JPH09512507A - 押出し材の放射線架橋方法 - Google Patents

押出し材の放射線架橋方法

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JPH09512507A
JPH09512507A JP8526503A JP52650396A JPH09512507A JP H09512507 A JPH09512507 A JP H09512507A JP 8526503 A JP8526503 A JP 8526503A JP 52650396 A JP52650396 A JP 52650396A JP H09512507 A JPH09512507 A JP H09512507A
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ゲルハルト ギーレンツ、
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ヒューバー ウント スーナー アーゲー
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    • H01B13/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
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Abstract

(57)【要約】 電気ケーブル(12)の絶縁被覆を電子線架橋するために電子加速器(1)によって2本の放射ビームを生成する。2本の放射ビームは、それぞれ一つのビーム・ガイド・ユニット(41;42)を介して、90°の角度にある2つの側からケーブルに導かる。ビームは、ケーブル(12)の同じ対角線面、あるいは、ゾーンにあることが可能であり、ケーブル芯に過剰な加熱を引き起こすことなく、同じ放射強度で放射を行うことができる。電子線架橋を進行させるための設備はビーム・チョッパーを具備することができる。

Description

【発明の詳細な説明】 押出し材の放射線架橋方法 本発明は、請求項1として先立って記述した特徴に従った、押出し材の電子線 架橋方法に関する。 電気ケーブルや電線の絶縁被覆材の耐熱性と機械的強度を改善するために、絶 縁被覆材に特に高エネルギー電子を照射する。この目的のために絶縁ケーブルは 例えば、軸を中心に回転させられながら、例えば1MeVから3MeVの電子加 速器からの放射場に単一回操作で通される。このような方法は、回転のためケー ブルの円周の回りにおいて理想的なエネルギー分布を作り出す反面、非常に大き な巻上げおよび解放リールを回す必要がある点で不都合があることが分かってい る。この場合、大きな質量を動かさなければならないため、達成できる生産性は 制限される。 5MeVに到るより強力な加速器を使用し、複数偏向のためガイド・ホイール やロールを使用した場合、ケーブルを少なくとも2回加速器の放射場に通す、つ まり、例えば第1回目はあらかじめ決めた表面線を上方に、第2回目はケーブル のこの表面線を下方にして通すことにより、ケーブルの軸に沿った回転を不要に することが可能である。放射場の活用が改善されるため、結果的に生産効率がさ らに向上する。 このような方法だけでも、ケーブルの大型巻上げリールおよび解放リールを回 転させることなくプロセスを実行できるという大きな利点を持つが、この場合に は用いる加速器電圧が高いために金属製のケーブル芯がより強力な照射を受け、 その結果導体がより高温となって複雑な冷却装置を使って補償をしなければなら ないであろうといった欠点を伴う。 また、この方法の場合にはケーブル円周上で放射量の分布が一様ではなく、両 側から照射を受ける絶縁材やケーブル・ジャケット外側の2箇所の円形セグメン トにおいて極大となる所が2箇所はっきり現れ、ケーブル被覆のエネルギー分布 のこの不均一性は、ケーブル全体の直径が大きくなるほど、また、被膜厚が厚く なるほど大きくなる。 このようなことから本発明は、円周における照射量の均一性が比較的良好であ って、比較的単純な装置手段によって実現することができる押出し材の電子線架 橋方法を提供することを目的とする。 この目的は、請求項1において特徴づけられている特徴を有する本発明の方法 によって達成される。 本発明の都合の良い構成は、従属項において示されている。 本発明については以下において下記の図面を参照しながら、実施例を使ってよ り詳細に説明する。 図1は、本発明による方法を行う装置の第1例を表し た概念図である。 図2は、本発明によるパルス化された分岐装置の動作モードを説明する概念図 である。 図3は、本発明による方法を行う装置の第2例を表した概念図である。 図4と図5は、本発明による装置の動作モードを説明する概念図である。 図1と図3に示した装置は、ケーブル12の絶縁被覆や他の長尺材料に電子ビ ームを照射してケーブルの絶縁材やジャケット、チューブ、パイプなどの製造に 用いられる、例えば、ポリオレフィン、エラストマー、他の放射線架橋可能なポ リマー材料、あるいはこれらの混合材料にいわゆる放射線化学架橋の反応を起こ させる装置である。 図1の装置はそれ自体は既知の電子加速器1を具備するものであり、電子加速 器1のビーム出口管2は分岐装置3に接続され、分岐装置3には独立な2つのビ ーム・ガイド・ユニット41、42が接続されてなるが、それ以上の複数のユニ ットを分岐装置3に接続することも可能である。ユニット41、42の各々は、 偏向手段51、52とスキャナ・ユニット61、62とをそれぞれ具備し、スキ ャナ・ユニット61、62の各々は、電子ビームを広げるための分散手段71、 72と追従スキャナ81、82とをそれぞれ有している。ユニット41と42は 、スキャナ81、82各々の電子出口窓91、92 を通過する2つの電子ビームのビーム方向が製品面上で60°から120°まで の角度を成すように、互いに向かい合って配置されている。ユニット41と42 の端部の出口窓91と92の間の領域には、架橋反応を起こさせる製品を配置す る製品面11の下に電子バッフル板10がある。偏向手段51、52は、各々管 状部121、122を介して分岐装置3に接続されている。また、ビーム・ガイ ド・ユニット41と42の各々は、図1からはっきりわかるように、構成部分5 1と71、構成部分52と72との間にそれぞれ挿入された、管状部131と1 32をそれぞれ有している。出口窓91と92は各々、スキャナ81と82の端 部に位置している。 以上のような構成によって図1に示した装置は以下のように動作する。 電子加速器1は分岐装置3と協調して、望ましくは0.5MeV〜5MeVの 範囲のエネルギーを有する2つのビーム電流を生成する。しかし、もし適切なの であれば、分岐装置3に改良を加えて、同じ原理に基づいて同一強度の三つ以上 の電流を生成させてもよい。電流はビーム・ガイド・ユニット41と42によっ て、2つのスキャナ81と82、あるいはもし適切なのであれば3つ以上のスキ ャナに導かれる。電子は高真空中でビーム・ガイド・ユニット41、42に導か れて電子源141から加速器管151を通過し、窓91、92から出る。 本発明によれば、スキャナ81、82は、放出された 電子ビームが回転する製品を様々な側面から、望ましくは同一面内において同一 のビーム強度で照射するように、幾何学的に配置される。また、スキャナ81、 82は、ローラー及び/またはロールの適当なシステムを有する、それ自体既知 の照射フィールド手段(製品ハンドリング)と複数偏向によって、製品が少なく とも2回異なった角度で照射ゾーンを通るように、幾何学的に配置される。 図1に示したような2つのスキャナを用いたシステムの場合には、2つの電子 出口窓91、92の出口主軸は、1つの同一面内において相互にオフセットを有 し、かつ、90°の角度で相対しているのが望ましい。しかし、原則的には、2 つのスキャナ81、82が2つの異なる面S、S’(図5)内に存在し、互いに 60°から120°の角度を成すものとすることもできる。 そうでなかったら心配があるのだが、特に壁厚が比較的厚い場合、スキャナを 1つしか用いない従来の方法の場合と比較して必要な浸透距離H(図4)がより 短くてすみ、その結果加速電圧もより低くてすむため、ケーブル芯の過剰加熱や 、チューブ内やパイプ内の空気の過剰なイオン化を引き起こすことなく、製品の 1同一ゾーン内において複数の側から照射を行うことが多くの場合可能である、 といったことが本発明に関連する試験から分かった。 図2に示した分岐装置3は、逆Y字形に配置した1つ の中央入口フランジ(16)と2つの出口フランジ(171;172)を有する 高真空チェンバを具備している。互いに向き合った状態で外部に取り付けられ、 相応じて電力が与えられる交番電圧ユニット19から電力供給を受けている、2 つの相応する形状の磁気コイル181、182はこの場合ビーム・チョッパ20 を成している。ビーム・チョッパ20は、2つあるいは3つ以上の出口フランジ の方向への空間的な一時的変位を入射電子ビームに与える。もし適切ならば、5 1、52(図1)に類似した直下型偏向手段を設けてさらに角度を広げ、2つあ るいは3つ以上となった各電流が偏向してビーム・ガイド・ユニット41、42 の中心を通るようにし、製品面11上に交互にあるいは繰り返して当たるように してもよい。 図2に示したビーム・チョッパ20は、絶縁手段19”によってパルス化電子 源141の制御ユニット19’と同期した交番電圧ユニット19によって駆動さ れるのが望ましい。それによって生成した電子は加速器管151の中でクラスタ として加速され、ビーム・チョッパ20を設けた分岐装置によって交互にビーム ・ガイド・ユニット41または42の方へ偏向される。図2には、分岐装置3を 通過する前(E1、E2、E3、E4)と後の(E1’、E2’、E3’、E4 ’)、4つの連続する電子のクラスタが示されている。 この場合ビーム・チョッパの周波数は、例えば1Hz から50Hzのような低領域か、または例えば500Hzから100kHzのよ うな高領域かの、どちらかがよい。例えば100Hzから200Hzの領域の周 波数で動作するユニット71、72(図1)の分散周波数での干渉または共鳴現 象を避けるためである。 しかし原則としては、この分岐装置はパルス化されていない連続電子ビームに おいても動作させることができる。その場合、交番電圧ユニット19の切換機能 は、高真空チェンバの2つの出口フランジ171、172の中間点位置に一致す る、スキャンされたビームの2つの反転ポイント間の時間を最小限に抑えるよう に設計される。エネルギー損失はこの場合、2つの出口開口部の間で必然的に真 空チェンバに向けられることになり、冷却手段を有する壁用材21の対応形状に よって消散されなければならない。この場合には2つのユニット19’と19” は省かれる。 図3に従った装置は、0.5MVから5MVの電圧範囲にある電子加速器の高 電圧部22を具備している。高電圧部22はそれ自体既知であり、垂直に、ある いは垂直でなく図に示したように水平に(22’)、高電圧端子23に向かって 配置されている。高電圧端子23には2本の加速器管151、152を備えた分 岐装置24が接続されていて、2本の加速器管151、152は各々その上端部 域に電子源141と142をそれぞれ有している。分岐装置24’の室内は、例 えばSF6ガス(六 フッ化硫黄)のような適当な絶縁媒体27で満たされる。 図3に従った装置はビーム・ガイド・ユニット41、42を有し、これは図1 に従ったユニット41、42と同様に組み立てられている。このため、両図にお いて同様の構成要素は同じ符号を用いて示した。特に、構成要素51、61、7 1、81、91、121、131、及び52、62、72、82、92、122 、132がそうである。 加速器管151、152の各々には、それぞれ電子集束手段251、252を 介して、ビーム・ガイド・ユニット41と42のうちの一方が接続されている。 ビーム・ガイド・ユニット41と42は各々、それぞれ偏向手段51と52、及 びそれぞれスキャナ・ユニット61と62とを有している。ユニット41と42 は、電子出口窓91と92の各々を通過して現れる2つの電子ビームの方向が6 0°から120°の角度をなすように、互いに向かい合うような形で配置される 。ユニット41と42の終端に位置する出口窓91と92の間の領域には、架橋 反応を起こさせようとする例えばケーブル12を載せた製品面11の下に、電子 バッフル板10がある。集束手段251、252の各々は、管状部261、26 2によって加速器管151と152とにそれぞれ接続されている。電子出口窓9 1と92はそれぞれスキャナ81と82の終端にある。 従って図3に従った装置は以下のように動作する。 高電圧部22は電子源141、142及び加速器管151、152と協調して 、望ましくは0.5MeVから5MeVまでのエネルギー範囲で、2つのビーム 電流をつくり出す。しかし、もし適切ならば、改良を加えた分岐装置24、24 ’と、対応する数の電子源と加速器管とを備えて、同一の原理に基づき概ね同一 強度の複数の電流を生成させてもよい。電流はビーム・ガイド・ユニット41、 42によって、2つのスキャナ81、82、あるいはもし適切なのであれば3つ 以上のスキャナに導かれる。電子は、高真空中でビーム・ガイド・ユニットに導 かれて、電子源141、142から加速器管151、152を通って窓91、9 2から管出口に到る。従来の技術に従って、窓91、92は、例えばアルミニウ ムやチタンでできた薄片を有している。 本発明によればこれらのスキャナ81、82(図3)は、図1による構成に類 似して、放出された電子ビームが回転する製品を様々な側面から同時に照射し、 望ましくは同一面内においてほぼ同じビーム強度で照射するよう、幾何学的に配 置される。またスキャナ81、82は、複数偏向によって製品が少なくとも2回 異なった角度で照射ゾーン、すなわち製品面11を通るように、幾何学的に配置 される。 2つの窓91、92の出口主軸が1つの同一面内において90°の角度で、相 互にオフセットを有して相対し ているのが同じように望ましい、図3による2つのスキャナを用いたシステムは 、図1による構成と同様の利点を有している。しかし、ここでもやはり原則的に は、2つのスキャナ81、82は2つの異なる面S、S’(図5)内にあり、互 いに60°から120°までの角度をなしているようにすることもできる。 偏向手段51、52(図1または図3)は高真空チェンバを有し、チャンバ内 には入口及び出口フランジが所望の偏向角度に応じた角度で配置される。また、 2つの対応する形状をした芯付き電磁コイルが互いに向き合った状態で外部に取 り付けられていて、直流電圧により駆動され、真空装置の回りに設置されている 。そうして、入口フランジに集中して当たる電子ビームがユニットの幾何学的な 偏向半径に応じて曲げられ、続く高真空の部分131、132の中に同心的に開 いていくようになっている。 図4はケーブルの断面を図式的に表わしたものであって、ケーブル芯29の回 りの絶縁被覆28の厚さはDであり、この厚さDは、スキャナ81(図1または 図3)を通って向けられてきた電子ビームEに必要とされる浸透距離Hよりわず かに小さいほどの厚さである。同じことがスキャナ82(図1または3)を通っ て向けられてきた電子ビームE’にも相応に当てはまり、その入射方向は電子ビ ームEの入射方向と概ね90°の角度をなすのが望ましい。この図はチューブや パイプにも同様に当 てはまる。 図5は、本発明によれば、スキャナ・ユニット61と62の主軸が、製品面1 1の1つの同じゾーンを横切る同一の対称面S内にあることを示している。しか し本発明は、スキャナ・ユニット61、62’の主軸が2つの平行な面SとS’ の面内にそれぞれあるような装置においても用いることができる。 本発明は、例えば、外側の直径が30mmで壁厚が5mmのケーブルの場合に 約1.5MVの高電圧を使用することによって顕著な架橋の均一性の効果を達成 することができる。 本発明による装置のさらなる利点は、望ましくない電磁放射の発生を遮蔽する ために必要なバンカーの寸法が、2つの電子加速器とオフセット・スキャナを備 えた装置の場合よりもはるかに小さくて済むという点である。 本発明による装置は、例えば0.5MeVから3.0MeVのエネルギー範囲 、20mAから100mAの程度の大きさの電流、及び100kWから150k Wが望ましいが50kWから250kWの放射電力で優れた動作をする。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,SZ,U G),UA(AZ,BY,KG,KZ,RU,TJ,TM ),AL,AM,AT,AU,AZ,BB,BG,BR ,BY,CA,CH,CN,CZ,DE,DK,EE, ES,FI,GB,GE,HU,IS,JP,KE,K G,KP,KR,KZ,LK,LR,LS,LT,LU ,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO, NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,S I,SK,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US ,UZ,VN

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.電子加速器によって生成された2つまたはそれ以上のビーム電流が少なくと も2つのビーム・ガイド・ユニット(41;42)を介して供給され、その各々 が長尺材料(12)に異なった角度で相対するスキャナ・ユニット(61;62 )を有することを特徴とする、電子加速器と照射フィールド手段(製品ハンドリ ング)とを用いた長尺材料の電子線架橋方法。 2.例えば、導体の絶縁用材料、ケーブル被覆、チューブ、パイプ、あるいはこ れらに類似の長尺材料であって、請求項1に記載の方法により放射線化学架橋し た長尺材料。 3.電子加速器(1)が分岐装置(3)に接続され、前記分岐装置(3)にはス キャナ・ユニット(61、62)を各々有する2つのビーム・ガイド・ユニット (41、42)が接続されていることを特徴とする、請求項1に記載の方法を実 施する装置。 4.電子加速器が各々が電子源(141;142)を備える少なくとも2本の加 速器管(151;152)が接続されている分岐装置(24;24’)に接続さ れる高電圧部(22)を具備する点、及び、ビーム・ガイド・ ユニット(41;42)が加速器管(151;152)に接続されて、照射フィ ールド手段に配置した架橋しようとする長尺材料(12)が電子放射場を通過す るたびに少なくとも2つの側から照射されるように幾何学的に配置した点を特徴 とする、請求項1に記載の方法を実施する装置。 5.これらのビーム・ガイド・ユニット(41;42)が偏向ユニット(51; 52)及びスキャナ・ユニット(61;62)を各々具備する点を特徴とする、 請求項3または4に記載の装置。 6.照射が長尺材料(12)の同じ直径面(S)またはゾーン内で少なくともほ ぼ同じ放射強度で行われるように、ビーム・ガイド・ユニット(41;42)が 幾何学的に配置されていることを特徴とする、請求項3、4または5に記載の装 置。 7.長尺材料(12)に交互にまたは一時的に導入される前記少なくとも2つの 電子ビーム電流を供給するために分岐装置(3)がビーム・チョッパ(20)を 具備し、かつ、ビーム・チョッパ(20)の周波数fcはスキャナ・ユニット( 61;62)の周波数fsより著しく小さいかまたは大きいことが望ましく、関 係式:1Hz<fc<100Hzまたはfc>200Hzを周波数f cに適用することが望ましいという点を特徴とする、請求項1から6までのいず れかに記載の装置。 8.クラスタとして、かつ、ビーム・ガイド・ユニット(41;42)のそれぞ れに対して交互に同期した形で電子を導くために、電子源(141)上で動作す る制御ユニット(19’)が隔離手段(19”)によって、分岐装置(3)上で 動作する交番電圧ユニット(19)に接続されていることを特徴とする、請求項 7に記載の装置。 9.分岐装置(24;24’)が、絶縁媒体(27)で満たされた1つの同じ圧 力ハウジング内において少なくとも2本の加速器管(151;152)を具備す ることを特徴とする、請求項4から6までのいずれかに記載の装置。 10.請求項3から9までのいずれかに記載の装置のための手段であって、各々 が磁気偏向手段(51;52)とスキャナ・ユニット(71、81、91;72 、82、92)とを有する少なくとも2つのビーム・ガイド・ユニット(41; 42)を具備することを特徴とする手段。
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