JPH09304433A - Probe equipment - Google Patents

Probe equipment

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Publication number
JPH09304433A
JPH09304433A JP14857796A JP14857796A JPH09304433A JP H09304433 A JPH09304433 A JP H09304433A JP 14857796 A JP14857796 A JP 14857796A JP 14857796 A JP14857796 A JP 14857796A JP H09304433 A JPH09304433 A JP H09304433A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe
bonding pad
tip
semiconductor chip
needle portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14857796A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Nakajima
慎一 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Miyazaki Oki Electric Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Miyazaki Oki Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd, Miyazaki Oki Electric Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP14857796A priority Critical patent/JPH09304433A/en
Publication of JPH09304433A publication Critical patent/JPH09304433A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the durability, reduce measurement error, and prevent damage of IC chip, by making the sectional area of the tip part of a probe corresponding to a bonding pad for a power source larger than the sectional area of the tip part of other probe. SOLUTION: A chuck top 14 continuously performs reciprocating motion with a specified stroke, at the position where each bonding pad 13 of a semiconductor chip 12 is made to face the tip of each probe 15. When the tip of the probe 15 comes into contact with the bonding pad 13, an electric measurement equipment is brought into contact with the semiconductor chip 12, and electric characteristics test is performed. In order to reduce wear of a probe 15a corresponding to bonding pad 13a for a power source, the cross-sectional area of the tip part 19 of the probe 15a is set larger than the tip part of other probe 15b. Thereby durability of a probe is increased, error due to nonuniformity of length is not generated, and damage of a semiconductor chip can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハに形
成されるICチップの電気特性試験に用いるのに好適な
プローブ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a probe device suitable for use in an electrical characteristic test of an IC chip formed on a semiconductor wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ICの製造工程では、一般的に、
半導体ウエハに形成された多数のICチップを分離する
ダイシングに先立って、各ICチップに電気特性試験が
施されている。この電気特性試験に用いられるプローブ
装置は、プローブカードに支持された多数のプローブを
備える。各プローブは、プローブカードに設けられた接
続端子を経て測定装置に接続され、このプローブカード
の中央部下方でチャック上に配置された半導体ウエハの
ICチップへ向けて斜め下方に集束的に伸長する。チャ
ック上に配置されたウエハのICチップは、チャックの
上昇に伴い、ICチップ上に形成されたボンディングパ
ッドを対応する各プローブの先端に押し付けられる。
2. Description of the Related Art In the process of manufacturing a semiconductor IC, generally,
Prior to dicing for separating a large number of IC chips formed on a semiconductor wafer, an electric characteristic test is performed on each IC chip. The probe device used for this electrical characteristic test includes a large number of probes supported by a probe card. Each probe is connected to a measuring device via a connection terminal provided on the probe card, and converges obliquely downward toward the IC chip of the semiconductor wafer arranged on the chuck below the central portion of the probe card. . The IC chip of the wafer arranged on the chuck is pressed against the tip of each probe corresponding to the bonding pad formed on the IC chip as the chuck moves up.

【0003】このとき、各プローブとICチップの対応
するボンディングパッドとの確実な電気的接触を得るた
めに、ボンディングパッドに角度的に伸びるプローブ先
端がボンディングパッド上を僅かに摺動する程度に、I
Cチップが全体的にプローブに押し付けられる。そのた
めに、一日に何万回もの試験を繰り返すと、各プローブ
は、その先端の摺動運動により摩耗する。この摩耗が、
全てのプローブについてほぼ均一であれば、摩耗の進行
に応じて、例えばチャックの上昇位置を補正するような
修正により、各プローブと対応するボンディングパッド
との確実な電気的接触を確保することができる。
At this time, in order to obtain reliable electrical contact between each probe and the corresponding bonding pad of the IC chip, the tip of the probe angularly extending to the bonding pad slides slightly on the bonding pad. I
The C-tip is pressed entirely onto the probe. Therefore, when the test is repeated tens of thousands of times a day, each probe wears due to the sliding motion of its tip. This wear
If all the probes are substantially uniform, it is possible to ensure reliable electrical contact between each probe and the corresponding bonding pad by correction such as correcting the rising position of the chuck according to the progress of wear. .

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ボンデ
ィングパッドのうち、電源用ボンディングパッドは、信
号用の他のボンディングパッドに比較して、大電流が流
れることから、他の信号用ボンディングパッドよりも堅
牢に形成されている。そのため、全てのプローブが均一
に摩耗することなく、形状あるいは強度を他の信号用ボ
ンディングパッドと異にする電源用ボンディングパッド
に対応するプローブに、他のプローブに比較して特に著
しい摩耗が見られる。そのため、プローブの長さに不均
一が生じることから、摩耗の少ない長いプローブに合わ
せてチャックの上昇位置を設定すると、電源用ボンディ
ングパッドに対応した摩耗の激しい短いプローブの電気
的接触不良により、測定誤差が生じ易い。また、これと
は逆に、摩耗の激しい短いプローブに合わせてチャック
の上昇位置を設定すると、長いプローブが強く押し付け
られることにより、このプローブによってICチップに
損傷を与えることがある。このことから、耐久性に優
れ、測定誤差を生じることなくしかもICチップに損傷
を与える虞のないプローブ装置が望まれていた。
However, of the bonding pads, the power supply bonding pad is more robust than other signal bonding pads because a larger current flows than other signal bonding pads. Is formed in. Therefore, all the probes do not wear evenly, and the probe corresponding to the power supply bonding pad whose shape or strength is different from that of the other signal bonding pads is particularly worn as compared with the other probes. . Therefore, the length of the probe becomes uneven, so if you set the chuck rising position according to a long probe with less wear, the electrical contact of the short probe with severe wear corresponding to the power supply bonding pad may cause a measurement error. Errors are likely to occur. On the contrary, when the chuck rising position is set in accordance with a short probe with severe wear, a long probe is strongly pressed, which may damage the IC chip. For this reason, there has been a demand for a probe device that has excellent durability, does not cause a measurement error, and does not damage the IC chip.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、以上の点を解
決するために、次の構成を採用する。 〈構成〉本発明は、電源用ボンディングパッドを含む複
数のボンディングパッドが設けられた半導体チップの電
気特性試験のために、それぞれの先端が対応する各ボン
ディングパッドに押し付けられて接続される複数のプロ
ーブを備えるプローブ装置において、電源用ボンディン
グパッドに対応する摩耗の激しいプローブの先端部分に
おける横断面積を、他のボンディングパッドに対応する
他のプローブの先端部分におけるそれよりも大きくした
ことを特徴とする。
The present invention adopts the following constitution in order to solve the above points. <Structure> The present invention provides a plurality of probes, each tip of which is pressed and connected to a corresponding bonding pad for an electrical characteristic test of a semiconductor chip provided with a plurality of bonding pads including a power supply bonding pad. In the probe apparatus including the above, the cross-sectional area of the tip portion of the probe, which corresponds to the power supply bonding pad and is severely worn, is made larger than that of the tip portion of the other probe corresponding to the other bonding pad.

【0006】〈作用〉本発明に係るプローブ装置では、
電源用ボンディングパッドに対応するプローブの先端部
における横断面積が、他のプローブの先端部における横
断面積よりも大きく設定されている。そのため、被測定
物である半導体チップが全体的にプローブに押し付けら
れたとき、電源用ボンディングパッドに対応するプロー
ブがこのパッドから受ける面圧を低減することができ
る。この面圧の低減によって、電源用ボンディングパッ
ドに対応する摩耗し易いプローブの先端部分の摩耗の低
減が図られる。従って、電源用ボンディングパッドに対
応するプローブの先端部分における横断面積を適宜選択
することにより、このプローブの摩耗度合いを他のプロ
ーブの摩耗度合いにほぼ等しくすることが可能となり、
これにより、プローブ間の不均一な摩耗を抑制し、プロ
ーブの長さが不均一になることを防止することが可能と
なる。
<Operation> In the probe device according to the present invention,
The cross-sectional area at the tip of the probe corresponding to the power supply bonding pad is set larger than the cross-sectional area at the tip of another probe. Therefore, when the semiconductor chip that is the object to be measured is entirely pressed against the probe, the surface pressure received by the probe corresponding to the power supply bonding pad from this pad can be reduced. By reducing the surface pressure, it is possible to reduce the wear of the tip portion of the probe, which easily wears, corresponding to the power supply bonding pad. Therefore, by appropriately selecting the cross-sectional area at the tip portion of the probe corresponding to the bonding pad for power supply, it becomes possible to make the degree of wear of this probe substantially equal to the degree of wear of other probes,
This makes it possible to suppress uneven wear between the probes and prevent uneven lengths of the probes.

【0007】以下、本発明を図示の実施の形態について
説明する。 〈具体例〉図1〜図3は、本発明に係るプローブの第1
〜第3具体例をそれぞれの一部を拡大して示す部分拡大
図であるが、これらの図面に沿った説明に先立ち、本発
明に係るプローブが組み込まれたプローブ装置について
の概略を図4および図5に沿って、説明する。
The present invention will be described below with reference to the illustrated embodiments. <Specific Example> FIGS. 1 to 3 show a first probe of the present invention.
[Fig. 4] Fig. 4 is a partially enlarged view showing a part of each of the third specific examples in an enlarged manner. Prior to the description along these drawings, an outline of a probe device incorporating a probe according to the present invention is shown in Fig. 4 and A description will be given with reference to FIG.

【0008】図4および図5は、本発明に係るプローブ
が設けられるプローブ装置10をそれぞれ模式的に示す
平面図および断面図である。プローブ装置10は、例え
ば半導体ウエハ11に形成されたICチップのような半
導体チップ12の電気特性試験に用いられる。電気特性
試験を受ける半導体チップ12を含む半導体ウエハ11
は、図4に示されているように、半導体チップ12の周
部に形成された複数のボンディングパッド13(13a
および13b)を上方に位置させてチャックトップ14
上に配置される。ボンディングパッド13(13aおよ
び13b)のうち、半導体チップ12の隅部に配置され
たボンディングパッド13aは、電源用パッドであり、
信号用のその他のボンディングパッド13bに比較し
て、大電流に耐え得るように比較的堅牢に形成されてい
る。
4 and 5 are a plan view and a sectional view, respectively, schematically showing a probe device 10 provided with a probe according to the present invention. The probe device 10 is used for an electrical characteristic test of a semiconductor chip 12 such as an IC chip formed on a semiconductor wafer 11, for example. Semiconductor wafer 11 including semiconductor chip 12 to be subjected to electrical characteristic test
As shown in FIG. 4, a plurality of bonding pads 13 (13a) formed on the peripheral portion of the semiconductor chip 12 are provided.
And 13b) with the chuck top 14
Placed on top. Of the bonding pads 13 (13a and 13b), the bonding pad 13a arranged at the corner of the semiconductor chip 12 is a power supply pad,
Compared to the other bonding pads 13b for signals, it is formed relatively robust so as to withstand a large current.

【0009】プローブ装置10は、半導体チップ12の
ボンディングパッド13(13aおよび13b)に対応
して設けられる例えばタングステンのような金属からな
る複数のプローブ15(15aおよび15b)と、各プ
ローブ15をチャックトップ14に載せられた半導体チ
ップ12の上方に保持するための電気絶縁体からなるプ
ローブカード16とを含む。
The probe device 10 chucks each probe 15 with a plurality of probes 15 (15a and 15b) made of a metal such as tungsten provided corresponding to the bonding pads 13 (13a and 13b) of the semiconductor chip 12. And a probe card 16 made of an electrical insulator for holding above the semiconductor chip 12 placed on the top 14.

【0010】プローブカード16は、図示しないフレー
ムにより、チャックトップ14の上方に固定的に支持さ
れており、このプローブカード16には、図示しない電
気測定装置の接続端子に接続される接続ピン17が設け
られている。各プローブ15の基端部は、対応する接続
ピン17に接続されており、各プローブ15は、プロー
ブカード16の中央部下方に配置された半導体チップ1
2の対応するそれぞれのボンディングパッド13に向け
て、図5に明確に示されているように、斜め下方に集束
的に伸長する。
The probe card 16 is fixedly supported above the chuck top 14 by a frame (not shown), and the probe card 16 has connection pins 17 connected to connection terminals of an electric measuring device (not shown). It is provided. The base end portion of each probe 15 is connected to the corresponding connection pin 17, and each probe 15 is connected to the semiconductor chip 1 disposed below the central portion of the probe card 16.
Convergently extend diagonally downward, towards the respective two respective bonding pads 13, as clearly shown in FIG.

【0011】チャックトップ14は、半導体チップ12
の各ボンディングパッド13を各プローブ15の先端に
対向させた位置で、所定のストローク分上昇する。この
チャックトップ14の上昇により、各ボンディングパッ
ド13は、それぞれに対応するプローブ15の先端に押
し付けられ、各プローブ15と、このプローブ15に対
応するボンディングパッド13との電気的接触が得られ
る。
The chuck top 14 is the semiconductor chip 12.
At a position where each of the bonding pads 13 is opposed to the tip of each probe 15, the bonding pad 13 is raised by a predetermined stroke. By the rise of the chuck top 14, each bonding pad 13 is pressed against the tip of the probe 15 corresponding to each, and the electrical contact between each probe 15 and the bonding pad 13 corresponding to this probe 15 is obtained.

【0012】プローブ15の先端とボンディングパッド
13との接触により、プローブ15を介して、前記電気
測定装置が半導体チップ12に接続され、この半導体チ
ップ12の電気特性試験が行われる。この電気特性試験
の後、チャックトップ14は降下し、他の半導体チップ
12の引き続く電気特性試験のために、チャックトップ
14は、前記したような所定のストロークで連続的に往
復運動する。この往復運動に伴い、プローブ15の先端
が対応するボンディングパッド13に相対的に押し付け
られる毎に、ボンディングパッド13に角度的に接触す
るプローブ15の先端が、僅かに対応するボンディング
パッド13上を摺動する。
By contacting the tip of the probe 15 with the bonding pad 13, the electrical measuring device is connected to the semiconductor chip 12 via the probe 15, and the electrical characteristic test of the semiconductor chip 12 is performed. After this electrical characteristic test, the chuck top 14 descends, and the chuck top 14 continuously reciprocates with a predetermined stroke as described above for the subsequent electrical characteristic test of the other semiconductor chips 12. With this reciprocating movement, every time the tip of the probe 15 is pressed relatively to the corresponding bonding pad 13, the tip of the probe 15 that angularly contacts the bonding pad 13 slides slightly on the corresponding bonding pad 13. Move.

【0013】この摺動により、他のボンディングパッド
13bよりも堅牢に形成された電源用ボンディングパッ
ド13aに対応するプローブ15aは、他のプローブ1
5bにおけるよりも激しい摩耗を受ける傾向が見られる
ことから、電源用ボンディングパッド13aに対応する
プローブ15aの摩耗の低減を図るために、電源用ボン
ディングパッド13aに対応するプローブ15aの先端
部分の横断面積が他のプローブ15bのそれよりも大き
く設定されている。
By this sliding, the probe 15a corresponding to the power supply bonding pad 13a formed more robustly than the other bonding pad 13b is replaced by the other probe 1
5B, the cross-sectional area of the tip portion of the probe 15a corresponding to the power supply bonding pad 13a is reduced in order to reduce the wear of the probe 15a corresponding to the power supply bonding pad 13a. Is set to be larger than that of the other probe 15b.

【0014】図1は、電源用ボンディングパッド13a
に対応するプローブ15aの先端部を拡大して示す第1
具体例についての部分拡大図である。図1に示されたプ
ローブ15aは、直径がdで示される傾斜本体部分18
に連続する先端部分19を備える。先端部分19は、傾
斜本体部分18に対し角度θで下方に伸び、電源用ボン
ディングパッド13aに当接する下端に帰する。
FIG. 1 shows a power source bonding pad 13a.
1 shows an enlarged end portion of the probe 15a corresponding to
It is a partial enlarged view about a specific example. The probe 15a shown in FIG. 1 has a tilted body portion 18 with a diameter d.
Is provided with a tip portion 19 continuous with the. The tip portion 19 extends downward at an angle θ with respect to the inclined body portion 18 and is attributed to the lower end that abuts the power supply bonding pad 13a.

【0015】プローブ15aの先端部分19は、傾斜本
体部分18の直径dの例えば1.5倍の直径1.5dを
有する。これに対し、図1に破線で示すように、他のプ
ローブ15bの先端部分19*は、傾斜本体部分18の
直径と等しい直径dを有する。その結果、プローブ15
aの先端部分19は、他のプローブ15bの先端部分1
9*におけるよりも2倍以上の横断面積を有する。
The tip portion 19 of the probe 15a has a diameter 1.5d which is, for example, 1.5 times the diameter d of the inclined body portion 18. On the other hand, as shown by the broken line in FIG. 1, the tip portion 19 * of the other probe 15b has a diameter d equal to the diameter of the inclined body portion 18. As a result, the probe 15
The tip portion 19 of a is the tip portion 1 of the other probe 15b.
It has more than twice the cross-sectional area than in 9 *.

【0016】先端部分19の横断面積が他のプローブ1
5bよりも増大されたプローブ15aでは、先端部分1
9の端面が対応する電源用ボンディングパッド13から
受ける面圧をその面積増大に応じて低減される。従っ
て、この電源用ボンディングパッド13aに対応するプ
ローブ15aに従来見られたような激しい摩耗が生じる
ことはなく、プローブ15aは、他のプローブ15bに
おけると同様な摩耗度合で摩耗を生じることから、各プ
ローブ15(15aおよび15b)にほぼ均一な摩耗を
実現することができる。
The cross-sectional area of the tip portion 19 is another probe 1.
In the probe 15a increased from 5b, the tip portion 1
The surface pressure that the end face 9 receives from the corresponding power supply bonding pad 13 is reduced in accordance with the increase in the area. Therefore, the probe 15a corresponding to the power source bonding pad 13a does not suffer from the severe wear as conventionally seen, and the probe 15a wears with the same degree of wear as the other probe 15b. It is possible to realize almost uniform wear on the probe 15 (15a and 15b).

【0017】その結果、実質的にプローブ装置10の耐
久性を高めることができ、また、プローブ15(15a
および15b)の長さの不均一による測定誤差を招くこ
となく、しかも半導体チップ12への損傷を招くことな
く、正確な測定が可能となる。
As a result, the durability of the probe device 10 can be substantially improved, and the probe 15 (15a
Also, accurate measurement can be performed without causing a measurement error due to the nonuniformity of the lengths of 15b) and without causing damage to the semiconductor chip 12.

【0018】図2に示されているように、電源用ボンデ
ィングパッド13aに対応するプローブ15aの先端部
分19を、傾斜本体部分18に連続する主針部20と、
主針部20から分岐する副針部21とから成る二股部と
することができる。主針部20は、他のプローブ15b
における先端部と同一である。従って、プローブ15a
は、他のプローブ15bに副針部21を付加した構成と
同一であり、付加された副針部21の横断面積により、
プローブ15aの先端部分19における横断面積の増大
が図られている。
As shown in FIG. 2, the tip portion 19 of the probe 15a corresponding to the power source bonding pad 13a is provided with a main needle portion 20 continuous with the inclined main body portion 18,
It can be a bifurcated portion composed of a main needle portion 20 and a sub needle portion 21. The main needle portion 20 is connected to the other probe 15b.
Is the same as the tip part in. Therefore, the probe 15a
Is the same as the configuration in which the sub needle portion 21 is added to the other probe 15b, and due to the cross-sectional area of the added sub needle portion 21,
The cross-sectional area of the tip portion 19 of the probe 15a is increased.

【0019】図2に示す例では、主針部20の下端にお
ける高さ位置よりも副針部21の下端における高さ位置
が僅かに高く(Δh)設定されている。そのため、主針
部20の摩耗により、主針部20の下端位置が副針部2
1の下端位置に達したとき、副針部21が機能して先端
部分19の横断面積の増大が図られることとなる。この
主針部20および副針部21の下端位置を同一レベルに
設定することができる。
In the example shown in FIG. 2, the height position at the lower end of the auxiliary needle portion 21 is set slightly higher (Δh) than the height position at the lower end of the main needle portion 20. Therefore, due to the wear of the main needle portion 20, the lower end position of the main needle portion 20 is changed to the sub needle portion 2.
When the lower end position of No. 1 is reached, the auxiliary needle portion 21 functions and the cross-sectional area of the tip portion 19 is increased. The lower end positions of the main needle portion 20 and the sub needle portion 21 can be set to the same level.

【0020】図3に示されるプローブ15aの副針部2
1は、その下端である自由端が主針部20および副針部
21を含む平面内で、主針部20へ向けて折り曲げられ
ている。また、図2に示した例におけると同様に、主針
部20の下端における高さ位置よりも副針部21の下端
における高さ位置が僅かに高く(Δh)設定されてい
る。
The auxiliary needle portion 2 of the probe 15a shown in FIG.
1, the free end, which is the lower end, is bent toward the main needle portion 20 in the plane including the main needle portion 20 and the sub needle portion 21. Further, as in the example shown in FIG. 2, the height position at the lower end of the sub needle portion 21 is set slightly higher (Δh) than the height position at the lower end of the main needle portion 20.

【0021】図3に示す例では、主針部20が水平面と
なす角度αの絶対値は、副針部21の折り曲げ先端部2
1aが水平面となす角度βの絶対値に等しい。従って、
主針部20の摩耗によって副針部21が機能を始める
と、先端部分19の横断面積の増大によって先端部分1
9の摩耗の低減が図られると共に、各主針部20および
副針部21の先端部が相互に運動を規制し合う作用を期
待することができ、この規制作用により、プローブ15
a先端の位置ずれを防止することが期待できる。
In the example shown in FIG. 3, the absolute value of the angle α formed by the main needle portion 20 and the horizontal plane is the bending tip portion 2 of the auxiliary needle portion 21.
It is equal to the absolute value of the angle β formed by 1a with the horizontal plane. Therefore,
When the auxiliary needle portion 21 starts to function due to wear of the main needle portion 20, the cross-sectional area of the tip portion 19 increases and the tip portion 1
It can be expected that the wear of the needle 9 is reduced and that the tips of the main needle portion 20 and the auxiliary needle portion 21 mutually regulate the movements, and this regulation action causes the probe 15 to move.
It can be expected to prevent the displacement of the tip of the a.

【0022】図1および図2に示したところでは、プロ
ーブ15を支持するプローブカード16に対して、被測
定物である半導体チップ12を載せるチャックトップ1
4が相近づきまたは相離れる方向へ往復運動する例につ
いて説明したが、チャックトップ14に代えて、プロー
ブカード16を往復運動させることができる。
In FIGS. 1 and 2, the chuck top 1 for mounting the semiconductor chip 12, which is the object to be measured, on the probe card 16 for supporting the probe 15.
Although the example in which 4 reciprocates toward or away from each other has been described, the probe card 16 can be reciprocated instead of the chuck top 14.

【0023】[0023]

【発明の効果】本発明に係るプローブ装置では、電源用
ボンディングパッドに対応した摩耗を生じ易いプローブ
の先端部における横断面積を他のプローブのそれらより
も大きくすることにより、他のプローブよりも摩耗を生
じやすいプローブの先端部が半導体チップから受ける面
圧を、他のプローブが受ける面圧よりも低くすることが
でき、この面圧の低減により、摩耗を生じやすいプロー
ブの摩耗を抑制して、プローブの摩耗の不均一によるプ
ローブの長さの不均一化を防止することができる。
In the probe device according to the present invention, the cross-sectional area at the tip portion of the probe, which is apt to cause wear corresponding to the power supply bonding pad, is made larger than those of other probes, so that the wear becomes higher than that of other probes. The surface pressure that the tip of the probe that easily produces from the semiconductor chip can be made lower than the surface pressure that other probes receive, and by reducing this surface pressure, wear of the probe that easily wears is suppressed, It is possible to prevent the probe length from becoming uneven due to uneven wear of the probe.

【0024】従って、本発明によれば、プローブの長さ
の不均一に起因する測定誤差を排除し、また半導体チッ
プへのプローブによる損傷を防止し、耐久性に優れたプ
ローブ装置が提供される。
Therefore, according to the present invention, the measurement error due to the non-uniformity of the probe length is eliminated, and the semiconductor chip is prevented from being damaged by the probe. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るプローブの第1具体例の一部を拡
大して示す部分拡大図である。
FIG. 1 is a partially enlarged view showing a part of a first specific example of a probe according to the present invention in an enlarged manner.

【図2】本発明に係るプローブの第2具体例を示す図1
と同様な図面である。
FIG. 2 shows a second specific example of the probe according to the present invention.
FIG.

【図3】本発明に係るプローブの第3具体例を示す図1
と同様な図面である。
FIG. 3 shows a third specific example of the probe according to the present invention.
FIG.

【図4】本発明に係るプローブが設けられるプローブ装
置の平面図である。
FIG. 4 is a plan view of a probe device provided with a probe according to the present invention.

【図5】図4に示された線V−Vに沿って得られた断面
図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line VV shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 プローブ装置 11 半導体ウエハ 12 半導体チップ 13(13aおよび13b) ボンディングパッド 15(15aおよび15b) プローブ 16 プローブカード 19 プローブの先端部分 20 主針部 21 副針部 10 Probe Device 11 Semiconductor Wafer 12 Semiconductor Chip 13 (13a and 13b) Bonding Pad 15 (15a and 15b) Probe 16 Probe Card 19 Tip of Probe 20 Main Needle Part 21 Sub Needle Part

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電源用ボンディングパッドを含む複数の
ボンディングパッドが設けられた半導体チップの電気特
性試験のために、それぞれの先端が対応する前記各ボン
ディングパッドに押し付けられて接続される複数のプロ
ーブを備えるプローブ装置であって、前記電源用ボンデ
ィングパッドに対応する前記プローブの先端部分におけ
る横断面積は、他の前記ボンディングパッドに対応する
他の前記プローブの先端部分におけるそれよりも大きい
ことを特徴とするプローブ装置。
1. A plurality of probes, each tip of which is pressed and connected to the corresponding bonding pad, for electrical characteristic testing of a semiconductor chip provided with a plurality of bonding pads including a power supply bonding pad. In the probe apparatus, the cross-sectional area of a tip portion of the probe corresponding to the power supply bonding pad is larger than that of a tip portion of another probe corresponding to another bonding pad. Probe device.
【請求項2】 電気測定装置に接続される接続端子が設
けられたプローブカードであって対応する前記接続端子
に接続された前記各プローブを支持するプローブカード
を備え、前記各プローブは、前記プローブカードから該
プローブカードの中央部下方に配置される前記半導体チ
ップの対応する前記ボンディングパッドへ向けて、斜め
下方に伸長する請求項1記載のプローブ装置。
2. A probe card provided with a connection terminal connected to an electrical measuring device, the probe card supporting each probe connected to the corresponding connection terminal, wherein each probe is the probe. The probe device according to claim 1, wherein the probe device extends obliquely downward from the card toward the corresponding bonding pad of the semiconductor chip arranged below the central portion of the probe card.
【請求項3】 前記電源用ボンディングパッドに対応す
る前記プローブは、その先端部分に、主針部と該主針部
から分岐する副針部とから成る二股部を備える請求項1
記載のプローブ装置。
3. The probe corresponding to the power supply bonding pad is provided with a forked portion including a main needle portion and a sub-needle portion branched from the main needle portion at a tip end portion thereof.
The described probe device.
【請求項4】 前記副針部は、その自由端が前記主針部
の自由端へ向けて折り曲げられている請求項3記載のプ
ローブ装置。
4. The probe device according to claim 3, wherein a free end of the sub needle portion is bent toward a free end of the main needle portion.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010010306A (en) * 2008-06-25 2010-01-14 Denso Corp Semiconductor wafer measuring apparatus
JP2013181824A (en) * 2012-03-01 2013-09-12 Mitsubishi Electric Corp Electrical characteristic measurement method, and contact probe
JP2013238443A (en) * 2012-05-14 2013-11-28 Mitsubishi Electric Corp Contact probe
JP2017172999A (en) * 2016-03-18 2017-09-28 ラピスセミコンダクタ株式会社 probe
US10309987B2 (en) 2017-04-18 2019-06-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Probe and probe card including the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010010306A (en) * 2008-06-25 2010-01-14 Denso Corp Semiconductor wafer measuring apparatus
JP2013181824A (en) * 2012-03-01 2013-09-12 Mitsubishi Electric Corp Electrical characteristic measurement method, and contact probe
JP2013238443A (en) * 2012-05-14 2013-11-28 Mitsubishi Electric Corp Contact probe
JP2017172999A (en) * 2016-03-18 2017-09-28 ラピスセミコンダクタ株式会社 probe
US10309987B2 (en) 2017-04-18 2019-06-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Probe and probe card including the same

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