JPH0986947A - ファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法 - Google Patents
ファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法Info
- Publication number
- JPH0986947A JPH0986947A JP26650295A JP26650295A JPH0986947A JP H0986947 A JPH0986947 A JP H0986947A JP 26650295 A JP26650295 A JP 26650295A JP 26650295 A JP26650295 A JP 26650295A JP H0986947 A JPH0986947 A JP H0986947A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica glass
- hollow
- silica
- powder
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/0128—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from pulverulent glass
- C03B37/01291—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from pulverulent glass by progressive melting, e.g. melting glass powder during delivery to and adhering the so-formed melt to a target or preform, e.g. the Plasma Oxidation Deposition [POD] process
- C03B37/01297—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from pulverulent glass by progressive melting, e.g. melting glass powder during delivery to and adhering the so-formed melt to a target or preform, e.g. the Plasma Oxidation Deposition [POD] process by melting glass powder in a mould
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01265—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting entirely or partially from molten glass, e.g. by dipping a preform in a melt
- C03B37/01274—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting entirely or partially from molten glass, e.g. by dipping a preform in a melt by extrusion or drawing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、気泡等が発生することなく、高寸
法精度、表面に擦り傷のない事、高純度等の品質条件を
容易にクリアできる中空ファイバ用シリカガラス母材の
製造方法を提供する事を目的とする。 【解決手段】 本発明は、前記したような管状中空体の
外層にシリカガラス体層が形成されて成るファイバ用中
空シリカガラス母材の製造方法に関するもので、その特
徴とするところは、シリカガラス製の外管及び内管より
なり、前記外管内に一又は複数の内管を挿入すると共
に、該外管と内管間にシリカ粉を主成分とする粉状体を
充填してシリカガラス中空体を形成すると共に、前記充
填域を減圧雰囲気に維持しながら帯域溶融にて前記中空
体を軸方向に沿って順次加熱溶融しながらファイバ用中
空シリカガラス母材を製造する方法にある。
法精度、表面に擦り傷のない事、高純度等の品質条件を
容易にクリアできる中空ファイバ用シリカガラス母材の
製造方法を提供する事を目的とする。 【解決手段】 本発明は、前記したような管状中空体の
外層にシリカガラス体層が形成されて成るファイバ用中
空シリカガラス母材の製造方法に関するもので、その特
徴とするところは、シリカガラス製の外管及び内管より
なり、前記外管内に一又は複数の内管を挿入すると共
に、該外管と内管間にシリカ粉を主成分とする粉状体を
充填してシリカガラス中空体を形成すると共に、前記充
填域を減圧雰囲気に維持しながら帯域溶融にて前記中空
体を軸方向に沿って順次加熱溶融しながらファイバ用中
空シリカガラス母材を製造する方法にある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は一又は複数の管状中
空孔の外層にシリカガラス体が形成されて成るファイバ
用中空シリカガラス母材の製造方法に関する。
空孔の外層にシリカガラス体が形成されて成るファイバ
用中空シリカガラス母材の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、石英系充填コアクラッド形光ファ
イバの伝送波長はほぼ２〜０．３μｍである。従ってこ
れより外側の波長の光エネルギーを伝送させたい場合、
異なる構造若しくは異なる材料で光ファイバを考案せね
ばならない。例えば、２μｍより長い波長（中−遠赤外
線）領域においては、フッ化物及びアルカライド系化合
物が比較的透明であり、これらを用いた充填コアクラッ
ド形光ファイバは一部で商品化されている。
イバの伝送波長はほぼ２〜０．３μｍである。従ってこ
れより外側の波長の光エネルギーを伝送させたい場合、
異なる構造若しくは異なる材料で光ファイバを考案せね
ばならない。例えば、２μｍより長い波長（中−遠赤外
線）領域においては、フッ化物及びアルカライド系化合
物が比較的透明であり、これらを用いた充填コアクラッ
ド形光ファイバは一部で商品化されている。
【０００３】ところが短波長側（真空紫外−Χ線領域）
において透明な固体材料は存在しない。このため日高建
彦（照明学会誌 第７０巻、第１２号、１９８６、ｐ
ｐ．６３４〜６３７）より、伝送路として真空若しくは
ヘリウムを充填した中空ファイバを用いるのが好ましい
旨開示されている。具体的にはシリカガラス製の中空フ
ァイバ両端をΧ線透過性箔膜で封止し、内部を真空に維
持する構成や、ヘリウムガスをフローさせる構成が提案
されている。
において透明な固体材料は存在しない。このため日高建
彦（照明学会誌 第７０巻、第１２号、１９８６、ｐ
ｐ．６３４〜６３７）より、伝送路として真空若しくは
ヘリウムを充填した中空ファイバを用いるのが好ましい
旨開示されている。具体的にはシリカガラス製の中空フ
ァイバ両端をΧ線透過性箔膜で封止し、内部を真空に維
持する構成や、ヘリウムガスをフローさせる構成が提案
されている。
【０００４】しかしながらかかる中空ファイバは伝送効
率が悪く、現状では医療用など短距離伝送にその利用範
囲が限定されるが、例えばΧ線領域での伝送効率を向上
させる為に、前記中空ファイバの内面に軽金属と重金属
を交互にコートした多層膜を形成した技術も開示されお
り（Ｈｏｅｌｂｉｃｈ、Ｒ．Ｐ．ｅｔａｌ，Ａｐｐｌｉ
ｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３
４，１９７９，ｐ．１８４）、特に光通信以外のエネル
ギー伝送、光計測の分野での今後の開発が望まれる。
率が悪く、現状では医療用など短距離伝送にその利用範
囲が限定されるが、例えばΧ線領域での伝送効率を向上
させる為に、前記中空ファイバの内面に軽金属と重金属
を交互にコートした多層膜を形成した技術も開示されお
り（Ｈｏｅｌｂｉｃｈ、Ｒ．Ｐ．ｅｔａｌ，Ａｐｐｌｉ
ｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３
４，１９７９，ｐ．１８４）、特に光通信以外のエネル
ギー伝送、光計測の分野での今後の開発が望まれる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】さてかかる中空ファイ
バは、中空円筒管状に形成した母材を線引きして形成す
るわけであるが、シリカ粉体を出発原料としたファイバ
用シリカガラス母材の製造方法はなかなか厄介である。
バは、中空円筒管状に形成した母材を線引きして形成す
るわけであるが、シリカ粉体を出発原料としたファイバ
用シリカガラス母材の製造方法はなかなか厄介である。
【０００６】例えば従来の充填コアクラッド形光ファイ
バ母材の製造方法として、ガラス製の成型容器内に、棒
状のコア材とその周囲にクラッド材となりうるシリカ粉
状体を充填し、そのまま熱間静水圧プレスで焼結するこ
とを特徴とする光ファイバ用母材の製造方法を開示した
技術（特開昭６２−６５９４７）が提案されている。し
かしながら前記のように充填されたシリカ粉体の同時全
体加熱ではシリカ粉体溶融中に泡が閉じ込められ、気泡
が発生しやすい。
バ母材の製造方法として、ガラス製の成型容器内に、棒
状のコア材とその周囲にクラッド材となりうるシリカ粉
状体を充填し、そのまま熱間静水圧プレスで焼結するこ
とを特徴とする光ファイバ用母材の製造方法を開示した
技術（特開昭６２−６５９４７）が提案されている。し
かしながら前記のように充填されたシリカ粉体の同時全
体加熱ではシリカ粉体溶融中に泡が閉じ込められ、気泡
が発生しやすい。
【０００７】かかる欠点を解消する為に、前記シリカ粉
状体充填中に成形型の下蓋を振動子で振動させ嵩密度を
増加させて前記気泡の発生や充填密度の不均一化を阻止
する技術も開示されている（特開平４−３２１５３２）
が、１６００℃以上に加熱される成型型枠に振動子を設
けることは実際上、困難である。
状体充填中に成形型の下蓋を振動子で振動させ嵩密度を
増加させて前記気泡の発生や充填密度の不均一化を阻止
する技術も開示されている（特開平４−３２１５３２）
が、１６００℃以上に加熱される成型型枠に振動子を設
けることは実際上、困難である。
【０００８】また前記いずれの技術も充填コアクラッド
形光ファイバ母材の製造方法であり、光ファイバのコア
部分が中空な、中空ファイバ用シリカガラス母材のシリ
カを主成分とする粉状体からの製造方法は何等開示され
ていない。またかかる従来技術においては、いずれも基
本的に成形型枠が必要とされ、また型枠とシリカガラス
粉状体が接触しているために、溶融時成型型枠からの汚
染がある。
形光ファイバ母材の製造方法であり、光ファイバのコア
部分が中空な、中空ファイバ用シリカガラス母材のシリ
カを主成分とする粉状体からの製造方法は何等開示され
ていない。またかかる従来技術においては、いずれも基
本的に成形型枠が必要とされ、また型枠とシリカガラス
粉状体が接触しているために、溶融時成型型枠からの汚
染がある。
【０００９】本発明は、かかる課題に鑑み、気泡等が発
生することなく、高寸法精度、表面に擦り傷のない事、
高純度等の品質条件を容易にクリアできる中空ファイバ
用シリカガラス母材の製造方法を提供する事を目的とす
るものであるが、本発明はこれのみに限定されることな
く、管状中空孔内にコア材を充填して融着一体化後線引
を行うための充填コアクラッド形光ファイバのジャケッ
ト管である中空シリカガラス母材としても適用可能なフ
ァイバ用中空シリカガラス母材の製造方法を提供するも
のである。
生することなく、高寸法精度、表面に擦り傷のない事、
高純度等の品質条件を容易にクリアできる中空ファイバ
用シリカガラス母材の製造方法を提供する事を目的とす
るものであるが、本発明はこれのみに限定されることな
く、管状中空孔内にコア材を充填して融着一体化後線引
を行うための充填コアクラッド形光ファイバのジャケッ
ト管である中空シリカガラス母材としても適用可能なフ
ァイバ用中空シリカガラス母材の製造方法を提供するも
のである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記したよう
な管状中空孔の外側にシリカガラス体が形成されて成る
ファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法に関するも
ので、その特徴とするところは、シリカガラス製の外管
及び内管よりなり、該外管内に一又は複数の内管を挿し
てシリカガラス中空体を作った後、該外管と内管の間に
シリカを主成分とする粉状体を充填したシリカガラス中
空体を形成すると共に、前記充填域を減圧雰囲気に維持
しながら該中空体を軸方向に沿って順次加熱し帯域溶融
させながらファイバ用中空シリカガラス母材を製造する
ものである。
な管状中空孔の外側にシリカガラス体が形成されて成る
ファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法に関するも
ので、その特徴とするところは、シリカガラス製の外管
及び内管よりなり、該外管内に一又は複数の内管を挿し
てシリカガラス中空体を作った後、該外管と内管の間に
シリカを主成分とする粉状体を充填したシリカガラス中
空体を形成すると共に、前記充填域を減圧雰囲気に維持
しながら該中空体を軸方向に沿って順次加熱し帯域溶融
させながらファイバ用中空シリカガラス母材を製造する
ものである。
【００１１】この場合一般的には前記粉状体の充填され
たシリカガラス中空体を垂直下方に移動させた方が装置
の小形化の面で好ましいが、前記帯域溶融の為の加熱手
段を中空体軸方向に、中空体の下端側より上方に向け移
動させてもよい。この場合、いずれの場合も、シリカガ
ラス中空体を軸回転させながら帯域溶融させるのがより
好ましい。又前記充填域内の減圧雰囲気は１０ＫＰａ以
下の真空であること事が好ましい。
たシリカガラス中空体を垂直下方に移動させた方が装置
の小形化の面で好ましいが、前記帯域溶融の為の加熱手
段を中空体軸方向に、中空体の下端側より上方に向け移
動させてもよい。この場合、いずれの場合も、シリカガ
ラス中空体を軸回転させながら帯域溶融させるのがより
好ましい。又前記充填域内の減圧雰囲気は１０ＫＰａ以
下の真空であること事が好ましい。
【００１２】かかる発明によれば、シリカガラス中空体
全体を同時に加熱するのではなく、減圧下で中空体下端
より上端に向けてリングゾーン状に順次加熱し帯域溶融
するものであるために、粉状体内よりの析出ガスや残存
ガスが巻き込まれることなく実質的に無気泡なシリカガ
ラス体を得ることができる。
全体を同時に加熱するのではなく、減圧下で中空体下端
より上端に向けてリングゾーン状に順次加熱し帯域溶融
するものであるために、粉状体内よりの析出ガスや残存
ガスが巻き込まれることなく実質的に無気泡なシリカガ
ラス体を得ることができる。
【００１３】又本発明は１本の中空体を順次帯域溶融す
る方法であるために、外径６０〜２００ｍｍ、原料粉充
填長１〜１０ｍの大口径の中空体を用いて製造する事も
可能であり、この結果光ファイバー用母材の製造が容易
である。尚、前記帯域溶融手段は下記実施例では円筒形
電気炉を用いているが、これのみに限定されない。
る方法であるために、外径６０〜２００ｍｍ、原料粉充
填長１〜１０ｍの大口径の中空体を用いて製造する事も
可能であり、この結果光ファイバー用母材の製造が容易
である。尚、前記帯域溶融手段は下記実施例では円筒形
電気炉を用いているが、これのみに限定されない。
【００１４】中空ファイバ−における、中空伝送路を形
成するための内管内の径を精度良く確保するために、前
記内管内を粉状体充填域より相対的に高い加圧下に置き
ながら下端側より上方に向け帯域溶融にて徐々に加熱溶
融するのがよい。即ち具体的には少なくとも一端が開放
状態で常圧ないしは加圧下に維持し、一方シリカ原料粉
が充填される外管と内管との間は減圧下に維持した状態
で加熱溶融させて一体化させるのがよい。
成するための内管内の径を精度良く確保するために、前
記内管内を粉状体充填域より相対的に高い加圧下に置き
ながら下端側より上方に向け帯域溶融にて徐々に加熱溶
融するのがよい。即ち具体的には少なくとも一端が開放
状態で常圧ないしは加圧下に維持し、一方シリカ原料粉
が充填される外管と内管との間は減圧下に維持した状態
で加熱溶融させて一体化させるのがよい。
【００１５】また本発明は主原料として結晶質シリカ粉
を用いるのが良い。即ち水晶粉等の結晶質シリカ粉は１
７３０℃にメルティングポイントを有する為に１７３０
℃以上に加熱する事により一気に溶融し、溶融ガラス内
の気泡発生を極力抑える事が出来る。しかしながら例え
ば水晶粉の結晶質シリカ粉は、５７３℃にα型からβ型
への転移点を有するために、加熱開始時に中空体の粘度
が低下する前に該中空体内部の水晶粉のα型からβ型へ
の転移が起こると急激な膨張により中空体の破壊が生じ
てしまう。
を用いるのが良い。即ち水晶粉等の結晶質シリカ粉は１
７３０℃にメルティングポイントを有する為に１７３０
℃以上に加熱する事により一気に溶融し、溶融ガラス内
の気泡発生を極力抑える事が出来る。しかしながら例え
ば水晶粉の結晶質シリカ粉は、５７３℃にα型からβ型
への転移点を有するために、加熱開始時に中空体の粘度
が低下する前に該中空体内部の水晶粉のα型からβ型へ
の転移が起こると急激な膨張により中空体の破壊が生じ
てしまう。
【００１６】そこで本発明は前記中空体の充填域内に先
端部分に非晶質シリカを主成分とする粉状体を充填し、
その後水晶その他の結晶質シリカを主成分とする主原料
シリカ粉を充填するようにしている。この結果最初に帯
域加熱される中空体の充填域下端側で相転移による膨張
が発生しない、言い換えれば加熱開始時に中空体の粘度
が低下する前であっても、転移点のない非晶質シリカを
主成分とする粉状体が充填域下端に存在するために、α
型からβ型への転移自体が存在せず管の破壊を阻止し得
る。
端部分に非晶質シリカを主成分とする粉状体を充填し、
その後水晶その他の結晶質シリカを主成分とする主原料
シリカ粉を充填するようにしている。この結果最初に帯
域加熱される中空体の充填域下端側で相転移による膨張
が発生しない、言い換えれば加熱開始時に中空体の粘度
が低下する前であっても、転移点のない非晶質シリカを
主成分とする粉状体が充填域下端に存在するために、α
型からβ型への転移自体が存在せず管の破壊を阻止し得
る。
【００１７】そしてその上方域は既に帯域溶融部のヒー
トゾーン（均熱幅域）の予熱により中空管の粘度が低下
し、その部分の結晶質シリカ粉がα型からβ型への転移
による急激な膨張が生じても外管の破壊を有効に阻止し
得る。尚、前記非晶質シリカ粉の充填長さは、帯域加熱
手段のヒートゾーン（均熱幅域）の長さより大である事
が必要であるが、余りに大きいと実質的な無気泡域が少
なくなり生産性が低下するために、好ましくは粉状体の
全充填量の２０％未満がよい。
トゾーン（均熱幅域）の予熱により中空管の粘度が低下
し、その部分の結晶質シリカ粉がα型からβ型への転移
による急激な膨張が生じても外管の破壊を有効に阻止し
得る。尚、前記非晶質シリカ粉の充填長さは、帯域加熱
手段のヒートゾーン（均熱幅域）の長さより大である事
が必要であるが、余りに大きいと実質的な無気泡域が少
なくなり生産性が低下するために、好ましくは粉状体の
全充填量の２０％未満がよい。
【００１８】また前記結晶質シリカは、天然水晶、合成
水晶、合成クリストバライトいずれかの結晶質シリカ粉
であり、粒径が１０〜１０００μｍ、好ましくは２０〜
５００μｍ、より好ましくは５０〜２００の範囲でかつ
１０μｍ未満の微粒子含有比率が０．１ｗｔ％以下であ
る事が必要がある。その理由は、前記粒径が１０μｍ未
満では、例え真空引きしても圧力損失により充填域内部
まで真空にする事が出来ず、帯域溶融でも気泡がぬけに
くくなってしまい、溶融したシリカガラス中に気泡が多
量に含まれてしまう。又、粒径が１０００μｍ以上で
は、空隙が多くなるため溶融時均一にならなかったり、
例え水晶粉を用いても粉体間の空隙が大きいことにより
気泡の発生を解消出来ない。
水晶、合成クリストバライトいずれかの結晶質シリカ粉
であり、粒径が１０〜１０００μｍ、好ましくは２０〜
５００μｍ、より好ましくは５０〜２００の範囲でかつ
１０μｍ未満の微粒子含有比率が０．１ｗｔ％以下であ
る事が必要がある。その理由は、前記粒径が１０μｍ未
満では、例え真空引きしても圧力損失により充填域内部
まで真空にする事が出来ず、帯域溶融でも気泡がぬけに
くくなってしまい、溶融したシリカガラス中に気泡が多
量に含まれてしまう。又、粒径が１０００μｍ以上で
は、空隙が多くなるため溶融時均一にならなかったり、
例え水晶粉を用いても粉体間の空隙が大きいことにより
気泡の発生を解消出来ない。
【００１９】尚、高純度の光ファイバー用母材を製造す
る場合、前記の様に天然結晶粉を用いる事が出来ない場
合がある。この様な場合は、合成シリカガラスのように
高純度非晶質シリカ粉を用いても実質的に無気泡な光フ
ァイバー用母材が製造できればよい。このような場合は
前記非晶質シリカ粉としての合成シリカガラス粉をあら
かじめ水素含有雰囲気若しくはヘリウム含有雰囲気にて
加熱処理を行なった後に充填すればよい。
る場合、前記の様に天然結晶粉を用いる事が出来ない場
合がある。この様な場合は、合成シリカガラスのように
高純度非晶質シリカ粉を用いても実質的に無気泡な光フ
ァイバー用母材が製造できればよい。このような場合は
前記非晶質シリカ粉としての合成シリカガラス粉をあら
かじめ水素含有雰囲気若しくはヘリウム含有雰囲気にて
加熱処理を行なった後に充填すればよい。
【００２０】この結果、前記帯域溶融時に水素やヘリウ
ムからなる残留ガスが存在しても溶融時にこれらが溶融
ガラス中に吸蔵／ドープされ、気泡の発生を阻止でき
る。そしてこの様に非晶質のシリカ粉のみを原料とする
場合には中空体下端部分も同じシリカ粉を充填する。ま
た絶対屈折率を下げる必要がある場合、前記主原料シリ
カ粉にはフッ素またはホウ素の少なくとも１種類が含有
されているシリカ原料粉を用い、そして溶融後のシリカ
ガラスロッドの絶対屈折率が波長５８９ｎｍにおいて、
１、４５８０以下の所定の値に設定するのが良い。
ムからなる残留ガスが存在しても溶融時にこれらが溶融
ガラス中に吸蔵／ドープされ、気泡の発生を阻止でき
る。そしてこの様に非晶質のシリカ粉のみを原料とする
場合には中空体下端部分も同じシリカ粉を充填する。ま
た絶対屈折率を下げる必要がある場合、前記主原料シリ
カ粉にはフッ素またはホウ素の少なくとも１種類が含有
されているシリカ原料粉を用い、そして溶融後のシリカ
ガラスロッドの絶対屈折率が波長５８９ｎｍにおいて、
１、４５８０以下の所定の値に設定するのが良い。
【００２１】また本発明は、前記中空体の帯域加熱手段
内への（重力方向の）送り速度と該帯域加熱手段により
溶融されたシリカガラスの引き速度を制御することによ
り実質的に無気泡の光ファイバー用母材を得る事が出来
る。即ち、送り速度と引き速度のみの制御により寸法制
御を行うものであり、非接触で且つ重力方向における引
きによる寸法制御であるために、高寸法精度で且つ表面
に擦り傷のないシリカガラスロッド得る事が出来る。
内への（重力方向の）送り速度と該帯域加熱手段により
溶融されたシリカガラスの引き速度を制御することによ
り実質的に無気泡の光ファイバー用母材を得る事が出来
る。即ち、送り速度と引き速度のみの制御により寸法制
御を行うものであり、非接触で且つ重力方向における引
きによる寸法制御であるために、高寸法精度で且つ表面
に擦り傷のないシリカガラスロッド得る事が出来る。
【００２２】そして特に本発明は帯域溶融加熱手段への
送り速度と該引き速度を制御して、前記溶融前の中空体
の直径Ｄと溶融後の透明シリカガラス体の直径ｄの比
（Ｄ／ｄ）が２倍以上、好ましくは３倍以上になるよう
にすることにより、一層の高精度の達成とともに、表面
の擦り傷発生阻止を図る事が出来る。
送り速度と該引き速度を制御して、前記溶融前の中空体
の直径Ｄと溶融後の透明シリカガラス体の直径ｄの比
（Ｄ／ｄ）が２倍以上、好ましくは３倍以上になるよう
にすることにより、一層の高精度の達成とともに、表面
の擦り傷発生阻止を図る事が出来る。
【００２３】また本発明に用いる外管の肉厚は、最小で
も０．５ｍｍ〜最大でも（外径）×２０％の厚みを有す
る外管を用いるのが良い。即ち肉厚は０．５ｍｍ未満で
は強度性と均熱性が不足し、又外管の肉厚が（外径）×
２０％以上ではシリカガラス中空体の溶融等、ガラス加
工が厚肉すぎて困難となるためである。
も０．５ｍｍ〜最大でも（外径）×２０％の厚みを有す
る外管を用いるのが良い。即ち肉厚は０．５ｍｍ未満で
は強度性と均熱性が不足し、又外管の肉厚が（外径）×
２０％以上ではシリカガラス中空体の溶融等、ガラス加
工が厚肉すぎて困難となるためである。
【００２４】本発明によれば、前記一又は複数の管状中
空孔の直径が、外層のシリカガラス体の外径の１／３以
下であるファイバ用中空シリカガラス母材が容易に製造
可能であり、前記した中空ファイバのみならず、管状中
空孔内にコア材を充填し、融着一体化させた充填コアク
ラッド形光ファイバ母材を作るためのジャケット管であ
るシリカガラス母材の製造も容易となる。
空孔の直径が、外層のシリカガラス体の外径の１／３以
下であるファイバ用中空シリカガラス母材が容易に製造
可能であり、前記した中空ファイバのみならず、管状中
空孔内にコア材を充填し、融着一体化させた充填コアク
ラッド形光ファイバ母材を作るためのジャケット管であ
るシリカガラス母材の製造も容易となる。
【００２５】特に本発明で製造されるジャケット管とし
てのファイバ用中空シリカガラス母材は、管状中空孔を
シリカガラス体の任意の位置に設定できるために、偏心
コアファイバや複数コアファイバを製造する場合、前記
方法で偏心厚肉チューブや多穴厚肉チューブを製造し、
これらチュ−ブをジャケット管として使い、管状中空孔
内にコア材を挿入し、加熱融着してコア材とジャケット
管を一体化してコア充填母材を製造するものである。
てのファイバ用中空シリカガラス母材は、管状中空孔を
シリカガラス体の任意の位置に設定できるために、偏心
コアファイバや複数コアファイバを製造する場合、前記
方法で偏心厚肉チューブや多穴厚肉チューブを製造し、
これらチュ−ブをジャケット管として使い、管状中空孔
内にコア材を挿入し、加熱融着してコア材とジャケット
管を一体化してコア充填母材を製造するものである。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の製造
手順としての実施形態を説明する。但し、この実施形態
に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相
対的配置等は特に特定的な記載がないかぎりは、この発
明の範囲をそれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例
にすぎない。 （１）外管１及び内管２の準備 外径３０〜２００ｍｍの範囲、肉厚は外径の２〜２０％
の範囲（最低肉厚０．６ｍｍ）、長さ１〜５ｍの範囲の
外管１を準備する。外管１と内管２の寸法を決める基準
は、製造しようとするファイバ用中空シリカガラス母材
９のレシオ（外径／内径）の比率と、ファイバ用中空シ
リカガラス母材９の外径寸法により決まって来る。
手順としての実施形態を説明する。但し、この実施形態
に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相
対的配置等は特に特定的な記載がないかぎりは、この発
明の範囲をそれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例
にすぎない。 （１）外管１及び内管２の準備 外径３０〜２００ｍｍの範囲、肉厚は外径の２〜２０％
の範囲（最低肉厚０．６ｍｍ）、長さ１〜５ｍの範囲の
外管１を準備する。外管１と内管２の寸法を決める基準
は、製造しようとするファイバ用中空シリカガラス母材
９のレシオ（外径／内径）の比率と、ファイバ用中空シ
リカガラス母材９の外径寸法により決まって来る。
【００２７】（外管１の外径／内管２の内径）の比率は
ファイバ用中空シリカガラス母材９のレシオより同じ
か、若干大きめに設定する必要がある。また、外管１の
外径は、ファイバ用中空シリカガラス母材９外径の２倍
以上、好ましくは３倍以上とすることが良い。
ファイバ用中空シリカガラス母材９のレシオより同じ
か、若干大きめに設定する必要がある。また、外管１の
外径は、ファイバ用中空シリカガラス母材９外径の２倍
以上、好ましくは３倍以上とすることが良い。
【００２８】例えば、製造しようとするファイバ用中空
シリカガラス母材９の外径が３０ｍｍ、内径が１０ｍｍ
の時、外管１の外径は９０〜１２０ｍｍの範囲、内管２
の内径は３０〜４０ｍｍの範囲で、（外管１外径／内管
２内径）の比率を３以上、好ましくは３．０〜３．５に
設定するのが良い。尚、（外管１外径／内管２内径）の
比率をファイバ用中空シリカガラス母材９のレシオより
同じか、若干大きめに設定する理由は、シリカ原料粉を
充填したシリカガラス中空体１０を加熱溶融して延伸す
る手法のために、レシオを小さくする方向にしか制御不
可能であることによる。外管１、内管２の各長さは、製
造しようとするファイバ用中空シリカガラス母材９の数
量、合計重量と、充填するシリカ原料粉の必要重量から
任意に決まって来る。
シリカガラス母材９の外径が３０ｍｍ、内径が１０ｍｍ
の時、外管１の外径は９０〜１２０ｍｍの範囲、内管２
の内径は３０〜４０ｍｍの範囲で、（外管１外径／内管
２内径）の比率を３以上、好ましくは３．０〜３．５に
設定するのが良い。尚、（外管１外径／内管２内径）の
比率をファイバ用中空シリカガラス母材９のレシオより
同じか、若干大きめに設定する理由は、シリカ原料粉を
充填したシリカガラス中空体１０を加熱溶融して延伸す
る手法のために、レシオを小さくする方向にしか制御不
可能であることによる。外管１、内管２の各長さは、製
造しようとするファイバ用中空シリカガラス母材９の数
量、合計重量と、充填するシリカ原料粉の必要重量から
任意に決まって来る。
【００２９】（２）シリカガラス中空体１０の作成 図１〜３に示すように、大口径のシリカガラス外管１内
に、小口径のシリカガラス内管２を１本または複数本挿
入し、これら管体の下端には、内管２と外管１との間を
封止板３にて加熱融着し、外管１と内管２の空隙にシリ
カ粉体原料を充填できるような形に形成すると共に、内
管２下端を開口させ、内管２内圧力制御用ガス排出口３
ａを付帯させる。一方前記シリカガラス中空体１０の上
端側は、内管２を上方に突出させてその突出端にフラン
ジを設け圧力制御用ガス供給口４とし、内管内圧力制御
用ガス源と接続可能に構成する。また外管１と内管２の
間は蓋板６を設けると共に、該蓋板６に真空引き用ポン
プへ接続するためのフランジ付き枝管として真空引き口
５を設ける。
に、小口径のシリカガラス内管２を１本または複数本挿
入し、これら管体の下端には、内管２と外管１との間を
封止板３にて加熱融着し、外管１と内管２の空隙にシリ
カ粉体原料を充填できるような形に形成すると共に、内
管２下端を開口させ、内管２内圧力制御用ガス排出口３
ａを付帯させる。一方前記シリカガラス中空体１０の上
端側は、内管２を上方に突出させてその突出端にフラン
ジを設け圧力制御用ガス供給口４とし、内管内圧力制御
用ガス源と接続可能に構成する。また外管１と内管２の
間は蓋板６を設けると共に、該蓋板６に真空引き用ポン
プへ接続するためのフランジ付き枝管として真空引き口
５を設ける。
【００３０】（３）中空体１０の熱歪除去処理 中空体１０を横型電気炉にて１１５０゜Ｃで５ｈｒｓ加
熱処理を行ない、熱歪除去処理を行った後、３〜５０ｗ
ｔ％フッ化水素水溶液に前記中空体１０を３〜１０ｍｉ
ｎ浸し洗浄およびマイクロクラックの除去を行なった後
さらにイオン交換水で水洗し、清浄な雰囲気で乾燥を行
なう。
熱処理を行ない、熱歪除去処理を行った後、３〜５０ｗ
ｔ％フッ化水素水溶液に前記中空体１０を３〜１０ｍｉ
ｎ浸し洗浄およびマイクロクラックの除去を行なった後
さらにイオン交換水で水洗し、清浄な雰囲気で乾燥を行
なう。
【００３１】（４）シリカ粉体原料の準備 シリカの種類は、天然水晶、合成水晶、合成クリストバ
ライト、合成シリカガラスのいずれか１種類以上を用
い、その粒径は０．０１〜１ｍｍの範囲が好ましい。こ
れ以下では真空引き時に、充分に減圧雰囲気とすること
が困難となり、溶融したシリカガラス中に小さな気泡が
多くなってしまう。また、これ以上では、シリカ粉体原
料をシリカガラス中空体１０に充填した時の充填密度が
上がらず、溶融したシリカガラス中に大きな気泡が残り
やすくなる。
ライト、合成シリカガラスのいずれか１種類以上を用
い、その粒径は０．０１〜１ｍｍの範囲が好ましい。こ
れ以下では真空引き時に、充分に減圧雰囲気とすること
が困難となり、溶融したシリカガラス中に小さな気泡が
多くなってしまう。また、これ以上では、シリカ粉体原
料をシリカガラス中空体１０に充填した時の充填密度が
上がらず、溶融したシリカガラス中に大きな気泡が残り
やすくなる。
【００３２】シリカ粉体原料の純度は、高純度が必要で
あり、具体的には主要不純物元素Ｌｉが５００ｗｔｐｐ
ｂ以下、Ｎａが１００ｗｔｐｐｂ以下、Ｍｇが１００ｗ
ｔｐｐｂ以下、Ｋが１００ｗｔｐｐｂ以下、Ｃａが５０
０ｗｔｐｐｂ以下、より好ましくはこれらの５元素が同
時に各々５０ｗｔｐｐｂ以下が良い。理由としては、こ
れら不純物元素を高濃度で含有するシリカ粉体原料を使
って、円筒型電気炉８で帯域溶融させると、白色失透が
発生しやすくなり、最悪の場合母材９が途中で折れてし
まうことがある。
あり、具体的には主要不純物元素Ｌｉが５００ｗｔｐｐ
ｂ以下、Ｎａが１００ｗｔｐｐｂ以下、Ｍｇが１００ｗ
ｔｐｐｂ以下、Ｋが１００ｗｔｐｐｂ以下、Ｃａが５０
０ｗｔｐｐｂ以下、より好ましくはこれらの５元素が同
時に各々５０ｗｔｐｐｂ以下が良い。理由としては、こ
れら不純物元素を高濃度で含有するシリカ粉体原料を使
って、円筒型電気炉８で帯域溶融させると、白色失透が
発生しやすくなり、最悪の場合母材９が途中で折れてし
まうことがある。
【００３３】（５）シリカガラス中空体１０へのシリカ
原料粉の充填 主原料シリカ粉に結晶質シリカを用いる場合は、図２に
示すように、中空体１０の内管２と外管１との間の下端
部分には非晶質シリカとして合成シリカガラス７ａを入
れ、次いで徐々に水晶粉等の結晶質シリカ粉の比率を大
きくした粉を入れていく７ｂ。下端のシリカガラス粉７
ａの充填長さは、溶融に使用する円筒型電気炉８のヒー
トゾーン（均熱幅域）の長さＬより大きくしなければな
らない。尚、主原料粉としてすべてを非晶質シリカとす
る場合は、先端部分からすべて同一種類のシリカガラス
粉７を順次充填すれば良い。
原料粉の充填 主原料シリカ粉に結晶質シリカを用いる場合は、図２に
示すように、中空体１０の内管２と外管１との間の下端
部分には非晶質シリカとして合成シリカガラス７ａを入
れ、次いで徐々に水晶粉等の結晶質シリカ粉の比率を大
きくした粉を入れていく７ｂ。下端のシリカガラス粉７
ａの充填長さは、溶融に使用する円筒型電気炉８のヒー
トゾーン（均熱幅域）の長さＬより大きくしなければな
らない。尚、主原料粉としてすべてを非晶質シリカとす
る場合は、先端部分からすべて同一種類のシリカガラス
粉７を順次充填すれば良い。
【００３４】従って本実施例においては、図２に示すよ
うに、前記蓋板６のフランジ付き枝管５より先ず合成シ
リカガラス粉７ａを投入し、次に天然水晶：合成シリカ
ガラスの混合粉体７ｂを投入し、最後に、天然水晶粉７
ｃで前記充填域を充填する。この結果合成シリカガラス
粉体層７ａの充填長さが円筒型電気炉８のヒートゾーン
（均熱幅域）の長さＬより大になる。
うに、前記蓋板６のフランジ付き枝管５より先ず合成シ
リカガラス粉７ａを投入し、次に天然水晶：合成シリカ
ガラスの混合粉体７ｂを投入し、最後に、天然水晶粉７
ｃで前記充填域を充填する。この結果合成シリカガラス
粉体層７ａの充填長さが円筒型電気炉８のヒートゾーン
（均熱幅域）の長さＬより大になる。
【００３５】（６）円筒型電気炉８を使った帯域溶融ガ
ラス化 次に図１に示すように、前記蓋板６のフランジ付き枝管
５より内管２と外管１の間のシリカ粉体の充填域内を１
０ＫＰａ以下に真空引きした後、中空体１０の先端部分
を円筒型電気炉８に挿入し、電気加熱を開始する。先端
部分が溶融し、落下したら、次に中空体１０の電気炉８
への投入速度と、帯域溶融して出て来た母材９の引き速
度を制御する。また中空体１０の内管２内の圧力をガス
を流すことにより制御してファイバ用中空シリカガラス
母材９の内径寸法を設定する。
ラス化 次に図１に示すように、前記蓋板６のフランジ付き枝管
５より内管２と外管１の間のシリカ粉体の充填域内を１
０ＫＰａ以下に真空引きした後、中空体１０の先端部分
を円筒型電気炉８に挿入し、電気加熱を開始する。先端
部分が溶融し、落下したら、次に中空体１０の電気炉８
への投入速度と、帯域溶融して出て来た母材９の引き速
度を制御する。また中空体１０の内管２内の圧力をガス
を流すことにより制御してファイバ用中空シリカガラス
母材９の内径寸法を設定する。
【００３６】得られるファイバ用中空シリカガラス母材
９の外径、内径の寸法が一定し、安定するまで、上述の
項目の微調整をくり返し行なう。ファイバ用中空シリカ
ガラス母材９の外径は、シリカガラス中空体１０の外径
の１／２、好ましくは１／３以下でなければ、制御が困
難である。
９の外径、内径の寸法が一定し、安定するまで、上述の
項目の微調整をくり返し行なう。ファイバ用中空シリカ
ガラス母材９の外径は、シリカガラス中空体１０の外径
の１／２、好ましくは１／３以下でなければ、制御が困
難である。
【００３７】このとき外管１内部に挿入された内管２の
内圧は大気若しくは弱加圧開放されている為に、減圧下
の粉状体充填域に比較し大きく、内管２の穴は溶融によ
り閉じることがない。又大気圧へ開放されている為に内
管２の内圧は加熱によっても急激にに増大する事なく、
精度よい寸法精度が維持されながら加熱溶融されること
となる。
内圧は大気若しくは弱加圧開放されている為に、減圧下
の粉状体充填域に比較し大きく、内管２の穴は溶融によ
り閉じることがない。又大気圧へ開放されている為に内
管２の内圧は加熱によっても急激にに増大する事なく、
精度よい寸法精度が維持されながら加熱溶融されること
となる。
【００３８】（７）ドープトシリカ原料粉 ファイバ用中空シリカガラス母材９の絶対的屈折率を低
下させる必要がある場合は、フッ素またはホウ素の少な
くともいずれか１種類を含有させる必要がある。原料粉
としては、ゾルゲル法にてフッ素、またはホウ素の少な
くともいずれかを含有する合成シリカガラス粉を得る方
法がある。又ＣＶＤスート法によりフッ素またはホウ素
の少なくともいずれかを含有するスート粉を作成し、次
いでこのスート粉を必要に応じ造粒して、原料シリカ粉
としてもよい。また、天然水晶粉、天然石英粉にホウ素
であれば三酸化二ホウ素Ｂ2 Ｏ3 、ホウ酸Ｈ3 ＢＯ3 等
の化合物を混合させたものを原料シリカ粉として用いて
も良い。
下させる必要がある場合は、フッ素またはホウ素の少な
くともいずれか１種類を含有させる必要がある。原料粉
としては、ゾルゲル法にてフッ素、またはホウ素の少な
くともいずれかを含有する合成シリカガラス粉を得る方
法がある。又ＣＶＤスート法によりフッ素またはホウ素
の少なくともいずれかを含有するスート粉を作成し、次
いでこのスート粉を必要に応じ造粒して、原料シリカ粉
としてもよい。また、天然水晶粉、天然石英粉にホウ素
であれば三酸化二ホウ素Ｂ2 Ｏ3 、ホウ酸Ｈ3 ＢＯ3 等
の化合物を混合させたものを原料シリカ粉として用いて
も良い。
【００３９】
【実施例】次に前記実施態様に基づく実施例を説明す
る。 外管１及び内管２の準備：外径１６０ｍｍ、肉厚６ｍ
ｍ、長さ２ｍの外管１、内径２０ｍｍ、肉厚２．５ｍ
ｍ、長さ２ｍの内管２を夫々１本用意する。
る。 外管１及び内管２の準備：外径１６０ｍｍ、肉厚６ｍ
ｍ、長さ２ｍの外管１、内径２０ｍｍ、肉厚２．５ｍ
ｍ、長さ２ｍの内管２を夫々１本用意する。
【００４０】シリカガラス中空体１０の作成：バーナ加
熱加工により、図２に示す二重構造のシリカガラス中空
体１０を作成する。 シリカガラス中空体１０の熱歪除去処理：横型円筒型電
気加熱炉により、１１５０℃５ｈｒｓの加熱による歪除
去処理を行ない、その後室温まで徐冷却した。
熱加工により、図２に示す二重構造のシリカガラス中空
体１０を作成する。 シリカガラス中空体１０の熱歪除去処理：横型円筒型電
気加熱炉により、１１５０℃５ｈｒｓの加熱による歪除
去処理を行ない、その後室温まで徐冷却した。
【００４１】シリカガラス中空体１０の洗浄処理：５ｗ
ｔ％フッ化水素酸水溶液にてエッチング洗浄を行ない、
続いてイオン交換水にて洗浄を行ない、乾燥した。 天然水晶の調整：天然水晶を粒径３０〜２００μｍ範囲
に調整した。次にこれをシリカガラスチャンバー内に入
れ、塩化水素ガス雰囲気とし、１０００℃１０ｈｒｓの
加熱純化処理を行なった。
ｔ％フッ化水素酸水溶液にてエッチング洗浄を行ない、
続いてイオン交換水にて洗浄を行ない、乾燥した。 天然水晶の調整：天然水晶を粒径３０〜２００μｍ範囲
に調整した。次にこれをシリカガラスチャンバー内に入
れ、塩化水素ガス雰囲気とし、１０００℃１０ｈｒｓの
加熱純化処理を行なった。
【００４２】合成シリカガラス粉の調整：ゾルゲル法に
て合成シリカガラス粉を作成し、粒径を１０〜５００μ
ｍ範囲に調整した。 シリカガラス中空体１０へのシリカ原料粉の充填：先端
に約３ｋｇの合成シリカガラス粉を充填した。充填長さ
は約１２０ｍｍとした。この理由は帯域溶融させるため
の円筒型電気炉の均熱長１００ｍｍより長くさせるため
である。
て合成シリカガラス粉を作成し、粒径を１０〜５００μ
ｍ範囲に調整した。 シリカガラス中空体１０へのシリカ原料粉の充填：先端
に約３ｋｇの合成シリカガラス粉を充填した。充填長さ
は約１２０ｍｍとした。この理由は帯域溶融させるため
の円筒型電気炉の均熱長１００ｍｍより長くさせるため
である。
【００４３】次に、天然水晶粉：合成シリカガラス粉＝
１：１（重量比）の混合粉体約１ｋｇを充填した。最後
に、主原料としての天然水晶粉を約４０ｋｇ充填した。 円筒型電気炉を使った帯域溶融透明ガラス化：シリカガ
ラス中空体１０のシリカ原料粉が充填されている部分を
１０ＫＰａ以下の真空に引いた。また、シリカガラス中
空体１０の内管２の内側部分にチッ素ガスを流した。
１：１（重量比）の混合粉体約１ｋｇを充填した。最後
に、主原料としての天然水晶粉を約４０ｋｇ充填した。 円筒型電気炉を使った帯域溶融透明ガラス化：シリカガ
ラス中空体１０のシリカ原料粉が充填されている部分を
１０ＫＰａ以下の真空に引いた。また、シリカガラス中
空体１０の内管２の内側部分にチッ素ガスを流した。
【００４４】その後、円筒型電気炉の上部より、ゆっく
りとシリカガラス中空体１０の先端を挿入し、炉を昇温
させた。しばらくすると、先端部分が溶融透明ガラス化
し、炉の下に落下を始めた。次いで、シリカガラス中空
体１０の炉８への送り速度と、炉下部からの透明ガラス
となったファイバ用中空シリカガラス母材９の引き速度
の制御、また内管２内チッ素ガスの流量、圧力の制御を
行なうことにより、ファイバ用中空シリカガラス母材９
の外径、内径を所定寸法に調整した。
りとシリカガラス中空体１０の先端を挿入し、炉を昇温
させた。しばらくすると、先端部分が溶融透明ガラス化
し、炉の下に落下を始めた。次いで、シリカガラス中空
体１０の炉８への送り速度と、炉下部からの透明ガラス
となったファイバ用中空シリカガラス母材９の引き速度
の制御、また内管２内チッ素ガスの流量、圧力の制御を
行なうことにより、ファイバ用中空シリカガラス母材９
の外径、内径を所定寸法に調整した。
【００４５】そしてこのようにして製造されたファイバ
用中空シリカガラス母材９について、外径４０ｍｍ、内
径５ｍｍ、長さ１０００ｍｍの厚肉チューブ１０本の物
性評価を行なった。
用中空シリカガラス母材９について、外径４０ｍｍ、内
径５ｍｍ、長さ１０００ｍｍの厚肉チューブ１０本の物
性評価を行なった。
【００４６】 物性評価 気泡：ＤＩＮ５８９２７（１９７０）規格に準ずると、３等級〜４等級であっ た。 寸法精度：外径寸法精度 ４０±０．２ｍｍ以内 内径寸法精度 ５±０．１ｍｍ以内 表面状態：スリキズなく非常になめらかである。 不純物分析： 表１に溶融前の高純度化処理された天然水晶粉及び溶融後のフ ァイバ用中空シリカガラスの不純物濃度を示す。 本表より原料の高純度が保存されていることがわかる。 分析はＩＣＰ−ＭＳ法及び原子吸光光度法により行った。
【００４７】
【発明の効果】本発明によれば、ファイバ用中空シリカ
ガラス母材を製造するにあたり以下の課題を解決する事
が出来た。（外径／内径）の比率を３以上に設定したフ
ァイバ用中空シリカガラス母材として有効な厚肉チュー
ブを得る事が出来るのみならず、実質的に無気泡で且つ
寸法精度が良く、而も表面にすりきずのないファイバ用
中空シリカガラス母材が得られる。例えば前記製法によ
り直径が１０〜５０ｍｍにおいて半径方向の円周振れ公
差が（直径）×１％以内、長さ５００ｍｍにおける半径
方向の全振れ公差が（直径）×２％以内で、更にはシリ
カガラスの１００ｃｍ3 に存在する泡の総断面積が１ｍ
ｍ2 以下であるファイバ用中空シリカガラス母材を得る
事が出来る。又本発明によれば、前記従来技術のように
成型型枠を用いず、またシリカ原料粉は内管と外管との
間に保護されている為に溶融時汚染が生じることなく、
シリカ原料粉の純度が保存されているシリカガラスが得
られる。更にシリカ原料粉として高純度品を使った場
合、得られるチューブの純度も高純度が維持される。従
って、本発明によれば、前記した中空ファイバのみなら
ず、管状中空孔内にコア材を充填して線引を行うための
充填コアクラッド形光ファイバのジャケット管であるシ
リカ原料母材の製造も容易となる。
ガラス母材を製造するにあたり以下の課題を解決する事
が出来た。（外径／内径）の比率を３以上に設定したフ
ァイバ用中空シリカガラス母材として有効な厚肉チュー
ブを得る事が出来るのみならず、実質的に無気泡で且つ
寸法精度が良く、而も表面にすりきずのないファイバ用
中空シリカガラス母材が得られる。例えば前記製法によ
り直径が１０〜５０ｍｍにおいて半径方向の円周振れ公
差が（直径）×１％以内、長さ５００ｍｍにおける半径
方向の全振れ公差が（直径）×２％以内で、更にはシリ
カガラスの１００ｃｍ3 に存在する泡の総断面積が１ｍ
ｍ2 以下であるファイバ用中空シリカガラス母材を得る
事が出来る。又本発明によれば、前記従来技術のように
成型型枠を用いず、またシリカ原料粉は内管と外管との
間に保護されている為に溶融時汚染が生じることなく、
シリカ原料粉の純度が保存されているシリカガラスが得
られる。更にシリカ原料粉として高純度品を使った場
合、得られるチューブの純度も高純度が維持される。従
って、本発明によれば、前記した中空ファイバのみなら
ず、管状中空孔内にコア材を充填して線引を行うための
充填コアクラッド形光ファイバのジャケット管であるシ
リカ原料母材の製造も容易となる。
【図１】帯域溶融手段による溶融透明ガラス化工程を示
す。
す。
【図２】中空体内へのシリカガラス粉体の充填状態を示
す。
す。
【図３】中空体の拡大断面図を示す。
１ 外管 ２ 内管 ３ 封止板 ４ 圧力制御用ガス供給口 ５ 真空引き口 ６ 蓋板 ７ シリカを主成分とする粉状体 ８ 円筒型電気炉 ９ ファイバ用中空シリカガラス母材 １０ シリカガラス中空体
【表１】
Claims (10)
- 【請求項１】 一又は複数の管状中空孔の外側にシリカ
ガラス体が形成されて成るファイバ用中空シリカガラス
母材の製造方法において、 シリカガラス製の外管及び内管よりなり、該外管内に一
又は複数の内管を挿入してシリカガラス中空体を作った
後、該外管と内管の間にシリカを主成分とする粉状体を
充填したシリカガラス中空体を形成すると共に、前記粉
状体充填域を減圧雰囲気に維持しながら該中空体を軸方
向に沿って順次加熱し帯域溶融させることを特徴とする
ファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法 - 【請求項２】 前記内管内を粉状体充填域より相対的に
高い加圧下に置きながら下端側より上方に向け順次加熱
し、帯域溶融してなる事を特徴とする請求項１記載のフ
ァイバ用中空シリカガラス母材の製造方法 - 【請求項３】 シリカガラス中空体を軸回転させながら
帯域溶融させることを特徴とする請求項１記載のファイ
バ用中空シリカガラス母材の製造方法 - 【請求項４】 前記充填域内への粉状体の充填を、加熱
により帯域溶融が開始される充填域下端側に、非晶質シ
リカを主成分とする粉状体が位置し、その上方域に水晶
粉その他の結晶質シリカを主成分とする主原料シリカ粉
が位置するように充填を行う事を特徴とする請求項１記
載のファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法 - 【請求項５】 前記帯域溶融を円筒型電気炉で行う場合
に、先端に非晶質シリカを主成分とする粉状体を円筒型
電気炉の均熱長さ以上になるように入れ、次いで結晶質
シリカを主成分とする主原料シリカ粉を入れることを特
徴とする請求項１記載のファイバ用中空シリカガラス母
材の製造方法 - 【請求項６】 前記粉状体が、フッ素またはホウ素の少
なくとも１種類が含有されているシリカ原料粉であり、
溶融後のシリカガラスの絶対屈折率が波長５８９ｎｍに
おいて、１、４５８０以下であることを特徴とする請求
項１記載のファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法 - 【請求項７】 前記減圧雰囲気が１０ＫＰａ以下の真空
であることを特徴とする請求項１記載のファイバ用中空
シリカガラス母材の製造方法 - 【請求項８】 前記中空体の帯域溶融の加熱手段内への
重力方向の送り速度と該帯域溶融の加熱手段により溶融
された中空シリカガラス母材の引き速度を異ならせたこ
とを特徴とする請求項１記載のファイバ用中空シリカガ
ラス母材の製造方法 - 【請求項９】 前記一又は複数の管状中空孔の直径が、
外側のシリカガラス体の外径の１／３以下である請求項
１記載のファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法 - 【請求項１０】 請求項１記載のファイバ用中空シリカ
ガラス母材が、管状中空孔内にコア材を充填し、融着一
体化させ、充填コアクラッド形光ファイバ母材を作るた
めのジャケット管である請求項１記載のファイバ用中空
シリカガラス母材の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26650295A JP3434945B2 (ja) | 1995-09-20 | 1995-09-20 | ファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26650295A JP3434945B2 (ja) | 1995-09-20 | 1995-09-20 | ファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0986947A true JPH0986947A (ja) | 1997-03-31 |
| JP3434945B2 JP3434945B2 (ja) | 2003-08-11 |
Family
ID=17431813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26650295A Expired - Fee Related JP3434945B2 (ja) | 1995-09-20 | 1995-09-20 | ファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3434945B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007534591A (ja) * | 2004-04-27 | 2007-11-29 | デートウェイラー フィーバー オプティクス エスエー | 光ファイバー製造法、光ファイバー製造用プリフォーム、光ファイバーと装置 |
| JP2012518586A (ja) * | 2009-02-22 | 2012-08-16 | シリテック ファイバーズ エスエー | 母材を生成及び加工するための方法、母材、及び光ファイバー |
| JP2016011249A (ja) * | 2014-03-28 | 2016-01-21 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法 |
| JP5995298B1 (ja) * | 2015-07-08 | 2016-09-21 | 日本電信電話株式会社 | 光ファイバ製造方法及び光ファイバ製造装置 |
| JP2017031009A (ja) * | 2015-08-03 | 2017-02-09 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ母材の製造方法、光ファイバ母材、及び光ファイバの製造方法 |
| JP2020164369A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 三菱ケミカル株式会社 | 合成シリカガラス粉 |
-
1995
- 1995-09-20 JP JP26650295A patent/JP3434945B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007534591A (ja) * | 2004-04-27 | 2007-11-29 | デートウェイラー フィーバー オプティクス エスエー | 光ファイバー製造法、光ファイバー製造用プリフォーム、光ファイバーと装置 |
| JP2012518586A (ja) * | 2009-02-22 | 2012-08-16 | シリテック ファイバーズ エスエー | 母材を生成及び加工するための方法、母材、及び光ファイバー |
| JP2016011249A (ja) * | 2014-03-28 | 2016-01-21 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法 |
| JP5995298B1 (ja) * | 2015-07-08 | 2016-09-21 | 日本電信電話株式会社 | 光ファイバ製造方法及び光ファイバ製造装置 |
| JP2017019675A (ja) * | 2015-07-08 | 2017-01-26 | 日本電信電話株式会社 | 光ファイバ製造方法及び光ファイバ製造装置 |
| JP2017031009A (ja) * | 2015-08-03 | 2017-02-09 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ母材の製造方法、光ファイバ母材、及び光ファイバの製造方法 |
| JP2020164369A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 三菱ケミカル株式会社 | 合成シリカガラス粉 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3434945B2 (ja) | 2003-08-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4872895A (en) | Method for fabricating articles which include high silica glass bodies | |
| EP1290250B1 (en) | Multilayered quartz glass crucible and method of its production | |
| US4265649A (en) | Method for preparing a preform for optical waveguides | |
| KR20010098761A (ko) | 불투명 합성 석영 유리로 된 콤포넌트의 제조방법 및 그방법에 의해 제조된 석영 유리 튜브 | |
| US5279633A (en) | Method of producing a glass body | |
| JPH02293340A (ja) | 光屈折性の異なる領域を有するガラス物体の製造方法 | |
| JPS60246240A (ja) | フッ素ガラスの光ファイバー及び光素子の製造方法 | |
| CA2283569C (en) | High-purity silica glass fabricating method using sol-gel process | |
| JP3434945B2 (ja) | ファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法 | |
| JP2810941B2 (ja) | 多角柱状シリカガラス棒の製造方法 | |
| EP0523692B1 (en) | Method for producing glass preform for optical fiber | |
| JP3797567B2 (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法 | |
| JPH08225334A (ja) | 光ファイバの製造方法及び装置 | |
| JP3059152B2 (ja) | ゾル―ゲルプロセスによるシリカガラスの製造方法 | |
| EP0909743B2 (en) | Opaque silica glass article having transparent portion and process for producing same | |
| US5429653A (en) | Method of partially introverting a multiple layer tube to form an optical fiber preform | |
| US6405563B1 (en) | Opaque silica glass article having transparent portion and process for producing same | |
| EP1477462B1 (en) | Method for the manufacture of preforms for optical fibers by powder deposition | |
| JP3258175B2 (ja) | ノンドープ若しくはドープシリカガラス体の製造方法 | |
| JP3327364B2 (ja) | シリカガラス加工品の製造方法 | |
| JPS60251147A (ja) | ハロゲン化物ガラスの製造方法および装置 | |
| JPH0729798B2 (ja) | 半導体熱処理用複合石英ガラス管の製造方法 | |
| JPS63282134A (ja) | 合成石英ガラス管およびその製造方法 | |
| JPS5899130A (ja) | ガラス管の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090530 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090530 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100530 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110530 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110530 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120530 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130530 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140530 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |