JPH093038A - Benzyl sulfide derivative, its production and pest control agent - Google Patents

Benzyl sulfide derivative, its production and pest control agent

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JPH093038A
JPH093038A JP12088896A JP12088896A JPH093038A JP H093038 A JPH093038 A JP H093038A JP 12088896 A JP12088896 A JP 12088896A JP 12088896 A JP12088896 A JP 12088896A JP H093038 A JPH093038 A JP H093038A
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啓二 鳥谷部
Hideji Sasaki
秀治 佐々木
Sunao Masuyama
直 益山
Shoei Nagai
昭英 永井
Yuko Yano
祐幸 矢野
Mieko Kawashima
三枝子 川島
Hiroshi Kurihara
浩 栗原
Hotoku Shimazu
朋徳 嶋津
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new benzyl sulfide derivative exhibiting excellent control effect on various pests and useful as a component of a pesticide. SOLUTION: This compound is expressed by formula I [R<1> is a 1-6C alkyl, etc.; R<2> and R<3> are each independently H or a halogen, etc.; R<4> is H or a halogen, etc.; A is formula II or formula III (R<9> is H or a halogen, etc.; R<10> is H or a 1-4C alkyl; R<11> , R<12> and R<13> are each independently H or cyano, etc.; Q<1> and Q<2> are each N or CR<9> ; (m) is 1, 2 or 3)], e.g. 4-chloro-4'- trifluoromethylsulfonyl-methylbenzophenone-N'-ethoxycarbonylhydrazone. A compound of formula IV in an amount of 1mol is reacted with 1.0-10.0mol of a compound of formula V in the presence of 0-5L of a solvent to obtain an exemplified substance of formula I wherein A is expressed by formula III.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なベンジルス
ルフィド誘導体、その製造方法及びこれを有効成分とし
て含有する有害生物防除剤に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel benzyl sulfide derivative, a method for producing the same, and a pest control agent containing the same as an active ingredient.

【0002】[0002]

【従来の技術】これまでベンゾヒドラゾノイルフェニル
スルフィド誘導体が殺虫剤として使用し得る事が、例え
ば、米国特許3732307号明細書、特開昭54−1
22261号公報明細書及び特開昭56−45452号
公報明細書等に報告されているが、本発明のベンジルス
ルフィド誘導体は未だ知られていない。
2. Description of the Related Art The fact that benzohydrazonoylphenyl sulfide derivatives can be used as insecticides has hitherto been known, for example, in US Pat. No. 3,732,307 and JP-A-54-1.
Although it is reported in the specification of JP-A No. 22261 and the specification of JP-A-56-45452, the benzyl sulfide derivative of the present invention has not been known yet.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】近年、既存の市販殺虫
剤には残留、蓄積、環境汚染等の問題から使用が規制さ
れたり、長期使用によって抵抗性害虫が発生し、効力の
薄れたものも出ている。そのため低薬量において高い効
力を有し、安全性に優れた殺虫剤の開発が望まれてい
る。
In recent years, existing commercial insecticides have been restricted in use due to problems such as residue, accumulation, environmental pollution, etc., or resistant insects have been generated due to long-term use, and some of them have become less effective. Out. Therefore, it is desired to develop an insecticide having high efficacy even at a low dose and excellent safety.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、種々のベ
ンジルスルフィド誘導体を合成し、その生理活性につい
て検討を重ねた。その結果、本発明化合物が、種々の有
害生物、特に農園芸有害生物であるコナガ、ニカメイ
ガ、シロイチモジヨトウに代表される鱗翅目害虫、トビ
イロウンカ、ツマグロヨコバイ、ワタアブラムシに代表
される半翅目害虫及びアズキゾウムシに代表される鞘翅
目害虫に卓効を示すことを見いだし、本発明を完成した
ものである。
[Means for Solving the Problems] The present inventors have synthesized various benzyl sulfide derivatives and conducted repeated studies on their physiological activities. As a result, the compound of the present invention is various pests, particularly agro-horticultural pests, diamondback moth, lepidopteran pests typified by Spodoptera litura, brown planthopper, leafhopper leafhopper, hemiptera pests typified by cotton aphid and adzuki bean weevils. The present invention has been completed by discovering that it has excellent effects on Coleoptera pests represented by No.

【0005】即ち、本発明は(1)一般式[I]、That is, the present invention provides (1) the general formula [I],

【0006】[0006]

【化12】 {式中、Rは炭素数1から6のアルキル基、炭素数1
から4のシアノアルキル基、炭素数1から4のヒドロキ
シアルキル基、炭素数3から6のシクロアルキル基、炭
素数1から6のハロアルキル基、炭素数2から4のアル
ケニル基、炭素数2から4のアルキニル基、フェニル基
[該基はハロゲン原子又は炭素数1から4のアルキル基
で置換されてもよい]、シアノ基、ベンジル基[該基は
ハロゲン原子で置換されてもよい]、チアゾリル基、炭
素数1から4のアルキルカルバモイル基又は−N(R
5)R6基を示し、R及びRは各々独立して水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1から4のアルキ
ル基、炭素数1から3のハロアルキル基、炭素数1から
4のアルキルチオ基、炭素数1から4のアルキルカルボ
ニル基、カルボキシル基又は炭素数1から4のアルコキ
シカルボニル基を示す。R及びRはこれらの結合し
た炭素原子と共に3から6員環を形成してもよい。又、
及びRはこれらの結合した硫黄原子及び炭素原子
と共に一つ又はそれ以上のヘテロ原子を有する3から8
員環を形成してもよい。Rは水素原子、ハロゲン原
子、炭素数1から4のアルキル基、炭素数1から4のハ
ロアルキル基、炭素数1から4のアルコキシ基又は炭素
数1から4のハロアルコキシ基を示し、R及びR
各々独立して水素原子、炭素数1から6のアルキル基又
は炭素数1から4のハロアルキル基を示す。又、R
びRは一緒になって基=CRを形成又はR
びRはこれらの結合した窒素原子と合わせてひとつ又
はそれ以上のヘテロ原子を有する4から8員環を形成し
てもよい。Rは水素原子、炭素数1から3のアルキル
基又は炭素数1から3のアルキルチオ基を示し、R
炭素数1から3のアルキルチオ基又は炭素数1から3の
アルキルアミノ基を示す。又、R及びRはこれらの
結合した炭素原子と合わせて飽和または不飽和の4から
8員環を形成してもよい。Aは式[A1]または式[A
2]
[Chemical 12] {In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 1 carbon atom
To C4 cyanoalkyl group, C1 to C4 hydroxyalkyl group, C3 to C6 cycloalkyl group, C1 to C6 haloalkyl group, C2 to C4 alkenyl group, C2 to 4 Alkynyl group, phenyl group [which may be substituted with a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms], cyano group, benzyl group [this group may be substituted with a halogen atom], thiazolyl group , An alkylcarbamoyl group having 1 to 4 carbon atoms or -N (R
5) R6 group, wherein R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. An alkylthio group, an alkylcarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms, a carboxyl group or an alkoxycarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms is shown. R 2 and R 3 may form a 3- to 6-membered ring with these bonded carbon atoms. or,
R 1 and R 2 are 3 to 8 having one or more heteroatoms with their attached sulfur and carbon atoms.
You may form a member ring. R 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a haloalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and R 5 And R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 5 and R 6 together form a group = CR 7 R 8 or R 5 and R 6 are 4- to 8-membered rings having one or more heteroatoms in combination with these bonded nitrogen atoms. May be formed. R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkylthio group having 1 to 3 carbon atoms, and R 8 represents an alkylthio group having 1 to 3 carbon atoms or an alkylamino group having 1 to 3 carbon atoms. R 7 and R 8 may combine with these bonded carbon atoms to form a saturated or unsaturated 4- to 8-membered ring. A is the formula [A1] or the formula [A
2]

【0007】[0007]

【化13】 で表されるヒドラジノアラルキル基又はヒドラゾノアラ
ルキル基を示し、Rは水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、炭素数1から4のアルキル基、炭素数
1から4のハロアルキル基、炭素数1から4のアルコキ
シ基、炭素数1から4のハロアルコキシ基、炭素数1か
ら4のアルキルチオ基、炭素数1から4のハロアルキル
チオ基、炭素数1から4のアルキルスルホニル基、炭素
数2から4のアルキルスルホニルメチル基、炭素数1か
ら4のハロアルキルスルホニルオキシ基、フェニル基
[該基はハロゲン原子で置換されてもよい]又はフェノ
キシ基[該基はハロゲン原子で置換されてもよい]を示
す。又、2つのRを合わせて5から6員環を形成して
もよい。R10は水素原子または炭素数1から4のアル
キル基を示し、R11、R12及びR13は各々独立し
て水素原子、シアノ基、炭素数1から6のアルキル基、
炭素数1から4のハロアルキル基、炭素数2から10の
アルコキシアルキル基、炭素数3から8のアルコキシア
ルコキシアルキル基、炭素数2から6のアルキルチオア
ルキル基、炭素数2から6のアルケニル基、炭素数2か
ら4のアルキニル基、炭素数1から4のシアノアルキル
基、ベンジル基[該基はハロゲン原子、炭素数1から4
のハロアルキル基又は炭素数1から4のアルキル基で置
換されてもよい]、基−COR14、基−CSR14
基−COOR15、基−COSR15、基−CON(R
16)R17、基−CSN(R16)R17、基−SN
(R18)R19、基−SO20又は基−C(R
21)=CHR22を示す。又、R12及びR13は一
緒になって基=CR2324を形成、又はR12及び
13はこれらの結合した窒素原子と合わせてひとつ又
はそれ以上のヘテロ原子を有する4から8員環を形成し
てもよい。R14は水素原子、炭素数1から20のアル
キル基、炭素数1から8のハロアルキル基、炭素数2か
ら12のアルコキシアルキル基、炭素数2から10のハ
ロアルコキシアルキル基、炭素数3から16のアルコキ
シアルコキシアルキル基、炭素数4から22のアルコキ
シアルコキシアルコキシアルキル基、炭素数3から6の
シクロアルキル基、炭素数1から6のヒドロキシアルキ
ル基、炭素数1から6のアミノアルキル基、炭素数1か
ら6のアミドアルキル基、炭素数1から8のシアノアル
キル基、炭素数3から12のアルコキシカルボニルアル
キル基、炭素数2から6のアルケニル基、炭素数2から
4のアルキニル基、フェニル基[該基はハロゲン原子、
ニトロ基、炭素数1から4のアルキル基、炭素数1から
4のハロアルキル基、フェノキシ基又は炭素数1から4
のアルコキシ基で置換されてもよい]、ナフチル基[該
基はハロゲン原子、炭素数1から4のアルキル基で置換
されてもよい]又はヘテロ芳香環基[該基はハロゲン原
子、炭素数1から4のアルキル基で置換されてもよい]
を示し、R15は炭素数1から20のアルキル基、炭素
数2から8のハロアルキル基、炭素数2から12のアル
コキシアルキル基、炭素数2から6のアルケニル基、炭
素数2から4のアルキニル基、ベンジル基[該基はハロ
ゲン原子、炭素数1から4のアルコキシ基又は炭素数1
から4のアルキル基で置換されてもよい]又はフェニル
基[該基はハロゲン原子で置換されてもよい]を示し、
16は水素原子又は炭素数1から4のアルキル基を示
し、R17は水素原子、炭素数1から6のアルキル基又
はフェニル基[該基はハロゲン原子、炭素数1から4の
ハロアルコキシ基又は炭素数1から4のアルキル基で置
換されてもよい)を示し、R18及びR19は各々独立
して炭素数1から4のアルキル基(該基は炭素数1から
4のアルコキシカルボニル基で置換されてもよい]、炭
素数2から5のアルコキシアルキル基を示す。又、R
18及びR19はこれらの結合した窒素原子と合わせて
5から6員環を形成してもよい。R20は炭素数1から
4のアルキル基、炭素数1から4のハロアルキル基又は
炭素数2から4のジアルキルアミノ基を示し、R21
水素原子又は炭素数1から6のアルキル基を示し、R
22は炭素数2から4のアルカノイル基又は炭素数2か
ら6のアルコキシカルボニル基を示し、R23及びR
24は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
1から6のアルキル基又は基−N(R25)R26を示
し、R25及びR26は各々独立して、水素原子、炭素
数1から4のアルキル基、炭素数1から4のアルコキシ
基、炭素数2から12のアルコキシアルキル基又は基−
SO27を示す。又、R25及びR26はこれらの
結合した窒素原子と合わせて5から6員環を形成しても
よい。R27は炭素数1から8のアルキル基又はフェニ
ル基[該基はハロゲン原子又は炭素数1から4のアルキ
ル基で置換されてもよい]を示し、Q及びQは窒素
原子又は基−CRを示し、mは1又は2〜3の整数を
示し、nは0、1又は2を示す。}にて表されるベンジ
ルスルフィド誘導体及びその塩、(2)一般式[I]で
表される化合物を製造するための新規な合成中間体であ
る一般式[II]、
Embedded image Represents a hydrazino aralkyl group or a hydrazono aralkyl group, wherein R 9 is a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a carbon atom. An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a haloalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 4 carbon atoms, a haloalkylthio group having 1 to 4 carbon atoms, an alkylsulfonyl group having 1 to 4 carbon atoms, and 2 carbon atoms To 4 alkylsulfonylmethyl group, a haloalkylsulfonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group [the group may be substituted with a halogen atom] or a phenoxy group [the group may be substituted with a halogen atom]. Indicates. Alternatively, two R 9's may be combined to form a 5- to 6-membered ring. R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
Haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, alkoxyalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, alkoxyalkoxyalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, alkylthioalkyl group having 2 to 6 carbon atoms, alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, carbon An alkynyl group having 2 to 4 carbon atoms, a cyanoalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group [wherein the group is a halogen atom, 1 to 4 carbon atoms]
Is from haloalkyl groups or 1 carbon atoms substituted by 4 alkyl group may be, group -COR 14, group -csr 14,
Group -COOR 15, group -COSR 15, group -CON (R
16 ) R < 17 >, group-CSN (R < 16 >) R < 17 >, group-SN.
(R 18) R 19, group -SO 2 R 20 or a group -C (R
21 ) = CHR 22 is shown. R 12 and R 13 together form a group = CR 23 R 24 , or R 12 and R 13 are 4 to 8 membered having one or more heteroatoms in combination with their bonded nitrogen atoms. You may form a ring. R 14 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a haloalkoxyalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or 3 to 16 carbon atoms. Alkoxyalkoxyalkyl group, C4-22 alkoxyalkoxyalkoxyalkyl group, C3-6 cycloalkyl group, C1-6 hydroxyalkyl group, C1-6 aminoalkyl group, carbon number An amide alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyanoalkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 4 carbon atoms, a phenyl group [ The group is a halogen atom,
Nitro group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, phenoxy group or 1 to 4 carbon atoms
May be substituted with an alkoxy group of), a naphthyl group [the group may be substituted with a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms] or a heteroaromatic ring group [the group may have a halogen atom or a carbon number of 1]. To 4 may be substituted with an alkyl group]
R 15 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a haloalkyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 4 carbon atoms. Group, benzyl group [wherein the group is a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or 1 carbon atom]
To 4 may be substituted with an alkyl group] or a phenyl group [wherein the group may be substituted with a halogen atom],
R 16 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 17 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group [the group is a halogen atom, a haloalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms] Or optionally substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 18 and R 19 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (the group being an alkoxycarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms). May be substituted with], and is an alkoxyalkyl group having 2 to 5 carbon atoms.
18 and R 19 may combine with these bonded nitrogen atoms to form a 5 to 6 membered ring. R 20 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a dialkylamino group having 2 to 4 carbon atoms, R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R
22 represents an alkanoyl group having 2 to 4 carbon atoms or an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, R 23 and R
24 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a group —N (R 25 ) R 26 , and R 25 and R 26 each independently represent a hydrogen atom or a carbon number. An alkyl group having 1 to 4 carbons, an alkoxy group having 1 to 4 carbons, an alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbons, or a group-
This shows SO 2 R 27 . R 25 and R 26 may form a 5- to 6-membered ring together with the nitrogen atom to which they are bonded. R 27 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a phenyl group [the group may be substituted with a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms], and Q 1 and Q 2 represent a nitrogen atom or a group- CR 9 is shown, m is 1 or an integer of 2 to 3, and n is 0, 1 or 2. } The benzyl sulfide derivative and its salt represented by these, and (2) General formula [II] which is a novel synthetic intermediate for manufacturing the compound represented by General formula [I],

【0008】[0008]

【化14】 {式中、R、R、R、R、及びnは前記と同じ
意味を示し、Bは式[B1]または式[B2]
Embedded image {In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and n have the same meanings as described above, and B is the formula [B1] or the formula [B2].

【0009】[0009]

【化15】 で表されるアラルキル基又はアリールカルボニル基を示
し、R、R10、m、Q及びQは前記と同じ意味
を示し、R28はハロゲン原子又はヒドロキシル基を示
す。}にて表されるベンジルスルフィド誘導体、(3)
一般式[I]で表される化合物を製造するための新規な
合成中間体である一般式[III]、
Embedded image Represents an aralkyl group or an arylcarbonyl group represented by, R 9 , R 10 , m, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above, and R 28 represents a halogen atom or a hydroxyl group. } The benzyl sulfide derivative represented by
A general synthetic intermediate [III], which is a novel synthetic intermediate for producing a compound represented by the general formula [I],

【0010】[0010]

【化16】 {式中、R、R、R12、R13、m、Q及びQ
は前記と同じ意味を示し、R及びRは各々独立し
て水素原子又は炭素数1から4のアルキル基を示し、R
29はハロゲン原子、メルカプト基またはヒドロキシル
基を示す。}にて表されるベンゾフェノンヒドラゾン誘
導体、(4)一般式[IV]、
Embedded image {In the formula, R 4 , R 9 , R 12 , R 13 , m, Q 1 and Q
2 has the same meaning as described above, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2
29 represents a halogen atom, a mercapto group or a hydroxyl group. } The benzophenone hydrazone derivative represented by these, (4) General formula [IV],

【0011】[0011]

【化17】 {式中、R、R、R、R、R、m、n、Q
及びQは前記と同じ意味を示す。}で示される化合物
と一般式[V1]、
Embedded image {In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , m, n, and Q 1
And Q 2 have the same meaning as described above. } And the compound represented by the general formula [V1],

【0012】[0012]

【化18】 {式中、R12及びR13は前記と同じ意味を示す。}
で示される化合物とを反応させることを特徴とする化1
2記載のAが化13記載の式[A2]であるベンジルス
ルフィド誘導体の製造法、(5)一般式[III]、
Embedded image {In the formula, R 12 and R 13 have the same meanings as described above. }
[Chemical formula 1 characterized by reacting with a compound represented by
A method for producing a benzyl sulfide derivative, wherein A in formula 2 is the formula [A2] in formula 13, (5) general formula [III],

【0013】[0013]

【化19】 {式中、R、R、R、R、R12、R13、R
29、m、Q及びQは前記と同じ意味を示す。}で
示される化合物と一般式[V2]
Embedded image {In the formula, R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 12 , R 13 and R
29 , m, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above. } The compound and general formula [V2]

【0014】[0014]

【化20】Z−R[V2] {式中、Zは、R29がメルカプト基の時はハロゲン原
子、炭素数1〜4のアルキルスルホニルオキシ基又はベ
ンゼンスルホニルオキシ基[該基はメチル基で置換され
てもよい。]を示し、R29がハロゲン原子の時は基−
S(O)nMを示し、R29がヒドロキシル基の時は基
−SSRを示す。Rは炭素数1から6のアルキル
基、炭素数1から4のシアノアルキル基、炭素数3から
6のシクロアルキル基、炭素数1から6のハロアルキル
基、炭素数2から4のアルケニル基又はベンジル基(該
基はハロゲン原子で置換されてもよい)を示し、Mはア
ルカリ金属を示し、nは0又は2を示す。}で示される
化合物とを反応させることを特徴とする化12記載のA
が化13記載の式[A2]であるベンジルスルフィド誘
導体の製造法、(6)一般式[VI]、
Embedded image Z—R 1 [V2] (In the formula, Z is a halogen atom when R 29 is a mercapto group, an alkylsulfonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms or a benzenesulfonyloxy group [the group is a methyl group. May be replaced with. ], And when R 29 is a halogen atom, a group-
S (O) nM is shown, and when R 29 is a hydroxyl group, a group -SSR 1 is shown. R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyanoalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, or Represents a benzyl group (which may be substituted with a halogen atom), M represents an alkali metal, and n represents 0 or 2. } The compound of the formula 12, characterized by reacting with a compound represented by
A method of producing a benzyl sulfide derivative represented by the formula [A2], wherein (6) the general formula [VI]:

【0015】[0015]

【化21】 {式中、R、R、R、R、R、R10、m、
n,Q及びQは前記と同じ意味を示し、R28はハ
ロゲン原子を示す。}で示される化合物と一般式[V
1]、
[Chemical 21] {In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 10 , m,
n, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above, and R 28 represents a halogen atom. } And the compound represented by the general formula [V
1],

【0016】[0016]

【化22】 {式中、R12及びR13は前記と同じ意味を示す。}
で示される化合物とを反応させることを特徴とする化1
2記載のAが化13記載の式[A1]であるベンジルス
ルフィド誘導体の製造法及び、(7)化12のベンジル
スルフィド誘導体を有効成分として含有する有害生物防
除剤である。
Embedded image {In the formula, R 12 and R 13 have the same meanings as described above. }
[Chemical formula 1 characterized by reacting with a compound represented by
A described in 2 is a method for producing a benzyl sulfide derivative represented by the formula [A1] in 13 and (7) a pest control agent containing the benzyl sulfide derivative in 12 as an active ingredient.

【0017】本明細書において、ハロゲン原子とは、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を示す。
In the present specification, the halogen atom means a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

【0018】アルキル基とは、炭素数が1〜20の直鎖
又は分岐のアルキル基を意味し、例えばメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチ
ル基、n−ペンチル基、イソアミル基、ネオペンチル
基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、3、3−ジメチ
ルブチル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノ
ニル基、n−デシル基等を挙げることができる。
The alkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec. -Butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isoamyl group, neopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, 3,3-dimethylbutyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group , N-decyl group and the like.

【0019】シクロアルキル基とは、炭素数が3〜6の
シクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることがで
きる。
The cycloalkyl group means a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.

【0020】アルケニル基とは炭素数2から6の直鎖又
は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えばエテニル基、2
−プロペニル基等を挙げることができる。
The alkenyl group means a linear or branched alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, for example, ethenyl group, 2
-A propenyl group etc. can be mentioned.

【0021】ハロアルキル基とは、同一又は相異なるハ
ロゲン原子1〜10で置換されている炭素数が1〜8の
直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、例えばクロロメチ
ル基、トリフルオロメチル基、テトラフルオロエチル基
等を挙げることができる。
The haloalkyl group refers to a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, which is substituted with the same or different halogen atoms 1 to 10, for example, a chloromethyl group, a trifluoromethyl group, A tetrafluoroethyl group etc. can be mentioned.

【0022】シアノアルキル基とは、シアノ基で置換さ
れている炭素数が1〜8の直鎖又は分岐鎖のアルキル基
を示す。
The cyanoalkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, which is substituted with a cyano group.

【0023】ヒドロキシアルキル基とは、ヒドロキシル
基で置換されている炭素数が1〜8の直鎖又は分岐鎖の
アルキル基を示す。
The hydroxyalkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, which is substituted with a hydroxyl group.

【0024】アルコキシ基とは、アルキル部分が上記の
意味である−O−(アルキル基)を示し、例えばメトキ
シ基、エトキシ基等を挙げることができる。
The term "alkoxy group" means --O-(alkyl group) in which the alkyl portion has the above meaning, and examples thereof include a methoxy group and an ethoxy group.

【0025】ハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分
が上記の意味である−O−(ハロアルキル基)を示し、
例えばトリフルオロメトキシ基、2−クロロエトキシ基
等を挙げることができる。
The haloalkoxy group means -O- (haloalkyl group) in which the haloalkyl moiety has the above meaning,
For example, a trifluoromethoxy group, a 2-chloroethoxy group, etc. can be mentioned.

【0026】アルキルチオ基とは、アルキル部分が上記
の意味である−S−(アルキル基)を示し、例えばメチ
ルチオ基、エチルチオ基等を挙げることができる。
The alkylthio group means -S- (alkyl group) in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning, and examples thereof include a methylthio group and an ethylthio group.

【0027】ハロアルキルチオ基とは、ハロアルキル部
分が上記の意味である−S−(ハロアルキル基)を示
し、例えばトリフルオロメチルチオ基、2−クロロエチ
ルチオ基等を挙げることができる。
The haloalkylthio group means -S- (haloalkyl group) in which the haloalkyl moiety has the above meaning, and examples thereof include a trifluoromethylthio group and a 2-chloroethylthio group.

【0028】アルキルスルホニル基とは、アルキル部分
が上記の意味である−SO−(アルキル基)を示し、
例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基等を挙
げることができる。
The alkylsulfonyl group means --SO 2- (alkyl group) in which the alkyl moiety has the above meaning,
Examples thereof include a methylsulfonyl group and an ethylsulfonyl group.

【0029】アルキルスルホニルメチル基とは、アルキ
ル部分が上記の意味である−CHSO−(アルキル
基)を示し、例えばメチルスルホニルメチル基、エチル
スルホニルメチル基等を挙げることができる。
The alkylsulfonylmethyl group means -CH 2 SO 2- (alkyl group) in which the alkyl portion has the above meaning, and examples thereof include a methylsulfonylmethyl group and an ethylsulfonylmethyl group.

【0030】アルコキシアルキル基とは、アルキル部分
及びアルキレン部分が上記の意味である(アルキレン
基)−O−(アルキル基)を示し、例えばメトキシメチ
ル基、エトキシメチル基等を挙げることができる。
The alkoxyalkyl group refers to (alkylene group) -O- (alkyl group) in which the alkyl portion and the alkylene portion have the above meanings, and examples thereof include a methoxymethyl group and an ethoxymethyl group.

【0031】アルキルチオアルキル基とは、アルキル部
分及びアルキレン部分が上記の意味である(アルキレン
基)−S−(アルキル基)を示し、例えばメチルチオメ
チル基、エチルチオメチル基等を挙げることができる。
The alkylthioalkyl group means (alkylene group) -S- (alkyl group) in which the alkyl portion and the alkylene portion have the above meanings, and examples thereof include a methylthiomethyl group and an ethylthiomethyl group.

【0032】アルコキシアルコキシアルキル基とは、ア
ルキル部分及びアルキレン部分が上記の意味である(ア
ルキレン基)−O−(アルキレン基)−O−(アルキル
基)を示す。
The alkoxyalkoxyalkyl group means (alkylene group) -O- (alkylene group) -O- (alkyl group) in which the alkyl portion and the alkylene portion have the above-mentioned meanings.

【0033】アルコキシアルコキシアルコキシアルキル
基とは、アルキル部分及びアルキレン部分が上記の意味
である(アルキレン基)−O−(アルキレン基)−O−
(アルキレン基)−O−(アルキル基)を示す。
The term "alkoxyalkoxyalkoxyalkyl group" means that the alkyl moiety and the alkylene moiety have the above meanings (alkylene group) -O- (alkylene group) -O-.
(Alkylene group) -O- (alkyl group) is shown.

【0034】アミノアルキル基とは、アミノ基、モノア
ルキルアミノ基又はジアルキルアミノ基で置換されてい
る炭素数が1〜8の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示
す。
The aminoalkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, which is substituted with an amino group, a monoalkylamino group or a dialkylamino group.

【0035】アミドアルキル基とは、アシルアミノ基又
はN−アルキル−N−アシルアミノ基で置換されている
炭素数が1〜8の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示す。
The amidoalkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, which is substituted with an acylamino group or an N-alkyl-N-acylamino group.

【0036】アルキニル基とは炭素数2から4の直鎖の
アルキニル基を示す。
The alkynyl group means a straight chain alkynyl group having 2 to 4 carbon atoms.

【0037】アルキレン基とは、炭素数が1〜8の直鎖
のアルキレン基を意味し、メチレン基、エチレン基、ト
リメチレン基、テトラメチレン基を示す。
The alkylene group means a straight-chain alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and is a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group or a tetramethylene group.

【0038】ヘテロ芳香環基とは窒素原子、酸素原子又
は硫黄原子を1〜4個含んだ5員環の芳香環基およびそ
れらとベンゼン環との縮合環、あるいは1〜3個の窒素
原子を含んだ6員環の芳香環基およびそれらとベンゼン
環との縮合環を示し、例えば、フリル基、チエニル基、
ピラゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾフラニル基、ベ
ンゾチアゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリ
ダジニル基、トリアジニル基、キノリル基、キノキサリ
ニル基等を挙げることができる。
The heteroaromatic ring group is a 5-membered aromatic ring group containing 1 to 4 nitrogen atoms, oxygen atoms or sulfur atoms and a condensed ring of these with a benzene ring, or 1 to 3 nitrogen atoms. A 6-membered aromatic ring group containing and a condensed ring thereof with a benzene ring are shown, for example, a furyl group, a thienyl group,
Examples thereof include a pyrazolyl group, an imidazolyl group, a benzofuranyl group, a benzothiazolyl group, a pyridyl group, a pyrimidinyl group, a pyridazinyl group, a triazinyl group, a quinolyl group and a quinoxalinyl group.

【0039】本発明化合物における塩とは、一般式
[I]で表される化合物と酸との塩又は一般式[I]で
表される化合物において、RあるいはRがカルボキ
シル基である化合物と金属あるいはアミン類との塩であ
り、酸としては塩酸や臭化水素酸等のハロゲン化水素酸
又は硫酸やメタンスルホン酸等のスルホン酸を挙げるこ
とができ、金属としてはナトリウムやカリウム等のアル
カリ金属、マグネシウムやカルシウム等のアルカリ土類
金属を挙げることができ、アミン類としてはアンモニ
ア、イソプロピルアミン又はトリエチルアミン等を挙げ
ることができる。
The salt in the compound of the present invention means a salt of a compound represented by the general formula [I] and an acid, or a compound represented by the general formula [I], wherein R 2 or R 3 is a carboxyl group. Examples of the acid include hydrohalic acids such as hydrochloric acid and hydrobromic acid, or sulfonic acids such as sulfuric acid and methanesulfonic acid, and examples of the metal include sodium and potassium. Examples thereof include alkali metals, alkaline earth metals such as magnesium and calcium, and examples of amines include ammonia, isopropylamine, triethylamine and the like.

【0040】前記一般式[I]において、好ましい化合
物群として、Rが炭素数1から4のアルキル基、炭素
数1から2のシアノアルキル基、ヒドロキシエチル基、
シクロペンチル基、炭素数1から2のハロアルキル基、
フェニル基[該基はハロゲン原子で置換されてもよ
い]、シアノ基、炭素数1から4のアルキルカーバモイ
ル基又はチアゾリル基であり、R、Rが各々独立し
て水素原子、メチル基または炭素数1から2のアルコキ
シカルボニル基であり、又、R及びRはこれらの結
合した硫黄原子及び炭素原子と共に5員環を形成しても
よく、Rが水素原子又はフッ素原子であり、Aが式
[A1]または[A2]で表されるヒドラジノアラルキ
ル基又はをヒドラゾノアラルキル基であり、Rが水素
原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、
トリフルオロメチル基、メトキシ基、炭素数1から2の
ハロアルコキシ基、メチルチオ基、ジフルオロメチルチ
オ基、メチルスルホニル基、メチルスルホニルメチル
基、トリフルオロメチルスルホニルオキシ基、フェニル
基、フェノキシ基[該基はハロゲン原子で置換されても
よい]又はメチレンジオキシ基であり、R10が水素原
子であり、R11が水素原子、基−COR14または基
−COOR15であり、R12及びR13が各々独立し
て水素原子、炭素数1から4のアルキル基、炭素数1か
ら4のハロアルキル基、炭素数2から10のアルコキシ
アルキル基、炭素数3から8のアルコキシアルコキシア
ルキル基、炭素数2から6のアルキルチオアルキル基、
シアノメチル基、ベンジル基[該基はハロゲン原子又は
トリフルオロメチル基で置換されてもよい]、基−CO
14、基−COOR15、基−CONHR17、基−
SO20又は基−C(R21)=CHR22であ
り、又、R12及びR13は一緒になって基=CR23
24を形成又はR12及びR13はこれらの結合した
窒素原子と合わせて5員環を形成してもよく、R14
炭素数1から10のアルキル基、炭素数1から4のハロ
アルキル基、炭素数2から6のアルコキシアルキル基、
炭素数2から4のハロアルコキシアルキル基、炭素数3
から10のアルコキシアルコキシアルキル基、炭素数4
から12のアルコキシアルコキシアルコキシアルキル
基、シクロプロピル基、炭素数1から4のシアノアルキ
ル基、炭素数3から6のアルコキシカルボニルアルキル
基、フェニル基[該基はハロゲン原子、ニトロ基、炭素
数1から4のアルキル基、トリフルオロメチル基、フェ
ノキシ基又はメトキシ基で置換されてもよい]、ナフチ
ル基、ピリジル基、チエニル基又は2−フリル基であ
り、R15が炭素数1から10のアルキル基、炭素数2
から6のハロアルキル基、炭素数2から6のアルコキシ
アルキル基又はフェニル基であり、R16が水素原子又
はメチル基であり、R17が水素原子、炭素数1から6
のアルキル基又はフェニル基[該基は塩素原子、メチル
基又はトリフルオロメトキシ基で置換されてもよい]で
あり、R20がメチル基又はトリフルオロメチル基であ
り、R21が水素原子又はメチル基であり、R22がア
セチル基又は炭素数メトキシカルボニル基であり、R
23及びR24が各々独立して、水素原子、塩素原子、
炭素数1から4のアルキル基、1−トリアゾリル基又は
基−N(R25)R26であり、R25及びR26が各
々独立して、水素原子、炭素数1から4のアルキル基、
メトキシ基又は炭素数2から4のアルコキシアルキル基
であり、R27が炭素数1から4のアルキル基又はフェ
ニル基[該基はハロゲン原子又はメチル基で置換されて
もよい]であり、Q及びQが窒素原子又は基−CR
であり、mが1又は2〜3の整数であり、nは、R
がシアノ基又は炭素数1から4のアルキルカルバモイル
基の時は0であり、それ以外は0、1又は2で表される
化合物群が挙げられる。
In the above general formula [I], R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cyanoalkyl group having 1 to 2 carbon atoms, a hydroxyethyl group,
A cyclopentyl group, a haloalkyl group having 1 to 2 carbon atoms,
A phenyl group [which may be substituted with a halogen atom], a cyano group, an alkylcarbamoyl group having 1 to 4 carbon atoms or a thiazolyl group, wherein R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom or a methyl group. Or, it is an alkoxycarbonyl group having 1 to 2 carbon atoms, and R 1 and R 2 may form a 5-membered ring together with these bonded sulfur atom and carbon atom, and R 4 is a hydrogen atom or a fluorine atom. And A is a hydrazinoaralkyl group represented by the formula [A1] or [A2] or a hydrazonoaralkyl group, and R 9 is a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a methyl group,
Trifluoromethyl group, methoxy group, haloalkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, methylthio group, difluoromethylthio group, methylsulfonyl group, methylsulfonylmethyl group, trifluoromethylsulfonyloxy group, phenyl group, phenoxy group [the group is May be substituted with a halogen atom] or a methylenedioxy group, R 10 is a hydrogen atom, R 11 is a hydrogen atom, a group —COR 14 or a group —COOR 15 , and R 12 and R 13 are each Independently hydrogen atom, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, alkoxyalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, alkoxyalkoxyalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, 2 to 6 carbon atoms An alkylthioalkyl group of
Cyanomethyl group, benzyl group [the group may be substituted with a halogen atom or a trifluoromethyl group], group -CO
R 14, group -COOR 15, group -CONHR 17, a group -
SO 2 R 20 or a group -C (R 21) = a CHR 22, also, R 12 and R 13 together based = CR 23
R 24 may be formed or R 12 and R 13 may be combined with these bonded nitrogen atoms to form a 5-membered ring, and R 14 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. , An alkoxyalkyl group having 2 to 6 carbon atoms,
Haloalkoxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, 3 carbon atoms
To 10 alkoxyalkoxyalkyl groups, 4 carbon atoms
To 12 alkoxyalkoxyalkoxyalkyl groups, cyclopropyl groups, cyanoalkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, alkoxycarbonylalkyl groups having 3 to 6 carbon atoms, phenyl groups [these groups being halogen atoms, nitro groups, 1 to 1 carbon atoms 4 may be substituted with an alkyl group, a trifluoromethyl group, a phenoxy group or a methoxy group], a naphthyl group, a pyridyl group, a thienyl group or a 2-furyl group, and R 15 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. , Carbon number 2
6 haloalkyl group, an alkoxyalkyl group or a phenyl group having 2 to 6 carbon atoms, a R 16 is a hydrogen atom or a methyl group, R 17 is a hydrogen atom, from 1 to 6 carbon atoms
Is an alkyl group or a phenyl group [which may be substituted with a chlorine atom, a methyl group or a trifluoromethoxy group], R 20 is a methyl group or a trifluoromethyl group, and R 21 is a hydrogen atom or a methyl group. R 22 is an acetyl group or a methoxycarbonyl group having carbon atoms, R 22
23 and R 24 are each independently a hydrogen atom, a chlorine atom,
An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a 1-triazolyl group or a group —N (R 25 ) R 26 , wherein R 25 and R 26 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
A methoxy group or an alkoxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, R 27 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group [the group may be substituted with a halogen atom or a methyl group], and Q 1 And Q 2 is a nitrogen atom or a group —CR
9 , m is 1 or an integer of 2 to 3, and n is R 1
Is a cyano group or an alkylcarbamoyl group having 1 to 4 carbon atoms, and other than that, a group of compounds represented by 0, 1 or 2 can be mentioned.

【0041】前記一般式[II]において、好ましい化
合物郡としては、Rが炭素数1から4のアルキル基、
シアノメチル基、ヒドロキシエチル基、シクロペンチル
基、炭素数1から3のハロアルキル基、フェニル基[該
基はハロゲン原子で置換されてもよい]、シアノ基、炭
素数1から4のアルキルカルバモイル基又はチアゾリル
基であり、R、Rが各々独立して水素原子、メチル
基又は炭素数1から2のアルコキシカルボニル基であ
り、又、R及びRはこれらの結合した硫黄原子及び
炭素原子と共に5員環を形成してもよく、Rが水素原
子又はフッ素原子であり、Bが式[B1]または[B
2]で表されるアラルキル基又はアリールカルボニル基
であり、Rがハロゲン原子、トリフルオロメチル基、
メトキシ基、炭素数1から2のフルオロアルコキシ基又
はフェノキシ基[該基はハロゲン原子で置換されてもよ
い]であり、R10が水素原子であり、R28が塩素原
子又はヒドロキシル基であり、Q及びQが窒素原子
又は基−CRであり、mが1又は2の整数であり、n
は、Rがシアノ基又は炭素数1から4のアルキルカル
バモイル基の時は0であり、それ以外は0、1又は2で
表される化合物群が挙げられる。
In the above-mentioned general formula [II], a preferred group of compounds is that R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
Cyanomethyl group, hydroxyethyl group, cyclopentyl group, haloalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, phenyl group [the group may be substituted with a halogen atom], cyano group, alkylcarbamoyl group having 1 to 4 carbon atoms or thiazolyl group And R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a methyl group or an alkoxycarbonyl group having 1 to 2 carbon atoms, and R 1 and R 2 together with these bonded sulfur atom and carbon atom are 5 May form a member ring, R 4 is a hydrogen atom or a fluorine atom, and B is represented by the formula [B1] or [B
2] which is an aralkyl group or an arylcarbonyl group, wherein R 9 is a halogen atom, a trifluoromethyl group,
A methoxy group, a fluoroalkoxy group having 1 to 2 carbon atoms or a phenoxy group [the group may be substituted with a halogen atom], R 10 is a hydrogen atom, R 28 is a chlorine atom or a hydroxyl group, Q 1 and Q 2 are a nitrogen atom or a group —CR 9 , m is an integer of 1 or 2, and n
Is 0 when R 1 is a cyano group or an alkylcarbamoyl group having 1 to 4 carbon atoms, and other examples include a compound group represented by 0, 1 or 2.

【0042】前記一般式[III]において、好ましい
化合物郡としては、R、R及びRが水素原子であ
り、Rが4位置換塩素原子であり、R12及びR13
が水素原子、基−COR14、基−COOR15であ
り、R14が炭素数1から4のアルキル基であり、R
15が炭素数1から4のアルキル基であり、R29が塩
素原子、メルカプト基又はヒドロキシル基であり、Q
及びQがメチン基であり、mが1で表される化合物群
が挙げられる。
In the general formula [III], preferred compound groups include R 2 , R 3 and R 4 which are hydrogen atoms, R 9 which is a 4-substituted chlorine atom, and R 12 and R 13.
Is a hydrogen atom, a group -COR 14 and a group -COOR 15 ; R 14 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
15 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 29 is a chlorine atom, a mercapto group or a hydroxyl group, and Q 1
And Q 2 is a methine group, and m is a compound group represented by 1.

【0043】[0043]

【発明の実施の形態】次に、一般式[I]、[II]、
及び[III]で表される本発明化合物の代表的な具体
例を表1〜表35に例示する。尚、化合物番号は以後の
記載において参照される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, general formulas [I], [II],
And typical examples of the compound of the present invention represented by [III] are shown in Tables 1 to 35. The compound numbers will be referred to in the following description.

【0044】一般式[I]で表される化合物にはC=N
結合が存在する為にエントゲーゲン(E)体及びツザー
メン(Z)体の2種類の幾何異性体が存在するが、本発
明化合物はE体又はZ体単独で用いても良く、その混合
物としても使用できる。
The compound represented by the general formula [I] has C = N
Since there are two types of geometrical isomers, entgegen (E) isomer and tumen semen (Z) isomer, due to the existence of the bond, the compound of the present invention may be used in the E isomer or Z isomer alone, or as a mixture thereof. it can.

【0045】また、一般式[I]で表される本発明化合
物は、ある場合において互変異性体が存在する。例え
ば、基=CR2324が=C(R23)−N
(R25)R26で表される場合に、R25が水素原子
の時、部分的な構造として−N=C(R23)NH−R
26を持つ化合物は、部分的な構造として−NH−C
(R23)=N−R26を持つ互変異性体の平衡状態と
して存在し得る。従って、本発明化合物において互変異
性体を取り得る化合物については、互変異性体を特記し
ない場合でも相当する互変異性体が存在するものとして
理解されるべきである。
Further, the compound of the present invention represented by the general formula [I] has a tautomer in some cases. For example, group = CR 23 R 24 is = C (R 23) -N
In the case of being represented by (R 25 ) R 26 , when R 25 is a hydrogen atom, —N═C (R 23 ) NH—R as a partial structure.
The compound having 26 is -NH-C as a partial structure.
It may exist as an equilibrium state of a tautomer having (R 23 ) ═N—R 26 . Therefore, it should be understood that a compound capable of taking a tautomer in the compound of the present invention has a corresponding tautomer even if the tautomer is not particularly mentioned.

【0046】[0046]

【表1】 [Table 1]

【0047】[0047]

【表2】 [Table 2]

【0048】[0048]

【表3】 [Table 3]

【0049】[0049]

【表4】 [Table 4]

【0050】[0050]

【表5】 [Table 5]

【0051】[0051]

【表6】 [Table 6]

【0052】[0052]

【表7】 [Table 7]

【0053】[0053]

【表8】 [Table 8]

【0054】[0054]

【表9】 [Table 9]

【0055】[0055]

【表10】 [Table 10]

【0056】[0056]

【表11】 [Table 11]

【0057】[0057]

【表12】 [Table 12]

【0058】[0058]

【表13】 [Table 13]

【0059】[0059]

【表14】 [Table 14]

【0060】[0060]

【表15】 [Table 15]

【0061】[0061]

【表16】 [Table 16]

【0062】[0062]

【表17】 [Table 17]

【0063】[0063]

【表18】 [Table 18]

【0064】[0064]

【表19】 [Table 19]

【0065】[0065]

【表20】 [Table 20]

【0066】[0066]

【表21】 [Table 21]

【0067】[0067]

【表22】 [Table 22]

【0068】[0068]

【表23】 [Table 23]

【0069】[0069]

【表24】 [Table 24]

【0070】[0070]

【表25】 [Table 25]

【0071】[0071]

【表26】 [Table 26]

【0072】[0072]

【表27】 [Table 27]

【0073】[0073]

【表28】 [Table 28]

【0074】[0074]

【表29】 [Table 29]

【0075】[0075]

【表30】 [Table 30]

【0076】[0076]

【表31】 [Table 31]

【0077】[0077]

【表32】 [Table 32]

【0078】[0078]

【表33】 [Table 33]

【0079】[0079]

【表34】 [Table 34]

【0080】[0080]

【表35】 [Table 35]

【0081】次に、本発明化合物の製造法について説明
する。
Next, a method for producing the compound of the present invention will be described.

【0082】一般式[I]で表される本発明化合物は、
下記の製造法1〜5に従って製造できる。 製造法1
The compound of the present invention represented by the general formula [I] is
It can be manufactured according to the following manufacturing methods 1 to 5. Manufacturing method 1

【0083】[0083]

【化23】 (式中、R、R、R、R、R、R12、R
13、m、n、Q及びQは前記と同じ意味を示
す。)
Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 12 , and R
13 , m, n, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above. )

【0084】製造法1において、一般式[IV]で示さ
れるベンゾフェノン類1モルに対し、一般式[V1]で
示されるヒドラジン類又はその水和物1.0〜10.0
モルを0〜5lの溶媒の存在下、必要ならば0.01〜
1.0モルの酸触媒の存在下に反応させて一般式[I]
でAが[A2]で表される本発明化合物を得ることがで
きる。
In the production method 1, hydrazines represented by the general formula [V1] or hydrates thereof 1.0 to 10.0 are based on 1 mol of the benzophenones represented by the general formula [IV].
Moles in the presence of 0-5 liters of solvent, if necessary 0.01-
The compound of the general formula [I] is reacted in the presence of 1.0 mol of an acid catalyst.
The compound of the present invention in which A is represented by [A2] can be obtained.

【0085】使用できる溶媒としては、例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2
−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等
の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、エ
チレングリコール及びグリセリン等のアルコール類、塩
化メチレン及びクロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類、
ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化
水素類、ピリジン及びピコリン等のピリジン類、酢酸及
び水等の溶媒又はこれらの混合溶媒が挙げられる。
Examples of usable solvents include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide. , N-methyl-2
-Aprotic polar solvents such as pyrrolidone, dimethyl sulfoxide and sulfolane, alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol and glycerin, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform, esters such as ethyl acetate and ethyl propionate. ,
Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, pyridines such as pyridine and picoline, solvents such as acetic acid and water, or a mixed solvent thereof.

【0086】酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸及び
硝酸等の鉱酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、メタンスル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸及びp−トルエンスルホン
酸一水和物のような有機酸、ピリジン塩酸塩及びトリエ
チルアミン塩酸塩等のアミン類の酸付加塩、四塩化チタ
ン、塩化亜鉛、塩化第一鉄及び塩化第二鉄等の金属ハロ
ゲン化物又は三フッ化ホウ素・エーテラート等が挙げら
れる。
Examples of the acid catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, organic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid monohydrate. Examples thereof include acid addition salts of amines such as pyridine hydrochloride and triethylamine hydrochloride, metal halides such as titanium tetrachloride, zinc chloride, ferrous chloride and ferric chloride, or boron trifluoride / etherate.

【0087】反応温度は−10℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは室温から1
50℃である。反応時間は化合物により異なるが10分
〜20時間の間で設定できる。 製造法2
The reaction temperature is any temperature from -10 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably room temperature to 1
50 ° C. The reaction time varies depending on the compound, but can be set between 10 minutes and 20 hours. Manufacturing method 2

【0088】[0088]

【化24】 (式中、R、R、R、R、R12、R13
m、Q及びQは前記と同じ意味を示し、R29はハ
ロゲン原子を示し、Zは基MS(O)nを示し、R
請求項1と同じ意味を示し、Mはアルカリ金属を示し、
nは0又は2を示す。)
Embedded image (In the formula, R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 12 , R 13 ,
m, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above, R 29 represents a halogen atom, Z represents a group MS (O) n, R 1 has the same meaning as in claim 1, M represents an alkali metal Indicates
n represents 0 or 2. )

【0089】製造法2において、一般式[III]で示
されるで示されるベンジルハライド類1モルに対し一般
式[V2]で表されるイオウ化合物のアルカリ金属塩
1.0〜3.0モルを0〜10lの溶媒の存在下反応さ
せて一般式[I]でAが[A2]で表される本発明化合
物を得ることができる。
In Production Method 2, 1.0 to 3.0 mol of an alkali metal salt of a sulfur compound represented by the general formula [V2] is added to 1 mol of the benzyl halide represented by the general formula [III]. The compound of the present invention in which A is represented by [A2] in the general formula [I] can be obtained by reacting in the presence of a solvent of 0 to 10 l.

【0090】使用できる溶媒としては、例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2
−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等
の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、エ
チレングリコール及びグリセリン等のアルコール類、塩
化メチレン及びクロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類、
ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の
脂肪族炭化水素類、ピリジン及びピコリン等のピリジン
類及び水等の溶媒又はこれらの混合溶媒が挙げられる。
Examples of usable solvents include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide. , N-methyl-2
-Aprotic polar solvents such as pyrrolidone, dimethyl sulfoxide and sulfolane, alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol and glycerin, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform, esters such as ethyl acetate and ethyl propionate. ,
Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane and heptane, pyridines such as pyridine and picoline, solvents such as water, and mixed solvents thereof.

【0091】本製造法に用いられるイオウ化合物のアル
カリ金属塩は、ZがHS(O)nのイオウ化合物とアル
カリ金属、アルカリ金属水素化物又はアルカリ金属水酸
化物とから調製することもできる。
The alkali metal salt of a sulfur compound used in this production method can also be prepared from a sulfur compound in which Z is HS (O) n and an alkali metal, an alkali metal hydride or an alkali metal hydroxide.

【0092】反応温度は−10℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは室温から1
50℃である。反応時間は化合物により異なるが10分
〜20時間の間で設定できる。 製造法3
The reaction temperature is any temperature from -10 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably room temperature to 1
50 ° C. The reaction time varies depending on the compound, but can be set between 10 minutes and 20 hours. Manufacturing method 3

【0093】[0093]

【化25】 (式中、R、R、R、R、R、R12、R
13、m、Q及びQは前記と同じ意味を示し、R
29はメルカプト基を示し、Zはハロゲン原子、炭素数
1〜4のアルキルスルホニルオキシ基又はベンゼンスル
ホニルオキシ基[該基はメチル基で置換されてもよ
い。]を示す。)
Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 12 , and R
13 , m, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above, and R
29 represents a mercapto group, Z is a halogen atom, an alkylsulfonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms or a benzenesulfonyloxy group [the group may be substituted with a methyl group. ]. )

【0094】製造法3において、一般式[III]で示
されるメルカプト類1モルに対し、一般式[V2]で表
される化合物1.0〜5.0モルを0〜5lの溶媒中
1.0〜3.0モルの塩基の存在下反応させて一般式
[I]でAが[A2]で表される本発明化合物を得るこ
とができる。
In Production Method 3, 1.0 to 5.0 mol of the compound represented by the general formula [V2] was dissolved in 1 to 1 mol of the mercapto compound represented by the general formula [III] in a solvent of 0 to 5 l. The compound of the present invention in which A is represented by [A2] in the general formula [I] can be obtained by reacting in the presence of 0 to 3.0 mol of a base.

【0095】使用できる溶媒としては、例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2
−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等
の非プロトン性極性溶媒、塩化メチレン及びクロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル及びプロ
ピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン
酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン
及びピコリン等のピリジン類及び水等の溶媒又はこれら
の混合溶媒が挙げられる。
Examples of usable solvents include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide. , N-methyl-2
Aprotic polar solvents such as pyrrolidone, dimethylsulfoxide and sulfolane, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, esters such as ethyl acetate and ethyl propionate, pentane, Aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, pyridines such as pyridine and picoline, and solvents such as water or a mixed solvent thereof can be mentioned.

【0096】塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸
化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル
カリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、
水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム tert−ブトキシド等のアルコキシド類又は
トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジ
アザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機
塩基類が挙げられる。
Examples of the base include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate. Inorganic bases such as alkali metal carbonates, alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate,
Metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxide, or triethylamine, N, N-dimethylaniline, pyridine, 4-N, N-dimethylamino. Organic bases such as pyridine and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene can be mentioned.

【0097】反応温度は−30℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは0〜150
℃である。反応時間は化合物により異なるが10分〜2
0時間の間で設定できる。 製造法4
The reaction temperature is any temperature from -30 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably 0 to 150.
° C. The reaction time varies depending on the compound, but is 10 minutes to 2
It can be set between 0 hours. Manufacturing method 4

【0098】[0098]

【化26】 (式中、R、R、R、R、R、R12、R
13、m、Q及びQは前記と同じ意味を示し、R
29はヒドロキシル基を示し、Zは基−SSR
す。)
[Chemical formula 26] (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 12 , and R
13 , m, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above, and R
29 represents a hydroxyl group and Z represents the group —SSR 1 . )

【0099】製造法4において、一般式[III]で示
されるベンジルアルコール類1モルに対し、0.1〜5
lの溶媒中1.0〜3.0モルの塩基の存在下、1.0
〜3.0モルのジアミノクロロホスフィンと反応させて
ホスファイトとし、次いで一般式[V2]で示されるジ
スルフィド類1.0〜5.0モルを0〜5lの溶媒の存
在下反応させて、一般式[I]でAが[A2]で表され
る本発明化合物を得ることができる。
In Production Method 4, 0.1 to 5 is added to 1 mol of the benzyl alcohol represented by the general formula [III].
1.0 in the presence of 1.0 to 3.0 mol of base in 1 solvent, 1.0
To 3.0 mol of diaminochlorophosphine to form a phosphite, and then reacting 1.0 to 5.0 mol of the disulfide represented by the general formula [V2] in the presence of 0 to 5 l of a solvent. The compound of the present invention in which A is represented by [A2] in the formula [I] can be obtained.

【0100】使用できる溶媒及び塩基としては、製造法
4と同じものが挙げられる。
As the solvent and the base which can be used, the same ones as in the production method 4 can be mentioned.

【0101】反応温度は−40℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくはー30〜5
0℃である。反応時間は化合物により異なるが10分〜
20時間の間で設定できる。製造法5
The reaction temperature is any temperature from -40 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably -30 to 5
0 ° C. The reaction time varies depending on the compound, but is 10 minutes to
It can be set between 20 hours. Manufacturing method 5

【0102】[0102]

【化27】 (式中、R、R、R、R、R、R10、R
12、R13、m、n、Q及びQは前記と同じ意味
を示し、R11は水素原子を示し、R28はハロゲン原
子を示す。)
Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 10 , and R
12 , R 13 , m, n, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above, R 11 represents a hydrogen atom, and R 28 represents a halogen atom. )

【0103】製造法5において、一般式[VI]で示さ
れる化合物1モルに対し、一般式[V1]で示されるヒ
ドラジン類又はその水和物1.0〜10.0モルを0〜
5lの溶媒の存在下、必要ならば1.0〜3.0モルの
塩基の存在下反応させて一般式[I]でAが[A1]で
表される本発明化合物を得ることができる。
In Production Method 5, 1.0 mol to 1.0 mol of the hydrazine represented by the general formula [V1] or a hydrate thereof is used for 1 mol of the compound represented by the general formula [VI].
The compound of the present invention in which A is represented by [A1] in the general formula [I] can be obtained by reacting in the presence of 5 l of a solvent, if necessary, in the presence of 1.0 to 3.0 mol of a base.

【0104】使用できる溶媒としては、例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2
−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等
の非プロトン性極性溶媒、塩化メチレン及びクロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル及びプロ
ピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン
酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン
及びピコリン等のピリジン類及び水等の溶媒又はこれら
の混合溶媒が挙げられる。
Examples of usable solvents include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide. , N-methyl-2
-Aprotic polar solvents such as pyrrolidone, dimethyl sulfoxide and sulfolane, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, esters such as ethyl acetate and ethyl propionate, pentane, Solvents such as aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, pyridines such as pyridine and picoline and water, and a mixed solvent thereof are included.

【0105】塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸
化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル
カリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、
水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム tert−ブトキシド等のアルコキシド類又は
トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジ
アザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機
塩基類が挙げられる。
Examples of the base include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate. Inorganic bases such as alkali metal carbonates, alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate,
Metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxide, or triethylamine, N, N-dimethylaniline, pyridine, 4-N, N-dimethylamino. Organic bases such as pyridine and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene can be mentioned.

【0106】反応温度は−30℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは0〜150
℃である。反応時間は化合物により異なるが10分〜2
0時間の間で設定できる。
The reaction temperature is any temperature from −30 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, preferably 0 to 150.
° C. The reaction time varies depending on the compound, but is 10 minutes to 2
It can be set between 0 hours.

【0107】一般式[I]で表される本発明化合物は、
一般式[I]で表される本発明化合物そのものを原料と
して製造することも可能であり、それらを下記の製造法
6〜11に示した。しかし、これらの方法のみに限定さ
れるものではない。(式中、R30はシアノ基、炭素数
1から6のアルキル基、炭素数1から4のハロアルキル
基、炭素数2から10のアルコキシアルキル基、炭素数
3から8のアルコキシアルコキシアルキル基、炭素数2
から6のアルキルチオアルキル基、炭素数2から6のア
ルケニル基、炭素数2から4のアルキニル基、ベンジル
基[該基はハロゲン原子、メチル基又はトリフルオロメ
チル基で置換されてもよい]、基−COR14、基−C
OOR15、基−CON(R16)R17、基−SN
(R18)R19、基−SO20、基−C
(R21)=CHR22又は基−C(R23)=NR
25を示し、R30が基−C(R21)=CHR22
時はXはハロゲン原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜
4のアルコキシ基、炭素数1〜4のアルキルカルボニル
オキシ基、メルカプト基、炭素数1〜4のアルキルチオ
基、炭素数1〜4のアルキルスルホニルオキシ基又はベ
ンゼンスルホニルオキシ基(該基はメチル基で置換され
てもよい)を示し、その他の時はハロゲン原子、炭素数
1〜4のアルキルスルホニルオキシ基又はベンゼンスル
ホニルオキシ基[該基はメチル基で置換されてもよ
い。]を示す。又、R30−Xが一体となって、R
17NCO又はClSONCOとなってもよい。
、R、R、R、R、R10、R11、R
12、R13、R14、R15、R16、R17、R
18、R19、R20、R21、R22、R23、R
25、Q、Q、m及びnは前記と同じ意味を示
す。) 即ち、本発明化合物[VII]、[IX]又は[XI]
示される化合物1モルに対し、一般式[V3]で示され
る化合物1.0〜10.0モルを0〜5lの溶媒の存在
下、必要ならば0.1〜3.0モルの酸又は塩基の存在
下に反応させることにより新たな本発明化合物[VII
I]、[X]または[XII]が得られる。
The compound of the present invention represented by the general formula [I] is
The compound of the present invention represented by the general formula [I] itself can be produced as a raw material, and they are shown in the following production methods 6 to 11. However, the method is not limited to these methods. (In the formula, R 30 represents a cyano group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkoxyalkoxyalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, carbon Number 2
To C6 alkylthioalkyl group, C2 to C6 alkenyl group, C2 to C4 alkynyl group, benzyl group [the group may be substituted with a halogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group], a group -COR 14 , group -C
OOR 15 , group —CON (R 16 ) R 17 , group —SN
(R 18) R 19, group -SO 2 R 20, a group -C
(R < 21 >) = CHR < 22 > or the group -C (R < 23 >) = NR.
25, and when R 30 is a group —C (R 21 ) ═CHR 22 , X 1 is a halogen atom, a hydroxyl group, or a carbon number of 1 to 1.
A C4 alkoxy group, a C1-4 alkylcarbonyloxy group, a mercapto group, a C1-4 alkylthio group, a C1-4 alkylsulfonyloxy group or a benzenesulfonyloxy group (the group being a methyl group. May be substituted), and in other cases, a halogen atom, an alkylsulfonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms or a benzenesulfonyloxy group [the group may be substituted with a methyl group. ]. In addition, R 30 -X 1 is together, R
It may be 17 NCO or ClSO 2 NCO.
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 10 , R 11 , R
12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R
18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R
25 , Q 1 , Q 2 , m and n have the same meanings as described above. ) That is, the compound of the present invention [VII], [IX] or [XI]
1.0 to 10.0 mol of the compound represented by the general formula [V3] is added to 1 mol of the compound shown in the presence of 0 to 5 l of a solvent, if necessary, 0.1 to 3.0 mol of an acid or base. By reacting in the presence of a new compound of the present invention [VII
I], [X] or [XII] are obtained.

【0108】使用できる溶媒及び酸触媒としては、製造
法1と同様のものが挙げられる。
As the solvent and the acid catalyst which can be used, the same ones as in the production method 1 can be mentioned.

【0109】塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸
化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル
カリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、
水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム tert−ブトキシド等のアルコキシド類又は
トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジ
アザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機
塩基類が挙げられる。
Examples of the base include hydroxides of alkali metals such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, hydroxides of alkaline earth metals such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate and the like. Inorganic bases such as alkali metal carbonates, alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate,
Metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxide, or triethylamine, N, N-dimethylaniline, pyridine, 4-N, N-dimethylamino. Organic bases such as pyridine and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene can be mentioned.

【0110】反応温度は−30℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは0〜150
℃である。反応時間は化合物により異なるが10分〜2
0時間の間で設定できる。
The reaction temperature is any temperature from -30 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably 0 to 150.
° C. The reaction time varies depending on the compound, but is 10 minutes to 2
It can be set between 0 hours.

【0111】クロロスルホニルイソシアナートを上述の
化合物[VII]、[IX]又は[XI]と反応させた
時は、ついでこの反応生成物を単離、もしくは単離する
ことなしに加水分解し、R30がCONHで示される
本発明化合物を得ることができる。 製造法6
When the chlorosulfonyl isocyanate is reacted with the above-mentioned compound [VII], [IX] or [XI], the reaction product is then isolated or hydrolyzed without isolation to give R The compound of the present invention in which 30 is represented by CONH 2 can be obtained. Manufacturing method 6

【0112】[0112]

【化28】 (式中、R30はシアノ基、炭素数1から6のアルキル
基、炭素数1から4のハロアルキル基、炭素数2から1
0のアルコキシアルキル基、炭素数3から8のアルコキ
シアルコキシアルキル基、炭素数2から6のアルキルチ
オアルキル基、炭素数2から6のアルケニル基、炭素数
2から4のアルキニル基、ベンジル基[該基はハロゲン
原子、メチル基又はトリフルオロメチル基で置換されて
もよい]、基−COR14、基−COOR15、基−C
ON(R16)R17、基−SN(R18)R19、基
−SO20、基−C(R21)=CHR22又は基
−C(R23)=NR25を示し、R30が基−C(R
21)=CHR22の時はXはハロゲン原子、ヒドロ
キシル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4
のアルキルカルボニルオキシ基、メルカプト基、炭素数
1〜4のアルキルチオ基、炭素数1〜4のアルキルスル
ホニルオキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ基(該基
はメチル基で置換されてもよい)を示し、その他の時は
ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキルスルホニルオキ
シ基又はベンゼンスルホニルオキシ基[該基はメチル基
で置換されてもよい。]を示す。又、R30−Xが一
体となって、R17NCO又はClSONCOとなっ
てもよい。R、R、R、R、R、R10、R
11、R12、R13、R14、R15、R16、R
17、R18、R19、R20、R21、R22、R
23、R25、Q、Q、m及びnは前記と同じ意味
を示す。)
Embedded image (In the formula, R 30 represents a cyano group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a carbon number of 2 to 1
0 alkoxyalkyl group, C 3-8 alkoxyalkoxyalkyl group, C 2-6 alkylthioalkyl group, C 2-6 alkenyl group, C 2-4 alkynyl group, benzyl group [the group halogen atoms may be substituted with a methyl group or a trifluoromethyl group], groups -COR 14, a group -COOR 15, a group -C
Indicates ON (R 16) R 17, group -SN (R 18) R 19, group -SO 2 R 20, group -C (R 21) = CHR 22, or a group -C (R 23) = NR 25 , R 30 is a group -C (R
21 ) = CHR 22 , X 1 is a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms.
An alkylcarbonyloxy group, a mercapto group, an alkylthio group having 1 to 4 carbon atoms, an alkylsulfonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms or a benzenesulfonyloxy group (the group may be substituted with a methyl group), and In this case, a halogen atom, an alkylsulfonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms or a benzenesulfonyloxy group [the group may be substituted with a methyl group. ]. Further, R 30 -X 1 may be integrated into R 17 NCO or ClSO 2 NCO. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 10 , R
11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R
17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , and R
23 , R 25 , Q 1 , Q 2 , m and n have the same meanings as described above. )

【0113】即ち、本発明化合物[VII]、[IX]
又は[XI]示される化合物1モルに対し、一般式[V
3]で示される化合物1.0〜10.0モルを0〜5l
の溶媒の存在下、必要ならば0.1〜3.0モルの酸又
は塩基の存在下に反応させることにより新たな本発明化
合物[VIII]、[X]または[XII]が得られ
る。
That is, the compounds of the present invention [VII], [IX]
Alternatively, the compound of the general formula [V
3] to 0 to 5 l of a compound of 1.0 to 10.0 mol
The compound of the present invention [VIII], [X] or [XII] is obtained by reacting in the presence of the solvent of 1), if necessary, in the presence of 0.1 to 3.0 mol of an acid or a base.

【0114】使用できる溶媒及び酸触媒としては、製造
法1と同様のものが挙げられる。
As the solvent and the acid catalyst which can be used, the same ones as in the production method 1 can be mentioned.

【0115】塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸
化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル
カリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、
水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム tert−ブトキシド等のアルコキシド類又は
トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジ
アザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機
塩基類が挙げられる。
Examples of the base include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate. Inorganic bases such as alkali metal carbonates, alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate,
Metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxide, or triethylamine, N, N-dimethylaniline, pyridine, 4-N, N-dimethylamino. Organic bases such as pyridine and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene can be mentioned.

【0116】反応温度は−30℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは0〜150
℃である。反応時間は化合物により異なるが10分〜2
0時間の間で設定できる。
The reaction temperature is any temperature from −30 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, preferably 0 to 150.
° C. The reaction time varies depending on the compound, but is 10 minutes to 2
It can be set between 0 hours.

【0117】クロロスルホニルイソシアナートを上述の
化合物[VII]、[IX]又は[XI]と反応させた
時は、ついでこの反応生成物を単離、もしくは単離する
ことなしに加水分解し、R30がCONHで示される
本発明化合物を得ることができる。 製造法7
When the chlorosulfonyl isocyanate is reacted with the above-mentioned compound [VII], [IX] or [XI], the reaction product is then isolated or hydrolyzed without isolation to give R The compound of the present invention in which 30 is represented by CONH 2 can be obtained. Manufacturing method 7

【0118】[0118]

【化29】 (式中、R31とR32は各々独立して、水素原子、炭
素数1〜6のアルキル基又は基−N(R25)R26
示す。R、R、R、R、R、R10
11、m、n、Q及びQは前記と同じ意味を示
し、R25及びR26は各々独立して炭素数1から4の
アルキル基を示す。Xは炭素数1〜4のアルコキシ基
を示す。又、2つのXと炭素が一緒になってカルボニ
ル基となってもよい。)
[Chemical 29] (In the formula, R 31 and R 32 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a group —N (R 25 ) R 26. R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 , R 9 , R 10 ,
R 11 , m, n, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above, and R 25 and R 26 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. X 2 represents an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Alternatively, two X 2 and carbon may be combined to form a carbonyl group. )

【0119】即ち、本発明化合物[XIII]または
[XIV]で示される化合物1モルに対し、一般式[V
4]で示される化合物1.0〜10.0モルを0〜5l
の溶媒の存在下、必要ならば0.01〜1.0モルの酸
触媒及び溶媒の存在下に反応させることにより新たな本
発明化合物[XV]または[XVI]が得られる。
That is, for 1 mol of the compound of the present invention compound [XIII] or [XIV], the compound of the general formula [V
4] and the compound (1.0-10.0 mol)
The compound of the present invention [XV] or [XVI] can be obtained by reacting in the presence of the solvent, if necessary, in the presence of 0.01 to 1.0 mol of an acid catalyst and a solvent.

【0120】この反応は製造法1と同様の条件下に行う
ことができる。 製造法8
This reaction can be carried out under the same conditions as in production method 1. Manufacturing method 8

【0121】[0121]

【化30】 (式中、R33はアゾリル基又は基ーN(R25)R
26を示し、R、R、R、R、R、R25
26、m、n、Q及びQは前記と同じ意味を示
し、R23は水素原子又は炭素数1から6のアルキル基
を示す。Xは塩素原子又は臭素原子を表す。)
Embedded image (In the formula, R 33 is an azolyl group or a group —N (R 25 ) R
26 , and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 25 ,
R 26 , m, n, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above, and R 23 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. X 3 represents a chlorine atom or a bromine atom. )

【0122】即ち、本発明化合物[XVII]で示され
る化合物1モルに対し、0〜5lの溶媒の存在下に、ハ
ロゲン化剤を1.0^10.0モル反応させることによ
り新たな本発明化合物[XVIII]が得られる。次い
で一般式[V5]で示される化合物1.0〜5.0モル
を0〜5lの溶媒中、必要ならば1.0−3.0モルの
塩基の存在下反応させることにより新たな本発明化合物
[XX]が得られる。なお、化合物[XVIII]の代
わりに一般式[XIX]で示される化合物を使用するこ
とによっても、本発明化合物[XX]を得ることもでき
る。
That is, with respect to 1 mol of the compound represented by the compound [XVII] of the present invention, 1.0 ^ 10.0 mol of a halogenating agent is reacted in the presence of a solvent of 0 to 5 l to prepare a new compound of the present invention. Compound [XVIII] is obtained. Then, 1.0 to 5.0 mol of the compound represented by the general formula [V5] is reacted in a solvent of 0 to 5 l in the presence of 1.0 to 3.0 mol of a base, if necessary. Compound [XX] is obtained. The compound [XX] of the present invention can also be obtained by using a compound represented by the general formula [XIX] instead of the compound [XVIII].

【0123】ハロゲン化剤としては五塩化燐、塩化チオ
ニル、トリフェニルホスフィン/四塩化炭素及びトリフ
ェニルホスフィン/臭素の混合物等が挙げられる。また
使用できる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン及びクロロベンゼン等の芳香
族炭化水素類、塩化メチレン及びクロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類、アセトニトリル及びプロピオニトリ
ル等のニトリル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサ
ン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類等の溶媒又はこれ
らの混合溶媒が挙げられる。なおハロゲン化剤は溶媒を
かねることもできる。
Examples of the halogenating agent include phosphorus pentachloride, thionyl chloride, a mixture of triphenylphosphine / carbon tetrachloride and triphenylphosphine / bromine. Examples of usable solvents include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform, acetonitrile and propio. Examples thereof include nitriles such as nitrile, solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, and aliphatic hydrocarbons such as heptane, or a mixed solvent thereof. The halogenating agent can also serve as a solvent.

【0124】反応温度は0℃から反応系における還流温
度までの任意の温度であり、好ましくは10〜180℃
である。反応時間は化合物により異なるが10分〜20
時間の間で設定できる。
The reaction temperature is any temperature from 0 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, preferably 10 to 180 ° C.
It is. The reaction time varies depending on the compound, but it is 10 minutes to 20 minutes.
Can be set between times.

【0125】化合物[XIX]は化合物[XVII]と
オキシ塩化燐とを反応させることにより得ることができ
る。この反応の具体例は例えばケミカルアブストラク
ト、第113巻、97192bに記載されている。
Compound [XIX] can be obtained by reacting compound [XVII] with phosphorus oxychloride. Specific examples of this reaction are described in, for example, Chemical Abstracts, Vol. 113, 97192b.

【0126】本発明化合物[XX]は、一般式[XVI
II]又は[XIX]で示される化合物を、通常、溶媒
の存在下に、必要ならば、塩基及び触媒の存在下に一般
式[V5]で示される化合物と反応させることにより得
られる。
The compound [XX] of the present invention has the general formula [XVI:
II] or [XIX] is usually obtained by reacting with a compound of the general formula [V5] in the presence of a solvent, if necessary, in the presence of a base and a catalyst.

【0127】使用できる溶媒及び塩基としては、製造法
6と同様のものが挙げられる。触媒としては、メタンス
ルフィン酸ナトリウム、p−トルエンスルフィン酸ナト
リウム等のスルフィン酸塩又はその水和物を用いること
ができる。反応温度は0℃から反応系における還流温度
までの任意の温度であり、好ましくは10〜100℃で
ある。反応時間は化合物により異なるが10分〜20時
間の間で設定できる。 製造法9
As the solvent and the base which can be used, the same ones as in the production method 6 can be mentioned. As the catalyst, a sulfinate salt such as sodium methanesulfinate or sodium p-toluenesulfinate or a hydrate thereof can be used. The reaction temperature is any temperature from 0 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably 10 to 100 ° C. The reaction time varies depending on the compound, but can be set between 10 minutes and 20 hours. Manufacturing method 9

【0128】[0128]

【化31】 (式中、nは1又は2を示し、A、R、R、R
、及びlは前記と同じ意味を表す。)
[Chemical 31] (In the formula, n represents 1 or 2, A, R 1 , R 2 , R 3 ,
R 4 and l have the same meanings as described above. )

【0129】即ち、本発明化合物[XXI]で示される
化合物1モルに対し、1.0〜10.0モルの酸化剤を
0〜5lの溶媒の存在下、必要ならば0.01〜1.0
モルの触媒の存在下に反応させることにより新たな本発
明化合物[XXII]が得られる。
That is, with respect to 1 mol of the compound represented by the compound [XXI] of the present invention, 1.0 to 10.0 mol of an oxidizing agent is added in the presence of 0 to 5 l of a solvent, if necessary, 0.01 to 1. 0
A new compound of the present invention [XXII] is obtained by reacting in the presence of a molar amount of a catalyst.

【0130】酸化剤としては、例えば過酸化水素、m−
クロロ過安息香酸、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン
(OXONE、イー・アイ・デュポン社商品名;ペルオ
キソ硫酸水素カリウム含有物)、N−クロロスクシンイ
ミド、N−ブロモスクシンイミド、次亜塩素酸tert
−ブチルエステル又は次亜塩素酸ナトリウム等が挙げら
れる。また触媒としては、例えばタングステン酸ナトリ
ウムが挙げられる。
Examples of the oxidizing agent include hydrogen peroxide and m-
Chloroperbenzoic acid, sodium periodate, Oxone (trade name of OXONE, E. I. Dupont; containing potassium hydrogen peroxosulfate), N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, hypochlorous acid tert.
-Butyl ester, sodium hypochlorite and the like. Examples of the catalyst include sodium tungstate.

【0131】ここで使用できる溶媒としては、例えば製
造法1で使用されるようなエーテル類、芳香族炭化水素
類、非プロトン性極性溶媒、アルコール類、ハロゲン化
炭化水素類、脂肪族炭化水素類、酢酸、水及びアセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類又はこれらの混合溶媒が挙げられる。
Examples of the solvent that can be used here include ethers, aromatic hydrocarbons, aprotic polar solvents, alcohols, halogenated hydrocarbons and aliphatic hydrocarbons as used in Production Method 1. , Acetic acid, water and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, or a mixed solvent thereof.

【0132】反応温度は−20℃からその反応系に於け
る還流温度までの任意の温度であり、好ましくは10〜
100℃である。反応時間は化合物により異なるが10
分〜20時間の間で設定できる。 製造法10
The reaction temperature is any temperature from −20 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, preferably 10 to
100 ° C. The reaction time depends on the compound, but it is 10
It can be set between minutes and 20 hours. Manufacturing method 10

【0133】[0133]

【化32】 (式中、R及びRはそれぞれ独立して炭素数1〜4
のアルキル基又は炭素数1〜3のハロアルキル基を表
し、A、R、R及びnは前記と同じ意味を表す。X
はハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキルスルホニル
オキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ基[該基はメチ
ル基で置換されてもよい]を示す。)
Embedded image (In the formula, R 2 and R 3 each independently have 1 to 4 carbon atoms.
Or an haloalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and A, R 1 , R 4 and n have the same meanings as described above. X
4 represents a halogen atom, an alkylsulfonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms or a benzenesulfonyloxy group [the group may be substituted with a methyl group]. )

【0134】即ち、一般式[XXIII]で示される化
合物1モルに対し、0〜5lの溶媒及び1.0〜3.0
モルの塩基の存在下に、一般式[V6]で示されるアル
キル化剤1.0〜5.0モルと反応させて一般式[XX
IV]で示される化合物を製造することができる。次に
この化合物[XXIV]を単離し又は単離することなし
に0〜5lの溶媒及び1.0〜3.0モルの塩基の存在
下、一般式[V7]で示されるアルキル化剤1.0〜
5.0モルと反応させることにより一般式[XXV]で
示される化合物を製造することができる。
That is, with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula [XXIII], 0 to 5 l of a solvent and 1.0 to 3.0 are used.
The compound is reacted with 1.0 to 5.0 mol of an alkylating agent represented by the general formula [V6] in the presence of a molar base, and the compound of the general formula [XX
IV] can be produced. The compound [XXIV] is then isolated or without isolation in the presence of 0-5 liters of solvent and 1.0-3.0 moles of base, an alkylating agent of the general formula [V7] 1. 0 to
A compound represented by the general formula [XXV] can be produced by reacting with 5.0 mol.

【0135】これらの反応で使用できる塩基及び溶媒と
しては例えば製造法6で使用したのと同じものを挙げる
ことができる。また反応温度は−30℃からその反応系
に於ける還流温度までの任意の温度であり、好ましくは
0〜100℃である。 製造法11
As the base and solvent which can be used in these reactions, for example, the same ones used in the production method 6 can be mentioned. The reaction temperature is any temperature from -30 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably 0-100 ° C. Manufacturing method 11

【0136】[0136]

【化33】 (式中、Xはハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル
スルホニルオキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ基
[該基はメチル基で置換されてもよい。]を示す。
、R、R、R、R、R10、R11、R
12、R13、Q、Q、m及びnは前記と同じ意味
を示す。)
[Chemical 33] (In the formula, X 4 represents a halogen atom, an alkylsulfonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a benzenesulfonyloxy group [the group may be substituted with a methyl group].
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 10 , R 11 , R
12 , R 13 , Q 1 , Q 2 , m and n have the same meanings as described above. )

【0137】即ち、本発明化合物[XXVI]又は[X
XVIII]で示される化合物1モルに対し一般式[V
8]で示される酸類1.0〜3.0モル0.1〜5lの
溶媒の存在下に反応させることにより、本発明化合物の
塩[XVII]または[XIX]が得られる。
That is, the compound of the present invention [XXVI] or [X
XVIII] to 1 mol of the compound represented by the general formula [V
8] The salt of the compound of the present invention [XVII] or [XIX] can be obtained by reacting the acid of the present invention in the presence of a solvent of 1.0 to 3.0 mol 0.1 to 5 l.

【0138】これらの反応で使用できる溶媒としては例
えば製造法1で使用したのと同じものを挙げることがで
きる。また反応温度は−30℃からその反応系に於ける
還流温度までの任意の温度であり、好ましくは0〜10
0℃である。
As the solvent which can be used in these reactions, for example, the same solvent as used in the production method 1 can be mentioned. The reaction temperature is any temperature from -30 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably 0-10.
0 ° C.

【0139】前記一般式[II]及び[III]で表さ
れる新規な合成中間体は、例えば以下に示す製造法12
〜製造法20に従って製造できる。 製造法12
The novel synthetic intermediates represented by the above general formulas [II] and [III] are, for example, the following Production Method 12
-It can manufacture according to the manufacturing method 20. Manufacturing method 12

【0140】[0140]

【化34】 (式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1か
ら4のシアノアルキル基、炭素数1〜4のヒドロキシア
ルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、炭素数1
〜6のハロアルキル基、フェニル基[該基はハロゲン原
子又は炭素数1から4のアルキル基で置換されてもよ
い]、ベンジル基[該基はハロゲン原子で置換されても
よい]又はチアゾリル基を示し、Xはハロゲン原子、
炭素数1〜4のアルキルスルホニルオキシ基又はベンゼ
ンスルホニルオキシ基[該基はメチル基で置換されても
よい]を示し、Mはアルカリ金属を示し、Mはアル
カリ金属又はアンモニウムイオンを示す。R、R
、m、Q及びQは前記と同じ意味を示す。nは
1又は2を示す。)
Embedded image (In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyanoalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and a carbon number 1
A haloalkyl group of -6, a phenyl group [the group may be substituted with a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms], a benzyl group [the group may be substituted with a halogen atom] or a thiazolyl group. X 4 is a halogen atom,
An alkylsulfonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms or a benzenesulfonyloxy group [the group may be substituted with a methyl group], M 1 represents an alkali metal, and M 2 represents an alkali metal or an ammonium ion. R 2 , R 3 ,
R 4 , m, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above. n represents 1 or 2. )

【0141】即ち、一般式[XXX]で示されるベンジ
ルハライド類1モルに対し、一般式[V9]で示される
スルフィン酸のアルカリ金属塩類1.0〜3.0モル
を、0〜10lの溶媒の存在下に反応させて一般式[X
XXI]で示されるベンジルスルホン誘導体を得ること
ができる。
That is, with respect to 1 mol of the benzyl halide represented by the general formula [XXX], 1.0 to 3.0 mol of the alkali metal salt of sulfinic acid represented by the general formula [V9] is added to 0 to 10 l of the solvent. In the presence of the general formula [X
XXI] can be obtained.

【0142】ここで使用できる溶媒としては、例えばエ
ーテル類、芳香族炭化水素類、非プロトン性極性溶媒、
アルコール類、ハロゲン化炭化水素類、脂肪族炭化水素
類及び水又はこれらの混合溶媒が挙げられる。反応温度
は0℃からその反応系に於ける還流温度までの任意の温
度であり、好ましくは10〜100℃である。
Examples of the solvent that can be used here include ethers, aromatic hydrocarbons, aprotic polar solvents,
Examples thereof include alcohols, halogenated hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons and water, or a mixed solvent thereof. The reaction temperature is any temperature from 0 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably 10 to 100 ° C.

【0143】この際使用するスルフィン酸塩類は試薬と
して又は公知の方法[例えばジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイティー(J.Chem.Soc.)、第63
6巻(1945年)又はジャーナル・オブ・アメリカン
・ケミカル・ソサイティー(J.A.Chem.So
c.)、第96巻、第7号、第2275頁(1974
年)に記載の方法]で得ることができる。
The sulfinates used in this case can be used as reagents or by known methods [for example, Journal of Chemical Society (J. Chem. Soc.), No. 63].
Volume 6 (1945) or Journal of American Chemical Society (JA Chem. So).
c. ), 96, No. 7, 2275 (1974)
Year)) method].

【0144】また同様の反応条件で、化合物[XXX]
と一般式[V10]で示されるチオシアン酸塩から一般
式[XXXII]で示される化合物を得ることができ
る。
Under the same reaction conditions, compound [XXX]
From the thiocyanate represented by the general formula [V10], the compound represented by the general formula [XXXII] can be obtained.

【0145】更に、化合物[XXX]1モルに対し、一
般式[V11]で示されるメルカプタン類1.0〜3.
0モルを0〜5lの溶媒中、1.0〜0.3モルの塩基
の存在下に反応させて一般式[XXXIII]で示され
るスルフィド類を得ることができる。
Further, mercaptans of the general formula [V11] 1.0 to 3.
0 mol can be reacted in the presence of 1.0 to 0.3 mol of a base in a solvent of 0 to 5 l to obtain a sulfide represented by the general formula [XXXIII].

【0146】溶媒及び塩基類としては、例えば製造法6
と同じものが挙げられる。反応温度は−10℃からその
反応系に於ける還流温度までの任意の温度であり、好ま
しくは0〜100℃である。
As the solvent and the bases, for example, the production method 6 can be used.
The same thing as is mentioned. The reaction temperature is any temperature from −10 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, preferably 0 to 100 ° C.

【0147】このようにして得られた化合物[XXXI
II]1モルに対し、1.0〜10.0モルの酸化剤を
0〜5lの溶媒の存在下、必要ならば0.01〜1.0
モルの触媒の存在下に反応させることにより本発明化合
物[XXXIV]が得られる。
The thus obtained compound [XXXI
II] With respect to 1 mol, 1.0 to 10.0 mol of an oxidizing agent is added in the presence of 0 to 5 l of a solvent, if necessary, 0.01 to 1.0.
The compound of the present invention [XXXIV] is obtained by reacting in the presence of a molar amount of a catalyst.

【0148】酸化剤としては、例えば過酸化水素、m−
クロロ過安息香酸酸、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン
(OXONE、イー・アイ・デュポン社商品名;ペルオ
キソ硫酸水素カリウム含有物)、N−クロロスクシンイ
ミド、N−ブロモスクシンイミド、次亜塩素酸tert
−ブチル又は次亜塩素酸ナトリウム等が挙げられる。ま
た触媒としては、例えばタングステン酸ナトリウムが挙
げられる。
Examples of the oxidizing agent include hydrogen peroxide and m-
Chloroperbenzoic acid, sodium periodate, Oxone (OXONE, trade name of E. I. DuPont; potassium hydrogen peroxosulfate-containing), N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, hypochlorous acid tert.
-Butyl or sodium hypochlorite and the like can be mentioned. Examples of the catalyst include sodium tungstate.

【0149】ここで使用できる溶媒としては、例えば製
造法1で使用されるようなエーテル類、芳香族炭化水素
類、非プロトン性極性溶媒、アルコール類、ハロゲン化
炭化水素類、脂肪族炭化水素類、酢酸、水及びアセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類又はこれらの混合溶媒が挙げられる。
Examples of the solvent that can be used here include ethers, aromatic hydrocarbons, aprotic polar solvents, alcohols, halogenated hydrocarbons and aliphatic hydrocarbons as used in Production Method 1. , Acetic acid, water and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, or a mixed solvent thereof.

【0150】反応温度は−20℃からその反応系に於け
る還流温度までの任意の温度であり、好ましくは10〜
100℃である。
The reaction temperature is any temperature from −20 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, preferably 10 to
100 ° C.

【0151】製造原料である一般式[XXX]で示され
るベンジルハライド類は、一般に公知であるか、公知の
方法[例えば、オーガニック・シンセシス(Org.S
ynth.)、第4巻、第921頁(1963年)に記
載の方法]に準じて、相当するアーリルカルボニルトル
エンのメチル基をハロゲン化剤(例えば、塩素、臭素、
N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミ
ド、塩化スルフリル又は臭化スルフリル等)でハロゲン
化することにより得ることができる。
The benzyl halides represented by the general formula [XXX], which are the starting materials for production, are generally known, or known methods [for example, organic synthesis (Org.S.
ynth. ), Vol. 4, p. 921 (1963)], the methyl group of the corresponding arylcarbonyltoluene is converted into a halogenating agent (for example, chlorine, bromine,
It can be obtained by halogenation with N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, sulfuryl chloride or sulfuryl bromide).

【0152】アーリルカルボニルトルエンは、一般に、
トルエン中、塩化アルミニウムのようなルイス酸の存在
下アリールカルボン酸ハライドと反応させて得ることが
できる。 製造法13
Arylcarbonyltoluene is generally
It can be obtained by reacting with an arylcarboxylic acid halide in toluene in the presence of a Lewis acid such as aluminum chloride. Manufacturing method 13

【0153】[0153]

【化35】 (式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜
6のシクロアルキル基、炭素数1〜6のハロアルキル
基、炭素数1〜4のシアノアルキル基又は炭素数1〜4
のヒドロキシアルキル基を示し、Rfはフッ素原子又は
ペルフルオロアルキル基を示し、Xはハロゲン原子、
炭素数1〜4のアルキルスルホニルオキシ基又はベンゼ
ンスルホニルオキシ基[該基はメチル基で置換されても
よい]を示す。R、R、R、m、Q及びQ
前記と同じ意味を示す。nは1又は2を示す。)
Embedded image (In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 3 to 3 carbon atoms.
6 cycloalkyl group, C1-6 haloalkyl group, C1-4 cyanoalkyl group or C1-4
Is a hydroxyalkyl group, Rf is a fluorine atom or a perfluoroalkyl group, X 4 is a halogen atom,
An alkylsulfonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms or a benzenesulfonyloxy group [the group may be substituted with a methyl group] is shown. R 2 , R 3 , R 4 , m, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above. n represents 1 or 2. )

【0154】一般式[XXXIII]または[XXXV
III]で示されるスルフィド類は、一般式[XXX
V]で示されるベンジルメルカプタン類1モルに対し、
1.0〜3.0モルの一般式[V12]で示されるアル
キル化剤、一般式[XXXVI]で示されるジベンゾチ
オフェニウムトリフルオロメタンスルホナート類又は
[XXXVII]で示されるペルフルオロアルケン類
と、0〜10lの溶媒の存在下、必要ならば、1.0〜
3.0モルの塩基の存在下に反応させることによって得
ることができる。
General formula [XXXIII] or [XXXV
III] has the general formula [XXX
V] to 1 mol of benzyl mercaptan represented by
1.0 to 3.0 mol of an alkylating agent represented by the general formula [V12], dibenzothiophenium trifluoromethanesulfonates represented by the general formula [XXXVI] or perfluoroalkenes represented by the [XXXVII], In the presence of 0-10 l of solvent, if necessary 1.0-
It can be obtained by reacting in the presence of 3.0 mol of base.

【0155】ここで使用できる塩基及び溶媒としては、
例えば製造法6で使用したのと同じものを挙げることが
できる。反応温度は0℃からその反応系に於ける還流温
度までの任意の温度であり、好ましくは10〜150℃
である。
As the base and the solvent that can be used here,
For example, the same one as used in the production method 6 can be mentioned. The reaction temperature is any temperature from 0 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably 10 to 150 ° C.
It is.

【0156】このようにして得られた一般式[XXXI
II]または[XXXVIII]で示されるスルフィド
類を製造法12と同じ酸化法で酸化することにより、各
々対応するスルホキシド及びスルホン誘導体を得ること
ができる。
The thus obtained general formula [XXXI
II] or [XXXVIII] can be oxidized by the same oxidation method as in the production method 12 to obtain the corresponding sulfoxide and sulfone derivative.

【0157】製造原料の一般式[XXXV]で示される
ベンジルメルカプタン類はすでに公知であるか、公知の
方法[例えば、オーガニック・シンセシス(Org.S
ynth.)、第3巻、第363頁(1955年)に記
載の方法]又はそれに準じて得ることができる。即ち、
製造法12の原料の一般式[XXX]で示されるベンジ
ルハライド類を水硫化ナトリウムと反応させるか、チオ
ウレアと塩基の存在下に反応させ次いで加水分解するこ
とにより得ることができる。 製造法14
The benzyl mercaptans represented by the general formula [XXXV] as a raw material for production are already known, or known methods such as organic synthesis (Org.S).
ynth. ), Vol. 3, page 363 (1955)] or in accordance therewith. That is,
It can be obtained by reacting the benzyl halide represented by the general formula [XXX] as a raw material of the production method 12 with sodium hydrosulfide or by reacting thiourea with a base in the presence of a base and then hydrolyzing it. Manufacturing method 14

【0158】[0158]

【化36】 (式中、R、R、R、m、n、Q及びQは前
記と同じ意味を示す。R及びRはアルキル基又はハ
ロアルキル基を示し、Xは、ハロゲン原子、炭素数1
〜4のアルキルスルホニルオキシ基又はベンゼンスルホ
ニルオキシ基[該基はメチル基で置換されてもよい。]
を示す。)
Embedded image (In the formula, R 1 , R 4 , R 9 , m, n, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above. R 2 and R 3 represent an alkyl group or a haloalkyl group, and X 4 represents a halogen atom. , Carbon number 1
~ 4 alkylsulfonyloxy group or benzenesulfonyloxy group [wherein the group may be substituted with a methyl group. ]
Is shown. )

【0159】即ち、一般式[XXXIX]で示される化
合物1モルに対し、0〜5lの溶媒及び1.0〜3.0
モルの塩基の存在下に、一般式[V13]及び[V1
4]で示されるアルキル化剤1.0〜5.0モルを製造
法10と同様に反応させて一般式[XL]及び[XL
I]で示される化合物を製造することができる。又、X
がR基の側鎖中に存在する場合には、R及びR
はこれらの結合した硫黄原子及び炭素原子と共に一つ又
はそれ以上のヘテロ原子を有する3から8員環を形成す
る。
That is, to 1 mol of the compound represented by the general formula [XXXIX], 0 to 5 l of solvent and 1.0 to 3.0 are used.
In the presence of a molar base, the general formulas [V13] and [V1
4] is reacted with 1.0 to 5.0 moles of the alkylating agent represented by the formula 4) in the same manner as in the production method 10 to obtain the compounds represented by the general formulas [XL] and [XL].
I] can be produced. Also, X
4 is present in the side chain of the R 1 group, R 1 and R 2
With these attached sulfur and carbon atoms form a 3- to 8-membered ring having one or more heteroatoms.

【0160】ここで使用できる塩基及び溶媒としては、
例えば製造法6で使用したのと同じものを挙げることが
できる。反応温度は0℃からその反応系に於ける還流温
度までの任意の温度であり、好ましくは10〜150℃
である。 製造法15
As the base and the solvent which can be used here,
For example, the same one as used in the production method 6 can be mentioned. The reaction temperature is any temperature from 0 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably 10 to 150 ° C.
It is. Manufacturing method 15

【0161】[0161]

【化37】 (式中、R、R、m、n、Q及びQは前記と同
じ意味を示す。Rはアルキル基又はハロアルキル基を
示す。)
Embedded image (In the formula, R 4 , R 9 , m, n, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above. R 1 represents an alkyl group or a haloalkyl group.)

【0162】即ち、一般式[XLII]で示される本発
明化合物1モルに対し、0〜10lの溶媒存在下に、一
般式[XLIII]で示されるカルバニオン1.0〜
5.0モルと反応させて一般式[XLIV]で示される
化合物を製造することができる。一般式[XLIII]
で示されるカルバニオンの発生方法としては、1)1.
0〜15.0モルのトリハロメタンと1.0〜15.0
モルの塩基を、必要ならば0.01〜1.0モルのテト
ラアルキルアンモニウム塩、ベンジルトリアルキルアン
モニウム塩、テトラアルキルホスホニウム塩及びクラウ
ンエーテル類等の相関移動触媒の存在下接触させる方
法、2)1.0〜15.0モルの(トリアルキルシリ
ル)アルキルハライド類と、1.0〜15.0モルのフ
ッ化カリウムやテトラブチルアンモニウムフルオリドの
ようなフッ化水素塩を接触させる方法および3)1.0
〜5.0モルのアルキルハライド又はハロアルキルハラ
イドを、1.0〜5.0モルのリチウム、ナトリウム、
銅又は亜鉛等の金属もしくはリチウムジイソプロピルア
ミド、フェニルリチウム又はブチルリチウム等の有機金
属化合物を接触させる方法を挙げることができる。ここ
で使用できる溶媒としては、例えばエーテル類、芳香族
炭化水素類、非プロトン性極性溶媒、アルコール類、脂
肪族炭化水素類、エーテル類、芳香族炭化水素類、非プ
ロトン性極性溶媒、アルコール類、脂肪族炭化水素類及
び水、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。
That is, with respect to 1 mol of the compound of the present invention represented by the general formula [XLII], the carbanion represented by the general formula [XLIII] 1.0 to
The compound represented by the general formula [XLIV] can be produced by reacting with 5.0 mol. General formula [XLIII]
The method for generating the carbanion represented by 1) is 1) 1.
0 to 15.0 mol of trihalomethane and 1.0 to 15.0
A method in which a mol base is contacted in the presence of 0.01 to 1.0 mol of a tetraalkylammonium salt, a benzyltrialkylammonium salt, a tetraalkylphosphonium salt, and a crown ether or the like phase transfer catalyst, if necessary 2). Method of contacting 1.0 to 15.0 mol of (trialkylsilyl) alkyl halide with 1.0 to 15.0 mol of hydrogen fluoride salt such as potassium fluoride or tetrabutylammonium fluoride and 3 ) 1.0
~ 5.0 moles of alkyl halide or haloalkyl halide, 1.0 to 5.0 moles of lithium, sodium,
A method of contacting with a metal such as copper or zinc or an organometallic compound such as lithium diisopropylamide, phenyllithium or butyllithium can be mentioned. Examples of the solvent that can be used here include ethers, aromatic hydrocarbons, aprotic polar solvents, alcohols, aliphatic hydrocarbons, ethers, aromatic hydrocarbons, aprotic polar solvents, alcohols. , Aliphatic hydrocarbons and water, or a mixed solvent thereof.

【0163】反応温度は−70℃からその反応系に於け
る還流温度までの任意の温度であり、好ましくは−50
〜50℃である。 製造法16
The reaction temperature is any temperature from -70 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably -50.
5050 ° C. Manufacturing method 16

【0164】[0164]

【化38】 (式中、R、R、R、R、m、n、Q及びQ
は前記と同じ意味を示す。Xはハロゲン、シアノま
たは基SRを示す。Rはアルキル基又はハロアルキ
ル基を示す。)
Embedded image (In the formula, R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , m, n, Q 1 and Q
2 has the same meaning as described above. X 5 represents halogen, cyano or the group SR 1 . R 1 represents an alkyl group or a haloalkyl group. )

【0165】即ち、一般式[XLV]で示される本発明
化合物1モルに対し、0〜5lの溶媒及び1.0〜5.
0モルの塩基の存在下に、一般式[XLVI]で示され
る化合物1.0〜5.0モルを反応させて一般式[XL
VII]で示される化合物を製造することができる。こ
こで使用できる塩基及び溶媒としては、例えば製造法6
で使用したのと同じものを挙げることができる。
That is, with respect to 1 mol of the compound of the present invention represented by the general formula [XLV], 0-5 liter of solvent and 1.0-5.
The compound of the general formula [XLVI] is reacted with 1.0 to 5.0 mol of the compound of the general formula [XLVI] in the presence of 0 mol of a base.
VII] can be produced. Examples of the base and solvent that can be used here include production method 6
The same thing as used in can be mentioned.

【0166】反応温度は−70℃からその反応系に於け
る還流温度までの任意の温度であり、好ましくは−50
〜50℃である。 製造法17
The reaction temperature is any temperature from -70 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably -50.
5050 ° C. Manufacturing method 17

【0167】[0167]

【化39】 (式中、R、R、R、m、n、Q及びQは前
記と同じ意味を示す。)
Embedded image (In the formula, R 1 , R 4 , R 9 , m, n, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described above.)

【0168】即ち、通常、溶媒と塩基の存在下、一般式
[XLVIII]で表されるベンジルアルコール類1モ
ルに対し、0.1〜5lの溶媒中1.0〜3.0モルの
塩基の存在下1.0〜3.0モルのジアルキルアミノク
ロロホスフィン類と反応させてホスファイトとし、次い
で一般式[V15]で示されるジスルフィド類1.0〜
5.0モルを0〜5lの溶媒の存在下反応させて一般式
[XLIX]で表される本発明化合物を得ることができ
る。
That is, usually, in the presence of a solvent and a base, 1.0 to 3.0 mol of a base in 0.1 to 5 l of a solvent is added to 1 mol of benzyl alcohol represented by the general formula [XLVIII]. In the presence of 1.0 to 3.0 mol of dialkylaminochlorophosphines to form a phosphite, then disulfides of general formula [V15] 1.0 to 3.0
The compound of the present invention represented by the general formula [XLIX] can be obtained by reacting 5.0 mol of the compound in the presence of 0 to 5 l of a solvent.

【0169】使用できる溶媒としては、例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2
−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等
の非プロトン性極性溶媒、塩化メチレン及びクロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル及びプロ
ピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン
酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン
及びピコリン等のピリジン類等の溶媒又はこれらの混合
溶媒が挙げられる。
Examples of usable solvents include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide. , N-methyl-2
-Aprotic polar solvents such as pyrrolidone, dimethyl sulfoxide and sulfolane, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, esters such as ethyl acetate and ethyl propionate, pentane, Solvents such as aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, pyridines such as pyridine and picoline, and mixed solvents thereof can be mentioned.

【0170】塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸
化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル
カリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、
水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類
又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピ
リジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8
−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の
有機塩基類が挙げられる。
Examples of the base include hydroxides of alkali metals such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, hydroxides of alkaline earth metals such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate and the like. Inorganic bases such as alkali metal carbonates, alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate,
Metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, or triethylamine, N, N-dimethylaniline, pyridine, 4-N, N-dimethylaminopyridine, 1,8
Examples include organic bases such as diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene.

【0171】反応温度は−40℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは−30〜5
0℃である。反応時間は化合物により異なるが10分〜
20時間の間で設定できる。 製造法18
The reaction temperature is any temperature from -40 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably -30 to 5
0 ° C. The reaction time varies depending on the compound, but is 10 minutes to
It can be set between 20 hours. Manufacturing method 18

【0172】[0172]

【化40】 (式中、R、R、R、R、R、R10
、Q、M、m及びnは前記と同じ意味を示
す。)
Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 10 ,
Q 1 , Q 2 , M 3 , m and n have the same meanings as described above. )

【0173】即ち、本発明化合物[L]を、0〜5lの
溶媒の存在下、必要ならば0.01〜1.0モルの触媒
の存在下に1.0〜5.0モルの還元剤と反応させる
か、又は、一般式[V16]で示されるアルキル金属化
合物1.0〜5.0モルと反応させることで一般式[L
I]の本発明化合物を得ることができる。
That is, the compound [L] of the present invention was added to 1.0 to 5.0 mol of a reducing agent in the presence of 0 to 5 l of a solvent and, if necessary, 0.01 to 1.0 mol of a catalyst. Or by reacting with 1.0 to 5.0 mol of the alkyl metal compound represented by the general formula [V16].
The compound of the present invention of I] can be obtained.

【0174】還元剤としては、例えば水素分子、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素
化ジイソブチルアルミニウム等が挙げられる。また触媒
としては、例えば白金、ニッケル、コバルトおよびパラ
ジウム等が挙げられる。
Examples of the reducing agent include hydrogen molecules, sodium borohydride, lithium aluminum hydride, diisobutylaluminum hydride and the like. Examples of the catalyst include platinum, nickel, cobalt and palladium.

【0175】ここで使用できる溶媒としては、エーテル
類、芳香族炭化水素類、非プロトン性極性溶媒、アルコ
ール類、脂肪族炭化水素類、酢酸、及び水、又はこれら
の混合溶媒が挙げられる。
Examples of the solvent that can be used here include ethers, aromatic hydrocarbons, aprotic polar solvents, alcohols, aliphatic hydrocarbons, acetic acid, water, and mixed solvents thereof.

【0176】反応温度は−20℃からその反応系に於け
る還流温度までの任意の温度であり、好ましくは10〜
100℃である。反応時間は化合物により異なるが10
分〜20時間の間で設定できる。 製造法19
The reaction temperature is any temperature from -20 ° C to the reflux temperature in the reaction system, preferably 10-
100 ° C. The reaction time depends on the compound, but it is 10
It can be set between minutes and 20 hours. Manufacturing method 19

【0177】[0177]

【化41】 (式中、R、R、R、R、R、R10
、Q、m及びnは前記と同じ意味を示す。X
塩素原子又は臭素原子を表す。)
Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 10 ,
Q 1 , Q 2 , m and n have the same meanings as described above. X 3 represents a chlorine atom or a bromine atom. )

【0178】本発明化合物[LI]1モルに対し、1.
0〜10.0モルのハロゲン化剤を0〜5lの溶媒の存
在下反応させることにより新たな本発明化合物[LI
I]が得られる。
With respect to 1 mol of the compound [LI] of the present invention, 1.
By reacting 0 to 10.0 mol of a halogenating agent in the presence of 0 to 5 l of a solvent, a new compound of the present invention [LI
I] is obtained.

【0179】ハロゲン化剤としては塩化水素、臭化水
素、三塩化燐、三臭化燐、塩化チオニル、トリフェニル
ホスフィン/四塩化炭素及びトリフェニルホスフィン/
臭素の混合物等が挙げられる。また使用できる溶媒とし
ては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及
びジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン及びクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、塩化
メチレン及びクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、
アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類、
ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の
脂肪族炭化水素類等の溶媒又はこれらの混合溶媒が挙げ
られる。なおハロゲン化剤は溶媒をかねることもでき
る。
As the halogenating agent, hydrogen chloride, hydrogen bromide, phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, thionyl chloride, triphenylphosphine / carbon tetrachloride and triphenylphosphine /
Examples thereof include a mixture of bromine. Examples of usable solvents include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform,
Nitriles such as acetonitrile and propionitrile,
Solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, and aliphatic hydrocarbons such as heptane, and mixed solvents thereof can be mentioned. The halogenating agent can also serve as a solvent.

【0180】反応温度は0℃から反応系における還流温
度までの任意の温度であり、好ましくは10〜180℃
である。反応時間は化合物により異なるが10分〜20
時間の間で設定できる。 製造法20
The reaction temperature is any temperature from 0 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, preferably 10 to 180 ° C.
It is. The reaction time varies depending on the compound, but it is 10 minutes to 20 minutes.
Can be set between times. Manufacturing method 20

【0181】[0181]

【化42】 (式中、R、R、R、R、R12、R13、R
29、Q、Q、及びmは前記と同じ意味を示す。)
Embedded image (In the formula, R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 12 , R 13 , and R
29 , Q 1 , Q 2 , and m have the same meanings as described above. )

【0182】即ち、一般式で[LIII]示されるベン
ゾフェノン類1モルに対し、一般式[V1]で示される
ヒドラジン類又はその水和物1.0〜10.0モルを0
〜5lの溶媒の存在下、必要ならば0.01〜1.0モ
ルの酸触媒の存在下に反応させて一般式[III]で表
される本発明化合物を得ることができる。
That is, to 1 mol of the benzophenone represented by the general formula [LIII], 1.0 to 10.0 mol of the hydrazine represented by the general formula [V1] or a hydrate thereof is added to 0 mol.
The compound of the present invention represented by the general formula [III] can be obtained by reacting in the presence of ˜5 l of solvent, if necessary in the presence of 0.01 to 1.0 mol of acid catalyst.

【0183】ここで使用できる溶媒及び酸触媒として
は、例えば製造法1で使用したものと同じものを挙げる
ことができる。
As the solvent and the acid catalyst which can be used here, for example, the same ones as used in the production method 1 can be mentioned.

【0184】反応温度は−10℃からその反応系に於け
る還流温度までの任意の温度であり、好ましくは0〜1
00℃である。
The reaction temperature is any temperature from −10 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, preferably 0 to 1
00 ° C.

【0185】[0185]

【実施例】次に実施例をあげて本発明化合物の製造法並
びに製剤法、用途を具体的に説明する。
EXAMPLES Next, the production method, formulation method and use of the compound of the present invention will be specifically described with reference to examples.

【0186】製造例1 4−クロロ−4’−トリフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−N’−エト
キシカルボニルヒドラゾン(化合物番号I−175)の
製造 4−クロロ−4’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン(0.5g)及びエチル−カルバゼー
ト(0.4g)をエタノール(60ml)及び酢酸(5
ml)に加え、還流下に19時間撹拌した。反応混合物
を濃縮し、残渣を酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル
層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エ
チルを減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)
にて精製し、目的物(0.6g、融点148〜150
℃、収率96%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.30 (3H、t) 4.23 (2H、q) 4.35、4.53 (2H、s、s) 7.03〜7.80 (9H、m)
Production Example 1 Production of 4-chloro-4′-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-N′-ethoxycarbonylhydrazone (Compound No. I-175) 4-chloro-4′-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone (0 0.5g) and ethyl-carbazate (0.4g) were added to ethanol (60ml) and acetic acid (5g).
ml) and stirred under reflux for 19 hours. The reaction mixture was concentrated and the residue was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue is subjected to silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 4: 1).
, And the desired product (0.6 g, melting point 148-150)
C., yield 96%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.30 (3H, t) 4.23 (2H, q) 4.35, 4.53 (2H, s, s) 7.03 to 7.80 (9H, m)

【0187】製造例2 4−クロロ−4’−メチルスル
ホニルメチルベンゾフェノン−ヒドラゾン(化合物番号
I−2)の製造 4−クロロ−4’−メチルスルホニルメチルベンゾフェ
ノン(10.0g)及びヒドラジン一水和物(4.9
g)をエタノール(200ml)及び酢酸(10ml)
に加え、還流下に6時間撹拌した。反応混合物を濃縮
し、残渣を酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水
洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを
減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)にて精
製し、目的物(10.0g、融点52〜54℃、収率9
7%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 2.73、2.85 (3H、s、s) 4.20、4.30 (2H、s、s) 5.50 (2H、br) 7.05〜7.70 (8H、m)
Production Example 2 4-Chloro-4'-methylsulfonylmethylbenzophenone-hydrazone (Compound No.
Preparation of I-2) 4-chloro-4′-methylsulfonylmethylbenzophenone (10.0 g) and hydrazine monohydrate (4.9).
g) to ethanol (200 ml) and acetic acid (10 ml)
In addition, the mixture was stirred under reflux for 6 hours. The reaction mixture was concentrated and the residue was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 2: 1) to obtain the desired product (10.0 g, melting point 52-54 ° C., yield 9).
7%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 2.73, 2.85 (3H, s, s) 4.20, 4.30 (2H, s, s) 5.50 (2H, br) 7.05 to 7.70 (8H, m)

【0188】製造例3 4−クロロ−4’−メチルスル
ホニルメチルベンゾフェノン−N’−プロピオニルヒド
ラゾン(化合物番号I−15)の製造 4−クロロ−4’−メチルスルホニルメチルベンゾフェ
ノン−ヒドラゾン(1.3g)、プロピオニルクロリド
(0.4g)及び炭酸カリウム(0.7g)を酢酸エチ
ル(150ml)と水(100ml)の溶媒に加え、室
温下で2時間撹拌した。反応混合物を分液し、酢酸エチ
ル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸
エチルを減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)にて精製し、目的物(1.3g、融点159〜16
0℃、収率86%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.23 (3H、t) 2.85〜3.00 (5H、m) 4.30 (2H、s) 7.00〜8.00 (8H、m) 8.25 (1H、br)
Production Example 3 Production of 4-chloro-4′-methylsulfonylmethylbenzophenone-N′-propionylhydrazone (Compound No. I-15) 4-chloro-4′-methylsulfonylmethylbenzophenone-hydrazone (1.3 g) , Propionyl chloride (0.4 g) and potassium carbonate (0.7 g) were added to a solvent of ethyl acetate (150 ml) and water (100 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The reaction mixture was separated, the ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the ethyl acetate was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 2:
Purified in 1), the desired product (1.3 g, melting point 159-16)
0 ° C., yield 86%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.23 (3H, t) 2.85 to 3.00 (5H, m) 4.30 (2H, s) 7.00 to 8.00 (8H, m) 8.25 (1H, br)

【0189】製造例4 4−クロロ−4’−トリフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−ヒドラゾン
(化合物番号I−136)の製造 4−クロロ−4’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン(2.5g)、ヒドラジン一水和物
(4.3g)及びp−トルエンスルホン酸一水和物
(0.2g)をエタノール(30ml)に加え、還流下
に3時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残渣を酢酸エ
チルにて抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−
ヘキサン:酢酸エチル=2:1)にて精製し、目的物
(2.2g、nD 201.5871、収率85%)を得
た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 4.43、4.53 (2H、s、s) 5.47、5.53 (2H、s、s) 7.07〜7.60 (8H、m)
Production Example 4 Production of 4-chloro-4′-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-hydrazone (Compound No. I-136) 4-chloro-4′-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone (2.5 g), hydrazine Monohydrate (4.3 g) and p-toluenesulfonic acid monohydrate (0.2 g) were added to ethanol (30 ml), and the mixture was stirred under reflux for 3 hours. The reaction mixture was concentrated and the residue was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (n-
The product was purified with hexane: ethyl acetate = 2: 1) to obtain the desired product (2.2 g, n D 20 1.5871, yield 85%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 4.43, 4.53 (2H, s, s) 5.47, 5.53 (2H, s, s) 7.07 to 7.60 (8H, m)

【0190】製造例5 4−クロロ−4’−トリフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−N−プロピ
オニルヒドラゾン(化合物番号I−149)の製造 4−クロロ−4’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン−ヒドラゾン(0.9g)、プロピオ
ニルクロリド(0.22g)及び炭酸カリウム0.4g
を酢酸エチル(100ml)と水(100ml)の溶媒
に加え、室温下で16時間撹拌した。反応混合物を分液
し、酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて
乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣の個体を
n−ヘキサンにて洗い、目的物(0.75g、融点13
0〜132℃、収率75%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.20 (3H、t) 2.60〜3.00 (2H、m) 4.47 (2H、d) 7.03〜7.63 (8H、m) 8.22 (1H、d)
Preparation Example 5 Preparation of 4-chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-N-propionylhydrazone (Compound No. I-149) 4-chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-hydrazone (0 .9 g), propionyl chloride (0.22 g) and potassium carbonate 0.4 g
Was added to a solvent of ethyl acetate (100 ml) and water (100 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. The reaction mixture was separated, the ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the ethyl acetate was evaporated under reduced pressure. The solid residue was washed with n-hexane to obtain the desired product (0.75 g, melting point 13
0-132 ° C, yield 75%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.20 (3H, t) 2.60 to 3.00 (2H, m) 4.47 (2H, d) 7.03 to 7.63 (8H, m) 8.22 (1H, d)

【0191】製造例6 4−クロロ−4’−トリフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−N’−(1
−クロロプロピリデン)ヒドラゾン(化合物番号II−1
4)の製造 4−クロロ−4’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン−N’−プロピオニルヒドラゾン
(1.7g)、トリフェニルホスフィン(1.5g)及
び四塩化炭素(1.2g)をアセトニトリル(80m
l)に加え、還流下に10分間撹拌した。反応混合物を
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−
(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1)にて精製し、
目的物(1.7g、融点108〜109℃、収率97
%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.05、1.10 (3H、t、t) 2.50、2.55 (2H、q、q) 4.47 (2H、s) 7.00〜7.85 (8H、m)
Production Example 6 4-Chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-N '-(1
-Chloropropylidene) hydrazone (Compound No. II-1
4) Preparation of 4-chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-N'-propionylhydrazone (1.7 g), triphenylphosphine (1.5 g) and carbon tetrachloride (1.2 g) in acetonitrile (80 m).
1) and stirred under reflux for 10 minutes. The reaction mixture is concentrated and the residue is subjected to silica gel column chromatography-
Purify with (n-hexane: ethyl acetate = 10: 1),
Target product (1.7 g, melting point 108-109 ° C., yield 97
%) Was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.05, 1.10 (3H, t, t) 2.50, 2.55 (2H, q, q) 4.47 (2H, s) 7.00-7.85 (8H, m)

【0192】製造例7 4−クロロ−4’−トリフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−N’−[1
−(1H−1、2、4−トリアゾール−1−イル)プロ
ピリデン]ヒドラゾン(化合物番号II−10)の製造 4−クロロ−4’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン−N’−(1−クロロプロピリデン)
ヒドラゾン(1.0g)、1H−1、2、4−トリアゾ
ール(0.2g)、炭酸カリウム(0.4g)及びp−
トルエンスルフィン酸ナトリウム(0.3g)をN、N
−ジメチルホルムアミド(70ml)に加え、95〜1
00℃で7時間撹拌した。室温まで冷却後、反応混合物
に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水
洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを
減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=6:1)にて精
製し、目的物(0.7g、nD 201.5978、収率6
6%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.28 (3H、t) 3.28 (2H、q) 4.52 (2H、s) 7.05〜7.86 (8H、m) 7.95 (1H、s) 8.40、8.52 (1H、s、s)
Production Example 7 4-Chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-N '-[1
Preparation of-(1H-1,2,4-triazol-1-yl) propylidene] hydrazone (Compound No. II-10) 4-Chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-N '-(1-chloropropyiene Redden)
Hydrazone (1.0 g), 1H-1,2,4-triazole (0.2 g), potassium carbonate (0.4 g) and p-
Sodium toluenesulfinate (0.3 g) was added to N, N
-In addition to dimethylformamide (70 ml) 95-1
The mixture was stirred at 00 ° C for 7 hours. After cooling to room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 6: 1) to obtain the desired product (0.7 g, n D 20 1.5978, yield 6).
6%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.28 (3H, t) 3.28 (2H, q) 4.52 (2H, s) 7.05 to 7.86 (8H, m) 7.95 (1H, s) 8.40, 8.52 (1H, s, s)

【0193】製造例8 4−クロロ−4’−トリフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−N’−[1
−(N−メチルアミノ)エチリデン]ヒドラゾン(化合
物番号II−8)の製造 4−クロロ−4’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン−N’−(1−クロロエチリデン)ヒ
ドラゾン(0.7g)及び40%メチルアミン水溶液
(0.3g)をキシレン(50ml)に加え、還流下に
1時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残渣を酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1)にて精製し、目的物(0.6
g、融点58〜60℃、収率87%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 2.00、2.20 (3H、s、s) 2.67、2.94 (3H、d、d) 4.46 (2H、s) 6.30 (1H、br) 6.95〜7.78 (8H、m)
Production Example 8 4-Chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-N '-[1
Preparation of-(N-methylamino) ethylidene] hydrazone (Compound No. II-8) 4-chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-N '-(1-chloroethylidene) hydrazone (0.7 g) and 40 % Methylamine aqueous solution (0.3 g) was added to xylene (50 ml), and the mixture was stirred under reflux for 1 hour. The reaction mixture was concentrated and the residue was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain the desired product (0.6
g, melting point 58-60 ° C., yield 87%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 2.00, 2.20 (3H, s, s) 2.67, 2.94 (3H, d, d) 4.46 (2H, s) 6.30 (1H, br) 6.95- 7.78 (8H, m)

【0194】製造例9 4−クロロ−4’−エチルスル
ホニルメチルベンゾフェノン−N’−イソプロピリデン
ヒドラゾン(化合物番号II−35)の製造 4−クロロ−4’−エチルスルホニルメチルベンゾフェ
ノンヒドラゾン(0.7g)をアセトン(30ml)に
加え、還流下に30分間撹拌した。反応混合物を濃縮
し、目的物(0.7g、nD 201.6163、収率88
%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.34 (3H、t) 2.00 (6H、s) 2.90 (2H、q) 4.20 (2H、s) 7.00〜7.67 (8H、m)
Production Example 9 Production of 4-chloro-4′-ethylsulfonylmethylbenzophenone-N′-isopropylidenehydrazone (Compound No. II-35) 4-chloro-4′-ethylsulfonylmethylbenzophenonehydrazone (0.7 g) Was added to acetone (30 ml), and the mixture was stirred under reflux for 30 minutes. The reaction mixture was concentrated to give the desired product (0.7 g, n D 20 1.6163, yield 88
%) Was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.34 (3H, t) 2.00 (6H, s) 2.90 (2H, q) 4.20 (2H, s) 7.00 to 7.67 (8H, m)

【0195】製造例10 4−クロロ−4’−メチルチ
オメチルベンゾフェノン−N’−[1−(N、N−ジメ
チルアミノ)エチリデン]ヒドラゾン(化合物番号II−
22)の製造 4−クロロ−4’−メチルチオメチルベンゾフェノン−
ヒドラゾン(2.0g)及びジメチルアセトアミド−ジ
メチルアセタール(1.4g)をエタノール(100m
l)に加え、還流下に6時間撹拌した。反応混合物を濃
縮し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後、
無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下
に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(n−ヘキサン:酢酸エチル=6:1)にて精製し、
淡黄色透明粘稠液体の目的物(2.0g、収率81%)
を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 2.00 (3H、s) 2.35 (3H、s) 2.88 (6H、s) 3.66、3.70 (2H、s、s) 7.03〜7.75 (8H、m)
Production Example 10 4-Chloro-4'-methylthiomethylbenzophenone-N '-[1- (N, N-dimethylamino) ethylidene] hydrazone (Compound No. II-
22) Preparation of 4-chloro-4′-methylthiomethylbenzophenone-
Hydrazone (2.0 g) and dimethylacetamide-dimethylacetal (1.4 g) were added to ethanol (100 m).
1) and stirred under reflux for 6 hours. The reaction mixture was concentrated and extracted with ethyl acetate. After washing the ethyl acetate layer with water,
It was dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 6: 1),
Light yellow transparent viscous liquid target product (2.0 g, yield 81%)
I got 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 2.00 (3H, s) 2.35 (3H, s) 2.88 (6H, s) 3.66, 3.70 (2H, s, s) 7.03 to 7.75 (8H, m)

【0196】製造例11 4−クロロ−4’−メチルス
ルホニルメチルベンゾフェノン−セミカルバゾン(化合
物番号I−42)の製造 4−クロロ−4’−メチルスルホニルメチルベンゾフェ
ノン−ヒドラゾン(1.3g)及びクロロスルホニルイ
ソシアナート(0.63g)を酢酸エチル(100m
l)に加え、室温下で1時間撹拌した後、水(100m
l)を加え、更に室温下で16時間撹拌した。反応混合
物を分液し、酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣
の個体を酢酸エチル:n−ヘキサン=4;1の混合溶媒
にて洗い、目的物(1.2g、融点189〜191℃、
収率80%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 2.87、2.97 (3H、s、s) 4.34、4.50 (5H、m) 7.10〜7.70 (8H、m)
Preparation Example 11 Preparation of 4-chloro-4′-methylsulfonylmethylbenzophenone-semicarbazone (Compound No. I-42) 4-chloro-4′-methylsulfonylmethylbenzophenone-hydrazone (1.3 g) and chlorosulfonylisocyanate Nato (0.63 g) was added to ethyl acetate (100 m
l) and stirred at room temperature for 1 hour, then water (100 m
1) was added, and the mixture was further stirred at room temperature for 16 hours. The reaction mixture was separated, the ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the ethyl acetate was evaporated under reduced pressure. The solid residue was washed with a mixed solvent of ethyl acetate: n-hexane = 4: 1 to obtain the desired product (1.2 g, melting point 189 to 191 ° C.,
(80% yield). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 2.87, 2.97 (3H, s, s) 4.34, 4.50 (5H, m) 7.10 to 7.70 (8H, m)

【0197】製造例12 4−クロロ−4’−メチルチ
オメチルベンゾフェノン−N’−エトキシカルボニル−
N’−メチルヒドラゾン(化合物番号I−47)の製造 4−クロロ−4’−メチルチオメチルベンゾフェノン−
N’−エトキシカルボニルヒドラゾン(4.3g)を
N、N−ジメチルホルムアミド(100ml)に溶か
し、この溶液に60%水素化ナトリウム(0.6g)を
加え室温下に30分間撹拌した後、ヨウ化メチル(2.
5g)を加え、室温下で16時間撹拌した。反応混合物
に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水
洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを
減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1)にて精
製し、目的物(4.3g、nD 201.6042、収率8
9%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.17 (3H、t) 2.00 (3H、s) 2.79、3.00 (3H、s、s) 3.63、3.67 (2H、s、s) 4.04 (2H、q) 7.07〜7.57 (8H、m)
Production Example 12 4-Chloro-4'-methylthiomethylbenzophenone-N'-ethoxycarbonyl-
Preparation of N'-methylhydrazone (Compound No. I-47) 4-chloro-4'-methylthiomethylbenzophenone-
N'-Ethoxycarbonylhydrazone (4.3 g) was dissolved in N, N-dimethylformamide (100 ml), 60% sodium hydride (0.6 g) was added to this solution, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and then iodinated. Methyl (2.
5 g) was added and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. Water was added to the reaction mixture, and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 5: 1) to obtain the desired product (4.3 g, n D 20 1.6042, yield 8).
9%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.17 (3H, t) 2.00 (3H, s) 2.79, 3.00 (3H, s, s) 3.63, 3.67 (2H, s, s) 4.04 ( 2H, q) 7.07 to 7.57 (8H, m)

【0198】製造例13 4−クロロ−4’−トリフル
オロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−4−ブチ
ルセミカルバゾン(化合物番号I−171)の製造 4−クロロ−4’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノンヒドラゾン(1.2g)、トリエチル
アミン(0.5g)及びブチルイソシアナート(0.6
g)をテトラヒドロフラン(30ml)に加え、室温下
で16時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残渣を酢酸
エチルにて抽出した。酢酸エチル層を2N塩酸及び水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチル
を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)にて
精製し、目的物(0.6g、融点179〜181℃、収
率40%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 0.75〜1.65 (7H、m) 3.15〜3.50 (2H、m) 4.50 (2H、s) 6.20 (1H、br) 6.90〜7.70 (9H、m)
Production Example 13 Production of 4-chloro-4′-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-4-butylsemicarbazone (Compound No. I-171) 4-chloro-4′-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenonehydrazone ( 1.2 g), triethylamine (0.5 g) and butyl isocyanate (0.6 g)
g) was added to tetrahydrofuran (30 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. The reaction mixture was concentrated and the residue was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with 2N hydrochloric acid and water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain the desired product (0.6 g, melting point 179-181 ° C., yield 40%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 0.75 to 1.65 (7H, m) 3.15 to 3.50 (2H, m) 4.50 (2H, s) 6.20 (1H, br) 6.90 to 7.70 ( 9H, m)

【0199】製造例14 4−クロロ−4’−トリフル
オロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−N’−メ
チルスルホニルイミノメチルヒドラゾン(化合物番号I
−137)の製造 4−クロロ−4’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノンヒドラゾン(1.2g)、トリエチル
アミン(1.6g)及びN−メチルスルホニルホルムイ
ミド酸エチル(1.2g)をジオキサン(30ml)に
加え、還流下に5時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキ
サン:酢酸エチル=1:1)にて精製し、目的物(0.
8g、融点63〜65℃、収率52%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 2.95、3.05 (3H、s、s) 4.45、4.60 (2H、s、s) 4.95 (1H、br) 7.10〜7.80 (8H、m) 8.80 (1H、br)
Production Example 14 4-Chloro-4′-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-N′-methylsulfonyliminomethylhydrazone (Compound No. I
-137) Preparation of 4-chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone hydrazone (1.2 g), triethylamine (1.6 g) and ethyl N-methylsulfonylformimidate (1.2 g) in dioxane (30 ml). In addition, the mixture was stirred under reflux for 5 hours. Concentrate the reaction mixture,
The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain the desired product (0.
8g, melting point 63-65 ° C, yield 52%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 2.95, 3.05 (3H, s, s) 4.45, 4.60 (2H, s, s) 4.95 (1H, br) 7.10-7.80 (8H, m) 8.80 (1H, br)

【0200】製造例15 4−クロロ−4’−トリフル
オロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−N’−メ
チルスルホニルヒドラゾン(化合物番号I−182)の
製造 4−クロロ−4’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノンヒドラゾン(1.2g)及びトリエチ
ルアミン(0.4g)を酢酸エチルに(30ml)に溶
解し、この溶液にメタンスルホニルクロリド(0.4
g)を室温下に滴下し、1時間撹拌した。反応混合物を
2N塩酸及び水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾
燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチ
ル=4:1)にて精製し、目的物(0.5g、融点64
〜65℃、収率36%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 3.50 (3H、s) 4.50 (2H、d) 7.10〜7.70 (9H、m)
Production Example 15 Production of 4-chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone-N'-methylsulfonylhydrazone (Compound No. I-182) 4-chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenonehydrazone ( 1.2 g) and triethylamine (0.4 g) were dissolved in ethyl acetate (30 ml) and to this solution was added methanesulfonyl chloride (0.4 g).
g) was added dropwise at room temperature and stirred for 1 hour. The reaction mixture was washed with 2N hydrochloric acid and water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain the desired product (0.5 g, melting point 64).
˜65 ° C., yield 36%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 3.50 (3H, s) 4.50 (2H, d) 7.10 to 7.70 (9H, m)

【0201】製造例16 4−クロロ−4’−メチルス
ルフィニルメチルベンゾフェノン−N’−プロピオニル
ヒドラゾン(化合物番号I−14)の製造 4−クロロ−4’−メチルチオメチルベンゾフェノン−
N’−プロピオニルヒドラゾン(0.8g)及び過ヨウ
素酸ナトリウム(0.5g)をメタノール(50ml)
及び水(7ml)に加え、室温下に16時間撹拌した。
反応混合物を濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥
し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル
=9:1)にて精製し、目的物(0.7g、融点153
〜156℃、収率84%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.21 (3H、t) 2.43、2.56 (3H、s、s) 2.85 (2H、q) 3.93、4.00 (2H、s、s) 6.96〜7.70 (8H、m) 8.23 (1H、br)
Preparation Example 16 Preparation of 4-chloro-4′-methylsulfinylmethylbenzophenone-N′-propionylhydrazone (Compound No. I-14) 4-chloro-4′-methylthiomethylbenzophenone-
N'-propionylhydrazone (0.8 g) and sodium periodate (0.5 g) were added to methanol (50 ml).
And water (7 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours.
The reaction mixture was concentrated and the residue was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 9: 1) to obtain the desired product (0.7 g, melting point 153).
˜156 ° C., yield 84%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.21 (3H, t) 2.43, 2.56 (3H, s, s) 2.85 (2H, q) 3.93, 4.00 (2H, s, s) 6.96- 7.70 (8H, m) 8.23 (1H, br)

【0202】製造例17 4−クロロ−4’−(2−メ
チルスルホニル−2−プロピル)ベンゾフェノン−N’
−ヘキサノイル−N’−メチルヒドラゾン(化合物番号
I−248)の製造 4−クロロ−4’−メチルスルホニルメチルベンゾフェ
ノン−N’−ヘキサノイルヒドラゾン(1.4g)、ヨ
ウ化メチル(5.6g)及び60%水素化ナトリウム
(0.15g)をN、N−ジメチルホルムアミド(80
ml)に加え、室温下に16時間撹拌した。反応混合物
に水を加え酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗
後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減
圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィ−(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)にて精製
し、目的物(0.8g、融点94〜96℃、収率53
%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 0.90 (3H、m) 1.10〜1.93 (6H、m) 1.87 (6H、s) 2.16〜2.67 (2H、m) 2.57、2.76 (3H、s) 3.09 (3H、s) 7.05〜7.73 (8H、m)
Production Example 17 4-Chloro-4 '-(2-methylsulfonyl-2-propyl) benzophenone-N'
-Hexanoyl-N'-methylhydrazone (compound number
I-248) Preparation 4-chloro-4'-methylsulfonylmethylbenzophenone-N'-hexanoylhydrazone (1.4 g), methyl iodide (5.6 g) and 60% sodium hydride (0.15 g) were added. N, N-dimethylformamide (80
ml) and stirred at room temperature for 16 hours. Water was added to the reaction mixture and the mixture was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 2: 1) to obtain the desired product (0.8 g, melting point 94-96 ° C., yield 53).
%) Was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 0.90 (3H, m) 1.10 to 1.93 (6H, m) 1.87 (6H, s) 2.16 to 2.67 (2H, m) 2.57, 2.76 ( 3H, s) 3.09 (3H, s) 7.05 to 7.73 (8H, m)

【0203】製造例18 4−クロル−4’−トリフル
オロメチルスルホニルメチルベンズヒドリルヒドラジン
の合成(化合物番号V−8) トルエン(80ml)に、ヒドラジン一水和物(50m
l)及び4−クロル−4’−トリフルオロメチルスルホ
ニルメチルベンズヒドリルクロリドを加え、撹拌しなが
ら徐々に加熱した。80度で2時間撹拌し、放冷後これ
を水中にあけた。酢酸エチル250mlを加え、抽出、
水洗し、硫酸マグネシウムにより乾燥した後、減圧下に
て溶媒を留去して淡黄色アメ状物質の目的物(2.9
g、nD 201.5671、収率82.4%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 3.83 (2H、br) 4.38 (2H、s) 4.83 (1H、s) 6.93〜7.50 (8H、m)
Production Example 18 Synthesis of 4-chloro-4′-trifluoromethylsulfonylmethylbenzhydrylhydrazine (Compound No. V-8) Toluene (80 ml) was mixed with hydrazine monohydrate (50 m).
1) and 4-chloro-4′-trifluoromethylsulfonylmethylbenzhydryl chloride were added and gradually heated with stirring. The mixture was stirred at 80 ° C for 2 hours, allowed to cool, and then poured into water. Add 250 ml of ethyl acetate and extract,
After washing with water and drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the desired product as a pale yellow candy-like substance (2.9
g, n D 20 1.5671, yield 82.4%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 3.83 (2H, br) 4.38 (2H, s) 4.83 (1H, s) 6.93 to 7.50 (8H, m)

【0204】製造例19 N−(4−クロル−4’−ト
リフルオロメチルスルホニルメチルベンズヒドリル)−
N’−メトキシカルボニルヒドラジン塩酸塩の合成(化
合物番号V−13) N−(4−クロル−4’−トリフルオロメチルスルホニ
ルメチルベンズヒドリル)−N’−メトキシカルボニル
ヒドラジン1.6gをメタノール80mlに加え、室温
下で撹拌しながら塩酸3mlを加えた。これを還流する
まで徐々に加熱した。還流下にて2時間撹拌した後、放
冷した。これを減圧下にて溶媒を留去し、淡黄色粉末の
目的物(1.6g、融点52〜54℃、収率91.5
%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 3.6 (3H、s) 4.73 (2H、s) 5.23 (1H、s) 7.27〜7.50 (8H、m)
Production Example 19 N- (4-chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzhydryl)-
Synthesis of N'-methoxycarbonylhydrazine hydrochloride (Compound No. V-13) N- (4-chloro-4'-trifluoromethylsulfonylmethylbenzhydryl) -N'-methoxycarbonylhydrazine 1.6 g in methanol 80 ml In addition, 3 ml of hydrochloric acid was added with stirring at room temperature. It was gradually heated to reflux. After stirring under reflux for 2 hours, it was allowed to cool. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the target substance as a pale yellow powder (1.6 g, melting point 52-54 ° C, yield 91.5) was obtained.
%) Was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 3.6 (3H, s) 4.73 (2H, s) 5.23 (1H, s) 7.27 to 7.50 (8H, m)

【0205】製造例20 4−クロロ−4’−エチルチ
オメチルベンゾフェノン− N’−エトキシカルボニル
ヒドラゾン(化合物番号I−114)の製造 エタンチオール1.2gおよび水酸化ナトリウム1gを
N、N−ジメチルホルムアミド(50ml)に懸濁させ
た後、4−クロロ−4’−クロロメチルベンゾフェノン
− N’−エトキシカルボニルヒドラゾン3.5gを加
え、室温下に16時間撹拌した。反応混合物に水を加
え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無
水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)にて精製し目的
物(2.0g、nD 201.6198、収率53%)を得
た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.34 (6H、t) 2.53 (2H、q) 3.70、3、80 (2H、s、s) 4.25 (2H、q) 7.10〜7.77 (8H、m)
Production Example 20 Production of 4-chloro-4'-ethylthiomethylbenzophenone-N'-ethoxycarbonylhydrazone (Compound No. I-114) 1.2 g of ethanethiol and 1 g of sodium hydroxide were added to N, N-dimethylformamide. After suspending in (50 ml), 3.5 g of 4-chloro-4′-chloromethylbenzophenone-N′-ethoxycarbonylhydrazone was added, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. Water was added to the reaction mixture, and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n- hexane: ethyl acetate = 4: 1) purified by then the desired product (2.0g, n D 20 1.6198, 53% yield). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.34 (6H, t) 2.53 (2H, q) 3.70, 3, 80 (2H, s, s) 4.25 (2H, q) 7.10-7.77 (8H, m)

【0206】製造例21 4−クロロ−4’−ジフルオ
ロメチルチオメチルベンゾフェノン−N’−メトキシカ
ルボニルヒドラゾン(化合物番号I−187)の製造 4−クロロ−4’−メルカプトメチルベンゾフェノン−
N’−メトキシカルボニルヒドラゾン(1.5g)及び
水酸化カリウム(1.5g)をジオキサン(30ml)
と水(30ml)の溶媒に加え、この溶液に40℃でジ
フルオロメチルクロリドを原料の4−クロロ−4’−メ
ルカプトメチルベンゾフェノン−N’−メトキシカルボ
ニルヒドラゾンがなくなるまで吹き込んだ。反応混合物
を室温まで冷却後、濾過した。濾液の有機層を無水硫酸
マグネシウムにて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル
=4:1)にて精製し、目的物(0.3g、nD 201.
6213、収率18%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 3.78 (3H、s) 3.98、4、10 (2H、s、s) 6.7、6.8 (1H、t) 7.07〜7.67 (8H、m) 7.77 (1H、s)
Production Example 21 Production of 4-chloro-4'-difluoromethylthiomethylbenzophenone-N'-methoxycarbonylhydrazone (Compound No. I-187) 4-chloro-4'-mercaptomethylbenzophenone-
N'-methoxycarbonylhydrazone (1.5 g) and potassium hydroxide (1.5 g) were added to dioxane (30 ml).
Dichloromethyl chloride was bubbled into this solution at 40 ° C. until the starting material 4-chloro-4′-mercaptomethylbenzophenone-N′-methoxycarbonylhydrazone disappeared. The reaction mixture was cooled to room temperature and then filtered. The organic layer of the filtrate was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain the desired product (0.3 g, n D 20 1.
6213, yield 18%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 3.78 (3H, s) 3.98, 4, 10 (2H, s, s) 6.7, 6.8 (1H, t) 7.07 to 7.67 (8H, m) 7. 77 (1H, s)

【0207】製造例22 4−クロロ−4’−メチルチ
オメチルベンゾフェノン− N’−メトキシカルボニル
ヒドラゾン(化合物番号I−67)の製造 4−クロロ−4’−ヒドロキシルメチルベンゾフェノン
−N’−メトキシカルボニルヒドラゾン(1.2g)及
びトリエチルアミン(0.5g)をテトラヒドロフラン
(30ml)に加え、この溶液に−20℃でクロロビス
ジエチルアミノホスフィン(1.1g)を滴下する。室
温にて2時間撹拌後、溶媒を減圧下留去し、氷水と酢酸
エチルを加え、分液した。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥し、濃縮し、ホスファイトを得た。これをテ
トラヒドロフラン(30ml)に加え、この溶液に0℃
でジメチルジスルフィド(g)を滴下し、さらに室温に
て12時間撹拌した。原料のホスファイトが消失したこ
とを確認後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=
4:1)にて精製し、目的物(0.3g、融点40〜4
2℃、収率17%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.93、2.08 (3H、s、s) 3.67、3.77 (2H、s、s) 3.8 (3H、s) 7.1〜7.67 (8H、m) 7.85 (1H、br)
Production Example 22 Production of 4-chloro-4'-methylthiomethylbenzophenone-N'-methoxycarbonylhydrazone (Compound No. I-67) 4-chloro-4'-hydroxylmethylbenzophenone-N'-methoxycarbonylhydrazone ( 1.2 g) and triethylamine (0.5 g) are added to tetrahydrofuran (30 ml), and chlorobisdiethylaminophosphine (1.1 g) is added dropwise to this solution at -20 ° C. After stirring at room temperature for 2 hours, the solvent was evaporated under reduced pressure, ice water and ethyl acetate were added, and the layers were separated. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated to obtain phosphite. This was added to tetrahydrofuran (30 ml) and added to this solution at 0 ° C.
Dimethyl disulfide (g) was added dropwise with and the mixture was further stirred at room temperature for 12 hours. After confirming that the raw material phosphite had disappeared, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate =
4: 1) and the desired product (0.3 g, melting point 40-4)
2 ° C., yield 17%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.93, 2.08 (3H, s, s) 3.67, 3.77 (2H, s, s) 3.8 (3H, s) 7.1 to 7.67 (8H, m) 7.85 (1H, br)

【0208】製造例23 4−クロロ−4’−メチルス
ルホニルメチルベンゾフェノン(化合物番号VI−3)の
製造 4−ブロモメチル−4’−クロロベンゾフェノン(3.
1g)及びメタンスルフィン酸ナトリウム(1.5g)
をN、N−ジメチルホルムアミド(50ml)に加え、
室温下に16時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸
マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去し
た。残渣の個体をn−ヘキサンにて洗い、目的物(2.
8g、融点164〜166℃、収率90%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 2.90 (3H、s) 4.47 (2H、s) 7.37〜7.83 (8H、m)
Production Example 23 Production of 4-chloro-4′-methylsulfonylmethylbenzophenone (Compound No. VI-3) 4-bromomethyl-4′-chlorobenzophenone (3.
1 g) and sodium methanesulfinate (1.5 g)
Was added to N, N-dimethylformamide (50 ml),
The mixture was stirred at room temperature for 16 hours. Water was added to the reaction mixture, and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residual solid was washed with n-hexane to obtain the desired product (2.
8 g, melting point 164-166 ° C., yield 90%) were obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 2.90 (3H, s) 4.47 (2H, s) 7.37 to 7.83 (8H, m)

【0209】製造例24 4−クロロ−4’−エチルス
ルホニルメチルベンゾフェノン(化合物番号VI−6)の
製造 亜硫酸ナトリウム(24.5g)及び炭酸水素ナトリウ
ム(33g)を水(200ml)に溶解し、この溶液に
エタンスルホニルクロリド(25g)を室温下に30分
で加えた後、1時間撹拌した。この反応混合物を濃縮
し、残渣をN、N−ジメチルホルムアミド(200m
l)に懸濁させた後、4−ブロモメチル−4’−クロロ
ベンゾフェノン(10.0g)を加え、室温下に16時
間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムに
て乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣の個体
をn−ヘキサンにて洗い、目的物(7.5g、融点11
7〜118℃、収率72%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.37 (3H、t) 2.93 (2H、q) 4.27 (2H、s) 7.20〜7.83 (8H、m)
Preparation Example 24 Preparation of 4-chloro-4′-ethylsulfonylmethylbenzophenone (Compound No. VI-6) Sodium sulfite (24.5 g) and sodium hydrogen carbonate (33 g) were dissolved in water (200 ml), and Ethanesulfonyl chloride (25 g) was added to the solution at room temperature over 30 minutes, and the mixture was stirred for 1 hour. The reaction mixture was concentrated and the residue was washed with N, N-dimethylformamide (200 m).
After suspending in l), 4-bromomethyl-4′-chlorobenzophenone (10.0 g) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. Water was added to the reaction mixture, and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residual solid was washed with n-hexane to obtain the desired product (7.5 g, melting point 11).
7-118 ° C., yield 72%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.37 (3H, t) 2.93 (2H, q) 4.27 (2H, s) 7.20 to 7.83 (8H, m)

【0210】製造例25 4−クロロ−4’−エチルチ
オメチルベンゾフェノン(化合物番号VI−4)の製造 4−クロロ−4’−メルカプトメチルベンゾフェノン
(16.0g)、エチルブロミド(7.4g)及び水酸
化カリウム(4.3g)をメタノール(250ml)に
加え、還流下に30分間撹拌した。反応混合物を室温ま
で冷却後、濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウム
にて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1)
にて精製し、目的物(14.0g、融点33〜34℃、
収率79%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 2.23 (3H、t) 2.45 (2H、s) 3.75 (2H、s) 7.10〜7.90 (8H、m)
Production Example 25 Production of 4-chloro-4′-ethylthiomethylbenzophenone (Compound No. VI-4) 4-chloro-4′-mercaptomethylbenzophenone (16.0 g), ethyl bromide (7.4 g) and Potassium hydroxide (4.3 g) was added to methanol (250 ml), and the mixture was stirred under reflux for 30 minutes. The reaction mixture was cooled to room temperature and then concentrated. Water was added to the residue and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue is subjected to silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 10: 1).
And purified with the desired product (14.0 g, melting point 33 to 34 ° C.,
(79% yield). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 2.23 (3H, t) 2.45 (2H, s) 3.75 (2H, s) 7.10 to 7.90 (8H, m)

【0211】製造例26 4−クロロ−4’−ジフルオ
ロメチルチオメチルベンゾフェノン(化合物番号VI−1
5)の製造 4−クロロ−4’−メルカプトメチルベンゾフェノン
(14.7g)及び水酸化カリウム(15g)をジオキ
サン(100ml)と水(100ml)の溶媒に加え、
この溶液に60℃でジフルオロメチルクロリドを原料の
4−クロロ−4’−メルカプトメチルベンゾフェノンが
なくなるまで1時間吹き込んだ。反応混合物を室温まで
冷却後、濾過した。濾液の有機層を無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1)
にて精製し、目的物(6.4g、融点34〜35℃、収
率36%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 4.03 (2H、s) 6.69 (1H、t) 7.15〜7.71 (8H、m)
Production Example 26 4-chloro-4′-difluoromethylthiomethylbenzophenone (Compound No. VI-1
Preparation of 5) 4-chloro-4'-mercaptomethylbenzophenone (14.7 g) and potassium hydroxide (15 g) were added to a solvent of dioxane (100 ml) and water (100 ml),
Difluoromethyl chloride was blown into this solution at 60 ° C. for 1 hour until the starting material 4-chloro-4′-mercaptomethylbenzophenone was consumed. The reaction mixture was cooled to room temperature and then filtered. The organic layer of the filtrate was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue is subjected to silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 5: 1).
The desired product (6.4 g, melting point 34-35 ° C., yield 36%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 4.03 (2H, s) 6.69 (1H, t) 7.15 to 7.71 (8H, m)

【0212】製造例27 4−クロロ−4’−ジフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン (化合物番
号VI−16)の製造 4−クロロ−4’−ジフルオロメチルチオメチルベンゾ
フェノン(3.2g)及びm−クロロ過安息香酸(5.
3g)をクロロホルム(150ml)に加え、この懸濁
液を還流下に3時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残
渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を
水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチル
を減圧下に留去した。残渣の個体をn−ヘキサンにて洗
い、目的物(2.7g、融点154〜157℃、収率7
8%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 4.57 (2H、s) 6.41 (1H、t) 7.27〜7.87 (8H、m)
Production Example 27 Production of 4-chloro-4′-difluoromethylsulfonylmethylbenzophenone (Compound No. VI-16) 4-chloro-4′-difluoromethylthiomethylbenzophenone (3.2 g) and m-chloroperbenzoic acid. (5.
3 g) was added to chloroform (150 ml), and this suspension was stirred under reflux for 3 hours. The reaction mixture was concentrated, water was added to the residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue solid was washed with n-hexane to obtain the desired product (2.7 g, melting point 154-157 ° C., yield 7).
8%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 4.57 (2H, s) 6.41 (1H, t) 7.27 to 7.87 (8H, m)

【0213】製造例28 4−クロロ−4’−トリフル
オロメチルチオメチルベンゾフェノン(化合物番号VI−
12)の製造 4−クロロ−4’−メルカプトメチルベンゾフェノン
(4.5g)をテトラヒドロフラン(150ml)に溶
解し、この溶液に60%水素化ナトリウム(0.8g)
を加え、室温下で30分間撹拌後、S−(トリフルオロ
メチル)ジベンゾチオフェニウム− トリフルオロメタ
ンスルホナート(6.4g)を加え、更に30分間撹拌
した。反応混合物を濃縮し、これに水を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=4:1)にて精製し、目的物(2.0
g、融点63〜65℃、収率35%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 4.14 (2H、s) 7.30〜7.77 (8H、m)
Production Example 28 4-Chloro-4'-trifluoromethylthiomethylbenzophenone (Compound No. VI-
Preparation of 12) 4-Chloro-4′-mercaptomethylbenzophenone (4.5 g) was dissolved in tetrahydrofuran (150 ml), and 60% sodium hydride (0.8 g) was added to this solution.
Was added, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, S- (trifluoromethyl) dibenzothiophenium-trifluoromethanesulfonate (6.4 g) was added, and the mixture was further stirred for 30 minutes. The reaction mixture was concentrated, water was added thereto, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain the desired product (2.0
g, melting point 63-65 ° C., yield 35%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 4.14 (2H, s) 7.30 to 7.77 (8H, m)

【0214】製造例29 4−クロロ−4’−(1、
1、2、2−テトラフルオロエチルチオメチルベンゾフ
ェノン(化合物番号VI−20)の製造 4−クロロ−4’−メルカプトメチルベンゾフェノン
(5.0g)及びカリウム tert−ブトキシド
(0.9g)をエタノ−ル(150ml)に加え、これ
にペルフルオロエチレン(2.9g)を室温下に吹き込
み、その後16時間撹拌した。反応混合物を濾過、濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(n−
ヘキサン:酢酸エチル=4:1)にて精製して、目的物
(5.3g、融点48〜50℃、収率77%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 4.13 (2H、s) 5.77 (1H、tt) 7.23〜7.73 (8H、m)
Production Example 29 4-chloro-4 ′-(1,
Preparation of 1,2,2-tetrafluoroethylthiomethylbenzophenone (Compound No. VI-20) 4-Chloro-4'-mercaptomethylbenzophenone (5.0 g) and potassium tert-butoxide (0.9 g) were added to ethanol. (150 ml), and perfluoroethylene (2.9 g) was blown into the mixture at room temperature, followed by stirring for 16 hours. The reaction mixture was filtered and concentrated, and the residue was subjected to silica gel column chromatography- (n-
The product was purified with hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain the desired product (5.3 g, melting point 48-50 ° C., yield 77%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 4.13 (2H, s) 5.77 (1H, tt) 7.23 to 7.73 (8H, m)

【0215】製造例30 4−クロロ−4’−メチルチ
オメチルベンゾフェノン(化合物番号VI−1)の製造 4−ブロモメチル−4’−クロロベンゾフェノン(3.
1g)及び15%メチルメルカプタン−ナトリウム水溶
液(5.6g)をメタノ−ル(150ml)に加え、還
流下に30分間撹拌した。反応混合物を濃縮し、酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。
残渣の固体をn−ヘキサンにて洗い、目的物(2.3
g、融点59〜61℃、収率83%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 2.00 (3H、s) 3.70 (2H、s) 7.13〜7.74 (8H、m)
Production Example 30 Production of 4-chloro-4′-methylthiomethylbenzophenone (Compound No. VI-1) 4-bromomethyl-4′-chlorobenzophenone (3.
1 g) and 15% methyl mercaptan-sodium aqueous solution (5.6 g) were added to methanol (150 ml), and the mixture was stirred under reflux for 30 minutes. The reaction mixture was concentrated and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure.
The residual solid was washed with n-hexane to obtain the desired product (2.3
g, melting point 59-61 ° C., yield 83%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 2.00 (3H, s) 3.70 (2H, s) 7.13 to 7.74 (8H, m)

【0216】製造例31 4−クロロ−4’−メチルス
ルフィニルメチルベンゾフェノン(化合物番号VI−2)
の製造 4−クロロ−4’−メチルチオメチルベンゾフェノン
(4.2g)をメタノール(150ml)に加え、この
溶液に水(20ml)に溶かした過ヨウ素酸ナトリウム
(3.6g)を加え、室温下で16時間撹拌した。反応
混合物を濃縮し、これに水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて
乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣の固体を
n−ヘキサンにて洗い、目的物(4.1g、融点116
〜118℃、収率93%)を得た。H−NMRデータ
(60MHz、CDCl溶媒、δ値) 2.50 (3H、s) 4.00 (2H、s) 7.30〜7.80 (8H、m)
Production Example 31 4-Chloro-4′-methylsulfinylmethylbenzophenone (Compound No. VI-2)
Preparation of 4-chloro-4′-methylthiomethylbenzophenone (4.2 g) was added to methanol (150 ml), sodium periodate (3.6 g) dissolved in water (20 ml) was added to this solution, and the mixture was stirred at room temperature. Stir for 16 hours. The reaction mixture was concentrated, water was added thereto, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residual solid was washed with n-hexane to give the desired product (4.1 g, melting point 116).
˜118 ° C., yield 93%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ value) 2.50 (3H, s) 4.00 (2H, s) 7.30 to 7.80 (8H, m)

【0217】製造例32 4−(3−ブロモプロピル)
スルホニルメチル−4’−クロロベンゾフェノン(化合
物番号VI−11)の製造 4−(3−ブロモプロピル)チオメチル−4’−クロロ
ベンゾフェノン(5.1g)及び31%過酸化水素水
(6g)を酢酸(200ml)に加え、80℃で1時
間、更に還流下に1時間撹拌した。反応混合物を濃縮
し、これに水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ル層を炭酸カリウム水溶液及び水で洗い、無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。
残渣の固体をn−ヘキサンにて洗い、目的物(5.0
g、融点105〜107℃、収率91%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 2.17〜2.60 (2H、m) 3.00〜3.17 (2H、m) 3.53 (2H、t) 4.33 (2H、s) 7.23〜7.87(m、8H)
Production Example 32 4- (3-bromopropyl)
Production of Sulfonylmethyl-4′-chlorobenzophenone (Compound No. VI-11) 4- (3-Bromopropyl) thiomethyl-4′-chlorobenzophenone (5.1 g) and 31% hydrogen peroxide solution (6 g) were added to acetic acid ( 200 ml), and the mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour and further refluxed for 1 hour. The reaction mixture was concentrated, water was added thereto, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with aqueous potassium carbonate solution and water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure.
The residual solid was washed with n-hexane to obtain the desired product (5.0
g, melting point 105-107 ° C., yield 91%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 2.17 to 2.60 (2H, m) 3.00 to 3.17 (2H, m) 3.53 (2H, t) 4.33 (2H, s) 7.23 to 7.87 ( m, 8H)

【0218】製造例33 4−クロロ−4’−(1、1
−ジオキソチオラン−2−イル)ベンゾフェノン(化合
物番号VI−36)の製造 4−(3−ブロモプロピル)スルホニルメチル−4’−
クロロベンゾフェノン(2.5g)及び60%水素化ナ
トリウム(0.3g)をN、N−ジメチルアセトアミド
(70ml)に加え、室温下に16時間撹拌した。反応
混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル
層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エ
チルを減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1)
にて精製し、淡黄色アメ状物質の目的物(1.0g、収
率50%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 2.67〜2.73 (4H、m) 2.87〜3.33 (2H、m) 4.02〜4.37 (1H、m) 7.23〜7.97 (8H、m)
Production Example 33 4-chloro-4 ′-(1,1
Preparation of -dioxothiolan-2-yl) benzophenone (Compound No. VI-36) 4- (3-Bromopropyl) sulfonylmethyl-4'-
Chlorobenzophenone (2.5 g) and 60% sodium hydride (0.3 g) were added to N, N-dimethylacetamide (70 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. Water was added to the reaction mixture, and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue is subjected to silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 1: 1).
To obtain the target product (1.0 g, yield 50%) as a pale yellow candy-like substance. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 2.67 to 2.73 (4H, m) 2.87 to 3.33 (2H, m) 4.02 to 4.37 (1H, m) 7.23 to 7.97 (8H, m)

【0219】製造例34 4−クロロ−4’−(2−ト
リフルオロメチルスルホニルプロピル)ベンゾフェノン
(化合物番号VI−28)の製造 4−クロロ−4’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン(3.3g)及び60%水素化ナトリ
ウム(0.8g)をN、N−ジメチルアセトアミド(1
50ml)に加え、室温下に1時間撹拌した後、この溶
液にヨウ化メチル(0.8g)を加え、室温下で16時
間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムに
て乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸
エチル=4:1)にて精製し、目的物(3.1g、融点
107〜109℃、収率86%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 2.00 (6H、s) 7.20〜7.70 (8H、m)
Production Example 34 Production of 4-chloro-4 ′-(2-trifluoromethylsulfonylpropyl) benzophenone (Compound No. VI-28) 4-chloro-4′-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone (3.3 g) And 60% sodium hydride (0.8 g) were added to N, N-dimethylacetamide (1
50 ml) and stirred at room temperature for 1 hour, methyl iodide (0.8 g) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. Water was added to the reaction mixture, and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain the desired product (3.1 g, melting point 107-109 ° C., yield 86%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 2.00 (6H, s) 7.20 to 7.70 (8H, m)

【0220】製造例35 4−クロロ−4’−チオシア
ナトメチルベンゾフェノン(化合物番号VI−35)の製
造 4−ブロモメチル−4’−クロロベンゾフェノン(5.
7g)及びチオシアン酸ナトリウム(5.5g)をエタ
ノ−ル(50ml)に加え、60℃で1時間撹拌した。
反応混合物を濃縮し、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウム
にて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣の固
体をn−ヘキサン:酢酸エチル=10:1の混合溶媒に
て洗い、目的物(2.2g、融点129〜131℃、収
率42%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 4.18 (2H、s) 7.23〜7.87 (8H、m)
Production Example 35 Production of 4-chloro-4′-thiocyanatomethylbenzophenone (Compound No. VI-35) 4-Bromomethyl-4′-chlorobenzophenone (5.
7 g) and sodium thiocyanate (5.5 g) were added to ethanol (50 ml), and the mixture was stirred at 60 ° C for 1 hr.
The reaction mixture was concentrated, water was added to the residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residual solid was washed with a mixed solvent of n-hexane: ethyl acetate = 10: 1 to obtain the desired product (2.2 g, melting point 129 to 131 ° C., yield 42%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 4.18 (2H, s) 7.23 to 7.87 (8H, m)

【0221】製造例36 2−{4−(4−クロロベン
ゾイル)フェニル}−2−トリフルオロメチルチオマロ
ン酸ジエチル(化合物番号VI−80)の製造 60%水素化ナトリウム(0.5g)をテトラヒドロフ
ラン(150ml)に分散させ、0℃撹拌下、2−{4
−(4−クロロベンゾイル)フェニル}マロン酸ジエチ
ル(4.4g)を滴下した。水素の発生が止んだ後、0
℃にてトリフルオロメチルスルフェニルクロリドを吹き
込み、その後室温にて1時間撹拌した。反応混合物を濃
縮し、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢
酸エチルを減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=8:
1)にて精製し、目的物(4.7g、nD 201.536
2、収率87%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.3 (6H、t) 4.35 (4H、q) 7.4 (2H、d) 7.75 (2H、d) 7.8 (4H、s)
Production Example 36 Production of diethyl 2- {4- (4-chlorobenzoyl) phenyl} -2-trifluoromethylthiomalonate (Compound No. VI-80) 60% sodium hydride (0.5 g) was added to tetrahydrofuran ( 150 ml) and stirred at 0 ° C. under stirring 2- {4
Diethyl-(4-chlorobenzoyl) phenyl} malonate (4.4 g) was added dropwise. 0 after hydrogen generation stops
Trifluoromethylsulfenyl chloride was blown thereinto at 0 ° C, and then the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was concentrated, water was added to the residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 8:
1) and the desired product (4.7 g, n D 20 1.536)
2, yield 87%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.3 (6H, t) 4.35 (4H, q) 7.4 (2H, d) 7.75 (2H, d) 7.8 (4H, s)

【0222】製造例37 4−クロロ−4’−トリクロ
ロメチルチオメチルベンゾフェノン(化合物番号VI−8
1)の製造 4ークロロ−4’−チオシアン酸メチルベンゾフェノン
(5.5g)、トリエチルベンジルアンモニウムクロリ
ド(0.5g)をクロロホルム(30ml)に分散さ
せ、48%水酸化ナトリウム水溶液(4ml)を40℃
で加えた後、そのまま3時間撹拌した。
Production Example 37 4-chloro-4′-trichloromethylthiomethylbenzophenone (Compound No. VI-8
Preparation of 1) 4-chloro-4'-thiocyanic acid methylbenzophenone (5.5 g) and triethylbenzylammonium chloride (0.5 g) were dispersed in chloroform (30 ml), and a 48% sodium hydroxide aqueous solution (4 ml) was added at 40 ° C.
After that, the mixture was stirred as it was for 3 hours.

【0223】冷水を加え、分液し、有機相を水洗し、硫
酸マグネシウムで乾燥した後、クロロホルムを減圧留去
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒ヘキサン:酢酸エチル=9:1混合溶液)により
精製し、目的物(1.0g、融点103〜105℃、収
率13%)を得た H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 4.45 (2H、s) 7.15〜7.8 (8H、m)
Cold water was added, the layers were separated, the organic phase was washed with water and dried over magnesium sulfate, and then chloroform was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent hexane: ethyl acetate = 9: 1 mixed solution) to obtain the desired product (1.0 g, melting point 103 to 105 ° C., yield 13%) 1 H-NMR data. (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 4.45 (2H, s) 7.15 to 7.8 (8H, m)

【0224】製造例38 4−クロル−4’−トリフル
オロメチルスルホニルメチルベンズヒドロール(化合物
番号VIII−2)の製造 4−クロル−4’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン(5.5g)をメタノール(200m
l)に分散し、これに室温下で撹拌しながら水素化ホウ
素ナトリウムを徐々に加え、更に室温で一晩撹拌した。
反応終了後、メタノールを減圧下にて留去した。残査を
酢酸エチル250mlにて抽出した後、これを水洗し、
硫酸マグネシウムにより乾燥した後、減圧下にて酢酸エ
チルを留去した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=2:1混合
溶液)により精製し白色粉末の目的物(4.2g、融点
113〜115℃、収率77% )を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 4.7 (2H、s) 5.77 (2H、s) 7.3 (4H、s) 7.47 (4H、s)
Production Example 38 Production of 4-chloro-4′-trifluoromethylsulfonylmethylbenzhydrol (Compound No. VIII-2) 4-chloro-4′-trifluoromethylsulfonylmethylbenzophenone (5.5 g) was added to methanol. (200m
l), and sodium borohydride was gradually added to this while stirring at room temperature, and the mixture was further stirred at room temperature overnight.
After completion of the reaction, methanol was distilled off under reduced pressure. After the residue was extracted with 250 ml of ethyl acetate, it was washed with water,
After drying with magnesium sulfate, ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent hexane: ethyl acetate = 2: 1 mixed solution) to obtain the desired product as a white powder (4.2 g, melting point 113-115 ° C., yield 77%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 4.7 (2H, s) 5.77 (2H, s) 7.3 (4H, s) 7.47 (4H, s)

【0225】製造例39 4−クロル−4’−エタンス
ルホニルメチルベンズヒドリルクロリド(化合物番号VI
II−5)の製造 4−クロル−4’−エタンスルホニルメチルベンズヒド
ロール(6.0g)、塩化チオニル(5.4g)、トル
エン200ml及び触媒量のN,N−ジメチルホルムア
ミドを加え、撹拌しながら徐々に還流するまで加熱し
た。還流下にて4時間撹拌し、放冷後減圧下にて溶媒を
留去した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=2:1混合溶液)
により精製し、淡黄色アメ状物質の目的物(4.6g、
D 201.6044、収率75%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 1.33 (3H、t) 2.88 (2H、q) 4.37 (2H、s) 6.05 (1H、s) 7.27 (4H、s) 7.35 (4H、s)
Production Example 39 4-Chloro-4'-ethanesulfonylmethylbenzhydryl chloride (Compound No. VI
Preparation of II-5) 4-Chloro-4′-ethanesulfonylmethylbenzhydrol (6.0 g), thionyl chloride (5.4 g), 200 ml of toluene and a catalytic amount of N, N-dimethylformamide were added and stirred. While gradually heating to reflux. The mixture was stirred under reflux for 4 hours, allowed to cool, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue is subjected to silica gel column chromatography (developing solvent hexane: ethyl acetate = 2: 1 mixed solution).
The target product of a light yellow candy-like substance (4.6 g,
n D 20 1.6044, yield 75%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 1.33 (3H, t) 2.88 (2H, q) 4.37 (2H, s) 6.05 (1H, s) 7.27 (4H, s) 7.35 (4H, s)

【0226】製造例40 (6−クロロ−3−ピリジ
ル)(4−トリフルオロメチルチオメチルフェニル)ケ
トン(化合物番号VII−3)の製造 (6−クロロ−3−ピリジル)(4−チオシアナトメチ
ルフェニル)ケトン(5.0g)をテトラヒドロフラン
(300ml)に溶解し、トリフルオロメチルトリメチ
ルシラン(5.0g)を室温で加えた後、5℃まで冷却
した。テトラブチルアンモニウムフルオリド(1.0M
テトラヒドロフラン溶液、23g)を冷却下に徐々に滴
下した後、このまま一晩撹拌した。テトラヒドロフラン
を減圧留去後、残渣を酢酸エチルで抽出した。これを水
洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、酢酸エチルを減
圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(展開溶媒ヘキサン:酢酸エチル=4:1混合溶液)
により精製し、目的物(収量2.0g、nD 201.58
20、収率35%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 4.15 (2H、s) 7.4 (3H、dd) 7.72 (2H、dd) 8.05 (2H、dd) 8.67 (2H、d)
Production Example 40 Production of (6-chloro-3-pyridyl) (4-trifluoromethylthiomethylphenyl) ketone (Compound No. VII-3) (6-chloro-3-pyridyl) (4-thiocyanatomethyl) Phenyl) ketone (5.0 g) was dissolved in tetrahydrofuran (300 ml), trifluoromethyltrimethylsilane (5.0 g) was added at room temperature, and then cooled to 5 ° C. Tetrabutylammonium fluoride (1.0M
Tetrahydrofuran solution (23 g) was gradually added dropwise under cooling, and the mixture was stirred as it was overnight. After tetrahydrofuran was distilled off under reduced pressure, the residue was extracted with ethyl acetate. This was washed with water and dried over magnesium sulfate, and then ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue is subjected to silica gel column chromatography (developing solvent hexane: ethyl acetate = 4: 1 mixed solution).
The product of interest (yield 2.0 g, n D 20 1.58)
20, yield 35%) was obtained. 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 4.15 (2H, s) 7.4 (3H, dd) 7.72 (2H, dd) 8.05 (2H, dd) 8.67 (2H, d)

【0227】製造例41 4−クロロ−4’−ヒドロキ
シメチルベンゾフェノン−N’−メトキシカルボニルヒ
ドラゾン(化合物番号IX−1)の製造 4−クロロ−4’−ヒドロキシメチルベンゾフェノン
(0.5g)及びメチル−カルバゼート(0.4g)を
エタノール(60ml)及び酢酸(5ml)に加え、還
流下に19時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残渣を
酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水
硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)にて精製し、目
的物(0.5g、収率83%)を得た。 H−NMRデータ(60MHz、CDCl溶媒、δ
値) 2.17 (1H、br) 3.77 (3H、s) 4.63、4.73 (2H、s、s) 6.97〜7.63 (8H、m) 7.73 (1H、br)
Production Example 41 Production of 4-chloro-4′-hydroxymethylbenzophenone-N′-methoxycarbonylhydrazone (Compound No. IX-1) 4-chloro-4′-hydroxymethylbenzophenone (0.5 g) and methyl- Carbazate (0.4 g) was added to ethanol (60 ml) and acetic acid (5 ml), and the mixture was stirred under reflux for 19 hours. The reaction mixture was concentrated and the residue was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain the desired product (0.5 g, yield 83%). 1 H-NMR data (60 MHz, CDCl 3 solvent, δ
Value) 2.17 (1H, br) 3.77 (3H, s) 4.63, 4.73 (2H, s, s) 6.97 to 7.63 (8H, m) 7.73 (1H, br)

【0228】本発明化合物を有害生物防除剤の有効成分
として使用するに際しては、本発明化合物それ自体で用
いてもよいが、農薬補助剤として製剤化に一般的に用い
られる担体、界面活性剤、及びその他補助剤を配合し
て、乳剤、懸濁剤、粉剤、粒剤、錠剤、水和剤、水溶
剤、液剤、フロアブル剤、顆粒水和剤、エアゾール剤、
ペースト剤、油剤、乳濁剤等の種々の形態に製剤するこ
とができる。これらの配合割合は通常、有効成分0.1
〜90重量部で農薬補助剤10〜99.9重量部であ
る。
When the compound of the present invention is used as an active ingredient of a pest control agent, the compound of the present invention may be used as it is, but a carrier, a surfactant, or a carrier generally used for formulation as an agrochemical adjuvant, And other auxiliary agents are mixed to prepare emulsions, suspensions, powders, granules, tablets, wettable powders, aqueous solutions, liquids, flowables, wettable granules, aerosols,
It can be formulated into various forms such as pastes, oils and emulsions. The mixing ratio of these is usually 0.1 active ingredient.
.About.90 parts by weight and 10 to 99.9 parts by weight of the agricultural chemical adjuvant.

【0229】ここにいう製剤化に際して用いられる担体
としては、固体担体と液体担体に分けられる。固体担体
としては、例えば澱粉、活性炭、大豆粉、小麦粉、木
粉、魚粉、粉乳等の動植物性粉末、タルク、カオリン、
ベントナイト、炭酸カルシウム、ゼオライト、珪藻土、
ホワイトカーボン、クレー、アルミナ等の鉱物性粉末が
挙げられる。液体担体としては、例えば水、イソプロピ
ルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、
シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ケロ
シン、軽油等の脂肪族炭化水素類、キシレン、トリメチ
ルベンゼン、テトラメチルベンゼン、メチルナフタリ
ン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルアセトアミ
ド等の酸アミド類、脂肪酸のグリセリンエステル等のエ
ステル類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルス
ルホキシド等の含硫化合物類等が挙げられる。
[0229] The carriers used for formulation herein are classified into solid carriers and liquid carriers. As the solid carrier, for example, starch, activated carbon, soybean flour, wheat flour, wood flour, fish meal, powdered animal or vegetable powder such as milk powder, talc, kaolin,
Bentonite, calcium carbonate, zeolite, diatomaceous earth,
Mineral powders such as white carbon, clay and alumina can be used. Examples of the liquid carrier include water, alcohols such as isopropyl alcohol and ethylene glycol,
Ketones such as cyclohexanone and methyl ethyl ketone,
Dioxane, ethers such as tetrahydrofuran, kerosene, aliphatic hydrocarbons such as light oil, xylene, trimethylbenzene, tetramethylbenzene, methylnaphthalene, aromatic hydrocarbons such as solvent naphtha, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, Examples thereof include acid amides such as dimethylacetamide, esters such as glycerin ester of fatty acid, nitriles such as acetonitrile, and sulfur-containing compounds such as dimethyl sulfoxide.

【0230】界面活性剤としては、例えばアルキルベン
ゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸
金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリール
スルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチ
レングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキル
アリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノ
アルキレート等が挙げられる。
Examples of the surfactant include alkylbenzene sulfonic acid metal salt, dinaphthylmethane disulfonic acid metal salt, alcohol sulfate ester salt, alkylaryl sulfonate, lignin sulfonate, polyoxyethylene glycol ether, polyoxyethylene alkyl. Examples include aryl ethers and polyoxyethylene sorbitan monoalkylates.

【0231】その他の補助剤としては、例えばカルボキ
シメチルセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリ
ウム、グアーガム、トラガントガム、ポリビニルアルコ
ール等の固着剤あるいは増粘剤、金属石鹸等の消泡剤、
脂肪酸、アルキルリン酸塩、シリコーン、パラフィン等
の物性向上剤、着色剤等を用いることができる。
Other auxiliary agents include, for example, carboxymethyl cellulose, gum arabic, sodium alginate, guar gum, tragacanth gum, polyvinyl alcohol and other fixing agents or thickeners, metal soap and other defoaming agents,
Physical property improvers such as fatty acids, alkyl phosphates, silicones and paraffins, colorants and the like can be used.

【0232】これらの製剤の実際の使用に際しては、そ
のまま使用するか、又は水等の希釈剤で所定濃度に希釈
して使用することができる。本発明化合物を含有する種
々の製剤、又はその希釈物の施用は、通常一般に行なわ
れている施用方法、即ち、散布(例えば噴霧、ミスティ
ング、アトマイジング、散粉、散粒、水面施用、箱施用
等)、土壌施用(例えば混入、灌注等)、表面施用(例
えば塗布、粉衣、被覆等)、浸漬、毒餌等により行うこ
とができる。また、家畜に対して前記有効成分を飼料に
混合して与え、その排泄物での有害虫、特に有害昆虫の
発生、成育を防除することも可能である。また、いわゆ
る超高濃度少量散布法により施用することもできる。こ
の方法においては、活性成分を100%含有することが
可能である。
In the actual use of these preparations, they can be used as they are or diluted with a diluent such as water to a predetermined concentration. Application of various preparations containing the compound of the present invention, or a dilution thereof, is a generally applied application method, that is, spraying (for example, spraying, misting, atomizing, dusting, granulation, water surface application, box application). Etc.), soil application (for example, mixing, irrigation, etc.), surface application (for example, application, dressing, coating, etc.), dipping, poison bait and the like. It is also possible to feed the livestock with the above-mentioned active ingredient mixed with feed to control the generation and growth of harmful insects, especially harmful insects, in the excrement thereof. It can also be applied by a so-called ultra-high concentration small amount application method. In this method, it is possible to contain 100% of the active ingredient.

【0233】本発明の有害生物防除剤の施用は、一般に
0.1〜50000ppm、望ましくは1〜10000
ppmの有効成分濃度で行なう。
Application of the pest control agent of the present invention is generally 0.1 to 50000 ppm, preferably 1 to 10000.
Perform at an active ingredient concentration of ppm.

【0234】有効成分濃度は、製剤の形態及び施用する
方法、目的、時期、場所及び有害生物の発生状況等によ
って適当に変更できる。例えば水生有害生物の場合、上
記濃度範囲の薬液を発生場所に散布しても防除できるこ
とから、水中での有効成分濃度範囲は上記以下である。
単位面積あたりの施用量は1ha当り、有効成分化合物
として0.1〜5000g、好ましくは1〜1000g
が使用されるが、これらに限定されるものではない。
The concentration of the active ingredient can be appropriately changed depending on the form of the preparation, the method of application, the purpose, the time, the place, the state of generation of pests and the like. For example, in the case of aquatic pests, it can be controlled even by spraying a drug solution having the above concentration range to the place of occurrence, so the concentration range of the active ingredient in water is the above or less.
The amount applied per unit area is 0.1 to 5000 g, preferably 1 to 1000 g as an active ingredient compound per ha.
Are used, but are not limited thereto.

【0235】尚、本発明化合物は単独でも十分有効であ
ることはいうまでもないが、必要に応じて他の肥料、農
薬、例えば殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウ
イルス剤、誘引剤、除草剤、植物成長調整剤などと混
用、併用することができ、この場合に一層優れた効果を
示すこともある。
Needless to say, the compound of the present invention is sufficiently effective alone, but if necessary, other fertilizers, pesticides such as insecticides, acaricides, nematicides, fungicides, and antibacterial agents are used. It can be mixed and used in combination with a virus agent, an attractant, a herbicide, a plant growth regulator and the like, and in this case, a more excellent effect may be exhibited.

【0236】本発明化合物と混合して使用できる殺虫
剤、殺菌剤、殺ダニ剤等の代表例を以下に示す。
Typical examples of insecticides, fungicides, acaricides and the like which can be used by mixing with the compound of the present invention are shown below.

【0237】例えば有機リン及びカーバメート系殺虫
剤:フェンチオン、フェニトロチオン、ダイアジノン、
クロルピリホス、オキシデプロホス、バミドチオン、フ
ェントエート、ジメトエート、ホルモチオン、マラチオ
ン、トリクロルホン、チオメトン、ホスメット、ジクロ
ルボス、アセフェート、EPBP、メチルパラチオン、
オキシジメトンメチル、エチオン、ジオキサベンゾホ
ス、シアノホス、イソキサチオン、ピリダフェンチオ
ン、ホサロン、メチダチオン、スルプロホス、クロルフ
ェンビンホス、テトラクロルビンホス、ジメチルビンホ
ス、プロパホス、イソフェンホス、ジスルホトン、プロ
フェノホス、ピラクロホス、モノクロトホス、アジンホ
スメチル、アルジカルブ、メソミル、チオジカルブ、カ
ルボフラン、カルボスルファン、ベンフラカルブ、フラ
チオカルブ、プロポキスル、フェノブカルブ、メトルカ
ルブ、イソプロカルブ、カルバリル、ピリミカーブ、エ
チオフェンカルブ、ジクロフェンチオン、ピリミホスメ
チル、キナルホス、クロルピリホスメチル、プロチオホ
ス、ナレッド、EPN、XMC、ベンダイオカルブ、オ
キサミル、アラニカルブ、クロルエトキシホス等。
For example, organophosphorus and carbamate insecticides: fenthion, fenitrothion, diazinon,
Chlorpyrifos, oxydeprophos, bamidothion, fentoate, dimethoate, formothion, malathion, trichlorfon, thiomethone, phosmet, dichlorvos, acephate, EPBP, methylparathion,
Oxydimethone methyl, ethione, dioxabenzophos, cyanophos, isoxathion, pyridafenthion, phosalone, methidathion, sulprophos, chlorfenbinphos, tetrachlorovinphos, dimethylbinphos, propaphos, isofenphos, disulfoton, profenophos, pyraclofos, monocrotophos, Azinphos-methyl, aldicarb, mesomil, thiodicarb, carbofuran, carbosulfan, benfulacarb, fratiocarb, propoxur, fenobucarb, metolcarb, isoprocarb, carbaryl, pirimicarb, ethiophencarb, diclofenthion, pirimiphosmethyl, quinalphos, chlorpyrifosmethyl, prothiophos, nared, nared, nared, Iocarb, oxamyl, alanical , Such as chlorobutyl host.

【0238】ピレスロイド系殺虫剤:ペルメトリン、シ
ペルメトリン、デルタメトリン、フェンバレレート、フ
ェンプロパトリン、ピレトリン、アレスリン、テトラメ
トリン、レスメトリン、ジメスリン、プロパスリン、フ
ェノトリン、プロトリン、フルバリネート、シフルトリ
ン、シハロトリン、フルシトリネート、エトフェンプロ
ックス、シクロプロトリン、トラロメトリン、シラフル
オフェン、テフルトリン、ビフェントリン、アクリナト
リン等。
Pyrethroid insecticides: permethrin, cypermethrin, deltamethrin, fenvalerate, fenpropatrine, pyrethrin, allethrin, tetramethrin, resmethrin, dimethrin, propasulin, phenothrin, prothrin, fluvalinate, cyfluthrin, cyhalothrin, flucitrinate, etholin. Fenprox, cycloprothrin, tralomethrin, silafluofen, tefluthrin, bifenthrin, acrinathrin, etc.

【0239】アシルウレア系、その他の殺虫剤:ジフル
ベンズロン、クロルフルアズロン、ヘキサフルムロン、
トリフルムロン、テフルベンズロン、フルフェノクスロ
ン、フルシクロクスロン、ブプロフェジン、ピリプロキ
シフェン、ルフェヌロン、シロマジン、メトプレン、エ
ンドスルファン、ジアフェンチウロン、イミダクロプリ
ド、フィプロニル、硫酸ニコチン、ロテノン、メタアル
デヒド、マシン油、BTや昆虫病原ウイルス等の微生物
農薬、フェノキシカルブ、カルタップ、チオシクラム、
ベンスルタップ、テブフェノジド、クロルフェナピル、
エマメクチンベンゾエート、アセタミプリド、ニテンピ
ラム、ピメトロジン、オレイン酸ナトリウム、なたね油
等。
Acyl urea-based and other insecticides: diflubenzuron, chlorfluazuron, hexaflumuron,
Triflumuron, teflubenzuron, flufenoxuron, flucycloxuron, buprofezin, pyriproxyfen, rufenuron, cyromazine, methoprene, endosulfan, diafenthiuron, imidacloprid, fipronil, nicotine sulfate, rotenone, methaaldehyde, machine oil, BT and insects Microbial pesticides such as pathogenic viruses, phenoxycarb, cartap, thiocyclam,
Bensultap, tebufenozide, chlorfenapyr,
Emamectin benzoate, acetamiprid, nitenpyram, pymetrozine, sodium oleate, rapeseed oil, etc.

【0240】殺線虫剤:フェナミホス、ホスチアゼー
ト、エトプロホス、メチルイソチオシアネート、1,3
−ジクロロプロペン、DCIP等。
Nematicides: fenamiphos, fosthiazate, etoprophos, methyl isothiocyanate, 1,3
-Dichloropropene, DCIP and the like.

【0241】殺ダニ剤:クロルベンジレート、フェニソ
ブロモレート、ジコホル、アミトラズ、プロパルギッ
ト、ベンゾメート、ヘキシチアゾクス、フェンブタチン
オキシド、ポリナクチン、キノメチオネート、クロルフ
ェンソン、テトラジホン、アバメクチン、ミルベメクチ
ン、クロフェンテジン、ピリダベン、フェンピロキシメ
ート、テブフェンピラド、ピリミジフェン、フェノチオ
カルブ、ジエノクロル、エトキサゾール、ハルフェンプ
ロックス等。
Acaricides: chlorbenzilate, phenisobromolate, dicofol, amitraz, propargite, benzomate, hexithiazox, fenbutatin oxide, polynactin, quinomethionate, chlorfensone, tetradiphone, abamectin, milbemectin, clofentezine, pyridaben. , Fenpyroximate, tebufenpyrad, pyrimidifen, phenothiocarb, dienochlor, etoxazole, halfenprox, etc.

【0242】殺菌剤:チオファネートメチル、ベノミ
ル、カルベンダゾール、チアベンダゾール、フォルペッ
ト、チウラム、ジラム、ジネブ、マンネブ、マンゼブ、
ポリカーバメート、イプロベンホス、エジフェンホス、
フサライド、プロベナゾール、イソプロチオラン、クロ
ロタロニル、キャプタン、ポリオキシン、ブラストサイ
ジンS、カスガマイシン、ストレプトマイシン、バリダ
マイシン、トリシクラゾール、ピロキロン、フェナジン
オキシド、メプロニル、フルトラニル、ペンシクロン、
イプロジオン、ヒメキサゾール、メタラキシル、トリフ
ルミゾール、トリホリン、トリアジメホン、ビテルタノ
ール、フェナリモル、プロピコナゾール、シモキサニ
ル、プロクロラズ、ペフラゾエート、ヘキサコナゾー
ル、ミクロブタニル、ジクロメジン、テクロフタラム、
プロピネブ、ジチアノン、ホセチル、ビンクロゾリン、
プロシミドン、オキサジキシル、グアザチン、プロパモ
カルブ塩酸塩、フルアジナム、オキソリニック酸、ヒド
ロキシイソキサゾール、イミベンコナゾール、ジフェノ
コナゾール、メパニピリム等。
Fungicides: thiophanate methyl, benomyl, carbendazole, thiabendazole, folpet, thiuram, ziram, zineb, manneb, manzeb,
Polycarbamate, iprobenphos, edifenphos,
Fusalide, probenazole, isoprothiolane, chlorothalonil, captan, polyoxin, blasticidin S, kasugamycin, streptomycin, validamycin, tricyclazole, pyroquilon, phenazine oxide, mepronil, flutolanil, penciclone,
Iprodione, Hymexazole, Metalaxyl, Triflumizole, Triphorine, Triadimefon, Vitertanol, Fenalimol, Propiconazole, Simoxanil, Prochloraz, Pefurazoate, Hexaconazole, Microbutanyl, Diclomedine, Tecloftalam,
Propineb, dithianon, fosetyl, vinclozolin,
Procymidone, oxadixyl, guazatine, propamocarb hydrochloride, fluazinam, oxolinic acid, hydroxyisoxazole, imibenconazole, difenoconazole, mepanipyrim and the like.

【0243】本発明の化合物は、半翅目害虫、鱗翅目害
虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害
虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植
物寄生性線虫類等の害虫に対して、優れた防除効果を示
す。そのような害虫の例としては、以下の如き害虫類を
例示することができる。
The compounds of the present invention are used for hemiptera pests, lepidopteran pests, coleopteran pests, diptera pests, hymenoptera pests, orthoptera pests, termite pests, thrips pests, spider mites and plant parasites. It shows an excellent control effect against harmful insects such as sex nematodes. Examples of such pests include the following pests.

【0244】半翅目害虫、例えばホソヘリカメムシ(R
iptortus clavatus)、ミナミアオカ
メムシ(Nezara viridula)、メクラカ
メムシ類(Lygus sp.)、アメリカコバネナガ
カメムシ(Blissusleucopterus)、
ナシグンバイ(Stephanitis nashi)
等のカメムシ類(異翅類;HETEROPTERA)、
ツマグロヨコバイ(Nephotettix cinc
ticeps)、ヒメヨコバイ類(Empoasca
sp., Erythroneura sp.,Cir
culifer sp.)等のヨコバイ類、トビイロウ
ンカ(Nilaparvata lugens)、セジ
ロウンカ(Sogatella furcifer
a)、ヒメトビウンカ(Laodelphax str
iatellus)等のウンカ類、Psylla s
p.等のキジラミ類、タバココナジラミ(Bemisi
atabaci)、オンシツコナジラミ(Triale
urodes vaporariorum)等のコナジ
ラミ類、ブドウネアブラムシ(Viteus viti
folii)、モモアカアブラムシ(Myzus pe
rsicae)、リンゴアブラムシ(Aphis po
mi)、ワタアブラムシ(Aphis gossypi
i)、Aphis fabae、ニセダイコンアブラム
シ(Rhopalosiphum psedobras
sicas)、ジャガイモヒゲナガアブラムシ(Aul
acorthum solani)、ムギミドリアブラ
ムシ(Schizaphis graminum)等の
アブラムシ類、クワコナカイガラムシ(Pseudoc
occus comstocki)、ルビーロウムシ
(Ceroplastes rubens)、サンホー
ゼカイガラムシ(Comstockaspis per
niciosa)、ヤノネカイガラムシ(Unaspi
s yanonensis)等のカイガラムシ類、サシ
ガメ(Rhodnius sp.)等。
Hemiptera pests, such as the beetle bug (R
iptortus clavatus), southern green stink bug (Nezara viridula), stink bug (Lygus sp.), American beetle stink bug (Blissusleucopterus),
Nasigumbai (Stephanitis nashi)
Stink bugs (Heteroptera; HETEROPTERA),
Nephotettix cinc
rice, rice leafhoppers (Empoasca)
sp. , Erythroneura sp. , Cir
culifer sp. ) Such as leafhoppers, brown planthoppers (Nilaparvata lugens), and sedge planters (Sogatella furcifer)
a), Larvae plant, Laodelphax str
plants such as iatellus), Psylla s
p. And other whiteflies, Bemisi tabaci (Bemisi)
atabaci), Whitefly Whitefly (Triale)
Whiteflies such as urodes vapororium, Vineus aphid
folii), green peach aphid (Myzus pe)
rsicae), apple aphid (Aphis po)
mi), Aphis gossypii
i), Aphis fabae, Rhopalosiphum psedoboras
sicas), Potato aphid (Aul)
aphids such as Acorthum solani) and Schizophis graminum, Pseudoc
occus comstocki), ruby weevil (Ceroplastes rubens), San Jose pea insect (Comstockockaspis per)
niciosa), the scale insect (Unaspi)
syannonsis) and other scale insects, as well as Triggered turtles (Rhodnius sp.) and the like.

【0245】鱗翅目害虫、例えばチャハマキ(Homo
na magnanima)、コカクモンハマキ(Ad
oxophyes orana)、テングハマキ(Sp
arganothis pilleriana)、ナシ
ヒメシンクイ(Grapholitha molest
a)、マメシンクイガ(Leguminivoragl
ycinivorella)、コドリンガ(Laspe
yresia pomonella)、Eucosma
sp.、Lobesia botrana等のハマキ
ガ類、ブドウホソハマキ(Eupoecillia a
mbiguella)等のホソハマキガ類、Bamba
lina sp.等のミノガ類、コクガ(Nemapo
gon granellus)、イガ(Tinea t
ranslucens)等のヒロズコガ類、ギンモンハ
モグリガ(Lyonetiaprunifoliell
a)等のハモグリガ類、キンモンホソガ(Phyllo
norycter rigoniella)等のホソガ
類、ミカンハモグリガ(Phyllocnistis
citrella)等のコハモグリガ類、コナガ(Pl
utella xylostella)、Prays
citri等のスガ類、ブドウスカシバ(Parant
hrene regalis)、Synanthedo
n sp.等のスカシバガ類、ワタアカミムシ(Pec
tinophora gossypiella)、ジャ
ガイモガ(Phthorimaea opercule
lla)、Stomopteryx sp.等のキバガ
類、モモシンクイガ(Carposina nipon
ensis)等のシンクイガ類、イラガ(Monema
flavescens)等のイラガ類、ニカメイガ
(Chilo suppressalis)、コブノメ
イガ(Cnaphalocrocis medinal
is)、Ostrinia nubilalis、アワ
ノメイガ(Ostrinia furnacalis)
、ハイマダラノメイガ(Hellula undal
is)、ハチミツガ(Galleriamellone
lla)、Elasmopalpus lignose
llus、Loxostege sticticali
s等のメイガ類、モンシロチョウ(Pieris ra
pae)等のシロチョウ類、ヨモギエダシャク(Asc
otis selenaria)等のシャクガ類、オビ
カレハ(Malacosoma neustria)等
のカレハガ類、Manduca sexta等のスズメ
ガ類、チャドクガ(Euproctis pseudo
conspersa)、マイマイガ(Lymantri
a dispar)等のドクガ類、アメリカシロヒトリ
(Hyphantria cunea)等のヒトリガ
類、タバコバッドワーム(Heliothis vir
escens)、ボールワーム(Helicoverp
a zea)、シロイチモジヨトウ(Spodopte
raexigua)、オオタバコガ(Helicove
rpa armigera)、ハスモンヨトウ(Spo
doptera litura)、ヨトウガ(Mame
stra brassicae)、タマナヤガ(Agr
otis ipsiron)、アワヨトウ(Pseud
aletia separata)、イラクサキンウワ
バ(Trichoplusia ni)等のヤガ類等。
Lepidopteran pests such as chamomaki (Homo
na magnanima)
oxophies orana), Tenguhamaki (Sp
arganothis pilleriana), Nasihimeshingui (Grapholitha molest)
a), Legume minivoragl
ycinivorella), codling moth (Laspe)
yresia pomonella), Eucosma
sp. , Lobesia botrana, etc., Grape biloba (Eupoecilia a)
Mbiguella) and other leaf tortoises, Bamba
lina sp. And other minnows, Nempo (Nemapo)
gon granellus, iga (Tineat)
ranslucens, etc., Lymenetia prunifolia
a) and other leafminers, P. sylvestris (Phyllo)
lycaenidae such as norycter rigoniella, citrus fruit moth (Phyllocnistis)
Citrella, etc., Plutella xylostella, Plutella xylostella (Pl.)
utella xylostella), Plays
Stags such as citri, grape mosquito (Parant)
hrene regalis), Synanthedo
n sp. Etc., etc., Cotton bollworm (Pec)
Tinophora gossypiella), potato moth (Phthorimaea operacule)
lla), Stomopteryx sp. Carposa nipon (Carposina nipon)
Engas and other sink moths, Iraga (Monema)
Iraga species such as flavescens, Chilo supressalis, Cnaphalocross medical
is), Ostrinia nubilalis, and Acorn borer (Ostrinia furnacalis)
, Hellula undal
is), Honey hemlock (Galleria marillone)
lla), Elasmopalpus lignose
llus, Loxostage sticticali
Common moths such as s, Pieris ra (Pieris ra)
Pae), butterflies such as
otis selenaria) and other oak moths, Obicareha (Malacosoma neustria) and other caryoga, Manduca sexta and other sphagnum moths, and Euphortis pseudo
conspersa), gypsy moth (Lymantri)
a dispar) and the like, Hypotria cunea and other tobacco triggers, and tobacco budworms (Heliothis vir)
escens), ball worm (Helicoverp)
a zea), Spodoptera (Spodopte)
raexigua), Helicover
rpa armigera), Spodoptera litura (Spo)
doptera litura), Spodoptera frugiperda (Mame)
stra brassicae), Tamanayaga (Agr)
otis ipsiron), armyworm (Pseud)
algae such as aletia separa) and nettle peach (Trichoplusia ni).

【0246】鞘翅目害虫、例えばドウガネブイブイ(A
nomala cuprea)、マメコガネ(Popi
llia japonica)、ヒメコガネ(Anom
ala rufocuprea)、Eutheola
rugiceps等のコガネムシ類、ワイヤーワーム
(Agriotes sp.)、Conodeus s
p.等のコメツキムシ類、ニジュウヤホシテントウ(E
pilachna vigintioctopunct
ata)、インゲンテントウムシ(Epilachna
varivestis)等のテントウムシ類、コクヌ
ストモドキ(Tribolium castaneu
m)等のゴミムシダマシ類、ゴマダラカミキリ(Ano
plophora malasiaca)、マツノマダ
ラカミキリ(Monochamus alternat
us)等のカミキリムシ類、インゲンマメゾウムシ(A
canthoscelides obtectus)、
アズキゾウムシ(Callosobruchus ch
inensis)等のマメゾウムシ類、コロラドハムシ
(Leptinotarsa decemlineat
a)、コーンルートワーム(Diabrotica s
p.)、イネドロオイムシ(Oulema oryza
e)、テンサイトビハムシ(Chaetocnema
concinna)、Phaedon cochlea
rias、Oulema melanopus、Dic
ladispa armigera等のハムシ類、Ap
ion godmani等のホソクチゾウムシ類、イネ
ミズゾウムシ(Lissorhoptrus oryz
ophilus)、ワタミゾウムシ(Anthonom
us grandis)等のゾウムシ類、コクゾウムシ
(Sitophilus zeamais)等のオサゾ
ウムシ類、キクイムシ類、カツオブシムシ類、シバンム
シ類等。
Pests of the order Coleoptera, such as the hemlock buoy (A
Nomala cuprea, Japanese beetle (Popi)
llia japonica), Japanese beetle (Anom)
ala rufocuprea), Eutheola
Scarab beetles such as rugieps, wireworms (Agriotes sp.), Conodeus s
p. Click beetles such as
pilachna vignioctopunct
ata), green ladybird (Epilachna)
varivestis) and other ladybirds, Tribium castaneu
m) etc., Tenebrionidae, stag beetle (Ano
Plophora malasiasia), Pine horned beetle (Monochamus alternat)
us) and other beetles, common bean weevil (A)
canthoscelides obtectus),
Azuki bean weevil (Callosobruchus ch
inensis and other bean weevils, Colorado potato beetle (Leptinotarsa decemlineat)
a), Corn root worm (Diabroticas)
p. ), Oedema oryza (Oulema oryza)
e), the beetle Beetle (Chaetocnema)
concinna), Phaedon cochlea
rias, Oulema melanopus, Dic
Chrysomelidae such as ladispa armigera, Ap
Weevil weevil (Lionthorptus oryz) such as ion godmani
opilius), Boll Weevil (Anthonom)
weevil such as us grandis, weevil such as weevil (Sitophilus zeamais), bark beetles, beetles, beetles and the like.

【0247】双翅目害虫、例えばキリウジガガンボ(T
ipra ano)、イネユスリカ(Tanytars
us oryzae)、イネシントメタマバエ(Ors
eolia oryzae)、チチュウカイミバエ(C
eratitis capitata)、イネミギワバ
エ(Hydrellia griseola)、オウト
ウショウジョウバエ(Drosophila suzu
kii)、フリッツフライ(Oscinella fr
it)、イネカラバエ(Chlorops oryza
e)、インゲンモグリバエ(Ophiomyia ph
aseoli)、マメハモグリバエ(Liriomyz
a trifolii)、アカザモグリハナバエ(Pe
gomya hyoscyami)、タネバエ(Hyl
emiaplatura)、ソルガムフライ(Athe
rigona soccata)、イエバエ(Musc
a domestica)、ウマバエ(Gastrop
hilus sp.)、サシバエ(Stomoxys
sp.)、ネッタイシマカ(Aedes aegypt
i)、アカイエカ(Culex pipiens)、シ
ナハマダラカ(Anopheles slnensi
s)、コガタアカイエカ(Culex tritaen
iorhynchus)等。
Diptera pests, such as, for example
ipra ano), rice chironomid (Tanytars)
us oryzae), rice cinnamome fly (Ors)
eolia oryzae), fruit fly (C
eratitis capitata), rice flesh fly (Hydrellia griseola), sweet fruit fly (Drosophila suzu)
kii), Fritz fry (Oscinella fr)
it), rice fly (Chlorops oryza)
e), common bean flies (Ophiomyia ph)
aseoli), bean leafhopper (Liriomyz)
a trifolii), Pleurotus cornucopiae (Pe
gomya hyoscyami), fly (Hyl)
emiaplatura), sorghum fry (Athe)
Rigona soccata, Housefly (Musc)
a domestica), botfly (Gastrop)
hilus sp. ), Fly (Stomoxys)
sp. ), Aedes aegypt
i), Culex pipiens, Anopheles slennesi
s), Culex tritaen
iorhynchus) etc.

【0248】膜翅目害虫、例えばクキバチ類(Ceph
us sp.)、カタビロコバチ類(Harmolit
a sp.)、カブラハバチ類(Athalia s
p.)、スズメバチ類(Vespa sp.)、ファイ
アーアント類等。
Hymenoptera pests, for example, honeybees (Ceph)
us sp. ), Anterior wasps (Harmolit)
a sp. ), Turnip bees (Athalia s)
p. ), Wasps (Vespa sp.), Fire ants and the like.

【0249】直翅目害虫、例えばチャバネゴキブリ(B
latella germanica)、ワモンゴキブ
リ(Periplaneta americana
)、ケラ(Gryllotalpa african
a)、バッタ(Locustamigratoria
migratoriodes)、Melanoplus
sanguinipes等。
Orthoptera pests such as German cockroach (B
latera germanica), American cockroach (Periplaneta americana)
), Kera (Gryllotalpa african)
a), grasshopper (Locustamigratoria)
migratriodes), Melanoplus
sanguinipes and the like.

【0250】シロアリ目害虫、例えば、ヤマトシロアリ
(Reticulitermessperatus)、
イエシロアリ(Coptotermes formos
anus)等。
Termite pests, for example, Reticulitermes speratus,
Yellow termites (Coptothermes formos)
anus) etc.

【0251】アザミウマ目害虫、例えば、チャノキイロ
アザミウマ(Scirtothrips dorsal
is)、ミナミキイロアザミウマ(Thrips pa
lmi)、クロトンアザミウマ(Heliothrip
s haemorrhoidalis)、ミカンキイロ
アザミウマ(Frankliniella occid
entalis)、イネクダアザミウマ(Haplot
hrips aculeatus)等。
Pests of the thrips order, for example, Thrips thrips dorsal
is), Thrips palmi Thrips pa
lmi), croton thrips (Heliothrip)
s haemorrhoidalis), orange thrips (Frankliniella occid)
entalis), rice thrips (Haplot)
rips auretus) etc.

【0252】ハダニ類、例えばナミハダニ(Tetra
nychus urticae)、カンザワハダニ(T
etranychus kanzawai)、ミカンハ
ダニ(Panonychus citri)、リンゴハ
ダニ(Panonychusulmi)、イエローマイ
ト(Eotetranychus carpini)、
テキサスシトラスマイト(Eotetranychus
banksi)、ミカンサビダニ(Phylloco
ptruta oleivora)、チャノホコリダニ
(Polyphagotarsonemus latu
s)、ヒメハダニ(Brevipalpus s
p.)、ロビンネダニ(Rhizoglyphus r
obini)、ケナガコナダニ(Tyrophagus
putrescentiae)等。
Mite species, such as the spider mite (Tetra)
nychus urticae), Kanzawa spider mite (T
etranychus kanzawa), citrus red mite (Panynychus citri), apple mite (Panynychusulmi), yellow mite (Eotetranychus carpini),
Texas Citrus Might (Eotetranychus)
banksi), citrus rust mite (Phylloco)
Ptruta oleivora), Polyphagota sononemus latu
s), Red Mite (Brevipalpus s)
p. ), Robin Dite (Rhizoglyphus r
obini), Plutella xylostella (Tyrophagus)
putrescentiae) and the like.

【0253】植物寄生性線虫類、例えばサツマイモネコ
ブセンチュウ(Meloidogyne incogn
ita)、ネグサレセンチュウ(Pratylench
ussp.)、ダイズシストセンチュウ(Hetero
dera glycines)、イネシンガレセンチュ
ウ(Aphelenchoides bessey
i)、マツノザイセンチュウ(Bursaphelen
chus xylophilus)等。
Plant parasitic nematodes, for example, Meloidogyne incogn
ita), Negusaaresenchu (Pratylench)
ussp. ), Soybean cyst nematode (Hetero)
dera glycines), rice garlic nematodes (Aphelenchoides bessey)
i), Bursaphelen
chus xylophilus) and the like.

【0254】その他有害動物、不快動物、衛生害虫、寄
生虫、例えばスクミリンゴガイ(Pomacea ca
naliculata)、ナメクジ(Incilari
asp.)、アフリカマイマイ(Achatina f
ulica)等の腹足綱類(Gastropoda)、
ダンゴムシ(Armadillidium sp.)、
ワラジムシ、ムカデ等の等脚目類(Isopoda)、
Liposcelis sp.等のチャタテムシ類、C
tenolepisma sp.等のシミ類、Pule
x sp.、Ctenocephalides sp.
等のノミ類、Trichodectes sp.等のハ
ジラミ類、Cimex sp.等のトコジラミ類、オウ
シマダニ(Boophilus microplu
s)、フタトゲチマダニ(Haemaphysalis
longicornis)等の動物寄生性ダニ類、ヒ
ョウヒダニ類等を挙げることができる。
Other pests, unpleasant animals, sanitary pests, and parasites, for example, Pomacea ca
naliculata), slugs (Incilari)
asp. ), African Maimai (Achatina f
Gastropoda, such as Ulica),
Pill bug (Armadillidium sp.),
Walleye bug, centipede and other isopods (Isopoda),
Liposcelis sp. Etc., C, etc.
tenolepisma sp. Spots such as Pule
x sp. , Ctenocephalides sp.
Fleas such as Trichodectes sp. Hazels such as Cimex sp. And other bed bugs, Boophilus microplus
s), Haemaphysalis
long-lived mites such as longicornis) and Dermatophagoides farinae can be mentioned.

【0255】更に、有機リン系化合物、カーバメート系
化合物、合成ピレスロイド系化合物、アシルウレア系化
合物あるいは既存の殺虫剤に抵抗性を示す害虫に対して
も有効である。
Further, it is also effective against organic phosphorus compounds, carbamate compounds, synthetic pyrethroid compounds, acylurea compounds or harmful insects which are resistant to existing insecticides.

【0256】次に、代表的な製剤例をあげて製剤方法を
具体的に説明する。化合物、補助剤の種類及び配合比率
は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能
である。以下の説明において、%は重量百分率を示す。
Next, the formulation method will be specifically described with reference to representative formulation examples. The kinds and compounding ratios of the compound and the auxiliary agent are not limited to these and can be changed in a wide range. In the following description,% indicates weight percentage.

【0257】製剤例1 乳剤 化合物(I−22)30%、シクロヘキサノン20%、
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル11%、
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム4%及びメチル
ナフタリン35%を均一に溶解して乳剤とした。
Formulation Example 1 Emulsion Compound (I-22) 30%, cyclohexanone 20%,
Polyoxyethylene alkyl aryl ether 11%,
An emulsion was prepared by uniformly dissolving 4% calcium alkylbenzene sulfonate and 35% methylnaphthalene.

【0258】製剤例2 水和剤 化合物(I−22)10%、ナフタレンスルホン酸ホル
マリン縮合物ナトリウム塩0.5%、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリール0.5%、珪藻土24%、クレー6
5%を均一に混合粉砕して水和剤とした。
Formulation Example 2 Wettable Powder Compound (I-22) 10%, naphthalenesulfonic acid formalin condensate sodium salt 0.5%, polyoxyethylene alkylaryl 0.5%, diatomaceous earth 24%, clay 6
5% was uniformly mixed and pulverized to obtain a wettable powder.

【0259】製剤例3 粉剤 化合物(I−22)2%、珪藻土5%及びクレー93%
を均一に混合粉砕して粉剤とした。
Formulation Example 3 Dust: 2% of compound (I-22), 5% of diatomaceous earth and 93% of clay.
Was uniformly mixed and pulverized to obtain a powder.

【0260】製剤例4 粒剤 化合物(I−22)5%、ラウリルアルコール硫酸エス
テルのナトリウム塩2%、リグニンスルホン酸ナトリウ
ム5%、カルボキシメチルセルロース2%及びクレー8
6%を均一に混合粉砕した。この混合物100重量部に
水20重量部を加えて練合し、押出式造粒機を用いて1
4〜32メッシュの粒状に加工したのち、乾燥して粒剤
とした。
Formulation Example 4 Granules Compound (I-22) 5%, lauryl alcohol sulfate sodium salt 2%, sodium lignin sulfonate 5%, carboxymethylcellulose 2% and clay 8
6% was uniformly mixed and ground. 20 parts by weight of water was added to 100 parts by weight of this mixture, and the mixture was kneaded.
It was processed into granules of 4 to 32 mesh and then dried to obtain granules.

【0261】次に本発明化合物を有効成分とする有害生
物防除剤の奏する効果について試験例をもって説明す
る。尚、使用した比較薬剤aおよびbは、特開昭54−
122261号公報明細書に例示された[例165]お
よび[例6]の化合物であり、比較薬剤cは、特開昭5
6−45452号公報明細書に例示された[例88]の
化合物であり、また比較薬剤dは、USP3,732,
307に例示された[例6]の化合物である。これら
は、本発明化合物と同様に製剤して使用した。
Next, the effects of the pest control agent containing the compound of the present invention as an active ingredient will be described with reference to test examples. The comparative agents a and b used are those disclosed in JP-A-54-54.
The compounds of [Example 165] and [Example 6] exemplified in the specification of Japanese Patent No.
The compound of [Example 88] exemplified in the specification of 6-45452, and the comparative drug d is USP 3,732.
307 is the compound of [Example 6]. These were formulated and used in the same manner as the compounds of the present invention.

【0262】比較薬剤a:4−クロロ−4’−イソプロ
ピルチオベンゾフェノン−N’−エトキシカルボニルヒ
ドラゾン 比較薬剤b:4−クロロ−4’−プロピルスルホニルベ
ンゾフェノン−N’−プロピオニルヒドラゾン 比較薬剤c:4−クロロ−4’−メチルスルフィニルベ
ンゾフェノン−N’−エトキシカルボニルヒドラゾン 比較薬剤d:4−トリフルオロメチルチオベンゾフェノ
ンヒドラゾン
Comparative drug a: 4-chloro-4'-isopropylthiobenzophenone-N'-ethoxycarbonylhydrazone Comparative drug b: 4-chloro-4'-propylsulfonylbenzophenone-N'-propionylhydrazone Comparative drug c: 4- Chloro-4'-methylsulfinylbenzophenone-N'-ethoxycarbonylhydrazone Comparative drug d: 4-trifluoromethylthiobenzophenone hydrazone

【0263】試験例1 コナガ殺虫試験 製剤例2に準じて調製した水和剤を500ppmの濃度
に水で希釈した。その薬液にキャベツ葉を浸漬し、風乾
後、容量60mlの塩化ビニル製のカップに入れた。そ
の中にコナガ3齢幼虫10頭を放ち蓋をした。その後、
25℃の恒温室に置き、6日後に死虫数を調査し、以下
の数1により死虫率を求めた。結果を表36〜表43に
示した。尚、試験は2連制で行った。
Test Example 1 Diamondback moth insecticidal test A wettable powder prepared according to Formulation Example 2 was diluted with water to a concentration of 500 ppm. Cabbage leaves were dipped in the solution, air-dried, and then placed in a vinyl chloride cup having a volume of 60 ml. Ten third-instar larvae of Plutella xylostella were released therein and the lid was closed. afterwards,
It was placed in a constant temperature room at 25 ° C., and 6 days later, the number of dead insects was examined, and the dead insect rate was calculated by the following formula 1. The results are shown in Tables 36 to 43. In addition, the test was conducted in two consecutive systems.

【0264】[0264]

【数1】 [Equation 1]

【0265】[0265]

【表36】 [Table 36]

【0266】[0266]

【表37】 [Table 37]

【0267】[0267]

【表38】 [Table 38]

【0268】[0268]

【表39】 [Table 39]

【0269】[0269]

【表40】 [Table 40]

【0270】[0270]

【表41】 [Table 41]

【0271】[0271]

【表42】 [Table 42]

【0272】[0272]

【表43】 [Table 43]

【0273】試験例2 トビイロウンカ殺虫試験 製剤例2に準じて調製した水和剤を500ppmの濃度
に水で希釈した。その薬液にイネ茎葉を浸漬し、風乾
後、試験管に静置した。その中にトビイロウンカ幼虫5
頭を放ち、脱脂綿で栓をした。その後、25℃の恒温室
に置き、6日後に死虫数を調査し、数1により死虫率を
算出した。試験は2連制で行った。結果を表44〜表4
8に示す。
Test Example 2 Black-necked planthopper insecticidal test A wettable powder prepared according to Formulation Example 2 was diluted with water to a concentration of 500 ppm. Rice foliage was soaked in the drug solution, air-dried, and then allowed to stand in a test tube. Five brown planthopper larvae in it
The head was released and plugged with absorbent cotton. Then, it was placed in a constant temperature room at 25 ° C., and 6 days later, the number of dead insects was examined, and the dead insect rate was calculated by the equation 1. The test was conducted in two consecutive cycles. The results are shown in Table 44 to Table 4.
8 shows.

【0274】[0274]

【表44】 [Table 44]

【0275】[0275]

【表45】 [Table 45]

【0276】[0276]

【表46】 [Table 46]

【0277】[0277]

【表47】 [Table 47]

【0278】[0278]

【表48】 [Table 48]

【0279】試験例3 アズキゾウムシ殺虫試験 製剤例2に準じて調製した水和剤を100ppmの濃度
に水で希釈した。その薬液0.75mlを容量60ml
の塩化ビニル製カップに入れた直径6cmのろ紙に滴下
した。その中にアズキゾウムシ雌成虫5頭を放ち蓋をし
た。その後、25℃の恒温室に置き、4日後に死虫数を
調査し、数1により死虫率を算出した。試験は2連制で
行った。結果を表49〜表50に示す。
Test Example 3 Azuki beetle insecticidal test A wettable powder prepared according to Formulation Example 2 was diluted with water to a concentration of 100 ppm. The chemical solution 0.75ml volume 60ml
Was dropped onto a 6 cm diameter filter paper placed in a vinyl chloride cup. Five female adzuki bean weevils were released in the cap and the lid was closed. Then, it was placed in a constant temperature room at 25 ° C., and four days later, the number of dead insects was investigated, and the dead insect rate was calculated by the equation 1. The test was conducted in two consecutive cycles. The results are shown in Tables 49 to 50.

【0280】[0280]

【表49】 [Table 49]

【0281】[0281]

【表50】 [Table 50]

【0282】[0282]

【発明の効果】本発明の化合物は、半翅目害虫、鱗翅目
害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害
虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植
物寄生性線虫類等の広範囲の有害生物に対して優れた防
除効果を示し、また、抵抗性を帯びた有害生物をも防除
できる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The compound of the present invention comprises a hemiptera pest, a lepidopteran pest, a coleopteran pest, a dipteran pest, a hymenoptera pest, an orthoptera pest, a termite pest, a thrips pest, a spider mite, It shows an excellent control effect against a wide range of pests such as plant parasitic nematodes, and can also control pests with resistance.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 303/34 C07C 303/34 311/27 311/27 311/30 311/30 311/35 311/35 315/04 315/04 317/16 317/16 317/24 317/24 319/20 319/20 323/16 323/16 323/22 323/22 323/29 323/29 (72)発明者 益山 直 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の1 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 永井 昭英 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の1 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 矢野 祐幸 静岡県小笠郡菊川町加茂1809番地 (72)発明者 川島 三枝子 静岡県小笠郡菊川町加茂1809番地 (72)発明者 栗原 浩 愛知県名古屋市天白区中平五丁目1205番地 (72)発明者 嶋津 朋徳 静岡県浜松市佐鳴台6丁目10番地の48Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication C07C 303/34 C07C 303/34 311/27 311/27 311/30 311/30 311/35 311/35 315 / 04 315/04 317/16 317/16 317/24 317/24 319/20 319/20 323/16 323/16 323/22 323/22 323/29 323/29 (72) Inventor Nao Masuyama Iwata, Shizuoka Prefecture 408 Shio-shinta, Fukuda-cho, Gunma 1 Keio Research Institute, Inc. (72) Inventor Akihide Nagai 1 408, Shio-shinta, Fukuda-cho, Iwata-gun Shizuoka Kai Research Institute, Inc. (72) Inventor Yano Yuko 1809 Kamo, Kikugawa-cho, Ogasa-gun, Shizuoka (72) Inventor Mieko Kawashima 1809 Kamo, Kikugawa-cho, Ogasa-gun, Shizuoka (72) Inventor Hiroshi Kurihara 5-120-5205 Nakahira, Tenpaku-ku, Aichi Prefecture (72) Tomonori Shimazu 48, 6-10 Sanarudai, Hamamatsu City, Shizuoka Prefecture

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式[I]、 【化1】 {式中、Rは炭素数1から6のアルキル基、炭素数1
から4のシアノアルキル基、炭素数1から4のヒドロキ
シアルキル基、炭素数3から6のシクロアルキル基、炭
素数1から6のハロアルキル基、炭素数2から4のアル
ケニル基、炭素数2から4のアルキニル基、フェニル基
[該基はハロゲン原子又は炭素数1から4のアルキル基
で置換されてもよい]、シアノ基、ベンジル基[該基は
ハロゲン原子で置換されてもよい]、チアゾリル基、炭
素数1から4のアルキルカルバモイル基又は−N
(R)R基を示し、R及びRは各々独立して水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1から4のア
ルキル基、炭素数1から3のハロアルキル基、炭素数1
から4のアルキルチオ基、炭素数1から4のアルキルカ
ルボニル基、カルボキシル基又は炭素数1から4のアル
コキシカルボニル基を示す。R及びRはこれらの結
合した炭素原子と共に3から6員環を形成してもよい。
又、R及びRはこれらの結合した硫黄原子及び炭素
原子と共に一つ又はそれ以上のヘテロ原子を有する3か
ら8員環を形成してもよい。Rは水素原子、ハロゲン
原子、炭素数1から4のアルキル基、炭素数1から4の
ハロアルキル基、炭素数1から4のアルコキシ基又は炭
素数1から4のハロアルコキシ基を示し、R及びR
は各々独立して水素原子、炭素数1から6のアルキル基
又は炭素数1から4のハロアルキル基を示す。又、R
及びRは一緒になって基=CRを形成又はR
及びRはこれらの結合した窒素原子と合わせてひとつ
又はそれ以上のヘテロ原子を有する4から8員環を形成
してもよい。Rは水素原子、炭素数1から3のアルキ
ル基又は炭素数1から3のアルキルチオ基を示し、R
は炭素数1から3のアルキルチオ基又は炭素数1から3
のアルキルアミノ基を示す。又、R及びRはこれら
の結合した炭素原子と合わせて飽和または不飽和の4か
ら8員環を形成してもよい。Aは式[A1]または式
[A2] 【化2】 で表されるヒドラジノアラルキル基又はヒドラゾノアラ
ルキル基を示し、Rは水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、炭素数1から4のアルキル基、炭素数
1から4のハロアルキル基、炭素数1から4のアルコキ
シ基、炭素数1から4のハロアルコキシ基、炭素数1か
ら4のアルキルチオ基、炭素数1から4のハロアルキル
チオ基、炭素数1から4のアルキルスルホニル基、炭素
数2から4のアルキルスルホニルメチル基、炭素数1か
ら4のハロアルキルスルホニルオキシ基、フェニル基
[該基はハロゲン原子で置換されてもよい]又はフェノ
キシ基[該基はハロゲン原子で置換されてもよい]を示
す。又、2つのRを合わせて5から6員環を形成して
もよい。R10は水素原子または炭素数1から4のアル
キル基を示し、R11、R12及びR13は各々独立し
て水素原子、シアノ基、炭素数1から6のアルキル基、
炭素数1から4のハロアルキル基、炭素数2から10の
アルコキシアルキル基、炭素数3から8のアルコキシア
ルコキシアルキル基、炭素数2から6のアルキルチオア
ルキル基、炭素数2から6のアルケニル基、炭素数2か
ら4のアルキニル基、炭素数1から4のシアノアルキル
基、ベンジル基[該基はハロゲン原子、炭素数1から4
のハロアルキル基又は炭素数1から4のアルキル基で置
換されてもよい]、基−COR14、基−CSR14
基−COOR15、基−COSR15、基−CON(R
16)R17、基−CSN(R16)R17、基−SN
(R18)R19、基−SO20又は基−C(R
21)=CHR22を示す。又、R12及びR13は一
緒になって基=CR2324を形成、又はR12及び
R13はこれらの結合した窒素原子と合わせてひとつ又
はそれ以上のヘテロ原子を有する4から8員環を形成し
てもよい。R14は水素原子、炭素数1から20のアル
キル基、炭素数1から8のハロアルキル基、炭素数2か
ら12のアルコキシアルキル基、炭素数2から10のハ
ロアルコキシアルキル基、炭素数3から16のアルコキ
シアルコキシアルキル基、炭素数4から22のアルコキ
シアルコキシアルコキシアルキル基、炭素数3から6の
シクロアルキル基、炭素数1から6のヒドロキシアルキ
ル基、炭素数1から6のアミノアルキル基、炭素数1か
ら6のアミドアルキル基、炭素数1から8のシアノアル
キル基、炭素数3から12のアルコキシカルボニルアル
キル基、炭素数2から6のアルケニル基、炭素数2から
4のアルキニル基、フェニル基[該基はハロゲン原子、
ニトロ基、炭素数1から4のアルキル基、炭素数1から
4のハロアルキル基、フェノキシ基又は炭素数1から4
のアルコキシ基で置換されてもよい]、ナフチル基[該
基はハロゲン原子、炭素数1から4のアルキル基で置換
されてもよい]又はヘテロ芳香環基[該基はハロゲン原
子、炭素数1から4のアルキル基で置換されてもよい]
を示し、R15は炭素数1から20のアルキル基、炭素
数2から8のハロアルキル基、炭素数2から12のアル
コキシアルキル基、炭素数2から6のアルケニル基、炭
素数2から4のアルキニル基、ベンジル基[該基はハロ
ゲン原子、炭素数1から4のアルコキシ基又は炭素数1
から4のアルキル基で置換されてもよい]又はフェニル
基[該基はハロゲン原子で置換されてもよい]を示し、
16は水素原子又は炭素数1から4のアルキル基を示
し、R17は水素原子、炭素数1から6のアルキル基又
はフェニル基[該基はハロゲン原子、炭素数1から4の
ハロアルコキシ基又は炭素数1から4のアルキル基で置
換されてもよい)を示し、R18及びR19は各々独立
して炭素数1から4のアルキル基(該基は炭素数1から
4のアルコキシカルボニル基で置換されてもよい]、炭
素数2から5のアルコキシアルキル基を示す。又、R
18及びR19はこれらの結合した窒素原子と合わせて
5から6員環を形成してもよい。R20は炭素数1から
4のアルキル基、炭素数1から4のハロアルキル基又は
炭素数2から4のジアルキルアミノ基を示し、R21
水素原子又は炭素数1から6のアルキル基を示し、R
22は炭素数2から4のアルカノイル基又は炭素数2か
ら6のアルコキシカルボニル基を示し、R23及びR
24は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
1から6のアルキル基又は基−N(R25)R26を示
し、R25及びR26は各々独立して、水素原子、炭素
数1から4のアルキル基、炭素数1から4のアルコキシ
基、炭素数2から12のアルコキシアルキル基又は基−
SO27を示す。又、R25及びR26はこれらの
結合した窒素原子と合わせて5から6員環を形成しても
よい。R27は炭素数1から8のアルキル基又はフェニ
ル基[該基はハロゲン原子又は炭素数1から4のアルキ
ル基で置換されてもよい]を示し、Q及びQは窒素
原子又は基−CRを示し、mは1又は2〜3の整数を
示し、nは0、1又は2を示す。}にて表されるベンジ
ルスルフィド誘導体及びその塩。
1. A compound represented by the general formula [I]:{In the formula, R1Is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 1 carbon atom
To C4 cyanoalkyl groups, C1 to C4 hydroxy
Sialkyl group, cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, charcoal
Haloalkyl group having 1 to 6 primes, Al having 2 to 4 carbons
Kenyl group, alkynyl group having 2 to 4 carbon atoms, phenyl group
[The group is a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
May be substituted with], a cyano group, a benzyl group [wherein
May be substituted with halogen atom], thiazolyl group, charcoal
Alkylcarbamoyl group having a prime number of 1 to 4 or -N
(R5) R6Group, R2And R3Each independently water
Elementary atoms, halogen atoms, cyano groups, carbon atoms of 1 to 4
Rualkyl group, haloalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, 1 carbon atom
To C4 alkylthio groups, C1 to C4 alkyl groups
Rubonyl group, carboxyl group or alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms
Indicates a coxycarbonyl group. R2And R3Is these conclusions
A 3- to 6-membered ring may be formed with the combined carbon atom.
Also, R1And R2Is these bound sulfur atom and carbon
3 having one or more heteroatoms with the atom
To form an 8-membered ring. R4Is hydrogen atom, halogen
Atoms, alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, 1 to 4 carbon atoms
Haloalkyl group, C1-C4 alkoxy group or carbon
R is a haloalkoxy group having a prime number of 1 to 4 and R5And R6
Are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Alternatively, it represents a haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Also, R5
And R6Group together = CR7R8Forming or R5
And R6Is one together with these bonded nitrogen atoms
Or forming a 4- to 8-membered ring having more heteroatoms
May be. R7Is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms
R 1 or an alkylthio group having 1 to 3 carbon atoms, R8
Is an alkylthio group having 1 to 3 carbon atoms or 1 to 3 carbon atoms
Is an alkylamino group. Also, R7And R8Are these
Saturated or unsaturated with combined carbon atom of 4
To form an 8-membered ring. A is a formula [A1] or a formula
[A2]A hydrazino aralkyl group or hydrazonoara
A alkyl group;9Is hydrogen atom, halogen atom, nit
B group, cyano group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, carbon number
1 to 4 haloalkyl group, 1 to 4 carbon atoms
Si group, haloalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, 1 carbon atom
4 alkylthio groups, haloalkyl having 1 to 4 carbon atoms
Thio group, alkylsulfonyl group having 1 to 4 carbon atoms, carbon
Alkylsulfonylmethyl group having 2 to 4 carbon atoms or 1
4 haloalkylsulfonyloxy group, phenyl group
[The group may be substituted with a halogen atom] or pheno
A xy group, which may be substituted with a halogen atom.
You. Also, two R9To form a 5- to 6-membered ring
Good. R10Is a hydrogen atom or an alkane having 1 to 4 carbon atoms
A kill group;11, R12And R13Are independent
Hydrogen atom, cyano group, alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
C1-C4 haloalkyl group, C2-C10
Alkoxyalkyl groups, C3 to C8 alkoxy groups
Lucoxyalkyl group, C2-C6 alkylthioa
Rukyl group, alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, 2 carbon atoms
Alkynyl group of 4 or the like, cyanoalkyl having 1 to 4 carbon atoms
Group, benzyl group [the group is a halogen atom, having 1 to 4 carbon atoms]
With a haloalkyl group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
May be replaced], group -COR14, Group-CSR14,
Group -COOR15, Group-COSR15, Group -CON (R
16) R17, Group-CSN (R16) R17, Group-SN
(R18) R19, Group-SO2R20Or the group -C (R
21) = CHR22Is shown. Also, R12And R13Haichi
It's a group, CR23R24Or R12as well as
R13 is one or more together with these bonded nitrogen atoms.
Form a 4- to 8-membered ring with more heteroatoms
May be. R14Is a hydrogen atom, an alkane having 1 to 20 carbon atoms
Kill group, haloalkyl group having 1 to 8 carbon atoms, 2 carbon atoms
12 alkoxyalkyl groups, C2-10 ha
Ralkoxyalkyl group, alkoxy having 3 to 16 carbon atoms
Sialkoxyalkyl group, C4 to C22 alkoxy
Cyalkoxyalkoxyalkyl group having 3 to 6 carbon atoms
Cycloalkyl group, hydroxyalkyl having 1 to 6 carbon atoms
Ru group, aminoalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 1 carbon number
6 amidoalkyl groups, cyanoal having 1 to 8 carbon atoms
Kill group, alkoxycarbonylal having 3 to 12 carbon atoms
Kill group, C2-C6 alkenyl group, C2-C2
4 alkynyl group, phenyl group [wherein the group is a halogen atom,
Nitro group, C1-4 alkyl group, C1
4 haloalkyl group, phenoxy group or 1 to 4 carbon atoms
May be substituted with an alkoxy group of], a naphthyl group [
Substituted with a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
Or a heteroaromatic ring group [wherein said group is a halogen atom]
Child, may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]
And R15Is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, carbon
A haloalkyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms
Coxyalkyl group, alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, charcoal
Alkynyl group and benzyl group having a prime number of 2 to 4 [the group is a halo
Gen atom, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or 1 carbon atom
To 4 alkyl groups] or phenyl
A group [the group may be substituted with a halogen atom],
R16Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Then R17Is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or
Is a phenyl group [which is a halogen atom, having 1 to 4 carbon atoms
Placed with a haloalkoxy group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
May be replaced) and R18And R19Are independent
And an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (the group having 1 to 4 carbon atoms
4 may be substituted with an alkoxycarbonyl group of 4], charcoal
An alkoxyalkyl group having a prime number of 2 to 5 is shown. Also, R
18And R19Together with these bound nitrogen atoms
A 5- to 6-membered ring may be formed. R20Is from 1 carbon
A 4-alkyl group, a haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or
A dialkylamino group having 2 to 4 carbon atoms, R21Is
A hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R
22Is an alkanoyl group having 2 to 4 carbon atoms or 2 carbon atoms
6 represents an alkoxycarbonyl group, and R23And R
24Are independently hydrogen atom, halogen atom, carbon number
1 to 6 alkyl groups or groups -N (R25) R26Shows
Then R25And R26Are independently hydrogen atom and carbon
Alkyl group having 1 to 4 carbons, Alkoxy having 1 to 4 carbons
Group, an alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms or a group-
SO2R27Is shown. Also, R25And R26Are these
Even if it forms a 5- to 6-membered ring together with the bonded nitrogen atom,
Good. R27Is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or phenyl
Group [which is a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]
May be substituted with a group], Q1And Q2Is nitrogen
Atom or group-CR9And m is an integer of 1 or 2 to 3.
, N is 0, 1 or 2. } Benji represented by
Rusulfide derivatives and salts thereof.
【請求項2】一般式[II]、 【化3】 {式中、R、R、R、R、及びnは請求項1に
記載と同じ意味を示し、Bは式[B1]または式[B
2] 【化4】 で表されるアラルキル基又はアリールカルボニル基を示
し、R、R10、m、Q及びQは請求項1に記載
と同じ意味を示し、R28はハロゲン原子又はヒドロキ
シル基を示す。}にて表されるベンジルスルフィド誘導
体。
2. A compound represented by the general formula [II]: {In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and n have the same meanings as described in claim 1, and B is the formula [B1] or the formula [B
2] Represents an aralkyl group or an arylcarbonyl group represented by, R 9 , R 10 , m, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described in claim 1, and R 28 represents a halogen atom or a hydroxyl group. } The benzyl sulfide derivative represented by these.
【請求項3】一般式[III]、 【化5】 {式中、R、R、R12、R13、m、Q及びQ
は請求項1に記載と同じ意味を示し、R及びR
各々独立して水素原子又は炭素数1から4のアルキル基
を示し、R29はハロゲン原子、メルカプト基またはヒ
ドロキシル基を示す。}にて表されるベンゾフェノンヒ
ドラゾン誘導体。
3. A compound represented by the general formula [III]: {In the formula, R 4 , R 9 , R 12 , R 13 , m, Q 1 and Q
2 has the same meaning as in claim 1, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 29 represents a halogen atom, a mercapto group or a hydroxyl group. . } The benzophenone hydrazone derivative represented by these.
【請求項4】一般式[IV]、 【化6】 {式中、R、R、R、R、R、m、n、Q
及びQは請求項1に記載と同じ意味を示す。}で示さ
れる化合物と一般式[V1]、 【化7】 {式中、R12及びR13は請求項1に記載と同じ意味
を示す。}で示される化合物とを反応させることを特徴
とする請求項1記載のAが式[A2]であるベンジルス
ルフィド誘導体の製造法。
4. A compound represented by the general formula [IV]: {In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , m, n, and Q 1
And Q 2 have the same meanings as in claim 1. } And a compound represented by the general formula [V1], {In the formula, R 12 and R 13 have the same meanings as described in claim 1. } The method for producing a benzyl sulfide derivative according to claim 1, wherein A is the formula [A2].
【請求項5】一般式[III]、 【化8】 {式中、R、R、R、R、R12、R13、R
29、m、Q及びQは請求項3に記載と同じ意味を
示す。}で示される化合物と一般式[V2]、 【化9】Z−R[V2] {式中、Zは、R29がメルカプト基の時はハロゲン原
子、炭素数1〜4のアルキルスルホニルオキシ基又はベ
ンゼンスルホニルオキシ基[該基はメチル基で置換され
てもよい。]を示し、R29がハロゲン原子の時は基−
S(O)nMを示し、R29がヒドロキシル基の時は基
−SSRを示す。Rは炭素数1から6のアルキル
基、炭素数1から4のシアノアルキル基、炭素数3から
6のシクロアルキル基、炭素数1から6のハロアルキル
基、炭素数2から4のアルケニル基又はベンジル基(該
基はハロゲン原子で置換されてもよい)を示し、Mはア
ルカリ金属を示し、nは0又は2を示す。}で示される
化合物とを反応させることを特徴とする請求項1記載の
Aが式[A2]であるベンジルスルフィド誘導体の製造
法。
5. A compound represented by the general formula [III]: {In the formula, R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 12 , R 13 and R
29 , m, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described in claim 3. } And a compound of the general formula [V2], Z-R 1 [V2] {wherein Z is a halogen atom or an alkylsulfonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms when R 29 is a mercapto group. A group or a benzenesulfonyloxy group [the group may be substituted with a methyl group. ], And when R 29 is a halogen atom, a group-
S (O) nM is shown, and when R 29 is a hydroxyl group, a group -SSR 1 is shown. R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyanoalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, or Represents a benzyl group (which may be substituted with a halogen atom), M represents an alkali metal, and n represents 0 or 2. } The method for producing a benzyl sulfide derivative according to claim 1, wherein A is the formula [A2].
【請求項6】一般式[VI]、 【化10】 {式中、R、R、R、R、R、R10、m、
n,Q及びQは請求項1に記載と同じ意味を示し、
28はハロゲン原子を示す。}で示される化合物と一
般式[V1]、 【化11】 {式中、R12及びR13は請求項1に記載と同じ意味
を示す。}で示される化合物とを反応させることを特徴
とする請求項1記載のAが式[A1]であるベンジルス
ルフィド誘導体の製造法。
6. A compound represented by the general formula [VI]: {In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 9 , R 10 , m,
n, Q 1 and Q 2 have the same meanings as described in claim 1,
R 28 represents a halogen atom. } And a compound represented by the general formula [V1], {In the formula, R 12 and R 13 have the same meanings as described in claim 1. } The method for producing a benzyl sulfide derivative according to claim 1, wherein A is the formula [A1].
【請求項7】請求項1記載のベンジルスルフィド誘導体
を有効成分として含有する有害生物防除剤。
7. A pest control agent containing the benzyl sulfide derivative according to claim 1 as an active ingredient.
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