JPH09304744A - レーザ変調器 - Google Patents

レーザ変調器

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JPH09304744A
JPH09304744A JP8119886A JP11988696A JPH09304744A JP H09304744 A JPH09304744 A JP H09304744A JP 8119886 A JP8119886 A JP 8119886A JP 11988696 A JP11988696 A JP 11988696A JP H09304744 A JPH09304744 A JP H09304744A
Authority
JP
Japan
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beam splitter
light
voltage
laser
modulation
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8119886A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Noda
修 野田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP8119886A priority Critical patent/JPH09304744A/ja
Publication of JPH09304744A publication Critical patent/JPH09304744A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/0121Operation of devices; Circuit arrangements, not otherwise provided for in this subclass
    • G02F1/0123Circuits for the control or stabilisation of the bias voltage, e.g. automatic bias control [ABC] feedback loops

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 E/O素子による外部直接変調を行うことに
より干渉による強度変調の誤差を除外することができ、
また環境温度等の外部の変化に対し強度変調光をフィー
ドバック制御して能動的に安定化させることができるレ
ーザ変調器を提供する。 【解決手段】 E/O素子3の前後に偏光ビームスプリ
ッター2,4をこれらの偏光方向が互いに直交するよう
配設すると共に、偏光ビームスプリッター4での反射光
と透過光とを検出するフォトディテクター7,8と、8
0MHzの変調電圧をE/O素子3に印加するRFアン
プと、差動アンプ11及びバイアスアンプ10を有しフ
ォトディテクター7,8の検出信号に基づいて前記反射
光と透過光の時間平均値が等しくなるようE/O素子3
に印加するバイアス電圧を制御するバイアス電圧の制御
系とを備えて、レーザ変調器を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザ変調器に関
し、レーザ測長器に適用して有用なものであり、また水
中測長器や水中視認器に適用することもできる。
【0002】
【従来の技術】距離を測定するためには基準となる目盛
が必要であり、一般には物差しやメジャーが使用される
が、これらが使用できない環境で距離測定を行う場合や
更に精度良く距離測定を行いたい場合には、レーザが使
用される。
【0003】レーザを用いた精密な距離測定方法として
は、以下の方法が挙げられる。
【0004】(a)光の波長を利用:可視光であれば数
100nmを1目盛として使用し、1m程度の測定に用
いられる。 (b)光の変調を利用:数mを超える距離測定の場合、
媒質の揺らぎや機械的振動のために、上記のような短い
目盛では距離測定が困難となるが、光ビームに強度変調
をかけ、適当な代表目盛をつくることにより、1kmを
超える距離測定も可能となる。 (d)光パルスを利用:高ピーク出力で短パルスのレー
ザの伝送時間から距離を算出する方法で、衛星間の距離
測定等の長距離測定が可能である。レーザパルス幅によ
り分解能が決まる。
【0005】これらのうち、上記(b)の方法において
は、従来、レーザ強調変調を発生させるために干渉計を
用いたビート波変調方式が一般的に採用されている。図
4は、かかる従来のレーザ変調器の構成図である。従来
は図4に示すようにA/O素子を用いたヘテロダイン方
式が用いられている。
【0006】即ち、図4に示すように、λ/2板16を
通過させたCWレーザ光1は、偏光ビームスプリッター
17でP波26とS波25とに分割される。P波26
は、A/O素子18を通すことによりΔfだけ周波数シ
フトさせた後、全反射ミラー19で折り曲げ、λ/2板
20でP波からS波に変換させて、再び偏光ビームスプ
リッター23に入射させる。一方、S波25は、全反射
ミラー21で折り曲げ、λ/2板22によりS波からP
波に変換して、同様に偏光ビームスプリッター23に入
射させ、前述の分割されたビームと同一光軸上に重ね合
わせる。そして、両者のビームを検光子24により合成
したものを、強度変調光6として測長等に利用すること
ができる。
【0007】上記の方式を干渉計によるビート波変調方
式といい、2つの異なる周波数のレーザビームを重ね合
わせ、相互にビーム干渉させることにより、レーザ光の
振幅変調を行うことができるものであって、一般的に用
いられており、次式(数1)で表される。
【0008】
【数1】
【0009】ここで、光の周波数fi は数100THz
と非常に高いため、f1 、f2 、(f 1 −f2 )の3項
は光検出器を用いてもその変化を検出できない。検出器
の出力は、これらを時間平均したものと、(f1
2 )の差周波数の項の和として表される。
【0010】
【数2】
【0011】上記は(f1 −f2 )の差周波数で強度変
調されたビームを表しており、例えば、f1 −f2 =8
0MHzとすると、1波長3.57mの強度変調光が得
られ、これを目盛として数10mの距離測定が可能とな
る。
【0012】ここで、前出の語句の説明を行う。
【0013】(a)A/O素子(Acoust Optic Device:
音響光学素子):物質に歪みが生じるとそれに伴って屈
折率が変化する。この現象を光弾性効果と呼ぶ。ここ
で、超音波が固体や液体を伝搬するとき、その媒質中に
は光弾性効果により、音の進行方向と平行に、そして音
の波長を周期として、光に対する屈折率の周期的な変動
が生じる。この媒質中に光が入射すると、入射する光の
一部は超音波によって回折する。この現象を音響光学効
果と呼び、これを利用したものをA/O素子という。 (b)CWレーザ(Continuous Wavelength レーザ:連
続レーザ):時間的に連続したレーザを発進させたも
の。これに対してある時間間隔でレーザを発進させたも
のをパルスレーザと呼ぶ。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の変調方式のように干渉計を採用した場合には、レー
ザ光のポインティングスタビリティが問題となる。即
ち、CWレーザ光1が干渉計へ入射されるポイントがず
れると、P波26のA/O素子18への入射角が変化し
て、変調効率の低下を招き、再び光軸が重なり合う偏光
ビームスプリッター23で重畳させることができなくな
り、最終的に検光子24で形成されるビート波が変動す
ることになる。このように、強度変調光が変動すると、
これを目盛として測長した場合に、誤差が発生すること
になる。
【0015】つまり、強度変調光が安定しないと、同一
距離を測定してもばらつきが発生し、精度良く距離を決
定することができない。そこで、なんらかの制御が必要
になるが、上記の変調方式では積極的に制御することが
できない。
【0016】従って本発明は上記従来技術に鑑み、E/
O素子による外部直接変調を行うことにより干渉による
強度変調の誤差を除外することができ、また環境温度等
の外部の変化に対し強度変調光をフィードバック制御し
て能動的に安定化させることができるレーザ変調器を提
供することを課題とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する第1
の発明のレーザ変調器は、E/O素子の前後に、偏光手
段と検光手段とをこれらの偏光方向が互いに略直交(直
交を含む)するよう配設すると共に、必要な変調周波数
を有する電圧を前記E/O素子に印加する電圧印加手段
を備えたことを特徴とする。
【0018】また、第2の発明のレーザ変調器は、上記
第1の発明のレーザ変調器において、前記検光手段は偏
光ビームスプリッターであり、この偏光ビームスプリッ
ターでの反射光と透過光とを検出する検出手段を備える
と共に、前記電圧印加手段は必要な変調周波数の変調電
圧を印加する変調電圧印加手段と前記検出手段の検出信
号に基づき前記反射光と透過光の時間平均値が等しくな
るよう前記E/O素子に印加するバイアス電圧を制御す
るバイアス電圧制御手段とを有してなるものであること
を特徴とする。
【0019】従って、上記第1の発明のレーザ変調器に
よれば、測長に必要な変調周波数を有する電圧をE/O
素子に印加することにより、結晶内の偏光面を回転させ
る。E/O素子の前後の偏光手段(偏光板等)と検光手
段(検光子等)の偏光方向が略直交するよう設置されて
いるため、偏光手段の偏光方向とE/O素子の偏光方向
とが同一の場合には検光手段からはレーザが出力されな
い。一方、E/O素子に電圧を印加して偏光面を丁度9
0°回転させると、検光手段の偏光方向と一致するた
め、レーザ光は100%透過させることができる。従っ
て、E/O素子に印加する電圧を必要な周波数で与える
ことにより、当該周波数での強度変調光が得られる。こ
れにより、干渉計のように2つのビームの重畳等が不要
となり、ポインティングスタビリティに対する感度を緩
和させることができる。
【0020】また、上記第2の発明のレーザ変調器によ
れば、検光手段として偏光ビームスプリッターを用いる
ことにより、この偏光ビームスプリッターで透過されな
いレーザ光を外部に取り出すことができる。変調器のバ
イアス点が変化しなければ、原理的に、偏光ビームスプ
リッターでの透過光と反射光との時間平均された出力は
等しいが、外部環境の温度変化等の外乱により、バイア
ス点が変化することにより、偏光ビームスプリッターで
の透過光と反射光との時間平均値は等しくなくなる。従
って、偏光ビームスプリッターでの透過光と反射光との
時間平均値が等しくなるようにE/O素子に印加するバ
イアス電圧を制御して、外乱により変動した変調特性を
制御することにより、安定した強度変調光が得られる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基ずき詳細に説明する。
【0022】図1は本発明の実施の形態に係るレーザ変
調器の構成図、図2は初期設定時の強度変調光を示す説
明図、図3は外乱により変調特性が変化したときの強度
変調光を示す説明図である。
【0023】図1に示すように、E/O素子3の前には
偏光手段として偏光ビームスプリッター2が配設され、
E/O素子3の後には検光手段として偏光ビームスプリ
ッター4が配設されている。偏光ビームスプリッター2
と4は偏光方向が直交するよう設置されている。更に、
偏光ビームスプリッター4の後にはビームスプリッター
5が配設されている。
【0024】また、E/O素子3に80MHzの変調電
圧を印加するためのRFアンプ9と、フォトディテクタ
ー7,8、差動アンプ11及びバイアスアンプ10を有
してなる制御系とが備えられている。
【0025】フォトディテクター7では、偏光ビームス
プリッター4での反射光をモニターし、このモニター信
号13を差動アンプ11へ出力する。フォトディテクタ
ー8では、ビームスプリッター5の反射光、即ち偏光ビ
ームスプリッター4での透過光をモニターし、このモニ
ター信号14を差動アンプ11へ出力する。差動アンプ
11では、反射光の出力モニター信号13と透過光の出
力モニター信号14の差に相当する信号を出力する。バ
イアスアンプ10では、初期設定バイアス信号12と差
動アンプ11の出力信号とに基づき、これを増幅して、
E/O素子3にバイアス電圧を印加する。
【0026】従って、上記構成のレーザ変調器によれ
ば、光源として偏光ビームスプリッター2を通過したC
Wレーザ光1は、E/O素子3に入射される。このと
き、バイアス設定信号により、バイアスアンプ10から
バイアス電圧がE/O素子3に印加される。一方、RF
アンプ9からは80MHzの変調電圧が印加される。
【0027】E/O素子3から出力されたレーザ光は、
E/O素子3への電圧の印加により、偏光ビームスプリ
ッター4において、その偏光面が偏光ビームスプリッタ
ー4の偏光面と平行になった場合には偏光ビームスプリ
ッター4を透過することができ、一方、その偏光面が偏
光ビームスプリッター4の偏光面と垂直の場合には偏光
ビームスプリッター4を透過できず、この偏光ビームス
プリッター4で反射される。
【0028】偏光ビームスプリッター4での透過光は、
80MHzの強度変調光6として応用先へ伝送される
が、その1部がビームスプリッター5で取り出され、フ
ォトディテクター8によってモニターされる。同様に、
偏光ビームスプリッター4での反射光は、フォトディテ
クター7によってモニターされる。両者の関係を図2に
示す。図2において、縦軸Tは透過率、横軸Vは印加電
圧、そして、29は変調特性曲線である。
【0029】いま、図2に示すように、バイアス電圧が
0 のとき、80MHzの変調電圧32に対し、変調さ
れたレーザ光は33の曲線で得られる。このとき、時間
平均された透過光の出力は図中の斜線部分35で表さ
れ、時間平均された反射光の出力は図中の斜線部分36
で表される。この両斜線部分35,36の面積が等しく
なるようなバイアス電圧を初期設定しておく(初期設定
バイアス信号12)。
【0030】図1のレーザ変調器においては、反射光と
透過光の出力モニター信号13,14の差をとり、0と
なる信号15を初期設定バイアス信号に加えて、バイア
ス電圧V0 を出力させておく。
【0031】次に、外乱により、変調特性が変動した場
合について説明する。この変調特性の変動を、バイアス
電圧がV1 に変化した場合と置換して、変調光を求める
と、図3に示すように、80MHzの変調電圧32に対
し、変調光34が得られる。このとき、時間平均された
透過光の出力は図中の斜線部分37で表される一方、時
間平均された反射光の出力は図中の斜線部分38で表さ
れ、両斜線部分37,38の面積(透過光と反射光の時
間平均値)は等しくないことがわかる。従って、両斜線
部分37,38の面積(透過光と反射光の時間平均値)
が等しくなるように、バイアス電圧を(V0 −V1 )だ
けE/O素子3に印加することにより、安定した強度変
調光6が得られる。
【0032】以上のように、本実施の形態に係るレーザ
変調器によれば、E/O素子3による外部直接変調を行
うことにより、干渉計のように2つのビームの重畳等が
不要となり、ポインティングスタビリティに対する感度
を緩和させることができる。しかも、従来のような複雑
な光学系を利用しないため、調整が軽減される。
【0033】また、偏光ビームスプリッター4での透過
光と反射光との時間平均値が等しくなるようにE/O素
子3に印加するバイアス電圧を制御して、外乱により変
動した変調特性を制御することにより、能動的に強度変
調光の安定化を図ることができ、安定した強度変調光が
得られる。従って、耐環境性に優れた距離測定等を可能
にする。
【0034】ここで、前出の語句の説明を行う。
【0035】(a)E/O素子(Electro Optic Devic
e:電気光学素子):物質に電圧を加えるとその物質の
屈折率が変わる現象を電気光学効果と呼ぶ。従って、物
質に対する印加電圧を振幅変調させることにより物質を
通過する光の振幅変調や位相変調を行うことが可能にな
る。 (b)RFアンプ(Radio Frequency アンプ):高周波
増幅器により例えば80MHzのような高い周波数でE
/O素子に電圧をかける場合、直接的に80MHzで駆
動する電源を用いるのではなく、RF発振器から相当周
波数の信号を発生させた後、増幅器で設定電圧まで増幅
させるものである。
【0036】
【発明の効果】以上発明の実施の形態と共に具体的に説
明したように、本発明のレーザ変調器によれば、E/O
素子に印加する電圧を必要な周波数で与えることによ
り、当該周波数での強度変調光が得られる。これによ
り、干渉計のように2つのビームの重畳等が不要とな
り、ポインティングスタビリティに対する感度を緩和さ
せることができる。しかも、従来のような複雑な光学系
を利用しないため、調整が軽減される。
【0037】また、偏光ビームスプリッターやバイアス
電圧制御手段等を備えることにより、偏光ビームスプリ
ッターでの透過光と反射光との時間平均値が等しくなる
ようにE/O素子3に印加するバイアス電圧を制御し
て、外乱により変動した変調特性を制御することによ
り、能動的に強度変調光の安定化を図ることができ、安
定した強度変調光が得られる。従って、耐環境性に優れ
た距離測定等を可能にする。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係るレーザ変調器の構成
図である。
【図2】初期設定時の強度変調光を示す説明図である。
【図3】外乱により変調特性が変化したときの強度変調
光を示す説明図である。
【図4】従来のレーザ変調器の構成図である。
【符号の説明】
1 CWレーザ光 2,4 偏光ビームスプリッター 3 E/O素子 5 ビームスプリッター 6 強度変調光 7,8 フォトディテクター 9 RFアンプ 10 バイアスアンプ 11 差動アンプ 12 初期設定バイアス信号 13 反射光の出力モニター信号 14 透過光の出力モニター信号 15 反射光の出力モニター信号の透過光の出力モニタ
ー信号の差に相当する信号

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 E/O素子の前後に、偏光手段と検光手
    段とをこれらの偏光方向が互いに略直交するよう配設す
    ると共に、必要な変調周波数を有する電圧を前記E/O
    素子に印加する電圧印加手段を備えたことを特徴とする
    レーザ変調器。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載するレーザ変調器におい
    て、 前記検光手段は偏光ビームスプリッターであり、この偏
    光ビームスプリッターでの反射光と透過光とを検出する
    検出手段を備えると共に、前記電圧印加手段は必要な変
    調周波数の変調電圧を印加する変調電圧印加手段と前記
    検出手段の検出信号に基づき前記反射光と透過光の時間
    平均値が等しくなるよう前記E/O素子に印加するバイ
    アス電圧を制御するバイアス電圧制御手段とを有してな
    るものであることを特徴とするレーザ変調器。
JP8119886A 1996-05-15 1996-05-15 レーザ変調器 Withdrawn JPH09304744A (ja)

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Effective date: 20030805