JPH09318831A - Direct plotting method - Google Patents
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- JPH09318831A JPH09318831A JP13225896A JP13225896A JPH09318831A JP H09318831 A JPH09318831 A JP H09318831A JP 13225896 A JP13225896 A JP 13225896A JP 13225896 A JP13225896 A JP 13225896A JP H09318831 A JPH09318831 A JP H09318831A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は直接描画方法に関
し、特に、光学素子の製造分野で用いられ、集光レーザ
を直接光学素子に照射してパターンを描画するような直
接描画方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a direct writing method, and more particularly to a direct writing method used in the field of manufacturing optical elements to directly irradiate an optical element with a focused laser to draw a pattern.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図８は従来の光導波路の製造工程を示す
図である。図８において、たとえば光導波路の作製に
は、図８（ａ）に示すように、基板１の上にクラッド層
２と、光導波路部分になるコア層３と、光感光材である
レジスト４を多層成膜し、レジスト４の上からレーザビ
ーム５を照射してパターニングし、現像すると図８
（ｂ）に示すようにレジスト４がパターンとしてコア層
３上に形成される。そして、図８（ｃ）に示すように、
レジスト４をマスクとして反応性イオンエッチング（Ｒ
ＩＥ）して光導波路部分（コア）を形成する。これに、
図８（ｄ）に示すように、オーバクラッド層６をコア層
３上に形成し、光導波路が完成する。2. Description of the Related Art FIG. 8 is a diagram showing a conventional manufacturing process of an optical waveguide. In FIG. 8, for example, in order to fabricate an optical waveguide, as shown in FIG. 8A, a clad layer 2, a core layer 3 to be an optical waveguide portion, and a resist 4 which is a photosensitive material are provided on a substrate 1. When a multi-layered film is formed, a laser beam 5 is radiated on the resist 4 for patterning, and development is performed.
As shown in (b), a resist 4 is formed as a pattern on the core layer 3. Then, as shown in FIG.
Reactive ion etching (R
IE) is performed to form an optical waveguide portion (core). to this,
As shown in FIG. 8D, the over cladding layer 6 is formed on the core layer 3 to complete the optical waveguide.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】図８に示すように、従
来技術においては、光導波路の形成のために、多数のプ
ロセスを用いる必要がある。また、ＲＩＥは比較的大き
な異方性と選択性を実現することができ、高精度の光学
素子の加工に適しているという利点がある反面、大がか
りな設備を要するため、コスト高になるという欠点があ
った。As shown in FIG. 8, in the prior art, it is necessary to use a large number of processes for forming an optical waveguide. In addition, RIE has the advantage that it can achieve relatively large anisotropy and selectivity and is suitable for processing high-precision optical elements, but on the other hand, it requires large-scale equipment, which results in high cost. was there.
【０００４】それゆえに、この発明の主たる目的は、工
程を簡略化して光学素子の形成が可能な直接描画方法を
提供することである。Therefore, a main object of the present invention is to provide a direct writing method capable of forming an optical element by simplifying the process.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
直接描画方法であって、光学部品の屈折パターンに基づ
きレーザ光源と光学材料とを相対的に移動させ、かつレ
ーザの出力を制御してレーザ光源からのレーザ光を光学
材料に直接描画して光学部品を形成する。The invention according to claim 1 is
A direct writing method, in which the laser light source and the optical material are moved relative to each other based on the refraction pattern of the optical component, and the output of the laser is controlled to directly draw the laser light from the laser light source on the optical material to perform optical Form parts.
【０００６】請求項２に係る発明では、請求項１のレー
ザ光源をＸテーブルに設置し、光学材料をＹテーブルに
配置する。In the invention according to claim 2, the laser light source according to claim 1 is placed on the X table, and the optical material is placed on the Y table.
【０００７】請求項３に係る発明では、請求項１の光学
材料としてフォトポリマを用いる。請求項４に係る発明
では、請求項３のフォトポリマに光導波路を直接描画す
る。In the invention according to claim 3, a photopolymer is used as the optical material according to claim 1. According to the invention of claim 4, the optical waveguide is directly drawn on the photopolymer of claim 3.
【０００８】請求項５に係る発明では、請求項３のフォ
トポリマに回折型光学素子を直接描画する。According to the invention of claim 5, a diffractive optical element is directly drawn on the photopolymer of claim 3.
【０００９】請求項６に係る発明では、請求項３のフォ
トポリマに位相整合のための周期格子を直接描画する。According to the invention of claim 6, a periodic grating for phase matching is directly drawn on the photopolymer of claim 3.
【００１０】請求項７に係る発明は、レーザ光源と光学
材料とを相対的に移動させ、光学材料として非線形光学
材料を用い、そのパターンエッジをレーザ光源で照射す
ることにより光学部品を直接描画する。According to a seventh aspect of the present invention, the laser light source and the optical material are moved relative to each other, a nonlinear optical material is used as the optical material, and the pattern edge is irradiated with the laser light source to directly draw the optical component. .
【００１１】請求項８に係る発明では、請求項７のレー
ザ光源をＸテーブルに設置し、光学材料をＹテーブルに
配置する。In the invention according to claim 8, the laser light source of claim 7 is installed on the X table, and the optical material is arranged on the Y table.
【００１２】請求項９に係る発明では、請求項７の非線
形光学材料に対して光導波路を直接描画する。According to the invention of claim 9, an optical waveguide is directly drawn on the nonlinear optical material of claim 7.
【００１３】請求項１０に係る発明では、請求項７の非
線形光学材料に対して回折型光学素子を直接描画する。According to a tenth aspect of the invention, a diffractive optical element is directly drawn on the nonlinear optical material of the seventh aspect.
【００１４】請求項１１に係る発明では、請求項７の非
線形光学材料に対して位相整合のための周期格子を直接
描画する。According to the invention of claim 11, a periodic grating for phase matching is directly drawn on the nonlinear optical material of claim 7.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】図１はこの発明が適用されるレー
ザビーム描画装置のブロック図である。図１において、
Ｙ軸テーブル２１は被描画物２２を移動させるものであ
り、Ｘ軸テーブル２３は光学ヘッド３８を移動させる。
Ｘ軸テーブル２３はスライドサーボ装置２４によってサ
ーボ制御される。1 is a block diagram of a laser beam drawing apparatus to which the present invention is applied. In FIG.
The Y-axis table 21 moves the drawing object 22, and the X-axis table 23 moves the optical head 38.
The X-axis table 23 is servo-controlled by a slide servo device 24.
【００１６】Ｈｅ−Ｃｄレーザ２５は描画用であって、
発生されたレーザ光は音響光学光変調器（ＡＯＭ）２６
に与えられ、パワーサーボ装置２７によって描画線速度
に応じた光量に制御される。光量制御されたレーザ光は
ＡＯＭ２８によって描画パターンに応じてオン，オフさ
れ、光学ヘッド３８に入射される。光学ヘッド３８には
レンズ２９が設けられ、このレンズ２９によってレーザ
ビーム径が拡大されて２色ミラー３０により集光レンズ
３１に入射され、集光されて被描画物２２が露光され
る。The He-Cd laser 25 is for drawing,
The generated laser light is an acousto-optic light modulator (AOM) 26.
Then, the power servo device 27 controls the light amount according to the drawing linear velocity. The laser beam whose light amount is controlled is turned on and off by the AOM 28 according to the drawing pattern and is incident on the optical head 38. The optical head 38 is provided with a lens 29, the diameter of the laser beam is expanded by the lens 29, the laser beam is incident on the condenser lens 31 by the two-color mirror 30, and is condensed to expose the object 22 to be exposed.
【００１７】Ｈｅ−Ｎｅレーザ３２はフォーカス制御の
ために設けられており、このＨｅ−Ｎｅレーザ３２から
のレーザ光が光学ヘッド３８に入射され、ビームスプリ
ッタ３３によって光軸が曲げられ、λ／４板３４を介し
て２色ミラー３０から集光レンズ３１に入射される。被
描画物２２で反射されたＨｅ−Ｎｅレーザ３２はビーム
スプリッタ３３を通過してフォトダイオード３５に入射
される。このレーザ光はフォトダイオード３５で検出さ
れてフォーカスサーボ装置３６に入力され、フォーカス
サーボ装置３６の出力によって集光レンズ３１を保持す
るアクチュエータ３７が制御されてフォーカス制御が行
なわれる。The He-Ne laser 32 is provided for focus control. The laser light from the He-Ne laser 32 is incident on the optical head 38, the optical axis is bent by the beam splitter 33, and λ / 4. The light is incident on the condenser lens 31 from the two-color mirror 30 via the plate 34. The He—Ne laser 32 reflected by the object 22 to be drawn passes through the beam splitter 33 and is incident on the photodiode 35. This laser light is detected by the photodiode 35 and input to the focus servo device 36, and the output of the focus servo device 36 controls the actuator 37 that holds the condenser lens 31 to perform focus control.
【００１８】図２は図１に示したレーザビーム装置で光
導波路を形成する工程を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a process of forming an optical waveguide by the laser beam device shown in FIG.
【００１９】光導波路は、周囲の物質より屈折率の高い
部分が形成されれば、その部分に光が閉じ込められて光
導波路になる。図２に示した例では、基板１上にクラッ
ド層２を形成し、さらにその上にコア層３としてフォト
ポリマを使用し、これにレーザ光５を照射すると、この
部分の高分子材料の重合が進み、屈折率が上昇する。し
たがって、レーザ照射部分が高屈折率となって光導波路
となり、これに図２（ｂ）に示すようにオーバクラッド
層６を形成すれば光導波路が完成され、図８に示した従
来例に比べて大幅にプロセスを簡略化できる。If a portion having a higher refractive index than the surrounding material is formed in the optical waveguide, light is confined in that portion to become an optical waveguide. In the example shown in FIG. 2, the cladding layer 2 is formed on the substrate 1, and the photopolymer is used as the core layer 3 on the cladding layer 2. When the laser light 5 is irradiated on the photopolymer, the polymer material in this portion is polymerized. And the refractive index rises. Therefore, the laser-irradiated portion has a high refractive index to become an optical waveguide, and the optical waveguide is completed by forming the overclad layer 6 on this portion as shown in FIG. 2B, and compared with the conventional example shown in FIG. The process can be greatly simplified.
【００２０】上述の方法は、光導波路のみでなく、一般
的なホログラムの作成にも有効であり、光利用率の良い
位相型ホログラムが作成できる。特に、コンピュータホ
ログラム技術を用いた回折型光学素子の形成に有効であ
る。The above-described method is effective not only for producing optical waveguides but also for producing general holograms, and it is possible to produce phase holograms with good light utilization. In particular, it is effective for forming a diffractive optical element using a computer hologram technique.
【００２１】図３はコンピュータホログラム手法で描か
れた回折型光学素子の代表であるフレネルゾーンプレー
トを示す図である。図３において、中心からｎ番目の像
の半径ｒn は ｒn ＝√ｎλｆ＋ｎ2 λ2 ／４ ｆ：焦点距離，λ：使用波長 この部分を上述のごとく、フォトポリマのレーザ描画に
より屈折率分布を形成すれば、位相型のフレネルゾーン
プレートを形成できる。このゾーンプレートは通常の凸
レンズの作用をなし、平板状に多数個形成できることか
ら、マイクロレンズアレイなどに応用できる。FIG. 3 is a view showing a Fresnel zone plate which is a typical diffractive optical element drawn by a computer hologram method. 3, the radius r n of the n-th image from the center r n = √nλf + n 2 λ 2/4 f: focal length, lambda: As used wavelength of this portion of the above-described refractive index distribution using a laser patterning photopolymer By forming, the phase type Fresnel zone plate can be formed. Since this zone plate functions as a normal convex lens and can be formed in a large number in a flat plate shape, it can be applied to a microlens array or the like.
【００２２】図４は光導波路型光変調器を示す図であ
る。図４に示した光変調器は、電極１１に変調器駆動信
号１２を印加することにより、出力光を変調またはオ
ン，オフできる。このように電圧などで光学特性が変化
する材料を非線形光学材料と呼ばれるが、有機色素系の
材料がこれに相当する。FIG. 4 is a diagram showing an optical waveguide type optical modulator. The optical modulator shown in FIG. 4 can modulate or turn on / off the output light by applying the modulator driving signal 12 to the electrode 11. A material whose optical characteristics change with voltage or the like is called a non-linear optical material, and an organic dye-based material corresponds to this.
【００２３】図５は図４に示した光導波路型光変調器を
この発明によって形成する工程を示す図であり、図６は
露光量と屈折率との関係を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a process of forming the optical waveguide type optical modulator shown in FIG. 4 according to the present invention, and FIG. 6 is a diagram showing a relationship between an exposure amount and a refractive index.
【００２４】非線形光学材料の１つとして、非線形光学
色素をポリマなどに添加し、電場配向を行なって２次非
線形性を生じさせる。この薄膜に３次元導波路をパター
ン化する有効なものがフォトブリーチ法であり、光照射
による光化学反応により、導波路として使用する以外の
部分の色素を分解して膜の屈折率を低下させ、色素の残
った部分を導波路とする方法がある。この方法は真空プ
ロセスや加熱プロセスを必要としないため、低コストで
耐熱性の低いポリマ材料に対して有効である。フォトブ
リーチ法はフォトマスクを介しての紫外線露光が行なわ
れる。As one of the non-linear optical materials, a non-linear optical dye is added to a polymer or the like, and electric field orientation is performed to generate second-order non-linearity. The photobleaching method is effective for patterning a three-dimensional waveguide on this thin film. The photochemical reaction by light irradiation decomposes the dye in the part other than that used as the waveguide to lower the refractive index of the film, There is a method in which the remaining portion of the dye is used as a waveguide. Since this method does not require a vacuum process or a heating process, it is effective for low-cost and low heat-resistant polymer materials. In the photobleaching method, ultraviolet exposure is performed through a photomask.
【００２５】これに対して、この発明におけるレーザ直
接描画法では、図５に示す非線形光学薄膜３に対して図
１に示したレーザ描画装置によりレーザ光を照射して描
画することにより、図５（ｂ）に示すような導波路を形
成することができる。すなわち、導波路とすべき領域１
３の境界部分をレーザ光５で描画することにより、導波
路を形成する。この方法は製作時間がかかるが、フォト
マスクを必要とせず、１〜２μｍ程度の分解能を比較的
安価で容易に実現できる。また、図６に示すように、露
光量を大小に制御することにより、同一基板中において
異なる屈折率の分布を形成することもできる。On the other hand, in the laser direct writing method according to the present invention, the nonlinear optical thin film 3 shown in FIG. 5 is irradiated with laser light by the laser writing apparatus shown in FIG. A waveguide as shown in (b) can be formed. That is, the region 1 to be the waveguide
A waveguide is formed by drawing the boundary portion of 3 with the laser beam 5. Although this method requires a long manufacturing time, it does not require a photomask and can easily realize a resolution of about 1 to 2 μm at a relatively low cost. Further, as shown in FIG. 6, by controlling the exposure amount to be large or small, different refractive index distributions can be formed in the same substrate.
【００２６】図７はこの発明によって形成される擬似位
相整合素子を示す図である。レーザの波長変換を行なう
場合、入射波と出射波の位相を整合させるために、その
光路中に図７に示すような周期格子１５を設ける方法が
ある。このときの周期格子１５は光の位相変化を発生さ
せる非線形性変化があればよい。したがって、前述の非
線形光学材料の光照射による方法により、これを実現で
きる。FIG. 7 is a diagram showing a quasi phase matching element formed according to the present invention. When wavelength conversion of a laser is performed, there is a method of providing a periodic grating 15 as shown in FIG. 7 in the optical path in order to match the phases of an incident wave and an emitted wave. At this time, the periodic grating 15 may have a non-linear change that causes a phase change of light. Therefore, this can be realized by the method of irradiating the above-mentioned nonlinear optical material with light.
【００２７】なお、図１に示した実施例では、Ｘテーブ
ル２３によって光学ヘッド３８を移動させ、Ｙテーブル
２１によって被描画物２２を移動させるようにしたが、
これに限ることなく、光学ヘッド３８をＸＹ方向に固定
し、Ｘテーブル２３とＹテーブル２２によって被描画物
２２をＸＹ方向に移動させてもよい。また、図３に示し
たフレネルゾーンプレートを作製するために、被描画物
２２を回転テーブルに載せて回転させるようにしてもよ
い。In the embodiment shown in FIG. 1, the optical head 38 is moved by the X table 23 and the object 22 is moved by the Y table 21.
The present invention is not limited to this, and the optical head 38 may be fixed in the XY directions, and the drawing object 22 may be moved in the XY directions by the X table 23 and the Y table 22. Further, in order to manufacture the Fresnel zone plate shown in FIG. 3, the object 22 to be drawn may be placed on a rotary table and rotated.
【００２８】[0028]
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、複雑
な光学素子作製プロセスを簡略化することができ、特に
高価なドライエッチングなどの設備を不要にすることが
できる。特に、ＸＹテーブルと集光レンズにより集光さ
れたレーザビームよりなる簡易なレーザ描画装置を利用
することにより、複雑な形状のパターン描画も可能とな
る。しかも、密着露光に比べて非接触のために、弱い材
料にも利用でき、露光量の変化で同一基板中に複数の異
なる屈折率分布を実現することもできる。As described above, according to the present invention, a complicated optical element manufacturing process can be simplified, and particularly expensive equipment such as dry etching can be eliminated. In particular, by using a simple laser drawing device composed of an XY table and a laser beam condensed by a condenser lens, it is possible to draw a pattern having a complicated shape. Moreover, since it is non-contact compared to contact exposure, it can be used for weak materials, and a plurality of different refractive index distributions can be realized in the same substrate by changing the exposure amount.
【図１】この発明が適用されるレーザビーム描画装置の
ブロック図である。FIG. 1 is a block diagram of a laser beam drawing apparatus to which the present invention is applied.
【図２】図１に示したレーザビーム描画装置で光導波路
を形成する工程を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a step of forming an optical waveguide by the laser beam drawing apparatus shown in FIG.
【図３】この発明によって形成される回折型光学素子の
一例のフレネルゾーンプレートを示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a Fresnel zone plate which is an example of a diffractive optical element formed according to the present invention.
【図４】この発明によって形成される光導波路型光変調
器の原理を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the principle of an optical waveguide type optical modulator formed according to the present invention.
【図５】この発明によって形成される光導波路型光変調
器の形成工程を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a forming process of an optical waveguide type optical modulator formed according to the present invention.
【図６】露光量と屈折率との関係を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a relationship between an exposure amount and a refractive index.
【図７】この発明によって形成される擬似位相整合素子
を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a quasi phase matching element formed according to the present invention.
【図８】従来の光導波路の作業工程を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a work process of a conventional optical waveguide.
１ 基板 ２ クラッド層 ３ コア層 ５ レーザ光 ６ オーバクラッド ８ フレネルゾーンプレート ２１ Ｙテーブル ２３ Ｘテーブル ２４ スライドサーボ装置 ２５ Ｈｅ−Ｃｄレーザ ２６，２８ ＡＯＭ ２７ パワーサーボ装置 ２９ レンズ ３０ ２色ミラー ３１ 集光レンズ ３２ Ｈｅ−Ｎｅレーザ ３３ ビームスプリッタ ３４ λ／４板 ３５ フォトダイオード ３６ フォーカスサーボ装置 ３８ 光学ヘッド 1 substrate 2 clad layer 3 core layer 5 laser light 6 overclad 8 Fresnel zone plate 21 Y table 23 X table 24 slide servo device 25 He-Cd laser 26, 28 AOM 27 power servo device 29 lens 30 two-color mirror 31 condensing Lens 32 He-Ne laser 33 Beam splitter 34 λ / 4 plate 35 Photodiode 36 Focus servo device 38 Optical head
Claims (11)
きレーザ光源と光学材料とを相対的に移動させ、かつレ
ーザの出力を制御して前記レーザ光源からのレーザ光を
前記光学材料に直接描画して光学部品を形成することを
特徴とする、直接描画方法。1. The laser light source and the optical material are moved relative to each other based on the data of the refraction pattern of the optical component, and the laser output is controlled to directly draw the laser light from the laser light source on the optical material. A direct drawing method, which comprises forming an optical component by using
前記光学材料をＹテーブルに配置することを特徴とす
る、請求項１の直接描画方法。2. The laser light source is installed on an X table,
The direct writing method according to claim 1, wherein the optical material is arranged on a Y table.
ることを特徴とする、請求項１の直接描画方法。3. The direct writing method according to claim 1, wherein a photopolymer is used as the optical material.
することを特徴とする、請求項３の直接描画方法。4. The direct writing method according to claim 3, wherein an optical waveguide is directly written on the photopolymer.
接描画することを特徴とする、請求項３の直接描画方
法。5. The direct writing method according to claim 3, wherein a diffractive optical element is directly written on the photopolymer.
期格子を直接描画することを特徴とする、請求項３の直
接描画方法。6. The direct drawing method according to claim 3, wherein a periodic grating for phase matching is directly drawn on the photopolymer.
させ、前記光学材料として非線形光学材料を用い、その
パターンエッジを前記レーザ光源で照射することによ
り、光学部品を直接描画することを特徴とする、直接描
画方法。7. An optical component is directly drawn by moving a laser light source and an optical material relatively, using a non-linear optical material as the optical material, and irradiating a pattern edge of the nonlinear optical material with the laser light source. Direct drawing method.
前記光学材料をＹテーブルに配置することを特徴とす
る、請求項７の直接描画方法。8. The laser light source is installed on an X table,
8. The direct writing method according to claim 7, wherein the optical material is arranged on a Y table.
直接描画することを特徴とする、請求項７の直接描画方
法。9. The direct writing method according to claim 7, wherein an optical waveguide is directly drawn on the nonlinear optical material.
学素子を直接描画することを特徴とする、請求項７の直
接描画方法。10. The direct writing method according to claim 7, wherein a diffractive optical element is directly written on the nonlinear optical material.
合のための周期格子を直接描画することを特徴とする、
請求項７の直接描画方法。11. A periodic grating for phase matching is directly drawn on the non-linear optical material,
The direct drawing method according to claim 7.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13225896A JPH09318831A (en) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | Direct plotting method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13225896A JPH09318831A (en) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | Direct plotting method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09318831A true JPH09318831A (en) | 1997-12-12 |
Family
ID=15077078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13225896A Withdrawn JPH09318831A (en) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | Direct plotting method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09318831A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6477284B1 (en) | 1999-06-14 | 2002-11-05 | Nec Corporation | Photo-electric combined substrate, optical waveguide and manufacturing process therefor |
| JP2003075667A (en) * | 2001-08-28 | 2003-03-12 | Agilent Technol Inc | Columnar integrated circuit and manufacturing method for columnar integrated circuit |
| US6873761B2 (en) | 1999-06-30 | 2005-03-29 | Nec Corporation | Temperature-independent arrayed waveguide grating device |
| WO2006138587A2 (en) * | 2005-06-18 | 2006-12-28 | The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate | Three-dimensional direct-write lithography |
-
1996
- 1996-05-27 JP JP13225896A patent/JPH09318831A/en not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6477284B1 (en) | 1999-06-14 | 2002-11-05 | Nec Corporation | Photo-electric combined substrate, optical waveguide and manufacturing process therefor |
| US6873761B2 (en) | 1999-06-30 | 2005-03-29 | Nec Corporation | Temperature-independent arrayed waveguide grating device |
| JP2003075667A (en) * | 2001-08-28 | 2003-03-12 | Agilent Technol Inc | Columnar integrated circuit and manufacturing method for columnar integrated circuit |
| WO2006138587A2 (en) * | 2005-06-18 | 2006-12-28 | The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate | Three-dimensional direct-write lithography |
| WO2006138587A3 (en) * | 2005-06-18 | 2009-04-16 | Univ Colorado Regents | Three-dimensional direct-write lithography |
| US8597871B2 (en) | 2005-06-18 | 2013-12-03 | The Regents Of The University Of Colorado | Three-dimensional direct-write lithography |
| US8895233B2 (en) * | 2005-06-18 | 2014-11-25 | The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate | Three-dimensional direct-write lithography |
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