JPH0963140A - 光磁気ディスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 複屈折性を有するディスク基板を用いて製造
された光磁気ディスクに付着した塵埃や汚れ等の異物に
起因する光磁気信号のノイズを排除する。 【構成】 複屈折性を有するディスク基板７ａに記録面
７ｂを形成した構造の光磁気ディスク７からの反射光２
０６（収束光２０９）を偏光ビームスプリッタ１６によ
って偏光面がお互いに直交する２つのＰ偏光２１０ｐと
Ｓ偏光２１０ｓに分離して光検出器５１と光検出器５２
の各々で検出し、両者の出力の差分を取る差動検出法に
よって光磁気ディスク７の情報を読み出す光磁気ディス
ク装置において、偏光ビームスプリッタ１６に入射する
収束光２０９の光路上に正の一軸異方性結晶からなる複
屈折補正手段１７を配置し、ディスク基板７ａにより生
じた収束光２０９内の位相差を補正し、補正光束２１０
として偏光ビームスプリッタ１６に入射させ、光磁気デ
ィスク７上の塵埃等に起因する差動信号のノイズを排除
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光磁気ディスク装置に
関し、特に、複屈折性を有するディスク基板を用いて製
造された光磁気ディスクを記録媒体として用いる光磁気
ディスク装置に適用して有効な技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光磁気ディスク装置としては、例
えば、特開昭６２−６５２５５号公報に開示されるもの
が知られている。図２３は、同公報において第１図とし
て開示された光磁気ディスクと読み取り光学系の概略図
である。

【０００３】レーザ素子である半導体レーザ（３）から
発射された光束は、コリメートレンズ（４）によって平
行光となり、整形プリズム（５）でレーザ光の強度の非
等方性を等方性に変換された後、第１のビームスプリッ
タ（６）を透過し、ミラー（７）によって進行方向を変
えられた後、対物レンズ（８）によって光磁気ディスク
（１）に照射される。光磁気ディスク（１）は、例え
ば、図１５に例示されるように透明基板（１ａ）に磁気
光学的記録媒体（１ｂ）を形成した構造となっており、
光磁気ディスク（１）に入射するレーザ光は、透明基板
（１ａ）を透過し磁気光学的記録媒体（１ｂ）（以後、
記録面（１ｂ）と記す）に照射される。図１５のような
基板にポリカーボネートを用いた光磁気ディスク（１）
の構造は、例えば、株式会社ラジオ技術社、平成４年７
月２０日発行「光ディスク技術」Ｐ３３０等の文献に記
載がある。

【０００４】光磁気ディスク（１）からの反射光は、対
物レンズ（８）、ミラー（７）を経てビームスプリッタ
（６）で反射され、第２のビームスプリッタ（９）に向
かう。ビームスプリッタ（９）の反射面は、所定の光透
過率及び反射率を有しており、入射した光束は透過光と
反射光に２分される。

【０００５】このうち透過光は検出レンズ（１６）を介
した後、シリンドリカルレンズ（１７）を経て非点収差
が与えられ、ＰＩＮダイオード（１８）に入射して非点
収差法によるフォーカス誤差検出に用いられる。また、
ＰＩＮダイオード（１８）により、例えばプッシュプル
法によるトラッキング誤差検出が行われる。

【０００６】一方、第２のビームスプリッタ（９）を反
射した反射光は、２分の１波長板（１１）を通過するこ
とで偏光を４５度回転された後、レンズ（１２）で収束
光とされ偏光ビームスプリッタ（１３）に入射し、偏光
がお互いに直交する２つの光束に分離され、それぞれＡ
ＰＤフォトダイオード（１４）及び（１５）に入射す
る。そしてＡＰＤフォトダイオード（１４）、（１５）
の検出信号を図示しない差動増幅器等の減算器で差をと
る検出法、すなわち差動検出法により、光磁気ディスク
（１）に記録された光磁気信号を再生している。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のような
従来の光学ヘッドでは、図１５に示すように光磁気ディ
スク（１）の複屈折性を有する透明基板（１ａ）上に塵
埃等が付着している場合、光磁気信号が変動する。この
変動は塵埃の大きさ、透明基板（１ａ）上に入射する光
束内の塵埃の位置、さらに透明基板（１ａ）の複屈折値
により変化し、最悪の場合、図１６に示すように光磁気
信号のＤＣレベルがＳ字状になる。以下、これについて
図面を用いて説明する。

【０００８】一般に光磁気ディスクの透明基板材料に
は、安価で量産性のよいポリカーボネート基板（以後、
ＰＣ基板）が使われる。ＰＣ基板は複屈折性を有してい
る。図１７に、ＰＣ基板の複屈折性を表す屈折率楕円体
（偏光方向による屈折率の分布）２１２を示す。ＰＣ基
板の屈折率楕円体２１２は、光学軸方向が板厚方向で異
常光の屈折率Ｎｅが常光の屈折率Ｎｏより小さい負の一
軸異方性媒体として表すことができる（正確にはディス
クの面内における半径方向の屈折率と接線方向の屈折率
が異なる２軸異方性媒体であり、光学軸も板厚方向と若
干ずれている。）。

【０００９】図１８は、上記従来技術における光学ヘッ
ド（図２３、図１５）の平行光束１００が対物レンズ
（８）より記録面（１ｂ）上に集光され、再び反射され
た後、上述の負の一軸異方性媒体であるＰＣ基板等を通
過する際に、光束内の任意の位置の光の入射方向の屈折
率と入射直線偏光を模式的に示したものである。図にお
いて、中心の光束は負の一軸異方性媒体の光学軸方向か
らの入射光束であるので屈折率は円形分布３００とな
る。それ以外の光束は、図１５で示したように透明基板
（１ａ）の板厚方向に対して斜めに進行する。よって負
の一軸異方性媒体の光学軸方向以外の入射光束となるの
で屈折率は楕円分布３０１となる。また、この楕円の楕
円率（長軸と短軸の比）は光束の外周の光ほど光学軸に
対して大きな傾きで負の一軸異方性媒体を進行するた
め、屈折率の楕円率は大きくなる。すなわち楕円の長軸
は図１７に示した負の一軸異方性媒体の屈折率Ｎｅであ
り、外周の光の楕円の短軸は屈折率Ｎｅから外周位置に
応じて小さくなり、この変化量は透明基板（１ａ）に対
する入射角α（図１５）に依存している。

【００１０】図１９は、前述の従来技術における光学ヘ
ッド（図２３、図１５）の対物レンズ（８）により平行
光束１００が、収束光１０１に変換され、図１８の屈折
率分布を与える透明基板（１ａ）を透過し記録面（１
ｂ）上に照射された後、再び光磁気ディスク（１）を反
射し対物レンズ（８）により平行光に変換された反射光
束１０２内において、ある半径における偏光状態を模式
的に示したものである。図において、半径方向、または
接線方向に対応する偏光は、光磁気ディスク（１）に入
射した平行光束１００の偏光状態（図１８）が保持され
た直線偏光１０２ａ（ここで磁気光学効果による偏光面
の回転は無しとしている）である。しかし半径方向、ま
たは接線方向以外の領域の偏光は楕円偏光１０２ｂとな
る。図において実際の楕円偏光の位相差（長軸の方向と
楕円率）は入射光束の位置すなわち、透明基板（１ａ）
に対する入射角α（図１５）、または入射偏光方向との
角度β（図１９）に応じて異なる。

【００１１】以上説明した、図１９に示される偏光状態
の乱れ、すなわち偏光分布のある反射光束１０２が、差
動検出系（図２３における第２のビームスプリッタ
（９）の反射光学系）に入射し、検光子である偏光ビー
ムスプリッタ（１３）で反射された光束１０３と透過し
た光束１０４となるとき、その強度分布は図２０のよう
にお互いに異なる明暗の強度分布となる。よって図に示
したように透明基板（１ａ）上の塵埃の影響による光量
の低下が、光束１０３と光束１０４によって異なる。す
なわち図２０の位置に塵埃がある場合、光束１０３は塵
埃により強度の明部を遮光（図２０における領域１０３
ｘ，１０３ｙ）されることになるため光量の低下が大き
い。これに対して光束１０４は塵埃により強度の暗部を
遮光（図２０における領域１０４ｘ，１０４ｙ）される
ため光量の低下は少ない。なお、図において塵埃による
遮光部が光束中に２か所あるのは，図における１つの塵
埃が光束中心よりずれた位置にあるためである。すなわ
ち光束を入射光束側（記録面（１ｂ）に到達する前）で
遮光する領域１０３ｘ，１０４ｘと、ディスク反射後の
光束を遮光する領域１０３ｙ，１０４ｙとが生ずるため
である。よって図２０の塵埃の位置が光磁気ディスク
（１）の回転により移動し、図２１の位置に塵埃がきた
場合、図２０とは反対に光束１０３は塵埃により強度の
暗部を遮光（領域１０３ｘ’，１０３ｙ’）されるため
光量の低下は少なく、光束１０４は強度の明部を遮光
（領域１０４ｘ’，１０４ｙ’）されるために光量の低
下は大きくなる。よって、光束１０３と光束１０４がそ
れぞれＡＰＤフォトダイオード（１４）と（１５）に入
射したのち、減算器により減算された光磁気信号は、図
１６に示すように光磁気信号のＤＣレベル（なお一般に
は光学的にはこのＤＣレベルは差動検出する場合０レベ
ルとなる。）がＳ字状になる。一般に光磁気信号の波形
をデータ信号に復調する信号処理として、図２２に示す
ように光磁気信号を所定のスライスレベル（信号の中心
で信号を対称にスライスするレベル）で２値化（Ｈｉｇ
ｈレベル、Ｌｏｗレベル）し方形波パルス信号に変換す
る。よって上述したような要因で光磁気信号のＤＣレベ
ルが変動するとスライスレベルに対して光磁気信号の中
心にズレが生じ（信号を非対称にスライスする）、結果
的に光磁気信号を正しく２値化した方形波パルスに変換
することが出来なくなり信号検出誤りとなるという課題
があった。

【００１２】このため、前述の従来技術では、光ヘッド
の検出光学系（平行光束）中に透明基板（１ａ）で発生
する複屈折を補正するために位相補正板（１０）を設け
た構成となっている。

【００１３】しかしながら、透明基板（１ａ）で発生す
る反射光束内の位相差は一定位相差でなく、図１９に例
示されるような分布を有しているため、前記従来技術の
ように、検出光学系に至る平行光中に一定位相差を発生
させる位相補正板（１０）を配置した技術では補正でき
ない、という技術的課題が依然として残る。

【００１４】本発明の目的は、透明基板として複屈折性
を有する物質を用いた光磁気ディスクを記録媒体とする
場合、光磁気ディスクに対する塵埃や汚れ等の異物の付
着に影響されることなく、正確に記録情報の読み出しを
行うことが可能な光磁気ディスク装置を提供することに
ある。

【００１５】本発明の他の目的は、透明基板として複屈
折性を有する物質を用いた光磁気ディスクを記録媒体と
する場合、読み取り信号を処理するソフトウェアを煩雑
化することなく、光磁気ディスクに付着した塵埃や汚れ
等の異物に起因するノイズを排除して正確に記録情報の
読み出しを行うことが可能な光磁気ディスク装置を提供
することにある。

【００１６】本発明のさらに他の目的は、光磁気ディス
クに対する塵埃や汚れ等の異物の付着に影響されること
なく、塵埃等の多い劣悪な使用環境下で、正確に記録情
報の読み出しを行うことが可能な光磁気ディスク装置を
提供することにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明は、光磁気ディス
クからの反射光束より光磁気信号を検出する検出光学系
を備えた光学ヘッドを含む光磁気ディスク装置におい
て、光磁気ディスクから反射され、検出光学系内に具備
された検光子に至るまでの反射光束の光路中に光学的異
方性を有する複屈折補正手段を配置したものである。複
屈折補正手段としては、例えば、正または負の一軸異方
性媒体を用いることができる。また、使用する一軸異方
性媒体の物性に応じて、複数の一軸異方性媒体を貼り合
わせた構造のものを用いることができる。

【００１８】

【作用】上記した本発明の光磁気ディスク装置によれ
ば、光磁気ディスクを構成する複屈折性を有する物質を
通過して検出光学系に入射する反射光の光軸の回りにお
ける偏光量の分布の不均一な状態が、検出光学系の手前
の反射光の光路上に配置された複屈折補正手段によって
打ち消され、反射光の光軸の回りにおける光量の分布が
均一になる。このため、例えば、光磁気ディスクからの
反射光を分岐させて二つの光検出器で光量を検出し、両
者の差分を読み出し信号とする差動検出を行う場合、光
磁気ディスク上の塵埃や汚れ等の異物に起因する反射光
内の影による光量低下が、二つの光検出器の各々におい
て等しくなるので、検出信号レベルの変動の発生が抑止
され、光磁気ディスク上の塵埃や汚れ等の異物の存在に
影響されることなく、光磁気ディスクに記録された情報
を正確に読み出すことが可能になる。

【００１９】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しながら
詳細に説明する。

【００２０】（実施例１）図１は本発明の一実施例であ
る光磁気ディスク装置における光学ヘッドの構成の一例
を示す概念図である。

【００２１】図１において、レーザ素子である半導体レ
ーザ１（半導体レーザのノイズを低減するための高周波
重畳回路１ａ付き）から発射された光束２００は、コリ
メートレンズ２によって平行光束２０１となり、ビーム
整形プリズム３によりレーザ光の強度の非等方性を補正
されて、等方性の平行光束２０２に変換される。

【００２２】ビーム整形プリズム３から出射される平行
光束２０２は、反射ミラー１９で光路を９０度偏向さ
れ、第１のビームスプリッタ４の第１の反射面４ａに入
射する。ビームスプリッタ４の第１の反射面４ａは、Ｐ
偏光とＳ偏光とで反射率及び透過率が異なり、例えばＰ
偏光透過率Ｔｐ≒0.７，Ｐ偏光反射率Ｒｐ≒0.３，Ｓ偏
光透過率Ｔｓ≒０，Ｓ偏光反射率Ｒｓ≒１の偏光特性を
有する。第１の反射面４ａに入射した平行光束２０２
（Ｐ偏光）は透過光２０３と反射光２０４に２分され
る。

【００２３】このうち反射光２０４は開口を有する遮光
部材３３（特に図示しないが本実施例では円形開口）に
入射し開口部を透過した光束２０５が光検出器３２に入
射する。また光検出器３２は迷光対策（入射面において
反射される必要とされない光、すなわち迷光を半導体レ
ーザ１や他の光検出器内に入射させないようにする対
策）として光束２０５に対して傾斜して配置されてい
る。なお、遮光部材３３は必ずしも必要でなく反射光２
０４を直接、光検出器３２に導いてもよいし、レンズ等
を用いた構成でもよい。なお光検出器３２を用いて半導
体レーザ１から発射される光束２００の光強度が制御さ
れる。これについては本発明と本質的に関係無いので説
明は省略する。

【００２４】一方、上記第１のビームスプリッタ４の第
１の反射面４ａを透過した透過光２０３は反射ミラー５
によって進行方向を変えられた後、対物レンズ６によっ
てディスク回転系２０（スピンドルモータ等）に装着さ
れた光磁気ディスク７に照射される。光磁気ディスク７
は、例えば、図１５に例示されるように、透明なポリカ
ーボネート等の素材からなるディスク基板７ａの上に磁
気光学的記録媒体からなる記録面７ｂを形成し、さらに
保護膜７ｃによって記録面７ｂを覆った構成となってい
る。そして、光磁気ディスク７に照射される透過光２０
３は、透明なディスク基板７ａを経て記録面７ｂに照射
される。

【００２５】なお本実施例の光学ヘッドは、反射ミラー
５、対物レンズ６、および対物レンズ６をフォーカス方
向（図におけるＺ軸）とトラック方向（図におけるＹ
軸）の２軸に対物レンズ６の位置を駆動制御する２次元
アクチュエータ１５９と、それらを搭載するキャリッジ
１６０のみをアクセス系（機構系及び制御系、図示せ
ず）を用いて光磁気ディスク７のアクセス方向（図にお
けるＹ軸）に内周位置から外周位置まで可動にし、他の
光学部品等は固定（以後、この光学系を固定光学系と記
す。）する分離型光ヘッドである。

【００２６】光磁気ディスク７からの反射光２０６は、
対物レンズ６、反射ミラー５を経てビームスプリッタ４
の第１の反射面４ａで反射され、第２の反射面４ｂに向
かう。ビームスプリッタ４の第２の反射面４ｂは、Ｐ偏
光とＳ偏光とで反射率及び透過率が異なる、例えばＰ偏
光透過率Ｔｐ≒0.６，Ｐ偏光反射率Ｒｐ≒0.４，Ｓ偏光
透過率Ｔｓ≒０、Ｓ偏光反射率Ｒｓ≒１の偏光特性を有
する。第２の反射面４ｂに入射した反射光２０６は透過
光２０７と反射光２０８に２分される。

【００２７】ビームスプリッタ４の第２の反射面４ｂを
透過した透過光２０７は、回折格子２７を経て検出レン
ズ２９によって収束光となり、円筒レンズ４０（非点収
差発生手段）でフォーカス誤差検出のための非点収差を
与えられた後、光検出器３０に入射する。以下に、光検
出器３０を用いてのサーボ信号（フォーカス誤差信号及
びトラッキング誤差信号）の検出について説明する。

【００２８】まず、図５、図６を用いて、回折格子２７
について説明する。図５は回折格子２７の構成を示した
正面図である。回折格子２７は、格子を有していない帯
状の平坦領域２７ａと、その平坦領域２７ａを挾んで格
子線の方向２７ｄ，２７ｅが互いに異なる２つの格子領
域２７ｂ，２７ｃ（本実施例の格子線の方向２７ｄと２
７ｅの成す角度は略９０度である）を有している。すな
わち格子を有していない帯状の平坦領域２７ａと格子領
域２７ｂまたは格子領域２７ｃとの二つの境界線２７ｆ
と境界線２７ｇは平行であり、その２つの境界線の中央
２７ｈに光磁気ディスク７の情報トラック（図示せず）
の、回折格子２７への投影された像の方向２２０が一致
するように配設される。従って、図６に示すように、入
射する透過光２０７の内、中央部の光は帯状の格子の無
い平坦領域２７ａに入射し、ディスク基板７ａの情報ト
ラックでの０次回折光と＋１次回折光が干渉する部分２
０７ａをほぼ含む略半円が一方の格子領域２７ｂに入射
し、ディスク基板７ａの情報トラックでの０次回折光と
−１次回折光が干渉する部分２０７ｂをほぼ含む略半円
が他方の格子領域２７ｃに入射する。この２つの格子領
域２７ｂ，２７ｃからの±１次回折光をそれぞれ検出
し、その強度を比較することにより、プッシュプル法に
よるトラッキング誤差信号を得ることができる。また、
前記回折格子の中央部の平坦領域２７ａの光と２つの格
子領域２７ｂ，２７ｃの０次回折光、すなわち直接透過
光を用いて非点収差法によるフォーカス誤差信号を検出
できる。

【００２９】また図示のように、回折格子２７の直接透
過光の透過率は、回折格子２７の格子領域間の中央の平
坦領域２７ａが高く（本実施例ではほぼ1.０）、２つの
格子領域２７ｂ，２７ｃは低い（本実施例ではほぼ0.
５）。よって、結果的に直接透過光はディスク基板７ａ
の情報トラックでの０次回折光と±１次回折光が干渉す
る部分２０７ａ，２０７ｂの強度が低下するため、フォ
ーカス誤差信号へのトラック横断信号の混入を低減でき
る長所がある。これについても本発明と本質的に関係無
いのでここでの詳細説明は省略する。

【００３０】次に、図７を用いて光検出器３０を詳細に
説明する。図７は光検出器３０の構成を詳細に示した正
面図と、各信号を得るための演算回路とをそれぞれ示し
ている。光検出器３０は、中央に４分割された受光領域
３０ａ〜３０ｄを有し、その周囲にそれぞれ独立した受
光領域３０ｅ〜３０ｈを有している。

【００３１】回折格子２７の中央部の平坦領域２７ａの
光と２つの格子領域２７ｂ，２７ｃの０次回折光、即
ち、直接透過光は、光検出器３０の４分割の受光領域３
０ａ〜３０ｄに光スポット３１として入射する。従っ
て、受光領域３０ａ、３０ｃからの光電流と、受光領域
３０ｂ、３０ｄからの光電流とを、電流電圧変換器（図
示せず）で電圧に変換した後、減算器４２（差動増幅
器）に入力することにより、非点収差法によるフォーカ
ス誤差信号を得ることができる。

【００３２】一方、格子領域２７ｂで回折された±１次
回折光は、それぞれ光検出器３０の受光領域３０ｆ、３
０ｈに光スポット４１ｆ，４１ｈとして入射する。格子
領域２７ｃで回折された±１次回折光は、それぞれ光検
出器３０の受光領域３０ｅ、３０ｇに光スポット４１
ｅ，４１ｇとして入射する。従って、受光領域３０ｅ、
３０ｇからの光電流と、受光領域３０ｆ、３０ｈからの
光電流とを、電流電圧変換器（図示せず）で電圧に変換
した後、減算器４４（差動増幅器）に入力することによ
り、プッシュプル法によるトラッキング誤差信号を得る
ことができる。またトラッキング誤差信号はこのとき受
光領域３０ｈと３０ｇの入射光強度信号の差、または受
光領域３０ｅと３０ｆの入射光強度信号の差からも得ら
れる。

【００３３】図６において、受光領域３０ｅ〜３０ｈ上
の光スポット４１ｅ〜４１ｈの像の略半円形状は回折格
子２７上の形状に対して９０度回転しているが、これは
円筒レンズ４０によって非点収差が与えられているため
である。受光領域３０ｅ〜３０ｈによって検出するのは
像の形状ではなく各領域に入射する光量であるため、像
の形状が変化してもなんら問題はない。

【００３４】また、受光領域３０ｅ〜３０ｈの入射光強
度信号の和、または受光領域３０ｅと３０ｆの入射光強
度信号の和、或いは、受光領域３０ａ〜３０ｄの入射光
強度信号の和、さらに、全受光領域３０ａ〜３０ｈの総
和からピット信号等の情報信号を得ることも出来る。

【００３５】以上、詳細に説明したように本実施例の光
学ヘッドは、非点収差法によるフォーカス誤差信号とプ
ッシュプル法によるトラッキング誤差信号を１系統の光
学系で一括して検出することが出来る。

【００３６】次に、ビームスプリッタ４の第２の反射面
４ｂを反射した反射光２０８から光磁気信号を検出する
検出光学系においてディスク基板７ａにより生じたディ
スク反射光である反射光２０８内の位相差補正について
説明する。

【００３７】図１において、ビームスプリッタ４の第２
の反射面４ｂを反射した反射光２０８は、レンズ１５で
収束光２０９とされる。そして複屈折補正手段１７を透
過することでディスク基板７ａにより生じた収束光２０
９内の位相差が補正された補正光束２１０となる。

【００３８】図２は、ディスク基板の有する光学的異方
性により生じる光磁気ディスク上の塵埃等の影響による
光磁気信号の変動を補正するために、検出光学系内の収
束光２０９および補正光束２１０の光路上に配置された
光学的異方性を有する複屈折補正手段１７を示したもの
である。本実施例の光学ヘッドに用いられている複屈折
補正手段１７は、正の一軸異方性媒体である正の一軸異
方性結晶（例えばＬiＴa Ｏ₃ や、ルチル（Ｔi Ｏ₂))
からなる平行平板１７ａで構成されている。

【００３９】以下、ディスク基板７ａで生じるディスク
反射光（収束光２０９）内の偏光分布を正の一軸異方性
媒体である複屈折補正手段１７を用いて補正する原理に
ついて、図２、図３および図４を用いて説明する。

【００４０】図３は、複屈折補正手段１７の複屈折性を
表す屈折率楕円体２１１を示す。複屈折補正手段１７の
屈折率楕円体２１１は、光学軸１７ｂ方向が平行平板１
７ａの板厚の方向で異常光の屈折率Ｎｅが常光の屈折率
Ｎｏより大きい正の一軸異方性媒体であり、光学軸１７
ｂが収束光２０９の光軸２０９ａと平行となっている。

【００４１】図４は、図２において複屈折補正手段１７
を透過した補正光束２１０内の任意の位置の光の入射方
向の屈折率を模式的に示したものである。図において、
中心の光束（光軸２０９ａ）は正の一軸異方性媒体であ
る複屈折補正手段１７の光学軸１７ｂ方向からの入射光
束であるので屈折率は円形分布４００となる。それ以外
の光束は、正の一軸異方性媒体である複屈折補正手段１
７の光学軸１７ｂ方向以外の入射光束となるので屈折率
は楕円分布４０１となる。また光束の外周の光ほど光学
軸１７ｂに対して大きな傾きで正の一軸異方性媒体であ
る複屈折補正手段１７を進行するため、楕円の楕円率
（長軸と短軸の比）は大きくなる。すなわち楕円の短軸
は図３に示した正の一軸異方性媒体である複屈折補正手
段１７の屈折率Ｎｅであり、外周の光の楕円の長軸は屈
折率Ｎｅから外周位置に応じて大きくなる。

【００４２】ここで補正光束２１０内の屈折率分布と、
ディスク基板７ａを透過した反射光束１０２内の屈折率
分布（図１８）を比較すると、光束内の同じ位置の光の
屈折率の楕円（図４においては楕円分布４０１、図１８
においては楕円分布３０１）の方向が直交している。す
なわち複屈折補正手段１７を透過した補正光束２１０内
の楕円分布４０１の長軸方向はディスク接線方向である
のに対して、ディスク基板７ａを透過した反射光束１０
２内の楕円分布３０１の長軸方向はディスク半径方向で
ある。よってディスク基板７ａを透過することで反射光
束１０２に与えられる位相差（図１９）と、複屈折補正
手段１７を透過することにより与えられる位相差は逆位
相となる。これにより反射光束１０２の位相差は、反射
光束１０２が複屈折補正手段１７を透過することにより
補正される。

【００４３】以上説明したように、複屈折性を有するデ
ィスク基板で生じた反射光内の位相分布は、検出光学系
内の収束光路に設けられた複屈折補正手段１７を透過す
ることにより補正することが出来る。

【００４４】なお複屈折補正手段１７の板厚ｔは、本光
ヘッドの光学定数、ディスク基板７ａの複屈折定数、検
出光学系内のレンズ１５の焦点距離から与えられる。す
なわち本実施例の上記定数が以下の場合、複屈折補正手
段１７の板厚ｔは６ｍｍとなる。

【００４５】半導体レーザ１のレーザ波長＝６８５ｎｍ 対物レンズ６の開口数＝0.５５ 対物レンズ６の焦点距離＝３ｍｍ ディスク基板７ａの複屈折（図１７）＝Ｎｅ−Ｎｏ＝−
0.０００３５ ディスク基板７ａの厚さ＝1.２ｍｍ レンズ１５の焦点距離＝１２ｍｍ 複屈折補正手段１７（Ｌi Ｔa Ｏ₃)の複屈折＝Ｎｅ−Ｎ
ｏ＝0.００４４ 以上のようにして、複屈折補正手段１７でディスク基板
７ａで生じた偏光分布を補正された補正光束２１０は偏
光ビームスプリッタ１６に入射する。この偏光ビームス
プリッタ１６は、入射光束を互いに偏光方向が直交する
２つの偏光光束に分離する検光子であって、入射光軸の
周りに４５度回転させられており、入射する補正光束２
１０を偏光面がお互いに直交する２つの光束、すなわち
Ｐ偏光２１０ｐ（透過光；図示せず）とＳ偏光２１０ｓ
（反射光；図示せず）に偏光分離され、光検出器５１，
光検出器５２にそれぞれ入射する。これらの光検出器５
１，５２に入射した光束から光磁気信号が検出される。

【００４６】前述のように、偏光ビームスプリッタ１６
に入射する前に補正光束２１０は複屈折補正手段１７に
よってディスク基板７ａで生じた偏光分布を補正されて
いるので、補正光束２１０の断面内における光量の分布
は光軸の回りにほぼ一様であるため、光磁気ディスク７
の読み出し位置に塵埃や汚れ等が存在して補正光束２１
０内に影が生じる場合でも、当該影による光量低下は、
光検出器５１および光検出器５２の双方で等しくなり、
両者の検出信号の差分をとる差動検出において、例えば
図１６に例示されるような検出信号のＤＣレベルのＳ字
形の変動の発生が回避され、正確な情報の再生を行うこ
とが可能となる。

【００４７】また、複屈折補正手段１７の配置によって
光磁気ディスク７上の塵埃や汚れ等の異物に起因するノ
イズが物理的に排除されているので、図１６に例示され
るような検出信号のＤＣレベルのＳ字形の変動の発生を
防止する目的で、光検出器５１および光検出器５２の出
力を処理する図示しない信号処理系を制御するソフトウ
ェアを必要以上に複雑にする必要も無くなる。

【００４８】また、光磁気ディスク７に付着する塵埃や
汚れ等の異物による影響を排除できるので、塵埃等の多
い比較的劣悪な環境下でも正常な動作が可能となり、光
磁気ディスク装置の操作性や市場性が向上する。

【００４９】次に、検出光学系に設ける複屈折補正手段
の他の構成例について説明する。図８は、複屈折補正手
段として正の一軸異方性結晶である水晶を用いて構成さ
れた複屈折補正手段７７の斜視図である。水晶は光学的
に安定な正の一軸異方性結晶であるが、光が透過する際
に偏光面が回転する性質、すなわち旋光性を有してい
る。よってこの旋光性を補正するために、本実施例の複
屈折補正手段７７では、右旋光性を有している水晶から
なり光学軸７７ｂが入射面７７ｅに垂直な平行平板７７
ａと、左旋光性を有している水晶からなり、光学軸７７
ｄが入射面７７ｆに垂直な平行平板７７ｃとを貼り合わ
せた構成となっている。この複屈折補正手段７７は、光
学軸７７ｂ（光学軸７７ｄ）が入射する収束光２０９の
光軸２０９ａに対して平行となるよう収束光路中に設け
られる。これにより、到来する収束光２０９を旋光させ
ることなく、ディスク基板７ａで与えられる位相差を補
正した補正光束２１０を得ることが出来る。なお複屈折
補正手段７７の板厚（ｔ１，ｔ２）は、本実施例の光ヘ
ッドおよびディスク基板７ａの定数により与えられる。
本実施例において各定数が下記の場合、本実施例の複屈
折補正手段７７の板厚（ｔ１，ｔ２）は２ｍｍとなる。

【００５０】半導体レーザ１のレーザ波長＝６８５ｎｍ 対物レンズ６の開口数＝0.５５ 対物レンズ６の焦点距離＝３ｍｍ ディスク基板７ａの複屈折（図１７）＝Ｎｅ−Ｎｏ＝−
0.０００３５ ディスク基板７ａの厚さ＝1.２ｍｍ レンズ１５の焦点距離＝１９ｍｍ 複屈折補正手段７７（水晶）の複屈折＝Ｎｅ−Ｎｏ＝−
0.００９ 以上の説明においては、ディスク基板７ａの複屈折性を
示す屈折率楕円体が負の一軸異方性媒体である場合、そ
の補正のための複屈折補正手段として正の一軸異方性媒
体を用いた例を示したがこれに限るものではない。

【００５１】以下、ディスク基板７ａの複屈折（負の一
軸異方性媒体；図１７）を補正するための複屈折補正手
段として負の一軸異方性媒体を用いた実施例について説
明する。図９は、複屈折補正手段として負の一軸異方性
媒体である負の一軸異方性結晶（例えばＬi Ｎb Ｏ₃)で
構成された複屈折補正手段７８の斜視図である。本実施
例の複屈折補正手段７８では、光学軸７８ｂが入射面に
平行な平行平板７８ａと、光学軸７８ｄが入射面に平行
な平行平板７８ｃとを、図１０に示したように平行平板
７８ａと平行平板７８ｃは光学軸７８ｂと光学軸７８ｄ
が直交するように貼り合わせた構成となっている。この
複屈折補正手段７８は、光学軸７８ｂ（光学軸７８ｄ）
が入射光軸に対して直交となるよう収束光２０９の光路
中に設けられる。

【００５２】次に、図１１と図１２を用いてディスク基
板７ａの複屈折に起因する反射光２０６（収束光２０
９）の光軸の回りの偏光分布の偏りを補正する原理を説
明する。図１１は、複屈折補正手段７８の平行平板７８
ａを透過した光束２０９ｂに与えられる屈折率（光の入
射方向に対する屈折率の分布を示す楕円）を模式的に示
したものである。また図１２は複屈折補正手段７８の平
行平板７８ｃを透過した光束２０９ｃに与えられる屈折
率（光の入射方向に対する屈折率の分布を示す楕円）の
分布を模式的に示したものである。図１１より、図にお
いて、負の一軸異方性媒体である平行平板７８ａは光学
軸７８ｂが入射する収束光２０９の光軸２０９ａに対し
て垂直（本実施例においてはディスク接線方向に一致）
に配置してある。よって中心の光束（光軸２０９ａ）は
最大屈折率差（＝Ｎｏ−Ｎｅ）を与える楕円分布５００
ａとなる。それ以外の光束、例えば図においては光学軸
７８ｂを含む方向（図においてはディスク接線方向）か
らの入射光束に対する屈折率を示す楕円分布５００ｂ
は，楕円分布５００ａの短軸方向（光学軸７８ｂ方向）
の屈折率が大きくなる。これに対して、光学軸７８ｂに
対して垂直方向（図においてはディスク半径方向）から
の入射光束に対する屈折率を示す楕円分布５００ｃは、
入射角度によらず一定（楕円分布５００ａと一致）とな
る。

【００５３】一方、図１２より、図において、負の一軸
異方性媒体である平行平板７８ｃは光学軸７８ｄが入射
する収束光２０９の光軸２０９ａに対して垂直（本実施
例においてはディスク半径方向に一致）に配置してあ
る。よって中心の光束（光軸２０９ａ）は最大屈折率差
（＝Ｎｏ−Ｎｅ）を与える楕円分布５０１ａとなる。そ
れ以外の光束、例えば光学軸７８ｄに対して垂直方向
（図においてはディスク接線方向）からの入射光束に対
する屈折率を示す楕円分布５０１ｂは、入射角度によら
ず一定（楕円分布５０１ａと一致）となる。これに対し
て、図においては光学軸７８ｄを含む方向（図において
はディスク半径方向）からの入射光束に対する屈折率を
示す楕円分布５０１ｃは，楕円分布５０１ａの短軸方向
（光学軸７８ｄ方向）の屈折率が大きくなる。

【００５４】よって平行平板７８ａと平行平板７８ｃを
透過した補正光束２１０に与えられる屈折率（光の入射
方向に対する屈折率の分布を示す楕円）は、平行平板７
８ａを透過した光束に与えられる屈折率（図１１）と平
行平板７８ｃを透過した光束に与えられる屈折率（図１
２）を加算したものとなる。その結果の屈折率分布は、
ディスク基板７ａで与えられる屈折率分布を補正する際
に必要な分布である図４と同じ分布となる。すなわち正
の一軸異方正媒体を用いて構成した前述の複屈折補正手
段７および複屈折補正手段７７の場合と同じ屈折率分布
を透過光束内に与えられ、複屈折補正手段７８を透過す
ることにより与えられる位相差は逆位相となる。これに
よりディスク基板７ａで与えられた収束光２０９の位相
差（偏光）の分布は、収束光２０９が複屈折補正手段７
８を透過することにより補正される。なお複屈折補正手
段７８の板厚（ｔ１，ｔ２）は、本実施例の光ヘッドお
よびディスクの定数により与えられる。本実施例におい
て各定数が下記の場合、本実施例の複屈折補正手段７８
の板厚（ｔ１，ｔ２）は0.９ｍｍとなる。

【００５５】半導体レーザ１のレーザ波長＝６８５ｎｍ 対物レンズ６の開口数＝0.５５ 対物レンズ６の焦点距離＝３ｍｍ ディスク基板７ａの複屈折（図１７）＝Ｎｅ−Ｎｏ＝−
0.０００３５ ディスク基板７ａの厚さ＝1.２ｍｍ レンズ１５の焦点距離＝１９ｍｍ 複屈折補正手段７８（Ｌi Ｎb Ｏ₃)の複屈折＝Ｎｅ−Ｎ
ｏ＝0.０８２ なお本実施例の複屈折補正手段７８では、平行平板７８
ａの光学軸７８ｂがディスク接線方向、平行平板７８ｃ
の光学軸７８ｄがディスク半径方向に一致させて貼り合
わせた構成であるがこれに限るものではなく、平行平板
７８ａと平行平板７８ｃは光学軸７８ｂと光学軸７８ｄ
が直交するように配置させた構成であれば良く、別々に
配置した構成でもよい。また、本実施例では平行平板７
８ａの板厚ｔ１と平行平板７８ｃの板厚ｔ２を等しくす
ることで、ディスク基板に垂直に入射する光束（光束中
心）に対しては、位相差は発生させない構成とした。し
かし、ディスク基板の複屈折性を示す屈折率楕円体を２
軸異方性媒体として取り扱う必要がある場合や、光学ヘ
ッドの他の光学部品（例えば図１におけるビームスプリ
ッタ４）で一定位相差が発生する場合などは、その一定
位相差を補正するためｔ１とｔ２を一致させないで構成
しても良い。この場合、一定位相差は最大屈折率差（＝
Ｎｅ−Ｎｏ）と板厚差（ｔ１−ｔ２）で与えられる。

【００５６】（実施例２）次に、本発明の他の実施例で
ある光磁気ディスク装置について図面を用いて説明す
る。図１３は本実施例の光磁気ディスク装置に備えられ
た光学ヘッドの構成の一例を示す概念図である。

【００５７】図１３において、光源である半導体レーザ
１（戻り光等に起因する半導体レーザ１のノイズを低減
するための高周波重畳回路１ａ付き）から発射された発
散光束２９０は、レンズ７０によって半導体レーザ１の
発散角θ１を発散角θ２に減少された発散光束２９１に
変換される。発散光束２９１は、ビームスプリッタ７２
の反射面７２ａに入射する。ビームスプリッタ７２の反
射面７２ａは、Ｐ偏光とＳ偏光とで反射率及び透過率が
異なり、例えばＰ偏光透過率Ｔｐ≒0.７５，Ｐ偏光反射
率Ｒｐ≒0.２５，Ｓ偏光透過率Ｔｓ≒０，Ｓ偏光反射率
Ｒｓ≒１の偏光特性を有する。反射面７２ａに入射した
発散光束２９１（Ｐ偏光）は透過光２９２と反射光２９
３に２分される。

【００５８】このうち反射光２９３は光検出器７１に入
射する。また光検出器７１は迷光対策（入射面において
反射される必要とされない光、すなわち迷光を半導体レ
ーザ、他の光検出器内に入射させないようにする対策）
として反射光２９３に対して傾斜して配置されている。
光検出器７１を用いて半導体レーザ１から発射される発
散光束２９０の光強度が制御される。これについては本
発明と本質的に関係無いので説明は省略する。

【００５９】一方、上記第１のビームスプリッタ７２の
反射面７２ａを透過した透過光２９２は反射ミラー５に
よって進行方向を変えられた後、有限系のレンズである
対物レンズ９１によってディスク回転系（スピンドルモ
ータ等、図示せず）に装着された光磁気ディスク７のデ
ィスク基板７ａを経て記録面７ｂに照射される。

【００６０】光磁気ディスク７からの反射光２９３（発
散光）は、対物レンズ９１により収束光２９４に変換さ
れ、反射ミラー５を経てビームスプリッタ７２の反射面
７２ａで反射され、更に全反射面７２ｂで反射されビー
ムスプリッタ７２を出射する。そして反射光２９３は、
複屈折補正手段７８を透過することでディスク基板７ａ
により生じた収束光２９４内の位相差が補正された光束
２９５となる。なお本実施例の光学ヘッドに用いられて
いる複屈折補正手段７８は、図９で説明した負の一軸異
方性結晶（例えばＬi Ｎb Ｏ₃)を用いたものである。位
相差が補正された光束２９５は検光子７３（例えば、複
屈折媒体から構成される）に入射し、入射光束を互いに
偏光方向が直交する２つの偏光光束（Ｐ偏光２９５ｐ、
Ｓ偏光２９５ｓ）と、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分が合成さ
れた光束２９５ｎの３つの光束に分離される。そして円
筒レンズ７５でフォーカス誤差検出のための非点収差を
与えられた後、それぞれ光検出器７９に入射する。

【００６１】図１４に本実施例の光ヘッドに用いられる
光検出器７９の受光領域ａと受光領域ｂ及び受光領域ｃ
１〜ｃ４に入射したＳ偏光２９５ｓとＰ偏光２９５ｐお
よびＰ偏光成分とＳ偏光成分が合成された光束２９５ｎ
を示す。光磁気信号は、受光領域ａの出力と受光領域ｂ
の出力を減算することにより得られる。一方、光束２９
５ｎの入射した受光領域ｃ１〜ｃ４から非点収差法に基
づいた演算（ｃ１＋ｃ３）−（ｃ２＋ｃ４）によりフォ
ーカス誤差信号を得ている。

【００６２】以上の実施例の光ヘッドの構成は、半導体
レーザ１から出射した発散光束２９０がビームスプリッ
タ７２の反射面７２ａを透過する構成であるが、反射面
７２ａの偏光特性を、例えばＰ偏光透過率Ｔｐ≒１，Ｐ
偏光反射率Ｒｐ≒０，Ｓ偏光透過率Ｔｓ≒0.２，Ｓ偏光
反射率Ｒｓ≒0.８とし、半導体レーザ１から出射した発
散光束２９０が全反射面７２ｂ及び反射面７２ａを反射
する構成としてもよい。

【００６３】以上、説明したように、本発明の上述の各
実施例によれば、ディスク基板７ａの複屈折による反射
光束内の位相差分布を補正することが出来る。よってこ
の位相差分布と、光磁気ディスク７上の塵埃や汚れ等の
異物による反射光の遮光が原因の光磁気信号の変動を発
生することなく良好な光磁気信号を得ることが出来る。

【００６４】なお、詳細に説明した上述の実施例の複屈
折補正手段の設計（媒体の厚さ等）において、透明なデ
ィスク基板の複屈折性を完全に補正することにしたがこ
れに限るものではない。すなわち、光磁気ディスクの透
明基板は、複屈折性の少ない基板（ガラス等）もある。
よっていろいろな透明基板を用いて製造された光磁気デ
ィスクを記録・再生する必要性のある光磁気ディスク装
置では、媒体の互換性等を考慮して大きい複屈折性を有
するディスク基板の複屈折の適量（例えば半分）を補正
する構成としても良い。

【００６５】

【発明の効果】本発明の光磁気ディスク装置によれば、
透明基板として複屈折性を有する物質を用いた光磁気デ
ィスクを記録媒体とする場合、光磁気ディスクに対する
塵埃や汚れ等の異物の付着に影響されることなく、正確
に記録情報の読み出しを行うことができる、という効果
が得られる。

【００６６】本発明の光磁気ディスク装置によれば、透
明基板として複屈折性を有する物質を用いた光磁気ディ
スクを記録媒体とする場合、読み取り信号を処理するソ
フトウェアを煩雑化することなく、光磁気ディスクに付
着した塵埃や汚れ等の異物に起因するノイズを排除して
正確に記録情報の読み出しを行うことができる、という
効果が得られる。

【００６７】本発明の光磁気ディスク装置によれば、光
磁気ディスクに対する塵埃や汚れ等の異物の付着に影響
されることなく、塵埃等の多い劣悪な使用環境下で、正
確に記録情報の読み出しを行うことができる、という効
果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である光磁気ディスク装置に
おける光学ヘッドの構成の一例を示す概念図である。

【図２】本発明の一実施例である光磁気ディスク装置に
おける光学ヘッドの複屈折補正手段の構成の一例を示す
斜視図である。

【図３】本発明の一実施例である光磁気ディスク装置に
おける光学ヘッドの複屈折補正手段の複屈折性を示す屈
折率楕円体の一例を示す概念図である。

【図４】本発明の一実施例である光磁気ディスク装置に
おける光学ヘッドの複屈折補正手段を透過した光束に与
えられる屈折率差の光束内の分布の一例を示す概念図で
ある。

【図５】本発明の一実施例である光磁気ディスク装置に
おける光学ヘッドに用いられる２分割回折格子の一例を
示す正面図である。

【図６】本発明の一実施例である光磁気ディスク装置に
おける光学ヘッドに用いられる２分割回折格子の光利用
率（透過率）の一例を示す概念図である。

【図７】本発明の一実施例である光磁気ディスク装置に
おける光学ヘッドに用いられるサーボ信号用の光検出器
の受光面の一例を示す正面図である。

【図８】本発明の一実施例である光磁気ディスク装置に
おける光学ヘッドの複屈折補正手段の構成の変形例を示
す斜視図である。

【図９】本発明の一実施例である光磁気ディスク装置に
おける光学ヘッドの複屈折補正手段の構成の他の変形例
を示す斜視図である。

【図１０】図９に例示される複屈折補正手段を構成する
複数の平行平板の光学軸の関係の一例を示した概念図で
ある。

【図１１】図９の複屈折補正手段を構成する第１の平行
平板を透過した光束に与えられる屈折率差の光束内の分
布の一例を示した概念図である。

【図１２】図９の複屈折補正手段を構成する第２の平行
平板を透過した光束に与えられる屈折率差の光束内の分
布の一例を示した概念図である。

【図１３】本発明の他の実施例である光磁気ディスク装
置における光学ヘッドの構成の一例を示す概念図であ
る。

【図１４】本発明の他の実施例である光磁気ディスク装
置の光学ヘッドで用いられる光磁気信号を検出する光検
出器の受光面の一例を示す概念図である。

【図１５】対物レンズにより絞り込まれるレーザ光と光
磁気ディスク表面上の塵埃の関係の一例を説明する概念
図である。

【図１６】光磁気ディスク表面上の塵埃による光磁気信
号の変動の一例を説明する線図である。

【図１７】光磁気ディスク基板の複屈折性の一例を示す
屈折率楕円体の概念図である。

【図１８】複屈折性を有する光磁気ディスクを反射した
光束に与えられる屈折率差の光束内の分布の一例を示す
概念図である。

【図１９】複屈折性を有する光磁気ディスクを反射した
光束内の偏光状態の分布を示した図である。

【図２０】光磁気ディスク表面上の塵埃による光磁気信
号の変動の原因の一例を説明する概念図である。

【図２１】光磁気ディスク表面上の塵埃による光磁気信
号の変動の原因の一例を説明する概念図である。

【図２２】光磁気信号の波形をデータ信号に復調する信
号処理の一過程を説明した線図である。

【図２３】従来の光磁気ディスク記録再生装置の構成の
一例を示す概略図である。

【符号の説明】

１…半導体レーザ、３…ビーム整形プリズム、４…ビー
ムスプリッタ、６…対物レンズ、７…光磁気ディスク、
７ａ…ディスク基板、７ｂ…記録面、１６…偏光ビーム
スプリッタ、１７…複屈折補正手段、７７…複屈折補正
手段、７８…複屈折補正手段、５１，５２…光磁気信号
用の光検出器、２７…回折格子、２９…検出レンズ、３
０…サーボ信号用の光検出器、４０…円筒レンズ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福井 雅千 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 小西 義郎 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複屈折性を有する透明基板上に磁気光学
   的情報記録媒体からなる記録面が形成された光磁気ディ
   スクと、前記光磁気ディスクに対する情報の記録および
   再生動作を行う光ヘッドとを含む光磁気ディスク装置で
   あって、 前記光ヘッドは、レーザ光束を発生するレーザ素子と、
   前記レーザ光束を集光して、前記光磁気ディスクの前記
   記録面上に光スポットとして照射すると共に、前記記録
   面上で反射された反射光束を捕捉する対物レンズと、前
   記レーザ素子から発射された前記レーザ光束を前記対物
   レンズヘ導くと同時に前記レーザ光束の一部を分離し、
   かつ前記対物レンズで捕捉された前記反射光束を前記レ
   ーザ素子と前記光磁気ディスクとを結ぶ光路より分離す
   るビームスプリッタと、前記ビームスプリッタにより分
   離された前記反射光束を処理する検出光学系とを含み、 前記検出光学系は、少なくとも、前記ビームスプリッタ
   により分離された前記反射光束を互いに偏光方向が直交
   する２つの偏光光束に分離する検光子と、前記検光子で
   偏光分離された２つの前記偏光光束を検出する光検出器
   と、前記検光子に至る前記反射光束の光路上に配置さ
   れ、光学的異方性を有する複屈折補正手段とを含む、こ
   とを特徴とする光磁気ディスク装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の光磁気ディスク装置にお
   いて、前記複屈折補正手段は、正または負の一軸異方性
   媒体からなることを特徴とする光磁気ディスク装置。
3. 【請求項３】 請求項２記載の光磁気ディスク装置にお
   いて、前記複屈折補正手段は、 正の一軸異方性結晶からなる所望の厚さの板体を、その
   光学軸を前記反射光束の光軸方向に一致させて配置した
   第１の構成、 各々が互いに逆方向の旋光性を有する正の一軸異方性結
   晶からなる二つの平行平板を、その光学軸を前記反射光
   束の光軸方向に一致させて配置した第２の構成、 負の一軸異方性結晶からなる二つの平行平板を、各々の
   平行平板の光学軸が互いに直交し、かつ前記反射光束の
   光軸に対して直交するように配置した第３の構成、のい
   ずれかであることを特徴とする光磁気ディスク装置。