JPH0966283A - 電解槽 - Google Patents

電解槽

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JPH0966283A
JPH0966283A JP7224227A JP22422795A JPH0966283A JP H0966283 A JPH0966283 A JP H0966283A JP 7224227 A JP7224227 A JP 7224227A JP 22422795 A JP22422795 A JP 22422795A JP H0966283 A JPH0966283 A JP H0966283A
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rectangular
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electrode plates
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Application number
JP7224227A
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English (en)
Inventor
Nobuo Achinami
信夫 阿知波
Yoichiro Shimizu
陽一郎 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoshizaki Electric Co Ltd
Original Assignee
Hoshizaki Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hoshizaki Electric Co Ltd filed Critical Hoshizaki Electric Co Ltd
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  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 構造がシンプルでありながら、高濃度で高電
解効率の電解水を製造することが可能な電解槽を提供す
ること。 【構成】 一対の流入口11a,12aと流出口11b,12bを有す
る槽本体10と、槽本体の内部を前記流入口と前記流出口
が開口する一対の矩形反応室R1,R2 に二分する隔膜20
と、前記各反応室にて対向配設される一対の矩形電極板
30を備えて、両電極板30間を流れる被処理水が電解処理
されるようにした電解槽Aにおいて、電極板30の対向面
と隔膜20間に上下方向に延びる仕切40を設けて上下方向
に延びる複数の反応通路を形成し、隣合う各反応通路の
上端部と下端部を電極板30の背面と槽本体10間に形成し
た各連通路によって連通させて、各流入口11a,12aから
各流出口11b,12bに流れる被処理水が各反応通路を下か
ら上へと流れるようにし、また各反応通路の上端部に対
応して槽本体10にガス抜き通路を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被処理水を電解処
理するための電解槽に関する。
【0002】
【従来の技術】電解槽の一つとして、一対の流入口と一
対の流出口を有する槽本体と、この槽本体の内部を前記
流入口と前記流出口が開口する一対の矩形反応室に二分
する隔膜と、前記各矩形反応室にそれぞれ配設されて前
記隔膜を挟んで対向し前記槽本体を通して通電される一
対の矩形電極板を備えて、前記両矩形電極板間に電流を
流すことにより前記各流入口から前記両矩形電極板間を
通して前記各流出口に流れる被処理水を電解処理するよ
うにした電解槽があり、例えば特開平5−123676
号公報に示されている。また、特公平5−88319号
公報には、電解槽の反応室に被処理水を循環供給して高
濃度の電解水を製造するようにした電解槽が示されてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記特開平
5−123676号公報に示されている電解槽において
は、前記流入口と前記流出口が各矩形反応室の対角位置
に設けられていて、構成がシンプルではあるものの、各
流入口から矩形反応室に流入した被処理水は流入口から
流出口に対角線に沿って直線的に流れて各流出口から電
解槽外に排出されるため、矩形電極板の対向面全体が有
効に使用されず、高濃度で高電解効率の電解水を製造す
ることができないといった問題や、流れの悪い箇所にて
電解処理によって発生するガスの気泡が矩形電極板に付
着して排出され難く、この気泡によっても電解処理効率
が悪くなるといった問題がある。
【0004】一方、上記特公平5−88319号公報に
示されている電解槽においては、電解槽の反応室に被処
理水を循環供給して高濃度の電解水を製造することがで
きるものの、被処理水を循環供給するためにマニホール
ドを採用している。ところで、このマニホールドは槽本
体の外側に付設されているため、スペース的に不利であ
り、またマニホールドから循環供給される被処理水は各
供給用内管を通して上から下に流れるため、電解処理に
よって発生するガスの気泡が邪魔して電解効率が悪いば
かりか、上記マニホールド及び各供給用内管によって当
該電解槽が大型化されるとともに複雑化されるといった
問題がある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記した問題
に対処すべくなされたものであり、その目的は構造がシ
ンプルでありながら、高濃度で高電解効率の電解水を製
造することが可能な電解槽を提供することにあり、下方
に一対の流入口を有し上方に一対の流出口を有する槽本
体と、この槽本体の内部を前記流入口と前記流出口が開
口する一対の矩形反応室に二分する隔膜と、前記各矩形
反応室にそれぞれ配設されて前記隔膜を挟んで対向し前
記槽本体を通して通電される一対の矩形電極板を備え
て、前記両矩形電極板の対向面間に電流を流すことによ
り前記各流入口から前記両矩形電極板間を通して前記各
流出口に流れる被処理水を電解処理するようにした電解
槽において、前記各矩形反応室にて前記各矩形電極板の
対向面と前記隔膜間に上下方向に延びる仕切を設けて上
下方向に延びる複数の反応通路を形成し、一側で対向す
る両反応通路の各下端部に前記各流入口をそれぞれ連通
させるとともに他側で対向する両反応通路の各上端部に
前記各流出口をそれぞれ連通させ、かつ隣合う前記各反
応通路の上端部と下端部を前記各矩形電極板の背面と前
記槽本体間に形成した各連通路によって連通させて、前
記各流入口から前記各流出口に流れる被処理水が前記各
反応通路を下から上へと流れるようにし、また前記各流
出口に連通しない前記各反応通路の上端部に対応して前
記槽本体にガス抜き通路を設けたことを特徴とする。
【0006】また、下方に一対の流入口を有し上方に一
対の流出口を有する槽本体と、この槽本体の内部を前記
流入口と前記流出口が開口する一対の矩形反応室に二分
する隔膜と、前記各矩形反応室にそれぞれ配設されて前
記隔膜を挟んで対向し前記槽本体を通して通電される一
対の矩形電極板を備えて、前記両矩形電極板の対向面間
に電流を流すことにより前記各流入口から前記両矩形電
極板間を通して前記各流出口に流れる被処理水を電解処
理するようにした電解槽において、前記各矩形反応室に
て前記各矩形電極板の対向面と前記隔膜間に上下方向に
延びる仕切を設けて上下方向に延びる複数の反応通路を
形成し、一方の反応室の一側に形成された反応通路の下
端部に前記流入口を連通させるとともに他側に形成され
た反応通路の上端部に前記流出口を連通させ、また他方
の反応室の一側に形成された反応通路の上端部に前記流
出口を連通させるとともに他側に形成された反応通路の
下端部に前記流入口を連通させ、かつ隣合う前記各反応
通路の上端部と下端部を前記各矩形電極板の背面と前記
槽本体間に形成した各連通路によって連通させて、前記
各流入口から前記各流出口に流れる被処理水が前記各反
応通路を下から上へと流れるようにし、また前記各流出
口に連通しない前記各反応通路の上端部に対応して前記
槽本体にガス抜き通路を設けたことを特徴とする。この
場合において、前記槽本体を、前記各流入口と各流出口
と各ガス抜き通路を有し前記各矩形電極板と前記仕切を
収容して前記隔膜を挟んで接合される同一形状で一対の
シェルによって構成するのが望ましい。
【0007】
【発明の作用・効果】本発明による電解槽においては、
各流入口に被処理水が供給されると、被処理水は反応通
路と連通路を交互に通って各流出口に至り、両矩形電極
板間にて電解処理がなされて各流出口から槽外に流れ出
る。ところで、各反応通路は各矩形電極板の対向面と前
記隔膜間に上下方向に延びる仕切を設けて形成したもの
であり、また各連通路は各矩形電極板の背部を有効に活
用して各矩形電極板の背面と前記槽本体間に形成したも
のであるため、当該電解槽の構造はシンプルであり容易
かつ安価に製作することができる。
【0008】また、本発明による電解槽においては、被
処理水が各反応通路を下から上へと流れるようになって
いて、電解処理によって発生するガスの気泡が浮力と水
流により被処理水とともに各反応通路の上部に的確に導
かれて各ガス抜き通路または各流出口から槽外に排出さ
れるため、電解を阻害するガスの気泡が各反応通路に滞
留すること或いは連通路を通して次段の反応通路に流れ
込むことがなく、また被処理水が少なくとも二つの反応
通路を流れるようになっているため、高濃度で高電解効
率の電解水を製造することが可能である。
【0009】また、当該電解槽の一側で対向する両反応
通路の各下端部に各流入口をそれぞれ連通させるととも
に他側で対向する両反応通路の各上端部に各流出口をそ
れぞれ連通させるように構成した場合には、隔膜に作用
する水圧をバランスさせることができて、隔膜の撓みを
抑制することができ、隔膜と各矩形電極板間に反応通路
を的確に確保することができる。
【0010】一方、当該電解槽の一方の反応室の一側に
形成された反応通路の下端部に前記流入口を連通させる
とともに他側に形成された反応通路の上端部に前記流出
口を連通させ、また他方の反応室の一側に形成された反
応通路の上端部に前記流出口を連通させるとともに他側
に形成された反応通路の下端部に前記流入口を連通させ
るように構成した場合には、両矩形電極板間を流れる被
処理水の電導度を略均一化することができて、両矩形電
極板間の電流密度を略均一化することができ、矩形電極
板の局部短命化を防ぐことができる。また、この場合に
おいて、槽本体を、各流入口と各流出口と各ガス抜き通
路を有し各矩形電極板と仕切を収容して隔膜を挟んで接
合される同一形状で一対のシェルによって構成した場合
には、槽本体の各シェルを同一形状とすることができ、
部品の共通化を図ることができるとともに、矩形電極板
の局部短命化を防ぐことができる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の各実施形態を図
面に基づいて説明する。図1及び図2に示した本発明に
よる電解槽Aは、下方に一対の流入口11a,12aを
有し上方に一対の流出口11b,12bを有する槽本体
10と、この槽本体10の内部を流入口11a,12a
と流出口11b,12bが開口する一対の矩形反応室R
1,R2に二分する隔膜20と、各反応室R1,R2に
それぞれ配設されて対向する一対の矩形電極板30,3
0と、各反応室R1,R2にて各電極板30,30と隔
膜20間にそれぞれ配設された一対の仕切40,40を
備えている。
【0012】槽本体10は、図3に示した絶縁性樹脂に
よって形成したシェル12と、図4に示した絶縁樹脂材
料によって形成したシェル11と、これら両シェル1
1,12を接合固定する20個のボルト13,スプリン
グワッシャ14及びナット15(図1参照)等によって
構成されていて、各シェル11,12には一側と他側に
変位して各流入口11a,12aと各流出口11b,1
2bが形成されるとともに各電極板30,30を取付け
るための各段付孔11c,12cが形成されている。
【0013】また、各シェル11,12には、図3及び
図4にて示したように、対向面側に矩形の凹所11d,
12dが形成されていて、各凹所11d,12dの下端
には一対のロ字状の溝11e,12eと11f,12f
が略水平に形成され、また上端には横一文字状の溝11
g,12gと11h,12hが略水平に形成されてお
り、流入口側のロ字状の溝11e,12eは流入口11
a,12aの内端に直接連通し、流出口側の横一文字状
の溝11g,12gは流出口11b,12bの内端に直
接連通し、流出口側のロ字状の溝11f,12fと流入
口側の横一文字状の溝11h,12hは一対のくの字状
の溝11i,11jと12i,12jによって互いに連
通接続されている。
【0014】更に、各シェル11,12には、各仕切4
0,40を取付けるための上下一対の切欠11k,11
mと12k,12mと、上記した横一文字状の溝11
h,12hの中央上端を大気に連通させるためのガス抜
き溝(ガス抜き孔として構成して実施することも可能で
ある)11n,12nと、弾力性のあるシール部材1
6,17(図1参照)を取付けるための溝11p,12
pが形成されている。また各シェル11,12には20
個のボルト挿通孔11r,12rがそれぞれ形成されて
いる。なお、ガス抜き溝11n,12nに通気パイプを
立設して実施することも可能である。
【0015】隔膜20は、図1及び図2では厚く示され
ているが、実際には膜厚が0.12mmであってポリエス
テル不織布を骨材とする微孔性薄膜であり、図5にて示
したように、各シェル11,12と略同一寸法に裁断さ
れるとともに、各ボルト挿通孔11r,12rに略一致
するようにボルト挿通孔21が設けられており、図1に
て示したように組み付けられた状態では両シェル11,
12の周縁部によって液密的に挟持されるようになって
いる。
【0016】各電極板30は、図1,図2及び図6にて
示したように、矩形の電極板本体31と、これの略中央
背面に溶着したナット32によって構成されていて、各
シェル11,12の矩形の凹所11d,12dに入れて
各電極端子50をナット32にOリング51(電極端子
50に形成した環状溝に収容される)を介してねじ込む
ことにより各シェル11,12に密着して取付けられて
おり、取付けられた状態では各流入口11a,12aの
内端全部と各流出口11b,12bの内端半分と溝11
e,12eと11f,12fと11g,12gと11
h,12hの一部と溝11i,12iと11j,12j
の全部が覆われていて、各電極板本体31の背面と各溝
11i,12iと11j,12jによって連通路S1
c,S1dとS2c,S2dが形成されている。
【0017】各仕切40は、図1,図2,図6にて示し
たように、絶縁樹脂材料によって形成したものであり、
中間の薄肉部41の背面にて各電極板30の表面に当接
し、上下各段部42,43にて各電極板30の上下端面
に係合し、上下の厚肉部44,45にて各シェル11,
12の各切欠11k,11mと12k,12mに組み入
れられて嵌合固定されていて、各電極板30の対向面と
隔膜20間にて上下方向に延びて設けられており、各電
極板30と隔膜20の接触を防止する機能を有し、各電
極板30と隔膜20間に上下方向に延びる一対の反応通
路S1a,S2aとS1b,S2bを形成している。
【0018】各反応通路S1a,S2aは、下端にて各
流入口11a,12aに連通する各溝11e,12eに
連通し、上端にて各溝11h,12hに連通していて、
各連通路S1c,S1dとS2c,S2dと各溝11
f,12fを通して各反応通路S1b,S2bの下端に
連通している。一方、各反応通路S1b,S2bは、下
端にて各溝11f,12fに連通し、上端にて各流出口
11b,12bに連通する各溝11g,12gに連通し
ていて、各流入口11a,12aから各流出口11b,
12bに流れる被処理水は各反応通路S1a,S2aと
S1b,S2bを下から上へと流れるようになってい
る。
【0019】ところで、本実施形態の電解槽Aは、図3
及び図4に示した各シェル11,12に図2に示した各
Oリング51と各電極端子50を用いて各電極板30を
取付けた後に各ガイド40を組付けて例えば図6にて示
したように構成し、これらを隔膜20を介して液密的に
接合し、これを20個のボルト13,スプリングワッシ
ャ14及びナット15で固定することにより図1にて示
したように組立てられている。
【0020】上記のように構成した電解槽Aにおいて
は、各流入口11a,12aに被処理水が供給される
と、被処理水は各反応通路S1a,S2aと各連通路S
1c,S1dとS2c,S2dと各反応通路S1b,S
2bを通って各流出口11b,12bに至り、両電極板
30間にて電解処理がなされて各流出口11b,12b
から槽外に流れ出る。
【0021】ところで、上記した各反応通路S1a,S
2aとS1b,S2bは各電極板30の対向面と隔膜2
0間に上下方向に延びる仕切40を設けて形成したもの
であり、また各連通路S1c,S1dとS2c,S2d
は各電極板30の背部を有効に活用して各電極板30の
背面と槽本体10間に形成したものであるため、当該電
解槽Aの構造はシンプルであり容易かつ安価に製作する
ことができる。
【0022】また、本実施形態の電解槽Aにおいては、
被処理水が各反応通路S1a,S2aとS1b,S2b
を下から上へと流れるようになっていて、電解処理によ
って発生するガスの気泡が浮力と水流により被処理水と
ともに各反応通路S1a,S2aとS1b,S2bの上
部に的確に導かれて各ガス抜き溝11n,12nまたは
各流出口11b,12bから槽外に排出されるため、電
解を阻害するガスの気泡が各反応通路S1a,S2aと
S1b,S2bに滞留すること或いは各反応通路S1
a,S2aから連通路S1c,S1dとS2c,S2d
を通して次段の反応通路S1b,S2bに流れ込むこと
がなく、また被処理水が二つの反応通路S1a,S2a
とS1b,S2bを流れるようになっているため、高濃
度で高電解効率の電解水を製造することが可能である。
【0023】また、本実施形態の電解槽Aにおいては、
当該電解槽Aの一側で対向する両反応通路S1a,S2
aの各下端に各流入口11a,12aをそれぞれ連通さ
せるとともに他側で対向する両反応通路S1b,S2b
の各上端に各流出口11b,12bをそれぞれ連通させ
るように構成してあるため、隔膜20に作用する水圧を
バランスさせることができて、隔膜20の撓みを抑制す
ることができ、隔膜20と各電極板30間に反応通路S
1a,S2aとS1b,S2bを的確に確保することが
できる。
【0024】上記した実施形態においては、槽本体10
のシェル11,12を対称形状として実施したが、図7
に示したように、同一形状のシェル11を二つ用いて各
シェル11に電極板30と仕切40を組付け、これらを
隔膜20を介して接合することにより、一方の反応室の
一側に形成される反応通路の下端部に一方の流入口を連
通させるとともに他側に形成される反応通路の上端部に
一方の流出口を連通させ、また他方の反応室の一側に形
成される反応通路の上端部に他方の流出口を連通させる
とともに他側に形成される反応通路の下端部に他方の流
入口を連通させるように構成して本発明を実施すること
も可能である。この場合には、槽本体の各シェルを同一
形状とすることにより部品の共通化を図ることができる
とともに、両電極板30間を流れる被処理水の電導度を
略均一化することができて、両電極板30間の電流密度
を略均一化することができ、電極板30の局部短命化を
防ぐことができる。
【0025】上記各実施形態においては、各矩形反応室
R1,R2に仕切40によって二つの反応通路S1a,
S2aとS1b,S2bを形成するとともに、これら反
応通路S1a,S2aとS1b,S2bを電極板30の
背面と槽本体10間に形成した連通路S1c,S1dと
S2c,S2dによって連通させて、被処理水が各反応
通路S1a,S2aとS1b,S2bを下から上へと流
れるようにしたが、各矩形反応室R1,R2に複数の仕
切40によって三つ以上の反応通路を形成するととも
に、これら反応通路を電極板の背面と槽本体間に形成し
た連通路によって連通させて、被処理水が各反応通路を
下から上へと流れるようにして実施することも可能であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による電解槽の一実施形態を示す図6
の1−1線に沿って切断した縦断側面図である。
【図2】 図1に示した電解槽の分解図である。
【図3】 図1及び図2に示した左方のシェル単体の正
面図である。
【図4】 図1及び図2に示した右方のシェル単体の正
面図である。
【図5】 図1及び図2に示した隔膜単体の正面図であ
る。
【図6】 図1に示した右方のシェルに電極板と仕切を
組付けた状態の正面図である。
【図7】 本発明による電解槽の他の実施形態を示す分
解図である。
【符号の説明】
10…槽本体、11,12…シェル、11a,12a…
流入口、11b,12b…流出口、11n,12n…ガ
ス抜き溝(ガス抜き通路)、R1,R2…矩形反応室、
S1a,S2a,S1b,S2b…反応通路、S1c,
S1d,S2c,S2d…連通路、20…隔膜、30…
矩形電極板、40…仕切、A…電解槽。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下方に一対の流入口を有し上方に一対の
    流出口を有する槽本体と、この槽本体の内部を前記流入
    口と前記流出口が開口する一対の矩形反応室に二分する
    隔膜と、前記各矩形反応室にそれぞれ配設されて前記隔
    膜を挟んで対向し前記槽本体を通して通電される一対の
    矩形電極板を備えて、前記両矩形電極板の対向面間に電
    流を流すことにより前記各流入口から前記両矩形電極板
    間を通して前記各流出口に流れる被処理水を電解処理す
    るようにした電解槽において、前記各矩形反応室にて前
    記各矩形電極板の対向面と前記隔膜間に上下方向に延び
    る仕切を設けて上下方向に延びる複数の反応通路を形成
    し、一側で対向する両反応通路の各下端部に前記各流入
    口をそれぞれ連通させるとともに他側で対向する両反応
    通路の各上端部に前記各流出口をそれぞれ連通させ、か
    つ隣合う前記各反応通路の上端部と下端部を前記各矩形
    電極板の背面と前記槽本体間に形成した各連通路によっ
    て連通させて、前記各流入口から前記各流出口に流れる
    被処理水が前記各反応通路を下から上へと流れるように
    し、また前記各流出口に連通しない前記各反応通路の上
    端部に対応して前記槽本体にガス抜き通路を設けたこと
    を特徴とする電解槽。
  2. 【請求項2】 下方に一対の流入口を有し上方に一対の
    流出口を有する槽本体と、この槽本体の内部を前記流入
    口と前記流出口が開口する一対の矩形反応室に二分する
    隔膜と、前記各矩形反応室にそれぞれ配設されて前記隔
    膜を挟んで対向し前記槽本体を通して通電される一対の
    矩形電極板を備えて、前記両矩形電極板の対向面間に電
    流を流すことにより前記各流入口から前記両矩形電極板
    間を通して前記各流出口に流れる被処理水を電解処理す
    るようにした電解槽において、前記各矩形反応室にて前
    記各矩形電極板の対向面と前記隔膜間に上下方向に延び
    る仕切を設けて上下方向に延びる複数の反応通路を形成
    し、一方の反応室の一側に形成された反応通路の下端部
    に前記流入口を連通させるとともに他側に形成された反
    応通路の上端部に前記流出口を連通させ、また他方の反
    応室の一側に形成された反応通路の上端部に前記流出口
    を連通させるとともに他側に形成された反応通路の下端
    部に前記流入口を連通させ、かつ隣合う前記各反応通路
    の上端部と下端部を前記各矩形電極板の背面と前記槽本
    体間に形成した各連通路によって連通させて、前記各流
    入口から前記各流出口に流れる被処理水が前記各反応通
    路を下から上へと流れるようにし、また前記各流出口に
    連通しない前記各反応通路の上端部に対応して前記槽本
    体にガス抜き通路を設けたことを特徴とする電解槽。
  3. 【請求項3】 前記槽本体を、前記各流入口と各流出口
    と各ガス抜き通路を有し前記各矩形電極板と前記仕切を
    収容して前記隔膜を挟んで接合される同一形状で一対の
    シェルによって構成したことを特徴とする請求項2に記
    載の電解槽。
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