JPH0982837A - Manufacture of semiconductor package - Google Patents

Manufacture of semiconductor package

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Publication number
JPH0982837A
JPH0982837A JP7241475A JP24147595A JPH0982837A JP H0982837 A JPH0982837 A JP H0982837A JP 7241475 A JP7241475 A JP 7241475A JP 24147595 A JP24147595 A JP 24147595A JP H0982837 A JPH0982837 A JP H0982837A
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JP
Japan
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wiring pattern
substrate
cavity
bonding
circuit board
Prior art date
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Pending
Application number
JP7241475A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuharu Shimizu
満晴 清水
Toshihisa Yoda
稔久 依田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Electric Industries Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Industries Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0982837A publication Critical patent/JPH0982837A/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To secure a specific bonding area thereby making sure electric connection feasible by a method wherein the bonding part of a wiring pattern is previously coated with a protective film so as to avoid the adhering of any foreign matters to the wiring pattern when a substrate is printed with a flattening agent or a bonding sheet is bonded onto the substrate. SOLUTION: After the formation of a wiring pattern 16 by etching a copper foil 11, the surface of a circuit substrate 10a is coated with a sensitive resist 30 to be exposed for melt away the sensitive resist 30 excluding the bonding part of the wiring pattern 16 so as to form a protective film 30a. Later, both surfaces of the circuit substrate 10a are coated with a resist 18 for flattening the surface of the circuit substrate 10a. Thus, the bonding of the substrate 10a using a bonding sheet can be secured. Furthermore, the protective film 30a coating the bonding part of the wiring pattern 16 fills the role of a stopper of a bonding agent running out of the bonding sheet thereby enabling the adhesion of the bonding agent to the bonding part to be avoided in the integral forming step of a laminated body.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体パッケージの
製造方法に関し、とくに樹脂基板を複数枚積層して成る
半導体パッケージの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor package manufacturing method, and more particularly to a semiconductor package manufacturing method in which a plurality of resin substrates are laminated.

【0002】[0002]

【従来の技術】PPGA(Plastic Pin Grid Array) あ
るいはPBGA(Plastic Ball GridArray)等の半導体
パッケージは、ガラスエポキシ、ガラスポリイミド、B
Tレジン等の電気的絶縁性を有する基板表面に銅箔等の
導体層を被着形成した樹脂基板を積層して形成される。
図9は多層の半導体パッケージを製造する従来方法を示
す(特公平2−5014号)。この製造方法は半導体素
子を収容するキャビティを形成するための基板と、積層
体を形成した時点においてはキャビティを密閉するため
の基板とを用いることを特徴とする。
2. Description of the Related Art Semiconductor packages such as PPGA (Plastic Pin Grid Array) or PBGA (Plastic Ball Grid Array) are glass epoxy, glass polyimide, B
It is formed by laminating a resin substrate in which a conductor layer such as a copper foil is adhered on the surface of a substrate having electrical insulation such as T resin.
FIG. 9 shows a conventional method for manufacturing a multi-layer semiconductor package (Japanese Patent Publication No. 2-5014). This manufacturing method is characterized by using a substrate for forming a cavity for housing a semiconductor element and a substrate for sealing the cavity at the time of forming the laminated body.

【0003】キャビティを形成するための基板とキャビ
ティを密閉するための基板はともに上記の導体層を被着
形成した樹脂基板によって形成される。図9(a) で10
aは積層体の内部に組み入れられキャビティを形成する
ための回路基板であり、10bはキャビティを密閉する
ための基板である。回路基板10aはキャビティを形成
するための孔12が設けられるとともに、上記の導体層
を被着形成した樹脂基板の導体層部分をエッチングして
所定の配線パターンが形成される。基板10bは孔12
が設けられず、導体層もエッチング等の処理が施されて
いない樹脂基板である。
The substrate for forming the cavity and the substrate for sealing the cavity are both formed of a resin substrate on which the above conductor layer is formed. 10 in Fig. 9 (a)
Reference numeral a is a circuit board that is incorporated inside the laminate to form a cavity, and reference numeral 10b is a board that seals the cavity. The circuit board 10a is provided with holes 12 for forming cavities, and a predetermined wiring pattern is formed by etching the conductor layer portion of the resin substrate on which the conductor layer is formed. Substrate 10b has holes 12
Is not provided, and the conductor layer is not subjected to a treatment such as etching.

【0004】14は複数枚の回路基板10aおよび基板
10bを互いに貼り合わせて基板の積層体を形成するた
めの接着シートである。接着シートとしてはたとえば接
着剤を含浸させたガラス繊維によりフィルム状に形成し
たフィルム材(プリプレグ)が用いられる。この接着シ
ート14を各回路基板10aの間および回路基板10a
と基板10bとの間に挟み、真空中で加圧加熱して一体
化した積層体が得られる(図9(b) )。接着シート14
には各回路基板10aに設けた孔12の孔サイズに合わ
せてあらかじめ開口孔が設けられている。
Reference numeral 14 is an adhesive sheet for bonding a plurality of circuit boards 10a and 10b to each other to form a board laminate. As the adhesive sheet, for example, a film material (prepreg) formed in a film shape with glass fibers impregnated with an adhesive is used. The adhesive sheet 14 is provided between the circuit boards 10a and between the circuit boards 10a.
It is sandwiched between the substrate and the substrate 10b and heated under pressure in a vacuum to obtain an integrated laminate (FIG. 9 (b)). Adhesive sheet 14
Opening holes are provided in advance in accordance with the hole size of the holes 12 provided in each circuit board 10a.

【0005】回路基板10aとなる両面銅張り樹脂基板
などに配線パターンを形成する方法は、導体層の表面に
レジストパターンを形成し、導体層をエッチングする通
常の方法が適用できる。接着シート14を用いて回路基
板の積層体を形成した後、積層体に各層間の配線パター
ンを接続するための貫通孔20をドリル加工等により形
成し、無電解めっきにより貫通孔20の内面に導通用の
めっき層(例えば銅めっき層)22を設け、めっき層2
2と基板10bの外面の導体層に電解めっき(例えば銅
めっき)を施した後、積層体の外面の導体層をエッチン
グして外部接続端子を接合するランド24等の配線パタ
ーンを形成する。
As a method of forming a wiring pattern on a double-sided copper-clad resin substrate which becomes the circuit board 10a, a usual method of forming a resist pattern on the surface of a conductor layer and etching the conductor layer can be applied. After forming a laminate of circuit boards using the adhesive sheet 14, a through hole 20 for connecting a wiring pattern between each layer is formed in the laminate by drilling or the like, and the inner surface of the through hole 20 is formed by electroless plating. A plating layer (for example, a copper plating layer) 22 for conduction is provided, and the plating layer 2
After electrolytic plating (for example, copper plating) is applied to the conductor layers on the outer surface of 2 and the substrate 10b, the conductor layer on the outer surface of the laminate is etched to form a wiring pattern such as a land 24 for joining external connection terminals.

【0006】次に、キャビティを開口する面側の基板1
0bに孔加工を施し、キャビティ26を開口させた後、
内部の回路基板10aに形成された配線パターン16の
露出部分にニッケルめっき、金めっき等のめっきを施
す。最後に、ランド24にはんだボール等の外部接続端
子28を接合して製品とする(図9(d) )。また、貫通
孔内に直接リードピンを挿入して外部接続端子とするこ
ともできる。
Next, the substrate 1 on the surface side where the cavity is opened
After making a hole in 0b and opening the cavity 26,
The exposed portion of the wiring pattern 16 formed on the internal circuit board 10a is plated with nickel or gold. Finally, an external connection terminal 28 such as a solder ball is joined to the land 24 to obtain a product (FIG. 9 (d)). Alternatively, the lead pin may be directly inserted into the through hole to serve as an external connection terminal.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記の半導体パッケー
ジの製造方法はキャビティを形成する孔12を設けた回
路基板10aを孔12を設けていない基板10bによっ
て挟むようにして積層体を形成し、この積層体に対して
貫通孔20を設けたり無電解めっきを施したりすること
で、これらの無電解めっき等の処理から内層の回路基板
10aを隔離することができ、回路基板10aに設けた
配線パターン16がこれらの処理の際にめっき液等で侵
されるといった問題を解消することができるという利点
がある。
According to the method of manufacturing a semiconductor package described above, a laminated body is formed by sandwiching a circuit board 10a having a hole 12 forming a cavity between substrates 10b having no hole 12 formed therein. By providing the through-holes 20 or performing electroless plating with respect to the inner circuit board 10a can be isolated from the processing such as electroless plating, and the wiring pattern 16 provided on the circuit board 10a can be separated. There is an advantage that the problem of being attacked by a plating solution or the like during these treatments can be solved.

【0008】ところが、上述した従来の製造方法では回
路基板10aおよび基板10bを貼り合わせるため接着
シート14を使用していることから、これらの基板を積
層して一体化する際に接着シート14から接着剤が流れ
出して配線パターン16に付着してしまったり、接着シ
ート14がガラス繊維を接着剤で固めたものであること
からガラス繊維の小片がシートから剥離してキャビティ
内で露出する配線パターン16のボンディング部に付着
するといったことが生じる。
However, in the above-described conventional manufacturing method, since the adhesive sheet 14 is used to bond the circuit board 10a and the board 10b together, the adhesive sheet 14 is adhered when these boards are laminated and integrated. The agent flows out and adheres to the wiring pattern 16, or because the adhesive sheet 14 is a glass fiber hardened with an adhesive, a small piece of glass fiber is peeled from the sheet and exposed in the cavity. It may adhere to the bonding part.

【0009】接着シート14は加圧および加熱して基板
を貼り合わせる際になるべく接着剤が流れ出ないものを
選んで使用するのであるが、接着剤が配線パターン16
に付着してしまうと、配線パターン16として所定のボ
ンディング面積が確保できなくなるといった問題が生
じ、不良品の発生原因となる。これを防止する方法とし
て、従来は基板10bを孔あけしてキャビティ26を開
口させた後、アルミナ粉末を吹きつけるジェットスクラ
ブ処理等で不要な接着剤を除去することが行われてい
る。
The adhesive sheet 14 is selected and used so that the adhesive does not flow out as much as possible when the substrates are bonded together by applying pressure and heat.
If it adheres to the wiring pattern 16, there arises a problem that a predetermined bonding area cannot be secured as the wiring pattern 16, which causes a defective product. As a method of preventing this, conventionally, after the substrate 10b is bored to open the cavity 26, unnecessary adhesive is removed by jet scrubbing or the like in which alumina powder is sprayed.

【0010】しかしながら、このような処理を行っても
配線パターン16に付着した接着剤をとり除くことは困
難で、ボンディング部での電気的接続の信頼性が十分で
なかったり、またジェットスクラブ処理等を施すことに
よって配線パターン16が削られて細くなり、所要のボ
ンディング面積が得られなくなるという問題があった。
However, it is difficult to remove the adhesive adhering to the wiring pattern 16 even if such a treatment is performed, and the reliability of the electrical connection at the bonding portion is not sufficient, and the jet scrub treatment is not performed. There is a problem that the wiring pattern 16 is scraped and thinned by the application, and a required bonding area cannot be obtained.

【0011】本発明はこれらの問題点を解消すべくなさ
れたものであり、その目的とするところは、接着シート
を用いて樹脂基板を積層して多層の半導体パッケージを
作成する際に、配線パターンのボンディング部に不要な
接着剤が付着するといったことを防止し、配線パターン
として所要のボンディング面積を確保して信頼性の高い
半導体パッケージを確実に得ることができる半導体パッ
ケージの製造方法を提供しようとするものである。
The present invention has been made to solve these problems, and an object thereof is to form a wiring pattern when a resin substrate is laminated using an adhesive sheet to form a multilayer semiconductor package. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a semiconductor package, which can prevent unnecessary adhesive from adhering to the bonding part of the device, secure a required bonding area as a wiring pattern, and reliably obtain a highly reliable semiconductor package. To do.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため次の構成を備える。すなわち、キャビティを形
成する孔と前記孔の周縁部にボンディング部を有する配
線パターンとが設けられた複数の回路基板を各回路基板
間に接着シートを介在させて積層するとともに、これら
の回路基板の最外層に前記複数層の回路基板によって形
成されたキャビティを密閉する基板を接着シートを介し
て積層することにより積層体を形成し、該積層体に前記
配線パターンと外部接続端子とを接続するための貫通孔
を設け、該貫通孔にめっきを施した後、前記キャビティ
の上面を密閉している基板にキャビティを形成するため
の開口を形成する半導体パッケージの製造方法におい
て、前記各回路基板に設けられた前記配線パターンのボ
ンディング部に保護被膜を被覆した後、前記回路基板を
積層し、前記キャビティを開口した後、前記保護被膜を
除去することを特徴とする。また、前記キャビティの上
面及び下面を密閉している基板にキャビティを形成する
ための開口を形成することを特徴とする。また、前記配
線パターンのボンディング部に保護被膜を被覆し、回路
基板の表面にレジストを塗布して回路基板の表面を平坦
面に形成した後、接着シートを用いて回路基板を積層す
ることを特徴とする。また、前記保護被覆は感光性レジ
ストであることを特徴とする。
The present invention has the following constitution in order to achieve the above object. That is, a plurality of circuit boards, each having a hole forming a cavity and a wiring pattern having a bonding portion on the peripheral portion of the hole, are laminated with an adhesive sheet interposed between the circuit boards, and To form a laminated body by laminating a substrate that seals a cavity formed by the circuit boards of the plurality of layers as an outermost layer via an adhesive sheet, and connect the wiring pattern and the external connection terminal to the laminated body. In the method of manufacturing a semiconductor package, the through holes are provided, and after plating the through holes, an opening for forming a cavity is formed in the substrate that seals the upper surface of the cavity. After covering the bonding portion of the wiring pattern with a protective film, laminating the circuit board and opening the cavity, And removing the film. Further, an opening for forming a cavity is formed in the substrate that seals the upper surface and the lower surface of the cavity. In addition, the bonding portion of the wiring pattern is covered with a protective coating, a resist is applied to the surface of the circuit board to form a flat surface on the circuit board, and then the circuit boards are laminated using an adhesive sheet. And The protective coating is a photosensitive resist.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
につき添付図面に基づいて説明する。図1は導体層とし
て銅箔を両面に被着形成した樹脂基板から多層形成して
半導体パッケージを形成する際に使用する回路基板を作
製する方法を示す。図1(a) は銅箔11を両面に被着形
成した樹脂基板10の断面図を示す。12はキャビティ
を形成するため樹脂基板10に設けた孔である。樹脂基
板10はガラスエポキシ、ガラスポリイミド、BTレジ
ンといった電気的絶縁性を有する樹脂材を基材としてい
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 shows a method for producing a circuit board used when forming a semiconductor package by forming a multilayer from a resin board having copper foils deposited on both sides as conductor layers. FIG. 1 (a) shows a cross-sectional view of a resin substrate 10 having copper foils 11 deposited on both sides. Reference numeral 12 is a hole provided in the resin substrate 10 to form a cavity. The resin substrate 10 uses a resin material having electrical insulation such as glass epoxy, glass polyimide, and BT resin as a base material.

【0014】図1(b) はこの樹脂基板10に対しエッチ
ング処理を施して、両面に配線パターン16を形成した
回路基板10aを形成した状態を示す。配線パターン1
6は銅箔11の表面にレジストを塗布し、形成すべきパ
ターンにしたがって露光してレジストパターンを形成
し、レジストが被覆された部位以外の銅箔11をエッチ
ングして除去することによって形成される。
FIG. 1B shows a state in which the resin substrate 10 is subjected to an etching treatment to form a circuit substrate 10a having wiring patterns 16 formed on both surfaces. Wiring pattern 1
6 is formed by applying a resist on the surface of the copper foil 11, exposing the copper foil 11 according to a pattern to be formed to form a resist pattern, and etching and removing the copper foil 11 other than the portion covered with the resist. .

【0015】ワイヤボンディングにより半導体素子と接
続する配線パターン16のボンディング部はこの孔12
の周縁部近傍に形成される。回路基板10aに設ける孔
12は回路基板10aを積層して積層体を形成した際
に、各段の回路基板10aのボンディング部の領域が確
保されるように回路基板10aごとあらかじめ孔のサイ
ズを設定する。孔のサイズは回路基板10aを積層しキ
ャビティ26を形成した際にキャビティの26の上方に
位置するに従い大きくなる。
This hole 12 is formed in the bonding portion of the wiring pattern 16 connected to the semiconductor element by wire bonding.
Is formed in the vicinity of the peripheral edge of the. The holes 12 provided in the circuit board 10a are set in advance with respect to each circuit board 10a so that when the circuit boards 10a are stacked to form a laminated body, the area of the bonding portion of each circuit board 10a is secured. To do. The size of the hole becomes larger as the hole is located above the cavity 26 when the circuit board 10a is stacked and the cavity 26 is formed.

【0016】銅箔11をエッチングして配線パターン1
6を形成した後、配線パターン16のボンディング部を
保護する保護被膜を形成する。この実施形態では回路基
板10aの上面に感光性レジスト30を塗布し(図1
(c) )、感光性レジスト30を露光して配線パターン1
6のボンディング部以外の感光性レジスト30を溶解除
去することにより保護被膜30aを形成する。図1(d)
は配線パターン16のボンディング部に保護被膜30a
が形成された状態を示す。
The wiring pattern 1 is formed by etching the copper foil 11.
After forming 6, the protective film for protecting the bonding portion of the wiring pattern 16 is formed. In this embodiment, a photosensitive resist 30 is applied on the upper surface of the circuit board 10a (see FIG.
(c)), the photosensitive resist 30 is exposed to expose the wiring pattern 1
The protective film 30a is formed by dissolving and removing the photosensitive resist 30 other than the bonding portion 6 of FIG. Fig. 1 (d)
Is a protective coating 30a on the bonding portion of the wiring pattern 16.
Shows the state in which the is formed.

【0017】回路基板10aは接着シート14(プリプ
レグ)により下段の回路基板10aに接着されるから、
回路基板10aの下面にはとくに保護被膜30aを設け
る必要はない。なお、配線パターン16を形成する場
合、回路基板10aの孔12の内壁面に導体部を設けて
回路基板10aの上面と下面の配線パターン16を電気
的に導通させるようにする場合がある。この場合には、
孔12の内壁面に設けた導体部についても保護被膜30
aで被覆する必要がある。
Since the circuit board 10a is adhered to the lower circuit board 10a by the adhesive sheet 14 (prepreg),
It is not necessary to provide the protective coating 30a on the lower surface of the circuit board 10a. When the wiring pattern 16 is formed, a conductor portion may be provided on the inner wall surface of the hole 12 of the circuit board 10a to electrically connect the wiring pattern 16 on the upper surface and the lower surface of the circuit board 10a. In this case,
Also for the conductor portion provided on the inner wall surface of the hole 12, the protective film 30
It is necessary to coat with a.

【0018】保護被膜30aは配線パターン16のボン
ディング部を保護するとともに、最終的には除去して本
来の配線パターン16の表面を露出させるためのもので
ある。したがって、ここで使用している感光性レジスト
30はアルカリ溶剤等によって後工程で簡単に除去でき
るものを使用するのがよい。なお、保護被膜30aを形
成する材料としては、ボンディング部が保護できてかつ
後工程で溶剤等で容易に除去できる材料であればとくに
限定されるものではない。
The protective coating 30a protects the bonding portion of the wiring pattern 16 and finally removes it to expose the original surface of the wiring pattern 16. Therefore, it is preferable that the photosensitive resist 30 used here be one that can be easily removed in a later step by an alkaline solvent or the like. The material for forming the protective coating 30a is not particularly limited as long as it can protect the bonding portion and can be easily removed by a solvent or the like in a later step.

【0019】配線パターン16のボンディング部を保護
被膜30aで被覆した後、回路基板10aの両面にレジ
スト18を塗布し、回路基板10aの表面を平坦面にす
る(図1(e) )。レジスト18は配線パターン16を形
成したことによって回路基板10aの両面に生じた凹凸
をならすように所定の厚さで塗布する。レジスト18は
印刷法等で塗布するが、配線パターン16のボンディン
グ部は保護被膜30aで被覆してあるから、レジスト1
8を塗布する際にボンディング部にレジストが付着した
りすることが防止できて好適である。レジスト18には
ソルダーレジストなどが好適に用いられる。
After the bonding portion of the wiring pattern 16 is covered with the protective coating 30a, the resist 18 is applied to both surfaces of the circuit board 10a to make the surface of the circuit board 10a flat (FIG. 1 (e)). The resist 18 is applied with a predetermined thickness so as to smooth the unevenness generated on both surfaces of the circuit board 10a by forming the wiring pattern 16. The resist 18 is applied by a printing method or the like, but since the bonding portion of the wiring pattern 16 is covered with the protective film 30a, the resist 1
It is preferable since it is possible to prevent the resist from adhering to the bonding portion when applying 8. A solder resist or the like is preferably used for the resist 18.

【0020】本実施形態で回路基板10aの表面にレジ
スト18を塗布するのは、回路基板10aの表面を平坦
面にすることで接着シート14による基板の接着が確実
になされるようにするためである。なお、接着シート1
4の材質によってはレジスト18を塗布せずに基板を接
着することが可能である。したがって、回路基板10a
にレジスト18を塗布する工程は必須の工程ではない。
The reason why the resist 18 is applied to the surface of the circuit board 10a in this embodiment is to make the surface of the circuit board 10a flat so that the adhesive sheet 14 ensures the adhesion of the board. is there. The adhesive sheet 1
Depending on the material of No. 4, it is possible to bond the substrate without applying the resist 18. Therefore, the circuit board 10a
The step of applying the resist 18 to the above is not an essential step.

【0021】次に、上記のようにして作製した回路基板
10aを基板の各層間に接着シート14を挟んで複数枚
貼り合わせて積層体を形成する。図2は回路基板10a
を2枚貼り合わせた状態を拡大して示す。図9に示す従
来例と同様に、基板の積層体を形成する場合は、積層体
の最外部の基板については孔12を有しない基板10b
を使用し、基板10bで回路基板10aを挟むようにし
て積層することによってキャビティ26が密閉されるよ
うにする。
Next, a plurality of the circuit boards 10a produced as described above are laminated between the respective layers of the boards with the adhesive sheet 14 sandwiched therebetween to form a laminate. FIG. 2 shows a circuit board 10a
Are shown on an enlarged scale. Similar to the conventional example shown in FIG. 9, when a laminated body of substrates is formed, the outermost substrate of the laminated body is a substrate 10b having no holes 12.
And the circuit board 10a is sandwiched by the board 10b so that the cavity 26 is sealed.

【0022】本実施形態では接着シート14としていわ
ゆるプリプレグと呼ばれるシート材を使用した。プリプ
レグはガラス繊維を接着剤でシート状に固めたもので、
プリプレグを回路基板10aの間および、回路基板10
aと基板10bとの間に挟み、真空中で加圧しつつ一定
時間加熱することによって完全に接着剤が硬化し一体化
された積層体を得ることができる。
In this embodiment, as the adhesive sheet 14, a so-called prepreg sheet material is used. A prepreg is a glass fiber that is hardened into a sheet with an adhesive.
Between the circuit board 10a and the prepreg, and the circuit board 10
It is possible to obtain a laminated body in which the adhesive is completely cured by sandwiching it between a and the substrate 10b and heating for a certain period of time while applying pressure in a vacuum, and the adhesive is completely cured.

【0023】配線パターン16のボンディング部を被覆
する保護被膜30aはこの積層体を貼り合わせて一体形
成する工程において、接着シート14から流れ出す接着
剤の流れ止めとして作用し、ボンディング部に接着剤が
付着することを防止する作用を奏する。また、接着シー
ト14と回路基板10aを位置合わせして重ね合わせる
といった工程中に接着シート14から微小な破片(ガラ
ス繊維片など)が配線パターン16上に落ちるといった
場合があるが、このような場合でもボンディング部が保
護被膜30aで被覆されているからボンディング部が汚
れることを防止することができる。
The protective coating 30a for covering the bonding portion of the wiring pattern 16 acts as a flow stop for the adhesive flowing out from the adhesive sheet 14 in the step of integrally forming by laminating the laminated body, and the adhesive adheres to the bonding portion. This has the effect of preventing this. In addition, in the process of aligning and superposing the adhesive sheet 14 and the circuit board 10a, minute fragments (such as glass fiber pieces) may drop from the adhesive sheet 14 onto the wiring pattern 16. In such a case, However, since the bonding portion is covered with the protective coating 30a, it is possible to prevent the bonding portion from becoming dirty.

【0024】図3〜図5は半導体パッケージに配線パタ
ーン16と外部接続端子とを接続する接続部を形成する
工程を示す。図3は接続部の形成位置に貫通孔20を形
成した状態を示す。貫通孔20は積層体にドリル加工を
施して穿設することができる。なお、回路基板10の配
線パターン16はこのスルーホールと導通をとるか否
か、あらかじめ設定されてパターンが形成されている。
3 to 5 show a step of forming a connection portion for connecting the wiring pattern 16 and the external connection terminal on the semiconductor package. FIG. 3 shows a state in which the through hole 20 is formed at the position where the connection portion is formed. The through holes 20 can be formed by drilling the laminated body. It should be noted that the wiring pattern 16 of the circuit board 10 is set in advance to determine whether or not to establish electrical connection with the through hole.

【0025】次に、無電解銅めっきを施し、貫通孔20
の内壁面に無電解銅めっき被膜32を形成し、さらに電
解銅めっきを施して、前記無電解銅めっき被膜32およ
び基板10bの外面の銅箔11上に電解銅めっき被膜3
4を形成する。図4は無電解銅めっきおよび電解銅めっ
きを施した後の状態を示す。
Next, electroless copper plating is applied to the through holes 20.
Electroless copper plating film 32 is formed on the inner wall surface of the electroless copper plating film 32, and electrolytic copper plating is further applied to the electroless copper plating film 32 and the copper foil 11 on the outer surface of the substrate 10b.
4 is formed. FIG. 4 shows a state after electroless copper plating and electrolytic copper plating are performed.

【0026】この状態から、次に、基板10bの外面の
導体層である電解銅めっき被膜34と銅箔11とをエッ
チングして配線パターンを形成する(図5)。基板10
bの外面に形成する配線パターンとしては外部接続端子
を接続するためのランド36a、あるいはコンデンサや
抵抗体などの回路部品を接続するための導体部36b、
あるいはヒ−トシンク材を取り付けるための導体部36
c等がある。
From this state, next, the electrolytic copper plating film 34, which is a conductor layer on the outer surface of the substrate 10b, and the copper foil 11 are etched to form a wiring pattern (FIG. 5). Board 10
The wiring pattern formed on the outer surface of b is a land 36a for connecting an external connection terminal, or a conductor portion 36b for connecting a circuit component such as a capacitor or a resistor,
Alternatively, the conductor portion 36 for attaching the heat sink material
There is c etc.

【0027】以上の如く、積層体に貫通孔20を形成す
る工程、無電解銅めっきおよび電解銅めっきを施す工
程、電解銅めっき被膜34と銅箔11をエッチングして
配線パターンを形成する工程では、積層体の内部の回路
基板10aは完全に外部から遮断されている。したがっ
て、回路基板10aの配線パターン16はめっき液やエ
ッチング液で侵されるといった心配がまったくない。
As described above, in the step of forming the through holes 20 in the laminate, the step of performing electroless copper plating and the electrolytic copper plating, and the step of etching the electrolytic copper plating film 34 and the copper foil 11 to form the wiring pattern. The circuit board 10a inside the stack is completely shielded from the outside. Therefore, there is no concern that the wiring pattern 16 of the circuit board 10a will be attacked by the plating solution or the etching solution.

【0028】積層体の外面にランド36a等の配線パタ
ーンを形成した後、キャビティ26を密閉していた基板
10b、10bをルーター等を用いて孔あけし、キャビ
ティ26を開口させる。図6は両外層の基板10b、1
0bを孔あけしてキャビティ26を開口させた状態であ
る。
After forming a wiring pattern such as a land 36a on the outer surface of the laminated body, the substrates 10b and 10b, which have closed the cavity 26, are perforated using a router or the like to open the cavity 26. FIG. 6 shows substrates 10b, 1 for both outer layers.
0b is opened and the cavity 26 is opened.

【0029】基板10b、10bを孔あけした状態で、
回路基板10aの配線パターン16のボンディング部に
は保護被膜30aが形成されているから、アルカリ溶剤
等の溶剤を用いて保護被膜30aを除去し、ここではじ
めて配線パターン16を露出させる。保護被膜30aは
溶剤で簡単に溶解除去することができ、回路基板10a
の配線パターン16や他の導体部等に悪影響を与えずに
取り除くことができる。こうして、配線パターン16は
細幅化してしまって所要のボンディング面積が得られな
かったり、異物が付着したりすることなく露出させるこ
とができる。
With the substrates 10b and 10b drilled,
Since the protective coating 30a is formed on the bonding portion of the wiring pattern 16 of the circuit board 10a, the protective coating 30a is removed using a solvent such as an alkaline solvent to expose the wiring pattern 16 for the first time. The protective coating 30a can be easily dissolved and removed with a solvent, and the circuit board 10a
It can be removed without adversely affecting the wiring pattern 16 and other conductors. In this way, the wiring pattern 16 can be exposed without causing the required bonding area to be narrowed or foreign matter being attached because the wiring pattern 16 is narrowed.

【0030】パッケージの外面にソルダーレジスト等の
保護膜38を設けた後、ボンディング部と半導体素子と
の電気的接続を確実にするため、ボンディング部に下地
ニッケルめっきと金めっき37を施す。なお、この下地
ニッケルめっきと金めっき37は配線パターン16と導
通するランド部36aその他の配線パターン部分にも形
成される。図7は、上記工程後、外部接続端子40、ヒ
ートシンク42、回路部品44を取り付けた状態を示
す。こうして、回路基板10aを多層形成した半導体パ
ッケージが得られる。なお、キャビティ26の底面とな
る基板10bには孔あけ加工を施さず基板10bの外表
面にヒートシンク(放熱体)を接合してもよい。また、
本実施形態はキャビティダウン型の製品であるが、キャ
ビティ26の底面側に外部接続端子を接合するキャビテ
ィアップ型の形態とすることも可能である。
After providing a protective film 38 such as a solder resist on the outer surface of the package, nickel plating and gold plating 37 are applied to the bonding portion in order to ensure electrical connection between the bonding portion and the semiconductor element. The base nickel plating and the gold plating 37 are also formed on the land portion 36a and other wiring pattern portions that are electrically connected to the wiring pattern 16. FIG. 7 shows a state in which the external connection terminal 40, the heat sink 42, and the circuit component 44 are attached after the above steps. Thus, a semiconductor package in which the circuit boards 10a are formed in multiple layers is obtained. It should be noted that a heat sink (heat radiator) may be bonded to the outer surface of the substrate 10b without performing a hole-punching process on the substrate 10b that serves as the bottom surface of the cavity 26. Also,
Although this embodiment is a cavity-down type product, it may be a cavity-up type in which an external connection terminal is joined to the bottom surface side of the cavity 26.

【0031】上記実施形態では樹脂基板10として基材
の両面に銅箔11を被着したものを使用したが、片面に
のみ銅箔11を被着した樹脂基板を使用してもまったく
同様な工程によって半導体パッケージを形成することが
できる。この片面に銅箔11を設けた樹脂基板を使用す
る場合は、一方の面の銅箔11をエッチングして配線パ
ターン16を形成し、配線パターン16のボンディング
部を保護被膜30aで被覆した後に、同様に接着シート
14を用いて積層体を形成すればよい。
In the above-described embodiment, the resin substrate 10 has the base material coated with the copper foil 11 on both sides, but the resin substrate having the copper foil 11 coated on only one surface is used in the same steps. A semiconductor package can be formed by the method. When using the resin substrate having the copper foil 11 provided on one surface thereof, the copper foil 11 on one surface is etched to form the wiring pattern 16, and the bonding portion of the wiring pattern 16 is covered with the protective film 30a. Similarly, a laminated body may be formed using the adhesive sheet 14.

【0032】また、上記実施形態ではキャビティ26を
密閉する基板10bとして回路基板10a表面に樹脂基
板を積層して設けたが、樹脂基板を積層するかわりにキ
ャビティ26の外面の開口部周縁に樹脂基板や絶縁フィ
ルムなどを接合してキャビティ26を密閉し、キャビテ
ィ26を開口する際には、それら樹脂基板やフィルムを
剥離するなどしてキャビティ26を開口させてもよい。
キャビティ26を密閉する基板としては、このようにキ
ャビティ26を密閉する樹脂基板や絶縁フィルムを概念
として含むものである。また、キャビティを形成するた
めの開口を形成するという概念には、このようにキャビ
ティ26の開口部周縁に接合してキャビティ26を密閉
した樹脂基板やフィルムを剥離するといった方法も含む
ものとする。
Further, in the above embodiment, the resin substrate is laminated on the surface of the circuit board 10a as the substrate 10b for sealing the cavity 26. However, instead of laminating the resin substrate, the resin substrate is formed on the periphery of the opening of the outer surface of the cavity 26. When the cavity 26 is hermetically sealed by bonding an insulating film or the like and the cavity 26 is opened, the cavity 26 may be opened by peeling off the resin substrate or the film.
As a substrate for sealing the cavity 26, a resin substrate or an insulating film for sealing the cavity 26 is conceptually included. Further, the concept of forming an opening for forming a cavity also includes a method of peeling a resin substrate or a film which is thus bonded to the peripheral edge of the opening of the cavity 26 to seal the cavity 26.

【0033】上記実施形態では外部接続端子40として
はんだボールを使用したが、外部接続端子40としてリ
ードピンを使用することもできる。図8にリードピンを
使用した例を示す。リードピンを挿入する貫通孔は回路
基板を貫通してもよいし、回路基板の中途まで開口する
形状でもよい。
Although solder balls are used as the external connection terminals 40 in the above embodiment, lead pins can be used as the external connection terminals 40. FIG. 8 shows an example using a lead pin. The through hole into which the lead pin is inserted may penetrate the circuit board, or may have a shape that opens halfway through the circuit board.

【0034】上記説明では、説明上、一つのパッケージ
部分の構成を取り上げて説明したが、樹脂基板を用いて
実際に半導体パッケージを製造する場合は、一度に複数
個の半導体パッケージが製造できるように大判の樹脂基
板を使用して多数個取りの形式で製造する。したがっ
て、配線パターンのパターニング等は大判の基板に対し
て行い、レジストの塗布、接着シートを用いた基板の貼
り合わせも大判の基板で作業することになる。
In the above description, the structure of one package portion is taken up for explanation, but when actually manufacturing a semiconductor package using a resin substrate, it is possible to manufacture a plurality of semiconductor packages at one time. It is manufactured in a multi-cavity form using a large-sized resin substrate. Therefore, the patterning of the wiring pattern is performed on a large-sized substrate, and the application of a resist and the bonding of the substrates using an adhesive sheet are also performed on the large-sized substrate.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明に係る半導体パッケージの製造方
法によれば、上述したように、配線パターンのボンディ
ング部をあらかじめ保護被膜30aで被覆することによ
って、基板に平坦化印刷を施したり基板を接着シートで
接着したりする際に、配線パターンに異物が付着すると
いったことが防止でき、後工程で保護被膜30aを溶解
除去することにより所要のボンディング面積を確保する
ことができ、確実な電気的接続を可能にして信頼性の高
い半導体パッケージを得ることができる等の著効を奏す
る。
As described above, according to the method of manufacturing a semiconductor package of the present invention, by coating the bonding portion of the wiring pattern with the protective coating 30a in advance, flattening printing is performed on the substrate or the substrate is bonded. It is possible to prevent foreign matters from adhering to the wiring pattern when they are adhered with a sheet, and to dissolve and remove the protective coating 30a in a subsequent step to ensure a required bonding area, thus ensuring reliable electrical connection. It is possible to obtain a highly reliable semiconductor package, and so on.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】半導体パッケージの製造に用いる回路基板の製
法を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a method for manufacturing a circuit board used for manufacturing a semiconductor package.

【図2】基板を積層した積層体の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a laminate in which substrates are laminated.

【図3】基板の積層体に貫通孔を設けた状態の断面図で
ある。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which a through-hole is provided in a laminate of substrates.

【図4】貫通孔にめっきを施した状態の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state where plating is applied to a through hole.

【図5】基板の電解銅めっき被膜および銅箔をパターン
形成した断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view in which an electrolytic copper plating film and a copper foil on a substrate are patterned.

【図6】基板を孔あけ加工してキャビティを開口させた
状態の断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a state in which a substrate is perforated and a cavity is opened.

【図7】半導体パッケージの断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a semiconductor package.

【図8】外部接続端子としてリードピンを用いた半導体
パッケージの断面図である。
FIG. 8 is a sectional view of a semiconductor package using a lead pin as an external connection terminal.

【図9】多層半導体パッケージの従来の製法を示す説明
図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing a conventional method for manufacturing a multilayer semiconductor package.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10a 回路基板 10b 基板 11 銅箔 12 孔 14 接着シート 16 配線パターン 18 レジスト 20 貫通孔 26 キャビティ 30 感光性レジスト 30a 保護被膜 32 無電解銅めっき被膜 34 電解銅めっき被膜 37 金めっき 38 保護膜 40 外部接続端子 42 ヒートシンク 10a Circuit board 10b Board 11 Copper foil 12 Hole 14 Adhesive sheet 16 Wiring pattern 18 Resist 20 Through hole 26 Cavity 30 Photosensitive resist 30a Protective coating 32 Electroless copper plating coating 34 Electrolytic copper plating coating 37 Gold plating 38 Protective coating 40 External connection Terminal 42 heat sink

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 キャビティを形成する孔と前記孔の周縁
部にボンディング部を有する配線パターンとが設けられ
た複数の回路基板を各回路基板間に接着シートを介在さ
せて積層するとともに、これらの回路基板の最外層に前
記複数層の回路基板によって形成されたキャビティを密
閉する基板を接着シートを介して積層することにより積
層体を形成し、 該積層体に前記配線パターンと外部接続端子とを接続す
るための貫通孔を設け、該貫通孔にめっきを施した後、 前記キャビティの上面を密閉している基板にキャビティ
を形成するための開口を形成する半導体パッケージの製
造方法において、 前記各回路基板に設けられた前記配線パターンのボンデ
ィング部に保護被膜を被覆した後、前記回路基板を積層
し、 前記キャビティを開口した後、前記保護被膜を除去する
ことを特徴とする半導体パッケージの製造方法。
1. A plurality of circuit boards, each having a hole forming a cavity and a wiring pattern having a bonding portion at a peripheral portion of the hole, are laminated with an adhesive sheet interposed between the circuit boards, and A board for enclosing the cavity formed by the plurality of layers of circuit boards is laminated on the outermost layer of the circuit board via an adhesive sheet to form a laminated body, and the wiring pattern and the external connection terminals are formed on the laminated body. In the method of manufacturing a semiconductor package, wherein a through hole for connection is provided, plating is applied to the through hole, and then an opening for forming a cavity is formed in a substrate that seals the upper surface of the cavity. After covering the bonding portion of the wiring pattern provided on the substrate with a protective film, stacking the circuit boards and opening the cavity, The method of manufacturing a semiconductor package, which comprises removing the protective coating.
【請求項2】 キャビティの上面及び下面を密閉してい
る基板にキャビティを形成するための開口を形成するこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体パッケージの製造
方法。
2. The method of manufacturing a semiconductor package according to claim 1, wherein an opening for forming the cavity is formed in the substrate that seals the upper surface and the lower surface of the cavity.
【請求項3】 配線パターンのボンディング部に保護被
膜を被覆し、回路基板の表面にレジストを塗布して回路
基板の表面を平坦面に形成した後、接着シートを用いて
回路基板を積層することを特徴とする請求項1または2
記載の半導体パッケージの製造方法。
3. A method of laminating a circuit board using an adhesive sheet after coating a protective film on a bonding portion of a wiring pattern and applying a resist to the surface of the circuit board to form a flat surface on the circuit board. Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.
The manufacturing method of the semiconductor package described in the above.
【請求項4】 保護被覆は感光性レジストであることを
特徴とする請求項1、2または3記載の半導体パッケー
ジの製造方法。
4. The method for manufacturing a semiconductor package according to claim 1, 2 or 3, wherein the protective coating is a photosensitive resist.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6687984B1 (en) 1999-07-19 2004-02-10 Nippon Mektron, Ltd. Method for manufacturing flexible multilayer circuit board
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