JPH0983797A

JPH0983797A - 画像形成方法及び装置

Info

Publication number: JPH0983797A
Application number: JP7235327A
Authority: JP
Inventors: Mamoru Tanaka; 守田中
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1995-09-13
Filing date: 1995-09-13
Publication date: 1997-03-28

Abstract

(57)【要約】【課題】画像の再現性を向上させ、高画質な画像を形
成する。【解決手段】検査画素が隣接画素群に干渉しない配置
のパターンＸを生成し（Ｓ１０１）、検査画素が隣接画
素群に干渉する配置のパターンＹを生成する（Ｓ１０
２）。そして、パターンＸの検査画素に注目画素信号を
適用して濃度を測定し（Ｓ１０３）、その濃度とパター
ンＹの検査画素に注目画素信号と異なる信号を適用した
ときの濃度（Ｓ１０４）とが等しければ（Ｓ１０５のＹ
ｅｓ）、その時の異なる信号を補正信号としてテーブル
を作成し（Ｓ１０６）、そのテーブルに基づいて画像を
形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フルカラープリン
タ等に用いられるデジタル信号を画像情報として処理す
る画像処理方法及び装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】画像形成装置の中で高速かつ低騒音プリ
ンタとして、電子写真方式を採用したレーザビームプリ
ンタが実用化されている。その代表的な用途は文字、図
形等の画像を感光体にレーザビームを照射するか否かに
より形成する２値記録である。一般には、文字、図形等
の記録は中間調を必要としないのでプリンタ構造を簡単
にできるが、このような２値記録方式であっても中間調
を表現できるプリンタがある。かかるプリンタとして
は、ディザ法、濃度パターン法等を採用したものがよく
知られている。

【０００３】しかし、周知の如く、ディザ法、濃度パタ
ーン法等を採用したプリンタでは、高解像度が得られな
いという問題がある。そこで、近年、記録密度を低下さ
せず高解像を得つつ、各画素において中間調を形成する
方式が提案されている。この方式は、画像信号に応じ
て、レーザビームを照射するパルス幅を変調（ＰＷＭ）
することにより中間調画素形成を行うもので、このＰＷ
Ｎ方式によれば高解像度かつ高階調性の画像を形成で
き、従って、特に高解像度と高階調性を必用とするカラ
ー画像形成装置にはこの方式が欠かせないものとなって
いる。

【０００４】即ち、このＰＷＭ方式によれば、１画素毎
にビームスポットにより形成されるドットの面積階調を
行うことができ、記録すべき画素密度（記録密度）を低
下させることなく同時に中間調を表現することができ
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ＰＷＭ方式においても、さらに画素密度を上げていくと
レーザスポット径に対して画素幅が相対的に小さくなる
ので、各画素間でのコントラストが十分取れず、また画
素内でのＰＷＭ変調による階調も十分とることができな
いという問題点があった。そのため、解像度を向上させ
るにはよりレーザスポット径を小さくする必要があり、
またＰＷＭに替えて画素密度を高めた上で上記濃度パタ
ーン法等を用いる場合や、単純に２値画像を形成する場
合においても、よりスポット径を小さくする必要があっ
た。

【０００６】ここで、レーザスポット径を小さくするた
めには、レーザ波長を短くし、入射光レーザ径を大きく
する必要があるが、この方法では装置の大型化、高価格
化を招き、また焦点深度も狭くなるため、像担持体上の
機械精度の限界により像担持体上に画像ドットの安定形
成が困難であった。そのため、高解像プリンタでは、画
素サイズに対して大きなレーザスポット系で画像形成し
なければならず、画素間の露光が互いに干渉し合って濃
度が変化してしまうという問題が生じてきた。即ち、同
じ光量で複数の画素を露光した場合に、露光される画素
が離れているか隣接しているかの違いで濃度が異なって
しまうことである。このような隣接画素の干渉による画
像濃度を補正する手段として、信号−濃度曲線を補正す
る方法、いわゆる、γ補正が一般には用いられている。

【０００７】しかし、この方法を用いた場合、隣接して
いる画素の濃度を低下させるように補正すると孤立して
いる画素の濃度が下がり、逆に孤立しているドットの濃
度を増加させて補正すると隣接している画素の濃度が増
加してしまう。即ち、上述の問題は画像構造に起因して
いるため、画素の隣接による濃度変化を各画素一律なγ
補正で補正することは困難であるという問題があった。

【０００８】本発明は、上記課題を解決するために成さ
れたもので、隣接する画素の濃度に応じて注目画素の濃
度を補正することにより、画像の再現性を向上させ、高
画質な画像を形成できる画像形成方法及び装置を提供す
ることを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の画像形成方法は以下の工程を有する。

【００１０】即ち、検査画素が隣接画素群に干渉しない
配置の第１のパターンを生成し、検査画素が隣接画素群
に干渉する配置の第２のパターンを生成し、前記第１及
び第２のパターンの濃度に基づいて注目画素を補正す
る、各工程を有する。

【００１１】また、上記目的を達成するために、本発明
による画像形成装置は以下の構成を備える。

【００１２】即ち、検査画素が隣接画素群に干渉しない
配置の第１のパターンを生成する第１の生成手段と、検
査画素が隣接画素群に干渉する配置の第２のパターンを
生成する第２の生成手段と、前記第１及び第２のパター
ンの濃度に基づいて注目画素を補正する補正手段とを備
える。

【００１３】上記構成において、検査画素が隣接画素群
に干渉しない配置の第１のパターンを生成し、検査画素
が隣接画素群に干渉する配置の第２のパターンを生成
し、第１及び第２のパターンの濃度に基づいて注目画素
を補正するように動作する。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
に係る実施の形態を詳細に説明する。

【００１５】図１は、画像形成装置としてのプリンタ装
置の構造を示す断面図であり、図２は、図１のレーザビ
ームスキャナ部分の構成を示す概略図である。図１及び
図２に示す通り、電子写真方式のプリンタは不図示の画
像情報信号源より伝達された信号によりレーザドライブ
回路１０１を駆動し、コリメータ、ポリゴンミラー、ｆ
−θレンズを用いたレーザビームスキャナによりレーザ
ビーム位置を走査することにより、像担持体１００の表
面上にレーザビームのスポットを結像し、静電潜像を形
成し周知の電子写真プロセスを経て記録紙上に画像記録
を実現するものである。

【００１６】しかし、スポット径に対して画素サイズが
相対的に小さい場合には、隣接する画素間の光量分布の
干渉が大きくなり、前述したように、濃度が変化する問
題が生じる。

【００１７】図３は、実施の形態による注目画素のドッ
ト形成方法を示す図である。図３に示す（Ａ）はデジタ
ル画像が像担持体上で形成されていく様子を示す図であ
り、各格子は画素を示す。また、図３に示す（Ｂ）は画
像を形成する際の信号処理の走査方向を示す図であり、
矢印１の方向に順次注目画素ＰＳ１を移動させていき、
画像の終端に達した時点で画像の左端から同様に矢印２
の方向に１画素下げて走査を行う。ここで、注目画素Ｐ
Ｓ１を画素信号Ｓ１で露光する場合に、以下のような信
号処理を行う。

【００１８】注目画素ＰＳ１は信号処理の終了した隣接
する画素ＰＮ１、ＰＮ２、ＰＮ３、ＰＮ４の干渉の影響
を受けると見なし、１つの処理の段階で信号処理の終了
していない隣接画素については信号が無く、干渉が無い
ものとして見なして信号処理のための変数として使わな
い。即ち、図４に示すように、注目画素ＰＳ１の画素信
号Ｓ１を隣接画素信号Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３、Ｎ４を参照し
て補正信号Ｓ２に変換する。この補正信号Ｓ２は、各隣
接画素信号がある場合、干渉のないＳ１のみの信号で得
られる画像濃度と同等の画像濃度を再現できる信号であ
る。この変換を図３に示す（Ｂ）の方向に順次行うこと
により、隣接画素干渉がある場合でも、その影響がない
場合と同等な画像濃度が再現されて高画質が得られる。

【００１９】図５は、注目画素ＰＳ１と隣接画素ＰＮ
１、ＰＮ２、ＰＮ３、ＰＮ４との干渉の効果を算定した
補正信号Ｓ２を得るための処理を示すフローチャートで
ある。図６に示すように、隣接画素のパターンが図３と
同形状の構成である隣接画素群ＧＮと、注目画素ＰＳ１
に相当する検査画素ＰＴ１からなるブロックＰＢ１を構
成する。検査画素ＰＴ１は、図示するように、ブロック
ＰＢ１内で隣接画素群ＧＮと干渉しないように配置す
る。また、ブロックＰＢ１内の検査画素ＰＴ１が他のブ
ロックＰＢ１と干渉しないようにしてブロックＰＢ１を
複数配置し、図６に示す全体からなるパターンＸを作成
する（ステップＳ１０１）。

【００２０】また同様に、図７に示すように、隣接画素
群ＧＮと注目画素ＰＳ１に相当する検査画素ＰＴ２から
なるブロックＰＢ２を構成する。ブロックＰＢ２では、
検査画素ＰＴ２が図３の注目画素ＰＳ１と同様に、隣接
画素群ＧＮと干渉するように配置してブロックを構成
し、他はパターンＸと同様にしてパターンＹを構成する
（ステップＳ１０２）。パターンＸの各ブロックＰＢ１
間の間隔とパターンＹの各ブロックＰＢ２間の間隔とは
同一にする。

【００２１】次に、隣接画素群ＧＮの個々の隣接作用画
素に対して信号Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３、Ｎ４を各々適用した
場合について、注目画素信号Ｓ１を検査画素ＰＴ１に適
用したパターンＸの濃度を測定する（ステップＳ１０
３）。そして、検査画素ＰＴ２にＳ１と異なる信号を適
用してパターンＹの濃度を測定し（ステップＳ１０
４）、続くステップＳ１０５で、隣接画素群ＧＮにパタ
ーンＸと同じ信号を適用し、かつパターンＸと同じ濃度
になるように、パターンＹの検査画素ＰＴ２の調整を行
う。

【００２２】このようにして、パターンＸとパターンＹ
の濃度が同じになった時の検査画素ＰＴ２に適用した信
号を注目画素信号Ｓ１に対する補正信号Ｓ２とする。こ
こで、信号Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３、Ｎ４、Ｓ１の各々の信号
範囲について、パターンＸとパターンＹを作成すること
により、補正信号Ｓ２を得て、図４に示すような構成の
テーブルを作成して上述の信号処理に用いる（ステップ
Ｓ１０６）。

【００２３】各ステップで行うパターンの濃度測定は、
画像形成装置の製品出荷時にあらかじめ測定しておく方
法や、画像形成装置の電源投入後又は画像出力毎に像担
持体に濃度測定用パッチを作成し、それを読み取る方法
などがある。

【００２４】次に、本方法に関する幾つかの特徴や原理
的事項について説明する。

【００２５】まず、図４に示す補正信号を作成する工程
において、本方法は濃度測定用画像パターンの特定のブ
ロック配置間隔や測定濃度に因らず隣接画素の影響量を
一意に補正する信号を得ることが可能である。即ち、パ
ターンＸのブロックＰＢ１の各ブロック間の間隔が異な
っても測定結果に影響がないことを説明する。図８に示
すパターンＸ１とパターンＸ２とを比較してもわかるよ
うに、測定用パターンの配置サイズの違いにより、濃度
測定領域あたりの隣接干渉の影響を調べる注目画素の個
数が異なり、測定する画像濃度への影響量が異なる。ま
た、注目画素を同じ信号で露光しても濃度が異なり、濃
度値の非線形性、即ち、濃度０．５から１．０までの差
０．５と１．０から１．５までの差０．５とは同一でな
いため、測定用パターンの違いにより上述の補正が変化
するという疑問が生じる。

【００２６】しかしここで、パターンＸ１とパターンＹ
１との関係においては、共に濃度を等しく合わせている
ので、隣接作用画素と検査画素とをあわせたブロックに
より生じる濃度への影響は同一である。また、パターン
Ｘ２とパターンＹ２に関しても同様にブロックにより生
じる濃度への影響は同一である。パターンＸ１とパター
ンＸ２とは濃度が異なるが、パターンＸと、パターンＹ
との差異は、ブロック内の隣接作用画素と検査画素との
状態の差だけであるので、全体の画像領域濃度にかかわ
らず、検査画素に適用する注目画素信号Ｓ１と得られる
補正信号Ｓ２とは同じ関係となり、本方法で特定のブロ
ック配置間隔に因らず隣接画素の影響量を一意に補正す
る信号を得ることが可能である。

【００２７】またここで、パターンＸ３とパターンＹ３
のように検査画素に干渉しない濃度調整画素群ＧＡを配
置したブロックを構成して同じ手順で補正信号Ｓ２を得
ても、同様の理由により隣接画素の影響量を一意に補正
する信号を得ることが可能である。

【００２８】以上の原理により、任意のブロック配置間
隔及び任意の濃度によって補正信号Ｓ２を得ることがで
きるので、測定が容易で精度の高いブロック配置間隔や
濃度を適宣選択して補正信号Ｓ２を得ることが可能であ
る。

【００２９】次に、実際の隣接画素干渉の現象と本方法
との対応について説明する。本方法では、注目する画素
ＰＳ１は図３に示すように、信号処理の終了した各隣接
作用画素の干渉の影響を受けると見なし、１つの処理の
段階で信号処理の終了していない隣接画素については信
号が無く、従って干渉が無いものと見なして信号処理の
ための変数として使わないで信号処理の走査を行うが、
実際に画像が形成される場合には、図９に示す（Ａ）の
ように、走査後方画素も含めた注目画素に隣接する全て
の画素の影響を受ける。

【００３０】また、図９に示す（Ｂ）のように、隣接画
素干渉は注目画素自体も隣接画素に影響を及ぼす相互作
用である。この２つの現象と本方法による結果とが実質
的に差異を生じないことを以下に簡単に説明する。

【００３１】まず、本方式において信号処理の走査のあ
る１ステップを考えると、補正信号Ｓ２で画素形成する
ことは画素干渉がない場合と等価な１画素濃度で画素形
成することであるので、図９に示す（Ｃ）のように信号
処理の終了した隣接作用画素と終了していない隣接作用
画素との双方が注目画素に干渉しない状態と実質的にみ
なすことができ、その１ステップの時点で走査の終了し
た画素位置までの画像については補正がなされており、
これは任意の１ステップについて成り立つので、上述の
走査後方画素の影響による問題は生じない。

【００３２】また、パターンＹにおいて、隣接画素群Ｇ
Ｎと検査画素ＰＴ２は相互干渉しており、画素毎の濃度
は図９に示す（Ｂ）のように、ＧＮ、ＰＴ２相互に変動
するが、パターンＹがパターンＸと等しい濃度になるよ
うに調整する時点で、ＰＴ２の信号のみを変化させるた
め、隣接画素群ＧＮの濃度変動分を検査画素ＰＴ２の補
正信号Ｓ２が含むことになるので、上述の相互作用によ
る問題は生じない。

【００３３】ここで、図９に示す（Ａ）の走査後方画素
による影響は、信号処理の走査の各ステップを追跡した
場合の実際の信号の変化としては、ＧＮの濃度変動分を
Ｓ２が含むことにより、順次走査方向の後方に自動的に
送られていくことで解決されている。

【００３４】このように、画素サイズに対して露光する
レーザスポット径が十分に小さくない場合においても、
画像構造にかかわらず隣接画素の干渉を制御して画像全
体の階調性再現性と１画素での濃度再現性を共に満たし
て高解像度のデジタル画像の再現性をより向上させ、よ
り高画質な画像を得ることができる。

【００３５】また、本実施形態による装置は、装置内の
信号処理回路に上述の処理を用いる部分を含むことで特
徴付けられるが、さらに、入力画像信号と出力画像との
間に以下の関係があることでも特徴付けられる。

【００３６】即ち、従来の方法では、原画像に対して例
えばディザ法や誤差拡散法等による多値化等の処理を行
った画像を入力画像として用いた場合、その画像処理の
方法の違いによって隣接画素の配置とその画素間干渉に
差異が発生するため、各画像処理の違いにより同じ原画
像に対する濃度階調が異なるが、本方法を用いている場
合には、それらが校正されるため、濃度変化が低減若し
くは除去されて、上述の多値化画像処理の違いによる濃
度階調の差異が本方法により低減若しくは除去されるこ
とでも特徴付けられる。

【００３７】［他の実施の形態］また、本発明に係る他
の実施の形態として、光源からの光ビームにより像担持
体上に像を形成するデジタル画像形成装置においては、
１画素での光量の幾何学的分布形状の積分計算により予
測した濃度を用いて前述した補正信号を作成することも
できる。

【００３８】一例として、前述の実施の形態のように、
レーザビームを用いる電子写真装置の場合、発光分布形
状はガウス分布を形成しているため、これを発光強度、
発光時間、画素信号ごとに積分することで画像全体の光
量分布が計算され、その光量分布と、例示したデジタル
画像形成装置の像担持体である感光体の光量−帯電電位
減衰特性（Ｅ−Ｖ特性）とにより感光体上の電位分布が
計算され、これにより画像全体の平均電位を計算し、前
述した実施形態の方法で実測濃度に替えて平均電位を用
いて補正信号を概算することができる。但し、この場
合、トナーの現像状態や紙上の光学的ドットゲイン等の
影響が含まれないので、補正信号には若干の誤差が生ず
る。

【００３９】また、他の実施の形態として、前述した補
正信号は図４に示すように構成され、電子回路のメモリ
に格納しているが、多次元曲面近似関数で表すことによ
り、より小さなメモリ容量の電子回路で構成することが
できる。

【００４０】さらに、他の実施の形態として、前述した
実施の形態では、隣接画素をＰＮ１、ＰＮ２、ＰＮ３、
ＰＮ４の４個としたが、隣接干渉の効果が大きい場合に
は、４個よりもさらに注目１画素より離れて位置する信
号処理の走査の終了した画素を隣接画素として扱い、変
数としての隣接画素の個数を増加させることも可能であ
る。また、補正信号の演算を容易にするために、変数と
しての隣接画素の個数を減少させることも可能である。
また、干渉の影響量が実質的に小さい隣接画素である場
合には、例えば前述した実施の形態における隣接信号Ｎ
２＋Ｎ４の平均を隣接信号として用いる等の方法によ
り、複数の隣接画素の信号から関数によりそれより少な
い変数を生成し、それを隣接画素信号として扱うことに
より、隣接画素の個数を減少させることも可能である。
上記の隣接画素数の実質的な増減は容易に実施可能であ
り、本発明においては任意の個数の隣接画素を隣接信号
として扱うことが可能である。

【００４１】また、他の実施の形態として、図１０に示
すように多重現像一括転写電子写真方式に適用すること
も可能である。この多重現像一括転写電子写真方式につ
いて以下に説明する。

【００４２】近年、感光体上に直接トナー像を重ね合わ
せカラー画像を形成する、多重現像プロセスが提案さ
れ、検討されている。このプロセスについて説明する
と、多重現像プロセスの一例は図１０であり、最初に帯
電器４によって感光ドラム１００上を均一に帯電する。
その後、感光ドラム１００上から露光手段によって潜像
を書き込み、反転現像によってレーザービーム照射され
た部分のみ現像する。このプロセスをマゼンタ、シア
ン、イエロー、（ブラック）の３色又は４色分繰り返
し、感光ドラム１００上においてトナー像を重ね合わ
せ、カラー画像を形成する。そして、このトナー像を、
転写手段１０によって紙に一括転写し、感光ドラム１０
０上の残留電荷を前露光ランプによって除く。その後、
定着器を通過させることにより定着させ、カラー画像を
得るわけである。

【００４３】また、他の実施の形態として、図１１に示
すような多重ドラム方式に適用することも可能である。
ここで、画像形成装置はフルカラーのレーザビームプリ
ンタとされるが、上述の実施の形態と異なり、色毎に専
用の像担持体、即ち、本実施の形態では感光ドラム３Ｙ
（イエロー）、３Ｍ（マゼンタ）、３Ｃ（シアン）、３
ＢＫ（ブラック）を具備し、その周りにそれぞれ専用の
レーザビームスキャナ８０Ｙ、８０Ｍ、８０Ｃ、８０Ｂ
Ｋ、現像器１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１ＢＫ、転写用放電器１
０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０ＢＫ、クリーニング器１２
Ｙ、１２Ｍ、１２Ｃ、１２ＢＫが配置されている。転写
材は給紙ガイド５ａ、給紙ローラ６、と順に搬送され、
吸着用帯電器からコロナ放電を受け、搬送ベルトへ吸着
する。その後、各感光ドラムに形成された画像を転写用
放電器１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０ＢＫにより転写
し、除電気により搬送ベルトから除電され定着器１７に
より定着されてフルカラーの画像が得られる。

【００４４】また、上述の実施の形態ではデジタル複写
機を図示例として説明を行ったが、同様の電子写真プロ
セスを用いた画像記録装置、例えばレーザビームプリン
タ、ＬＥＤプリンタや、デジタル画像を形成するインク
ジェットプリンタ等の一般のデジタル画像形成装置にも
本発明を適用することができる。

【００４５】尚、本発明は、ホストコンピュータ、イン
ターフェース、プリンタ等の複数の機器から構成される
システムに適用しても、複写機等の１つの機器から成る
装置に適用しても良い。また、本発明は記憶媒体に格納
されたプログラムをシステム或いは装置に供給すること
によって達成される場合にも適用できることは言うまで
もない。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
隣接する画素の濃度に応じて注目画素の濃度を補正する
ことにより、画像の再現性を向上させ、高画質な画像を
形成することが可能となる。

【００４７】

【図面の簡単な説明】

【図１】画像形成装置としてのプリンタ装置の構造を示
す断面図である。

【図２】レーザビームスキャナ部分の構成を示す概略図
である。

【図３】実施の形態における注目画素のドット形成方法
を示す図である。

【図４】実施の形態における補正信号を説明するための
図である。

【図５】実施の形態における処理手順を示すフローチャ
ートである。

【図６】実施の形態におけるパターンＸを示す図であ
る。

【図７】実施の形態におけるパターンＹを示す図であ
る。

【図８】実施の形態における濃度測定用画像パターンを
示す図である。

【図９】注目画素と隣接画素との干渉を説明するための
図である。

【図１０】多重現像一括転写電子写真方式の画像形成装
置の構成を示す図である。

【図１１】多重ドラム方式の画像形成装置の構成を示す
図である。

【符号の説明】

１００感光ドラム（像担持体）１０１レーザドライブ回路

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】検査画素が隣接画素群に干渉しない配置
の第１のパターンを生成し、検査画素が隣接画素群に干渉する配置の第２のパターン
を生成し、前記第１及び第２のパターンの濃度に基づいて注目画素
を補正する、各工程を有することを特徴とする画像形成
方法。
【請求項２】前記補正工程は、第１のパターンの検査
画素を注目画素信号とした場合の濃度と、第２のパター
ンの検査画素を注目画素信号と異なる信号とした場合の
濃度とを比較し、等しいときの信号を補正信号として注
目画素を補正することを特徴とする請求項１記載の画像
形成方法。
【請求項３】前記補正工程は、信号の異なる隣接画素群に対し各々補正信号を検知する
検知工程と、注目画素の補正を順次走査により行う走査工程とを有
し、前記検知工程は、検査画素から見て走査終了後の位置に
隣接する画素群を配置して検知し、前記走査工程は、走査終了直後の信号群と対応する隣接
画素群を検知工程中より選択して得た補正信号を用い
て、補正走査することを特徴とする請求項２記載の画像
形成方法。
【請求項４】前記補正工程は、１画素における光量の
幾何学的分布形状の積分計算により予測した濃度を用い
て注目画素を補正することを特徴とする請求項１乃至請
求項３の何れか記載の画像形成方法。
【請求項５】前記補正工程は、補正信号のテーブルを
作成し、該テーブルに従って画像を形成することを特徴
とする請求項２乃至請求項４の何れか記載の画像形成方
法。
【請求項６】前記補正工程は、多次元曲面近似関数に
より補正信号を表すことを特徴とする請求項１乃至請求
項５の何れか記載の画像形成方法。
【請求項７】検査画素が隣接画素群に干渉しない配置
の第１のパターンを生成する第１の生成手段と、検査画素が隣接画素群に干渉する配置の第２のパターン
を生成する第２の生成手段と、前記第１及び第２のパターンの濃度に基づいて注目画素
を補正する補正手段とを備えることを特徴とする画像形
成装置。
【請求項８】前記補正手段は、第１のパターンの検査
画素を注目画素信号とした場合の濃度と、第２のパター
ンの検査画素を注目画素信号と異なる信号とした場合の
濃度とを比較し、等しいときの信号を補正信号として注
目画素を補正することを特徴とする請求項７記載の画像
形成装置。
【請求項９】前記補正手段は、信号の異なる隣接画素群に対し各々補正信号を検知する
検知手段と、注目画素の補正を順次走査により行う走査手段とを有
し、前記検知手段は、検査画素から見て走査終了後の位置に
隣接する画素群を配置して検知し、前記走査手段は、走査終了直後の信号群と対応する隣接
画素群を検知工程中より選択して得た補正信号を用い
て、補正走査することを特徴とする請求項８記載の画像
形成装置。
【請求項１０】前記補正手段は、１画素における光量
の幾何学的分布形状の積分計算により予測した濃度を用
いて注目画素を補正することを特徴とする請求項７乃至
請求項９の何れか記載の画像形成装置。
【請求項１１】前記補正手段は、作成した補正信号の
テーブルに従って画像を形成することを特徴とする請求
項８乃至請求項１０の何れか記載の画像形成装置。
【請求項１２】前記補正手段は、多次元曲面近似関数
により補正信号を表すことを特徴とする請求項７乃至請
求項１１の何れか記載の画像形成装置。