート構造のC
MOS論理回路では、入力端子、及び、出力端子がビッ
ト線(BB0)と接続され、NMOS側へ入力するクロッ
ク信号線PI2とPI2Nの間にはインバーター2が具
備される。このため、PI2Nが“L”の期間は、クロ
ックドゲート構造のCMOS回路1がONするため入力
端子と出力端子は短絡され、“H”の期間は逆にOFF
するため、入力端子と出力端子は開放される。図3はク
ロックドゲート構造のCMOS論理回路の他の実施例で
あり、図2に示した入力信号PI2Nと逆の信号PI2
を用いた場合を示す。この時、クロックドゲート構造の
CMOS論理回路1のNMOS側に入力するクロック信
号がPI2“H”であるため、PMOS側に入力するク
ロック信号PI2NとPI2の間には、極性を逆にする
ためのインバーター2が具備されている。
FIG. 2 shows the structure of a CMOS logic circuit 1 having a clocked gate structure. C of this clocked gate structure
In the MOS logic circuit, the input terminal and the output terminal are connected to the bit line (BB0), and the inverter 2 is provided between the clock signal lines PI2 and PI2N input to the NMOS side. Therefore, while the PI2N is "L", the CMOS circuit 1 having the clocked gate structure is turned on, so that the input terminal and the output terminal are short-circuited and the "H" period is turned off.
Therefore, the input terminal and the output terminal are opened. FIG. 3 shows another embodiment of a CMOS logic circuit having a clocked gate structure, which is a signal PI2 opposite to the input signal PI2N shown in FIG.
Shows the case of using. At this time, since the clock signal input to the NMOS side of the CMOS logic circuit 1 having the clocked gate structure is PI2 “H”, the polarity is reversed between the clock signals PI2N and PI2 input to the PMOS side. Inverter 2 is provided.

【0012】以上、図2,図3に示したように、クロッ
クドゲート構造のCMOS論理回路のクロック信号は
“H”,“L”どちらでも対応することができる。
As described above, as shown in FIGS. 2 and 3, the clock signal of the CMOS logic circuit having the clocked gate structure can correspond to either "H" or "L".

【0013】図4はクロックドゲート構造のCMOS論
理回路1のクロック信号に数個のインバーターを追加し
たものである。クロックドゲート構造のCMOS回路1
のNMOS側に入力するクロック信号線PI2とPI2
Nの間に奇数個のインバーターを設け、また、PMOS
側に入力するクロック信号線PI2NとPI2の間に偶
数個のインバーターを設けることにより遅延回路を構成
し、クロックドゲート構造のCMOS論理回路1の動作
期間を任意に設定することができる。
FIG. 4 is a diagram in which several inverters are added to the clock signal of the CMOS logic circuit 1 having the clocked gate structure. Clocked gate structure CMOS circuit 1
Clock signal lines PI2 and PI2 input to the NMOS side of the
An odd number of inverters are provided between N and PMOS
The delay circuit is configured by providing an even number of inverters between the clock signal lines PI2N and PI2 input to the side, and the operation period of the CMOS logic circuit 1 having the clocked gate structure can be set arbitrarily.

【0014】以上の構成の半導体メモリ装置をマイクロ
コンピュータに内蔵することにより、低電圧動作,高速
動作が可能なマイクロコンピュータを実現できる。
By incorporating the semiconductor memory device having the above configuration in a microcomputer, a microcomputer capable of low-voltage operation and high-speed operation can be realized.

【0015】[0015]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
電流検出型回路方式において、プリチャージ電圧印加回
路を具備し、それをクロックドゲート構造のCMOS論
理回路にすることによりプリチャージ機能が働く期間を
任意に設定できるので、チャージシェアの影響を低減す
ることはもちろん、低電圧動作,高速動作を可能とす
る。また、従来プリチャージ回路に良く使われているク
ランプ用のDMOSを使用していないので、安定したプ
リチャージを行うことができることはもちろん、コスト
の低減や、製品の製作工程の削減などのメリットがあ
る。
As described above, according to the present invention,
In the current detection type circuit system, a precharge voltage applying circuit is provided, and a CMOS logic circuit having a clocked gate structure can be used to arbitrarily set the period during which the precharge function operates, thereby reducing the influence of charge sharing. Of course, low voltage operation and high speed operation are possible. Also, since the clamp DMOS that is often used in the conventional precharge circuit is not used, stable precharge can be performed, and there are advantages such as cost reduction and product manufacturing process reduction. is there.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の半導体メモリ装置における読みだし回
路の構成を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a read circuit in a semiconductor memory device of the present invention.

【図2】クロックドゲート構造のCMOS論理回路の構
成を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a CMOS logic circuit having a clocked gate structure.

【図3】クロックドゲート構造のCMOS論理回路の他
の構成を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing another configuration of a CMOS logic circuit having a clocked gate structure.

【図4】クロックドゲート構造のCMOS論理回路の他
の構成を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing another configuration of a CMOS logic circuit having a clocked gate structure.

【図5】本発明の半導体メモリ装置の全体構成を示す
図。
FIG. 5 is a diagram showing an overall configuration of a semiconductor memory device of the present invention.

【図6】図5におけるメモリセルブロック16の構成を
示す図。
6 is a diagram showing a configuration of a memory cell block 16 in FIG.

【図7】本発明の半導体メモリ装置における読みだし回
路の動作を説明するタイムチャート。
FIG. 7 is a time chart explaining the operation of the read circuit in the semiconductor memory device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…メモリセルアレイ、11…ワードアドレス(X)
デコーダ、12…ビット線アドレス(Y)デコーダ、13
…Yセレクタ回路ブロック、14…センスアンプ回路ブ
ロック、15…データバッファブロック、16…メモリ
セルブロック、17…CMOS論理回路、Vcc…論理
電源電圧、FM0〜FM31…メモリMOS、PM1〜
PM6,PM30〜PM37…PMOSトランジスタ、
NM1〜NM10…NMOSトランジスタ。
10 ... Memory cell array, 11 ... Word address (X)
Decoder, 12 ... Bit line address (Y) decoder, 13
... Y selector circuit block, 14 ... Sense amplifier circuit block, 15 ... Data buffer block, 16 ... Memory cell block, 17 ... CMOS logic circuit, Vcc ... Logic power supply voltage, FM0-FM31 ... Memory MOS, PM1-
PM6, PM30 to PM37 ... PMOS transistor,
NM1 to NM10 ... NMOS transistors.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】メモリセルアレイのビット線に電流を供給
する電流源と、 前記電流源から前記ビット線への電流の供給をスイッチ
ングするスイッチング素子と、 ビット線電流による電流経路上の出力点における電圧変
化を論理レベルに変換する電圧レベル変換回路と、 入力端子及び出力端子が前記ビット線に接続され、前記
入力端子と出力端子を短絡,開放する手段を有する論理
ゲート回路とからなる読みだし回路を備えた半導体メモ
リ装置。
1. A current source for supplying a current to a bit line of a memory cell array, a switching element for switching a current supply from the current source to the bit line, and a voltage at an output point on a current path by the bit line current. A read circuit comprising a voltage level conversion circuit for converting a change into a logic level and a logic gate circuit having an input terminal and an output terminal connected to the bit line and having means for short-circuiting and opening the input terminal and the output terminal. Equipped semiconductor memory device.
【請求項2】請求項1において、 前記論理ゲート回路は、クロックドゲート構造のCMO
S論理ゲートからなることを特徴とする半導体メモリ装
置。
2. The CMO having a clocked gate structure according to claim 1, wherein the logic gate circuit is a CMO having a clocked gate structure.
A semiconductor memory device comprising an S logic gate.
【請求項3】請求項1または2に記載の半導体メモリ装
置を内蔵するマイクロコンピュータ。
3. A microcomputer incorporating the semiconductor memory device according to claim 1.
JP24575595A 1995-09-25 1995-09-25 Semiconductor memory Pending JPH0991974A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6788581B2 (en) 2002-07-15 2004-09-07 Renesas Technology Corp. Non-volatile semiconductor memory device configured to reduce rate of erroneously reading data from memory cell

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