JPH09306968A - Cassette stage of substrate treating apparatus - Google Patents

Cassette stage of substrate treating apparatus

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Publication number
JPH09306968A
JPH09306968A JP12034696A JP12034696A JPH09306968A JP H09306968 A JPH09306968 A JP H09306968A JP 12034696 A JP12034696 A JP 12034696A JP 12034696 A JP12034696 A JP 12034696A JP H09306968 A JPH09306968 A JP H09306968A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
substrate
sensor
cover
guides
Prior art date
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Pending
Application number
JP12034696A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Manabu Yabe
学 矢部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH09306968A publication Critical patent/JPH09306968A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the efficiency at manual treatments or maintenance by providing a cover member capable of covering cassette guides, a cassette sensor and a substrate detector member from above to protect the guides and sensor on a cassette stage. SOLUTION: A cover 35 is disposed on a base 3, large enough to cover a cassette holder 30, a pair of first cassette guides 31, a second cassette guides 32, cassette sensor 33 and substrate detecting arm 34 from above. The marginal edge of the top face of the cover 35 is made higher than others to form a recess at a central area, thus forming a component stocking space 35a. This prevents tools and parts from striking against the guides 31, 32, cassette sensor 33, etc., and hence preventing the guides 31, 32, sensor 33, etc., from being damaged.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の基板を収納
したカセットが載置される基板処理装置のカセットステ
ージに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cassette stage of a substrate processing apparatus on which a cassette containing a plurality of substrates is placed.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウェハや液晶表示用ガラス基板等
の基板を処理する装置においては、未処理基板や処理済
み基板を保管するカセットステージと、基板に対して一
連の処理を行う基板処理部とを有している。カセットス
テージには、一般的に複数のカセットが載置できるよう
になっており、各カセットには複数の基板が収納されて
いる。
2. Description of the Related Art In an apparatus for processing a substrate such as a semiconductor wafer or a glass substrate for liquid crystal display, a cassette stage for storing an unprocessed substrate or a processed substrate, and a substrate processing section for performing a series of processes on the substrate. have. Generally, a plurality of cassettes can be placed on the cassette stage, and a plurality of substrates are stored in each cassette.

【0003】自動処理が行われる場合は、自動搬送装置
等によって基板の収納されたカセットがカセットステー
ジ上の所定の位置に載置される。その後、カセットステ
ージの基板移載ロボットや基板処理部側の基板搬送ロボ
ットによって基板が各処理部間で搬送され、処理液塗
布、現像処理、乾燥等の処理が自動的に行われる。
When automatic processing is performed, a cassette containing substrates is placed at a predetermined position on a cassette stage by an automatic transfer device or the like. After that, the substrate is transferred between the processing units by the substrate transfer robot on the cassette stage or the substrate transfer robot on the substrate processing unit side, and the processing liquid application, development processing, and drying processing are automatically performed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】前述のような基板処理
装置において、カセットステージには、カセットの位置
決めを行うためのカセットガイド、カセットが載置され
たことを検出するためのカセットセンサ、基板検出アー
ム等が配置され、これらは上方に突出している。ところ
で、基板処理装置において、テスト等の手動処理時や、
メンテナンス時には、基板の処理と関係のないカセット
や、テストやメンテナンスに必要な部品や工具等を一時
的にカセットステージ上に置く場合がある。特にカセッ
トステージの高さは、前記のような用途に非常に都合の
良い高さである。
In the substrate processing apparatus as described above, the cassette stage has a cassette guide for positioning the cassette, a cassette sensor for detecting the placement of the cassette, and a substrate detection device. Arms and the like are arranged, and these protrude upward. By the way, in the substrate processing apparatus, during manual processing such as testing,
At the time of maintenance, there are cases where a cassette unrelated to the processing of the substrate and parts and tools necessary for testing and maintenance are temporarily placed on the cassette stage. Especially, the height of the cassette stage is very convenient for the above-mentioned applications.

【0005】しかし、前述のように、カセットステージ
上には、カセットガイド、カセットセンサ、基板検出ア
ーム等が上方に突出して配置されているため、部品や工
具等を置いた場合は不安定であるし、また部品や工具等
がカセットガイドやカセットセンサ等に当たってこれら
が損傷する場合がある。本発明の課題は、カセットステ
ージ上のガイドやセンサ等を保護することにある。
However, as described above, since the cassette guide, the cassette sensor, the substrate detection arm, and the like are arranged so as to project upward on the cassette stage, it is unstable when parts and tools are placed. In addition, parts, tools, etc. may hit the cassette guide, cassette sensor, etc. and be damaged. An object of the present invention is to protect guides, sensors, etc. on the cassette stage.

【0006】本発明の別の課題は、カセットステージ上
のガイドやセンサ等を保護するとともに、手動処理時や
メンテナンス時等の作業性を良くすることにある。
Another object of the present invention is to protect guides, sensors and the like on the cassette stage and improve workability during manual processing and maintenance.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1に係るカセット
ステージは、複数の基板を収納したカセットが載置され
る基板処理装置のカセットステージであって、上面にカ
セットが載置される基台と、基台上でのカセットの位置
決めを行うためのカセットガイドと、カセットが基台上
の所定位置に載置されたことを検出するカセットセンサ
と、基台上に載置されたカセット内の基板を検出するた
めの基板検出部材と、カセットガイド、カセットセンサ
及び基板検出部材の上部を覆うことが可能なカバー部材
とを備えている。
A cassette stage according to claim 1 is a cassette stage of a substrate processing apparatus on which a cassette containing a plurality of substrates is placed, and a base on which the cassette is placed. A cassette guide for positioning the cassette on the base, a cassette sensor for detecting that the cassette has been placed at a predetermined position on the base, and a cassette sensor inside the cassette placed on the base. A substrate detection member for detecting the substrate and a cover member capable of covering the cassette guide, the cassette sensor, and the upper portion of the substrate detection member are provided.

【0008】このカセットステージでは、カセットガイ
ドによって決められた基台上の所定の位置にカセットが
載置される。カセットが載置されると、カセットセンサ
によってその旨が検出され、例えば、カセットステージ
の基板移載用のロボットが移載動作を開始する。カセッ
ト内の基板は基板検出部材によって検出され、その結果
によって例えば移載ロボットが制御される。装置のメン
テナンス時等においてカセットガイド、カセットセンサ
及び基板検出部材を使用しない場合は、これらをカバー
部材で覆う。これにより、工具等がセンサ等に当たって
センサ等が損傷するのを防止できる。また、カバー部材
の上に工具等を置くこともでき、メンテナンス時等の作
業性が向上する。
In this cassette stage, the cassette is placed at a predetermined position on the base determined by the cassette guide. When the cassette is placed, the fact is detected by the cassette sensor, and for example, the substrate transfer robot on the cassette stage starts the transfer operation. The substrate in the cassette is detected by the substrate detection member, and the transfer robot is controlled by the result. When the cassette guide, the cassette sensor, and the substrate detection member are not used at the time of maintenance of the apparatus, these are covered with a cover member. As a result, it is possible to prevent the sensor or the like from being damaged by the tool or the like hitting the sensor or the like. Further, a tool or the like can be placed on the cover member, which improves workability during maintenance and the like.

【0009】請求項2に係るカセットステージは、請求
項1のカセットステージにおいて、基台は、カバー部材
を収納可能な収納部を有している。ここでは、カバー部
材を使用しないときは、基台の内部に収納しておくこと
ができ、操作性が向上する。請求項3に係るカセットス
テージは、請求項1又は2のカセットステージにおい
て、カバー部材は、板状部材であり、上面に凹部を有し
ている。ここでは、カバー部材の上の凹部に工具やビス
等の部品を置きやすく、作業性が向上する。
A cassette stage according to a second aspect is the cassette stage according to the first aspect, wherein the base has an accommodating portion capable of accommodating the cover member. Here, when the cover member is not used, it can be stored inside the base, and the operability is improved. A cassette stage according to a third aspect is the cassette stage according to the first or second aspect, wherein the cover member is a plate-shaped member and has a recess on the upper surface. Here, it is easy to place parts such as tools and screws in the recesses on the cover member, and workability is improved.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施形態が採用
された基板処理装置の全体斜視図である。この基板処理
装置は、半導体ウェハ(以下、基板と記す)に対して塗
布処理、現像処理、加熱処理及び冷却処理を行うための
装置であり、未処理基板や処理済み基板を保管するカセ
ットステージ1と、基板に対して前記の一連の処理を行
う基板処理部2とを有している。
1 is an overall perspective view of a substrate processing apparatus to which an embodiment of the present invention is applied. This substrate processing apparatus is an apparatus for performing a coating process, a developing process, a heating process, and a cooling process on a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a substrate), and a cassette stage 1 for storing unprocessed substrates and processed substrates. And a substrate processing unit 2 that performs the series of processes described above on the substrate.

【0011】カセットステージ1は、上面に4つのカセ
ットCを並べて載置可能な基台3と、カセットCの配列
方向に沿って移動可能な移載ロボット4とを有してい
る。カセットCは、それぞれ基板を上下方向に多段で収
納できるようになっている。また移載ロボット4は、カ
セットCに対して基板を出し入れし、基板処理部2との
間で基板の受け渡しを行う。
The cassette stage 1 has a base 3 on the upper surface of which four cassettes C can be placed side by side, and a transfer robot 4 movable along the arrangement direction of the cassettes C. Each of the cassettes C is capable of accommodating substrates in multiple stages in the vertical direction. Further, the transfer robot 4 takes a substrate in and out of the cassette C and transfers the substrate to and from the substrate processing section 2.

【0012】基板処理部2は、カセットCの配列方向に
対して直交する方向に配列されたスピンコータ10及び
それぞれ現像処理を行う2つのスピンデベロッパ11,
12と、スピンコータ10及び2つのスピンデベロッパ
11,12のそれぞれに対向するように配置されたクー
リングプレート15及びホットプレート16とを有して
いる。そして、スピンコータ10及びスピンデベロッパ
11,12とクーリングプレート15及びホットプレー
ト16との間には、これらが配列された方向に移動可能
な搬送ロボット17が設けられている。搬送ロボット1
7は、水平方向及び上下方向に移動可能な移動台20
と、基板を支持可能なアーム21とを有している。アー
ム21は、移動台20に対して進退可能に設けられると
ともに、その進退は、移動台20が水平面内で旋回する
ことによりいずれの方向にも可能となっている。
The substrate processing section 2 includes a spin coater 10 arranged in a direction orthogonal to the arrangement direction of the cassettes C, and two spin developers 11 for performing development processing, respectively.
12, a spin coater 10 and a cooling plate 15 and a hot plate 16 arranged to face the spin developers 11 and 12, respectively. Further, between the spin coater 10 and the spin developers 11, 12 and the cooling plate 15 and the hot plate 16, there is provided a transfer robot 17 which is movable in the direction in which they are arranged. Transport robot 1
7 is a movable table 20 which can be moved horizontally and vertically.
And an arm 21 capable of supporting the substrate. The arm 21 is provided so as to be able to advance and retreat with respect to the moving table 20, and the arm 21 can move in any direction by turning the moving table 20 in a horizontal plane.

【0013】なお、図1では省略しているが、この基板
処理装置は、基板を露光装置等の他の基板処理装置との
間で受け渡しするインターフェース部を有している。カ
セットステージ1について、図2の平面図及び図3の斜
視図を用いて詳細に説明する。基台3の上面には、上面
にカセットCが載置される4つのカセット受け30と、
カセットCの側壁外部に当接する1対の第1カセットガ
イド31と、カセットCの側壁の一端に当接する1対の
第2カセットガイド32とが、上方に突出して設けられ
ている。また、1対のカセットガイド31の間には、カ
セットCが載置されたことを検出するためのカセットセ
ンサ33が設けられている。さらに、載置されたカセッ
トCの外周半分を囲むように、C字状の基板検出アーム
34が昇降可能に設けられている。この基板検出アーム
34の先端には、発光素子34a及び受光素子34bが
対向するように配置されており、カセットC内の基板が
検出できるようになっている。
Although not shown in FIG. 1, this substrate processing apparatus has an interface section for transferring the substrate to and from another substrate processing apparatus such as an exposure apparatus. The cassette stage 1 will be described in detail with reference to the plan view of FIG. 2 and the perspective view of FIG. On the upper surface of the base 3, four cassette receivers 30 on which the cassette C is placed,
A pair of first cassette guides 31 contacting the outside of the side wall of the cassette C and a pair of second cassette guides 32 contacting one end of the side wall of the cassette C are provided so as to project upward. Further, a cassette sensor 33 for detecting that the cassette C is placed is provided between the pair of cassette guides 31. Further, a C-shaped substrate detection arm 34 is provided so as to be able to move up and down so as to surround the outer peripheral half of the mounted cassette C. A light emitting element 34a and a light receiving element 34b are arranged at the tip of the substrate detection arm 34 so as to face each other, and the substrate in the cassette C can be detected.

【0014】また、基台3上には、図3に示すようなカ
バー35を配置することが可能である。カバー35は、
矩形上であり、前述の基台3上の各構成部品、すなわち
カセット受け30、1対の第1カセットガイド31、第
2カセットガイド32、カセットセンサ33及び基板検
出アーム34を上部から覆うことが可能な大きさに形成
されている。このカバー35には、4隅に脚36が設け
られており、脚36の長さは、前記各構成部品のうちの
最も高さの高いもの(第1カセットガイド31)より長
く形成されている。また、カバー35の上面において、
外周縁部は他の部分より高くなっており、このため中央
部分は凹状で、部品等の保管スペース35aになってい
る。
A cover 35 as shown in FIG. 3 can be arranged on the base 3. The cover 35 is
It is rectangular and covers each component on the base 3, that is, the cassette receiver 30, the pair of first cassette guide 31, second cassette guide 32, cassette sensor 33, and substrate detection arm 34 from above. It is formed to the size possible. The cover 35 is provided with legs 36 at four corners, and the length of the legs 36 is longer than that of the tallest component (first cassette guide 31) among the above-mentioned components. . In addition, on the upper surface of the cover 35,
The outer peripheral edge portion is higher than the other portions, so that the central portion is concave and serves as a storage space 35a for parts and the like.

【0015】そして、基台3には、前記カバー35を収
納可能な収納スペース40が形成されており、カバー3
5を使用しない場合は、この収納スペース40に収納し
ておくことが可能である。このような基板処理装置で
は、カセットステージ1に搬入されてきたカセットCの
基板が移載ロボット4によって基板処理部2の搬送ロボ
ット17に引き渡される。搬送ロボット17は、予めプ
ログラムされた搬送順序にしたがって、スピンコータ1
0、スピンデベロッパ11,12、クーリングプレート
15及びホットプレート16の間で基板を搬送する。ま
た、この処理途中で、図示しないインターフェース部を
介して、別の露光装置との間で基板のやりとりが行われ
る。各処理部で処理された基板は、搬送ロボット17に
よってカセットステージ1の移載ロボット4に引き渡さ
れ、カセットC内に収納される。
A storage space 40 is formed in the base 3 to store the cover 35.
When 5 is not used, it can be stored in this storage space 40. In such a substrate processing apparatus, the substrate of the cassette C loaded into the cassette stage 1 is transferred by the transfer robot 4 to the transfer robot 17 of the substrate processing unit 2. The transfer robot 17 uses the spin coater 1 according to a pre-programmed transfer order.
The substrate is transported between 0, the spin developers 11 and 12, the cooling plate 15, and the hot plate 16. In the middle of this process, the substrate is exchanged with another exposure apparatus via an interface unit (not shown). The substrate processed by each processing unit is delivered to the transfer robot 4 of the cassette stage 1 by the transfer robot 17 and stored in the cassette C.

【0016】以上のような自動処理において、複数のス
テージのうちのいくつかを使用しない場合は、カバー3
5を収納スペース40から引き出し、このステージに設
置しておけば、カバー35の上面を台として使用でき
る。また、手動処理時においても、同様である。また、
メンテナンス時においては、取り外した部品やビス等
を、カバー35の保管スペース35aに保管でき、作業
性が向上する。さらに、これらの作業中に、カバー35
によって、工具や部品等がカセットガイド31,32や
カセットセンサ33等と当たるのを防止でき、カセット
ガイド31,32やカセットセンサ33等の損傷を防止
できる。
In the above automatic processing, when some of the plurality of stages are not used, the cover 3
If 5 is pulled out from the storage space 40 and installed on this stage, the upper surface of the cover 35 can be used as a stand. The same applies to the manual processing. Also,
At the time of maintenance, the removed parts, screws and the like can be stored in the storage space 35a of the cover 35, and the workability is improved. Furthermore, during these operations, the cover 35
Thus, it is possible to prevent the tools, parts, etc. from hitting the cassette guides 31, 32, the cassette sensor 33, etc., and prevent damage to the cassette guides 31, 32, cassette sensor 33, etc.

【0017】〔他の実施形態〕 (a)前記実施形態では、カバー35に脚36を設けた
が、カバー裏面に、基台3上の構成部品のうちで最も高
さの高いカセットガイドが嵌合する穴を設けてもよい。
この場合は、カバーの設置に際して、カバー裏面とカセ
ットガイドとが固定されるので、カバー設置状態が安定
する。
[Other Embodiments] (a) In the above embodiment, the legs 36 are provided on the cover 35, but the highest cassette guide among the components on the base 3 is fitted to the back surface of the cover. Mating holes may be provided.
In this case, since the back surface of the cover and the cassette guide are fixed when the cover is installed, the cover installation state is stable.

【0018】(b)カバー35の上面の形状は前記実施
形態に限定されない。平面であってもよい。
(B) The shape of the upper surface of the cover 35 is not limited to the above embodiment. It may be a plane.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上のように請求項1に係るカセットス
テージでは、装置のメンテナンス時等において、カセッ
トガイド、カセットセンサ及び基板検出部材をカバー部
材で覆うことができるので、工具等がセンサ等に当たっ
てセンサ等が損傷するのを防止できる。また、カバー部
材の上に工具等を置くこともでき、メンテナンス時等の
作業性が向上する。
As described above, in the cassette stage according to claim 1, the cassette guide, the cassette sensor and the substrate detecting member can be covered with the cover member at the time of maintenance of the apparatus, so that the tool or the like hits the sensor or the like. It is possible to prevent the sensor and the like from being damaged. Further, a tool or the like can be placed on the cover member, which improves workability during maintenance and the like.

【0020】請求項2に係るカセットステージでは、カ
バー部材を基台の内部に収納できるので、操作性が向上
する。請求項3に係るカセットステージでは、カバー部
材の上の凹部に工具やビス等の部品を置きやすく、作業
性が向上する。
In the cassette stage according to the second aspect, since the cover member can be housed inside the base, operability is improved. In the cassette stage according to the third aspect, it is easy to place parts such as tools and screws in the recesses on the cover member, and workability is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施形態が採用された基板処理装置
の全体斜視図。
FIG. 1 is an overall perspective view of a substrate processing apparatus adopting an embodiment of the present invention.

【図2】カセットステージの平面部分図。FIG. 2 is a partial plan view of a cassette stage.

【図3】カセットステージの斜視部分図。FIG. 3 is a partial perspective view of a cassette stage.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 カセットステージ 3 基台 30 カセット受け 31,32 カセットガイド 33 カセットセンサ 34 基板検出アーム 35 カバー 35a 保管スペース 40 収納スペース 1 cassette stage 3 base 30 cassette receiver 31, 32 cassette guide 33 cassette sensor 34 substrate detection arm 35 cover 35a storage space 40 storage space

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数の基板を収納したカセットが載置され
る基板処理装置のカセットステージであって、 上面に前記カセットが載置される基台と、 前記基台上での前記カセットの位置決めを行うためのカ
セットガイドと、 前記カセットが前記基台上の所定位置に載置されたこと
を検出するカセットセンサと、 前記基台上に載置されたカセット内の基板を検出するた
めの基板検出部材と、 前記カセットガイド、カセットセンサ及び基板検出部材
の上部を覆うことが可能なカバー部材と、を備えた基板
処理装置のカセットステージ。
1. A cassette stage of a substrate processing apparatus on which a cassette containing a plurality of substrates is mounted, the base on which the cassette is mounted, and the positioning of the cassette on the base. A cassette guide for performing the above, a cassette sensor for detecting that the cassette is placed at a predetermined position on the base, and a substrate for detecting a substrate in the cassette placed on the base. A cassette stage of a substrate processing apparatus, comprising: a detection member; and a cover member capable of covering the cassette guide, the cassette sensor, and the upper portion of the substrate detection member.
【請求項2】前記基台は、前記カバー部材を収納可能な
収納部を有している、請求項1に記載の基板処理装置の
カセットステージ。
2. The cassette stage of the substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the base has an accommodating portion capable of accommodating the cover member.
【請求項3】前記カバー部材は、板状部材であり、上面
に凹部を有している、請求項1又は2に記載の基板処理
装置のカセットステージ。
3. The cassette stage of the substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the cover member is a plate-shaped member and has a recess on the upper surface.
JP12034696A 1996-05-15 1996-05-15 Cassette stage of substrate treating apparatus Pending JPH09306968A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007287979A (en) * 2006-04-18 2007-11-01 Shinko Electric Co Ltd Load port device and base cover member

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007287979A (en) * 2006-04-18 2007-11-01 Shinko Electric Co Ltd Load port device and base cover member

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