JPH09306634A - Microgap surge absorber - Google Patents

Microgap surge absorber

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JPH09306634A
JPH09306634A JP12468596A JP12468596A JPH09306634A JP H09306634 A JPH09306634 A JP H09306634A JP 12468596 A JP12468596 A JP 12468596A JP 12468596 A JP12468596 A JP 12468596A JP H09306634 A JPH09306634 A JP H09306634A
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microgap
surge absorber
electrodes
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Yoshiyuki Tanaka
芳幸 田中
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Mitsubishi Materials Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make a surge absorber small and enhance its life characteristics. SOLUTION: An element 13 having a ceramic element body 14 on which a conductive film 16 is formed and a microgap 18 formed on the circumferential surface of the ceramic element body 14 is housed in a container 12 for keeping insulation. A pair of cap electrodes 17, 17 is formed at both ends of element 13, and gas not containing molecular state oxygen is sealed in the container 12. An optical shield 14b is arranged between a pair of cap electrodes 17, 17 and a microgap 18. The ceramic element body 14 is formed in an element with step having a smaller diameter part 14a than the outer diameter of a part coming in contact with the cap electrodes 17, 17 of the ceramic element body 14 in a part far from the cap electrodes 17, 17, and the microgap 18 is formed on the circumferential surface of the small diameter part 14a. The shield 14b is the step part of the ceramic element body 14.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電話機、ファクシ
ミリ、電話交換機、モデム等の通信機器用の電子機器に
印加されるサージ電圧の吸収機能を有するサージアブソ
ーバに関する。更に詳しくは、マイクロギャップを有す
る素子を不活性ガス等とともにガラス管等に封止(herm
etic seal)した放電型のサージアブソーバに関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surge absorber having a function of absorbing a surge voltage applied to electronic equipment for communication equipment such as telephones, facsimiles, telephone exchanges and modems. More specifically, a device having a microgap is sealed in a glass tube or the like together with an inert gas (herm
etic seal) is a discharge type surge absorber.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、マイクロギャップ式サージアブソ
ーバとして、図6に示すようにムライトなどの絶縁性セ
ラミックスで作製された円柱状のセラミック素体3aの
表面を金属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物等の
導電性皮膜3bにより被包して素子3が形成され、この
素子3の周面に円周方向に幅10〜1000μmの1本
又は2本以上の線条のマイクロギャップ3cをレーザ光
等にて形成することにより導電性皮膜3bが電気的に複
数に分割され、更に上記素子3の両端に一対のリード線
4,4を有する一対のキャップ電極9,9を嵌着しこれ
らのリード線4,4の一部を含めた状態でガラス管2に
封入されたサージアブソーバ1が知られている。このサ
ージアブソーバ1では、ガラス管2内にN2、Ar、H
e、CO2、CO、SF6等のガスが充填される。一方、
マイクロギャップ式サージアブソーバとして、図7に示
すように両端に一対のキャップ電極が嵌着されたマイク
ロギャップ式の素子3を一対のリード線8,8付きの封
止電極7,7により挟持した状態でガラス管6に封止し
たサージアブソーバ5も知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a microgap type surge absorber, as shown in FIG. 6, the surface of a cylindrical ceramic body 3a made of an insulating ceramic such as mullite is used to form a metal, a metal oxide, or a metal nitride on the surface. A device 3 is formed by being covered with a conductive film 3b such as a metal carbide, and a laser is provided on the circumferential surface of the device 3 with one or two or more linear microgaps 3c having a width of 10 to 1000 μm in the circumferential direction. The conductive film 3b is electrically divided into a plurality of parts by being formed by light or the like, and further, a pair of cap electrodes 9 and 9 having a pair of lead wires 4 and 4 are fitted to both ends of the element 3 to fit them. There is known a surge absorber 1 that is enclosed in a glass tube 2 in a state in which some of the lead wires 4 and 4 are included. In this surge absorber 1, N 2 , Ar, H
A gas such as e, CO 2 , CO, SF 6 or the like is filled. on the other hand,
As a microgap type surge absorber, a state in which a microgap type element 3 having a pair of cap electrodes fitted at both ends as shown in FIG. 7 is sandwiched by a pair of lead wires 8 and a sealing electrode 7 having 8 A surge absorber 5 sealed in a glass tube 6 is also known.

【0003】これらのマイクロギャップ式サージアブソ
ーバ1又は5は電源回路中に電子機器に対して並列に若
しくは接地回路として接続される。通常はマイクロギャ
ップ3cの存在によりサージアブソーバ1又は5には電
流は流れないけれども、電源回路にサージが侵入して一
定値以上のサージ電圧がサージアブソーバ1又は5に印
加されると、マイクロギャップ3c間をグロー放電が生
じ、次いでこれが導電性皮膜3bに沿った沿面放電とな
り、更にサージが継続するとイオンの発生を伴う一対の
キャップ電極9,9間のアーク放電となる。この結果、
サージ電圧に起因する電流はサージアブソーバ1又は5
のみ流れ電子機器には流れないので、電子機器がサージ
から保護されるようになっている。
These microgap type surge absorbers 1 or 5 are connected in parallel to an electronic device in a power supply circuit or as a ground circuit. Normally, no current flows through the surge absorber 1 or 5 due to the presence of the microgap 3c, but if a surge voltage enters the power supply circuit and a surge voltage above a certain value is applied to the surge absorber 1 or 5, the microgap 3c A glow discharge is generated between the electrodes, which then becomes a creeping discharge along the conductive film 3b, and when the surge continues, an arc discharge occurs between the pair of cap electrodes 9 and 9 accompanied by the generation of ions. As a result,
The current caused by the surge voltage is surge absorber 1 or 5
Only the current flows to the electronic device, so the electronic device is protected from surge.

【0004】しかし、上記マイクロギャップ式サージア
ブソーバ1又は5では、サージアブソーバ1又は5にサ
ージ電圧が印加されて一対のキャップ電極9,9間でア
ーク放電が行われると、いずれか一方のキャップ電極9
でこの電極材料の金属イオンが発生し、このイオンがマ
イクロギャップ3cを汚損する。このサージ電圧がサー
ジアブソーバ1又は5に繰返し印加すると、マイクロギ
ャップ3cが上記金属イオンによる金属で埋まることに
より、分割された導電性皮膜3bが導通し、サージアブ
ソーバ1又は5がその本来の機能を果たせなくなる恐れ
があった。
However, in the above-mentioned microgap type surge absorber 1 or 5, when a surge voltage is applied to the surge absorber 1 or 5 to cause arc discharge between the pair of cap electrodes 9, 9, either one of the cap electrodes is discharged. 9
Then, metal ions of this electrode material are generated, and these ions contaminate the microgap 3c. When this surge voltage is repeatedly applied to the surge absorber 1 or 5, the micro gap 3c is filled with the metal by the above-mentioned metal ions, so that the divided conductive film 3b becomes conductive, and the surge absorber 1 or 5 performs its original function. I couldn't finish.

【0005】この点を解消するために、本出願人はセラ
ミック素体の半径方向に導電性皮膜と間隔をあけかつこ
の導電性皮膜を包囲する一対の環状のアーク放電吸収用
電極が設けられ、これら一対のアーク放電吸収用電極が
相対向して一対の封止電極にそれぞれ電気的に接続され
たサージアブソーバを特許出願した(特開平6−310
251)。環状のアーク放電吸収用電極はキャップ電極
を収容するようにキャップ電極と別に組込むか、或いは
キャップ電極の端部周縁をキャップ電極より大径にして
キャップ電極と一体的に形成される。このように構成さ
れたサージアブソーバでは、アーク放電が導電性皮膜か
ら浮上した一対のアーク放電吸収用電極間で行われるの
で、マイクロギャップ、導電性皮膜及びキャップ電極の
疲労又は劣化を軽減し、サージ寿命特性を向上すること
ができるようになっている。
In order to solve this problem, the present applicant has provided a pair of annular arc discharge absorbing electrodes spaced apart from and surrounding the conductive coating in the radial direction of the ceramic body, A patent application has been filed for a surge absorber in which the pair of arc discharge absorbing electrodes face each other and are electrically connected to the pair of sealing electrodes, respectively (Japanese Patent Laid-Open No. 6-310).
251). The ring-shaped arc discharge absorbing electrode is incorporated separately from the cap electrode so as to accommodate the cap electrode, or is formed integrally with the cap electrode such that the peripheral edge of the cap electrode has a larger diameter than the cap electrode. In the surge absorber configured as described above, since arc discharge is performed between the pair of arc discharge absorbing electrodes that float from the conductive film, fatigue or deterioration of the microgap, the conductive film and the cap electrode is reduced, and the surge is reduced. The life characteristics can be improved.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の改
善されたサージアブソーバでは、アーク放電吸収用電極
の外径をセラミック素体の外径より大きく形成しなけれ
ばならず、サージアブソーバが大型化する問題点があっ
た。またアーク放電吸収用電極を独立した部品として組
込むか、或いはキャップ電極を特殊形状に加工する必要
があった。本発明の目的は、小型で、サージ寿命特性を
向上できるマイクロギャップ式サージアブソーバを提供
することにある。本発明の別の目的は、部品点数が少な
く、かつキャップ電極に特殊加工を要することのないマ
イクロギャップ式サージアブソーバを提供することにあ
る。
However, in the above-mentioned conventional improved surge absorber, the outer diameter of the arc discharge absorbing electrode must be made larger than the outer diameter of the ceramic body, and the surge absorber becomes large in size. There was a problem to do. Further, it is necessary to incorporate the arc discharge absorbing electrode as an independent component or process the cap electrode into a special shape. An object of the present invention is to provide a microgap type surge absorber that is small in size and can improve surge life characteristics. Another object of the present invention is to provide a microgap type surge absorber which has a small number of parts and does not require special processing of the cap electrode.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
図1に示すように、一対の主放電電極17,17とマイ
クロギャップ18との間に光学的な遮蔽物14bが配設
されたマイクロギャップ式サージアブソーバである。こ
の請求項1に係るマイクロギャップ式サージアブソーバ
では、主放電電極17で発生した金属イオンは光学的な
遮蔽物14bに付着し、この遮蔽物14bにより遮られ
たマイクロギャップ18には付着しないので、マイクロ
ギャップ18により分割された複数の導電性皮膜16が
導通することがない。
The invention according to claim 1 is
As shown in FIG. 1, it is a microgap type surge absorber in which an optical shield 14 b is arranged between a pair of main discharge electrodes 17, 17 and a microgap 18. In the microgap type surge absorber according to claim 1, since the metal ions generated in the main discharge electrode 17 adhere to the optical shield 14b and do not adhere to the microgap 18 shielded by the shield 14b, The plurality of conductive films 16 divided by the micro gap 18 do not conduct.

【0008】本発明において、主放電電極17とマイク
ロギャップ18との間に光学的な遮蔽物14bを配設す
ることにより、上記のような作用を示すのは、金属イオ
ンの直進性による。即ち一対の主放電電極17,17の
いずれか一方で発生した金属イオンは対極に向って進む
が、このとき遮蔽物14bが存在しないと、上記主放電
電極17に最も近い対極であるマイクロギャップ18の
周縁に衝突し、この周縁で放電して金属に還元される。
しかし遮蔽物14bが存在すると、その慣性により遮蔽
物14bに衝突してこの遮蔽物14bにて金属に還元さ
れるので、マイクロギャップ18が汚損されなくなる。
In the present invention, the optical shield 14b provided between the main discharge electrode 17 and the microgap 18 exhibits the above-mentioned action due to the linearity of the metal ions. That is, the metal ions generated in either one of the pair of main discharge electrodes 17 progress toward the counter electrode, but if the shield 14b is not present at this time, the microgap 18 which is the counter electrode closest to the main discharge electrode 17 is present. It collides with the peripheral edge of and is discharged at this peripheral edge to be reduced to metal.
However, when the shield 14b is present, it collides with the shield 14b due to its inertia and is reduced to metal by the shield 14b, so that the microgap 18 is not contaminated.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】次に本発明の第1の実施の形態を
図面に基づいて詳しく説明する。図1に示すように、サ
ージアブソーバ11はマイクロギャップ式の放電型サー
ジアブソーバであり、絶縁性を保つ容器12の内部に素
子13を収容することにより構成される。素子13はセ
ラミック素体14と、このセラミック素体14の表面に
形成された導電性皮膜16と、セラミック素体14の周
面に円周方向に形成されたマイクロギャップ18とを有
する。素子13の両端には一対の主放電電極である一対
のキャップ電極17,17が嵌着される。セラミック素
体14には一対のキャップ電極17,17から離れた部
分に、セラミック素体14のキャップ電極17,17に
接する部分の外径より小さい小径部14aを有する段付
き素体に形成される。またマイクロギャップ18は上記
小径部14aの周面に形成される。セラミック素体14
に小径部14aを形成することにより、セラミック素体
14に段付き部14bが形成され、この段付き部14b
が一対のキャップ電極17,17とマイクロギャップ1
8との間の光学的な遮蔽物となる。
Next, a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the surge absorber 11 is a micro-gap type discharge surge absorber, and is configured by housing an element 13 inside a container 12 that maintains insulation. The element 13 has a ceramic body 14, a conductive film 16 formed on the surface of the ceramic body 14, and a microgap 18 circumferentially formed on the peripheral surface of the ceramic body 14. A pair of cap electrodes 17, 17 which are a pair of main discharge electrodes are fitted to both ends of the element 13. The ceramic body 14 is formed into a stepped body having a small-diameter portion 14a that is smaller than the outer diameter of the portion of the ceramic body 14 that is in contact with the cap electrodes 17 and 17 at a portion apart from the pair of cap electrodes 17 and 17. . The micro gap 18 is formed on the peripheral surface of the small diameter portion 14a. Ceramic body 14
The stepped portion 14b is formed in the ceramic body 14 by forming the small diameter portion 14a in the stepped portion 14b.
Is a pair of cap electrodes 17, 17 and a microgap 1
It becomes an optical shield between 8 and.

【0010】本発明の絶縁性を保つ容器は、ガラス管若
しくは絶縁性セラミック管からなる容器、ガラス管若し
くは絶縁性セラミック管の一部に金属管を用いた容器、
或いは金属管の一部にガラス若しくは絶縁性セラミック
材料を用いた容器である。ガラス管は鉛ガラス、バリウ
ムガラス、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス等から作ら
れる。セラミック素体14はアルミナ、ムライト、コラ
ンダム・ムライト等により形成され、その形状は小径部
以外の部分及び小径部ともに、円柱、楕円柱状、直方
体、立方体、円錐台、三角柱その他の角柱、三角錐台そ
の他の角錐台若しくはこれらを変形加工したものを用い
ることができる。セラミック素体14のうちキャップ電
極17が嵌着された部分の外径に対する小径部14aの
外径の比は0.2〜0.9の範囲にあることが好まし
く、セラミック素体14の全長に対する小径部14aの
長さの比は0.2〜0.9の範囲にあることが好まし
い。また導電性皮膜16は金属、合金、導電性セラミッ
クス等により形成され、例えば、Ti、Ni、Ta、
W、TiN、TiC、SnO2、BaAl合金等により
形成される。この皮膜16はスプレー法、スパッタリン
グ法、蒸着法、印刷法、イオンプレーティング法、めっ
き法、CVD法等の薄膜形成法によりセラミック素体1
4の表面に形成される。キャップ電極17はSUS(ス
テンレス鋼)、Ni、Mo、Ta等により形成される。
マイクロギャップ18はレーザ加工法、エッチング等の
微細加工法又は印刷法等により小径部14aの導電性皮
膜16を分割するように小径部14aに1〜14本形成
される。レーザ法では、レーザ光線の焦点深度及び導電
性皮膜16の厚さから10〜2000μmの幅に形成さ
れる。
The container for maintaining the insulating property of the present invention is a container made of a glass tube or an insulating ceramic tube, a container using a metal tube as a part of the glass tube or the insulating ceramic tube,
Alternatively, it is a container using glass or an insulating ceramic material for a part of the metal tube. The glass tube is made of lead glass, barium glass, soda glass, borosilicate glass or the like. The ceramic body 14 is formed of alumina, mullite, corundum mullite, or the like, and the shape is a cylinder, an elliptic cylinder, a rectangular parallelepiped, a cube, a truncated cone, a triangular prism or other prisms, a truncated pyramid, for both the small diameter portion and the small diameter portion. It is possible to use other truncated pyramids or a modified version of these. The ratio of the outer diameter of the small-diameter portion 14a to the outer diameter of the portion of the ceramic body 14 to which the cap electrode 17 is fitted is preferably in the range of 0.2 to 0.9, and the ratio to the entire length of the ceramic body 14 is The length ratio of the small diameter portion 14a is preferably in the range of 0.2 to 0.9. The conductive film 16 is made of metal, alloy, conductive ceramics or the like, and is made of, for example, Ti, Ni, Ta,
It is formed of W, TiN, TiC, SnO 2 , BaAl alloy or the like. The film 16 is formed by a thin film forming method such as a spray method, a sputtering method, a vapor deposition method, a printing method, an ion plating method, a plating method, a CVD method or the like.
4 is formed on the surface. The cap electrode 17 is made of SUS (stainless steel), Ni, Mo, Ta or the like.
1 to 14 micro gaps 18 are formed in the small-diameter portion 14a so as to divide the conductive film 16 of the small-diameter portion 14a by a fine processing method such as laser processing, etching, or a printing method. In the laser method, a width of 10 to 2000 μm is formed depending on the depth of focus of the laser beam and the thickness of the conductive film 16.

【0011】素子13の両端、即ち一対のキャップ電極
17,17には一対のリード線19,19がはんだ等の
ろう材により溶着され又は電気溶接法により溶着され、
一対のキャップ電極17,17と一対のリード線19,
19とが電気的に接続される。一対のリード線19,1
9は容器12の両端を封着するときにこの封着部に挿通
され、容器12に封入された素子13は一対のキャップ
電極17,17を介して一対のリード線19,19によ
り保持されるようになっている。また容器12には気体
が封入される。この気体は特に限定されないが、分子状
酸素を含まないガス、例えばHe、Ne、Ar、Xe、
2、CO2、SF6及びC38を好適に用いることがで
きる。
A pair of lead wires 19, 19 are welded to both ends of the element 13, that is, a pair of cap electrodes 17, 17 by a brazing material such as solder or an electric welding method.
A pair of cap electrodes 17, 17 and a pair of lead wires 19,
19 is electrically connected. A pair of lead wires 19, 1
9 is inserted into this sealing portion when sealing both ends of the container 12, and the element 13 sealed in the container 12 is held by a pair of lead wires 19 and 19 via a pair of cap electrodes 17 and 17. It is like this. Further, the container 12 is filled with gas. The gas is not particularly limited, but a gas containing no molecular oxygen, such as He, Ne, Ar, Xe,
N 2 , CO 2 , SF 6 and C 3 F 8 can be preferably used.

【0012】このように構成されたマイクロギャップ式
サージアブソーバでは、サージによる電圧が一対のリー
ド線19,19を介して一対のキャップ電極17,17
に印加されると、マイクロギャップ18にて遅れなくグ
ロー放電を開始し、このグロー放電が沿面放電の形で一
対のキャップ電極17,17に伸展し、一対のキャップ
電極17,17間にアーク放電が形成される。このとき
マイクロギャップ18はアーク放電の経路から段付き部
14bにより遮られているため、アーク放電によりキャ
ップ電極17から金属イオンが飛散しても、この金属イ
オンがマイクロギャップ18に付着せずに、段付き部1
4bに付着して放電し金属となる。この結果、上記金属
がマイクロギャップ18を埋めることに起因したサージ
アブソーバ11の放電電圧の低下や、絶縁抵抗の劣化を
防止することができる。
In the micro-gap type surge absorber constructed as described above, the voltage due to the surge is transmitted through the pair of lead wires 19 and 19 to the pair of cap electrodes 17 and 17.
When applied to the cap gap 17, the glow discharge starts without delay in the microgap 18, the glow discharge extends to the pair of cap electrodes 17, 17 in the form of creeping discharge, and the arc discharge occurs between the pair of cap electrodes 17, 17. Is formed. At this time, since the micro gap 18 is blocked from the arc discharge path by the stepped portion 14b, even if the metal ions are scattered from the cap electrode 17 due to the arc discharge, the metal ions do not adhere to the micro gap 18, Stepped part 1
It adheres to 4b and is discharged to become a metal. As a result, it is possible to prevent the discharge voltage of the surge absorber 11 from being lowered and the insulation resistance from being deteriorated due to the metal filling the micro gap 18.

【0013】図2は本発明の第2の実施の形態を示す。
図2において図1と同一符号は同一部品を示す。この実
施の形態では、上記第1の実施の形態の素子と同様に構
成された素子に加えて、継続的な過電圧又は過電流の電
子機器への侵入時に電子機器やこの機器を搭載するプリ
ント基板の熱的損傷又は発火を防止する子13が容器3
2に収容され、この容器32の両端が一対の封止電極3
9,39により封着される。容器32内には分子状酸素
を含まないガスが封入され、素子13は上記一対の封止
電極39,39により挟持されることにより固定され
る。また一対の封止電極39,39は一対のキャップ電
極17,17を介して導電性皮膜16に電気的に接続さ
れ、これらの封止電極39,39の外面には一対のリー
ド線41,41がはんだ等のろう材により溶着され又は
電気溶接法により溶着される。封止電極39はジュメッ
ト線、スラグリード等により形成される。
FIG. 2 shows a second embodiment of the present invention.
2, the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same parts. In this embodiment, in addition to the elements configured in the same manner as the elements of the first embodiment, an electronic device or a printed circuit board on which the device is mounted when a continuous overvoltage or overcurrent enters the electronic device. The child 13 for preventing thermal damage or ignition of the container 3
2 and the both ends of the container 32 have a pair of sealing electrodes 3
Sealed by 9,39. A gas containing no molecular oxygen is enclosed in the container 32, and the element 13 is fixed by being sandwiched by the pair of sealing electrodes 39, 39. The pair of sealing electrodes 39, 39 are electrically connected to the conductive film 16 via the pair of cap electrodes 17, 17, and the pair of lead wires 41, 41 are provided on the outer surfaces of the sealing electrodes 39, 39. Are welded by a brazing material such as solder or by an electric welding method. The sealing electrode 39 is formed by a Dumet wire, a slag lead, or the like.

【0014】このように構成されたマイクロギャップ式
サージアブソーバでは、サージによる電圧が一対の封止
電極39,39に印加されると、マイクロギャップ18
にて遅れなくグロー放電を開始し、このグロー放電が沿
面放電の形で一対のキャップ電極17,17に伸展し、
一対のキャップ電極17,17間にアーク放電が形成さ
れる。このときマイクロギャップ18はアーク放電の経
路から段付き部14bにより遮られているため、アーク
放電によりキャップ電極17から金属イオンが飛散して
も、この金属イオンがマイクロギャップ18に付着しな
い。
In the microgap type surge absorber constructed as described above, when a voltage due to a surge is applied to the pair of sealing electrodes 39, 39, the microgap 18
At this point, glow discharge is started without delay, and this glow discharge extends to the pair of cap electrodes 17 in the form of creeping discharge,
An arc discharge is formed between the pair of cap electrodes 17, 17. At this time, since the microgap 18 is blocked from the arc discharge path by the stepped portion 14b, even if the metal ions are scattered from the cap electrode 17 by the arc discharge, the metal ions do not adhere to the microgap 18.

【0015】図3は本発明の第3の実施の形態を示す。
図3において図2と同一符号は同一部品を示す。この実
施の形態では、表面に導電性皮膜16が形成されたセラ
ミック素体14の両端に一対のキャップ電極が嵌着され
ず、セラミック素体14の両端面の導電性皮膜16に直
接一対の封止電極39,39が圧接され、これらの封止
電極39,39が導電性皮膜16に電気的に接続される
ことを除いて、上記第2の実施の形態と同様に構成され
る。
FIG. 3 shows a third embodiment of the present invention.
3, the same reference numerals as those in FIG. 2 indicate the same parts. In this embodiment, the pair of cap electrodes are not fitted to both ends of the ceramic body 14 having the conductive coating 16 formed on the surface thereof, but a pair of cap electrodes are directly attached to the conductive coating 16 on both end surfaces of the ceramic body 14. The configuration is similar to that of the second embodiment except that the stop electrodes 39, 39 are pressed into contact with each other and the sealing electrodes 39, 39 are electrically connected to the conductive film 16.

【0016】このように構成されたマイクロギャップ式
サージアブソーバでは、サージによる電圧が一対の封止
電極39,39に印加されると、マイクロギャップ18
にて遅れなくグロー放電を開始し、このグロー放電が沿
面放電の形で一対の封止電極39,39に伸展し、一対
の封止電極39,39間にアーク放電が形成される。こ
のときマイクロギャップ18はアーク放電の経路から段
付き部14bにより遮られているため、アーク放電によ
り封止電極39から金属イオンが飛散しても、この金属
イオンがマイクロギャップ18に付着しない。
In the microgap type surge absorber constructed as described above, when a voltage due to a surge is applied to the pair of sealing electrodes 39, 39, the microgap 18
At this point, glow discharge is started without delay, and this glow discharge extends to the pair of sealing electrodes 39, 39 in the form of creeping discharge, and arc discharge is formed between the pair of sealing electrodes 39, 39. At this time, since the micro gap 18 is shielded from the arc discharge path by the stepped portion 14b, even if the metal ions are scattered from the sealing electrode 39 by the arc discharge, the metal ions do not adhere to the micro gap 18.

【0017】図4は本発明の第4の実施の形態を示す。
図4において図2と同一符号は同一部品を示す。この実
施の形態では、セラミック素体74が一対のキャップ電
極17,17をそれぞれ嵌着した第1及び第2素体74
a,74bと、第1及び第2素体74a,74bの外径
より小さい小径素体74cとを有する。第1及び第2素
体74aの外径は同一に形成される。第1素体74aと
小径素体74cとは一体的に形成され、第2素体74b
が別に形成される。第1素体74a及び小径素体74c
の表面には一体的に導電性皮膜16が形成され、第2素
体74bの表面には単独で導電性皮膜16が形成され
る。第1及び第2素体74a,74bの外径に対する小
径素体74cの外径の比は0.2〜0.9の範囲にある
ことが好ましい。
FIG. 4 shows a fourth embodiment of the present invention.
4, the same reference numerals as those in FIG. 2 indicate the same parts. In this embodiment, the ceramic element body 74 is fitted with the pair of cap electrodes 17 and 17, respectively.
a and 74b and a small-diameter element body 74c smaller than the outer diameters of the first and second element bodies 74a and 74b. The outer diameters of the first and second element bodies 74a are formed to be the same. The first element body 74a and the small diameter element body 74c are integrally formed, and the second element body 74b is formed.
Are formed separately. First element body 74a and small-diameter element body 74c
The conductive film 16 is integrally formed on the surface of the second element body 74b, and the conductive film 16 is independently formed on the surface of the second element body 74b. The ratio of the outer diameter of the small-diameter element body 74c to the outer diameter of the first and second element bodies 74a and 74b is preferably in the range of 0.2 to 0.9.

【0018】また第1及び第2素体74a,74bと小
径素体74cとの合計長さに対する小径素体74cの長
さの比は0.2〜0.9の範囲にあることが好ましい。
第1素体74a、小径素体74c及び第2素体74bは
アルミナ、ムライト、コランダム・ムライト等により形
成され、これらの表面にはTi、Ni、Ta、W、Ti
N、TiC、SnO2、BaAl合金等の導電性皮膜1
6がそれぞれ形成される。また容器32には第1素体7
4a、小径素体74c及び第2素体74bの順に収容さ
れ、第1素体74a、小径素体74c及び第2素体74
bの導電性皮膜16がこの順に電気的に接続される。上
記以外は第2の実施の形態と同様に構成される。なお、
小径素体を第1素体ではなく、第2素体と一体的に形成
してもよく、また第1素体、小径素体及び第2素体をそ
れぞれ別々に形成してもよい。
The ratio of the length of the small diameter element body 74c to the total length of the first and second element bodies 74a and 74b and the small diameter element body 74c is preferably in the range of 0.2 to 0.9.
The first element body 74a, the small-diameter element body 74c, and the second element body 74b are formed of alumina, mullite, corundum mullite, or the like, and their surfaces have Ti, Ni, Ta, W, and Ti.
Conductive film 1 of N, TiC, SnO 2 , BaAl alloy, etc.
6 are respectively formed. The container 32 has the first element 7
4a, the small-diameter element 74c, and the second element 74b are housed in this order, and the first element 74a, the small-element element 74c, and the second element 74 are housed.
The conductive film 16 of b is electrically connected in this order. Except for the above, the configuration is similar to that of the second embodiment. In addition,
The small-diameter element body may be formed integrally with the second element body instead of the first element body, or the first element body, the small-diameter element body, and the second element body may be formed separately.

【0019】このように構成されたマイクロギャップ式
サージアブソーバでは、セラミック素体74が比較的簡
単な形状の第1素体74aと小径素体74cの一体物
と、簡単な形状の第2素体74bとにより構成されるた
め、セラミック素体74の製作工数が僅かな増大で済
む。
In the microgap type surge absorber constructed as described above, the ceramic element body 74 is a relatively simple body of the first element body 74a and the small diameter element body 74c, and the second element body of a simple shape. 74b, the number of manufacturing steps of the ceramic body 74 can be slightly increased.

【0020】図5は本発明の第5の実施の形態を示す。
図5において図3と同一符号は同一部品を示す。この実
施の形態では、セラミック素体74の第1及び第2素体
74a,74bに一対のキャップ電極が嵌着されないこ
とを除いて、第4の実施の形態と同一に構成される。な
お、小径素体を第1素体ではなく、第2素体と一体的に
形成してもよく、また第1素体、小径素体及び第2素体
をそれぞれ別々に形成してもよい。このように構成され
たマイクロギャップ式サージアブソーバでは、セラミッ
ク素体74の両端に一対のキャップ電極が嵌着されない
ので、サージアブソーバ91の製作工数が上記第4の実
施の形態のサージアブソーバより低減できる。
FIG. 5 shows a fifth embodiment of the present invention.
5, the same reference numerals as those in FIG. 3 indicate the same parts. This embodiment has the same configuration as that of the fourth embodiment except that a pair of cap electrodes is not fitted to the first and second element bodies 74a and 74b of the ceramic element body 74. The small-diameter element body may be formed integrally with the second element body instead of the first element body, or the first element body, the small-diameter element body, and the second element body may be formed separately. . In the microgap type surge absorber configured in this manner, since the pair of cap electrodes are not fitted to both ends of the ceramic body 74, the number of manufacturing steps of the surge absorber 91 can be reduced as compared with the surge absorber of the fourth embodiment. .

【0021】[0021]

【実施例】次に本発明の実施例を図面に基づいて詳しく
説明する。 <実施例1>図1に示すように、コランダム・ムライト
からなる全長5.5mmで直径1.7mmの円柱状のセ
ラミック素体14の長手方向中央に長さ1.5mmで直
径1mmの円柱状の小径部14aが同心上に形成され、
全面にスパッタリングによりSnO2の導電性皮膜16
が形成される。このセラミック素体14の両端にはそれ
ぞれ厚さ0.15mm、外径1.3mm、長さ0.8m
mの一対のキャップ電極17,17が圧入される。更に
小径部14aの周面中央には幅50μmのマイクロギャ
ップ18がレーザ光により1本形成される。これにより
両端に一対のキャップ電極17,17が嵌着されたマイ
クロギャップ式の素子13が作られる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. <Example 1> As shown in FIG. 1, a columnar ceramic body 14 made of corundum mullite and having a total length of 5.5 mm and a diameter of 1.7 mm has a columnar shape with a length of 1.5 mm and a diameter of 1 mm at the center in the longitudinal direction. The small-diameter portion 14a of is formed concentrically,
SnO 2 conductive film 16 is formed on the entire surface by sputtering.
Is formed. Both ends of the ceramic body 14 have a thickness of 0.15 mm, an outer diameter of 1.3 mm, and a length of 0.8 m.
A pair of m cap electrodes 17, 17 is press-fitted. Further, one microgap 18 having a width of 50 μm is formed by laser light in the center of the peripheral surface of the small diameter portion 14a. As a result, the micro-gap type device 13 having the pair of cap electrodes 17, 17 fitted to both ends is produced.

【0022】上記一対のキャップ電極17,17の端面
には一対のリード線19,19が溶着され、この状態で
素子13は外径2.6mm、内径1.8mm、長さ7.
5mmの鉛ガラスにより形成されたガラス管12に収容
される。この状態でガラス管12内の空気をSF6ガス
で置換して所定の圧力にした後、加熱してガラス管12
の両端を軟化変形することによりガラス管12の両端が
封着される。このようにしてサージアブソーバ11を作
製した。
A pair of lead wires 19, 19 are welded to the end faces of the pair of cap electrodes 17, 17, and in this state, the element 13 has an outer diameter of 2.6 mm, an inner diameter of 1.8 mm and a length of 7.
It is housed in a glass tube 12 made of 5 mm lead glass. In this state, the air in the glass tube 12 is replaced with SF 6 gas to a predetermined pressure, and then heated to heat the glass tube 12
Both ends of the glass tube 12 are sealed by softening and deforming both ends of the glass tube 12. In this way, the surge absorber 11 was manufactured.

【0023】<実施例2>図2に示すように、実施例1
と同様にしてマイクロギャップ式の素子13が作られ
る。但し、コランダム・ムライトからなる全長4mmで
直径1.7mmの円柱状のセラミック素体14の長手方
向中央に長さ1mmで直径1mmの円柱状の小径部14
aが同心上に形成される。ガラス管32の両端を封着す
る一対の封止電極39,39の外面にはリード線41,
41がそれぞれ溶着される。ガラス管32は鉛ガラスに
より形成され、封止電極39はスラグリードにより形成
される。両端に一対のキャップ電極17,17が嵌着さ
れた素子13をガラス管12に収容した状態で、ガラス
管32内の空気をSF6ガスで置換して所定の圧力にし
た後、加熱することにより一対の封止電極39,39に
よりガラス管32が封着される。ガラス管32に収容さ
れた素子13は一対のキャップ電極17,17を介して
一対の封止電極39,39にて挟持されることにより固
定される。このように作製されたサージアブソーバ31
を実施例2とした。
<Embodiment 2> As shown in FIG.
A microgap type device 13 is manufactured in the same manner as in. However, a cylindrical small-diameter portion 14 having a length of 1 mm and a diameter of 1 mm is formed at the center in the longitudinal direction of a cylindrical ceramic body 14 having a total length of 4 mm and a diameter of 1.7 mm made of corundum mullite.
a is formed concentrically. On the outer surfaces of the pair of sealing electrodes 39, 39 sealing both ends of the glass tube 32, a lead wire 41,
41 are welded together. The glass tube 32 is made of lead glass, and the sealing electrode 39 is made of slag lead. In a state where the element 13 having a pair of cap electrodes 17, 17 fitted at both ends is housed in the glass tube 12, the air in the glass tube 32 is replaced with SF 6 gas to a predetermined pressure and then heated. The glass tube 32 is sealed by the pair of sealing electrodes 39, 39. The element 13 housed in the glass tube 32 is fixed by being sandwiched by the pair of sealing electrodes 39, 39 via the pair of cap electrodes 17, 17. The surge absorber 31 manufactured in this way
Was set as Example 2.

【0024】<実施例3>図3に示すように、実施例2
の素子における一対のキャップ電極を用いないことを除
いて、上記実施例2と同様に構成される。但し、セラミ
ック素体14の両端面の導電性皮膜16に直接一対の封
止電極39,39が圧接され、これらの封止電極39,
39が導電性皮膜16に電気的に接続される。このよう
に作製されたサージアブソーバ51を実施例3とした。
<Embodiment 3> As shown in FIG.
The device has the same configuration as that of the second embodiment, except that the pair of cap electrodes in the device is not used. However, the pair of sealing electrodes 39, 39 is directly pressed onto the conductive film 16 on both end surfaces of the ceramic body 14, and the sealing electrodes 39, 39
39 is electrically connected to the conductive film 16. The surge absorber 51 manufactured in this manner was used as Example 3.

【0025】<実施例4>図4に示すように、セラミッ
ク素体74を構成する第1素体74a及び小径素体74
cが一体的に作製され、第2素体74bが別に作製され
る。第1及び第2素体74a,74bは同一形状に形成
され、それぞれ外径1.7mm、長さ1.5mmの円柱
状に形成される。また小径素体74cは外径1mm、長
さ2mmの円柱状に形成される。第1素体74a、小径
素体74c及び第2素体74bはコランダム・ムライト
により形成される。第1素体74a及び小径素体74c
の表面には一体的にSnO2の導電性皮膜16が形成さ
れ、第2素体74bの表面には単独で上記SnO2の導
電性皮膜16が形成される。また鉛ガラスからなるガラ
ス管32には第1素体74a、小径素体74c及び第2
素体74bの順に収容され、一対の封止電極39,39
にて挟持されることにより固定される。また第1素体7
4a、小径素体74c及び第2素体74bの順に電気的
に直列に接続される。上記以外は第2の実施の形態と同
様に構成される。このように作製されたサージアブソー
バ71を実施例4とした。
<Embodiment 4> As shown in FIG. 4, a first element body 74a and a small-diameter element body 74 constituting a ceramic element body 74.
c is integrally manufactured, and the second element body 74b is separately manufactured. The first and second element bodies 74a and 74b are formed in the same shape, and each is formed in a cylindrical shape having an outer diameter of 1.7 mm and a length of 1.5 mm. The small-diameter element body 74c is formed in a cylindrical shape having an outer diameter of 1 mm and a length of 2 mm. The first element body 74a, the small diameter element body 74c, and the second element body 74b are formed by corundum mullite. First element body 74a and small-diameter element body 74c
The SnO 2 conductive film 16 is integrally formed on the surface of, and the above-mentioned SnO 2 conductive film 16 is independently formed on the surface of the second element body 74b. Further, in the glass tube 32 made of lead glass, the first element body 74a, the small diameter element body 74c and the second element body 74c
The body 74b is housed in this order, and the pair of sealing electrodes 39, 39
It is fixed by being sandwiched by. The first element body 7
4a, the small-diameter element body 74c, and the second element body 74b are electrically connected in series in this order. Except for the above, the configuration is similar to that of the second embodiment. The surge absorber 71 manufactured in this manner was used as Example 4.

【0026】<実施例5>図5に示すように、セラミッ
ク素体74の第1及び第2素体74a,74bにキャッ
プ電極17が嵌着されていないことを除いて、実施例4
と同様に構成される。このように作製されたサージアブ
ソーバ91を実施例5とした。
<Embodiment 5> As shown in FIG. 5, Embodiment 4 except that the cap electrode 17 is not fitted to the first and second element bodies 74a and 74b of the ceramic element body 74.
The configuration is the same as The surge absorber 91 manufactured in this manner was used as Example 5.

【0027】<比較例1>図6に示すように、セラミッ
ク素体3aが小径部を有さずに外径1.7mm、全長
5.5mmの円柱状に形成され、長手方向中央に1本の
マイクロギャップ3cが形成されたことを除いて、上記
実施例1と同様に構成される。このように作製されたサ
ージアブソーバ1を比較例1とした。 <比較例2>図7に示すように、セラミック素体3aが
小径部を有さずに外径1mm、全長3mmの円柱状に形
成され、長手方向中央に1本のマイクロギャップ3cが
形成されたことを除いて、上記実施例2と同様に構成さ
れる。このように作製されたサージアブソーバ5を比較
例2とした。
<Comparative Example 1> As shown in FIG. 6, a ceramic body 3a is formed in a cylindrical shape having an outer diameter of 1.7 mm and a total length of 5.5 mm without a small diameter portion, and one ceramic body 3a is provided at the center in the longitudinal direction. The structure is similar to that of the first embodiment except that the micro gap 3c is formed. The surge absorber 1 manufactured in this manner was used as Comparative Example 1. <Comparative Example 2> As shown in FIG. 7, a ceramic body 3a is formed in a cylindrical shape having an outer diameter of 1 mm and a total length of 3 mm without a small diameter portion, and one microgap 3c is formed at the center in the longitudinal direction. Except for this, the configuration is similar to that of the second embodiment. The surge absorber 5 manufactured in this manner was used as Comparative Example 2.

【0028】<比較試験と評価>実施例1〜5、比較例
1及び2のサージアブソーバの直流放電開始電圧とサー
ジ寿命特性とを調べ、その結果を表1に示す。なお、サ
ージ寿命特性は(8×20)μsec−100Aのイン
パルス電流を繰返し印加して、インパルス電流の印加回
数が1000回毎にその抵抗値が低下したか否かを調べ
ることにより、絶縁抵抗劣化の有無を判断した。
<Comparative Test and Evaluation> The DC discharge inception voltage and surge life characteristics of the surge absorbers of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 were examined, and the results are shown in Table 1. In addition, the surge life characteristic is such that the insulation resistance is deteriorated by repeatedly applying an impulse current of (8 × 20) μsec-100 A and checking whether or not the resistance value is reduced every 1000 times of the application of the impulse current. It was judged whether or not.

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】表1から明らかなように、実施例1〜5、
比較例1及び2のサージアブソーバとも直流放電開始電
圧は同一の値を示した。またサージ寿命特性について
は、実施例1〜5のサージアブソーバは5000回のイ
ンパルス電流を印加しても抵抗値が低下しなかったが、
比較例1及び2のサージアブソーバは1000回のイン
パルス電流印加後に抵抗値を測定したところ、抵抗値が
低下していた。従って、実施例1〜5のサージアブソー
バの方が比較例1及び2のサージアブソーバよりサージ
寿命特性が大幅に向上したことが判った。
As is clear from Table 1, Examples 1-5,
Both surge absorbers of Comparative Examples 1 and 2 had the same DC discharge starting voltage. Regarding the surge life characteristics, although the surge absorbers of Examples 1 to 5 did not decrease in resistance value even after applying an impulse current of 5000 times,
When the resistance values of the surge absorbers of Comparative Examples 1 and 2 were measured 1000 times after the impulse current was applied, the resistance values were found to be low. Therefore, it was found that the surge absorbers of Examples 1 to 5 had significantly improved surge life characteristics than the surge absorbers of Comparative Examples 1 and 2.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、一
対の主放電電極とマイクロギャップとの間に光学的な遮
蔽物を配設したので、主放電電極で発生した金属イオン
が光学的な遮蔽物に付着し、この遮蔽物により遮られた
マイクロギャップには付着しない。この結果、マイクロ
ギャップにより分割された複数の導電性皮膜が導通する
ことがないので、サージアブソーバのサージ寿命特性を
向上できる。
As described above, according to the present invention, the optical shield is disposed between the pair of main discharge electrodes and the microgap, so that the metal ions generated in the main discharge electrodes are optically shielded. It does not adhere to the micro-gap blocked by this shield, and does not adhere to the transparent gap. As a result, the plurality of conductive films divided by the micro gap do not conduct, so that the surge life characteristic of the surge absorber can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明実施例1のサージアブソーバの中央縦断
面図。
FIG. 1 is a central longitudinal sectional view of a surge absorber according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明実施例2のサージアブソーバの中央縦断
面図。
FIG. 2 is a central longitudinal sectional view of a surge absorber according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明実施例3のサージアブソーバの中央縦断
面図。
FIG. 3 is a central longitudinal sectional view of a surge absorber according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明実施例4のサージアブソーバの中央縦断
面図。
FIG. 4 is a central vertical sectional view of a surge absorber according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】本発明実施例5のサージアブソーバの中央縦断
面図。
FIG. 5 is a central longitudinal sectional view of a surge absorber according to a fifth embodiment of the present invention.

【図6】比較例1のサージアブソーバの中央縦断面図。FIG. 6 is a central vertical cross-sectional view of a surge absorber of Comparative Example 1.

【図7】比較例1のサージアブソーバの中央縦断面図。FIG. 7 is a central vertical cross-sectional view of a surge absorber of Comparative Example 1.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11,31,51,71,91 サージアブソーバ 14b,74d 段付き部(遮蔽物) 17 キャップ電極(主放電電極) 18 マイクロギャップ 39 封止電極(主放電電極) 11, 31, 51, 71, 91 Surge absorber 14b, 74d Stepped portion (shield) 17 Cap electrode (main discharge electrode) 18 Micro gap 39 Sealing electrode (main discharge electrode)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の主放電電極(17,17,39,39)とマイ
クロギャップ(18)との間に光学的な遮蔽物(14b,74d)が
配設されたことを特徴とするマイクロギャップ式サージ
アブソーバ。
1. A micro characterized in that an optical shield (14b, 74d) is arranged between a pair of main discharge electrodes (17, 17, 39, 39) and a micro gap (18). Gap type surge absorber.
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