JPH0954162A - X線検出器およびその製造方法 - Google Patents
X線検出器およびその製造方法Info
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- JPH0954162A JPH0954162A JP7209609A JP20960995A JPH0954162A JP H0954162 A JPH0954162 A JP H0954162A JP 7209609 A JP7209609 A JP 7209609A JP 20960995 A JP20960995 A JP 20960995A JP H0954162 A JPH0954162 A JP H0954162A
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- Measurement Of Radiation (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 感度分布の均一性が良いシンチレータ形のX
線検出器およびその製造方法を実現すること。 【解決手段】 シンチレータ3と光検出器2とを有する
X線検出器において、前記シンチレータと前記光検出器
とが対向する距離を規定するスペーサ5と、前記シンチ
レータと前記光検出器が対向する空間を満たす接着剤7
とを具備することを特徴とする。
線検出器およびその製造方法を実現すること。 【解決手段】 シンチレータ3と光検出器2とを有する
X線検出器において、前記シンチレータと前記光検出器
とが対向する距離を規定するスペーサ5と、前記シンチ
レータと前記光検出器が対向する空間を満たす接着剤7
とを具備することを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、X線検出器および
その製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、感
度分布の均一性が良いシンチレータ(scintillator)型の
X線検出器およびその製造方法に関する。
その製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、感
度分布の均一性が良いシンチレータ(scintillator)型の
X線検出器およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図6にX線断層撮影装置等において用い
られるシンチレータ型のX線検出器の従来例を示す。図
6において、1は基板でその上にフォトダイオードアレ
イ(photo-diode array) 2が形成され、このフォトダイ
オードアレイ2の上にシンチレータアレイ3が接合され
ている。
られるシンチレータ型のX線検出器の従来例を示す。図
6において、1は基板でその上にフォトダイオードアレ
イ(photo-diode array) 2が形成され、このフォトダイ
オードアレイ2の上にシンチレータアレイ3が接合され
ている。
【0003】フォトダイオードアレイ2は複数のフォト
ダイオードをx方向に並べた1次元アレイとして形成さ
れる。X線の入射方向はy方向である。フォトダイオー
ドはz方向に長い受光面を持っている。シンチレータア
レイ3もフォトダイオードアレイ2に対応して複数のシ
ンチレータブロック(scintillator block)をx方向に並
べて構成される。個々のシンチレータブロックもz方向
に長い構造をもっている。
ダイオードをx方向に並べた1次元アレイとして形成さ
れる。X線の入射方向はy方向である。フォトダイオー
ドはz方向に長い受光面を持っている。シンチレータア
レイ3もフォトダイオードアレイ2に対応して複数のシ
ンチレータブロック(scintillator block)をx方向に並
べて構成される。個々のシンチレータブロックもz方向
に長い構造をもっている。
【0004】図7に詳細な構成を示す。図7は図6のX
線検出器のyz断面の模式図である。シンチレータアレ
イ3とフォトダイオードアレイ2は接着層4によって接
着されている。接着に当たってはシンチレータアレイ3
の下面とフォトダイオードアレイ2の上面に接着剤を塗
布して両者を貼り合わせる。
線検出器のyz断面の模式図である。シンチレータアレ
イ3とフォトダイオードアレイ2は接着層4によって接
着されている。接着に当たってはシンチレータアレイ3
の下面とフォトダイオードアレイ2の上面に接着剤を塗
布して両者を貼り合わせる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】シンチレータアレイ3
とフォトダイオードアレイ2を貼り合わせたとき、両者
の表面のそりや凹凸のために接着層4の厚みは不均一に
なっている。通常、表面のそりや凹凸の許容差は10μ
m程度あり、このため厚みは場所によって0μmになる
ところや20μmになるところがある。また作業が不適
切な場合は接着層に気泡が混入しあるいは真空部が形成
されることがある。
とフォトダイオードアレイ2を貼り合わせたとき、両者
の表面のそりや凹凸のために接着層4の厚みは不均一に
なっている。通常、表面のそりや凹凸の許容差は10μ
m程度あり、このため厚みは場所によって0μmになる
ところや20μmになるところがある。また作業が不適
切な場合は接着層に気泡が混入しあるいは真空部が形成
されることがある。
【0006】シンチレータアレイ3とフォトダイオード
アレイ2の間にこのような距離の不均一や空気層あるい
は真空層があると、フォトダイオードアレイ2に入射す
るシンチレーション光がその影響を受け、X線検出感度
に不均一を生じるという問題がある。
アレイ2の間にこのような距離の不均一や空気層あるい
は真空層があると、フォトダイオードアレイ2に入射す
るシンチレーション光がその影響を受け、X線検出感度
に不均一を生じるという問題がある。
【0007】特に、気泡や真空層があるとシンチレーシ
ョン光の反射率や屈折率が大きく変化するのでその影響
は甚大である。検出感度の不均一はアレイのチャネル(c
hannel) 間に生じる他に同じチャネル内でもz方向にお
いて生じる。
ョン光の反射率や屈折率が大きく変化するのでその影響
は甚大である。検出感度の不均一はアレイのチャネル(c
hannel) 間に生じる他に同じチャネル内でもz方向にお
いて生じる。
【0008】そのようなX線検出器を用いた場合、X線
断層撮影装置ではX線ビームの入射位置がX線管の温度
変化等によってz方向に移動するので、z方向に感度の
不均一があると測定信号が経時的に変化し再構成画像に
アーチファクトを生じさせる。このような経時的な感度
変化に基づくアーチファクトは極めて補正が難しい。
断層撮影装置ではX線ビームの入射位置がX線管の温度
変化等によってz方向に移動するので、z方向に感度の
不均一があると測定信号が経時的に変化し再構成画像に
アーチファクトを生じさせる。このような経時的な感度
変化に基づくアーチファクトは極めて補正が難しい。
【0009】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたもので、その目的は、感度分布の均一性が良いシン
チレータ形のX線検出器およびその製造方法を実現する
ことである。
れたもので、その目的は、感度分布の均一性が良いシン
チレータ形のX線検出器およびその製造方法を実現する
ことである。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
めの第1の発明は、シンチレータと光検出器とを有する
X線検出器において、前記シンチレータと前記光検出器
とが対向する距離を規定するスペーサと、前記シンチレ
ータと前記光検出器が対向する空間を満たす接着剤とを
具備することを特徴とするX線検出器である。
めの第1の発明は、シンチレータと光検出器とを有する
X線検出器において、前記シンチレータと前記光検出器
とが対向する距離を規定するスペーサと、前記シンチレ
ータと前記光検出器が対向する空間を満たす接着剤とを
具備することを特徴とするX線検出器である。
【0011】課題を解決するための第1の発明によれ
ば、スペーサによって距離が規定されたシンチレータと
光検出器との間に接着剤が充填されるので、シンチレー
タと光検出器との間の距離の均一性が向上し、検出感度
の均一性が向上する。
ば、スペーサによって距離が規定されたシンチレータと
光検出器との間に接着剤が充填されるので、シンチレー
タと光検出器との間の距離の均一性が向上し、検出感度
の均一性が向上する。
【0012】前記の課題を解決するための第2の発明
は、シンチレータと光検出器とをスペーサによって距離
が規定される空間を隔てて対向配置する工程と、前記シ
ンチレータと前記光検出器が対向する空間に接着剤を充
填する工程とを具備するX線検出器の製造方法である。
は、シンチレータと光検出器とをスペーサによって距離
が規定される空間を隔てて対向配置する工程と、前記シ
ンチレータと前記光検出器が対向する空間に接着剤を充
填する工程とを具備するX線検出器の製造方法である。
【0013】課題を解決するための第2の発明によれ
ば、スペーサによって距離が規定されたシンチレータと
光検出器との間に接着剤が充填されるので、シンチレー
タと光検出器との間の距離の均一性が向上し、検出感度
の均一性が向上する。
ば、スペーサによって距離が規定されたシンチレータと
光検出器との間に接着剤が充填されるので、シンチレー
タと光検出器との間の距離の均一性が向上し、検出感度
の均一性が向上する。
【0014】前記の課題を解決するための第3の発明
は、シンチレータと光検出器のいずれか一方または双方
にこれら両者が対向する空間の距離を規定するスペーサ
を取り付ける工程と、前記シンチレータと前記光検出器
のいずれか一方において両者が対向する面となる部分に
接着剤を盛り付ける工程と、前記シンチレータと前記光
検出器のいずれか一方または双方により前記接着剤を押
し広げながら前記シンチレータと前記光検出器とを前記
スペーサによって距離が規定される空間を隔てて対向さ
せる工程とを具備するX線検出器の製造方法である。
は、シンチレータと光検出器のいずれか一方または双方
にこれら両者が対向する空間の距離を規定するスペーサ
を取り付ける工程と、前記シンチレータと前記光検出器
のいずれか一方において両者が対向する面となる部分に
接着剤を盛り付ける工程と、前記シンチレータと前記光
検出器のいずれか一方または双方により前記接着剤を押
し広げながら前記シンチレータと前記光検出器とを前記
スペーサによって距離が規定される空間を隔てて対向さ
せる工程とを具備するX線検出器の製造方法である。
【0015】課題を解決するための第3の発明によれ
ば、シンチレータまたは光検出器に盛り付けた接着剤を
シンチレータまたは光検出器で押し広げながらシンチレ
ータと光検出器の間に行き渡らせるので、気泡や真空泡
を閉じ込めることなく接着剤を充填することができる。
ば、シンチレータまたは光検出器に盛り付けた接着剤を
シンチレータまたは光検出器で押し広げながらシンチレ
ータと光検出器の間に行き渡らせるので、気泡や真空泡
を閉じ込めることなく接着剤を充填することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の一形態を詳細に説明する。図1は本発明の実施の一
形態のX線検出器の分解図である。
施の一形態を詳細に説明する。図1は本発明の実施の一
形態のX線検出器の分解図である。
【0017】図1において、1は基板でその上にフォト
ダイオードアレイ2が形成され、このフォトダイオード
アレイ2の上にシンチレータアレイ3が接合される。フ
ォトダイオードアレイ2は複数のフォトダイオードをx
方向に並べた1次元アレイとして形成される。y方向は
X線の入射方向である。個々のフォトダイオードはz方
向に長い構造をもっている。フォトダイオードは本発明
における光検出器の実施の形態の一例である。
ダイオードアレイ2が形成され、このフォトダイオード
アレイ2の上にシンチレータアレイ3が接合される。フ
ォトダイオードアレイ2は複数のフォトダイオードをx
方向に並べた1次元アレイとして形成される。y方向は
X線の入射方向である。個々のフォトダイオードはz方
向に長い構造をもっている。フォトダイオードは本発明
における光検出器の実施の形態の一例である。
【0018】シンチレータアレイ3もフォトダイオード
アレイ2に対応して複数のシンチレータブロックをx方
向に並べて構成される。個々のシンチレータブロックも
z方向に長い構造をもっている。シンチレータブロック
は本発明におけるシンチレータの位置の実施の形態の一
例である。
アレイ2に対応して複数のシンチレータブロックをx方
向に並べて構成される。個々のシンチレータブロックも
z方向に長い構造をもっている。シンチレータブロック
は本発明におけるシンチレータの位置の実施の形態の一
例である。
【0019】シンチレータブロックの材料としてはX線
に対してシンチレーション効果を有する物質例えばカド
ミウム・タングステン・オキサイドが用いられる。その
他にビスマス・ゲルマニウム・オキサイド(B.G.O) 等適
宜のシンチレーション物質を用いることができる。
に対してシンチレーション効果を有する物質例えばカド
ミウム・タングステン・オキサイドが用いられる。その
他にビスマス・ゲルマニウム・オキサイド(B.G.O) 等適
宜のシンチレーション物質を用いることができる。
【0020】フォトダイオードアレイ2の上面にはz方
向の両端部分にスペーサ(spacer)5が設けられる。スペ
ーサ5としては例えば粘着性のプラスチックテープ(pla
stictape)等が用いられる。
向の両端部分にスペーサ(spacer)5が設けられる。スペ
ーサ5としては例えば粘着性のプラスチックテープ(pla
stictape)等が用いられる。
【0021】図2に図1のX線検出器の詳細な構成を示
す。フォトダイオードアレイ2の上面とシンチレータア
レイ3の下面の間にはスペーサ5によって空間部6が形
成され、フォトダイオードアレイ2とシンチレータアレ
イ3はこの空間部6を挟んで対向する。対向距離はスペ
ーサ5の厚みによって規定される。この空間部6に接着
7が充填される。
す。フォトダイオードアレイ2の上面とシンチレータア
レイ3の下面の間にはスペーサ5によって空間部6が形
成され、フォトダイオードアレイ2とシンチレータアレ
イ3はこの空間部6を挟んで対向する。対向距離はスペ
ーサ5の厚みによって規定される。この空間部6に接着
7が充填される。
【0022】接着7としては、例えばエポキシ系、シリ
コン系またはアクリル系の透明な接着剤が用いられる。
中でも光接着剤が光学的特性の点で最も好ましい。また
粘度はできるだけ低粘度であることが空間部6への浸透
性の点で好ましい。例えば100〜150cps程度の
粘度のものが推奨される。
コン系またはアクリル系の透明な接着剤が用いられる。
中でも光接着剤が光学的特性の点で最も好ましい。また
粘度はできるだけ低粘度であることが空間部6への浸透
性の点で好ましい。例えば100〜150cps程度の
粘度のものが推奨される。
【0023】スペーサ5の厚みはフォトダイオードアレ
イ2とシンチレータアレイ3の面のそりや凹凸の許容差
を十分吸収できる程度、例えば20〜40μmが好まし
い。20μmより薄いと許容差の吸収が不十分になり、
40μmより厚くなるとチャネル間のクロストーク(cro
ss-talk)が増えるという不都合が生じる。
イ2とシンチレータアレイ3の面のそりや凹凸の許容差
を十分吸収できる程度、例えば20〜40μmが好まし
い。20μmより薄いと許容差の吸収が不十分になり、
40μmより厚くなるとチャネル間のクロストーク(cro
ss-talk)が増えるという不都合が生じる。
【0024】このようなX線検出器において、y方向か
ら入射したX線はシンチレータアレイ3で光に変化さ
れ、接着剤7で満たされた空間部6を通ってフォトダイ
オードアレイ2に入射する。
ら入射したX線はシンチレータアレイ3で光に変化さ
れ、接着剤7で満たされた空間部6を通ってフォトダイ
オードアレイ2に入射する。
【0025】ここで、スペーサ5の厚みはフォトダイオ
ードアレイ2とシンチレータアレイ3の面のそりや凹凸
の許容差を十分吸収できる厚みに選ばれているので、フ
ォトダイオードアレイ2とシンチレータアレイ3の面の
そりや凹凸による対向距離への影響は大幅に緩和され
る。
ードアレイ2とシンチレータアレイ3の面のそりや凹凸
の許容差を十分吸収できる厚みに選ばれているので、フ
ォトダイオードアレイ2とシンチレータアレイ3の面の
そりや凹凸による対向距離への影響は大幅に緩和され
る。
【0026】また、接着剤7の充填は以下に述べるよう
な方法により気泡や真空泡を含まないようにして行われ
る。このため、シンチレータアレイ3からの光は均一性
良くフォトダイオードアレイ2に入射する。したがっ
て、このX線検出器はx方向(チャネル方向)およびz
方向のいずれにおいても感度分布の均一性が良いものと
なる。
な方法により気泡や真空泡を含まないようにして行われ
る。このため、シンチレータアレイ3からの光は均一性
良くフォトダイオードアレイ2に入射する。したがっ
て、このX線検出器はx方向(チャネル方向)およびz
方向のいずれにおいても感度分布の均一性が良いものと
なる。
【0027】次に、空間部6への接着剤7の充填につい
て説明する。図3〜図5に接着剤7の充填方法の各例を
示す。図3は、フォトダイオードアレイ2の上面に接着
剤7を盛り付けその上からシンチレータアレイ3を載せ
て均一に押し付けて行く方法を示す。これによって接着
剤7はフォトダイオードアレイ2とシンチレータアレイ
3の間の隙間を押し出されて行き、空気を追い出しなが
らこの隙間を充填する。盛り付ける接着剤7の量を空間
部6の容積より多くすることにより、空気を含むことな
く接着剤7だけで満たされた空間部6を得ることができ
る。はみ出した接着剤は硬化する前に拭き取っておく。
て説明する。図3〜図5に接着剤7の充填方法の各例を
示す。図3は、フォトダイオードアレイ2の上面に接着
剤7を盛り付けその上からシンチレータアレイ3を載せ
て均一に押し付けて行く方法を示す。これによって接着
剤7はフォトダイオードアレイ2とシンチレータアレイ
3の間の隙間を押し出されて行き、空気を追い出しなが
らこの隙間を充填する。盛り付ける接着剤7の量を空間
部6の容積より多くすることにより、空気を含むことな
く接着剤7だけで満たされた空間部6を得ることができ
る。はみ出した接着剤は硬化する前に拭き取っておく。
【0028】図4は、フォトダイオードアレイ2の上面
のx方向の端に沿って接着剤7を盛り付け、この端の方
からスペーサ5に載せたシンチレータアレイ3をスライ
ドさせながら接着剤7を押し広げるようにしたものであ
る。盛り付ける接着剤7の量は空間部6の容積より多く
する。はみ出した接着剤は硬化する前に拭き取る。
のx方向の端に沿って接着剤7を盛り付け、この端の方
からスペーサ5に載せたシンチレータアレイ3をスライ
ドさせながら接着剤7を押し広げるようにしたものであ
る。盛り付ける接着剤7の量は空間部6の容積より多く
する。はみ出した接着剤は硬化する前に拭き取る。
【0029】図5は、スペーサ5によって距離をあけて
対向しているフォトダイオードアレイ2とシンチレータ
アレイ3の間に接着剤7を毛細管現象を利用して含浸さ
せるようにした例である。これによって接着剤7を空間
部6に行き渡らせ気泡や真空泡を含まない接着層を形成
する。
対向しているフォトダイオードアレイ2とシンチレータ
アレイ3の間に接着剤7を毛細管現象を利用して含浸さ
せるようにした例である。これによって接着剤7を空間
部6に行き渡らせ気泡や真空泡を含まない接着層を形成
する。
【0030】なお、本発明は上記の実施の形態の一例に
限定されるものではなく、以下に列挙する変形例も本発
明の範囲に含まれる。シンチレーション光の検出にはフ
ォトトランジスタ(photo-transistor)や光可変抵抗等の
適宜の光検出器を用いて良い。
限定されるものではなく、以下に列挙する変形例も本発
明の範囲に含まれる。シンチレーション光の検出にはフ
ォトトランジスタ(photo-transistor)や光可変抵抗等の
適宜の光検出器を用いて良い。
【0031】シンチレータアレイと光検出器アレイは2
次元アレイとしても良い。また、X線検出器はアレイと
せず単一チャネルの検出器としても良い。
次元アレイとしても良い。また、X線検出器はアレイと
せず単一チャネルの検出器としても良い。
【0032】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、第1の発明
によれば、スペーサによって距離が規定されたシンチレ
ータと光検出器との間に接着剤が充填されるので、シン
チレータと光検出器との間の距離の均一性が向上し、検
出感度の均一性が向上したX線検出器を実現することが
できる。
によれば、スペーサによって距離が規定されたシンチレ
ータと光検出器との間に接着剤が充填されるので、シン
チレータと光検出器との間の距離の均一性が向上し、検
出感度の均一性が向上したX線検出器を実現することが
できる。
【0033】また、第2の発明によれば、スペーサによ
って距離が規定されたシンチレータと光検出器との間に
接着剤が充填されるので、シンチレータと光検出器との
間の距離の均一性が向上し、検出感度の均一性が向上す
るX線検出器の製造方法を実現することができる。
って距離が規定されたシンチレータと光検出器との間に
接着剤が充填されるので、シンチレータと光検出器との
間の距離の均一性が向上し、検出感度の均一性が向上す
るX線検出器の製造方法を実現することができる。
【0034】また、第3の発明によれば、シンチレータ
または光検出器に盛り付けた接着剤をシンチレータまた
は光検出器で押し広げながらシンチレータと光検出器の
間に行き渡らせるので、気泡や真空泡を閉じ込めること
なく接着剤を充填できるX線検出器の製造方法を実現す
ることができる。
または光検出器に盛り付けた接着剤をシンチレータまた
は光検出器で押し広げながらシンチレータと光検出器の
間に行き渡らせるので、気泡や真空泡を閉じ込めること
なく接着剤を充填できるX線検出器の製造方法を実現す
ることができる。
【図1】本発明の実施の一形態の装置の分解図である。
【図2】本発明の実施の一形態の装置の詳細な構成を示
す模式的断面図である。
す模式的断面図である。
【図3】本発明の実施の一形態の製造方法の説明図であ
る。
る。
【図4】本発明の実施の一形態の製造方法の説明図であ
る。
る。
【図5】本発明の実施の一形態の製造方法の説明図であ
る。
る。
【図6】従来例の外観図である。
【図7】従来例の詳細を示す模式的断面図である。
1 基板 2 フォトダイオードアレイ 3 シンチレータアレイ 5 スペーサ 6 空間部 7 接着剤
Claims (3)
- 【請求項1】シンチレータと光検出器とを有するX線検
出器において、前記シンチレータと前記光検出器とが対
向する間隔を規定するスペーサと、前記シンチレータと
前記光検出器が対向する空間を満たす接着剤とを具備す
ることを特徴とするX線検出器。 - 【請求項2】シンチレータと光検出器とをスペーサによ
って距離が規定される空間を隔てて対向配置する工程
と、前記シンチレータと前記光検出器が対向する空間に
接着剤を充填する工程とを具備するX線検出器の製造方
法。 - 【請求項3】シンチレータと光検出器のいずれか一方ま
たは双方にこれら両者が対向する空間の距離を規定する
スペーサを取り付ける工程と、前記シンチレータと前記
光検出器のいずれか一方において両者が対向する面とな
る部分に接着剤を盛り付ける工程と、前記シンチレータ
と前記光検出器のいずれか一方または双方により前記接
着剤を押し広げながら前記シンチレータと前記光検出器
とを前記スペーサによって距離が規定される空間を隔て
て対向させる工程とを具備するX線検出器の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7209609A JPH0954162A (ja) | 1995-08-17 | 1995-08-17 | X線検出器およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7209609A JPH0954162A (ja) | 1995-08-17 | 1995-08-17 | X線検出器およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0954162A true JPH0954162A (ja) | 1997-02-25 |
Family
ID=16575646
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7209609A Pending JPH0954162A (ja) | 1995-08-17 | 1995-08-17 | X線検出器およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0954162A (ja) |
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1995
- 1995-08-17 JP JP7209609A patent/JPH0954162A/ja active Pending
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