JPH0980463A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、混色がなく、良好なカラー表示を行
うことができる液晶表示装置を提供することを目的とす
る。 【解決手段】それぞれの主面が平行になるように所定の
間隔をおいて配置された少なくとも３枚の基板と、前記
少なくとも３枚の基板のそれぞれの基板間であって前記
それぞれの基板の端部近傍に形成され、前記それぞれの
基板間を封止するシール部材と、前記それぞれの基板間
に封入された液晶材料とを具備し、前記シール部材は、
基板の外側に向かって突出する突出部を各基板間で少な
くとも１つ有し、各基板間における突出部が少なくとも
一部で重なっていることを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関
し、特にゲスト・ホスト（ＧＨ）液晶等を用いた液晶表
示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在実用化されている唯一の携帯用表示
装置は液晶表示装置である。この液晶表示装置は、薄型
で、低電圧駆動が可能であるので、腕時計、電卓等の表
示装置として広く使用されている。特に、ＴＮ型液晶表
示装置は、ＴＦＴ等のアクティブスイッチ素子を組み込
むことにより、ＣＲＴ並の表示特性を発揮できるので、
テレビ等にも用いられるようになってきている。しかし
ながら、ＴＮ型液晶表示装置は、偏光板を用いているた
め光利用効率が低い。このため、バックライトを使用し
て光量を補充しなければならないので、消費電力が大き
くなってしまう。

【０００３】バックライトを使用しない液晶表示装置と
して、反射型液晶表示装置がある。しかしながら、この
反射型液晶表示装置は、通常ＴＮ方式もしくはＳＴＮ方
式で駆動させるため偏光板が必要であり、このため偏光
板に光が吸収されて透過率が低くなる。さらに、反射型
液晶表示装置でカラー表示を行う場合には、カラーフィ
ルターを配置するために反射率が落ちる。また、カラー
表示を行う場合、１つの画素エリアをＲ，Ｇ，Ｂの３つ
の領域に分割しているために、画素当たりの光透過量が
原理的に１／３となり表示が暗くなる。

【０００４】一方、液晶表示装置には、偏光板を必要と
しない、二色性染料を用いたゲスト・ホスト（ＧＨ）型
液晶表示装置がある。ＧＨ液晶は、ランダムな配向を持
つために、原理的に視角依存性がない、このため、画面
が大きくなった場合でも、見る位置によって画面の上下
左右で色が変わったり、コントラスト比が落ちたりしな
い。また、画素エリアを３色に分割したりすることがな
く、偏光板が不要であるので表示が暗くなることがな
い。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このＧＨ型液晶表示装
置を用いてフルカラー表示を行う場合、各サブピクセル
に色の異なる液晶材料を配置するか、色の異なる３層以
上の液晶セルを積層することが必要となる。

【０００６】しかしながら、数種類の液晶セルを積層配
置することは実質上困難であり、特に３層以上に液晶セ
ルを積層する場合には、セルの組立、液晶注入、ドライ
バー実装等において製造上の問題が多い。特に、液晶注
入は各セルにそれぞれ異なる液晶を注入することにより
行われるので、あるセルに液晶を注入する際に、その液
晶が他のセルに注入されてしまい、セル内で混色が起
き、目的とするカラー表示を良好にすることができない
恐れがある。

【０００７】そこで、本発明の第１の目的は、混色がな
く、良好なカラー表示を行うことができる液晶表示装置
を提供することである。このＧＨ型液晶表示装置を駆動
する方法としては、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）ア
レイ基板上に隔壁を用いて３つのＧＨ液晶層を形成し、
さらに反射板を設け、ＴＦＴのソース電極と隔壁を貫通
する導電性部材により各層の各画素を独立に駆動する方
法がある。この方法によれば、各層にＴＦＴを形成する
必要がないので、有効画素面積を広くすることができ、
高精細化に有利である。また、この構造においては、隔
壁の厚さを薄くすることにより、斜めからの入射光に対
しての色のにじみの影響を少なくすることができる。

【０００８】しかしながら、このように基板間を隔壁に
より区画して液晶セルを構成する場合、隔壁の厚さが薄
いと、液晶セルに液晶を注入する際に発生するセル内外
の圧力差により、隔壁間隔がずれて液晶層の厚さが変わ
り、表示能力が低下したり、液晶セルが破損するという
問題がある。

【０００９】そこで、本発明の第２の目的は、液晶注入
時に液晶層の厚さが変わらず、液晶セルが破損せず、良
好な表示を行うことができ、しかも斜めからの入射光に
対しての色のにじみの影響を少なくすることができる液
晶表示装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】液晶セルに液晶材料を注
入する場合、毛細管現象を利用しているので、図４に示
すように、従来のように基板端部まで突出部３を延出さ
せても、突出部３の外側を回り込んで液晶材料が浸入し
てしまい、混色を起こす恐れがある。そこで、本発明者
らは、突出部３の形状を改良することにより、液晶材料
の回り込みを阻止して混色を防止できることを見出し本
発明の第１の発明をするに至った。

【００１１】すなわち、本発明の第１の発明は、それぞ
れの主面が平行になるように所定の間隔をおいて配置さ
れた少なくとも３枚の基板と、前記少なくとも３枚の基
板のそれぞれの基板間であって前記それぞれの基板の端
部近傍に形成され、前記それぞれの基板間を封止するシ
ール部材と、前記それぞれの基板間に封入された液晶材
料とを具備し、前記シール部材は、基板の外側に向かっ
て突出する突出部を各基板間で少なくとも１つ有し、各
基板間における突出部が少なくとも一部で重なるように
構成したことを特徴とする液晶表示装置を提供する。

【００１２】第１の発明において、基板端部近傍とは、
基板の周縁部であって表示領域以外の領域を意味する。
また、シール部材の材料としては、アクリル樹脂等の光
硬化性樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を用いるこ
とができる。

【００１３】第１の発明において、基板の外側に向かっ
て突出する突出部の数は多ければ多いほど効果が上がる
が、少なくとも複数あることが好ましい。特に、基板の
１辺に複数あることが好ましい。また、この突出部は、
液晶材料の回り込み防止およびギャップの均一性を保つ
ために、基板のすべての辺に設けられていることが望ま
しい。

【００１４】第１の発明において、１つの突出部は幅が
少なくとも０．５ｍｍであることが好ましい。これは、
突出部の幅が０．５ｍｍ未満であると、液晶材料の粘性
により効果が得られない場合があるからである。また、
突出部が基板端部から外側に向かって突出するはみ出し
量は少なくとも０．５ｍｍであることが好ましい。これ
は、はみ出し量が０．５ｍｍ未満であると、上記と同様
に、液晶材料の粘性により効果が得られない場合がある
からである。

【００１５】第１の発明において、各基板間における突
出部が少なくとも一部で重なるように構成する。すなわ
ち、すべての基板間における突出部の位置が重なる領域
を少なくとも有するように構成する。このような構成に
することにより、液晶注入の際の液晶材料の回り込みを
確実に阻止することができ、液晶材料の混色を防止する
ことができる。

【００１６】なお、第１の発明において、突出部はシー
ル部材の一部として形成されていてもよく、シール部材
と異なる材料で構成してもよい。第１の発明は、ＧＨ型
液晶表示装置に限定されるものではなく、他の積層型液
晶表示装置にも適用できる。

【００１７】本発明の第２の発明は、一方の基板の主面
に複数のスイッチング素子を有する第１の基板および前
記スイッチング素子と対向するように配置された第２の
基板からなる一対の基板と、電極および貫通穴を有し、
前記一対の基板間を液晶セルに区画する複数の隔壁と、
各液晶セルに封入された液晶材料と、前記貫通穴を通し
て前記スイッチング素子と前記電極とを電気的に接続す
る導電性部材とを具備し、前記導電性部材は、前記隔壁
間において前記貫通穴の寸法よりも大きい寸法の大径部
を有しており、前記大径部により前記隔壁を支持するこ
とを特徴とすることを特徴とする液晶表示装置を提供す
る。

【００１８】第２の発明において、スイッチング素子と
しては、ＴＦＴ、ＴＦＤ等を挙げることができ、ＴＦＴ
に用いる半導体材料としては、アモルファスシリコン、
ポリシリコン、カドミウムセレン、結晶シリコン等を用
いることができる。また、導電性部材の材料としては、
銅、ニッケル、鉄等を用いることができる。隔壁の材料
としては、ポリイミド、シリコン酸化物、シリコン窒化
物等を挙げることができる。また、電極とは、画素電極
および共通電極を意味する。

【００１９】第２の発明において、導電性部材は、貫通
穴を有する隔壁の間において貫通穴の寸法よりも大きい
寸法の大径部を有するように構成する。この大径部が隔
壁の貫通穴周辺を支持するので、液晶注入の際の破損を
防止することができる。大径部の寸法は、貫通穴の寸法
よりも大きければよく、その程度は特に制限しないが、
大径部の寸法が貫通穴の寸法よりも３〜３０μｍ程度大
きいことが好ましい。

【００２０】第１および第２の発明において、基板とし
ては、ガラス基板、プラスチック基板等を用いることが
できる。液晶材料としては、二色性染料を含むＧＨ液
晶、特に、アモルファスカイラルネマチック型ＧＨ液
晶、カプセル中に封入されたＧＨ液晶や高分子分散型液
晶等を用いることができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
参照して具体的に説明する。本発明の第１の発明の液晶
表示装置は、図１に示すように、ガラス基板１間にシー
ル部材２が介在されており、シール部材２には、ガラス
基板１端部から突出する複数（図面では３つ）の突出部
３が設けられている。この突出部３は、各ガラス基板間
においてほぼ同じ位置に設けられている。したがって、
突出部３は、厚さ方向においてすべて重なっている。

【００２２】突出部３が基板端部から突出し、厚さ方向
においてすべて重なっているので、各基板間の液晶材料
が他の基板間（隣接する層）に浸入する空間がなくな
り、液晶材料がガラス基板表面を伝わり隣接する層に回
り込むことを防止でき、これにより液晶材料の混色を防
止することができる。

【００２３】本発明の第２の発明の液晶表示装置は、貫
通穴を通してガラス基板に設けられたスイッチング素子
とその上方に位置する各隔壁に設けられた電極とを電気
的に接続する導電性部材を有し、導電性部材が、隔壁間
において貫通穴の寸法よりも大きい寸法の大径部を有し
ており、大径部により隔壁を支持するものである。

【００２４】液晶セルへの液晶材料の注入は、真空中に
おいて、液晶材料が入った容器中に液晶セルの注入口を
浸漬し、大気圧に戻すことで液晶材料を液晶セルに注入
する。ＧＨ型液晶表示装置のように液晶セルが多層であ
る場合には、異なる液晶材料を順番に注入することにな
るが、ある液晶セルに液晶材料が注入された状態で、次
の液晶セルに液晶材料を注入するために真空にしたと
き、液晶材料が注入された部分と注入されていない部分
とでは隔壁にかかる負荷が異なる。このため、ガラス基
板および隔壁を貫通する導電性部材を有する構成の場合
には、隔壁と導電性部材との密着性が悪い場合（接触面
積が小さい場合）には、隔壁が移動したり、液晶セルが
破損したりする。

【００２５】本発明の第２の発明によれば、各隔壁間に
おいて大径部を有して導電性部材と隔壁との間の接触面
積を大きくしているので、言い換えると導電性部材が隔
壁に食い込む形状となるため、隔壁の両側に圧力差が生
じた場合でも、導電性部材と隔壁との密着性が悪い場合
でも液晶セルの破損を防止できる。 （第１の実施形態）以下、第１および第２の実施形態
は、本発明の第１の発明に関するものである。

【００２６】厚さ０．５ｍｍの２枚のガラス基板上に、
それぞれ蒸着により厚さ２０００オングストロームのＩ
ＴＯ膜を形成し、このＩＴＯ膜上に厚さ２μｍのレジス
ト膜を形成し、ストライプ状にパターニングし、このレ
ジスト膜をマスクとしてＩＴＯ膜をエッチングしてＩＴ
Ｏ画素電極を形成した。

【００２７】次いで、厚さ０．３ｍｍの２枚のガラス基
板の両面に、それぞれ蒸着により厚さ２０００オングス
トロームのＩＴＯ膜を形成し、このＩＴＯ膜を上記と同
様にしてパターニングした。これらすべてのガラス基板
表面に、高プレチルト角のポリイミドを厚さ４００オン
グストロームで塗布し、これをオーブン中に投入して１
８０℃で６０分焼成した。このポリイミドにラビング配
向処理を施した。

【００２８】次いで、厚さ０．５ｍｍのすべてのガラス
基板の全辺にわたり２ｍｍ間隔で、基板端部から０．５
ｍｍはみ出すような幅０．５ｍｍの突出部をそれぞれ４
ヶ所有するようにシール部材を設けた。なお、シール部
材はスクリーン印刷法により形成した。なお、スクリー
ン印刷においては、ガラス基板を重ね合わせて液晶セル
を構成したときに突出部がすべての層で重なるように、
各ガラス基板のほぼ同じ位置に突出部が位置するように
印刷した。

【００２９】次いで、図２に示すように、厚さ０．５ｍ
ｍのガラス基板１ａのＩＴＯ膜面と厚さ０．３ｍｍのガ
ラス基板１ｂとの間にギャップを保持するための粒径１
０μｍのスペーサ４を散布して重ねた液晶セルを２組作
製し、さらに、２組の液晶セルの厚さ０．３ｍｍのガラ
ス基板１ｂ間にギャップを保持する粒径１０μｍのスペ
ーサ４を散布して重ね、各々のギャップを１０μｍとす
る３層液晶セルを作製した。なお、各液晶セル内では、
ラビング方向を２４０°ツイストに設定した。この際、
基板全辺全層にわたり、シール部材２には基板端面から
はみ出した４つの突出部３が形成された。

【００３０】最後に、この３層液晶セルに対して、それ
ぞれイエローＳＩ−４８６（三井東圧社製、商品名）、
マゼンタＧ−２０２（日本感光色素社製、商品名）、シ
アンＳＩ−４９７（三井東圧社製、商品名）の二色性染
料を溶解させた液晶ＺＬＩ−２２９３（メルク社製、商
品名、ｄ／ｐ＝０．９）を連続して注入した。この際、
複数の突出部により液晶材料の回り込みが阻止されたた
め、液晶材料の混色は起きなかった。 （第２の実施形態）厚さ０．５ｍｍの２枚のガラス基板
上に、それぞれ蒸着により厚さ２０００オングストロー
ムのＩＴＯ膜を形成し、このＩＴＯ膜上に厚さ２μｍの
レジスト膜を形成し、ストライプ状にパターニングし、
このレジスト膜をマスクとしてＩＴＯ膜をエッチングし
てＩＴＯ画素電極を形成した。

【００３１】次いで、厚さ０．３ｍｍの２枚のガラス基
板の両面に、それぞれ蒸着により厚さ２０００オングス
トロームのＩＴＯ膜を形成し、このＩＴＯ膜を上記と同
様にしてパターニングした。厚さ０．５ｍｍのガラス基
板２枚と厚さ０．３ｍｍのガラス基板１枚の表面に、厚
さ１０μｍのポリイミド膜を形成し、ポリイミド膜をパ
ターニングすることにより、各ガラス基板の画素領域の
同一の位置に厚さ１０μｍの柱を形成した。この柱は、
ギャップ保持用のスペーサの役割を果たす。

【００３２】次いで、厚さ０．５ｍｍのすべてのガラス
基板の全辺にわたり２ｍｍ間隔で、基板端部から０．７
ｍｍはみ出すような幅０．５ｍｍの突出部をそれぞれ４
ヶ所有するようにシール部材を設けた。なお、シール部
材はスクリーン印刷法により形成した。なお、スクリー
ン印刷においては、ガラス基板を重ね合わせて液晶セル
を構成したときに突出部がすべての層で重なるように、
各ガラス基板のほぼ同じ位置に突出部が位置するように
印刷した。

【００３３】次いで、これらすべてのガラス基板表面
に、高プレチルト角のポリイミドを厚さ４００オングス
トロームで塗布し、これをオーブン中に投入して１８０
℃で６０分焼成した。このポリイミドにラビング配向処
理を施した。

【００３４】次いで、図３に示すように、厚さ０．５ｍ
ｍのガラス基板１ａのＩＴＯ膜面と厚さ０．３ｍｍのガ
ラス基板１ｂとを重ね合わせて液晶セルを２組作製し、
さらに、２組の液晶セルの厚さ０．３ｍｍのガラス基板
１ｂを重ね合わせて、各々のギャップを１０μｍとする
３層液晶セルを作製した。なお、各液晶セル内では、ラ
ビング方向を２４０°ツイストに設定した。この際、基
板全辺全層にわたり、シール部材２には基板端面からは
み出した４つの突出部３が形成された。

【００３５】最後に、この３層液晶セルに対して、それ
ぞれイエローＳＩ−４８６（三井東圧社製、商品名）、
マゼンタＧ−２０２（日本感光色素社製、商品名）、シ
アンＳＩ−４９７（三井東圧社製、商品名）の二色性染
料を溶解させた液晶ＺＬＩ−２２９３（メルク社製、商
品名、ｄ／ｐ＝０．９）を連続して注入した。この際、
複数の突出部により液晶材料の回り込みが阻止されたた
め、液晶材料の混色は起きなかった。さらに、この実施
形態では、柱５により全面にわたってギャップが均一に
なり、表示性能が向上した。 （第３の実施形態）第３の実施形態は、本発明の第２の
発明に関するものである。

【００３６】図５は、本発明の第２の発明にかかるＧＨ
型液晶表示装置を示す概略図であり、図５（Ａ）は平面
図であり、図５（Ｂ）は図５（Ａ）のＡ−Ａ線に沿う断
面図である。図中１０はＴＦＴアレイ基板を示す。ＴＦ
Ｔアレイ基板（第１の基板）１０には、信号線１１とゲ
ート線１２が直交するようにして形成されており、その
交差部分にはＴＦＴ１３が設けられている。また、ＴＦ
Ｔアレイ基板１０上には、信号線１１と平行に複数の共
通電極１４が形成されている。

【００３７】ＴＦＴアレイ基板１０上方には、所定の間
隔をおいて第１〜第４の隔壁１５ａ〜１５ｄが配置され
ている。第１の隔壁１５ａのＴＦＴアレイ基板１０側に
は、拡散反射板１６が埋め込まれて形成されおり、第２
〜第４の隔壁１５ｂ〜１５ｄのＴＦＴアレイ基板１０側
には、共通電極１７が埋め込まれて形成されている。第
１〜第３の隔壁１５ａ〜１５ｃのＴＦＴアレイ基板１０
側の反対側には、画素電極１８が形成されている。

【００３８】各隔壁１５ａ〜１５ｄには、貫通穴が形成
されており、ＴＦＴ１３のソース電極から対向基板２１
にわたって厚さ方向に、すなわち基板および隔壁表面に
対して垂直な方向に導電性部材１９ａ，１９ｂが設けら
れている。この導電性部材１９ａにより、ＴＦＴ１３の
ソース電極および画素電極１８が電気的に接続されてお
り、導電性部材１９ｂにより、共通電極１４と共通電極
１７が電気的に接続されている。なお、この導電性部材
１９ａは画素毎に設けられている。また、導電性部材１
９ａ，１９ｂは、各隔壁間において貫通穴の寸法よりも
大きい寸法の大径部となるように形成する。

【００３９】各隔壁間の空隙部には、アモルファスカイ
ラルネマチックゲストホスト液晶２０が封入されてい
る。このようにして液晶表示装置が構成されている。図
６および図７は、上記構成を有する液晶表示装置の液晶
セル部分の製造工程を示す図である。

【００４０】まず、図６（Ａ）に示すように、ガラス基
板上にＴＦＴアレイを形成してＴＦＴアレイ基板１０を
作製する。ＴＦＴアレイ基板１０上に、スピンコート法
によりシリコン酸化膜２２を形成し、後に導電性部材１
９ａ，１９ｂとなる領域のシリコン酸化膜２２をエッチ
ングにより除去し、硫酸銅を用いた電気メッキ法により
銅２３を成長させる。

【００４１】次いで、図６（Ｂ）に示すように、スパッ
タリング法によりアルミニウムを成膜して拡散反射板１
６を形成し、後に導電性部材１９ａ，１９ｂとなる領域
に、上記銅２３の径より大きな径の穴をあけ、さらにス
ピンコート法によりシリコン酸化膜２２を形成する。さ
らに、導電性部材１９ａ，１９ｂとなる領域に、エッチ
ングにより上記銅２３の径より小さな径の穴をあけ、上
記電気メッキにより銅２３を成長させる。このようにし
てシリコン酸化膜２２により隔壁１５ａを形成する。

【００４２】次いで、図６（Ｃ）に示すように、画素電
極１８となる部分にスパッタリング法によりＩＴＯを成
膜し、図６（Ｂ）において成長させた銅２３の径程度の
穴を形成する。さらに、この上に昇華性レジスト２４
を、導電性部材１９ａ，１９ｂとなる領域に、図６
（Ａ）において成長させた銅２３程度の穴が形成される
ように塗布し、上記電気メッキにより銅２３を成長させ
る。これにより、銅２３と画素電極１８とを電気的に接
続する。

【００４３】次いで、図６（Ｄ）に示すように、スパッ
タリング法によりＩＴＯを成膜し、導電性部材１９ｂと
なる領域は銅２３と接触するように、導電性部材１９ａ
となる領域は銅２３と接触しないようにパターニングし
て共通電極１７を形成する。導電性部材１９ｂとなる領
域の共通電極１７に図６（Ｂ）において成長させた銅２
３程度の穴を形成し、スピンコート法によりシリコン酸
化膜２２を形成する。さらに、シリコン酸化膜２２の導
電性部材１９ａ，１９ｂとなる領域に図６（Ｂ）におい
て成長させた銅２３程度の穴を形成し、上記電気メッキ
により銅２３を成長させる。これにより、銅２３と共通
電極１７とを電気的に接続すると共に、シリコン酸化膜
２２により隔壁１５ｂを形成する。

【００４４】次いで、図７（Ａ）に示すように、図６
（Ｂ）〜（Ｄ）の操作を繰り返して隔壁１５ｃ，１５
ｄ、共通電極１７、画素電極１８を形成し、銅２３を成
長させて導電性部材１９ａ，１９ｂを形成する。

【００４５】次いで、図７（Ｂ）に示すように、この基
板を加熱することにより昇華性レジスト２４を昇華させ
て除去して液晶材料を注入する空隙を形成する。さら
に、最上部に保護用樹脂層２５を形成し、液晶注入口を
残して基板周辺を封着する。

【００４６】最後に、図７（Ｃ）に示すように、赤吸収
するシアン系色素染料を含有するアモルファスカイラル
ネマチックゲストホスト液晶２０ａを最下層の空隙に注
入し封着し、縁を吸収するマゼンダ系色素染料を含有す
る同液晶２０ｂを中間層の空隙に注入し封着し、青を吸
収するイエロー系色素染料を含有する同液晶２０ｃを最
上層の空隙に注入し封着する。

【００４７】このような構成においては、各隔壁間にお
いて大径部を有して導電性部材と隔壁との間の接触面積
を大きくしているので、液晶材料の注入の際に隔壁の両
側に圧力差が生じた場合でも液晶セルの破損を防止でき
る。

【００４８】上記のように、後に液晶材料が注入される
部分をレジスト材で形成し、積層工程が完了した後に、
レジストを除去して液晶材料が注入される空洞部を形成
する方法は、表示面から見た液晶間の画素電極のずれが
少なく、隔壁を薄くすることにおいて効果的である。

【００４９】なお、本実施形態においては、反射型液晶
表示装置について説明しているが、本発明の第２の発明
は、拡散反射板を有しない透過型液晶表示装置にも適用
することができる。また、シアン、マゼンダ、イエロー
の液晶セルの形成は、図６および図７に示すような薄膜
の積層により行ってもよく、シール状の隔膜を接着して
積層する方法で行ってもよい。また、ＩＴＯ膜は、スパ
ッタリング法以外に印刷法を用いて形成してもよい。ま
た、導電性部材の太さを部分的に変える方法としては、
本実施形態の他に、同一の太さの導電性部材を形成した
後に、陽極酸化法またはメッキ法により隔壁間の部分を
太くする方法でもよい。

【００５０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
装置は、所定の間隔をおいて配置された少なくとも３枚
の基板と、それぞれの基板の端部近傍に形成され、基板
間を封止するシール部材と、それぞれの基板間に封入さ
れた液晶材料とを具備し、シール部材は、基板の外側に
向かって突出する突出部を各基板間で少なくとも１つ有
し、各基板間における突出部が少なくとも一部で重なっ
ているので、混色がなく、良好なカラー表示を行うこと
ができるものである。

【００５１】また、本発明の液晶表示装置は、複数のス
イッチング素子を有する第１の基板および第１の基板と
対向するように配置された第２の基板からなる一対の基
板と、電極および貫通穴を有し、一対の基板間を液晶セ
ルに区画する複数の隔壁と、各液晶セルに封入された液
晶材料と、貫通穴を通してスイッチング素子と電極とを
電気的に接続する導電性部材とを具備し、導電性部材
は、隔壁間において貫通穴の寸法よりも大きい寸法の大
径部を有しており、大径部により隔壁を支持するので、
液晶注入時に液晶層の厚さが変わらず、液晶セルが破損
せず、良好な表示を行うことができ、しかも斜めからの
入射光に対しての色のにじみの影響を少なくすることが
できるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の発明にかかる液晶表示装置を示
す概略構成図。

【図２】本発明の第１の発明にかかる液晶表示装置を示
す断面図。

【図３】本発明の第１の発明にかかる液晶表示装置を示
す断面図。

【図４】従来の液晶表示装置のシール部の形状を説明す
るための図。

【図５】（Ａ）は本発明の第２の発明にかかる液晶表示
装置を示す平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＡ−Ａ線に沿う断
面図。

【図６】本発明の第２の発明にかかる液晶表示装置の製
造方法の前半を示す断面図。

【図７】本発明の第２の発明にかかる液晶表示装置の製
造方法の後半を示す断面図。

【符号の説明】

１ａ，１ｂ…ガラス基板、２…シール部材、３…突出
部、４…スペーサ、５…柱、１０…ＴＦＴアレイ基板、
１１…信号線、１２…ゲート線、１３…ＴＦＴ、１４，
１７…共通電極、１５ａ…第１の隔壁、１５ｂ…第２の
隔壁、１５ｃ…第３の隔壁、１５ｄ…第４の隔壁、１６
…拡散反射板、１８…画素電極、１９ａ，１９ｂ…導電
性部材、２０ａ，２０ｂ，２０ｃ…アモルファスカイラ
ルネマチックゲストホスト液晶、２１…対向基板、２２
…シリコン酸化膜、２３…銅、２４…昇華性レジスト、
２５…保護用樹脂層。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】それぞれの主面が平行になるように所定の
   間隔をおいて配置された少なくとも３枚の基板と、 前記少なくとも３枚の基板のそれぞれの基板間であって
   前記それぞれの基板の端部近傍に形成され、前記それぞ
   れの基板間を封止するシール部材と、 前記それぞれの基板間に封入された液晶材料とを具備
   し、 前記シール部材は、基板の外側に向かって突出する突出
   部を各基板間で少なくとも１つ有し、各基板間における
   突出部が少なくとも一部で重なるように構成したことを
   特徴とする液晶表示装置。
2. 【請求項２】一方の基板の主面に複数のスイッチング素
   子を有する第１の基板および前記スイッチング素子と対
   向するように配置された第２の基板からなる一対の基板
   と、 電極および貫通穴を有し、前記一対の基板間を液晶セル
   に区画する複数の隔壁と、 各液晶セルに封入された液晶材料と、 前記貫通穴を通して前記スイッチング素子と前記電極と
   を電気的に接続する導電性部材とを具備し、 前記導電性部材は、前記隔壁間において前記貫通穴の寸
   法よりも大きい寸法の大径部を有しており、前記大径部
   により前記隔壁を支持することを特徴とする液晶表示装
   置。