JP5113531B2 - (3-Sulfur atom substituted phenyl) pyrazole derivatives - Google Patents
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Description
本発明は、(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩、それらの製造中間体である置換フェニルピラゾール化合物或いは(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩を有効成分として含有する農薬組成物に関する。 The present invention relates to a pesticide containing, as an active ingredient, a (3-sulfur atom-substituted phenyl) pyrazole derivative or a salt thereof, a substituted phenylpyrazole compound or a (3-sulfur atom-substituted phenyl) pyrazole derivative or a salt thereof as an intermediate for production thereof. Relates to the composition.
従来、(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体として、例えば、ピラゾールの5位炭素よりフェニル基が置換された5−(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体は、除草剤の用途として記載されている(例えば、特許文献1及び2 参照)。しかしながら、対応するピラゾールの3位の置換基は酸素または硫黄原子が直接結合した置換基に限定されており、かつ除草剤以外の用途はまったく知られていない。 Conventionally, as a (3-sulfur atom substituted phenyl) pyrazole derivative, for example, a 5- (3-sulfur atom substituted phenyl) pyrazole derivative in which a phenyl group is substituted from the 5-position carbon of pyrazole has been described as a herbicide use. (For example, see Patent Documents 1 and 2). However, the substituent at the 3-position of the corresponding pyrazole is limited to a substituent to which an oxygen or sulfur atom is directly bonded, and uses other than herbicides are not known at all.
また、ピラゾールの3位から結合した3−(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体が記載されている(例えば、特許文献3、4、5、6及び7 参照)。しかしながら、本願におけるピラゾールの1位の置換基はフェニル基等の芳香族に限られており、かつ、これらの特許は医薬用の用途のみ記載されており、農園芸用の有害生物防除剤としての用途は何ら記載されていない。 Further, 3- (3-sulfur atom substituted phenyl) pyrazole derivatives bonded from the 3-position of pyrazole are described (for example, see Patent Documents 3, 4, 5, 6 and 7). However, the substituent at the 1-position of pyrazole in the present application is limited to an aromatic group such as a phenyl group, and these patents are described only for pharmaceutical use, and are used as agricultural and horticultural pest control agents. No use is described.
また、ピラゾールの1位、即ち窒素原子からフェニル基が結合した1−(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体の殺虫剤としての用途が記載されているが(特許文献8 参照)、3位、4位、或いは5位、即ち炭素原子から置換した(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体は未記載である。
近年、市販の殺虫殺ダニ剤の中には、残留、蓄積、環境汚染等の問題から使用が制限されるものがある。また、同じ殺虫殺ダニ剤を長期間使用することにより、抵抗性害虫の発生が問題となってきている。そのため、市販殺虫剤とは作用が異なると考えられる、新規な分子構造を有する殺虫殺ダニ剤の開発が望まれている。本発明は、以上のような技術背景の下になされたものであり、殺虫及び/又は殺ダニ活性を示す新規な化合物を提供することを目的とする。 In recent years, some of the commercially available insecticides and acaricides are restricted in use due to problems such as residue, accumulation, and environmental pollution. In addition, the use of the same insecticide / acaricide for a long period of time has caused a problem of generation of resistant pests. Therefore, development of an insecticidal acaricide having a novel molecular structure, which is considered to have an action different from that of commercially available insecticides, is desired. The present invention has been made under the above technical background, and an object thereof is to provide a novel compound exhibiting insecticidal and / or acaricidal activity.
本発明者らは、ピラゾール誘導体について鋭意研究を重ねた結果、(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体に、有害生物防除活性、特に、農園芸有害生物であるナミハダニ、ミカンハダニ等のダニ類に対し、極めて優れた殺ダニ活性を有することを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive research on the pyrazole derivatives, the present inventors have found that (3-sulfur atom-substituted phenyl) pyrazole derivatives have pest control activity, in particular, against mites such as urticae and citrus mites that are agricultural and horticultural pests. The present invention was completed by finding that it has extremely excellent acaricidal activity.
本発明は、下記の一般式(I) The present invention relates to the following general formula (I)
[式中、
R1は、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子、C3−C6シクロアルキル基及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又はC3−C6シクロアルキル基を表し、
Aは、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルキニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−6個の置換基である。)、式 −C(Y)=NOR (式中、Rは、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、Yは、水素原子又はアミノ基を表す。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基及びC1−C6アルコキシ基からなる群から選択される1〜3個の置換基である。)又はシアノ基を表し、
Xは、mが2又は3の整数を表す場合、同一又は異なってもよく、ハロゲン原子を表し、
mは、0乃至3の整数を表し、
nは、0又は1の整数を表し、
Qは、下記の一般式(Q−1)、(Q−2)又は(Q−3):[Where:
R 1 is an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a C 3 -C 6 cycloalkyl group and a cyano group) An optionally substituted C 2 -C 6 alkenyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of a halogen atom and a cyano group) or C. It represents 3 -C 6 cycloalkyl group,
A is a halogen atom, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of a hydroxyl group and a halogen atom), substitution which may C 2 -C be the 6 alkenyl group (the substituent is a 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atom.), optionally substituted C 2 -C 6 An alkynyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms), an optionally substituted C 3 -C 6 cycloalkyl group (the substituent is a halogen atom) 1-6 substituents selected from the group consisting of atoms.), Formula —C (Y) ═NOR (wherein R represents a hydrogen atom or a C 1 -C 6 alkyl group, Y represents Represents a hydrogen atom or an amino group). A 5-6 membered heteroaryl group containing 1-3 heteroatoms selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, which may be partially saturated, the substituent represents 1-3 is a substituent.), or a cyano group selected from the group consisting of halogen atom, C 1 -C 6 alkyl group and C 1 -C 6 alkoxy group,
X may be the same or different when m represents an integer of 2 or 3, and represents a halogen atom;
m represents an integer of 0 to 3,
n represents an integer of 0 or 1,
Q is the following general formula (Q-1), (Q-2) or (Q-3):
[式中、
R2、R5及びR8は、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)を表し、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)、置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜5個の置換基である。]を表す。]
で表される基を表す。]
で表される(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩である。
なお、mが0の場合、Xmは、水素原子を表す。[Where:
R 2 , R 5 and R 8 represent an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is 1-9 substituents selected from the group consisting of halogen atoms). Represent,
R 3 , R 4 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is a halogen atom) 1-9 substituents selected from the group consisting of atoms), an optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group (the substituent is 1- selected from the group consisting of halogen atoms). 7 substituents), an optionally substituted C 1 -C 6 alkylthio group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms) or An optionally substituted phenyl group [the substituent is a halogen atom, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is 1-9 selected from the group consisting of halogen atoms] And may be substituted. 1 to 5 substituents selected from the group consisting of C 1 -C 6 alkoxy groups (the substituents are 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms) . ]. ]
Represents a group represented by ]
(3-sulfur atom-substituted phenyl) pyrazole derivative or a salt thereof.
When m is 0, Xm represents a hydrogen atom.
また、本発明は、一般式(I)で表される(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体の製造中間体である、下記の一般式(II) Moreover, this invention is a manufacturing intermediate of the (3-sulfur atom substituted phenyl) pyrazole derivative represented by general formula (I), and is the following general formula (II)
[式中、A、X、m及びQは、前記と同意義を表し、X1は、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基、メルカプト基又は式 −S(C=Z)Ra (式中、Raは、C1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、Zは、酸素原子又は硫黄原子を表す。)で表される基を表す。]
で表される置換フェニルピラゾール化合物である。[Wherein A, X, m and Q are as defined above, and X 1 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, an amino group, a nitro group, a mercapto group or a formula —S (C═Z) Ra (formula In the formula, Ra represents a C 1 -C 6 alkyl group, a C 1 -C 6 alkoxy group or a halogen atom, and Z represents an oxygen atom or a sulfur atom. ]
It is a substituted phenyl pyrazole compound represented by these.
さらに、本発明は、一般式(I)で表される(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩を有効成分として含有する農薬組成物である。
また、明細書および添付の特許請求の範囲で用いられるように、単数形(英語における、「a」、「an」および「the」)は、他に、前後関係が、他を明確に指示していない限りは、複数形をも包含する。Furthermore, this invention is an agrochemical composition which contains the (3-sulfur atom substituted phenyl) pyrazole derivative represented by general formula (I), or its salt as an active ingredient.
Also, as used in the specification and the appended claims, the singular forms ("a", "an", and "the" in English) have other contexts that clearly indicate others. Unless otherwise indicated, the plural includes.
本発明の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩は、例えば、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植物寄生性線虫類等の広範囲の害虫、特に、農園芸有害生物であるナミハダニ、ミカンハダニ等のダニ類に対して、優れた防除効果を示す。 The (3-sulfur atom-substituted phenyl) pyrazole derivative or a salt thereof of the present invention is, for example, a hemipod pest, a lepidopteran pest, a coleopteran pest, a diptera pest, a hymenopteran pest, a straight pest, a termite It exhibits an excellent control effect against a wide range of pests such as pests, thrips, spider mites, and plant parasitic nematodes, especially mites such as urticae and citrus mite that are agricultural and horticultural pests.
以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
本発明において、「置換されていてもよいC1−C6アルキル基」、「置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基」、「置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基」等の「C1−C6アルキル部分」は、炭素数が1乃至6個である直鎖又は分岐鎖アルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、2−メチルブチル基、1−メチルペンチル基、ネオペンチル基、1−エチルプロピル基、ヘキシル基、1−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基又は1,1−ジメチルブチル基であり得、R1においては、好適には、炭素数が1乃至4個である直鎖又は分岐鎖アルキル基(C1−C4アルキル基)であり、より好適には、炭素数が2乃至4個である直鎖又は分岐鎖アルキル基(C2−C4アルキル基)であり、更により好適には、炭素数が2乃至3個である直鎖又は分岐鎖アルキル基(C2−C3アルキル基)であり、最も好適には、エチル基であり、その他においては、好適には、炭素数が1乃至4個である直鎖又は分岐鎖アルキル基(C1−C4アルキル基)であり、より好適には、炭素数が1乃至3個である直鎖又は分岐鎖アルキル基(C1−C3アルキル基)であり、更により好適には、メチル基又はエチル基である。
本発明において、「ハロゲン原子」は、例えば、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子、ヨウ素原子であり得、好適には、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子であり、Aにおいては、より好適には、塩素原子又は臭素原子であり、その他においては、より好適には、フッ素原子又は塩素原子である。In the present invention, "optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group", "optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group", "optionally substituted C 1 -C 6 alkylthio group “C 1 -C 6 alkyl moiety” such as “is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, Isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylpentyl group, neopentyl group, 1-ethylpropyl group, hexyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethyl It may be a butyl group, a 2,2-dimethylbutyl group or a 1,1-dimethylbutyl group, and in R 1 , a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (C 1 -C 4 An alkyl group), more preferably a straight-chain or branched-chain alkyl group has 2 to 4 carbon atoms (C 2 -C 4 alkyl group), even more preferably, 2 to carbon atoms A linear or branched alkyl group (C 2 -C 3 alkyl group) that is three , most preferably an ethyl group, and in others, it preferably has 1 to 4 carbon atoms. A linear or branched alkyl group (C 1 -C 4 alkyl group), more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (C 1 -C 3 alkyl group). And even more preferably a methyl group or an ethyl group.
In the present invention, the “halogen atom” can be, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, preferably a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom, and more preferably in A , A chlorine atom or a bromine atom, and in other cases, a fluorine atom or a chlorine atom is more preferable.
本発明において、「置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基」等の「C3−C6シクロアルキル部分」は、炭素数が3乃至6個の環状アルキル基であり、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基であり得、好適には、炭素数が3乃至5個の環状アルキル基であり、より好適には、シクロプロピル基である。In the present invention, "C 3 -C 6 cycloalkyl moiety" such as "optionally substituted C 3 -C 6 cycloalkyl group" has a carbon number of 3 to 6 cyclic alkyl groups, for example, It can be a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group or a cyclohexyl group, preferably a cyclic alkyl group having 3 to 5 carbon atoms, more preferably a cyclopropyl group.
本発明において、「置換されていてもよいC2−C6アルケニル基」の「C2−C6アルケニル部分」は、炭素数が2乃至6個である直鎖又は分枝鎖アルケニル基であり、例えば、エテニル基、2−プロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、1−メチル−2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、1−ヘキセニル基又は2−ヘキセニル基であり得、好適には、炭素数が2乃至4個である直鎖又は分枝鎖アルケニル基であり、より好適には、炭素数が3又は4個である直鎖又は分枝鎖アルケニル基(C3−C4アルケニル基)であり、更により好適には、2−プロペニル基である。
本発明において、「置換されていてもよいC2−C6アルキニル基」等の「C2−C6アルキニル部分」は、炭素数が2乃至6個である直鎖又は分枝鎖アルキニル基であり、例えば、エチニル基、2−プロピニル基、1−メチル−2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、1−メチル−2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−ペンチニル基、2−ペンチニル基、1−ヘキシニル基又は2−ヘキシニル基であり得、好適には、炭素数が2乃至4個である直鎖又は分枝鎖アルキニル基であり、より好適には、炭素数が3又は4個である直鎖又は分枝鎖アルキニル基(C3−C4アルキニル基)であり、更により好適には、2−プロピニル基である。
本発明において、「置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基」の「5−6員環へテロアリール部分」は、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基又はピリダジニル基であり得、好適には、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基又はピリダジニル基であり、より好適には、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はピリジル基であり、更により好適には、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基であり、最も好適には、チアゾリル基、オキサジアゾリル基又はジヒドロオキサジアゾリル基である。In the present invention, "C 2 -C 6 alkenyl moiety" in the "optionally substituted C 2 -C 6 alkenyl group", a straight-chain or branched alkenyl group having a carbon number of 2 to 6 For example, ethenyl group, 2-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-methyl-2-butenyl group, 1- It may be a methyl-2-butenyl group, a 3-butenyl group, a 1-pentenyl group, a 2-pentenyl group, a 1-hexenyl group or a 2-hexenyl group, and preferably a straight chain having 2 to 4 carbon atoms Or a branched alkenyl group, more preferably a linear or branched alkenyl group having 3 or 4 carbon atoms (C 3 -C 4 alkenyl group), and even more preferably 2 -A propenyl group.
In the present invention, "C 2 -C 6 alkynyl moiety" such as "optionally substituted C 2 -C 6 alkynyl group" is a straight-chain or branched alkynyl group having a carbon number of 2 to 6 For example, ethynyl group, 2-propynyl group, 1-methyl-2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, 1-methyl-2-butynyl group, 3-butynyl group, 1-pentynyl group, It may be a 2-pentynyl group, a 1-hexynyl group or a 2-hexynyl group, preferably a linear or branched alkynyl group having 2 to 4 carbon atoms, more preferably a carbon number. It is a linear or branched alkynyl group (C 3 -C 4 alkynyl group) that is 3 or 4 , more preferably 2-propynyl group.
In the present invention, “5-6 containing 1-3 heteroatoms selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, which may be substituted or partially saturated,” The “5-6-membered heteroaryl moiety” of the “membered heteroaryl group” is, for example, a furyl group, a thienyl group, a pyrrolyl group, an oxazolyl group, an isoxazolyl group, a thiazolyl group, an isothiazolyl group, an imidazolyl group, a pyrazolyl group, an oxadiazolyl group. , Dihydrooxadiazolyl group, thiadiazolyl group, dihydrothiadiazolyl group, triazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group or pyridazinyl group, preferably furyl group, thienyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, Thiazolyl, isothiazolyl, imidazolyl, pyrazolyl, o Sadiazolyl group, dihydrooxadiazolyl group, thiadiazolyl group, dihydrothiadiazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group or pyridazinyl group, more preferably isoxazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, oxadiazolyl group, dihydro An oxadiazolyl group, a thiadiazolyl group or a pyridyl group, still more preferably an isoxazolyl group, a thiazolyl group, an oxadiazolyl group, a dihydrooxadiazolyl group or a thiadiazolyl group, most preferably a thiazolyl group, an oxadiazolyl group or Dihydrooxadiazolyl group.
本発明において、R1の「置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子、C3−C6シクロアルキル基及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、4−クロロブチル基、5−フルオロペンチル基、5−クロロペンチル基、6−フルオロへキシル基、6−クロロヘキシル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、2−シクロプロピルエチル基、2−シクロブチルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、2−シクロヘキシルエチル基、3−シクロプロピルプロピル基、3−シクロブチルプロピル基、4−シクロプロピルブチル基、4−シクロブチルブチル基、5−シクロプロピルペンチル基、5−シクロブチルペンチル基、6−シクロプロピルへキシル基、6−シクロブチルヘキシル基、シアノメチル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、4−シアノブチル基、5−シアノペンチル基又は6−シアノ基であり得、好適には、「置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、1−7個のハロゲン原子、1個のC3−C6シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)」であり、より好適には、前記「C1−C4アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、4−クロロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、2−シクロプロピルエチル基、2−シクロブチルエチル基、シアノメチル基又は2−シアノエチル基であり、更により好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、2−シクロプロピルエチル基、2−シクロブチルエチル基、シアノメチル基又は2−シアノエチル基であり、特に好適は、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基又はシアノメチル基であり、最も好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基又はシクロプロピルメチル基である。In the present invention, the “optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group of R 1 (the substituent is selected from the group consisting of a halogen atom, a C 3 -C 6 cycloalkyl group and a cyano group” 7 substituents.) ”Means, for example, the“ C 1 -C 6 alkyl group ”, fluoromethyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group. 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 3-chloropropyl group, 2,3,3-trifluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, heptafluoropropyl group Lopyl group, 4-fluorobutyl group, 4-chlorobutyl group, 5-fluoropentyl group, 5-chloropentyl group, 6-fluorohexyl group, 6-chlorohexyl group, cyclopropylmethyl group, cyclobutylmethyl group, cyclopentyl Methyl group, cyclohexylmethyl group, 2-cyclopropylethyl group, 2-cyclobutylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclopropylpropyl group, 3-cyclobutylpropyl group, 4-cyclo Propylbutyl group, 4-cyclobutylbutyl group, 5-cyclopropylpentyl group, 5-cyclobutylpentyl group, 6-cyclopropylhexyl group, 6-cyclobutylhexyl group, cyanomethyl group, 2-cyanoethyl group, 3- Cyanopropyl group, 4-cyanobutyl group, 5-cyanope It is a methyl group or a 6-cyano group, preferably, "optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is 1-7 halogen atoms, one C 3 -C 6 cycloalkyl group or one cyano group.) ”, And more preferably, the“ C 1 -C 4 alkyl group ”, fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group. 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 3-chloropropyl group, 2,3,3-trifluoropropyl group 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, heptafluoropropyl group, 4-fluoro Til group, 4-chlorobutyl group, cyclopropylmethyl group, cyclobutylmethyl group, cyclopentylmethyl group, 2-cyclopropylethyl group, 2-cyclobutylethyl group, cyanomethyl group or 2-cyanoethyl group, and more preferably Are ethyl, propyl, butyl, 2-fluoroethyl, 2-chloroethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, pentafluoroethyl, 3-fluoropropyl, 3-chloropropyl, 2,3,3-trifluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 4-fluorobutyl group, cyclopropylmethyl group, cyclobutylmethyl group, 2-cyclopropylethyl group, 2-cyclobutylethyl A til group, a cyanomethyl group or a 2-cyanoethyl group, particularly preferably an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a pentafluoroethyl group, a 3-fluoropropyl group, 3, 3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 4-fluorobutyl group, cyclopropylmethyl group, cyclobutyl A methyl group or a cyanomethyl group, most preferably an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group or a cyclopropylmethyl group. It is.
本発明において、R1の「置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C2−C6アルケニル基」、2−フルオロエテニル基、2−クロロエテニル基、2−ブロモエテニル基、3−フルオロ−2−プロペニル基、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、3,3−ジフルオロ−2−プロペニル基、3,3−ジクロロ−2−プロペニル基、2,3,3−トリフルオロ−2−プロペニル基、2−シアノエテニル基又は3−シアノ−2−プロペニル基であり得、好適には、前記「C2−C4アルケニル基」、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、2−シアノエテニル基又は3−シアノ−2−プロペニル基であり、最も好適には、3,3−ジフルオロ−2−プロペニル基、3,3−ジクロロ−2−プロペニル基又は2−プロペニル基である。In the present invention, “optionally substituted C 2 -C 6 alkenyl group of R 1 (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of a halogen atom and a cyano group). Is, for example, the aforementioned “C 2 -C 6 alkenyl group”, 2-fluoroethenyl group, 2-chloroethenyl group, 2-bromoethenyl group, 3-fluoro-2-propenyl group, 2-chloro-2-propenyl group. 3-chloro-2-propenyl group, 3,3-difluoro-2-propenyl group, 3,3-dichloro-2-propenyl group, 2,3,3-trifluoro-2-propenyl group, 2-cyanoethenyl group Or a 3-cyano-2-propenyl group, preferably the “C 2 -C 4 alkenyl group”, 2-chloro-2-propenyl group, 3-chloro-2-propenyl group, 2-cyanoethenyl group. Or 3-cyano-2-propenyl group, and most preferably 3,3-difluoro-2-propenyl group, 3,3-dichloro-2-propenyl group or 2-propenyl group.
本発明において、Aの「置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、4−クロロブチル基、5−フルオロペンチル基、5−クロロペンチル基、6−フルオロへキシル基、6−クロロヘキシル基、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシロエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、5−ヒドロキシペンチル基又は6−ヒドロキシへキシル基であり得、好適には、「置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、1個のヒドロキシル基又は1−7個のハロゲン原子である。)」であり、より好適には、前記「C1−C3アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基又は2−ヒドロキシエチル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基又は2−ヒドロキシエチル基であり、特に好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、最も好適には、メチル基、エチル基又はジフルオロメチル基である。In the present invention, “an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of a hydroxyl group and a halogen atom)” of A Is, for example, the aforementioned “C 1 -C 6 alkyl group”, fluoromethyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 3-chloropropyl group, 2,3,3-trifluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, heptafluoropropyl group, 4-fluorobuty Group, 4-chlorobutyl group, 5-fluoropentyl group, 5-chloropentyl group, 6-fluorohexyl group, 6-chlorohexyl group, hydroxymethyl group, 2-hydroxyroethyl group, 3-hydroxypropyl group, 4 -Hydroxybutyl group, 5-hydroxypentyl group or 6-hydroxyhexyl group, and preferably “an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is one hydroxyl group) Or 1-7 halogen atoms.) ”, And more preferably, the“ C 1 -C 3 alkyl group ”, fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2 -Fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 3,3,3 A trifluoropropyl group, a 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group or a 2-hydroxyethyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group. , Fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group or 2-hydroxyethyl group, particularly preferably methyl group, ethyl group, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group or 2,2,2- A trifluoroethyl group, most preferably a methyl group, an ethyl group or a difluoromethyl group. .
本発明において、Aの「置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C2−C6アルケニル基」、2−フルオロエテニル基、2−クロロエテニル基、2−ブロモエテニル基、3−フルオロ−2−プロペニル基、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、3,3−ジフルオロ−2−プロペニル基、3,3−ジクロロ−2−プロペニル基又は2,3,3−トリフルオロ−2−プロペニル基であり得、好適には、前記「C2−C4アルケニル基」、2−クロロ−2−プロペニル又は3−クロロ−2−プロペニル基であり、より好適には、エテニル基、2−プロペニル基又は2−ブテニル基であり、最も好適には、2−プロペニル基である。
本発明において、Aの「置換されていてもよいC2−C6アルキニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C2−C6アルキニル基」、2−フルオロエチニル基、2−クロロエチニル基、2−ブロモエチニル基、3−フルオロ−2−プロピニル基又は3−クロロ−2−プロピニル基であり得、好適には、前記「C2−C4アルキニル基」であり、より好適には、エチニル基である。
本発明において、Aの「置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−6個の置換基である。)」は、例えば、前記「C3−C6シクロアルキル基」、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、ブロモシクロプロピル基、ジブロモシクロプロピル基、ヨードシクロプロピル基、フルオロシクロブチル基、クロロシクロブチル基、ブロモシクロブチル基、フルオロシクロペンチル基、ジフルオロシクロペンチル基、クロロシクロペンチル基、ジクロロシクロペンチル基、ブロモシクロペンチル基、ジブロモシクロペンチル基、ヨードシクロペンチル基、フルオロシクロへキシル基、ジフルオロシクロへキシル基、クロロシクロへキシル基、ジクロロシクロへキシル基、ブロモシクロへキシル基、ジブロモシクロへキシル基又はヨードシクロへキシル基であり得、好適には、前記「C3−C6シクロアルキル基」、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基又はジクロロシクロプロピル基であり、より好適には、シクロプロピル基又はシクロブチル基である。
本発明において、Aの「式 −C(Y)=NOR (式中、Rは、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、Yは、水素原子又はアミノ基を表す。)で表される基」は、好適には、Rが水素原子又はC1−C4アルキル基である基であり、より好適には、Rが、水素原子、メチル基又はエチル基である基であり、最も好適には、Rが水素原子又はメチル基であり、Yが、水素原子である基である。
本発明において、Aの「置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基及びC1−C6アルコキシ基からなる群から選択される1〜3個の置換基である。)」は、例えば、前記「5−6員環へテロアリール基」、クロロフリル基、メチルフリル基、メトキシフリル基、クロロチエニル基、メトキシチエニル基、メチルピロリル基、クロロオキサゾリル基、メチルオキサゾリル基、メトキシオキサゾリル基、メチルイソオキサゾリル基、エチルイソオキサゾリル基、クロロイソオキサゾリル基、メトキシイソオキサゾリル基、メチルチアゾリル基、エチルチアゾリル基、クロロチアゾリル基、メトキシチアゾリル基、クロロイソチアゾリル基、メチルイソチアゾリル基、クロロイミダゾリル基、メチルイミダゾリル基、メチルピラゾリル基、クロロピラゾリル基、フルオロピラゾリル基、クロロオキサジアゾリル基、メチルオキサジアゾリル基、エチルオキサジアゾリル基、メチルジヒドロオキサジアゾリル基、エチルジヒドロオキサジアゾリル基、クロロチアジアゾリル基、メチルチアジアゾリル基、エチルチアジアゾリル基、メチルジヒドロチアジアゾリル基、メチルトリアゾリル基、クロロトリアゾリル基、クロロピリジル基、メチルピリジル基、メトキシピリジル基、エチルピリジル基、クロロピラジニル基、メチルピラジニル基、メトキシピラジニル基、クロロピリミジニル基、メチルピリミジニル基、メトキシピリミジニル基、クロロピリダジニル基、メチルピリダジニル基又はメトキシピリダジニル基であり得、好適には、フリル基、クロロフリル基、メチルフリル基、メトキシフリル基、チエニル基、クロロチエニル基、メトキシチエニル基、ピロリル基、メチルピロリル基、オキサゾリル基、クロロオキサゾリル基、メチルオキサゾリル基、メトキシオキサゾリル基、イソオキサゾリル基、メチルイソオキサゾリル基、クロロイソオキサゾリル基、メトキシイソオキサゾリル基、チアゾリル基、メチルチアゾリル基、クロロチアゾリル基、メトキシチアゾリル基、イソチアゾリル基、クロロイソチアゾリル基、メチルイソチアゾリル基、イミダゾリル基、クロロイミダゾリル基、メチルイミダゾリル基、ピラゾリル基、メチルピラゾリル基、クロロピラゾリル基、フルオロピラゾリル基、オキサジアゾリル基、クロロオキサジアゾリル基、メチルオキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、メチルジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、クロロチアジアゾリル基、メチルチアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、メチルジヒドロチアジアゾリル基、メチルトリアゾリル基、トリアゾリル基、クロロトリアゾリル基、ピリジル基、クロロピリジル基、メチルピリジル基、メトキシピリジル基、エチルピリジル基、ピラジニル基、クロロピラジニル基、メチルピラジニル基、メトキシピラジニル基、ピリミジニル基、クロロピリミジニル基、メチルピリミジニル基、メトキシピリミジニル基、ピリダジニル基、クロロピリダジニル基、メチルピリダジニル基又はメトキシピリダジニル基であり、より好適には、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基又はピリダジニル基であり、更により好適には、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はピリジル基であり、特に好適には、イソキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基であり、最も好適には、チアゾリル基、オキサジアゾリル基又はジヒドロオキサジアゾリル基である。
本発明において、R2、R4等の「置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、4−クロロブチル基、ノナフルオロブチル基、5−フルオロペンチル基、5−クロロペンチル基、6−フルオロへキシル基又は6−クロロヘキシル基であり得、好適には、前記「C1−C4アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基であり、R2、R5及びR8については、より好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、最も好適には、メチル基又はエチル基であり、R3、R4、R6、R7、R9及びR10については、より好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基であり、特に好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基又はヘプタフルオロプロピル基であり、最も好適には、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基又はヘプタフルオロプロピル基である。
本発明において、R4等の「置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルコキシ基」、フルオロメトキシ、クロロメトキシ、ブロモメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、2−フルオロエトキシ、2−クロロエトキシ、2−ブロモエトキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ、ペンタフルオロエトキシ、3−フルオロプロポキシ、3−クロロプロポキシ、2,3,3−トリフルオロプロポキシ、3,3,3−トリフルオロプロポキシ、2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ、ヘプタフルオロプロポキシ、4−フルオロブトキシ、4−クロロブトキシ、5−フルオロペンチオキシ、5−クロロペンチオキシ、6−フルオロへキシルオキシ又は6−クロロヘキシルオキシ基であり得、好適には、「置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個のハロゲン原子である。)」であり、より好適には、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基又はペンタフルオロエトキシ基であり、最も好適には、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基である。
本発明において、R4等の「置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルキルチオ基」、フルオロメチルチオ、クロロメチルチオ、ブロモメチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、2−フルオロエチルチオ、2−クロロエチルチオ、2−ブロモエチルチオ、2,2,2−トリフルオロエチルチオ、ペンタフルオロエチルチオ、3−フルオロプロピルチオ、3−クロロプロピルチオ、2,3,3−トリフルオロプロピルチオ、3,3,3−トリフルオロプロピルチオ、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルチオ、ヘプタフルオロプロピルチオ、4−フルオロブチルチオ、4−クロロブチルチオ、5−フルオロペンチルチオ、5−クロロペンチルチオ、6−フルオロへキシルチオ又は6−クロロヘキシルチオ基であり得、好適には、「置換されていてもよいC1−C3アルキルチオ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)」であり、より好適には、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基又はペンタフルオロエチルチオ基であり、最も好適には、ジフルオロメチルチオ基又は2,2,2−トリフルオロエチルチオ基である。
本発明において、R4等の「置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜5個の置換基である。]」は、例えば、フェニル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、フルオロクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、フルオロ(メチル)フェニル基、クロロ(メチル)フェニル基、ブロモ(メチル)フェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基、フルオロ(トリフルオロメチル)フェニル基、メトキシフェニル基、(ジフルオロメトキシ)フェニル基、(トリフルオロメトキシ)フェニル基、エトキシフェニル基、(2,2,2−トリフルオロエトキシ)フェニル基、フロポキシフェニル基又は(3,3,3−トリフルオロプロポキシ)フェニル基であり得、好適には、「置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C3アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)から選択される1〜3個の置換基である。]であり、より好適には、「置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいC1−C2アルキル基(当該置換基は、フッ素原子及び塩素原子からなる群から選ばれる1−3個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C2アルコキシ基(当該置換基は、フッ素原子及び塩素原子からなる群から選ばれる1−3個の置換基である。)からなる群から選択される1〜3個の置換基である。]」であり、更により好適には、フェニル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基、メトキシフェニル基、(ジフルオロメトキシ)フェニル基、(トリフルオロメトキシ)フェニル基又は(2,2,2−トリフルオロエトキシ)フェニル基であり、最も好適には、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基である。In the present invention, “optionally substituted C 2 -C 6 alkenyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms)” of A is, for example, , “C 2 -C 6 alkenyl group”, 2-fluoroethenyl group, 2-chloroethenyl group, 2-bromoethenyl group, 3-fluoro-2-propenyl group, 2-chloro-2-propenyl group, 3-chloro -2-propenyl group, 3,3-difluoro-2-propenyl group, 3,3-dichloro-2-propenyl group or 2,3,3-trifluoro-2-propenyl group, A “C 2 -C 4 alkenyl group”, a 2-chloro-2-propenyl group or a 3-chloro-2-propenyl group, more preferably an ethenyl group, a 2-propenyl group or a 2-butenyl group, Suitable Is a 2-propenyl group.
In the present invention, “optionally substituted C 2 -C 6 alkynyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms)” of A is, for example, , Said “C 2 -C 6 alkynyl group”, 2-fluoroethynyl group, 2-chloroethynyl group, 2-bromoethynyl group, 3-fluoro-2-propynyl group or 3-chloro-2-propynyl group The “C 2 -C 4 alkynyl group” is preferable, and the ethynyl group is more preferable.
In the present invention, the “optionally substituted C 3 -C 6 cycloalkyl group (the substituent is 1-6 substituents selected from the group consisting of halogen atoms)” of A is “ For example, the “C 3 -C 6 cycloalkyl group”, fluorocyclopropyl group, difluorocyclopropyl group, chlorocyclopropyl group, dichlorocyclopropyl group, bromocyclopropyl group, dibromocyclopropyl group, iodocyclopropyl group, fluoro Cyclobutyl, chlorocyclobutyl, bromocyclobutyl, fluorocyclopentyl, difluorocyclopentyl, chlorocyclopentyl, dichlorocyclopentyl, bromocyclopentyl, dibromocyclopentyl, iodocyclopentyl, fluorocyclohexyl, difluorocyclo Hexyl group, a cyclohexyl group Kuroroshikuro, dichloro cyclohexyl group, a cyclohexyl group Buromoshikuro be a cyclohexyl group dibromo cyclohexyl group or Yodoshikuro, Preferably, the "C 3 -C 6 cycloalkyl group" refers to fluoro A cyclopropyl group, a difluorocyclopropyl group, a chlorocyclopropyl group, or a dichlorocyclopropyl group, and more preferably a cyclopropyl group or a cyclobutyl group.
In the present invention, it is represented by “Formula —C (Y) ═NOR (wherein R represents a hydrogen atom or a C 1 -C 6 alkyl group, and Y represents a hydrogen atom or an amino group)”. The “group” is preferably a group in which R is a hydrogen atom or a C 1 -C 4 alkyl group, more preferably a group in which R is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, Preferably, R is a hydrogen atom or a methyl group, and Y is a group that is a hydrogen atom.
In the present invention, “containing 5 1 to 3 heteroatoms selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, which may be substituted and partially saturated,” of A. -6-membered ring heteroaryl group (said substituent is 1 to 3 substituents selected from the group consisting of halogen atom, C 1 -C 6 alkyl group and C 1 -C 6 alkoxy group.) " Is, for example, the above-mentioned “5-6-membered heteroaryl group”, chlorofuryl group, methylfuryl group, methoxyfuryl group, chlorothienyl group, methoxythienyl group, methylpyrrolyl group, chlorooxazolyl group, methyloxazolyl group Methoxyoxazolyl group, methylisoxazolyl group, ethylisoxazolyl group, chloroisoxazolyl group, methoxyisoxazolyl group, methylthiazolyl group, ethyl Thiazolyl group, chlorothiazolyl group, methoxythiazolyl group, chloroisothiazolyl group, methylisothiazolyl group, chloroimidazolyl group, methylimidazolyl group, methylpyrazolyl group, chloropyrazolyl group, fluoropyrazolyl group, chlorooxadiazolyl group, Methyloxadiazolyl group, ethyloxadiazolyl group, methyldihydrooxadiazolyl group, ethyldihydrooxadiazolyl group, chlorothiadiazolyl group, methylthiadiazolyl group, ethylthiadiazolyl group, methyldihydrothiadiazolyl group , Methyltriazolyl group, chlorotriazolyl group, chloropyridyl group, methylpyridyl group, methoxypyridyl group, ethylpyridyl group, chloropyrazinyl group, methylpyrazinyl group, methoxypyrazinyl group, chloropyrimidinyl group, Rupyrimidinyl group, methoxypyrimidinyl group, chloropyridazinyl group, methylpyridazinyl group or methoxypyridazinyl group, preferably furyl group, chlorofuryl group, methylfuryl group, methoxyfuryl group , Thienyl group, chlorothienyl group, methoxythienyl group, pyrrolyl group, methylpyrrolyl group, oxazolyl group, chlorooxazolyl group, methyloxazolyl group, methoxyoxazolyl group, isoxazolyl group, methylisoxazolyl group, chloro Isoxazolyl group, methoxyisoxazolyl group, thiazolyl group, methylthiazolyl group, chlorothiazolyl group, methoxythiazolyl group, isothiazolyl group, chloroisothiazolyl group, methylisothiazolyl group, imidazolyl group, chloroimidazolyl group, Methylimidazolyl group, pyrazolyl Group, methylpyrazolyl group, chloropyrazolyl group, fluoropyrazolyl group, oxadiazolyl group, chlorooxadiazolyl group, methyloxadiazolyl group, dihydrooxadiazolyl group, methyldihydrooxadiazolyl group, thiadiazolyl group, chlorothiadiazolyl group , Methylthiadiazolyl group, dihydrothiadiazolyl group, methyldihydrothiadiazolyl group, methyltriazolyl group, triazolyl group, chlorotriazolyl group, pyridyl group, chloropyridyl group, methylpyridyl group, methoxypyridyl group, Ethylpyridyl group, pyrazinyl group, chloropyrazinyl group, methylpyrazinyl group, methoxypyrazinyl group, pyrimidinyl group, chloropyrimidinyl group, methylpyrimidinyl group, methoxypyrimidinyl group, pyridazinyl group, chloropyridazinyl group Methylpyridazinyl group or methoxypyridazinyl group, more preferably furyl group, thienyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, oxadiazolyl group, dihydroxyl group A diazolyl group, a thiadiazolyl group, a dihydrothiadiazolyl group, a pyridyl group, a pyrazinyl group, a pyrimidinyl group or a pyridazinyl group, and even more preferably an isoxazolyl group, a thiazolyl group, an isothiazolyl group, an oxadiazolyl group, a dihydrooxadiazolyl group , Thiadiazolyl group or pyridyl group, particularly preferably isoxazolyl group, thiazolyl group, oxadiazolyl group, dihydrooxadiazolyl group or thiadiazolyl group, most preferably thiazolyl group, oxadiazolyl group. A group or a dihydro-oxadiazolyl group.
In the present invention, “optionally substituted C 1 -C 6 alkyl groups such as R 2 and R 4 (the substituents are 1 to 9 substituents selected from the group consisting of halogen atoms). ) ”Is, for example, the above-mentioned“ C 1 -C 6 alkyl group ”, fluoromethyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2- Bromoethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 3-chloropropyl group, 2,3,3-trifluoropropyl group, 3,3,3-trifluoro Propyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 1-trifluoromethyl-2,2,2-trifluoro A til group, heptafluoropropyl group, 4-fluorobutyl group, 4-chlorobutyl group, nonafluorobutyl group, 5-fluoropentyl group, 5-chloropentyl group, 6-fluorohexyl group or 6-chlorohexyl group Preferably, the “C 1 -C 4 alkyl group”, fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2,2 -Trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 2,3,3-trifluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl Group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 1-trifluoromethyl-2,2,2-trifluoroethyl group, hep Fluoropropyl group, 4-fluoro butyl group or a nonafluorobutyl group, for R 2, R 5 and R 8 is more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, A difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2-fluoroethyl group or a 2,2,2-trifluoroethyl group, and even more preferably a methyl group, an ethyl group, a fluoromethyl group, a chloromethyl group, a difluoromethyl. A group, a trifluoromethyl group or a 2,2,2-trifluoroethyl group, most preferably a methyl group or an ethyl group, and R 3 , R 4 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10. More preferably, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoro group are more preferable. Methyl group, 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 2,3,3-trifluoropropyl group, 3,3 , 3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 1-trifluoromethyl-2,2,2-trifluoro An ethyl group, a heptafluoropropyl group, a 4-fluorobutyl group or a nonafluorobutyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, 2 -Fluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 2,3,3-trifluoro Ropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 1-trifluoromethyl-2, 2,2-trifluoroethyl group, heptafluoropropyl group, 4-fluorobutyl group or nonafluorobutyl group, particularly preferably methyl group, ethyl group, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 2,3,3-trifluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl Group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 1-trifluoromethyl-2,2,2-trifluoroethyl group or heptafluoropropylene. And most preferably a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group or a heptafluoropropyl group.
In the present invention, “optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms)” such as R 4, etc. For example, the “C 1 -C 6 alkoxy group”, fluoromethoxy, chloromethoxy, bromomethoxy, difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2-fluoroethoxy, 2-chloroethoxy, 2-bromoethoxy, 2,2,2 -Trifluoroethoxy, pentafluoroethoxy, 3-fluoropropoxy, 3-chloropropoxy, 2,3,3-trifluoropropoxy, 3,3,3-trifluoropropoxy, 2,2,3,3-tetrafluoropropoxy , Heptafluoropropoxy, 4-fluorobutoxy, 4-chlorobutoxy, 5-fluoropentoxy, 5- It may be a chloropenthioxy, 6-fluorohexyloxy or 6-chlorohexyloxy group, and is preferably “an optionally substituted C 1 -C 3 alkoxy group (the substituent is 1-7 fluorines) Or a halogen atom.), And more preferably a methoxy group, an ethoxy group, a fluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, or A pentafluoroethoxy group, most preferably a difluoromethoxy group or a trifluoromethoxy group.
In the present invention, “optionally substituted C 1 -C 6 alkylthio group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms)” such as R 4, etc. For example, the “C 1 -C 6 alkylthio group”, fluoromethylthio, chloromethylthio, bromomethylthio, difluoromethylthio, trifluoromethylthio, 2-fluoroethylthio, 2-chloroethylthio, 2-bromoethylthio, 2, 2,2-trifluoroethylthio, pentafluoroethylthio, 3-fluoropropylthio, 3-chloropropylthio, 2,3,3-trifluoropropylthio, 3,3,3-trifluoropropylthio, 2, 2,3,3-tetrafluoropropylthio, heptafluoropropylthio, 4-fluorobutylthio, 4-chlorobut It can be a thiolthio, 5-fluoropentylthio, 5-chloropentylthio, 6-fluorohexylthio or 6-chlorohexylthio group, preferably “an optionally substituted C 1 -C 3 alkylthio group (in which The substituent is 1-7 fluorine atoms or 1 chlorine atom.) ”, And more preferably a methylthio group, an ethylthio group, a fluoromethylthio group, a difluoromethylthio group, a trifluoromethylthio group, 2 , 2,2-trifluoroethylthio group or pentafluoroethylthio group, most preferably a difluoromethylthio group or a 2,2,2-trifluoroethylthio group.
In the present invention, an optionally substituted phenyl group such as R 4 [the substituent is a halogen atom, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is a group consisting of a halogen atom] And 1 to 9 substituents selected from the group consisting of halogen atoms, and optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy groups. Is a 1 to 5 substituent selected from the group consisting of: a phenyl group, a fluorophenyl group, a difluorophenyl group, a trifluorophenyl group, a chlorophenyl group, a dichlorophenyl group, Trichlorophenyl group, fluorochlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, methylphenyl group, dimethylphenyl group, trimethylphenyl group, ethylphenol Nyl group, fluoro (methyl) phenyl group, chloro (methyl) phenyl group, bromo (methyl) phenyl group, (trifluoromethyl) phenyl group, fluoro (trifluoromethyl) phenyl group, methoxyphenyl group, (difluoromethoxy) phenyl A group, (trifluoromethoxy) phenyl group, ethoxyphenyl group, (2,2,2-trifluoroethoxy) phenyl group, phlooxyphenyl group or (3,3,3-trifluoropropoxy) phenyl group, Preferably, “an optionally substituted phenyl group [the substituent is a halogen atom, an optionally substituted C 1 -C 3 alkyl group (the substituent is selected from the group consisting of halogen atoms] 1-7 substituents) and an optionally substituted C 1 -C 3 alkoxy group (the substituent is a halogen atom or 1 to 3 substituents selected from the group consisting of 1 to 7 substituents selected from the group consisting of 1 to 7 substituents], and more preferably “optionally substituted phenyl group”. [The substituent is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an optionally substituted C 1 -C 2 alkyl group (the substituent is selected from the group consisting of a fluorine atom and a chlorine atom. And a C 1 -C 2 alkoxy group which may be substituted (the substituent is 1-3 substituents selected from the group consisting of a fluorine atom and a chlorine atom). 1 to 3 substituents selected from the group]], and even more preferably, phenyl group, fluorophenyl group, difluorophenyl group, trifluorophenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl. Group Ruphenyl group, dimethylphenyl group, ethylphenyl group, (trifluoromethyl) phenyl group, methoxyphenyl group, (difluoromethoxy) phenyl group, (trifluoromethoxy) phenyl group or (2,2,2-trifluoroethoxy) phenyl Most preferably a chlorophenyl group, a (trifluoromethyl) phenyl group or a (trifluoromethoxy) phenyl group.
本発明の化合物(I)は、酸性物質又は塩基性物質とともに塩を形成してもよく、例えば、分子中に解離性のプロトンがある場合には、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩にすることができ、又、酸性物質との塩としては、例えば、硫酸塩、塩酸塩、硝酸塩、リン酸塩のような塩にすることができる。それらの塩は、殺虫組成物などの農薬組成物として使用できるかぎり、本発明に包含される。 The compound (I) of the present invention may form a salt with an acidic substance or a basic substance. For example, when there is a dissociable proton in the molecule, an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt or ammonium The salt with an acidic substance may be a salt such as a sulfate, hydrochloride, nitrate, or phosphate. Those salts are included in the present invention as long as they can be used as an agrochemical composition such as an insecticidal composition.
本発明において、「アルカリ金属塩」は、例えば、リチウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩であり得、好適には、ナトリウム塩又はカリウム塩である。 In the present invention, the “alkali metal salt” can be, for example, a lithium salt, a sodium salt, or a potassium salt, and is preferably a sodium salt or a potassium salt.
本発明において、「アルカリ土類金属塩」は、例えば、カルシウム塩又はマグネシウム塩であり得、好適には、カルシウム塩である。 In the present invention, the “alkaline earth metal salt” can be, for example, a calcium salt or a magnesium salt, and is preferably a calcium salt.
本発明化合物の水和物も、本発明に包含されるものである。 Hydrates of the compounds of the present invention are also encompassed by the present invention.
本発明の一般式(I)において、
R1は、(1a)好適には、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−7個のハロゲン原子、1個のC3−C6シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1−2個のハロゲン原子又は1個のシアノ基である。)又はC3−C6シクロアルキル基であり、
(1b)より好適には、置換されていてもよいC2−C4アルキル基(当該置換基は、1−5個の弗素原子、1個の塩素原子、1個のC3−C4シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、C2−C4アルケニル基又はC3−C5シクロアルキル基であり、
(1c)更により好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シアノメチル基、2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペン−1−イル基又はシクロペンチル基であり、
(1d)特に好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は2−プロペニル基であり、
(1e)最も好適には、プロピル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
Aは、(2a)好適には、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1個のヒドロキシル基又は1−5個のハロゲン原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルキニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC3−C4シクロアルキル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、式 −C(Y)=NOR(式中、Rは、水素原子又はC1−C4アルキル基であり、Yは、水素原子又はアミノ基である。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C2アルキル基及びC1−C2アルコキシ基からなる群から選択される1〜2個の置換基である。)又はシアノ基であり、
(2b)より好適には、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、C1−C3アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、C2−C4アルケニル基、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、C2−C4アルキニル基、3−クロロ−2−プロピニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、アミノ(ヒドロキシイミノ)メチル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基又はシアノ基であり、
(2c)更により好適には、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、エチニル基、1−プロピニル基、2−ブチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ピリジル基又はシアノ基であり、
(2d)特に好適には、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−プロペニル基、エチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はシアノ基であり、
(2e)最も好適には、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、シクロプロピル基、2−プロペニル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はシアノ基であり、
Xは、(3a)好適には、弗素原子又は塩素原子であり、
(3b)より好適には、弗素原子であり、
mは、(4a)好適には、0乃至2の整数であり、
(4b)より好適には、0又は1の整数であり、
nは、(5a)好適には、0の整数であり、
Qは、(6a)好適には、式(Q−1)又は(Q−2)で表される基であり、
(6b)より好適には、式(Q−1)で表される基であり
R2、R5及びR8は、(7a)好適には、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個の弗素原子又は1個のハロゲン原子である。)であり、
(7b)より好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
(7c)更により好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
(7d)最も好適には、メチル基又はエチル基であり
R3、R4、R6、R7、R9及びR10は、(8a)好適には、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルキルチオ基(当該置換基は、1−7個の弗素原子又は1個の塩素原子である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C3アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜3個の置換基である。]であり、
(8b)より好適には、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、フェニル基又は弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基及びメトキシ基からなる群から選択される1−2個の置換基で置換されたフェニル基であり、
(8c)更により好適には、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基であり、
(8d)最も好適には、R3、R6及びR9は、水素原子、塩素原子又はメチル基であり、R4、R7及びR10は、水素原子、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基又は2,2,2−トリフルオロエチルチオ基である。
また、R1を(1a)−(1e)から選択し、Aを(2a)−(2e)から選択し、Xを(3a)−(3b)から選択し、mを(4a)−(4b)から選択し、nを(5a)から選択し、R2等を(7a)−(7d)から選択し、R3等を(8a)−(8d)から選択し、これらを組み合わせて得られる化合物も好適であり、例えば、以下のものを挙げることができる。
(1A)R1が、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−7個のハロゲン原子、1個のC3−C6シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1−2個のハロゲン原子又は1個のシアノ基である。)又はC3−C6シクロアルキル基であり、
Aが、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1個のヒドロキシル基又は1−5個のハロゲン原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルキニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC3−C4シクロアルキル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、式 −C(Y)=NOR(式中、Rは、水素原子又はC1−C4アルキル基であり、Yは、水素原子又はアミノ基である。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C2アルキル基及びC1−C2アルコキシ基からなる群から選択される1〜2個の置換基である。)又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子又は塩素原子であり、
mが、0乃至2の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)、(Q−2)又は(Q−3)で表される基であり、
R2、R5及びR8が、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個の弗素原子又は1個のハロゲン原子である。)であり、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルキルチオ基(当該置換基は、1−7個の弗素原子又は1個の塩素原子である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C3アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜3個の置換基である。]である化合物、
(1B)R1が、置換されていてもよいC2−C4アルキル基(当該置換基は、1−5個の弗素原子、1個の塩素原子、1個のC3−C4シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、C2−C4アルケニル基又はC5−C6シクロアルキル基であり、
Aが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、C1−C3アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、C2−C4アルケニル基、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、C2−C4アルキニル基、3−クロロ−2−プロピニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、アミノ(ヒドロキシイミノ)メチル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子又は塩素原子であり、
mが、0乃至2の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)、(Q−2)又は(Q−3)で表される基であり、
R2、R5及びR8が、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、フェニル基又は弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基及びメトキシ基からなる群から選択される1−2個の置換基で置換されたフェニル基である化合物、
(1C)R1が、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シアノメチル基、2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペン−1−イル基又はシクロペンチル基であり、
Aが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、エチニル基、1−プロピニル基、2−ブチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ピリジル基又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子又は塩素原子であり、
mが、0乃至2の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)又は(Q−2)で表される基であり、
R2、R5及びR8が、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基である化合物、
(1D)R1が、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は2−プロペニル基であり、
Aが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−プロペニル基、エチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子又は塩素原子であり、
mが、0又は1の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)で表される基であり、
R2が、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
R3及びR4が、同一又は異なって、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基である化合物 又は
(1E)R1が、プロピル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
Aが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、シクロプロピル基、2−プロペニル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子であり、
mが、0又は1の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)で表される基であり、
R2は、メチル基又はエチル基であり、
R3が、水素原子、塩素原子又はメチル基であり、R4が、水素原子、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基又は2,2,2−トリフルオロエチルチオ基である化合物。
また、X1は、好適には、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基、メルカプト基、式 −S(C=O)Ra(式中、Raは、C1−C2アルキル基である。)で表される基、式 −S(C=S)Ra(式中、Raは、C1−C2アルコキシ基である。)で表される基又はクロロスルホニル基であり、より好適には、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基、メルカプト基、式 −S(C=S)Ra(式中、Raは、C1−C2アルコキシ基である。)で表される基又はクロロスルホニル基であり、更により好適には、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基又はメルカプト基子である。
他方、本発明の一般式(I)において、
R1は、好適には、1乃至7個のハロゲンで置換されてもよいC2−C4のアルキル基、C3−C4シクロアルキル基で置換されたC1−C2アルキル基又はC3−C4アルケニル基であり、より好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,3,3−トリフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、2−プロペニル基又は2−メチル−2−プロペニル基であり、更により好適には、プロピル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は2−プロペニル基である。In the general formula (I) of the present invention,
R 1 is (1a) preferably an optionally substituted C 1 -C 4 alkyl group (the substituent is 1-7 halogen atoms, 1 C 3 -C 6 cycloalkyl group or 1 cyano group), an optionally substituted C 2 -C 4 alkenyl group (the substituent is 1-2 halogen atoms or 1 cyano group) or C 3- . A C 6 cycloalkyl group,
Suitable than (1b), optionally substituted C 2 -C 4 alkyl group (the substituent is one to five fluorine atoms, one chlorine atom, one C 3 -C 4 cycloalkyl an alkyl group or one cyano group.), and a C 2 -C 4 alkenyl group or a C 3 -C 5 cycloalkyl group,
(1c) Even more preferably, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a pentafluoroethyl group, a 3-fluoropropyl group, a 3,3,3-trifluoropropyl group 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 4-fluorobutyl group, cyclopropylmethyl group, cyclobutylmethyl group, cyanomethyl group, 2- A propenyl group, a 2-methyl-2-propen-1-yl group or a cyclopentyl group,
(1d) Particularly preferably, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a cyclopropylmethyl group, or a 2-propenyl group,
(1e) Most preferably, it is a propyl group or a 2,2,2-trifluoroethyl group,
A is preferably (2a), halogen atom, optionally substituted C 1 -C 4 alkyl group (said substituent is one hydroxyl group or 1-5 halogen atoms.), An optionally substituted C 2 -C 4 alkenyl group (the substituent is one fluorine atom or a chlorine atom), an optionally substituted C 2 -C 4 alkynyl group (the substituent is 1 fluorine atom or chlorine atom), an optionally substituted C 3 -C 4 cycloalkyl group (the substituent is one fluorine atom or chlorine atom), a formula —C A group represented by (Y) = NOR (wherein R is a hydrogen atom or a C 1 -C 4 alkyl group, and Y is a hydrogen atom or an amino group), which may be substituted; Consisting of nitrogen, oxygen and sulfur atoms which may be partially saturated 5-6 membered heteroaryl group containing 1-3 heteroatoms selected from the group (the substituent is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a C 1 -C 2 alkyl group and a C 1 -C) 2 or 2 substituents selected from the group consisting of 2 alkoxy groups) or a cyano group,
More preferably (2b), a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, C 1 -C 3 alkyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2- Chloroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, hydroxyl methyl, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, C 2 -C 4 alkenyl group, 2-chloro-2-propenyl group, 3-chloro-2-propenyl group, C 2 -C 4 alkynyl group, 3 -Chloro-2-propynyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, fluorocyclopropyl group, difluorocyclopropyl group, chloro Chloropropyl group, dichlorocyclopropyl group, (hydroxyimino) methyl group, (methoxyimino) methyl group, (ethoxyimino) methyl group, amino (hydroxyimino) methyl group, furyl group, thienyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, Thiazolyl group, isothiazolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, oxadiazolyl group, dihydrooxadiazolyl group, thiadiazolyl group, dihydrothiadiazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group or cyano group,
(2c) Even more preferably, chlorine atom, bromine atom, methyl group, ethyl group, propyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2,2 , 2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, hydroxylmethyl group, 1-hydroxylethyl group, 2-hydroxylethyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, ethynyl group, 1- Propynyl, 2-butynyl, cyclopropyl, cyclobutyl, (hydroxyimino) methyl, (methoxyimino) methyl, (ethoxyimino) methyl, isoxazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, oxadiazolyl, dihydrooxa Diazolyl group, thiadiazolyl group, pyridyl group or An amino group,
(2d) Particularly preferably, a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, an ethyl group, a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2-fluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, 2-propenyl, ethynyl, cyclopropyl, cyclobutyl, (hydroxyimino) methyl, (methoxyimino) methyl, isoxazolyl, thiazolyl, oxadiazolyl, dihydrooxadiazolyl, thiadiazolyl or cyano Yes,
(2e) Most preferably, chlorine atom, bromine atom, methyl group, ethyl group, difluoromethyl group, cyclopropyl group, 2-propenyl group, (hydroxyimino) methyl group, thiazolyl group, oxadiazolyl group, dihydrooxadiazolyl Group or cyano group,
X is (3a) preferably a fluorine atom or a chlorine atom,
(3b) is more preferably a fluorine atom,
m is (4a) preferably an integer from 0 to 2,
(4b) More preferably, it is an integer of 0 or 1.
n is (5a) preferably an integer of 0;
Q is (6a) preferably a group represented by the formula (Q-1) or (Q-2),
(6b) More preferably, it is a group represented by the formula (Q-1), and R 2 , R 5 and R 8 are (7a), preferably an optionally substituted C 1 -C 4 alkyl. A group (the substituent is 1-9 fluorine atoms or 1 halogen atom),
(7b) More preferably, methyl group, ethyl group, propyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group or 2,2,2-trifluoroethyl group And
(7c) Even more preferably, a methyl group, an ethyl group, a fluoromethyl group, a chloromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group or a 2,2,2-trifluoroethyl group,
(7d) Most preferably, it is a methyl group or an ethyl group, and R 3 , R 4 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 are (8a) preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, A bromine atom, an optionally substituted C 1 -C 4 alkyl group (the substituent is 1-9 fluorine atoms or 1 chlorine atom), an optionally substituted C 1 -C 4 alkoxy group (the substituent is 1-7 fluorine atoms or 1 chlorine atom), an optionally substituted C 1 -C 4 alkylthio group (the substituent is 1-7 Or a phenyl group which may be substituted [the substituent is a halogen atom, an optionally substituted C 1 -C 3 alkyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms) and Conversion which may C 1 -C be the 3 alkoxy group (said substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atom.) 1-3 groups selected from the group consisting of Is a substituent. ],
More preferably (8b), a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, C 1 -C 4 alkyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group 2-chloroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 2,3,3-trifluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 1-trifluoromethyl-2,2,2-trifluoroethyl group, heptafluoropropyl group, 4-fluorobutyl group, nonafluorobutyl group, methoxy group, ethoxy group, fluoromethoxy group, difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, 2 2,2-trifluoroethoxy group, pentafluoroethoxy group, methylthio group, ethylthio group, fluoromethylthio group, difluoromethylthio group, trifluoromethylthio group, 2,2,2-trifluoroethylthio group, pentafluoroethylthio group A phenyl group substituted with 1-2 substituents selected from the group consisting of a phenyl group or a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, a trifluoromethyl group and a methoxy group,
(8c) Even more preferably, a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a fluoromethyl group, a chloromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 2,3,3-trifluoropropyl group, 3,3,3- Trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 1-trifluoromethyl-2,2,2-trifluoroethyl group, Heptafluoropropyl group, 4-fluorobutyl group, nonafluorobutyl group, difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, difluoromethylthio group, , 2,2-trifluoroethyl thio group, chlorophenyl group, a (trifluoromethyl) phenyl or (trifluoromethoxy) phenyl group,
(8d) Most preferably, R 3 , R 6 and R 9 are a hydrogen atom, a chlorine atom or a methyl group, and R 4 , R 7 and R 10 are a hydrogen atom, a difluoromethyl group or a trifluoromethyl group. , A pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group, a difluoromethoxy group, a difluoromethylthio group or a 2,2,2-trifluoroethylthio group.
Also, R 1 is selected from (1a)-(1e), A is selected from (2a)-(2e), X is selected from (3a)-(3b), and m is (4a)-(4b). ), N is selected from (5a), R 2 etc. are selected from (7a)-(7d), R 3 etc. are selected from (8a)-(8d), and these are combined. Compounds are also suitable, and examples include the following.
(1A) R 1 is an optionally substituted C 1 -C 4 alkyl group (the substituent is 1-7 halogen atoms, 1 C 3 -C 6 cycloalkyl group, or 1 cyano group) Group), an optionally substituted C 2 -C 4 alkenyl group (the substituent is 1-2 halogen atoms or 1 cyano group) or C 3 -C 6 cycloalkyl. Group,
A is a halogen atom, an optionally substituted C 1 -C 4 alkyl group (the substituent is one hydroxyl group or 1-5 halogen atoms), and optionally substituted C. 2- C 4 alkenyl group (the substituent is one fluorine atom or chlorine atom), an optionally substituted C 2 -C 4 alkynyl group (the substituent is one fluorine atom or A chlorine atom), an optionally substituted C 3 -C 4 cycloalkyl group (the substituent is one fluorine atom or a chlorine atom), a formula —C (Y) = NOR (formula Wherein R is a hydrogen atom or a C 1 -C 4 alkyl group, and Y is a hydrogen atom or an amino group, which may be substituted or partially saturated. 1 selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom 3-6-membered heteroaryl group containing 3 heteroatoms (the substituent is a group consisting of a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a C 1 -C 2 alkyl group and a C 1 -C 2 alkoxy group) 1 or 2 substituents selected from the above) or a cyano group,
X is a fluorine atom or a chlorine atom,
m is an integer from 0 to 2,
n is an integer of 0 or 1,
Q is a group represented by the formula (Q-1), (Q-2) or (Q-3),
R 2 , R 5 and R 8 are optionally substituted C 1 -C 4 alkyl groups (the substituent is 1-9 fluorine atoms or 1 halogen atom);
R 3 , R 4 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 are each a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an optionally substituted C 1 -C 4 alkyl group (the substituent is 1-9 fluorine atoms or 1 chlorine atom), an optionally substituted C 1 -C 4 alkoxy group (the substituent is 1-7 fluorine atoms or 1 chlorine atom) An optionally substituted C 1 -C 4 alkylthio group (the substituent is 1 to 7 fluorine atoms or 1 chlorine atom) or an optionally substituted phenyl group. [The substituent is a halogen atom, an optionally substituted C 1 -C 3 alkyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms) and substitution. An optionally substituted C 1 -C 3 alkoxy group (the substituent is a halogen atom) 1 to 7 substituents selected from the group consisting of atoms.) To 1 to 3 substituents selected from the group consisting of. A compound that is
(1B) R 1 is an optionally substituted C 2 -C 4 alkyl group (the substituent is 1 to 5 fluorine atoms, 1 chlorine atom, 1 C 3 -C 4 cycloalkyl) Group or one cyano group), a C 2 -C 4 alkenyl group or a C 5 -C 6 cycloalkyl group,
A is a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, C 1 -C 3 alkyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2, 2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, hydroxylmethyl group, 1- hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, C 2 -C 4 alkenyl group, 2-chloro-2-propenyl group, 3-chloro-2-propenyl group, C 2 -C 4 alkynyl group, 3-chloro-2 Propynyl, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, fluorocyclopropyl, difluorocyclopropyl, chloro Cyclopropyl group, dichlorocyclopropyl group, (hydroxyimino) methyl group, (methoxyimino) methyl group, (ethoxyimino) methyl group, amino (hydroxyimino) methyl group, furyl group, thienyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, Thiazolyl group, isothiazolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, oxadiazolyl group, dihydrooxadiazolyl group, thiadiazolyl group, dihydrothiadiazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group or cyano group,
X is a fluorine atom or a chlorine atom,
m is an integer from 0 to 2,
n is an integer of 0 or 1,
Q is a group represented by the formula (Q-1), (Q-2) or (Q-3),
R 2 , R 5 and R 8 are methyl, ethyl, propyl, fluoromethyl, chloromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, 2-fluoroethyl or 2,2,2-trifluoro An ethyl group,
R 3 , R 4 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 are hydrogen atom, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, C 1 -C 4 alkyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group , Trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 2,3,3-trifluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 1-trifluoromethyl-2,2,2 -Trifluoroethyl group, heptafluoropropyl group, 4-fluorobutyl group, nonafluorobutyl group, methoxy group, ethoxy group, fluoromethoxy group, difluoromethoxy group, Trifluoromethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, pentafluoroethoxy group, methylthio group, ethylthio group, fluoromethylthio group, difluoromethylthio group, trifluoromethylthio group, 2,2,2-trifluoroethylthio A phenyl group substituted with 1-2 substituents selected from the group consisting of a group, a pentafluoroethylthio group, a phenyl group or a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, a trifluoromethyl group and a methoxy group ,
(1C) R 1 is ethyl, propyl, butyl, 2,2,2-trifluoroethyl, pentafluoroethyl, 3-fluoropropyl, 3,3,3-trifluoropropyl, 2 , 2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 4-fluorobutyl group, cyclopropylmethyl group, cyclobutylmethyl group, cyanomethyl group, 2-propenyl group 2-methyl-2-propen-1-yl group or cyclopentyl group,
A is a chlorine atom, bromine atom, methyl group, ethyl group, propyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl Group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, hydroxylmethyl group, 1-hydroxylethyl group, 2-hydroxylethyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, ethynyl group, 1-propynyl group, 2-butynyl Group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, (hydroxyimino) methyl group, (methoxyimino) methyl group, (ethoxyimino) methyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, oxadiazolyl group, dihydrooxadiazolyl group, thiadiazolyl group , A pyridyl group or a cyano group,
X is a fluorine atom or a chlorine atom,
m is an integer from 0 to 2,
n is an integer of 0 or 1,
Q is a group represented by the formula (Q-1) or (Q-2),
R 2 , R 5 and R 8 are a methyl group, an ethyl group, a fluoromethyl group, a chloromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group or a 2,2,2-trifluoroethyl group,
R 3 , R 4 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 are hydrogen atom, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group , Difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 2,3,3-tri Fluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 1-trifluoromethyl-2 , 2,2-trifluoroethyl group, heptafluoropropyl group, 4-fluorobutyl group, nonafluorobutyl group, difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, di A compound which is a fluoromethylthio group, a 2,2,2-trifluoroethylthio group, a chlorophenyl group, a (trifluoromethyl) phenyl group or a (trifluoromethoxy) phenyl group,
(1D) R 1 is an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a cyclopropylmethyl group, or a 2-propenyl group;
A is a chlorine atom, bromine atom, methyl group, ethyl group, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2-propenyl group, Ethynyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, (hydroxyimino) methyl group, (methoxyimino) methyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group, oxadiazolyl group, dihydrooxadiazolyl group, thiadiazolyl group or cyano group,
X is a fluorine atom or a chlorine atom,
m is an integer of 0 or 1,
n is an integer of 0 or 1,
Q is a group represented by the formula (Q-1),
R 2 is a methyl group, an ethyl group, a fluoromethyl group, a chloromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group or a 2,2,2-trifluoroethyl group,
R 3 and R 4 are the same or different and are a hydrogen atom, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoro Methyl group, 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 2,3,3-trifluoropropyl group, 3,3 , 3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 1-trifluoromethyl-2,2,2-trifluoro Ethyl group, heptafluoropropyl group, 4-fluorobutyl group, nonafluorobutyl group, difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, difluoromethyl Thio, 2,2,2-trifluoroethyl thio group, chlorophenyl group, compounds or (1E) R 1 is (trifluoromethyl) phenyl or (trifluoromethoxy) phenyl group, a propyl group or a 2,2 , 2-trifluoroethyl group,
A is a chlorine atom, bromine atom, methyl group, ethyl group, difluoromethyl group, cyclopropyl group, 2-propenyl group, (hydroxyimino) methyl group, thiazolyl group, oxadiazolyl group, dihydrooxadiazolyl group or cyano group Yes,
X is a fluorine atom,
m is an integer of 0 or 1,
n is an integer of 0 or 1,
Q is a group represented by the formula (Q-1),
R 2 is a methyl group or an ethyl group,
R 3 is a hydrogen atom, a chlorine atom or a methyl group, and R 4 is a hydrogen atom, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group, a difluoromethoxy group, a difluoromethylthio group or 2 , 2,2-trifluoroethylthio group.
X 1 is preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, an amino group, a nitro group, a mercapto group, a formula —S (C═O) Ra (wherein Ra is a C 1 -C 2 alkyl group). A group represented by the formula: —S (C═S) Ra (wherein Ra is a C 1 -C 2 alkoxy group) or a chlorosulfonyl group, and more preferably. Is a hydrogen atom, a fluorine atom, an amino group, a nitro group, a mercapto group, a group represented by the formula —S (C═S) Ra (wherein Ra is a C 1 -C 2 alkoxy group) or A chlorosulfonyl group, and even more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, an amino group, a nitro group or a mercapto group.
On the other hand, in the general formula (I) of the present invention,
R 1 is preferably a C 2 -C 4 alkyl group optionally substituted with 1 to 7 halogens, a C 1 -C 2 alkyl group substituted with a C 3 -C 4 cycloalkyl group, or C 1 3 -C a 4 alkenyl group, more preferably, ethyl group, propyl group, butyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,3,3-trifluoroethyl group, 3,3,3 A trifluoroethyl group, a cyclopropylmethyl group, a cyclobutylmethyl group, a 2-propenyl group or a 2-methyl-2-propenyl group, and even more preferably a propyl group, 2,2,2-trifluoroethyl A group, a cyclopropylmethyl group or a 2-propenyl group.
Aは、好適には、C1−C2アルキル基、ハロゲン原子又はシアノ基であり、より好適には、メチル基、エチル基、塩素原子又はシアノ基であり、更により好適には、メチル基又はシアノ基である。A is preferably a C 1 -C 2 alkyl group, a halogen atom or a cyano group, more preferably a methyl group, an ethyl group, a chlorine atom or a cyano group, and even more preferably a methyl group. Or it is a cyano group.
Xは、好適には、塩素原子又は弗素原子であり、より好適には、弗素原子である。 X is preferably a chlorine atom or a fluorine atom, and more preferably a fluorine atom.
mは、好適には、0乃至2であり、より好適には、0又は1である。 m is preferably 0 to 2, and more preferably 0 or 1.
nは、好適には、0である。 n is preferably 0.
Qは、好適には、式(Q−1)又は(Q−2)で表される基であり、より好適には、式(Q−1)で表される基である。 Q is preferably a group represented by the formula (Q-1) or (Q-2), and more preferably a group represented by the formula (Q-1).
R2、R5及びR8は、好適には、メチル基、エチル基またはC1−C2ハロ(特に、弗素原子又は塩素原子で置換された)アルキル基であり、より好適は、メチル基又はエチル基である。R 2 , R 5 and R 8 are preferably a methyl group, an ethyl group or a C 1 -C 2 halo (especially substituted with a fluorine atom or a chlorine atom) alkyl group, more preferably a methyl group Or it is an ethyl group.
R3は、好適には、水素原子、C1−C2アルキル基又はC1−C2ハロアルキル基であり、より好適には、水素原子又はメチル基である。R 3 is preferably a hydrogen atom, a C 1 -C 2 alkyl group or a C 1 -C 2 haloalkyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R4は、好適には、C1−C3アルキル基又はC1−C3ハロ(特に、弗素原子又は塩素原子で置換された)アルキル基であり、より好適には、C1−C2アルキル基又は弗素原子で置換されたC1−C2アルキル基であり、更により好適には、トリフルオロメチル基又はペンタフルオロエチル基である。R 4 is preferably a C 1 -C 3 alkyl group or a C 1 -C 3 halo (particularly substituted with a fluorine atom or a chlorine atom) alkyl group, and more preferably a C 1 -C 2 An alkyl group or a C 1 -C 2 alkyl group substituted with a fluorine atom, and even more preferably a trifluoromethyl group or a pentafluoroethyl group.
R6は、好適には、水素原子、C1−C2アルキル基又はC1−C2ハロアルキル基であり、より好適には、トリフルオロメチル基である。R 6 is preferably a hydrogen atom, a C 1 -C 2 alkyl group or a C 1 -C 2 haloalkyl group, and more preferably a trifluoromethyl group.
R7は、好適には、水素原子、C1−C2アルキル基又はC1−C2ハロアルキル基であり、より好適には、水素原子である。R 7 is preferably a hydrogen atom, a C 1 -C 2 alkyl group or a C 1 -C 2 haloalkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
R9およびR10は、水素原子、ハロゲン原子又はC1−C2ハロアルキル基であり、より好適には、水素原子である。R 9 and R 10 are a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 -C 2 haloalkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
好ましい化合物群は、例えば、
Qが、式(Q−1)又は(Q−2)で表される基であり、
R1が、ハロゲンで置換されたC2−C4アルキル基又はC3−C4シクロアルキルメチル基であり、
Aが、メチル基、塩素原子又はシアノ基であり、
Xが、水素原子であり、
nが、0又は1である化合物群であり、
より好ましい化合物群は、例えば、
Qが、式(Q−1)で表される基であり、
Aが、塩素原子、メチル基又はシアノ基であり、
R1が、プロピル基、2,2,2−トリフルオロエチル基又はシクロプロピルメチル基であり、
nが、0又は1である化合物群である。Preferred compound groups include, for example,
Q is a group represented by the formula (Q-1) or (Q-2),
R 1 is a C 2 -C 4 alkyl group or a C 3 -C 4 cycloalkylmethyl group substituted with halogen,
A is a methyl group, a chlorine atom or a cyano group,
X is a hydrogen atom,
a group of compounds in which n is 0 or 1;
A more preferred group of compounds is, for example,
Q is a group represented by the formula (Q-1),
A is a chlorine atom, a methyl group or a cyano group,
R 1 is a propyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group or a cyclopropylmethyl group,
In the compound group, n is 0 or 1.
本発明の代表的化合物を下記の表に例示するが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。 Representative compounds of the present invention are exemplified in the following table, but the present invention is not limited to these compounds.
以下、「Me」はメチル基を、「Et」はエチル基を、「nPr」はノルマルプロピル基を、「cPr」はシクロプロピル基を、「nBu」はノルマルブチル基を、「tBu」はtert−ブチル基を、「cBu」はシクロブチル基を、「Ph」は、フェニル基を、「4,5-DH-1,2,4-OXZ-3」は、4,5−ジヒドロ−1,2,4−オキサジアゾール−3−イル基を、「1,2,4-OXZ-3」は、1,2,4−オキサジアゾール−3−イル基を、「1,3-TH-2」は、1,3−チアゾール−2−イル基をそれぞれ示す。 Hereinafter, “Me” represents a methyl group, “Et” represents an ethyl group, “nPr” represents a normal propyl group, “cPr” represents a cyclopropyl group, “nBu” represents a normal butyl group, and “tBu” represents a tert. -Butyl group, "cBu" is cyclobutyl group, "Ph" is phenyl group, "4,5-DH-1,2,4-OXZ-3" is 4,5-dihydro-1,2 , 4-oxadiazol-3-yl group, “1,2,4-OXZ-3” represents 1,2,4-oxadiazol-3-yl group, “1,3-TH-2 "Represents a 1,3-thiazol-2-yl group, respectively.
上記の例示化合物中、好適な化合物は、
化合物番号1−4:1−メチル−5−[4−メチル−3−(プロピルスルフィニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−15:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−16:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−35:5−{4−クロロ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−43:4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−(プロピルチオ)ベンゾニトリル、
化合物番号1−55:4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
化合物番号1−56:4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
化合物番号1−61:4−[1−エチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
化合物番号1−65:4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
化合物番号1−66:4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
化合物番号1−67:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール
化合物番号1−68:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−69:4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
化合物番号1−70:4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
化合物番号1−72:3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール、
化合物番号1−86:5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
化合物番号1−87:5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−90:5−{4−エチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−91:1−メチル−5−{4−(2−プロぺニル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−93:4−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−97:5−{4−シクロプロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−99:3−(ジフルオロメトキシ)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール、
化合物番号1−100:3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール又は
化合物番号1−109:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール
である。Among the above exemplary compounds, suitable compounds are
Compound No. 1-4: 1-methyl-5- [4-methyl-3- (propylsulfinyl) phenyl] -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
Compound No. 1-15: 1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
Compound No. 1-16: 1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
Compound No. 1-35: 5- {4-chloro-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
Compound No. 1-43: 4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2- (propylthio) benzonitrile,
Compound No. 1-55: 4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile,
Compound No. 1-56: 4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile,
Compound No. 1-61: 4- [1-ethyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile,
Compound No. 1-65: 4- [1-methyl-3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile,
Compound No. 1-66: 4- [1-Methyl-3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile,
Compound No. 1-67: 1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazole Compound No. 1 -68: 1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazole,
Compound No. 1-69: 4- [3- (Heptafluoropropyl) -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile,
Compound No. 1-70: 4- [3- (Heptafluoropropyl) -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile,
Compound No. 1-72: 3- (heptafluoropropyl) -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -1H-pyrazole,
Compound No. 1-86: 5- {4-Bromo-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole Compound No. 1 -87: 5- {4-bromo-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
Compound No. 1-90: 5- {4-ethyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
Compound No. 1-91: 1-methyl-5- {4- (2-propenyl) -3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl)- 1H-pyrazole,
Compound No. 1-93: 4-chloro-1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H- Pyrazole,
Compound No. 1-97: 5- {4-cyclopropyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
Compound No. 1-99: 3- (difluoromethoxy) -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole,
Compound No. 1-100: 3-[(difluoromethyl) thio] -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole or Compound No. 1-109: 1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3-[(2,2,2-trifluoroethyl) Thio] -1H-pyrazole.
本発明の(3−硫黄原子置換)ピラゾール誘導体(I)は、以下に記載する工程A、B、C、D及びEよって製造することができる。 The (3-sulfur atom substituted) pyrazole derivative (I) of the present invention can be produced by the steps A, B, C, D and E described below.
(工程A)
工程Aは、工程A−1a、A−1b、A−2a、A−2b及びA−3からなり、nが0である本発明の化合物(Ia)及びnが1である本発明の化合物(Ib)を製造する工程である。(Process A)
Step A comprises steps A-1a, A-1b, A-2a, A-2b and A-3, wherein n is 0 compound (Ia) of the invention and n is 1 compound of the invention ( This is a process for producing Ib).
上記式中、R1、A、X、m及びQは、前記と同意義を表し、
Y1は、ハロゲン原子を表し、
Y2は、ハロゲン原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、
R14は、水素原子又はC1−C6アルキル基(当該置換基は、隣り合う2個の、R14で、−CH2CH2−、−C(CH3)2−C(CH3)2−又は―CH2CH2CH2−を形成してもよい)を表す。In the above formula, R 1 , A, X, m and Q are as defined above,
Y 1 represents a halogen atom,
Y 2 represents a halogen atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group,
R 14 is a hydrogen atom or a C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is two adjacent R 14 s , —CH 2 CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —C (CH 3 )) 2- or -CH 2 CH 2 CH 2- may be formed).
また、Y2が、臭素原子又は沃素原子の場合、Xは、好適には、弗素原子又は塩素原子を表す。When Y 2 is a bromine atom or an iodine atom, X preferably represents a fluorine atom or a chlorine atom.
工程A−1aは、塩基及び溶媒存在下、一般式(III)で表される化合物を、一般式(V)で表される化合物と反応させ、一般式(IV)で表される化合物を製造する工程である。 In step A-1a, a compound represented by general formula (III) is reacted with a compound represented by general formula (V) in the presence of a base and a solvent to produce a compound represented by general formula (IV). It is a process to do.
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;水素化ナトリウム及び水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド及びカリウムtert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;又はメチルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド及びリチウムジイソプロピルアミドのような有機金属類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類、アルカリ金属重炭酸塩類、アルカリ金属水素化物又はアルカリ金属アルコキシド類であり、より好適には、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム又は水素化ナトリウムである。 The base used is not particularly limited as long as it usually has a pH of 8 or more. For example, alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide. Metal hydroxides; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride; Alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxide; or organometallics such as methyl lithium, butyl lithium, methyl magnesium bromide and lithium diisopropylamide, preferably alkali metal Carbonates, al Potassium metal bicarbonates, alkali metal hydrides or alkali metal alkoxides, more preferably sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium carbonate, potassium bicarbonate or sodium hydride.
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類、ニトリル類又はアミド類であり、より好適には、テトラヒドロフラン、アセトニトリル又はN,N−ジメチルホルムアミドである。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting materials to some extent. For example, ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; benzene, toluene, xylene and the like. Aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene; Nitriles such as acetonitrile; Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; Like dimethyl sulfoxide and sulfolane Sulfoxides; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; esters such as ethyl acetate and ethyl propionate; or aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane; or a mixed solvent thereof And preferably An ether, nitriles or amides, more preferably tetrahydrofuran, acetonitrile or N, N- dimethylformamide.
用いられる溶媒の量は、化合物(III)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。 The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters and preferably 1.0 to 10 liters with respect to 1 mol of compound (III).
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。 The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually from −40 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably from 0 to 100 ° C.
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、6分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間であり、より好適には、15分間〜10時間である。 The reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, but is usually 6 minutes to 48 hours, preferably 10 minutes to 24 hours, and more preferably 15 minutes to 10 hours. It's time.
本工程に使用される化合物(III)は、市販品であるか、既知の方法(例えば、J. Heterocycl. Chem., 1991, 28, 1357-1364等に記載の方法)に従って製造される。 Compound (III) used in this step is a commercially available product or is produced according to a known method (for example, the method described in J. Heterocycl. Chem., 1991, 28, 1357-1364, etc.).
本工程に使用される化合物(V)は、市販品として入手可能である。 Compound (V) used in this step is available as a commercial product.
工程A−2aは、遷移金属触媒、塩基及び溶媒存在下、化合物(IV)を、一般式(VI)で表される化合物と反応させ、本発明の化合物(I)において、nが0である化合物(Ia)を製造する工程である。 In step A-2a, compound (IV) is reacted with a compound represented by general formula (VI) in the presence of a transition metal catalyst, a base and a solvent. In compound (I) of the present invention, n is 0. In this step, compound (Ia) is produced.
使用される遷移金属触媒は、例えば、パラジウムカーボン、酢酸パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム及びトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムのようなパラジウム化合物類であり得、好適には、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム又はトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムであり、より好適には、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムである。 The transition metal catalyst used can be palladium compounds such as, for example, palladium carbon, palladium acetate, dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, tetrakis (triphenylphosphine) palladium and tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, Preferred is tetrakis (triphenylphosphine) palladium or tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, and more preferred is tetrakis (triphenylphosphine) palladium.
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;又は炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類又はアルカリ金属重炭酸塩類であり、より好適には、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムである。 The base used is not particularly limited as long as it usually has a pH of 8 or more. For example, alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide. Metal hydroxides; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; or alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate, preferably alkali metal carbonates or alkali metals Bicarbonates, more preferably sodium carbonate or potassium carbonate.
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;又はベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類、芳香族炭化水素類及び水の混合溶媒又はエーテル類であり、より好適には、エタノール、トルエン及び水の混合溶媒又はジメトキシエタンである。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, water; alcohols such as methanol, ethanol, propanol; diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and Ethers such as dioxane; or aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; or a mixed solvent thereof, preferably a mixture of alcohols, aromatic hydrocarbons and water Solvents or ethers, more preferably a mixed solvent of ethanol, toluene and water, or dimethoxyethane.
用いられる遷移金属触媒の量は、化合物(IV)1molに対し、通常、0.01〜1.0molであり、好適には、0.05〜0.1molである。 The amount of the transition metal catalyst used is usually 0.01 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0.1 mol, relative to 1 mol of compound (IV).
用いられる塩基の量は、化合物(IV)1molに対し、通常、1.0〜10molであり、好適には、1.0〜5molである。 The amount of the base used is usually 1.0 to 10 mol, and preferably 1.0 to 5 mol with respect to 1 mol of compound (IV).
用いられる溶媒の量は、化合物(IV)1molに対し、通常、0.1〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。 The amount of the solvent used is usually 0.1 to 20 liters, preferably 1.0 to 10 liters per 1 mol of compound (IV).
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜120℃である。 The reaction temperature varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent and the like, but is usually from −40 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably from 0 to 120 ° C.
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜48時間であり、好適には、30分間〜24時間である。 While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 10 minutes to 48 hours, preferably 30 minutes to 24 hours.
本工程に使用される化合物(VI)は、市販品であるか、既知の方法(例えば、EP 1108720; 2001、WO 200512254; 2005、J. Heterocycl. Chem., 2004, 41, 931-940等に記載の方法)に従って製造される。 The compound (VI) used in this step is a commercially available product, or a known method (for example, EP 1108720; 2001, WO 200512254; 2005, J. Heterocycl. Chem., 2004, 41, 931-940 etc.) As described).
工程A−1bは、遷移金属触媒、塩基及び溶媒存在下、化合物(III)を、化合物(VI)と反応させ、一般式(IIIa)で表される化合物を製造する工程である。 Step A-1b is a step of producing a compound represented by the general formula (IIIa) by reacting compound (III) with compound (VI) in the presence of a transition metal catalyst, a base and a solvent.
本工程は、前記工程A−2aと同様に行われる。 This step is performed in the same manner as Step A-2a.
工程A−2bは、塩基及び溶媒存在下、化合物(IIIa)を、化合物(V)と反応させ,本発明の化合物(I)において、nが0である化合物(Ia)を製造する工程である。 Step A-2b is a step of producing compound (Ia) in which n is 0 in compound (I) of the present invention by reacting compound (IIIa) with compound (V) in the presence of a base and a solvent. .
本工程は、前記工程A−1aと同様に行われる。
また、化合物(Ia)において、Aが、前記の置換されていてもよいアルケニル基又はチアゾリル基である化合物(Ia−1)は、Aがハロゲン原子(好適には、臭素原子)である化合物を、式 M1−Rb(式中、M1は、後記と同意義を表し、Rbは、前記の置換されていてもよいアルケニル基又はチアゾリル基を表す。)で表される化合物と、後記工程Bの工程B−1と同様に反応させることにより、製造される。
さらに、化合物(Ia)において、Aが、1−ヒドロキシ−1−エチル基である化合物(Ia−2)は、Aがハロゲン原子(好適には、臭素原子)である化合物を、式 M1−C(OR11)=CH2(式中、M1及びR11は、後記と同意義を表す。)で表される化合物と、後記工程Bの工程B−1と同様に反応させ、得られる化合物を酸処理した後、還元剤(例えば、水素化ホウ素ナトリウム等)と、メタノール中、室温で、1時間反応させることにより、製造される。
さらにまた、化合物(Ia)において、Aが、ジフロロメチル基である化合物(Ia−3)及び、Aが、式 −CH=NOR(式中、Rは前記と同意義を表す。)で表される基である化合物(Ia−4)は、式
で表されるベンズアルデヒド体を、工程A−1a及びA−2aと同様に反応させることにより、製造される化合物を、それぞれ、塩化メチレン中、デオキソフローと、室温で、15時間反応させさせること及び後記工程Dの工程D−1と同様に反応させることにより、製造される。
さらにまた、化合物(Ia)において、R3、R4、R6、R7、R9及び/又はR10が、置換されていてもよいフェニル基である化合物(Ia−5)は、R3、R4、R6、R7、R9及び/又はR10が、ハロゲン原子(好適には、臭素原子)である相当する化合物を、式 Rc−B(OR14)2(式中、R14は、上記と同意義を表し、Rcは、前記の置換されていてもよいフェニル基を表す。)で表されるボロン化合物と、前記工程A−1bと同様に反応させることにより、製造される。This process is performed similarly to the said process A-1a.
In the compound (Ia), the compound (Ia-1) in which A is an optionally substituted alkenyl group or thiazolyl group is a compound in which A is a halogen atom (preferably a bromine atom). , wherein M 1 -Rb (in the formula, M 1 is, represents the same meaning as described later, Rb represents. the above optionally substituted alkenyl group or thiazolyl group) with a compound represented by the below steps It is produced by reacting in the same manner as in step B-1 of B.
Furthermore, in the compound (Ia), A is a compound which is a 1-hydroxy-1-ethyl (Ia-2) is (preferably bromine) A halogen atom of the compound is of the formula M 1 - Obtained by reacting a compound represented by C (OR 11 ) ═CH 2 (wherein, M 1 and R 11 have the same meaning as described later) in the same manner as in Process B-1 of Process B described later. After the compound is acid-treated, it is produced by reacting with a reducing agent (for example, sodium borohydride) in methanol at room temperature for 1 hour.
Furthermore, in the compound (Ia), A is a difluoromethyl group (Ia-3) and A is represented by the formula —CH═NOR (wherein R is as defined above). The compound (Ia-4) as a group has the formula
Are reacted with deoxoflow in methylene chloride at room temperature for 15 hours, respectively, and It is manufactured by reacting in the same manner as in step D-1 of step D.
Furthermore, in the compound (Ia), the compound (Ia-5) in which R 3 , R 4 , R 6 , R 7 , R 9 and / or R 10 is an optionally substituted phenyl group is represented by R 3 , R 4 , R 6 , R 7 , R 9 and / or R 10 is a corresponding compound represented by the formula Rc-B (OR 14 ) 2 (wherein R 10 is a bromine atom) 14 represents the same meaning as described above, and Rc represents an optionally substituted phenyl group.) And is reacted by reacting in the same manner as in Step A-1b. The
工程A−3は、溶媒存在下、化合物(Ia)を酸化剤と反応させ、本発明の化合物(I)において、nが1である化合物(Ib)を製造する工程である。 Step A-3 is a step for producing compound (Ib) wherein n is 1 in compound (I) of the present invention by reacting compound (Ia) with an oxidizing agent in the presence of a solvent.
使用される酸化剤は、例えば、過酸化水素、m−クロロ過安息香酸、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン(OXONE,E.I.DuPont社商品名:ペルオキソ硫酸水素カリウム含有物)又はジ亜塩素酸ナトリウムであり得、好適には、m−クロロ過安息香酸又は過酸化水素であり、より好適には、m−クロロ過安息香酸である。ここで、場合により、触媒(例えば、タングステン酸ナトリウム)を添加してもよい。 The oxidizing agent used is, for example, hydrogen peroxide, m-chloroperbenzoic acid, sodium periodate, oxone (trade name: OXONE, EIDuPont, trade name: potassium hydrogen peroxosulfate) or sodium dichlorite. Obtained, preferably m-chloroperbenzoic acid or hydrogen peroxide, and more preferably m-chloroperbenzoic acid. Here, in some cases, a catalyst (for example, sodium tungstate) may be added.
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類であり、より好適には、塩化メチレンである。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, water; carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid; diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane. Ethers such as: aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; nitriles such as acetonitrile; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone Amides such as: Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; or Aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane; or a mixed solvent thereof Preferably, halo An emission hydrocarbons, more preferably methylene chloride.
用いられる酸化剤の量は、化合物(Ia)1molに対し、通常、0.7〜2.0molであり、好適には、0.9〜1.2molである。 The amount of the oxidizing agent to be used is usually 0.7 to 2.0 mol, preferably 0.9 to 1.2 mol with respect to 1 mol of compound (Ia).
用いられる触媒の量は、化合物(Ia)1molに対し、通常、0.01〜1.0molであり、好適には、0.2molである。 The amount of the catalyst used is usually 0.01 to 1.0 mol, preferably 0.2 mol, relative to 1 mol of compound (Ia).
用いられる溶媒の量は、化合物(Ia)1molに対し、通常、0.1〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。 The amount of the solvent used is usually 0.1 to 20 liters, preferably 1.0 to 10 liters per 1 mol of compound (Ia).
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。 The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually from −40 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably from 0 to 100 ° C.
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、6分間〜48時間であり、好適には、30分間〜24時間である。 While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 6 minutes to 48 hours, and preferably 30 minutes to 24 hours.
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。 The target product obtained in the above step is collected from the reaction mixture by a conventional method. For example, when the target product is precipitated as crystals in the reaction mixture, the target product is collected by filtration. If the reaction mixture contains an insoluble material, the insoluble material is filtered off as appropriate, and the reaction mixture is acidic or alkaline. If appropriate, neutralize and distill off the solvent under reduced pressure, or add water to the reaction mixture or the above solvent distilled off under reduced pressure and extract with a water-immiscible organic solvent, The target product can be obtained by drying the extract and evaporating the extraction solvent under reduced pressure. If necessary, the target product can be further purified by a conventional method such as recrystallization or column chromatography.
(工程B)
工程Bは、工程B−1、B−2、B−3及びB−4からなり、本発明の化合物(I)において、Qが、後述する、式 Qa 基である化合物(Ic)及び一般式(VIIIa)で表される化合物[又はその互変異性体(VIIIb)]を製造する工程である。(Process B)
Step B consists of Steps B-1, B-2, B-3 and B-4. In the compound (I) of the present invention, Q is a compound represented by the formula Qa, which will be described later, and the general formula (Ic). This is a step for producing a compound represented by (VIIIa) [or a tautomer (VIIIb) thereof].
上記式中、R1、A、X、m、R2及びY2は、前記と同意義を表し、
R12は、ハロゲン原子を除くR3と同意義を表し、
R4aは、ハロゲン原子を除くR4と同意義を表し、
Qaは、式(Qa−1)又は(Qa−2)In the above formula, R 1 , A, X, m, R 2 and Y 2 are as defined above,
R 12 represents the same meaning as R 3 except a halogen atom,
R 4a represents the same meaning as R 4 excluding a halogen atom,
Qa is the formula (Qa-1) or (Qa-2)
(式中、R2及びR4aは、前記と同意義を表し、R3aは、R12と同意義を表し、R5、R6a及びR7aは、それぞれ、R2、R3a及びR4aと同意義を表す。)
で表される基を表し、
R11は、C1−C6アルキル基を表し、
M1は、トリ(C1−C6アルキル)スズを表す。(Wherein R 2 and R 4a represent the same meaning as described above, R 3a represents the same meaning as R 12, and R 5 , R 6a and R 7a represent R 2 , R 3a and R 4a , respectively. And the same meaning.)
Represents a group represented by
R 11 represents a C 1 -C 6 alkyl group,
M 1 represents tri (C 1 -C 6 alkyl) tin.
工程B−1は、遷移金属触媒及び溶媒存在下、化合物(IV)を、一般式(IX)で表される化合物と反応させ、一般式(VII)で表される化合物を製造する工程である。 Step B-1 is a step of producing a compound represented by the general formula (VII) by reacting the compound (IV) with a compound represented by the general formula (IX) in the presence of a transition metal catalyst and a solvent. .
使用される遷移金属触媒は、例えば、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム及びトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムのようなパラジウム化合物類であり得、好適には、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムである。 The transition metal catalyst used can be, for example, palladium compounds such as dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, tetrakis (triphenylphosphine) palladium and tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, preferably dichlorobis ( Triphenylphosphine) palladium.
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;又はN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、芳香族炭化水素類であり、より好適には、トルエンである。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting materials to some extent. For example, ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; benzene, toluene, xylene and the like. Aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene; nitriles such as acetonitrile; or amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; or mixtures thereof It can be a solvent, preferably an aromatic hydrocarbon, and more preferably toluene.
用いられる遷移金属触媒の量は、化合物(IV)1molに対し、通常、0.01〜1.0molであり、好適には、0.05〜0.1molである。 The amount of the transition metal catalyst used is usually 0.01 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0.1 mol, relative to 1 mol of compound (IV).
用いられる溶媒の量は、化合物(IV)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。 The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters, preferably 1.0 to 10 liters per 1 mol of compound (IV).
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜140℃である。 The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually from −40 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably from 0 to 140 ° C.
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜48時間であり、好適には、20分間〜24時間であり、より好適には、30分間〜10時間である。 The reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, but is usually 10 minutes to 48 hours, preferably 20 minutes to 24 hours, and more preferably 30 minutes to 10 hours. It's time.
本工程に使用される化合物(IX)は、市販品であるか、既知の方法(例えば、US 5179088; 1993に記載の方法)に従って製造される。 Compound (IX) used in this step is a commercially available product, or is produced according to a known method (for example, a method described in US 5179088; 1993).
工程B−2は、塩基及び溶媒存在下、化合物(VII)を、一般式(Xa)で表される化合物又は一般式(Xb)で表される化合物と反応させ、一般式(VIII)で表される化合物を製造する工程である。 In step B-2, compound (VII) is reacted with a compound represented by general formula (Xa) or a compound represented by general formula (Xb) in the presence of a base and a solvent, and represented by general formula (VIII). This is a process for producing a compound to be produced.
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン及びピリジンのような有機塩基であり得、好適には、有機塩基であり、より好適には、ピリジンである。 The base used is not particularly limited as long as it usually has a pH of 8 or more. For example, alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide. Metal hydroxides; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal bicarbonates such as sodium bicarbonate and potassium bicarbonate; or organics such as triethylamine, N, N-dimethylaniline and pyridine It can be a base, preferably an organic base, and more preferably pyridine.
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類 、エステル類、芳香族炭化水素類又はハロゲン化炭化水素類であり、より好適には、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン又は塩化メチレンである。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; ethyl acetate and ethyl propionate Esters such as: aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; nitriles such as acetonitrile; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone Amides such as: Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; or Aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane; or a mixed solvent thereof And preferably Ethers are esters, aromatic hydrocarbons or halogenated hydrocarbons, and more preferably tetrahydrofuran, ethyl acetate, toluene or methylene chloride.
用いられる塩基の量は、化合物(VII)1molに対し、通常、1.0〜5.0molであり、好適には、1.0〜2.0molである。 The amount of the base used is usually 1.0 to 5.0 mol, preferably 1.0 to 2.0 mol, relative to 1 mol of compound (VII).
用いられる溶媒の量は、化合物(VII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。 The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters and preferably 1.0 to 10 liters with respect to 1 mol of compound (VII).
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。 The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually from −40 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably from 0 to 100 ° C.
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜48時間であり、好適には、30分間〜24時間である。 While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 10 minutes to 48 hours, preferably 30 minutes to 24 hours.
本工程に使用される化合物(Xa)は、市販品であるか、既知の方法(例えば、Synthesis,1989,832-835等に記載の方法)に従って製造される。 Compound (Xa) used in this step is a commercially available product, or is produced according to a known method (for example, the method described in Synthesis, 1989, 832-835, etc.).
本工程に使用される化合物(Xb)は、市販品として入手可能である。 Compound (Xb) used in this step is commercially available.
工程B−3は、溶媒存在下、化合物(VIII)を、一般式(XI)で表される化合物と反応させ、本発明の化合物(I)において、Qが、式 Qa 基である化合物(Ic)を製造する工程である。 In step B-3, compound (VIII) is reacted with a compound represented by general formula (XI) in the presence of a solvent. In compound (I) of the present invention, compound (Ic) wherein Q is a group of formula Qa ).
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類;メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水、カルボン酸類、アルコール類又は芳香族炭化水素類或はこれらの混合溶媒であり、より好適には、水、酢酸、メタノール、エタノール又はトルエン或はこれらの混合溶媒である。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, water; carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid; alcohols such as methanol, ethanol and propanol Ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; nitriles such as acetonitrile; N, N-dimethylformamide, N, N Amides such as dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; or Fats such as hexane, cyclohexane and heptane Hydrocarbons; or a mixed solvent thereof, preferably water, carboxylic acids, alcohols or aromatic hydrocarbons or a mixed solvent thereof, more preferably water, acetic acid, methanol. Ethanol or toluene or a mixed solvent thereof.
用いられる溶媒の量は、化合物(VIII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。 The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters, preferably 1.0 to 10 liters per 1 mol of compound (VIII).
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、50〜150℃である。 The reaction temperature varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent and the like, but is usually from −40 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably from 50 to 150 ° C.
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜48時間であり、好適には、20分間〜24時間であり、より好適には、1時間〜10時間である。 The reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, but is usually 10 minutes to 48 hours, preferably 20 minutes to 24 hours, and more preferably 1 hour to 10 hours. It's time.
本工程に使用される化合物(XI)は、市販品として入手可能である。
工程B−4は、溶媒存在下、化合物(VIII)を酸と反応させ、一般式(VIIIa)で表される化合物[又はその互変異性体(VIIIb)]を製造する工程である。化合物(VIIIa)[又はその互変異性体(VIIIb)]は、化合物(XI)と、工程B−3と同様に反応させ、化合物(Ic)に導くことができる。
使用される酸は、通常pH3以下を示す酸であれば特に限定はなく、例えば、塩酸及び硫酸のような鉱酸であり得、好適には、塩酸である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類、エステル類、芳香族炭化水素類又はハロゲン化炭化水素類であり、より好適には、メタノール、酢酸エチル、トルエン又は塩化メチレンである。
用いられる酸の量は、化合物(VIII)1molに対し、通常、0.1〜5.0molであり、好適には、0.1〜2.0molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(VIII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、0℃から溶媒の沸点温度であり、好適には、20〜80℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。Compound (XI) used in this step is commercially available.
Step B-4 is a step of reacting compound (VIII) with an acid in the presence of a solvent to produce a compound represented by general formula (VIIIa) [or a tautomer (VIIIb) thereof]. Compound (VIIIa) [or its tautomer (VIIIb)] can be reacted with compound (XI) in the same manner as in Step B-3 to give compound (Ic).
The acid to be used is not particularly limited as long as it usually shows pH 3 or lower, and for example, it can be a mineral acid such as hydrochloric acid and sulfuric acid, preferably hydrochloric acid.
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, alcohols such as methanol, ethanol and propanol; diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane Ethers such as ethyl acetate and esters such as ethyl propionate; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; nitriles such as acetonitrile; N, N-dimethylformamide, N, N Amides such as dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; or such as hexane, cyclohexane and heptane Aliphatic hydrocarbons; or a mixed solvent thereof, preferably alcohols, esters, aromatic hydrocarbons or halogenated hydrocarbons, more preferably methanol, ethyl acetate, Toluene or methylene chloride.
The amount of the acid used is usually 0.1 to 5.0 mol, preferably 0.1 to 2.0 mol, relative to 1 mol of compound (VIII).
The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters and preferably 1.0 to 10 liters with respect to 1 mol of compound (VIII).
The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually from 0 ° C to the boiling point of the solvent, and preferably from 20 to 80 ° C.
While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 5 minutes to 48 hours, preferably 10 minutes to 24 hours.
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。 The target product obtained in the above step is collected from the reaction mixture by a conventional method. For example, when the target product is precipitated as crystals in the reaction mixture, the target product is collected by filtration. If the reaction mixture contains an insoluble material, the insoluble material is filtered off as appropriate, and the reaction mixture is acidic or alkaline. If appropriate, neutralize and distill off the solvent under reduced pressure, or add water to the reaction mixture or the above solvent distilled off under reduced pressure and extract with a water-immiscible organic solvent, The target product can be obtained by drying the extract and evaporating the extraction solvent under reduced pressure. If necessary, the target product can be further purified by a conventional method such as recrystallization or column chromatography.
(工程C)
工程Cは、工程C−1〜C−8からなり、本発明の化合物(I)において、nが0である化合物(Ia)を別途に製造する工程である。(Process C)
Step C consists of Steps C-1 to C-8, and is a step for separately producing Compound (Ia) in which n is 0 in Compound (I) of the present invention.
上記式中、R1、A、Q、X、m、R2、R3、R4、R14及びY2は、前記と同意義を表し、
Qbは、前記式(Q−1)又は(Q−2)(なお、R5、R6及びR7は、それぞれ、R2、R3及びR4に対応する。)で表される基を示し、
Y3は、ハロゲン原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、
Y4は、ハロゲン原子を表し、
R13は、C1−C6アルキル基を表し、
M2は、アルカリ金属(好適には、ナトリウム又はカリウム)を表す。In the above formula, R 1 , A, Q, X, m, R 2 , R 3 , R 4 , R 14 and Y 2 represent the same meaning as described above,
Qb represents a group represented by the formula (Q-1) or (Q-2) (wherein R 5 , R 6 and R 7 correspond to R 2 , R 3 and R 4 , respectively). Show
Y 3 represents a halogen atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group,
Y 4 represents a halogen atom,
R 13 represents a C 1 -C 6 alkyl group,
M 2 represents an alkali metal (preferably sodium or potassium).
工程C−1は、遷移金属触媒、塩基及び溶媒存在下、一般式(XII)で表される化合物を、化合物(VI)と反応させ、本発明の製造中間体(II)において、X1が水素原子又はフッ素原子である化合物を含む、一般式(IIa)で表される化合物を製造する工程である。In the step C-1, the compound represented by the general formula (XII) is reacted with the compound (VI) in the presence of a transition metal catalyst, a base and a solvent, and in the production intermediate (II) of the present invention, X 1 is This is a process for producing a compound represented by the general formula (IIa) including a compound which is a hydrogen atom or a fluorine atom.
本工程は、前記A工程の工程A−2aと同様に行われる。 This process is performed similarly to process A-2a of said A process.
本工程に使用される化合物(XII)は、市販品として入手可能である。
また、化合物(IIa)において、Qが、式
Compound (XII) used in this step is commercially available.
In the compound (IIa), Q is a compound represented by the formula
(式中、R2及びR3は、前記と同意義を表し、R4bは、前記の置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基を表す。)で表される基である化合物(IIa−1)は、後記工程Eの工程E−1で得られる化合物(XXII)を、後述する化合物(XXIII)と、後記工程Eの工程E−3bと同様に反応させることによっても製造される。Wherein R 2 and R 3 are as defined above, and R 4b represents the above-mentioned optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group. IIa-1) can also be produced by reacting the compound (XXII) obtained in Step E-1 of Step E, which will be described later, with Compound (XXIII) described later in the same manner as Step E-3b of Step E, which will be described later. .
工程C−2は、遷移金属触媒、塩基及び溶媒存在下、一般式(XIII)で表される化合物を、一般式(XIV)で表される化合物と反応させ、本発明の製造中間体(II)において、X1が水素原子又はフッ素原子である化合物を含む、化合物(IIa)を別途に製造する工程である。In Step C-2, a compound represented by the general formula (XIII) is reacted with a compound represented by the general formula (XIV) in the presence of a transition metal catalyst, a base and a solvent, and the production intermediate (II ), Wherein X 1 is a hydrogen atom or a fluorine atom, and the compound (IIa) is separately produced.
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;リン酸ナトリウム及びリン酸カリウムのようなアルカリ金属リン酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;水素化ナトリウム及び水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド及びカリウムtert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;又はメチルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類、アルカリ金属重炭酸塩類又はアルカリ金属リン酸塩類であり、より好適には、炭酸ナトリウム又はリン酸カリウムである。 The base used is not particularly limited as long as it usually has a pH of 8 or more. For example, alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide. Metal hydroxides; alkali metal phosphates such as sodium phosphate and potassium phosphate; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal bicarbonates such as sodium bicarbonate and potassium bicarbonate Alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride; alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxide; or methyllithium, butyllithium, methylmagnesium bromide, lithium diisopropylamide And is preferably alkali metal carbonates, alkali metal bicarbonates or alkali metal phosphates, and more preferably sodium carbonate or potassium phosphate.
使用される遷移金属触媒は、例えば、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム及びトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムのようなパラジウム化合物類であり得、好適には、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムである。 The transition metal catalyst used can be, for example, palladium compounds such as dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, tetrakis (triphenylphosphine) palladium and tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, preferably tetrakis ( Triphenylphosphine) palladium.
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;又はN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類又はアミド類であり、より好適には、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はN,N−ジメチルホルムアミドである。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting materials to some extent. For example, ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; benzene, toluene, xylene and the like. Aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene; nitriles such as acetonitrile; or amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; or mixtures thereof It can be a solvent, preferably ethers or amides, more preferably dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane or N, N-dimethylformamide.
用いられる遷移金属触媒の量は、化合物(XIII)1molに対し、通常、0.01〜1.0molであり、好適には、0.05〜0.1molである。 The amount of the transition metal catalyst used is usually 0.01 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0.1 mol, relative to 1 mol of compound (XIII).
用いられる溶媒の量は、化合物(XIII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。 The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters and preferably 1.0 to 10 liters with respect to 1 mol of compound (XIII).
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜140℃である。 The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually from −40 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably from 0 to 140 ° C.
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜48時間であり、好適には、1時間〜24時間である。 While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is usually 10 minutes to 48 hours, preferably 1 hour to 24 hours.
本工程に使用される化合物(XIV)は、既知の方法(例えば、J. Med. Chem., 2002, 45, 2994-3008、Eur. J. Org. Chem., 2002, 2913-2920等に記載の方法)に従って製造される。 Compound (XIV) used in this step is described in a known method (for example, J. Med. Chem., 2002, 45, 2994-3008, Eur. J. Org. Chem., 2002, 2913-2920, etc.) Manufactured in accordance with the above method).
本工程に使用される化合物(XIII)は、市販品として入手可能である。 Compound (XIII) used in this step is commercially available.
工程C−3は、溶媒存在下、一般式(XV)で表される化合物を、化合物(XI)と反応させ、本発明の製造中間体(II)において、X1が水素原子又はフッ素原子であり、Qが、式 Qb 基である化合物を含む、一般式(IIb)で表される化合物を製造する工程である。In step C-3, the compound represented by the general formula (XV) is reacted with the compound (XI) in the presence of a solvent. In the production intermediate (II) of the present invention, X 1 is a hydrogen atom or a fluorine atom. There is a step for producing a compound represented by the general formula (IIb) including a compound in which Q is a group of the formula Qb.
本工程は、前記B工程の工程B−3と同様に行われる。 This step is performed in the same manner as the step B-3 in the step B.
本工程に使用される化合物(XV)は、既知の方法(例えば、J. Org.Chem., 1990, 55, 1959-1964等に記載の方法)に従って製造される。 Compound (XV) used in this step is produced according to a known method (for example, a method described in J. Org. Chem., 1990, 55, 1959-1964, etc.).
工程C−4は、工程C−1等により製造される化合物(IIa)をニトロ化し、本発明の製造中間体(II)において、X1がニトロ基である、一般式(IIc)で表される化合物を製造する工程である。Step C-4 is a compound represented by the general formula (IIc) in which the compound (IIa) produced by Step C-1 and the like is nitrated, and in the production intermediate (II) of the present invention, X 1 is a nitro group. This is a process for producing a compound.
本工程は、例えば、濃硫酸−濃硝酸の混酸を用いる方法、硝酸カリウムを用いる方法又は硝酸第二銅−酢酸(・無水酢酸)を用いる方法のような、通常の芳香環をニトロ化する常法に従って行うことができる。 This step is a conventional method for nitrating a normal aromatic ring, for example, a method using a mixed acid of concentrated sulfuric acid-concentrated nitric acid, a method using potassium nitrate, or a method using cupric nitrate-acetic acid (. Acetic anhydride). Can be done according to.
本工程は、溶媒の存在下又は非存在下(好適には、溶媒の非存在下)で行われる。 This step is performed in the presence or absence of a solvent (preferably in the absence of a solvent).
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類又はジクロロメタン、クロロホルム及び1,2−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類であり得、好適には、酢酸又はクロロホルムである。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid or dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethane can be used. Halogenated hydrocarbons, preferably acetic acid or chloroform.
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−90℃〜反応系における還流温度であり、好適には、−50〜80℃である。 The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually from −90 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably from −50 to 80 ° C.
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜24時間であり、好適には、30分間〜6時間である。
また、化合物(IIc)において、Qが式
[式中、R2及びR4は、前記と同意義を表し、R3bは、ハロゲン原子(好適には、塩素原子又は臭素原子)を表す。]
で表される基である化合物(IIc−1)は、R3bが水素原子である相当する化合物を、ハロゲン化剤(例えば、N−ハロコハク酸イミド等)と反応させて、製造することもできる。
さらに、化合物(IIc)において、Aが、トリメチルシリルエチニル基である(IIc−2)は、Aがハロゲン原子(好適には、臭素原子)である相当する化合物を、トリメチルシリルアセチレンと、酢酸パラジウム、ヨウ化第一銅、トリフェニルホスフィン及びトリエチルアミンの存在下、反応させることにより製造され、この化合物を、工程C−5〜C−8と同様に反応させることにより、化合物(Ia)において、Aがエチニル基である化合物が製造される。While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 5 minutes to 24 hours, and preferably 30 minutes to 6 hours.
In addition, in the compound (IIc), Q is a formula
[Wherein, R 2 and R 4 represent the same meaning as described above, and R 3b represents a halogen atom (preferably a chlorine atom or a bromine atom). ]
Compound (IIc-1), which is a group represented by the following formula, can also be produced by reacting a corresponding compound in which R 3b is a hydrogen atom with a halogenating agent (eg, N-halosuccinimide). .
Further, in the compound (IIc), (IIc-2) in which A is a trimethylsilylethynyl group represents a corresponding compound in which A is a halogen atom (preferably a bromine atom), trimethylsilylacetylene, palladium acetate, iodine It is produced by reacting in the presence of cuprous chloride, triphenylphosphine, and triethylamine. By reacting this compound in the same manner as in Steps C-5 to C-8, in compound (Ia), A is ethynyl. A group of compounds is produced.
工程C−5は、化合物(IIc)のニトロ基を還元し、本発明の製造中間体(II)において、X1がアミノ基である化合物(IId)を製造する工程である。Step C-5 is a step of reducing the nitro group of compound (IIc) to produce compound (IId) in which X 1 is an amino group in the production intermediate (II) of the present invention.
本工程は、例えば、パラジウムカーボン触媒下、水素添加する方法、濃塩酸存在下、塩化第一スズを用いる方法又は金属紛(例えば、鉄紛等)−塩化アンモニウムを用いる方法のような、通常、ニトロ基をアミノ基に還元する際の常法(例えば、J. Am. Chem.Soc., 1961, 83, 2489-2493、WO 2005023807; 2005等に記載の方法)に従って行うことができる。 This step is usually performed, for example, a method of hydrogenation in the presence of a palladium carbon catalyst, a method using stannous chloride in the presence of concentrated hydrochloric acid, or a method using metal powder (for example, iron powder) -ammonium chloride. It can be carried out according to a conventional method for reducing a nitro group to an amino group (for example, the method described in J. Am. Chem. Soc., 1961, 83, 2489-2493, WO 2005023807; 2005, etc.).
本工程は、溶媒の存在下又は非存在下(好適には、溶媒の存在下)で行われる。 This step is performed in the presence or absence of a solvent (preferably in the presence of a solvent).
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;メタノール、エタノール及びプロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;又はジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類あり、好適には、アルコール類又はエーテル類であり、より好適には、メタノール又はエタノールである。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting materials to some extent. For example, water; alcohols such as methanol, ethanol and propanol; diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and Ethers such as dioxane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; Alternatively, there are sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, preferably alcohols or ethers, and more preferably methanol or ethanol.
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−90℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。 The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually −90 ° C. to reflux temperature in the reaction system, and preferably 0 to 100 ° C.
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜24時間であり、好適には、30分間〜12時間である。
また、化合物(IId)において、Aがエチル基である化合物(IId−1)は、化合物(IIc)において、Aがハロゲン原子(好適には、臭素原子)である化合物を、トリメチルシリルアセチレンと、酢酸パラジウム、ヨウ化第一銅、トリフェニルホスフィン及びトリエチルアミンの存在下、反応させ、次いで、炭酸カリウム/メタノールで、トリメチルシリル基を除去し、リンドラー触媒を用いて、接触還元することによっても、製造される。While the reaction time varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent, the reaction temperature and the like, it is usually 5 minutes to 24 hours, and preferably 30 minutes to 12 hours.
In the compound (IId), the compound (IId-1) in which A is an ethyl group is the same as the compound (IIc) in which A is a halogen atom (preferably a bromine atom), trimethylsilylacetylene and acetic acid. It is also produced by reacting in the presence of palladium, cuprous iodide, triphenylphosphine and triethylamine, then removing the trimethylsilyl group with potassium carbonate / methanol and catalytic reduction using a Lindlar catalyst. .
工程C−6は、化合物(IId)のアミノ基をジアゾニウム塩とした後、一般式(XVI)で表される化合物を反応させ、一般式(XVII)で表される化合物を製造する工程である。 Step C-6 is a step of producing a compound represented by the general formula (XVII) by reacting a compound represented by the general formula (XVI) after making the amino group of the compound (IId) a diazonium salt. .
本工程は、例えば、亜硝酸、亜硝酸塩(例えば、亜硝酸ナトリウム等)又は亜硝酸アルキルエステルを用いる方法のような通常アミノ基をジアゾニウム塩にする際の常法に従って、反応を行い、次いで、得られたジアゾニウム塩をキサントゲン酸塩と反応させることにより行うことができる。 In this step, for example, the reaction is carried out according to a conventional method for converting an amino group into a diazonium salt, such as a method using nitrous acid, nitrite (for example, sodium nitrite) or alkyl nitrite, The reaction can be performed by reacting the obtained diazonium salt with xanthate.
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水又はアセトニトリルのようなニトリル類であり得、好適には、水又はアセトニトリルである。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, and may be, for example, nitriles such as water or acetonitrile, preferably water or acetonitrile. .
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−70℃〜反応系における還流温度であり、好適には、−20〜100℃である。 The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually −70 ° C. to reflux temperature in the reaction system, and preferably −20 to 100 ° C.
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜24時間であり、好適には、30分間〜12時間である。 While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 10 minutes to 24 hours, preferably 30 minutes to 12 hours.
工程C−7は、化合物(XVII)を塩基及び溶媒の存在下、加水分解し、本発明の製造中間体(II)において、X1がメルカプト基である化合物(IIe)を製造する工程である。Step C-7 is a step of hydrolyzing compound (XVII) in the presence of a base and a solvent to produce compound (IIe) in which X 1 is a mercapto group in the production intermediate (II) of the present invention. .
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;又は水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物類であり得、好適には、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである。 The base used is not particularly limited as long as it usually has a pH of 8 or more. For example, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; or alkalis such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide. It can be an earth metal hydroxide, preferably sodium hydroxide or potassium hydroxide.
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;又はジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類及び水の混合溶媒であり、より好適には、メタノール若しくはエタノール及び水の混合溶媒である。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, water; alcohols such as methanol, ethanol, propanol; or diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran And ethers such as dioxane; or a mixed solvent thereof, preferably a mixed solvent of alcohols and water, and more preferably a mixed solvent of methanol or ethanol and water.
用いられる塩基の量は、化合物(XVII)1molに対し、通常、1.0〜10molであり、好適には、1.0〜3.0molである。 The amount of the base used is usually 1.0 to 10 mol, and preferably 1.0 to 3.0 mol with respect to 1 mol of compound (XVII).
用いられる溶媒の量は、化合物(XVII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。 The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters and preferably 1.0 to 10 liters with respect to 1 mol of compound (XVII).
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜120℃である。 The reaction temperature varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent and the like, but is usually from −40 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably from 0 to 120 ° C.
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜48時間であり、好適には、30分間〜24時間である。
また、化合物(II)において、X1が、式 −S(C=Z)R’a (式中、Zは、前記の同意義を表し、R’aは、C1−C6アルキル基又はC1−C6アルコキシ基を表す。)で表される化合物(IIf)は、化合物(IIe)を、塩基(例えば、トリエチルアミン等)及び溶媒(例えば、エーテル、ジクロロメタン等)の存在下、式 R’a−C(=Z)Y1((式中、R’a、Y1及びZは、前記の同意義を表す。)で表されるハロ化合物(好適には、クロロ化合物)と、室温で、30分間〜10時間反応させることによって、製造される。While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 10 minutes to 48 hours, preferably 30 minutes to 24 hours.
In the compound (II), X 1 is represented by the formula —S (C═Z) R′a (wherein Z represents the same meaning as described above, and R′a represents a C 1 -C 6 alkyl group or Compound (IIf) represented by C 1 -C 6 alkoxy group) is obtained by reacting compound (IIe) with a compound of the formula R in the presence of a base (eg, triethylamine) and a solvent (eg, ether, dichloromethane, etc.). a halo compound (preferably a chloro compound) represented by 'a-C (= Z) Y 1 (wherein R'a, Y 1 and Z are as defined above), and room temperature And produced by reacting for 30 minutes to 10 hours.
工程C−8は、塩基及び溶媒存在下、化合物(IIe)を、一般式(XVIII)で表される化合物と反応させ、本発明の化合物(I)において、nが0である化合物(Ia)を別途に製造する工程である。 In step C-8, compound (IIe) is reacted with a compound represented by general formula (XVIII) in the presence of a base and a solvent, and in compound (I) of the present invention, n is 0. Is a process of separately manufacturing.
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;水素化ナトリウム及び水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド及びカリウムtert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;又はメチルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類、アルカリ金属重炭酸塩類、アルカリ金属水素化物又はアルカリ金属アルコキシドであり、より好適には、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム又は水素化ナトリウムである。 The base used is not particularly limited as long as it usually has a pH of 8 or more. For example, alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide. Metal hydroxides; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride; Alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxide; or organometallics such as methyl lithium, butyl lithium, methyl magnesium bromide, lithium diisopropylamide, preferably alkali metal Carbonates, Arca Li metal bicarbonates, alkali metal hydrides or alkali metal alkoxides, more preferably sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium carbonate, potassium bicarbonate or sodium hydride.
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、脂肪族炭化水素類又は芳香族炭化水素類或はこれらの混合溶媒であり、より好適には、水、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド又はアセトニトリル或はこれらの混合溶媒である。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, water; ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; benzene, toluene, Aromatic hydrocarbons such as xylene and chlorobenzene; Nitriles such as acetonitrile; Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; Dimethyl sulfoxide and sulfolane Sulfoxides such as: halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; or aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane; or a mixed solvent thereof, preferably water, Ethers, halogenated hydrocarbons, aliphatic charcoal Hydrogen compound or aromatic hydrocarbons, or mixtures of these solvents, more preferably, water, tetrahydrofuran, dioxane, N, N-dimethylformamide or acetonitrile, or a mixed solvent thereof.
用いられる塩基の量は、化合物(IIe)1molに対し、通常、1.0〜10molであり、好適には、1.0〜3.0molである。 The amount of the base to be used is usually 1.0 to 10 mol, preferably 1.0 to 3.0 mol, relative to 1 mol of compound (IIe).
用いられる溶媒の量は、化合物(IIe)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。 The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters and preferably 1.0 to 10 liters with respect to 1 mol of compound (IIe).
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。 The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually −40 ° C. to reflux temperature in the reaction system, and preferably 0 to 100 ° C.
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、6分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。 While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 6 minutes to 48 hours, and preferably 10 minutes to 24 hours.
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。
(工程D)
工程Dは、工程D−1及びD−2からなり、本発明の化合物(I)において、Aが、式 −C(NH2)=NOR (式中、Rは、前記の同意義を表す。)で表される基である化合物(Id)及び、Aが、基 Aa (ここで、Aaは、C1−C6アルキル基で置換されていてもよい、1,2,4−オキサジアゾリル基又はジヒドロ−1,2,4−オキサジアゾリル基を表す。)である化合物(Ie)を製造する工程である。
上式中、R1、R、Aa、X、m及びQは、前記と同意義を示し、
R15は、水素原子又はC1−C6アルキル基を示し、
R16は、C1−C6アルキル基を示す。
工程D−1は、溶媒及び塩基存在下、一般式(I’)で表されるシアノ化合物を、一般式(XIX)で表される化合物又はその塩(例えば、硫酸塩、塩酸塩又は硝酸塩、好適には、塩酸塩)と反応させ、化合物(Id)を製造する工程である。
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン及びピリジンのような有機塩基であり得、好適には、有機塩基であり、より好適には、トリエチルアミンである。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類であり、より好適には、ジオキサンである。
用いられる塩基の量は、化合物(I’)1molに対し、通常、1.0〜5.0molであり、好適には、1.0〜2.0molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(I’)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、0〜150℃であり、好適には、60〜120℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
工程D−2は、酸及び溶媒存在下、化合物(Id)において、Rが水素原子である化合物(Id−1)を、一般式(XXa)で表される化合物又は一般式(XXb)で表される化合物と反応させ、本発明の化合物(Ie)を製造する工程である。なお、化合物(XXb)において、R15が水素原子である場合は、好適には、ホルマリン(含水ホルムアルデヒド)又はパラホルムアルデヒドとして、化合物(XXb)を反応させることができる。
使用される酸は、通常pH5以下を示す酸であれば特に限定はなく、例えば、塩酸及び硫酸のような鉱酸類、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸及び安息香酸のようなカルボン酸類又はメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸のようなスルホン酸類であり、化合物(XXa)との反応では、好適には、鉱酸類であり、より好適には、硫酸であり、化合物(XXb)との反応では、好適には、カルボン酸類であり、より好適には、酢酸である。また、酢酸等は、溶媒を兼ねて、大過剰に使用することもできる。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類;メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類又は芳香族炭化水素類であり、より好適には、メタノール、エタノール又はトルエンである。
用いられる酸の量は、化合物(Id−1)1molに対し、通常、0.1〜5.0molであり、好適には、0.1〜1.0molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(Id−1)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、0℃〜反応系における還流温度であり、好適には、5〜100℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、1時間〜90時間であり、好適には、5時間〜72時間である。
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。
(工程E)
工程Eは、工程E−1〜E−6からなり、本発明の化合物(I)において、Qが、式
The target product obtained in the above step is collected from the reaction mixture by a conventional method. For example, when the target product is precipitated as crystals in the reaction mixture, the target product is collected by filtration. If the reaction mixture contains an insoluble material, the insoluble material is filtered off as appropriate, and the reaction mixture is acidic or alkaline. If appropriate, neutralize and distill off the solvent under reduced pressure, or add water to the reaction mixture or the above solvent distilled off under reduced pressure and extract with a water-immiscible organic solvent, The target product can be obtained by drying the extract and evaporating the extraction solvent under reduced pressure. If necessary, the target product can be further purified by a conventional method such as recrystallization or column chromatography.
(Process D)
Step D consists of Steps D-1 and D-2, and in the compound (I) of the present invention, A represents the formula —C (NH 2 ) ═NOR (wherein R represents the same meaning as described above). And the compound (Id) and A are groups Aa (where Aa is a 1,2,4-oxadiazolyl group optionally substituted with a C 1 -C 6 alkyl group, or It represents a dihydro-1,2,4-oxadiazolyl group.) A compound (Ie) is produced.
In the above formula, R 1 , R, Aa, X, m and Q are as defined above,
R 15 represents a hydrogen atom or a C 1 -C 6 alkyl group,
R 16 represents a C 1 -C 6 alkyl group.
In step D-1, in the presence of a solvent and a base, the cyano compound represented by the general formula (I ′) is converted to the compound represented by the general formula (XIX) or a salt thereof (for example, sulfate, hydrochloride or nitrate, Preferably, it is a step of reacting with hydrochloride) to produce compound (Id).
The base used is not particularly limited as long as it usually has a pH of 8 or more. For example, alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide. Metal hydroxides; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; organic bases such as triethylamine, N, N-dimethylaniline and pyridine Preferably, it is an organic base, more preferably triethylamine.
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; ethyl acetate and ethyl propionate Esters such as: aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; nitriles such as acetonitrile; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone Amides such as: Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; or Aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane; or a mixed solvent thereof And preferably An ether, more preferably, dioxane.
The amount of the base used is usually 1.0 to 5.0 mol, and preferably 1.0 to 2.0 mol with respect to 1 mol of compound (I ′).
The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters and preferably 1.0 to 10 liters with respect to 1 mol of compound (I ′).
The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent, and the like, but is usually 0 to 150 ° C, and preferably 60 to 120 ° C.
While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 5 minutes to 48 hours, preferably 10 minutes to 24 hours.
In Step D-2, in the presence of an acid and a solvent, in the compound (Id), the compound (Id-1) in which R is a hydrogen atom is represented by the compound represented by the general formula (XXa) or the general formula (XXb). In which the compound (Ie) of the present invention is produced. In the compound (XXb), when R 15 is a hydrogen atom, the compound (XXb) can be preferably reacted as formalin (hydrous formaldehyde) or paraformaldehyde.
The acid to be used is not particularly limited as long as it is usually an acid having a pH of 5 or less. For example, mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, trifluoroacetic acid and benzoic acid, or methanesulfone. Acids, sulfonic acids such as benzenesulfonic acid and paratoluenesulfonic acid, and in the reaction with compound (XXa), preferably a mineral acid, more preferably sulfuric acid, and compound (XXb) In this reaction, carboxylic acids are preferable, and acetic acid is more preferable. Acetic acid or the like can also be used in a large excess as a solvent.
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, water; carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid; alcohols such as methanol, ethanol and propanol Ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; nitriles such as acetonitrile; N, N-dimethylformamide, N, N Amides such as dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; or Fats such as hexane, cyclohexane and heptane Hydrocarbons; or can be a mixture of these solvents, preferably an alcohol or an aromatic hydrocarbon, more preferably a methanol, ethanol or toluene.
The amount of the acid used is usually 0.1 to 5.0 mol, preferably 0.1 to 1.0 mol, relative to 1 mol of compound (Id-1).
The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters and preferably 1.0 to 10 liters with respect to 1 mol of compound (Id-1).
The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent, and the like, but is usually 0 ° C. to reflux temperature in the reaction system, and preferably 5 to 100 ° C.
While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is usually 1 hour to 90 hours, preferably 5 hours to 72 hours.
The target product obtained in the above step is collected from the reaction mixture by a conventional method. For example, when the target product is precipitated as crystals in the reaction mixture, the target product is collected by filtration. If appropriate, neutralize and distill off the solvent under reduced pressure, or add water to the reaction mixture or the above solvent distilled off under reduced pressure and extract with a water-immiscible organic solvent, The target product can be obtained by drying the extract and evaporating the extraction solvent under reduced pressure. If necessary, the target product can be further purified by a conventional method such as recrystallization or column chromatography.
(Process E)
Step E consists of steps E-1 to E-6. In the compound (I) of the present invention, Q is a compound represented by the formula
[式中、R2は、前記と同意義を表し、R18は、ハロゲン原子、前記R4における置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基又は前記R4における置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基を表す。]
で表される基であり、nが0である化合物(If)を製造する工程である。
上記式中、R1、R2、X、m、A、R18及びY4は、前記と同意義を示し、
Y5は、ハロゲン原子を示し、
R17は、C1−C6アルキルを示し、
R18aは、前記R4における置換されていてもよいC1−C6アルキル基を表す。
工程E−1は、溶媒存在下、一般式(XXI)で表される化合物を、化合物(XI)と反応させ、一般式(XXII)で表される化合物を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;酢酸、プロピオン酸のようなカルボン酸類;メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水又はアルコール類或はこれらの混合溶媒であり、より好適には、水又はエタノール或はこれらの混合溶媒である。
用いられる溶媒の量は、化合物(XXI)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
本工程に使用される化合物(XXI)は、既知の方法(例えば、Synthesis, 1989, 217-218等)によって製造される。
工程E−2は、溶媒存在下、化合物(XXII)を、ローソン試薬と反応させ、一般式(XXIIa)を有する化合物を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり、好適には、芳香族炭化水素類であり、より好適には、トルエンである。
用いられる溶媒の量は、化合物(XXII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、0〜150℃であり、好適には、30〜140℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
工程E−3aは、塩基及び溶媒存在下、化合物(XXIIa)を、一般式(XXIII)で表される化合物と反応させ、一般式(XXIV)で表される化合物において、R18が、前記の置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基である化合物(XXIVa)を製造する工程である。
本工程は、前記工程Cの工程C−8と同様に行われる。
工程E−3bは、化合物(XXII)を、化合物(XXIII)と反応させ、化合物(XXIV)において、R18が、前記の置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基である化合物(XXIVb)及び、化合物(XXII)を、ハロゲン化剤(例えば、オキシ塩化リン、五塩化リン、四塩化炭素−トリフェニルホスフィン、オキシ臭化リン、五臭化リン、四臭化炭素−トリフェニルホスフィン、オキシヨウ化リン等)を反応させ、化合物(XXIV)において、R18が、ハロゲン原子(好適には、塩素原子又は臭素原子)である化合物(XXIVc)を製造する工程である。
化合物(XXII)と化合物(XXIII)との反応は、前記C法工程C−8と同様に行われ、化合物(XXII)とハロゲン化剤の反応は、溶媒の非存在下又は溶媒(例えば、クロロホルム及び四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類等である。)の存在下(好適には、溶媒の非存在下)、100〜200℃で、5分間〜12時間反応させることにより行われる。
工程E−4は、溶媒存在下又は非存在化、化合物(XXIV)とクロロスルホン酸を反応させ、一般式(XXV)を有する化合物を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類であり得、好適には、クロロホルムである。
用いられる溶媒の量は、化合物(XXIV)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
用いられるクロロスルホン酸の量は、化合物(XXIV)1molに対し、通常、1.0〜10.0molであり、好適には、2.0〜5.0molである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜80℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
工程E−5は、溶媒存在下または非存在化、化合物(XXV)のクロロスルホニル基を還元し、一般式(XXVI)を有する化合物を製造する工程である。
本工程は、例えば、酸存在下、亜鉛やスズを用いる方法のような、クロロスルホニル基をメルカプト基に還元する際の常法(例えば、J.Am.Chem.Soc.,1947,69,1925、Tetrahedron,1994,50,4775等に記載の方法)に従って行われる。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類;水;又はメタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水又はアルコール類であり、より好適には、水又エタノールである。
用いられる酸は、例えば、硫酸、塩酸及び硝酸のような鉱酸であり得、好適には、硫酸又は塩酸である。
用いられる亜鉛と酸の量は、化合物(XXV)1molに対し、通常、1.0〜50.0molであり、好適には、1.0〜20.0molである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜150℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
また、本工程において、アシルチオ体(例えば、アセチルチオ体)が得られた場合には、該アシルチオ体を前記工程Cの工程C−7と同様に加水分解して、化合物(XXV)に導くこともできる。
工程E−6は、塩基及び溶媒存在下、化合物(XXVI)と、化合物(XVIII)を反応させ、本発明の化合物(If)を製造する工程である。
本工程は、前記工程Cの工程C−8と同様に行われる。
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。Wherein, R 2 represents the same meaning as defined above, R 18 is a halogen atom, may be substituted at the R 4 optionally C 1 -C 6 alkoxy group or a R 4 be substituted at the It represents a C 1 -C 6 alkylthio group. ]
In this step, compound (If) is produced, wherein n is 0.
In the above formula, R 1 , R 2 , X, m, A, R 18 and Y 4 are as defined above,
Y 5 represents a halogen atom,
R 17 represents C 1 -C 6 alkyl;
R 18 a represents an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group in R 4 .
Step E-1 is a step of producing a compound represented by the general formula (XXII) by reacting a compound represented by the general formula (XXI) with the compound (XI) in the presence of a solvent.
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, water; carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid; alcohols such as methanol, ethanol and propanol Ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; nitriles such as acetonitrile; N, N-dimethylformamide, N, N Amides such as dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; or Fats such as hexane, cyclohexane and heptane Tribe Hydrogen like; be in, or mixed solvent thereof, preferably an aqueous or alcohol, or a mixture of these solvents, more preferably a water or ethanol or a mixed solvent thereof.
The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters and preferably 1.0 to 10 liters with respect to 1 mol of compound (XXI).
The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually from −40 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably from 0 to 100 ° C.
While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 5 minutes to 48 hours, preferably 10 minutes to 24 hours.
Compound (XXI) used in this step is produced by a known method (for example, Synthesis, 1989, 217-218, etc.).
Step E-2 is a step of producing a compound having the general formula (XXIIa) by reacting the compound (XXII) with a Lawson reagent in the presence of a solvent.
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting materials to some extent. For example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; or hexane, cyclohexane and Aliphatic hydrocarbons such as heptane; or a mixed solvent thereof, preferably aromatic hydrocarbons, and more preferably toluene.
The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters and preferably 1.0 to 10 liters with respect to 1 mol of compound (XXII).
The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually 0 to 150 ° C, and preferably 30 to 140 ° C.
While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 5 minutes to 48 hours, preferably 10 minutes to 24 hours.
In step E-3a, compound (XXIIa) is reacted with a compound represented by general formula (XXIII) in the presence of a base and a solvent, and in the compound represented by general formula (XXIV), R 18 is as defined above. In this step, the compound (XXIVa), which is an optionally substituted C 1 -C 6 alkylthio group, is produced.
This step is performed in the same manner as the step C-8 of the step C.
In step E-3b, compound (XXII) is reacted with compound (XXIII). In compound (XXIV), R 18 is an optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group (XXIVb And a compound (XXII) are converted into halogenating agents (eg, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, carbon tetrachloride-triphenylphosphine, phosphorus oxybromide, phosphorus pentabromide, carbon tetrabromide-triphenylphosphine, In this step, compound (XXIVc) in which R 18 is a halogen atom (preferably a chlorine atom or a bromine atom) in compound (XXIV) is reacted.
The reaction between compound (XXII) and compound (XXIII) is carried out in the same manner as in the above-mentioned Method C, step C-8, and the reaction between compound (XXII) and the halogenating agent is carried out in the absence of a solvent or a solvent (for example, chloroform And halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, etc.) (preferably in the absence of a solvent) at 100 to 200 ° C. for 5 minutes to 12 hours.
Step E-4 is a step of producing a compound having the general formula (XXV) by reacting compound (XXIV) with chlorosulfonic acid in the presence or absence of a solvent.
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, and may be, for example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform. It is.
The amount of the solvent used is usually 1.0 to 20 liters and preferably 1.0 to 10 liters with respect to 1 mol of compound (XXIV).
The amount of chlorosulfonic acid to be used is usually 1.0 to 10.0 mol, and preferably 2.0 to 5.0 mol with respect to 1 mol of compound (XXIV).
The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent, and the like, but is usually from −40 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably from 0 to 80 ° C.
While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 5 minutes to 48 hours, preferably 10 minutes to 24 hours.
Step E-5 is a step of producing a compound having the general formula (XXVI) by reducing the chlorosulfonyl group of the compound (XXV) in the presence or absence of a solvent.
This step is a conventional method for reducing a chlorosulfonyl group to a mercapto group, such as a method using zinc or tin in the presence of an acid (for example, J. Am. Chem. Soc., 1947, 69, 1925). , Tetrahedron, 1994, 50, 4775, etc.).
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid; water; or methanol, ethanol, propanol, etc. Alcohols; or a mixed solvent thereof, preferably water or alcohols, more preferably water or ethanol.
The acid used can be, for example, mineral acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and nitric acid, preferably sulfuric acid or hydrochloric acid.
The amount of zinc and acid to be used is usually 1.0 to 50.0 mol, preferably 1.0 to 20.0 mol, per 1 mol of compound (XXV).
The reaction temperature varies depending on the raw material compound, the reaction reagent, the solvent and the like, but is usually from −40 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably from 0 to 150 ° C.
While the reaction time varies depending on the raw material compound, reaction reagent, solvent, reaction temperature and the like, it is generally 5 minutes to 48 hours, preferably 10 minutes to 24 hours.
In addition, in this step, when an acylthio form (for example, acetylthio form) is obtained, the acylthio form may be hydrolyzed in the same manner as in Step C-7 of Step C to lead to compound (XXV). it can.
Step E-6 is a step of producing compound (If) of the present invention by reacting compound (XXVI) with compound (XVIII) in the presence of a base and a solvent.
This step is performed in the same manner as the step C-8 of the step C.
The target product obtained in the above step is collected from the reaction mixture by a conventional method. For example, when the target product is precipitated as crystals in the reaction mixture, the target product is collected by filtration. If appropriate, neutralize and distill off the solvent under reduced pressure, or add water to the reaction mixture or the above solvent distilled off under reduced pressure and extract with a water-immiscible organic solvent, The target product can be obtained by drying the extract and evaporating the extraction solvent under reduced pressure. If necessary, the target product can be further purified by a conventional method such as recrystallization or column chromatography.
本発明の化合物(I)は、上記のようなアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩ではなく、分子中に塩基性部分が存在する場合、溶媒存在下、酸を用いて塩にすることができる。 Compound (I) of the present invention is not an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt or an ammonium salt as described above, but is salted with an acid in the presence of a solvent when a basic moiety is present in the molecule. be able to.
本発明の化合物(I)を農薬組成物の有効成分として使用するに際しては、本発明の化合物(I)は、それ自体を用いてもよいが、農薬補助剤として製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤及びその他補助剤を配合して、例えば、乳剤、懸濁剤、粉剤、粒剤、錠剤、水和剤、水溶剤、液剤、フロアブル剤、顆粒水和剤、エアゾール剤、ペースト剤、油剤及び乳濁剤等の種々の形態に製剤することができる。これらの配合割合は、通常、有効成分0.1〜9.0質量部で農薬補助剤10〜99.9質量部である。 When the compound (I) of the present invention is used as an active ingredient of an agricultural chemical composition, the compound (I) of the present invention may be used as it is, but is generally used for formulation as an agricultural chemical adjuvant. Incorporating carriers, surfactants and other adjuvants, for example, emulsions, suspensions, powders, granules, tablets, wettable powders, aqueous solvents, liquids, flowable powders, granular wettable powders, aerosols, pastes It can be formulated into various forms such as an agent, an oil agent and an emulsion. These blending ratios are usually 0.1 to 9.0 parts by mass of the active ingredient and 10 to 99.9 parts by mass of the agrochemical adjuvant.
前記製剤化に際して用いられる担体は、例えば、澱粉、活性炭、大豆紛、小麦粉、木紛、魚粉、粉乳等の動植物性粉末、及び、タルク、カオリン、ベントナイト、炭酸カルシウム、ゼオライト、珪藻土、ホワイトカーボン、クレー、アルミナ等の鉱物性粉末のような固体担体;又は、水、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、シクロヘキサン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ケロシン、軽油等の脂肪族炭化水素類、キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼンメチルナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、脂肪酸のグリセリンエステル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びジメチルスルホキシド等の含硫化合物類のような液体担体であり得、好適には、固体担体又は液体担体である。 Carriers used in the formulation include, for example, animal and vegetable powders such as starch, activated carbon, soybean flour, wheat flour, wood flour, fish flour, milk powder, and talc, kaolin, bentonite, calcium carbonate, zeolite, diatomaceous earth, white carbon, Solid carriers such as mineral powders such as clay and alumina; or water, alcohols such as isopropyl alcohol and ethylene glycol, ketones such as cyclohexane and methyl ethyl ketone, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, fats such as kerosene and light oil Esters such as aromatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as xylene, trimethylbenzene, tetramethylbenzenemethylnaphthalene, and solvent naphtha, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, acid amides such as dimethylacetamide, and glycerin esters of fatty acids S may be a liquid carrier such as nitriles and dimethylsulfoxide sulfur-containing compounds such as de as acetonitrile, preferably a solid carrier or liquid carrier.
用いられる界面活性剤は、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル又はポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレートであり得、好適には、アルキルベンゼンスルホン酸金属塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル又はポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレートである。 The surfactant used is, for example, alkylbenzene sulfonic acid metal salt, dinaphthylmethane disulfonic acid metal salt, alcohol sulfate ester salt, alkylaryl sulfonate, lignin sulfonate, polyoxyethylene glycol ether, polyoxyethylene alkylaryl It can be an ether or a polyoxyethylene sorbitan monoalkylate, preferably an alkylbenzene sulfonic acid metal salt, lignin sulfonate, polyoxyethylene alkylaryl ether or polyoxyethylene sorbitan monoalkylate.
その他の補助剤は、例えば、カルボキシジメチルセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム、キサンタンガム、グアーガム、トラガントガム及びポリビニルアルコール等の固着剤又は増粘剤;金属石鹸等の消泡剤;又は脂肪酸、アルキルリン酸塩、シリコーン及びパラフィン等の物性向上剤着色剤であり得、好適には、グアーガム又はキサンタンガムである。 Other adjuvants include, for example, fixing agents or thickeners such as carboxydimethylcellulose, gum arabic, sodium alginate, xanthan gum, guar gum, tragacanth gum and polyvinyl alcohol; antifoaming agents such as metal soaps; or fatty acids, alkyl phosphates It can be a colorant such as silicone and paraffin, and is preferably guar gum or xanthan gum.
これら製剤は、実際の使用に際して、そのまま使用するか、又は水等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用することができる。本発明化合物を含有する種々の製剤又はその希釈剤の施用は、通常一般的に行われている施用方法、即ち、散布(例えば、噴霧、ミスティング、アトマイジング、散紛、散粒、水面施用、箱施用等)、土壌施用(例えば、混入、灌注等)、表面施用(例えば、塗布、紛衣、被覆等)、浸漬又は毒餌等であり得る。また、家畜に対して前記有効成分を飼料に混合して与え、その排泄物での有害虫、特に有害昆虫の発生、生育を防除することも可能である。又いわゆる超高濃度少量散布法により施用することもできる。この方法においては、有効成分を100%含有することが可能である。 These preparations can be used as they are in actual use, or can be used after diluting to a predetermined concentration with a diluent such as water. Application of various preparations containing the compound of the present invention or diluents thereof is usually performed by a general application method, that is, spraying (for example, spraying, misting, atomizing, dusting, dusting, water surface application). , Box application, etc.), soil application (eg, mixing, irrigation, etc.), surface application (eg, application, dressing, coating, etc.), immersion or poison bait. It is also possible to feed the livestock with the active ingredient in a feed to control the occurrence and growth of harmful insects, particularly harmful insects, in the excreta. It can also be applied by the so-called ultra-high concentration small quantity spraying method. In this method, it is possible to contain 100% of the active ingredient.
本発明の農薬組成物施用時の有効成分濃度は、通常、0.1〜50000ppmであり、好適には、1〜10000ppmである。ただし、有効成分濃度は、製剤の形態及び施用する方法、目的、時期、場所及び有害生物の発生状況によって、適宜変更でき、例えば、水生有害生物の場合、上記濃度の薬液を発生場所に散布しても防除できることから、水中での有効成分濃度は上記より小さくなる。 The active ingredient concentration at the time of applying the agricultural chemical composition of the present invention is usually 0.1 to 50000 ppm, preferably 1 to 10000 ppm. However, the active ingredient concentration can be appropriately changed depending on the form of the preparation and the method of application, purpose, time, place and occurrence of pests. Therefore, the active ingredient concentration in water is smaller than the above.
本発明の農薬組成物の使用量は、土壌混和処理の場合、例えば、有効成分化合物として、10アール当たり、0.1〜5000gであり、好適には、1〜1000gである。 In the case of the soil admixing treatment, the amount of the agrochemical composition of the present invention is, for example, 0.1 to 5000 g per 10 are as an active ingredient compound, and preferably 1 to 1000 g.
なお、本発明の化合物(I)は単独でも十分有効であることはいうまでもないが、必要に応じて肥料及び他の農薬、例えば殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウィルス剤、誘引剤、除草剤及び植物調整剤などと混用又は併用することができ、この場合に一層優れた効果を示すこともある。 In addition, it goes without saying that the compound (I) of the present invention alone is sufficiently effective, but if necessary, fertilizers and other agricultural chemicals such as insecticides, acaricides, nematicides, fungicides, It can be used in combination with or combined with antiviral agents, attractants, herbicides, plant regulators, etc., and in this case, a more excellent effect may be exhibited.
本発明の化合物(I)と混用して使用できる他の農薬は、例えば、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウィルス剤、誘引剤、除草剤又は植物調整剤であり得、好適には、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤又は除草剤である。 Other agricultural chemicals that can be used in combination with the compound (I) of the present invention are, for example, insecticides, acaricides, nematicides, fungicides, antiviral agents, attractants, herbicides or plant regulators. Preferably, it is an insecticide, acaricide, nematicide, fungicide or herbicide.
用いられる殺虫剤は、例えば、有機リン及びカーバメート系殺虫剤、ピレスロイド系殺虫剤又はその他の殺虫剤であり得る。 The insecticides used can be, for example, organophosphorus and carbamate insecticides, pyrethroid insecticides or other insecticides.
有機リン及びカーバメート系殺虫剤は、例えば、フェンチオン、フェニトロチオン、ダイアジノン、クロルピリホス、オキシデプホス、バミドチオン、フェントエート、ジメトエート、ホルモチオン、マラチオン、トリクロルホン、チオメトン、ホスメット、ジクロルホス、アセフェート、EPBP、メチルパラチオン、オキシジメトンメチル、エチオン、ジオキサベンゾホス、シアノホス、イソキサチオン、ピリダフェンチオン、ホサロン、メチダチオン、スルプロホス、クロルフェンビンホス、テトラクロルビンホス、ジメチルビンホス、プロパホス、イソフェンホス、ジスルホトン、プロフェノホス、ピラクロホス、モノクロトホス、アジンホスメチル、アルジカルブ、メソミル、チオジカルブ、カルボフラン、カルボスルファン、ベンフラカルブ、フラチオカルブ、プロポキスル、フェノブカルブ、メトルカルブ、イソプロカルブ、カルバリル、ピリミカーブ、エチオフェンカルブ、ジクロフェンチオン、ピリミホスメチル、キナルホス、クロルピリホスメチル、プロチオホス、ナレッド、EPN、XMC、ベンダイオカルブ、オキサミル、アラニカルブ、フルピラゾホス、ホスホカルブ又はクロルエトキシホスであり得る。 Organic phosphorus and carbamate insecticides include, for example, fenthion, fenitrothion, diazinon, chlorpyrifos, oxydephfos, bamidione, phentoate, dimethoate, formothion, malathion, trichlorfone, thiometone, phosmet, dichlorphos, acephate, EPBP, methylparathion, ethidimethone methyl , Dioxabenzophos, cyanophos, isoxathione, pyridafenthion, hosalon, methidathion, sulprophos, chlorfenvinphos, tetrachlorvinphos, dimethylvinphos, propaphos, isofenphos, disulfoton, profenofos, pyracrophos, monocrotophos, azinephosmethyl, aldicarb, mesomil , Thiodicarb, Carbofuran, Carbosulfan, Be Furacarb, furthiocarb, propoxul, fenobucarb, metorcarb, isoprocarb, carbaryl, pyrimicarb, ethiophene carb, diclofenthion, pirimiphosmethyl, quinalphos, chlorpyrifosmethyl, prothiophos, nared, EPN, XMC, bendiocarb, oxamyl, alanical carb, ethoxypyrazol It can be.
ピレスロイド系殺虫剤は、例えば、ペルメトリン、シペルメトリン、デルタメトリン、フェンバレレート、フェンプロパトリン、ピレトリン、アレスリン、テトラメトリン、レスメトリン、ジメスリン、プロパスリン、フェノトリン、プロトリン、フルバリネート、シフルトリン、シハロトリン、フルシトリネート、エトフェンプロックス、シクロプロトリン、トラロメトリン、シラフルオフェン、テフルトリン、ビフェントリン又はアクリナトリンであり得る。 Pyrethroid insecticides include, for example, permethrin, cypermethrin, deltamethrin, fenvalerate, phenpropatoline, pyrethrin, allethrin, tetramethrin, resmethrin, dimethrin, propraslin, phenothrin, protorin, fulvalinate, cyfluthrin, cyhalothrin, flucitrinate, eth It may be Fenprox, Cycloproton, Tralomethrin, Silafluophene, Tefluthrin, Bifenthrin or Acrinatrin.
その他の殺虫剤は、例えば、ジフルベンズロン、クロルフルアズロン、ヘキサフルムロン、トリフルムロン、テフルベンズロン、フルフェノクスロン、フルシクロクスロン、ブプロフェジン、ピリプロキシフェン、ルフェヌロン、シロマジン、メトプレン、エンドスルファン、ジアフェンチウロン、イミダクロプリド、フィプロニル、フェノキシカルブ、カルタップ、チオシクラム、ベンスルタップ、テブフェノジド、クロルフェナピル、エマメクチンベンゾエート、アセタミプリド、ニテンピラム、ピメトロジン、チアクロプリド、スピノサッド、テブフェンピラド、トルフェンピラド、ジノテフラン、チアメトキサム、エチプロール、メトキシフェノジド、クロマノフェノジド、クロチアニジン、アセトプロール、ピリダリル、インドキサカルブ、スピロメシフェン、スピロテトラマット、フルベンジアミド、レピメクチン、メタフルミゾン、オレイン酸ナトリウム、硫酸ニコチン、ロテノン、メタアルデヒド、マシン油、なたね油、BT剤又は昆虫病原ウィルス等の微生物農薬であり得る。 Other insecticides include, for example, diflubenzuron, chlorfluazuron, hexaflumuron, triflumuron, teflubenzuron, flufenoxuron, flucycloxuron, buprofezin, pyriproxyfen, lufenuron, cyromazine, metoprene, endosulfan, diafenthiuron , Imidacloprid, fipronil, phenoxycarb, cartap, thiocyclam, bensultap, tebufenozide, chlorfenapyr, emamectin benzoate, acetamiprid, nitenpyram, pymetrozine, thiacloprid, spinosad, tebufenpyrad, tolfenpyrod, dinotetamnothithiodide Acetoprole, pyridalyl, Indoki Calve, spiromesifen, spiro tetra mat, flubendiamide, lepimectin, metaflumizone, sodium oleate, nicotine sulfate, rotenone, metaldehyde, machine oil, rapeseed oil, may be microbial pesticide such as a BT agent or an insect pathogenic virus.
用いられる殺ダニ剤は、例えば、クロルベンジレート、フェニソブロモレート、ジコホル、アミトラズ、プロパルギット、ベンゾメート、ヘキシチアゾックス、フェンブタチンオキシド、ポリナクチン、キノメチオネート、クロルフェンソン、テトラジホン、アバメクチン、ミルベメクチン、クロフェンテジン、ピリダベン、フェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリミジフェン、フェノチオカルブ、ジエノクロル、エトキサゾール、ハルフェンプロックス、スピロジクロフェン日フェナゼート、シフルメトフェン又はフルアクリピリウムであり得る。 The acaricides used are, for example, chlorbenzilate, phenisobromolate, dicophor, amitraz, propargite, benzomate, hexothiazox, phenbutatin oxide, polynactin, quinomethionate, chlorfenson, tetradiphone, abamectin, milbemectin, It can be clofentezin, pyridaben, fenpyroximate, tebufenpyrad, pyrimidifen, phenothiocarb, dienochlor, etoxazole, halfenprox, spirodiclofen phenazate, cyflumethofen or fluacrylpylium.
用いられる殺線虫剤は、例えば、フェナミホス、ホスチアゼート、エトプロホス、メチルイソチオシアネート、1,3−ジクロロプロペン又はDCIPであり得る。 The nematicide used can be, for example, fenamifos, phostiazate, etoprofos, methylisothiocyanate, 1,3-dichloropropene or DCIP.
用いられる殺菌剤は、例えば、チオファネートメチル、ベノミル、カルベンダゾール、チアベンダゾール、フォルベット、チウラム、ジラム、ジネブ、マンネブ、マンゼブ、ポリカーバメート、イプロベンホス、エジフェンフォス、フサライド、プロベナゾール、イソプロチオラン、クロロタロニル、キャプタン、ポリオキシン、ブラストサイジンS、カスガマイシン、ストレプトマイシン、バリダマイシン、トリシクラゾール、ピロキロン、フェナジンオキシド、メプロニル、フルトラニル、ペンシクロン、イプロジオン、ヒメキサゾール、メタラキシル、トリフルミゾール、トリホリン、トリアジメホン、ビテルタノール、フェナリモル、プロピコナゾール、シモキサニル、プロクロラズ、ペフラゾエート、ヘキサコナゾール、ミクロブタニル、ジクロメジン、テクロフタラム、プロピネブ、ジチアノン、ホセチル、ビンクロゾリン、プロシミドン、オキサジキシル、グアザチン、プロパモカルブ塩酸塩、フルアジナム、オキソリニック酸、ヒドロキシイソキサゾール、イミベンコナゾール、メパニピリム、ベンチアバリカルブ、シルフェナミド、シアゾファミド、フェナミドン、フェノキサニル、メトラフェノン、ニコビフェン、ピコキシスロトビン、ピラクロストロビン、シメコナゾール、アミスロブロム、マンジプロパミド、フルピコライド、ペンチオピラド、ボスカリド、フルモルフ、フルオキサストロビン、オリサストロビン、プロキナジド、プロチオコナゾール又はゾキサミドであり得る。 The fungicides used are, for example, thiophanate methyl, benomyl, carbendazole, thiabendazole, phorvet, thiuram, ziram, dineb, mannebu, manzeb, polycarbamate, iprobenphos, edifenfos, fusalide, probenazole, isoprothiolane, chlorothalonil, captan, polyoxin. , Blasticidin S, kasugamycin, streptomycin, validamycin, tricyclazole, pyroxylone, phenazine oxide, mepronil, flutolanil, pencyclon, iprodione, hymexazole, metalaxyl, triflumizole, triphorin, triadimephone, viteltanol, fenarimol, propiconazole, simoxanil , Pefrazoate, hexaconazole, microbes Nil, dichromedin, teclophthalam, propineb, dithianon, fosetyl, vinclozoline, prosimidone, oxadixil, guazatine, propamocarb hydrochloride, fluazinam, oxolinic acid, hydroxyisoxazole, imibenconazole, mepanipyrim, bench avalib, silfenamide, ciazofamide, , Phenoxanyl, metolaphenone, nicobifen, picoxyslothobin, pyraclostrobin, cimeconazole, amisbrobrom, mandipropamide, flupicolide, penthiopyrad, boscalid, flumorph, floxastrobin, orisatrobin, proquinazide, prothioconazole or zoxamide.
用いられる除草剤は、例えば、ジフルフェニカン、プロパニル、ジクロロピコリン酸、ジカンバ、ピコロラム、2,4−D、2,4−DB、2,4−DP、フルロキシピル、MCPA、MCPP、トリクロピル、ジクロホップ−メチル、フェノキサプロップ−エチル、フルアジホップ−ブチル、ハロキシホップ−メチル、キザロホップ−エチル、ノルフルラゾン、クロルブロファム、デスメジファム、フェンメジファム、プロファム、アラクロル、アセトクロル、ブタクロル、メタザクロル、メトラクロル、プレチラクロル、プロパクロル、オリザリン、トリフルラリン、アシフルオルフェン、ビフェノックス、フルオログリゴフェン、ホメサフェン、ハロサフェン、ラクトフェン、オキシフルオルフェン、クロルトルロン、ジウロン、フルオメツロン、イソプロツロン、リヌロン、メタベンズチアズロン、アロキシジム、クレトジム、シクロキシジム、セトキシジム、トラコキシジム、イマゼタピル、イマザメタベンズ、イマザピル、イマザキン、ブロモキシニル、ジクロベニル、イオキシニル、メフェナセット、アミドスルフロン、ベンスルフロン−メチル、クロリムロン−エチル、クロルスルフロン、シノスルフロン、メトスルフロン−メチル、ニコスルフロン、ピリミスルフロン、ピラゾスルフロン−エチル、チフェンスルフロン−メチル、トリアスルフロン、トリベヌロン−メチル、ブチレート、シクロエート、ジーアレート、EPTC、エスプロカルプ、モリネート、プロスルホカルプ、ベンチオカルプ、トリアレート、アトラジン、シアナジン、シマジン、シメトリン、ターブトリン、ターブチラジン、ヘキサジノン、メタミトロン、メトリブジン、アミトリアゾール、ベンフレセート、ベンタゾン、シンメチリン、クロマゾン、クロピラリド、ジフェンゾクアット、ジチオピル、エトフメセート、フルオロクロリドン、グルホシネート、グリホセート、イソキサベン、ピリデート、キンクロラック、キンメタック、スルホセート、トリジファン、カフェンスとロール、シハロホップ−ブチル、インダノファン、ベンゾビシクロン、ベンズフェンジゾン、ブタフェナシル、フルアゾレート、フルチアセット、ピラゾギル、ピリダホール、ピリフタリド、フルフェナセット又はフェントラザミドであり得る。 Herbicides used are, for example, diflufenican, propanyl, dichloropicolinic acid, dicamba, picoloram, 2,4-D, 2,4-DB, 2,4-DP, fluroxypyr, MCPA, MCPP, triclopyr, diclohop-methyl, Phenoxaprop-ethyl, fluazifop-butyl, haloxyhop-methyl, quizalofop-ethyl, norflurazon, chlorbrofam, desmedifam, fenmedifam, profam, alachlor, acetochlor, butachlor, metazachlor, metolachlor, pretilachlor, propachlor, oryzalin, trifluralin, Acifluorfen, bifenox, fluorogligophene, fomesafen, halosulfene, lactofen, oxyfluorfen, chlortoluron, diuron, full Metulone, isoproturon, linuron, metabenzthiazulone, alloxidim, cretodim, cycloxidim, cetoxydim, tracoxidim, imazetapyr, imazametabenz, imazapyr, imazaquin, bromoxynyl, diclobenyl, ioxinyl, mefenacet, amidosulfuron-methyl, rimsulfuron-methyl , Chlorsulfuron, Sinosulfuron, Metosulfuron-methyl, Nicosulfuron, Pyrisulfuron, Pyrazosulfuron-ethyl, Thifensulfuron-methyl, Triasulfuron, Tribenuron-methyl, Butyrate, Cycloate, Giarate, EPTC, Esprocarp, Molinate, Prosulfocarp , Bench Ocalp, Trialate, Atrazine, Cyanazine, Simazine, Simmetry , Terbutrin, terbuthylazine, hexazinone, metamitron, metribudine, amitriazole, benfrate, bentazone, cinmethyline, clomazone, clopyralid, difenzoquat, dithiopyr, etofumecetate, fluorochloridone, glufosinate, isoxaben, pyroxalate, quinlodac, quincloc It can be sulfosate, tridiphane, caffon and roll, cyhalohop-butyl, indanophan, benzobicyclone, benzphendizone, butaphenacyl, fluazolate, fluthiaset, pyrazogyl, pyridahol, pyriftalide, fluphenazide or fentolazamide.
本発明の化合物(I)は、例えば、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類及び植物寄生性線虫類に対して優れた防除効果を示す。また、本発明の化合物(I)は、その他有害動物、不快動物、衛生害虫及び寄生虫に対しても優れた防除効果を示す。 The compound (I) of the present invention includes, for example, hemiptera pests, lepidopterous pests, coleopterous pests, diptera pests, hymenopterous pests, straight-eyed pests, termite pests, thrips pests, spider mites and the like Excellent control effect against plant parasitic nematodes. In addition, the compound (I) of the present invention exhibits an excellent control effect against other harmful animals, unpleasant animals, sanitary pests and parasites.
半翅目害虫は、例えば、ホソヘリカメムシ(Riptortus clavatus)、ミナミアオカメムシ(Nezara viridula)、メクラカメムシ類(Lygus sp.)、アメリカコバネナガカメムシ(Blissus leucpterus)、ナシグンバイ(Stephanitis nashi)等のカメムシ類(異翅類;Heteroptera)、ツマグロヨコバイ(Nephotettix cincticeps)、ヒメヨコバイ(Empoasca sp., Erythroneura sp., Circulifer sp.)等のヨコバイ類、トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)、セジロウンカ(Sogatella furcifera)、ヒメトビウンカ(Laodelphax striatellus)等のウンカ類、Psylla sp.等のキジラミ類、タバココナジラミ(Bemisia tabaci)、オンシツコナジラミ(Trialeurodes vaporariorum)、等のコナジラミ類、ブドウネアブラムシ(Viteus vitifolii)、モモアカアブラムシ(Myzus persicae)、リンゴアブラムシ(Aphis pomi)、ワタアブラムシ(Aphis gossypii)、Aphis fabae、ニセダイコンアブラムシ(Liphis erysimi)、ジャガイモヒゲナガアブラムシ(Aulacorthum solani)、ムギミドリアブラムシ(Schizaphis graminum)等のアブラムシ類、クワコナカイガラムシ(Pseudococcus comstocki)、ルビーロウムシ(Ceroplastes rubens)、サンホーゼカイガラムシ(Comstockaspis perniciosa)、ヤノエカイガラムシ(Unaspis yanoensis)等のカイガラムシ又はサシガメ(Rhodnius sp.)であり得る。 The Hemiptera pests include, for example, Riptortus clavatus, Neraza viridula, Lygus sp., Phellinus sect. Leafhoppers such as Heteroptera, Nephotettix cinchetics, Emporska sp., Erythronia sp., Cirlifer sp. Planthoppers of ax striatellus), etc., Psylla sp. Whitefly (Bemisia tabaci), whitefly (Trialeurodes vaporariorum), whitefly aphid (Viteus vitifolia), peach aphid (Merica aphid) gossypii), Aphis fabae, Liphis erysimi, potato aphid (Aulacorthum solani), Aphidius cricket (C) It may be a scale insect such as Eroplastes rubens), San Jose scale insect (Comstockcaspis perniciosa), and scale insect (Rhodnius sp.).
鱗翅目害虫は、例えば、チャハマキ(Homona magnanima)、コカクモンハマキ(Adoxophyes orana)、テングハマキ(Sparganothis pilleriana)、ナシヒメシンクイ(Grapholitha molesta)、マメシンクイガ(Leguminivora glycinivorella)、コドリンガ(Laspeyresia pomonella)、Eucosma sp.、Lobesia botrana等のハマキガ類、ブドウホソハマキ(Eupoecillia ambiguella)、等のホソハマキガ類、Bambalina sp.等のミノガ類、コクガ(Nemapogon granellus)、イガ(Tinea pellionella)等のヒロズコガ類、ギンモンハモグリガ(Lyonetiaprunifoliella)等のハモグリガ類、キンモンホソガ(Phyllonorycter ringoniella)等のホソガ類、ミカンハモグリガ(Phyllocnistis citrella)等のコハモグリガ類、コナガ(Plutella xylostella)、Prays citri等のスガ類、ブドウスカシバ(Nokona vegale)、Synanthedon sp.等のスカシバ類、ワタアカミムシ(Pectinophora gossypiella)、ジャガイモガ(Phthorimaea operculella)、Stomopteryx sp.等のキバガ類、モモシンクイガ(Carposina niponensis)等のシンクイガ類、イラガ(Monema flavescens)等のイラガ類、ニカメイガ(Chilo suppressalis)、コブノメイガ(Cnaphalocrocis medinalis)、Ostrinia nubilalis、アワノメイガ(Ostrinia furnacalis)、ハイマダラノメイガ(Hellula undalis)ハチミツガ(Galleria mellonella)、Elasmopalpus lignosellus、Loxostege sticticalis等のメイガ類、モンシロチョウ(Pieris rapae)等のシロチョウ類、ヨモギエダシャク(Ascotis selenaria)等のシャクガ類、オビカレハ(Malacosoma neustria)等のカレハガ類、Manduca sexta等のスズメガ類、チャドクガ(Euproctis pseudoconspersa)、マイマイガ(Lymantria dispar)等のドクガ類、アメリカシロヒトリ(Hyphantria cunea)等のヒトリガ類、又はタバコバッドワーム(Heliothis virescens)、ボールワーム(Helicoverpa zea)、シロイチモジヨトウ(Spodoptera exigua)、オオタバコガ(Helicoverpa armigera)、ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)、ヨトウガ(Mamestra brassicae)、タマナヤガ(Agrotis ipsilon)、アワヨトウ(Pseudaletia separata)及びイラクサキンウワバ(Trichoplusia ni)等のヤガ類であり得る。 Lepidoptera, for example, Chahamaki (Homona magnanima), Kokakumonhamaki (Adoxophyes orana), Tenguhamaki (Sparganothis pilleriana), oriental fruit moth (Grapholitha molesta), soybean pod borer, Leguminivora glycinivorella (Leguminivora glycinivorella), codling moth (Laspeyresia pomonella), Eucosma sp. , Lobesia botrana, etc., Grape lobster (Eupoecilia ambiguella), etc., Bambalina sp. Minoga, such as Nempogon granellus, Hirosukoga, such as Tinea pellelloella, Clamidae, such as Lyonetia prunifoliella, Phyllonhitter, etc. Stag beetles such as scallops, Plutella xylostella, and Plays citri, Nokona vegale, Synanthedon sp. Such as Sashiba, cotton worm (Pectinophora gossypiella), potato (Phythromea operculella), Stomopteryx sp. Mosquito, such as Carposina nipponensis, moths such as Monema flavescens, Chilo suprasisalis haisariis, nascent moths, Helula undalis, honey moth (Galleria melonella), Elasmopalpus lignosellus, Loxotege tacticalis and other white moths, white butterflies (Pieris rapae) and other white butterflies Aria, etc., Kalehaga, such as Malacosoma neutria, Suzumegas, such as Manduca sexta, Euproctis pseudoconspersa, Miga (Lymantria), Trigger, etc. , Or tobacco worms (Heliothis virescens), ball worms (Helicoverpa zea), sirochimo jiyoto (Spodoptera armigera), helicoverpa armigera, buro sato (p) Moth (Agrotis ipsilon), it may be armyworm (Pseudaletia separata) and cabbage Kin looper (Trichoplusia ni) Noctuidae such as.
鞘翅目害虫は、例えば、ドウガネブイブイ(Anomala cuprea)、マメコガネ(Popillia japonica)、ヒメコガネ(Anomala rufocuprea)、Eutheolarugiceps等のコガネムシ類、ワイヤーワーム(Agricotes sp.)、Conodeus sp.等のコメツキムシ類、ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)、インゲンテントウムシ(Epilachna varivestis)等のテントウムシ類、コクヌストモドキ(Tribolium castaneum)等のゴミムシダマシ類、ゴマダラカミキリ(Anoplophora malasiaca)、マツノマダラカミキリ(Monochamus alternatus)等のカミキリムシ類、インゲンマメゾウムシ(Acanthoscelides obtectus)、アズキゾウムシ(Callosobruchus chinensis)等のマメゾウムシ類、コロラドハムシ(Leptinotarsa decemlineata)、コーンルートワーム(Diabrotica sp.)、イネドロオイムシ(Oulema oryzae)、テンサイトビハムシ(Chaetocnema concinna)、Phaedon cochlearias、Oulema melanopus、Dicladispa armigera等のハムシ類、Apion godmani等のホソクチゾウムシ類、イネミズゾウムシ(Lissorhoptrus oryzophilus)、ワタミゾウムシ(Anthonomus grandis)等のゾウムシ類、コクゾウムシ(Sitophilus zeamais)等のオサゾウムシ類、キクイムシ類、カツオブシムシ類又はシバンムシ類であり得る。 Coleopterous pests include, for example, Anomala cuprea, Popularia japonica, Anomala rubocuprea, Euthelaruges sp. Click beetle such etc., the beetle, Epilachna vigintioctopunctata (Epilachna vigintioctopunctata), Ladybug such as kidney ladybird (Epilachna varivestis), mealworm such as red flour beetle (Tribolium castaneum), Gomadarakamikiri (Anoplophora malasiaca), Japanese pine sawyer (Monochamus alternatus), etc. Longhorn beetles (Acanthocelides obectus), Japanese beetle (Callosobruchus chinensis), weevil (Leptinotarsa decmlineata), corn rootworm brotica sp.), Inedorooimushi (Oulema oryzae), Ten site bi potato beetle (Chaetocnema concinna), Phaedon cochlearias, Oulema melanopus, beetle such as Dicladispa armigera, bombardier Cu Chi weevils such as Apion godmani, rice water weevil (Lissorhoptrus oryzophilus), boll weevil It can be a weevil such as (Anthonomus grandis), a weevil such as a weevil (Sitophilus zeamais), a bark beetle, a cutworm, or a beetle.
双翅目害虫は、例えば、キリウジガガンボ(Tipula aino)、イネユスリカ(Chironomus oryzae)、イネシントメタマバエ(Orseolia oryzae)、チチュウカイミバエ(Ceratitis capitata)、イネミギワバエ(Hydrellia griseola)、オウトウショウジョウバエ(Drosophila suzukii)、フリッツフライ(Oscinella frit)、イネカラバエ(Chlorops oryzae)、インゲンモグリバエ(Ophiomyia phaseoli)、マメハモグリバエ(Liriomyza trifolii)、アカザモグリハナバエ(Pegomya hyoscyami)、タネバエ(Delia platura)、ソルガムフライ(Atherigona soccata)、イエバエ(Musca domestica)、ウマバエ(Gastrophilus sp.)、サシバエ(Stomoxys sp.)、ネッタイシマカ(Aedes aegypti)、アカイエカ(Culex pipiens)、シナハマダラカ(Anopheles slnensis)又はコガタアカイエカ(Culex tritaeniorhynchus)であり得る。 The Diptera pests include, for example, Tipula aino, Chironomas oryzae, u sir eu, eu sigma flies, Oresolia oryzae, eu, and eu Fritz fries (Oscinella frit), rice flies (Chlorops oryzae), common beetle (Ophiomyia phaseioli), legume flies (Liriomyza trifolii), red-bellied flies Mufurai (Atherigona soccata), housefly (Musca domestica), stable flies (Gastrophilus sp.), Stable fly (Stomoxys sp.), Aedes aegypti (Aedes aegypti), Culex (Culex pipiens), in Anopheles sinensis (Anopheles slnensis) or Culex (Culex tritaeniorhynchus) possible.
膜翅目害虫は、例えば、クキバチ類(Cephus sp.)、カタビロコバチ(Harmolita sp.)、カブラハバチ(Athalia rosae)、スズメバチ(Vespa mandarina)又はファイアーアント類であり得る。 The Hymenoptera pests can be, for example, the hornets (Cephus sp.), The beetle (Harmorita sp.), The wasp (Athalia rosae), the wasp (Vespa mandrina) or the fire ant.
直翅目害虫は、例えば、チャバネゴキブリ(Blattella germanica)、ワモンゴキブリ(Periplaneta americana)、ケラ(Gryllotalpa africana)、バッタ(Locusta migratoria migratoriodes)又はMelanoplus sanguinipesであり得る。 The insects of the order Diptera are, for example, the German cockroach (Blatella germanica), the American cockroach (Periplaneta americana), the kerato (Glylottalpa africana), the grasshopper (Locusta migratory migratory or migratory migratory or migratory migratory).
シロアリ目害虫は、例えば、ヤマトシロアリ(Reticulitermes speratus)、イエシロアリ(Coptotermes formosanus)又はダイコクシロアリ(Cryptotermes domestius)であり得る。 The termite pest can be, for example, a Yamato termite (Reticulitermes supertus), a termite (Coptopterformes formosanus), or a Cyptotermes domestius.
アザミウマ目害虫は、例えば、チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis)、ミナミキイロアザミウマ(Thrips palmi)、クロトンアザミウマ(Heliothrips haemorrhoidalis)、ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)又はイネクダアザミウマ(Haplothrips aculeatus)であり得る。 Thysanoptera, for example, yellow tea thrips (Scirtothrips dorsalis), Thrips palmi (Thrips palmi), Croton thrips (Heliothrips haemorrhoidalis), may be a western flower thrips (Frankliniella occidentalis) or rice Kuda thrips (Haplothrips aculeatus).
ハダニ類は、例えば、ナミハダニ(Tetranychus urticae)、カンザワハダニ(Tetranychus kanzawai)、ミカンハダニ(Panonychus citri)、リンゴハダニ(Panonychus ulmi)、イエローマイト(Eotetranychus carpini)、テキサスシトラスマイト(Eotetranychus banksi)、ミカンサビダニ(Aculops pelekassi)、チャノホコリダニ(polyphagotarsonemus latus)、ヒメハダニ(Brevipalpus sp.)、ロビンネダニ(Rhizoglyphus robini)又はケナガコナダニ(Tyrophagus putrescentiae)であり得る。 Spider mites include, for example, Tetanychus urticae, Tetanyychus kanzawai, Taniyus citrus, Panonychus ulmi, Texas, Emitranp ), Mites (Polyphagotarsonemus latus), Mite spider (Brevipalpus sp.), Robin tick (Rhizoglyphus robini) or Typhaphagus putrescentiae.
植物寄生性線虫類は、例えば、サツマイモネコブセンチュウ(Meloidogyne incognita)、ネグサレセンチュウ(Pratylenchus sp.)ダイズシストセンチュウ(Heterodera glycines)、イネシンガレセンチュウ(Aphelenchoides besseyi)又はマツノザイセンチュウ(Bursaphelenchus lignicolus)であり得る。 Plant parasitic nematodes include, for example, Meloidogyne incognita, Pratylenchus sp. possible.
その他有害動物、不快動物、衛生害虫及び寄生虫は、例えば、スクリミンゴガイ(Pomacea canaliculata)、ナメクジ(Incilaria sp.)、アフリカマイマイ(Achatina fulica)等の腹足網類(Gastropoda)、ダンゴムシ(Armadillidium sp.)、ワラジムシ、ムカデ等の等脚目類(Isopoda)、Liposcelis sp.等のチャタテムシ類、Ctenolepisma sp.等のシミ類、Pulex sp.、Ctenocephalides sp.等のノミ類、Trichodectes sp.等のハジラミ類、Cimex sp.等のトコジラミ類、オウシマダニ(Boophilus microplus)、フタトゲチマダニ(Haemaphysalis longicornis)等の動物寄生性ダニ類又はヒョウヒダニ類であり得る。 Other harmful animals, unpleasant animals, sanitary pests and parasites include, for example, gastropods such as Pomacea canalicula, slugs (Inciliaria sp.), Achatina falica, armadillium (Armadillidium) sp.), Isopoda such as Warabimushi and Centipede (Isopoda), Liposcelis sp. Chatteramushi such as Ctenolepisma sp. Stains such as Pulex sp. Ctenocephalides sp. Fleas such as Trichodes sp. Lice, etc., Cimex sp. It is possible to be animal parasitic mites such as Bob ticks, Boophilus microplus, Haemaphysalis longicornis or leopard mites.
更に、本発明の化合物(I)は、有機リン系化合物、カーバメート系化合物、合成ピレスロイド系化合物、アシルウレア系化合物又は既存の殺虫剤に抵抗性を示す害虫に対しても有効である。 Furthermore, the compound (I) of the present invention is also effective against pests that are resistant to organophosphorus compounds, carbamate compounds, synthetic pyrethroid compounds, acylurea compounds, or existing insecticides.
以下に、実施例、製剤例及び試験例を挙げて本発明化合物を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the compound of the present invention will be specifically described with reference to Examples, Formulation Examples and Test Examples, but the present invention is not limited thereto.
実施例1
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55)
(1)4−ブロモ−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(工程A−1a)
60% 水素化ナトリウム(2.20g、55.0mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(150ml)溶液に氷冷下、2,2,2−トリフルオロエタンチオール(4.90g、55.1mmol)を滴下し、室温で50分撹拌した。続いて、−40℃に冷却下、4−ブロモ−2−フルオロベンゾニトリル(10.00g、50.0mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド溶液(150ml)を滴下し、同温で2.5時間、次いで室温で30分攪拌した。反応溶液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=6/1)にて精製し、標記化合物(14.47g、収率97.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.81 (1H, s), 7.60-7.53 (2H, m), 3.58 (2H, q, J = 9.2 Hz)。
(2)4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55、工程A−2a)
[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ボロン酸(7.08g、36.51mmol)、4−ブロモ−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(10.81g、36.51mmol)及び炭酸ナトリウム(11.61g、109.54mmol)のトルエン−エタノール−水の混合溶液(2/1/1、184ml)にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(2.11g、1.83mmol)を加えた後、90℃で18時間加熱した。反応溶液に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)にて精製し、標記化合物(7.93g、収率60.0%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, s), 7.50 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz)。Example 1
4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1-55)
(1) 4-Bromo-2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Step A-1a)
To a solution of 60% sodium hydride (2.20 g, 55.0 mmol) in N, N-dimethylformamide (150 ml) was added 2,2,2-trifluoroethanethiol (4.90 g, 55.1 mmol) under ice cooling. The solution was added dropwise and stirred at room temperature for 50 minutes. Subsequently, a solution of 4-bromo-2-fluorobenzonitrile (10.00 g, 50.0 mmol) in N, N-dimethylformamide (150 ml) was added dropwise with cooling to −40 ° C., and the same temperature was maintained for 2.5 hours. Then, it was stirred at room temperature for 30 minutes. The reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 6/1) to obtain the title compound (14.47 g, yield 97.7%).
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.81 (1H, s), 7.60-7.53 (2H, m), 3.58 (2H, q, J = 9.2 Hz).
(2) 4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1- 55, step A-2a)
[1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] boronic acid (7.08 g, 36.51 mmol), 4-bromo-2-[(2,2,2-trifluoroethyl) )] Thio] benzonitrile (10.81 g, 36.51 mmol) and sodium carbonate (11.61 g, 109.54 mmol) in a toluene-ethanol-water mixed solution (2/1/1, 184 ml) with tetrakistriphenylphosphine palladium. (2.11 g, 1.83 mmol) was added followed by heating at 90 ° C. for 18 hours. To the reaction solution was added saturated brine, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 4/1) to obtain the title compound (7.93 g, yield 60.0%).
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, s), 7.50 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz).
実施例2
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−(プロピルチオ)ベンゾニトリル(化合物番号1−43)
(1)2−フルオロ−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゾニトリル(化合物番号4−13、工程A−1b)
[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ボロン酸(1.00g、5.16mmol)及び4−ブロモ−2−フルオロベンゾニトリル(1.03g、5.15mmol)を1,2−ジメトキシエタン(17ml)に溶解し、次いで2M 炭酸ナトリウム水溶液(7.7ml、15.4mmol)を加えた。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(298.2mg、0.26mmol)を加えた後、19時間加熱還流した。酢酸エチルを加え、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(975.4mg、収率70.4%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.80-7.75 (1H, m), 7.37-7.26 (2H, m), 6.66 (1H, s), 3.98 (3H, s)。
(2)4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−(プロピルチオ)ベンゾニトリル(化合物番号1−43、工程A−2b)
1−プロパンチオール(51.0μl、0.56mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(2.0ml)溶液に氷冷下、60% 水素化ナトリウム(23.1mg、0.58mmol)を加え、室温で20分撹拌した。続いて、氷冷下、2−フルオロ−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゾニトリル(100.4mg、0.37mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド溶液(1.0ml)を滴下し、室温で1日攪拌した。反応溶液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:クロロホルム/酢酸エチル=20/1)で精製し、標記化合物(18.3mg、収率15.1%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.72 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.39 (1H, s), 7.27 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.62 (1H, s), 3.94 (3H, s), 3.04 (2H, t, J = 6.7 Hz), 1.82-1.72 (2H, m), 1.09 (3H, t, J = 7.3 Hz)。Example 2
4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2- (propylthio) benzonitrile (Compound No. 1-43)
(1) 2-Fluoro-4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] benzonitrile (Compound No. 4-13, Step A-1b)
[1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] boronic acid (1.00 g, 5.16 mmol) and 4-bromo-2-fluorobenzonitrile (1.03 g, 5.15 mmol) ) Was dissolved in 1,2-dimethoxyethane (17 ml) and then 2M aqueous sodium carbonate (7.7 ml, 15.4 mmol) was added. Tetrakistriphenylphosphine palladium (298.2 mg, 0.26 mmol) was added, and the mixture was heated to reflux for 19 hours. Ethyl acetate was added and washed with saturated brine. After drying over magnesium sulfate and concentrating under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 3/1) to give the title compound (975.4 mg, yield 70.4%). Got.
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.80-7.75 (1H, m), 7.37-7.26 (2H, m), 6.66 (1H, s), 3.98 (3H, s).
(2) 4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2- (propylthio) benzonitrile (Compound No. 1-43, Step A-2b)
To a solution of 1-propanethiol (51.0 μl, 0.56 mmol) in N, N-dimethylformamide (2.0 ml) was added 60% sodium hydride (23.1 mg, 0.58 mmol) under ice cooling, and at room temperature. Stir for 20 minutes. Subsequently, N, N- of 2-fluoro-4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] benzonitrile (100.4 mg, 0.37 mmol) under ice cooling. Dimethylformamide solution (1.0 ml) was added dropwise and stirred at room temperature for 1 day. The reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: chloroform / ethyl acetate = 20/1) to obtain the title compound (18.3 mg, yield 15.1%).
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.72 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.39 (1H, s), 7.27 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.62 (1H, s), 3.94 (3H, s), 3.04 (2H, t, J = 6.7 Hz), 1.82-1.72 (2H, m), 1.09 (3H, t, J = 7.3 Hz).
実施例3
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル(化合物番号1−56、工程A−3)
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(115.3mg、0.32mmol)の塩化メチレン(3.0ml)溶液に、氷冷下、3−クロロ過安息香酸(85.7mg、0.32mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、亜硫酸ナトリウム水溶液、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、標記化合物(58.4mg、収率48.5%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.23 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.76 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.75 (1H, s), 4.01 (3H, s), 3.88-3.60 (2H, m)。
更に、工程Aの方法を用いて、以下の実施例4〜12の化合物を製造した。Example 3
4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile (Compound No. 1-56, process A-3)
4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (115.3 mg, 0.32 mmol ) In methylene chloride (3.0 ml) was added 3-chloroperbenzoic acid (85.7 mg, 0.32 mmol) under ice-cooling and stirred at room temperature for 1 hour. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed successively with aqueous sodium sulfite solution, water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 2/1) to obtain the title compound (58.4 mg, yield 48.5%).
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.23 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.76 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.75 (1H, s), 4.01 (3H, s), 3.88-3.60 (2H, m).
Furthermore, the compounds of Examples 4 to 12 below were produced using the method of Step A.
実施例4
2−(エチルチオ)−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゾニトリル(化合物番号1−41、工程A−1b及び工程A−2b)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.41 (1H, s), 7.27 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.10 (2H, q, J = 7.3 Hz), 1.41 (3H, t, J = 7.3 Hz)。Example 4
2- (Ethylthio) -4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] benzonitrile (Compound No. 1-41, Step A-1b and Step A-2b)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.41 (1H, s), 7.27 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.10 (2H, q, J = 7.3 Hz), 1.41 (3H, t, J = 7.3 Hz).
実施例5
4−(1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−64、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.80 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.55 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.41 (1H, d, J = 1.8 Hz), 3.92 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz)。Example 5
4- (1-Methyl-1H-pyrazol-5-yl) -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1-64, Step A-1a and Step A-2a )
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.80 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.55 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.50 (1H , dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.41 (1H, d, J = 1.8 Hz), 3.92 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz).
実施例6
4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−65、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.74 (1H, s), 7.51 (1H, d, J = 8.1 Hz), 6.67 (1H, s), 3.96 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.2 Hz)。Example 6
4- [1-Methyl-3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1-65, step) A-1a and step A-2a)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.84 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.74 (1H, s), 7.51 (1H, d, J = 8.1 Hz), 6.67 (1H, s), 3.96 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.2 Hz).
実施例7
4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル(化合物番号1−66、工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.24 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.77 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.78 (1H, s), 4.03 (3H, s), 3.88-3.57 (2H, m)。Example 7
4- [1-Methyl-3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile (Compound No. 1-66, process A-3)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.24 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.77 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.78 (1H, s), 4.03 (3H, s), 3.88-3.57 (2H, m).
実施例8
4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾ−ル−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−69、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.75 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.66 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz)。Example 8
4- [3- (Heptafluoropropyl) -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1- 69, step A-1a and step A-2a)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.75 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.66 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz).
実施例9
4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル(化合物番号1−70、工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.24 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.77 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.77 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.81-3.61 (2H, m)。Example 9
4- [3- (Heptafluoropropyl) -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile (Compound No. 1-70, Step A-3)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.24 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.77 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.77 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.81-3.61 (2H, m).
実施例10
4−[1,4−ジメチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル(化合物番号1−74、工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.13 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.97 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.65 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 3.84 (3H, s), 3.88-3.62 (2H, m), 2.11 (3H, s)。Example 10
4- [1,4-Dimethyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile (Compound No. 1-74) Step A-3)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.13 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.97 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.65 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 3.84 (3H, s), 3.88-3.62 (2H, m), 2.11 (3H, s).
実施例11
4−[1,4−ジメチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−73、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.63 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 3.80 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz), 2.07 (3H, s)。Example 11
4- [1,4-Dimethyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1-73) Step A-1a and Step A-2a)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.87 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.63 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 3.80 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz), 2.07 (3H, s).
実施例12
4−(1−メチル−1H−ピラゾール−4−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号3−1、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.80 (1H, s), 7.75 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.71 (1H, s), 7.67 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 8.0, 1.6 Hz), 3.97 (3H, s), 3.58 (2H, q, J = 9.5 Hz)。Example 12
4- (1-Methyl-1H-pyrazol-4-yl) -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 3-1, Step A-1a and Step A-2a)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.80 (1H, s), 7.75 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.71 (1H, s), 7.67 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 8.0, 1.6 Hz), 3.97 (3H, s), 3.58 (2H, q, J = 9.5 Hz).
実施例13
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55)及び4−[1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−1)
(1)4−[1−(エトキシ)エテニル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(工程B−1)
4−ブロモ−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(101.5mg、0.34mmol)のトルエン(1.0ml)溶液にトリブチル(1−エトキシビニル)スズ(0.13ml、0.38mmol)及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド(2.8mg、0.0040mmol)を加えた後、100℃で3時間加熱撹拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、不溶物をろ過により除去した。ろ液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(85.5mg、収率86.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.92 (1H, s), 7.68-7.62 (2H, m), 4.78 (1H, d, J = 3.2 Hz), 4.39 (1H, d, J = 3.2 Hz), 3.94 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.57 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.44 (3H, t, J = 7.0 Hz)。
(2)4−(1−エトキシ−4,4,4−トリフルオロ−3−オキソ−1−ブテニル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(工程B−2)
トリフルオロ酢酸無水物(42.4μl、0.30mmol)の塩化メチレン(3.0ml)溶液に氷冷下、4−[1−(エトキシ)エテニル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(85.5mg、0.30mmol)及びピリジン(24.3μl、0.30mmol)の塩化メチレン(1.0ml)溶液を加え、室温で一晩攪拌した。反応溶液に氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(75.6mg、収率66.3%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.76-7.72 (2H, m), 7.50 (1H, dd, J = 8.2, 1.6 Hz), 5.89 (1H, s), 4.21 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.59 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.50 (3H, t, J = 7.0 Hz)。
(3)4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−5−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55、工程B−3)及び4−[1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−1、工程B−3)
4−(1−エトキシ−4,4,4−トリフルオロ−3−オキソ−1−ブテニル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(75.6mg、0.20mmol)のエタノール(2.0ml)溶液にメチルヒドラジン(10.6μl、0.20mmol)を加えた後、100℃で3時間加熱撹拌した。室温まで冷却した後、反応溶液を濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、溶解した後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、化合物番号2−1の化合物(11.5mg、収率16.0%)及び化合物番号1−55の化合物(37.3mg、51.8%)を得た。
化合物番号2−1の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.09 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.96 (1H, s), 4.07 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
本工程で得られた化合物番号1−55の化合物の1H-NMRスペクトルは、前記実施例1(2)の化合物のものと一致した。
更に、工程Bの方法を用いて、以下の実施例14〜16の化合物を製造した。Example 13
4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1-55) and 4- [1-Methyl-5- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-3-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 2-1)
(1) 4- [1- (Ethoxy) ethenyl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Step B-1)
To a solution of 4-bromo-2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (101.5 mg, 0.34 mmol) in toluene (1.0 ml) was added tributyl (1-ethoxyvinyl) tin (0 .13 ml, 0.38 mmol) and bis (triphenylphosphine) palladium (II) chloride (2.8 mg, 0.0040 mmol) were added, followed by heating and stirring at 100 ° C. for 3 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, and insoluble matters were removed by filtration. The filtrate was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain the title compound (85.5 mg, yield 86.8%).
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.92 (1H, s), 7.68-7.62 (2H, m), 4.78 (1H, d, J = 3.2 Hz), 4.39 (1H, d, J = 3.2 Hz) 3.94 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.57 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.44 (3H, t, J = 7.0 Hz).
(2) 4- (1-Ethoxy-4,4,4-trifluoro-3-oxo-1-butenyl) -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Step B- 2)
To a solution of trifluoroacetic anhydride (42.4 μl, 0.30 mmol) in methylene chloride (3.0 ml) under ice-cooling, 4- [1- (ethoxy) ethenyl] -2-[(2,2,2-tri A solution of (fluoroethyl) thio] benzonitrile (85.5 mg, 0.30 mmol) and pyridine (24.3 μl, 0.30 mmol) in methylene chloride (1.0 ml) was added and stirred overnight at room temperature. Ice water was added to the reaction solution, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain the title compound (75.6 mg, yield 66.3%).
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.76-7.72 (2H, m), 7.50 (1H, dd, J = 8.2, 1.6 Hz), 5.89 (1H, s), 4.21 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.59 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.50 (3H, t, J = 7.0 Hz).
(3) 4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl-1H-pyrazol-5-yl) -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1-55) Step B-3) and 4- [1-methyl-5- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-3-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile ( Compound No. 2-1, Step B-3)
4- (1-Ethoxy-4,4,4-trifluoro-3-oxo-1-butenyl) -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (75.6 mg, 0.7. Methylhydrazine (10.6 μl, 0.20 mmol) was added to a solution of 20 mmol) in ethanol (2.0 ml), and the mixture was heated and stirred at 100 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was concentrated. Ethyl acetate was added to the residue for dissolution, and the residue was washed with saturated brine. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 2/1) to give compound No. 2-1 (11.5 mg, 16.0% yield) and Compound No. 1-55. The compound (37.3 mg, 51.8%) was obtained.
Compound No. 2-1
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.09 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.96 (1H, s), 4.07 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz).
The 1 H-NMR spectrum of the compound of Compound No. 1-55 obtained in this step was consistent with that of the compound of Example 1 (2).
Furthermore, the compounds of Examples 14 to 16 below were produced using the method of Step B.
実施例14
4−[1−エチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−61、工程B−1〜B−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.83 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.71 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.48 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.60 (1H, s), 4.19 (2H, q, J = 7.2 Hz), 3.61 (2H, q, J = 9.3 Hz), 1.45 (3H, t, J = 7.2 Hz)。Example 14
4- [1-Ethyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1-61, Step B-1 to B-3)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.83 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.71 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.48 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.60 (1H, s), 4.19 (2H, q, J = 7.2 Hz), 3.61 (2H, q, J = 9.3 Hz), 1.45 (3H, t, J = 7.2 Hz).
実施例15
4−[1−エチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−3、工程B−1〜B−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.10 (1H, s), 7.83 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.94 (1H, s), 4.34 (2H, q, J = 7.2 Hz), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz), 1.55 (3H, t, J = 7.2 Hz)。Example 15
4- [1-Ethyl-5- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-3-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 2-3, process B-1 to B-3)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.10 (1H, s), 7.83 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.94 (1H, s), 4.34 (2H, q, J = 7.2 Hz), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz), 1.55 (3H, t, J = 7.2 Hz).
実施例16
4−[1−(tert−ブチル)−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−9、工程B−1〜B−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.10 (1H, s), 7.85 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.72 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.05 (1H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.72 (9H, s)。Example 16
4- [1- (tert-butyl) -5- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-3-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 2 -9, steps B-1 to B-3)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.10 (1H, s), 7.85 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.72 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.05 (1H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.72 (9H, s).
実施例17
5−{3−[(シクロプロピルメチル)チオ]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−9)
(1)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−1、工程C−1)
[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ボロン酸(5.8g、30.0mmol)及び4−ヨードトルエン(6.54g、30.0mmol)を1,4−ジオキサン(50ml)に溶解し、次いで2M 炭酸ナトリウム水溶液(45ml、90.0mmol)を加えた。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(1.16g、1.0mmol)を加えた後、18時間加熱還流した。酢酸エチルを加え、飽和食塩水で2回洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=7/1)で精製し、標記化合物(3.11g、収率43.2%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.30 (4H, s), 6.52 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.42 (3H, s)。
(2)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−1、工程C−2)
4−メチルフェニルボロン酸(3.54g、26.0mmol)、1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル トリフルオロメタンスルホネート(2.44g、30.0mmol)、リン酸三カリウム(5.52g、26.0mmol)及び臭化カリウム(1.31g、11.0mmol)を1,4−ジオキサン(20ml)に溶解し、次いで、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(924mg、0.8mmol)を加え、18時間加熱還流した。セライトにてろ過した後、ろ液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=7/1)で精製し、標記化合物(1.77g、収率95.2%)を得た。
本工程で得られた化合物番号4−1の化合物の1H−NMRスペクトルは、上記(1)の化合物のものと一致した。
(3)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ−ル(化合物番号4−1、工程C−3)
4,4,4−トリフルオロ−1−(4−メチルフェニル)−1,3−ブタンジオン(1.00g、4.3mmol)をトルエン(10ml)に溶解し、室温下、メチルヒドラジン(0.25ml、4.8mmol)を加え、3時間加熱還流した。減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=20/1)し、標記化合物(254.8mg、24.7%)を得た。
本工程で得られた化合物番号4−1の化合物の1H−NMRスペクトルは、上記(1)の化合物のものと一致した。
(4)1−メチル−5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−2、工程C−4)
1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(1.41g、5.8mmol)の濃硫酸(2ml)溶液に、氷冷下、硝酸(0.5ml、7.0mmol)及び濃硫酸(0.5ml)の混合物を加え、室温下、2時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ込み、炭酸ナトリウムで中和した。ジクロロメタンで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=5/1)で精製し、標記化合物(899mg、収率53.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.05 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.57 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 7.50 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.68 (3H, s)。
(5)1−メチル−5−(4−メチル−3−アミノフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−3、工程C−5)
1−メチル−5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(833mg)をメタノール(10ml)に溶解し、7.5%パラジウム炭素(M型、90mg)を加えた。水素雰囲気下、常圧、室温で、6時間激しく攪拌した。反応容器を窒素置換した後、反応液をセライトろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、標記化合物(701.1mg、収率94.1%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.14 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.72 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.68 (1H, d, J = 2.1 Hz), 6.49 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.76 (2H, br s), 2.22 (3H, s)。
(6)O−エチル S−{2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]フェニル}ジチオカーボネート(工程C−6)
1−メチル−5−(4−メチル−3−アミノフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(616mg、2.4mmol)に水(3ml)を加え、続いて、濃塩酸(1.0ml)を加えた。氷冷下、亜硝酸ナトリウム(183mg、2.6mmol)の水溶液(1ml)をゆっくりと加え、さらに1時間攪拌し、ジアゾニウム塩を含む混合物を調製した。
別のフラスコに、水(3ml)、ジチオ炭酸O−エチルカリウム(463mg、2.9mmol)及び炭酸ナトリウム(306mg、2.9mmol)を加え、70℃に加熱した。この中に、先に調製したジアゾニウム塩を含む混合物を少量ずつ加えた。その後、90℃に昇温し、1時間攪拌した。反応液をジクロロメタンで2回抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=10/1)で精製し、標記記化合物(354.4mg、収率40.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.55 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.46 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.42 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 4.63 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.92 (3H, s), 2.49 (3H, s), 1.37 (3H, t, J = 7.1 Hz)。
(7)2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゼンチオール(化合物番号4−4、工程C−7)
O−エチル S−{2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]フェニル}ジチオカーボネート(297mg、0.8mmol)をメタノール(3ml)に溶解し、室温で、2規定 水酸化ナトリウム(0.9ml)を加え、1時間加熱還流した。放冷した後、水(10ml)及び濃塩酸を加えて、酸性にした後、ジクロロメタンで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、標記化合物(220mg、収率98.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.32 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.27 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.52 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.40 (1H, s), 2.39 (3H, s)。
(8)5−{3−[(シクロプロピルメチル)チオ]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−9、工程C−8)
2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゼンチオール(61mg、0.2mmol)とブロモメチルシクロプロパン(30μl、0.3mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(1ml)溶液に、60% 水素化ナトリウム(12mg、0.3mmol)を加え、80℃で、1時間加熱攪拌した。放冷した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=5/1)で精製し、標記化合物(59mg、収率83.1%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.30-7.25 (2H, m), 7.10 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 2.87 (2H, d, J = 6.7 Hz), 2.43 (3H, s), 1.12-1.03 (1H, m), 0.65-0.60 (2H, m), 0.28-0.31 (2H, m)。
更に、工程Cの方法を用いて、以下の実施例18〜40の化合物を製造した。Example 17
5- {3-[(Cyclopropylmethyl) thio] -4-methylphenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-9)
(1) 1-methyl-5- (4-methylphenyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 4-1, Step C-1)
[1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] boronic acid (5.8 g, 30.0 mmol) and 4-iodotoluene (6.54 g, 30.0 mmol) in 1,4 -Dissolved in dioxane (50 ml) and then 2M aqueous sodium carbonate (45 ml, 90.0 mmol) was added. After adding tetrakistriphenylphosphine palladium (1.16 g, 1.0 mmol), the mixture was heated to reflux for 18 hours. Ethyl acetate was added and washed twice with saturated brine. After drying over magnesium sulfate and concentrating under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 7/1) to give the title compound (3.11 g, yield 43.2%). Got.
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.30 (4H, s), 6.52 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.42 (3H, s).
(2) 1-methyl-5- (4-methylphenyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 4-1, Step C-2)
4-methylphenylboronic acid (3.54 g, 26.0 mmol), 1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl trifluoromethanesulfonate (2.44 g, 30.0 mmol), phosphoric acid Tripotassium (5.52 g, 26.0 mmol) and potassium bromide (1.31 g, 11.0 mmol) are dissolved in 1,4-dioxane (20 ml) and then tetrakistriphenylphosphine palladium (924 mg, 0.8 mmol). ) And heated to reflux for 18 hours. After filtration through celite, ethyl acetate was added to the filtrate, washed twice with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 7/1) to obtain the title compound (1.77 g, yield 95.2%).
The 1 H-NMR spectrum of the compound of Compound No. 4-1 obtained in this step was the same as that of the compound (1).
(3) 1-methyl-5- (4-methylphenyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 4-1, Step C-3)
4,4,4-trifluoro-1- (4-methylphenyl) -1,3-butanedione (1.00 g, 4.3 mmol) was dissolved in toluene (10 ml), and methyl hydrazine (0.25 ml) was added at room temperature. 4.8 mmol) was added and heated to reflux for 3 hours. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 20/1) to obtain the title compound (254.8 mg, 24.7%).
The 1 H-NMR spectrum of the compound of Compound No. 4-1 obtained in this step was the same as that of the compound (1).
(4) 1-methyl-5- (4-methyl-3-nitrophenyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 4-2, Step C-4)
To a solution of 1-methyl-5- (4-methylphenyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (1.41 g, 5.8 mmol) in concentrated sulfuric acid (2 ml) was added nitric acid (0. A mixture of 5 ml, 7.0 mmol) and concentrated sulfuric acid (0.5 ml) was added and stirred at room temperature for 2 hours. The reaction solution was poured into ice water and neutralized with sodium carbonate. The mixture was extracted with dichloromethane, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 5/1) to obtain the title compound (899 mg, yield 53.7%).
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.05 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.57 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 7.50 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.68 (3H, s).
(5) 1-methyl-5- (4-methyl-3-aminophenyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 4-3, Step C-5)
1-Methyl-5- (4-methyl-3-nitrophenyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (833 mg) was dissolved in methanol (10 ml) and 7.5% palladium carbon (M-type, 90 mg) was added. Under a hydrogen atmosphere, the mixture was vigorously stirred at normal pressure and room temperature for 6 hours. After the reaction vessel was purged with nitrogen, the reaction solution was filtered through Celite, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 1/1) to obtain the title compound (701.1 mg, yield 94.1%).
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.14 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.72 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.68 (1H, d, J = 2.1 Hz), 6.49 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.76 (2H, br s), 2.22 (3H, s).
(6) O-ethyl S- {2-methyl-5- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] phenyl} dithiocarbonate (step C-6)
To 1-methyl-5- (4-methyl-3-aminophenyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (616 mg, 2.4 mmol) was added water (3 ml) followed by concentrated hydrochloric acid (1 0.0 ml) was added. Under ice cooling, an aqueous solution (1 ml) of sodium nitrite (183 mg, 2.6 mmol) was slowly added, and the mixture was further stirred for 1 hour to prepare a mixture containing a diazonium salt.
To a separate flask was added water (3 ml), O-ethyl potassium dithiocarbonate (463 mg, 2.9 mmol) and sodium carbonate (306 mg, 2.9 mmol) and heated to 70 ° C. Into this, the mixture containing the diazonium salt prepared previously was added little by little. Then, it heated up at 90 degreeC and stirred for 1 hour. The reaction solution was extracted twice with dichloromethane, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 10/1) to obtain the title compound (354.4 mg, yield 40.8%).
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.55 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.46 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.42 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 4.63 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.92 (3H, s), 2.49 (3H, s), 1.37 (3H, t, J = 7.1 Hz).
(7) 2-Methyl-5- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] benzenethiol (Compound No. 4-4, Step C-7)
O-ethyl S- {2-methyl-5- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] phenyl} dithiocarbonate (297 mg, 0.8 mmol) in methanol (3 ml) Dissolved, 2N sodium hydroxide (0.9 ml) was added at room temperature, and the mixture was heated to reflux for 1 hour. After allowing to cool, water (10 ml) and concentrated hydrochloric acid were added to make it acidic, followed by extraction with dichloromethane. The extract was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure to give the title compound (220 mg, yield 98.7%).
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.32 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.27 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.52 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.40 (1H, s), 2.39 (3H, s).
(8) 5- {3-[(Cyclopropylmethyl) thio] -4-methylphenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-9, Step C-8)
N of 2-methyl-5- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] benzenethiol (61 mg, 0.2 mmol) and bromomethylcyclopropane (30 μl, 0.3 mmol) , N-dimethylformamide (1 ml) solution was added 60% sodium hydride (12 mg, 0.3 mmol), and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour. After allowing to cool, water was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. After drying over magnesium sulfate and concentrating under reduced pressure, the residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 5/1) to obtain the title compound (59 mg, yield 83.1%). It was.
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.30-7.25 (2H, m), 7.10 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 2.87 ( 2H, d, J = 6.7 Hz), 2.43 (3H, s), 1.12-1.03 (1H, m), 0.65-0.60 (2H, m), 0.28-0.31 (2H, m).
Furthermore, the compounds of Examples 18 to 40 below were produced using the method of Step C.
実施例18
1−メチル−5−[4−メチル−3−(プロピルチオ)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−3、工程C−2及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.26 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.23 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.55 (1H, s), 3.93 (3H, s), 2.91 (2H, t, J = 7.2 Hz), 2.42 (3H, s), 1.73 (2H, td, J = 14.8, 7.6 Hz), 1.07 (3H, t, J = 7.6 Hz)。Example 18
1-methyl-5- [4-methyl-3- (propylthio) phenyl] -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-3, Steps C-2 and C-4 to C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.26 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.23 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.55 (1H, s), 3.93 (3H, s), 2.91 (2H, t, J = 7.2 Hz), 2.42 (3H, s), 1.73 (2H, td, J = 14.8, 7.6 Hz), 1.07 (3H, t, J = 7.6 Hz).
実施例19
5−(3−ブチルチオ−4−メチルフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−7、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.26 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.22 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 6.53 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.93 (2H, t, J = 7.6 Hz), 2.41 (3H, s), 1.68 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.49 (2H, q, J = 7.6 Hz), 0.95 (3H, t, J = 7.6 Hz)。Example 19
5- (3-Butylthio-4-methylphenyl) -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-7, Steps C-1 and C-4 to C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.26 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.22 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 6.53 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.93 (2H, t, J = 7.6 Hz), 2.41 (3H, s), 1.68 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.49 (2H, q, J = 7.6 Hz), 0.95 (3H, t, J = 7.6 Hz).
実施例20
5−{3−[(シクロプロピルメチル)チオ]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−9、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.30-7.25 (2H, m), 7.10 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 2.87 (2H, d, J = 6.7 Hz), 2.43 (3H, s), 1.12-1.03 (1H, m), 0.65-0.60 (2H, m), 0.28-0.31 (2H, m)。Example 20
5- {3-[(Cyclopropylmethyl) thio] -4-methylphenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-9, Steps C-1 and C-4) ~ C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.30-7.25 (2H, m), 7.10 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 2.87 ( 2H, d, J = 6.7 Hz), 2.43 (3H, s), 1.12-1.03 (1H, m), 0.65-0.60 (2H, m), 0.28-0.31 (2H, m).
実施例21
5−{3−[(シクロプロピルメチル)スルフィニル]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−10、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.01 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.33 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.81 (1H, dd, J = 12.8, 7.3 Hz), 2.72 (1H, dd, J = 12.8, 7.3 Hz), 2.44 (3H, s), 1.16-1.06 (1H, m), 0.73-0.61 (2H, m), 0.33-0.26 (2H, m)。Example 21
5- {3-[(Cyclopropylmethyl) sulfinyl] -4-methylphenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-10, Steps C-1 and C-4) ~ C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.01 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.33 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.81 (1H, dd, J = 12.8, 7.3 Hz), 2.72 (1H, dd, J = 12.8, 7.3 Hz), 2.44 (3H, s), 1.16- 1.06 (1H, m), 0.73-0.61 (2H, m), 0.33-0.26 (2H, m).
実施例22
5−{3−[(シクロブチルメチル)チオ]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−11、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.25 (1H, d, J = 8.6 Hz), 7.22 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.99 (1H, d, J = 7.3 Hz), 2.60-2.54 (1H, m), 2.41 (3H, s), 2.18-2.12 (2H, m), 1.93-1.76 (4H, m)。Example 22
5- {3-[(Cyclobutylmethyl) thio] -4-methylphenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-11, Steps C-1 and C-4) ~ C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.25 (1H, d, J = 8.6 Hz), 7.22 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.99 (1H, d, J = 7.3 Hz), 2.60-2.54 (1H, m), 2.41 (3H, s), 2.18-2.12 (2H, m), 1.93-1.76 (4H, m).
実施例23
1−メチル−5−[4−メチル−3−(2−プロペニルチオ)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−13、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.28-7.27 (2H, m), 7.12 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.51 (1H, s), 5.94-5.86 (1H, m), 5.22-5.13 (2H, m), 3.90 (3H, s), 3.58 (2H, dt, J = 6.7, 1.2 Hz), 2.42 (3H, s)。Example 23
1-methyl-5- [4-methyl-3- (2-propenylthio) phenyl] -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-13, Steps C-1 and C-4 to C -8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.28-7.27 (2H, m), 7.12 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.51 (1H, s), 5.94-5.86 (1H, m), 5.22-5.13 (2H, m), 3.90 (3H, s), 3.58 (2H, dt, J = 6.7, 1.2 Hz), 2.42 (3H, s).
実施例24
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−15、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.60 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.57 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.31 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J = 9.4 Hz)。Example 24
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-15, Step C) -1 and C-4 to C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.60 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.57 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.31 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J = 9.4 Hz).
実施例25
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−17、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.31 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.19 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.08 (2H, dt, J = 8.4, 3.5 Hz), 2.45-2.42 (5H, m)。Example 25
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(3,3,3-trifluoropropyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-17, Step C) -1 and C-4 to C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.31 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.19 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.08 (2H, dt, J = 8.4, 3.5 Hz), 2.45-2.42 (5H, m).
実施例26
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,3,3−テトラフルオロプロピル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−19、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.47 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.23 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.54 (1H, s), 5.91 (1H, tt, J = 53.2, 2.4 Hz), 3.90 (3H, s), 3.41 (2H, tt, J = 15.9, 1.2 Hz), 2.53 (3H, s)。Example 26
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,3,3-tetrafluoropropyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-19, Steps C-1 and C-4 to C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.47 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.23 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.54 (1H, s), 5.91 (1H, tt, J = 53.2, 2.4 Hz), 3.90 (3H, s), 3.41 (2H, tt, J = 15.9, 1.2 Hz), 2.53 (3H, s).
実施例27
5−[4−クロロ−3−(プロピルチオ)フェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−23、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.47 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.23 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.55 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.94 (2H, t, J = 7.6 Hz), 1.76 (2H, td, J = 14.6, 7.1 Hz), 1.09 (3H, t, J = 7.2 Hz)。Example 27
5- [4-Chloro-3- (propylthio) phenyl] -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-23, Steps C-1 and C-4 to C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.47 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.23 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.55 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.94 (2H, t, J = 7.6 Hz), 1.76 (2H, td, J = 14.6, 7.1 Hz), 1.09 (3H, t, J = 7.2 Hz) .
実施例28
5−{4−クロロ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−35、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.60 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.57 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.31 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J = 9.4 Hz)。Example 28
5- {4-Chloro-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-35, Step C) -1 and C-4 to C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.60 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.57 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.31 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J = 9.4 Hz).
実施例29
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−67、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.27 (2H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.56 (1H, s), 3.93 (3H, s), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.53 (3H, s)。Example 29
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-67, Step C) -1 and C-4 to C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.52 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.27 (2H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.56 (1H, s), 3.93 (3H, s), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.53 (3H, s).
実施例30
3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−71、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.53 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.36 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.27 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.56 (1H, s), 3.93 (3H, s), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.54 (3H, s)。Example 30
3- (Heptafluoropropyl) -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole (compound number 1-71, step C-1 and C-4 to C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.53 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.36 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.27 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.56 (1H, s), 3.93 (3H, s), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.54 (3H, s).
実施例31
({2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]フェニル}チオ)アセトニトリル(化合物番号1−75、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.56 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.33 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.57 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.59 (2H, s), 2.55 (3H, s)。Example 31
({2-Methyl-5- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] phenyl} thio) acetonitrile (Compound No. 1-75, Steps C-1 and C-4 to C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.56 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.33 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.57 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.59 (2H, s), 2.55 (3H, s).
実施例32
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−76、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.50 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.26 (1H, dd, J = 7.3, 1.2 Hz), 6.54 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.43 (2H, t, J = 16.5 Hz), 2.54 (3H, s)。Example 32
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,3,3,3-pentafluoropropyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1- 76, Steps C-1 and C-4 to C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.50 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.26 (1H, dd, J = 7.3, 1.2 Hz), 6.54 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.43 (2H, t, J = 16.5 Hz), 2.54 (3H, s).
実施例33
5−[3−(シクロペンチルチオ)−4−メチルフェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−77、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.29 (1H, d, J = 1.3 Hz), 7.25 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.7, 1.3 Hz), 6.52 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.68-3.56 (1H, m), 2.40 (3H, s), 2.19-1.58 (8H, m)。Example 33
5- [3- (Cyclopentylthio) -4-methylphenyl] -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-77, Steps C-1 and C-4 to C-8) )
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.29 (1H, d, J = 1.3 Hz), 7.25 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.7, 1.3 Hz), 6.52 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.68-3.56 (1H, m), 2.40 (3H, s), 2.19-1.58 (8H, m).
実施例34
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2−メチル−2−プロペニル)チオ]フェニル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−78、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.29-7.24 (2H, m), 7.11 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.51 (1H, s), 4.88 (2H, s), 3.89 (3H, s), 3.53 (2H, s), 2.44 (3H, s), 1.88 (3H, s)。Example 34
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2-methyl-2-propenyl) thio] phenyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-78, Step C-1 and C-4 to C-8)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.29-7.24 (2H, m), 7.11 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.51 (1H, s), 4.88 (2H, s), 3.89 ( 3H, s), 3.53 (2H, s), 2.44 (3H, s), 1.88 (3H, s).
実施例35
5−(4−クロロフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−5、工程C−2)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.48 (2H, d, J = 8.9 Hz), 7.35 (2H, d, J = 8.9 Hz), 6.55 (1H, s), 3.91 (3H, s)。Example 35
5- (4-Chlorophenyl) -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 4-5, Step C-2)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.48 (2H, d, J = 8.9 Hz), 7.35 (2H, d, J = 8.9 Hz), 6.55 (1H, s), 3.91 (3H, s).
実施例36
5−(4−ブロモ−3−ニトロフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−10、工程C−3及びC−4)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.91 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.90 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.49 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.66 (1H, s), 3.96 (3H, s)。Example 36
5- (4-Bromo-3-nitrophenyl) -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 4-10, Steps C-3 and C-4)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.91 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.90 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.49 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.66 (1H, s), 3.96 (3H, s).
実施例37
1−メチル−3−(4−メチルフェニル)−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号5−1、工程C−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.65 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.22 (2H, d, J = 7.6 Hz), 6.85 (1H, s), 4.02 (3H, s), 2.37 (3H, s)。Example 37
1-methyl-3- (4-methylphenyl) -5- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 5-1, Step C-3)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.65 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.22 (2H, d, J = 7.6 Hz), 6.85 (1H, s), 4.02 (3H, s), 2.37 (3H, s).
実施例38
3−(4−ブロモ−3−ニトロフェニル)−1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号5−10、工程C−3及びC−4)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.25 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.82 (1H, dd, J = 8.9, 2.1 Hz), 7.77 (1H, d, J = 8.9 Hz), 6.94 (1H, s), 4.05 (3H, s)。Example 38
3- (4-Bromo-3-nitrophenyl) -1-methyl-5- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 5-10, Steps C-3 and C-4)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.25 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.82 (1H, dd, J = 8.9, 2.1 Hz), 7.77 (1H, d, J = 8.9 Hz), 6.94 (1H, s), 4.05 (3H, s).
実施例39
1−メチル−4−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号6−1、工程C−2)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.45 (1H, s), 7.30-7.18 (4H, m), 3.97 (3H, s), 2.38 (3H, s)。Example 39
1-methyl-4- (4-methylphenyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 6-1, Step C-2)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.45 (1H, s), 7.30-7.18 (4H, m), 3.97 (3H, s), 2.38 (3H, s).
実施例40
2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−4−イル]アニリン(化合物番号6−3、工程C−4及びC−5)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.41 (1H, s), 7.05 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74-6.70 (2H, m), 3.95 (3H, s), 3.64 (2H, s), 2.18 (3H, s)。
更に、工程C及び工程A−3の方法を用いて、以下の実施例41〜47の化合物を製造した。Example 40
2-Methyl-5- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-4-yl] aniline (Compound No. 6-3, Steps C-4 and C-5)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.41 (1H, s), 7.05 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74-6.70 (2H, m), 3.95 (3H, s), 3.64 (2H, s), 2.18 (3H, s).
Furthermore, the compounds of Examples 41 to 47 below were produced using the methods of Step C and Step A-3.
実施例41
1−メチル−5−[4−メチル−3−(プロピルスルフィニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−4、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.98 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.85-2.70 (2H, m), 2.44 (3H, s), 1.95-1.71 (2H, m), 1.09 (3H, t, J = 7.6 Hz).Example 41
1-methyl-5- [4-methyl-3- (propylsulfinyl) phenyl] -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-4, Step C-1, C-4 to C-8) And Step A-3)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.98 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.85-2.70 (2H, m), 2.44 (3H, s), 1.95-1.71 (2H, m), 1.09 (3H, t, J = 7.6 Hz).
実施例42
5−[3−(ブチルスルフィニル)−4−メチルフェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−8、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.98 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.89-2.71 (2H, m), 2.44 (3H, s), 1.90-1.63 (2H, m), 1.57-1.41 (2H, m), 0.95 (3H, t, J = 7.2 Hz).Example 42
5- [3- (Butylsulfinyl) -4-methylphenyl] -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-8, Step C-1, C-4 to C-8 And Step A-3)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.98 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.89-2.71 (2H, m), 2.44 (3H, s), 1.90-1.63 (2H, m), 1.57-1.41 (2H, m), 0.95 (3H , t, J = 7.2 Hz).
実施例43
5−{3−[(シクロブチルメチル)スルフィニル]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−12、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.98 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.43 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.33 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.94-2.88 (3H, m), 2.44 (3H, s), 2.32-2.23 (1H, m), 2.09-1.68 (5H, m).Example 43
5- {3-[(Cyclobutylmethyl) sulfinyl] -4-methylphenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-12, Steps C-1, C-4) To C-8 and step A-3).
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.98 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.43 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.33 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.94-2.88 (3H, m), 2.44 (3H, s), 2.32-2.23 (1H, m), 2.09-1.68 (5H, m).
実施例44
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−16、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.06 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 7.41 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.50-3.46 (2H, m), 2.47 (3H, s)。Example 44
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-16, Step C) -1, C-4 to C-8 and step A-3)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.06 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 7.41 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.50-3.46 (2H, m), 2.47 (3H, s).
実施例45
1,3−ジメチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−63、工程C−2、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.02 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 7.6, 1.5 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.16 (1H, s), 3.84 (3H, s), 3.47 (2H, q, J = 10.0 Hz), 2.45 (3H, s), 2.30 (3H, s)。Example 45
1,3-Dimethyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -1H-pyrazole (Compound No. 1-63, Step C-2, C-4) To C-8 and step A-3).
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.02 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 7.6, 1.5 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.16 (1H, s), 3.84 (3H, s), 3.47 (2H, q, J = 10.0 Hz), 2.45 (3H, s), 2.30 (3H, s).
実施例46
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−68、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.07 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.53 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.41 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.47 (3H, s)。Example 46
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-68, Step C) -1, C-4 to C-8 and step A-3)
1 H-NMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 8.07 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.53 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.41 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.47 (3H, s).
実施例47
3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−72、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.07 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.54 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.41 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.9 Hz), 2.47 (3H, s)。
実施例48
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−15、工程B−1、B−2、B−4及びB−3)及び1−メチル−3−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)フェニル]−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−14、工程B−1、B−2、B−4及びB−3)
(1)4−(1−エトキシエテニル)−1−メチル−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゼン(工程B−1)
4−ブロモ−1−メチル−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゼン(1.05g、3.68mmol)のトルエン溶液(5.0ml)に、トリブチル(1−エトキシビニル)スズ(1.24ml、3.68mmol)及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド(0.129g、0.184mmol)を加え、100℃で、3時間加熱撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(5ml)及び10%フッ化カリウム水溶液(5ml)を加え、室温で、15分撹拌した後、セライトにて、反応液をろ過した。ろ液の有機層を分離した後、水層を酢酸エチルで1回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、標記化合物を油状物として得た。
この化合物を、更に精製することなく、次の工程に用いた。
(2)4−エトキシ−1,1,1−トリフルオロ−4−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}ブト−3−エン−2−オン(工程B−2)
上記(1)の化合物の全量をテトラヒドロフラン(10ml)に溶かし、0℃に冷却し、ピリジン(0.36ml、4.42mmol)を加え、続いて、トリフルオロ酢酸無水物(0.52ml、3.68mmol)を加え、同温度で2時間撹拌し、続いて、室温で30分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(5ml)及び10%フッ化カリウム水溶液(5ml)を加え、室温で、30分間撹拌した後、セライトにて、反応液をろ過した。ろ液の有機層を分離した後、水層を酢酸エチルで1回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=10/1)で精製し、標記化合物(841.0mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.66 (1H, d, J=1.4 Hz), 7.36 (1H, dd, J=7.6Hz, 1.4Hz), 7.27 (1H, d, J=7.6Hz, 5.80 (1H, s), 4.18 (2H, q, J=6.9Hz), 3.44 (2H, q, J=9.6Hz), 2.51 (3H, s), 1.49 (3H, t, J=6.9Hz)。
(3)1,1,1−トリフルオロ−4−ヒドロキシ−4−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}ブト−3−エン−2−オン(工程B−4)
上記(2)の化合物(841.0mg)をメタノール(9ml)に溶かし、2N塩酸(3.0ml)を加え、50℃で3時間撹拌した。反応液に、飽和食塩水(10ml)及び水(10ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮して、標記化合物(845.6mg、2工程での収率67%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:15.10 (1H, brd. s), 8.06 (1H, s), 7.76 (1H, d, J=7.6Hz), 7.37 (1H, d, J=7.6Hz), 6.53 (1H, s), 3.47 (1H, q, J=8.9Hz), 2.55 (3H, s)。
(4)1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−15、工程B−3)及び1−メチル−3−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)フェニル]−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−14、工程B−3)
上記(3)の化合物(37.5mg、0.109mmol)をエタノール(1.0ml)に溶かし、酢酸(100μl)及びメチルヒドラジン(9μl)を加え、2時間、加熱還流した。放冷した後、反応液に水を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を、薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/5)で精製し、化合物番号1−15の化合物(11.7mg、収率30%)及び化合物番号2−14の化合物(8.2mg、収率21%)を得た。
化合物番号1−15の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.60 (1H, d, J=2.1Hz), 7.57 (1H, d=8.2H), 7.31 (1H, dd, J=8.2, 2.1Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J=9.4Hz)。
化合物番号2−14の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.90 (1H, d, J=1.4Hz), 7.59 (1H, dd, J=7.6, 1.4Hz), 7.27 (1H, d, J=7.6Hz), 6.86 (1H, s), 4.03 (3H, s), 3.45 (2H, q, J=9.6Hz), 2.49 (3H, s)。
実施例49
3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ−ル−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−150、工程D−1及びD−2)
(1)N’−ヒドロキシ−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ−ル−5−イル]−2−[(2,2、2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゼンカルボキシミドアミド(工程D−1)
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ] ベンゾニトリル(化合物番号1−55)(1.00g、2.74mmol)の1,4−ジオキサン(10.0ml)溶液にヒドロキシルアミン塩酸塩 (953.4mg、13.72mmol)及びトリエチルアミン(1.9ml、13.63mmol)を加え、70℃で、6時間撹拌し、次いで120℃で、2時間加熱撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1〜1/4)で精製し、標記化合物(536.5mg, 収率49.2%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.63 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.60 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.40 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 6.89 (1H, br s), 6.59 (1H, s), 4.99 (2H, br s), 3.92 (3H, s), 3.54 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
(2)3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ−ル−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−150、工程D−2)
上記(1)の化合物(102.1mg、0.26mmol)のエタノール(2.6ml)溶液に、室温下、オルトギ酸エチル (0.26ml、1.56mmol)及び硫酸(2滴)を加え、同温度で、6日間撹拌した。反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/2)で精製し、標記化合物(化合物番号1−150、32.1mg、収率30.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.87 (1H, s), 8.13 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.76 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.7 Hz)。
実施例50
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール(化合物番号1−109、工程E−1〜E−6)
(1)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール−3−オール(工程E−1)
エチル 3−(4−メチルフェニル)−2−プロピノエート(651.2mg、3.46mmol)のエタノール(3.5ml)及び水(3.5ml)の混合溶液にメチルヒドラジン(0.2ml、3.76mmol)を加え、60℃で、7時間加熱撹拌した。反応溶液を減圧で濃縮した後、酢酸エチルを加え、ろ過して、固体を得た。得られた固体を酢酸エチルで洗浄し、次いで乾燥し、標記化合物(79.1mg、収率12.1%)を得た。
1H-NMRスペクトル(DMSO-d6)δ: 9.60 (1H, s), 7.35 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.27 (2H, d, J = 8.0 Hz), 5.56 (1H, s), 3.59 (3H, s), 2.35 (3H, s)。
(2)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール−3−チオール(工程E−2)
上記(1)の化合物(456.0mg、2.42mmol)のトルエン(4.8ml)溶液にローソン試薬(502.5mg、1.24mmol)を加え、120℃で、7時間加熱撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(259.6mg、収率52.5%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.61 (2H, d, J = 8.1 Hz), 7.18 (2H, d, J = 8.1 Hz), 6.67 (0.5H, s), 6.66 (0.5H, s), 3.80 (3H, s), 2.36 (3H, s)。
(3)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール(工程E−3)
上記(2)の化合物(294.6mg、1.44mmol)の1,4−ジオキサン(8.0ml)溶液に、室温で、水酸化ナトリウム(385.6mg、9.64mmol)、水(3.1ml)及び1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタン(0.71ml、7.20mmol)を加え、65℃で、6.5時間加熱撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、エーテルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(203.2mg、収率49.2%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.64 (2H, d, J = 8.3Hz), 7.20 (2H, d, J = 8.3 Hz), 6.74 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.30 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.36 (3H, s)。
(4)2−メチル−5−{1−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール−5−イル}ベンゼンスルホニルクロリド(工程E−4)
上記(3)の化合物(200.7mg、0.70mmol)に、氷冷下、クロロスルホン酸(0.70ml、10.53mmol)を加え、50℃で、4時間加熱撹拌した。反応溶液を、酢酸エチルを含有する氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮し、標記化合物(323.4mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.41 (1H, d, J = 1.6 Hz), 8.00 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.44 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.83 (1H, s), 4.02 (3H, s), 3.33 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.81 (3H, s)。
(5)2−メチル−5−{1−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール−5−イル}ベンゼンチオール(工程E−5)
上記(4)の化合物(68.0mg)の酢酸溶液(3.0ml)に、亜鉛(199.4mg、3.05mmol)を加え、3.5時間加熱還流した。反応液に氷水及び酢酸エチルを加え、不溶物をろ過により除去した。ろ液を酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して、次いで、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、標記化合物(31.6mg、2工程での収率67.4%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.69 (1H, s), 7.43 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.17 (1H, d, J = 7.8 Hz), 6.73 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.37 (1H, s), 3.30 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.34 (3H, s)。
(6)1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール(化合物番号1−109、工程E−6)
上記(5)の化合物(31.6mg、0.099mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(3ml)溶液に、1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタン(15μl、0.15mmol)、炭酸カリウム(15.2mg、0.11mmol)及びロンガリット(1.8mg、0.012mmol)を加え、室温で、一晩攪拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(32.1mg、収率80.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, s), 7.58 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.24 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74 (1H, s), 4.00 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.6 Hz), 3.32 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例51
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(トリフルオロメチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−158、工程C−8)
2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゼンチオール及びトリフルオロメチルヨージドを用いて、実施例17(8)と同様に、反応し、後処理をして、標記化合物を得る。
更にまた、以下工程A〜Eを用いて、以下の実施例52〜86の化合物を製造した。
実施例52
5−{2−フルオロ−4−メチル−5−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−79)
3−フルオロ−4−ブロモトルエンを出発原料として、工程C−4〜C−8及び工程A−2aの反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 7.2 Hz), 7.13 (1H, d, J = 10.4 Hz), 6.57 (1H, s), 3.84 (3H, s), 3.34 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.56 (3H, s)。
実施例53
5−[4−メチル−3−(プロピルスルフィニル)フェニル]−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−85)
4−アセチルトルエンを2,2,2−トリフルオロエチル トリフルオロアセテートと公知の方法(例えば、J. Org. Chem., 1990, vol. 55, 1959-1964)等の方法)を用いて反応させ、得られた1,1,1−トリフルオロ−4−ヒドロキシ−4−(4−メチルフェニル)ブト−3−エン−2−オンを出発原料として、工程C−3〜C−8及び工程A−3の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.93 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.42 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 7.37 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.66 (1H, s), 4.78-4.69 (2H, m), 2.87-2.78 (1H, m), 2.74-2.67 (1H, m), 2.45 (3H, s), 1.97-1.85 (1H, m), 1.76-1.65 (1H, m), 1.08 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例54
5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−86)
4−アセチル−1−ブロモベンゼンを2,2,2−トリフルオロエチル トリフルオロアセテートと公知の方法(例えば、J. Org. Chem., 1990, vol. 55, 1959-1964)等の方法)を用いて反応させ、得られた4−(4−ブロモフェニル)−1,1,1−トリフルオロ−4−ヒドロキシブト−3−エン−2−オンを出発原料として、工程C−3〜C−8の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.75 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.58 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.21 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.53 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例55
5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−87)
工程A−3を用いて、実施例54の化合物を酸化して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.04 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.77 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.51 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.66 (1H, s), 3.96 (3H, s), 3.91-3.81 (1H, m), 3.49-3.39 (1H, m)。
実施例56
4−[3−(ジフルオロメチル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−88)
ジフロロ酢酸をオキザリルクロリドと反応させ、得られた相当する酸クロリドを出発原料として、工程B−2及びB−3の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.82 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.73 (1H, 1.2 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 8.2, 1.2 Hz), 6.70 (1H, t, J = 55.1 Hz), 6.61 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.2 Hz)。
実施例57
4−{1−メチル−3−[2,2,2−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチル]−1H−ピラゾール−5−イル}−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−89)
2−トリフロロメチル−3,3,3−トリフロロプロピオン酸をオキザリルクロリドと反応させ、得られた相当する酸クロリドを出発原料として、工程B−2及びB−3の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.82 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.75 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 8.1, 1.5 Hz), 6.54 (1H, s), 4.40-4.28 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例58
5−{4−エチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−90)
(1)1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−5−[3−ニトロ−4−(2−トリメチルシリルエチニル)フェニル]−1H−ピラゾール
1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−5−(4−ブロモフェニル)−1H−ピラゾールを工程C−4の反応及び後処理に付し、得られた1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−5−(3−ニトロ−4−ブロモフェニル)−1H−ピラゾール(3.42g、9.7mmol)のトリエチルアミン(20ml)溶液に、トリメチルシリルアセチレン(2.1ml、14.7mmol)、酢酸パラジウム(II)(22.4mg、0.1mmol)、トリフェニルホスフィン(83.5mg、0.3mmol)及びヨウ化第一銅(12.3mg、0.06mmol)を加えた後、100℃で、4時間加熱攪拌した。反応液を室温に冷却した後、減圧下濃縮した。残査に酢酸エチルを加え、飽和塩化アンモニウム溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=10/1)で精製し、標記化合物(2.72g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.09 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.78 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.62 (1H, dd, J = 7.7, 1.7 Hz), 6.67 (1H, s), 3.97 (3H, s), 0.30 (9H, s)。
(2)5−(3−ニトロ−4−エチニルフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
上記(1)の化合物(1.10g、3.0mmol)のメタノール(10ml)溶液に炭酸カリウム(41.4mg、0.3mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。その後、減圧で濃縮した。残査に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧で濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=7/1)で精製し、標記化合物(0.81g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.13 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.83 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.66 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 6.68 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.65 (1H, s)。
(3)2−エチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]アニリン
上記(2)の化合物(0.79g、2.7mmol)のメタノール(10ml)溶液に5%Pd−CaCO3−PbO(100mg)を加え、水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。反応容器を窒素で置換した後、反応液をセライトでろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(0.26g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.16 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.76 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.69 (1H, d, J = 1.4 Hz), 6.49 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.77 (2H, br s), 2.56 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.30 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
(4)5−{4−エチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−90)
上記(3)の化合物(260mg、0.9mmol)のアセトニトリル(2ml)溶液に、2,2’−ジチオビス(1,1,1−トリフルオロエタン)(331.5mg、1.4mmol)及び亜硝酸t−ブチル(140μl、1.2mmol)を加え、室温下2時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧で濃縮した。残査を逆相カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:アセトニトリル/水=80/20)で精製し、標記化合物(26.0mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.37 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.30 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.92 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.29 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例59
1−メチル−5−{4−(2−プロぺニル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−91)
実施例54の化合物(209mg、0.5mmol)のトルエン(2ml)溶液に、2−プロぺニルトリブチルスズ(182mg、0.55mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)(14.4mg、0.025mmol)及びトリフェニルホスフィン(27.8mg、0.mmol)加え、窒素雰囲気下、130℃で、4時間加熱攪拌した。反応液を冷却した後、セライトでろ過し、ろ液を10%アンモニア水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧で濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=20/1)で精製し、標記化合物(113.4mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.57 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.38 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.32 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.56 (1H, s), 6.04-5.95 (1H, m), 5.19-5.15 (1H, m), 5.11-5.05 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.69 (2H, d, J = 6.2 Hz), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例60
5−{4−エテニル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−92)
実施例54の化合物とトリブチルビニルスズを用いて、実施例59と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.68 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.63 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.39 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.34 (1H, dd, J = 17.2, 11.0 Hz), 6.58 (1H, s), 5.84 (1H, d, J = 17.2 Hz), 5.52 (1H, d, J = 11.0 Hz), 3.93 (3H, s), 3.36 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
実施例61
4−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−93)
(1)4−クロロ−1−メチル−5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
4−ブロモ−2−ニトロトルエンを、工程C−1の反応に付し、得られた1−メチル−5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(248.6mg、0.84mmol)のN,N−ジメチルホルムアミドホルム(2.8ml)溶液に、N−クロロスクシンイミド(144mg)を加え、70℃で6時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、標記化合物(185.6mg、収率66.9%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.45 (1H, s), 8.13 (1H, d, J=7.9Hz), 7.95 (1H, d, J=7.9Hz), 3.97 (3H, s)。
(2)4−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−93)
上記(1)の化合物を、工程C−5〜C−8の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.50 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.27-7.24 (1H, m), 3.84 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.55 (3H, s)。
実施例62
4−[4−クロロ−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−94)
4−ブロモ−2−フルオロベンゾニトリルを出発原料として、実施例61の前段と同様に反応し、後処理して、得られた1−メチル−4−クロロ−5−(4−シアノ−3−フルオロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを、工程A−2bの反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.89 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 7.9 Hz), 3.88 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
実施例63
5−{4−(ジフルオロメチル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−95)
4−ブロモ−3−フルオロベンズアルデヒドを、工程A−1a及びA−2aの反応及び後処理に付し、得られた4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒド(189.1mg,0.51mmol)を塩化メチレン(2ml)に溶かし、デオキソフロー(0.14ml)を加え、室温で15時間撹拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、標記化合物(62.4mg、収率30.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.73 (1H, s), 7.55 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.19 (1H, t, J = 55.0 Hz), 6.62 (1H, s), 3.94 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例64
1−メチル−5−{4−プロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−96)
1−ブロモ−4−プロピルベンゼンを出発原料として、工程C−4〜C−8及びA−2aの反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.28 (2H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.86 (2H, t, J = 7.6 Hz), 1.69 (2H, tt, J = 7.6, 7.6 Hz), 1.02 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例65
5−{4−シクロプロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−97)
(1)4−ブロモ−1−シクロプロピル−2−ニトロベンゼン
硝酸銅三水和物(3.14g、13.0mmol)の酢酸(6ml)と無水酢酸(14ml)の溶液に、氷冷下、酢酸(4ml)と無水酢酸(10ml)の混合溶液に溶解した4−ブロモシクロプロピルベンゼン(2.32g、11.8mmol)を加え、室温下8時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、ジクロロメタンで抽出した。抽出液を飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=30/1)で精製し、標記化合物(1.37g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.95 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.59 (1H, dd, J = 8.4, 2.0 Hz), 7.03 (1H, d, J = 8.4 Hz), 2.33 (1H, tt, J = 6.9, 4.5 Hz), 1.11-1.03 (2H, m), 0.73-0.66 (2H, m)。
(2)5−{4−シクロプロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−97)
上記(1)の化合物を出発原料として、工程C−4〜C−8及びA−2aの反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.53 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.26 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.01 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.48-2.41 (1H, m), 1.15-1.10 (2H, m), 0.81-0.77 (2H, m)。
実施例66
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒド O−メチルオキシム(化合物番号1−98)
4−ブロモ−3−フルオロベンズアルデヒドを、工程A−1a及びA−2aの反応及び後処理に付して、得られた4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒド(113.0mg,0.31mmol)を、メタノール(2ml)に溶かし、O−メチルヒドロキシルアミン(32.7mg)を加え、室温で、2時間撹拌した。さらにテトラヒドロフラン(1ml)を加え、室温で、一晩撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=6/1)で精製し、標記化合物(26.5mg、収率20.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.69 (1H, s), 8.01 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.65 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.8, 1.7 Hz), 6.60 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.93 (3H, s), 3.37 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例67
3−(ジフルオロメトキシ)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−99)
実施例68(1)の化合物を、実施例68(3)と同様に反応し、後処理して、得られた3−ジフロロアセチル−1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾールを出発原料として、工程C−4〜C−8の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.49 (1H, s), 7.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.83 (1H, t, J = 73.6 Hz), 5.91 (1H, s), 3.75 (3H, s), 3.42 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.52 (3H, s)。
実施例68
3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−100)
(1)3−ヒドロキシ−1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール及び3−ヒドロキシ−2−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール
エチル 3−(4−メチルフェニル)プロプ−2−イノアート(6.03g、32.0mmol)を、エタノール(32ml)および水(32ml)に溶かし、メチルヒドラジン(1.9ml、35.2mmol)を加え、60℃で7時間撹拌した。室温まで冷却した後、減圧で濃縮し、生じた結晶をろ取した。この結晶を、冷やした酢酸エチルで洗浄した後、減圧下乾燥した。生じた結晶(ピラゾロン位置異性体、1−メチル体及び2メチル体の混合物)は、精製することなく次の工程に用いた。
(2)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1,2−ジヒドロ−3H−ピラゾール−3−チオン
上記の(1)の化合物(粗生成物:456.0mg)をトルエン(4.8ml)に加え、ローソン試薬(502.5mg)を加え、7時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(259.6mg、収率52.5%)を得た。
(3)3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール
上記(2)の化合物(254.1mg、1.24mmol)を1,4−ジオキサン(4.1ml)に溶かし、水酸化ナトリウム(261.9mg、5.3mmol)を水(1.6ml)に溶かした溶液を加え、60〜65℃に加熱した。本反応液に、クロロジフルオロメタンのガスを2分間導入し、その後、同温度で4時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、標記化合物(99.5mg、収率31.5%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.66 (2H, d, J=7.9Hz), 7.20 (2H, d, J=7.9Hz), 6.71 (1H, t, J=56.5Hz), 4.00 (3H, s), 2.37 (3H, s)。
(4)3−ジフロロメチルチオ−1−メチル−5−(4−メチル−3−クロロスルホニルフェニル)−1H−ピラゾール
上記(3)の化合物を、氷冷下、クロロスルホン酸(233.4mg, 2.0mmol)の中に加え、50℃で2時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、粗生成物として、標記化合物(114.7mg)を得た。本化合物はこれ以上精製することなく次の工程に供した。
(5)S−(5−{3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル}−2−メチルフェニル)エタンチオアート
上記(4)の化合物(114.7mg)を、酢酸(3ml)に溶かし、酢酸ナトリウム(134.0mg)および亜鉛粉末(108.0mg)を加え、1時間、加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、セライトにてろ過した。ろ液を氷水中に注ぎ、アンモニア水で中和し、その水層を酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、標記化合物(75.9mg、収率71%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.82 (1H, d, J=1.4Hz), 7.73 (1H, d, J=7.6, 1.4Hz), 7.34 (1H, d, J=7.6Hz), 6.85 (1H, s), 6.71 (1H, t, J=56.4Hz), 4.00 (3H, s), 2.43 (3H, s), 2.36 (3H, s)。
(6)5−{3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル}−2−メチルベンゼンチオール
上記(5)の化合物(73.9mg、0.23mmol)をエタノール(3.0ml)に溶かし、6規定水酸化ナトリウム水溶液(0.44ml)を加え、2 時間加熱還流した。室温まで冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。水層に氷を加え、続いて、6規定塩酸水溶液で酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、さらに減圧下濃縮し、粗生成物として、標記化合物(63.3mg、収率98.2%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.70 (1H, brd. s), 7.44 (1H, dd, J=7.7, 1.6Hz), 7.17 (1H, d, J=7.7Hz), 6.83 (1H, s), 6.71 (1H, t, J=56.5Hz), 4.00 (3H, s), 3.38(1H, s), 2.34 (3H, s)。
(7)3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−100)
上記(6)の化合物(63.3mg、0.22mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(2.0ml)に溶かし、氷冷下、水素化ナトリウム(60%鉱油中、12.3mg)および1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタン(28μl)を加え、80℃で1時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、標記化合物(38.2mg、収率46.9%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.89 (1H, s), 7.60 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.25 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.85 (1H, s), 6.73 (1H, t, J = 56.4 Hz), 4.01 (3H, s), 3.45 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例69
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール(化合物番号1−109)
クロロジフルオロメタンの代わりに、1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタンを用いる他、実施例68と同様に反応し、後処理して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, s), 7.58 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.24 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74 (1H, s), 4.00 (3H, s), 3.50-3.25 (4H, m), 2.48 (3H, s)。
実施例70
5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−145)
プロピルブロミドの代わりに、1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエチルを用いる他、実施例53と同様に反応し、後処理して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.47 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.37 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.22 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.60 (1H, s), 4.67 (3H, q, J = 7.8 Hz), 3.42 (3H, q, J = 9.6 Hz), 2.54 (3H, s)。
実施例71
3−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−146)
(1)3−メチル−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル トリフルオロメタンスルホナート
エチル 3−オキソブタン酸を、工程B−3の反応及び後処理に付し、得られた3−メチル−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−オール及び3−メチル−2−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−オールの混合物(3.60g、20.0mmol)のジクロロメタン(20ml)溶液に、氷冷下、トリエチルアミン(2.23g、22.0mmol)及び無水トリフルオロメタンスルホン酸(6.21g、22.0mmol)を加え、同温度で、1時間攪拌した。反応混合物を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=7/1)で精製し、標記化合物(6.06g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 6.05 (1H, s), 4.58 (2H, q, J = 8.0 Hz), 2.27 (3H, s)。
(2)3−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−146)
上記(1)の化合物を出発原料として、工程C−1及びC−4〜C−8の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.45 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.32 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.19 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.14 (1H, s), 4.55 (2H, q, J = 8.2 Hz), 3.42 (2H, q, J = 9.4 Hz), 2.51 (3H, s), 2.33 (3H, s)。
実施例72
4−[1−メチル−3−(ノナフルオロブチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−147) ペルフロロペンタン酸を出発原料として、実施例57と同様に反応し、後処理して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.75 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 8.1Hz), 6.67 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例73
5−{4−エチニル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−148) 5−(4−ブロモフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを工程C−4の反応及び後処理に付し、得られた5−(4−ブロモ−3−ニトロフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを実施例58(1)と同様に反応し、後処理して、得られた5−[4−(2−トリメチルシリル)エチニル−3−ニトロフェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを出発原料として、工程C−5〜C−8の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.66 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.58 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.33 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 6.59 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.59 (2H, q, J = 9.6 Hz), 3.59 (1H, s)。
実施例74
3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−4,5−ジヒドロ−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−149)
(1)N’−ヒドロキシ−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゼンカルボキシミダミド
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55)(1.00g、2.74mmol)を、1,4−ジオキサン(10ml)に溶かし、ヒドロキシルアミン塩酸塩(953.4mg、13.7mmol)およびトリエチルアミン(1.9ml、13.7mmol)を加え、70℃で6時間加熱撹拌し、さらに還流下2時間加熱撹拌した。反応液を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1〜1/4)で精製し、標記化合物(536.5mg、収率49.2%)を得た。
(2)3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−4,5−ジヒドロ−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−149)
上記(1)の化合物(248.3mg、0.62mmol)をアセトニトリル(5.5ml)に溶かし、37%ホルムアルデヒド水溶液(0.26ml)および酢酸(0.1ml)を加え、室温で30分間撹拌し、さらに還流下1時間加熱撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、標記化合物(29.7mg、収率11.6%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.69 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.45 (1H, dd, J = 8.1, 1.7 Hz), 6.61 (1H, s), 5.54 (2H, d, J = 4.0 Hz), 5.16 (1H, br s), 3.94 (3H, s), 3.55 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例75
3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−150)
実施例74(1)の化合物(102.1mg、0.26mmol)をエタノール(2.6ml)に溶かし、オルト蟻酸エチル(0.26ml、1.56mmol)および濃硫酸(2滴)を加え、室温で一晩撹拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/2)で精製し、標記化合物(32.1mg、収率30.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.87 (1H, s), 8.13 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.76 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.7 Hz)。
実施例76
2−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1,3−チアゾール(化合物番号1−151)
5−[4−ブロモ−3−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを実施例59と同様に反応し、後処理して、標記化合物(収率39%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.13 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.01 (1H, d, J = 3.4 Hz), 7.73 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.54 (1H, d, J = 3.4 Hz), 7.48 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.64 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例77
1−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}エタノール(化合物番号1−152)
5−[4−ブロモ−3−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを(1−エトキシエテニル)トリブチルスズを実施例59と同様に反応し、後処理して、得られた1−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}エタノン(153mg、0.4mmol)のメタノール(5ml)溶液に、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム(18.2mg、0.4mmol)を加え、室温下1時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査を逆相カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:アセトニトリル/水=60/40)で精製し、標記化合物(78.7mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.75 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.55 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 6.57 (1H, s), 5.57-5.50 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.53-3.44 (2H, m), 1.99 (1H, d, J = 4.1 Hz), 1.55 (3H, d, J = 6.2 Hz)。
実施例78
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒド オキシム(化合物番号1−153)
4−ブロモ−2−フルオロベンズアルデヒドを、工程A−1a及びA−2aの反応に付し、得られた4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒドを実施例66の後段の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.77 (1H, s), 7.98-7.95 (2H, m), 7.67 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.43 (1H, dd, J = 8.0, 1.8 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.39 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例79
3−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−154)
(1)3−クロロ−1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール
実施例68(1)の化合物(258.0mg、1.37mmol)にオキシ塩化リン(1.4ml、15.0mmol)を加え、シールドチューブ中、180℃で5分間加熱した。反応液を室温まで冷却し、氷水中に注いだ。反応液に炭酸カリウムを加え、中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、標記化合物(127.5mg、収率45.0%)得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.61 (1H, d, J=7.9Hz), 7.19 (1H, d, J=7.9Hz), 6.46 (1H, s), 3.87 (3H, s), 2.36 (3H, s)。
(2)3−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−154)
上記(1)の化合物を、工程E−4〜E−6の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.85 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.47 (1H, s), 3.88 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.7 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例80
3−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−155)
実施例79の化合物を、工程A−3の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.28 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.85 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.28 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.57 (1H, s), 3.89 (3H, s), 3.52-3.36 (2H, m), 2.41 (3H, s)。
実施例81
3−ブロモ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−156)
オキシ塩化リンの代わりに、オキシ臭化リンを用いる他、実施例79と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.85 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 7.8, 1.6 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.8 Hz), 6.55 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.7 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例82
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−ピラゾール(化合物番号1−157)
実施例81の化合物を、工程A−1bの反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.95 (1H, s), 7.76-7.58 (5H, m), 7.29-7.26 (1H, m), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.50 (3H, s)。
実施例83
3−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−10)
4−アセチルトルエンを出発原料として、実施例70と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.91 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.63 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 7.29 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.98 (1H, s), 4.84 (3H, q, J = 8.0 Hz), 3.45 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.50 (3H, s)。
実施例84
3−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−11)
4−アセチル−1−ブロモベンゼンを出発原料として、実施例54と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.96 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.65 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.88 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.55 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例85
3−[4−メチル−3−(プロピルチオ)フェニル]−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−12)
4−アセチルトルエンを出発原料として、実施例83と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.69 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.47 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 7.21 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.96 (1H, s), 4.84 (2H, q, J = 7.6 Hz), 2.95 (2H, t, J = 7.6 Hz), 2.39 (3H, s), 1.77-1.69 (2H, m), 1.07 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例86
4−[5−(ジフルオロメチル)−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−13)
ジフロロ酢酸を出発原料として、実施例56と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.09 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 8.2, 1.5 Hz), 7.72 (1H, d, J = 8.1 Hz), 6.82 (1H, s), 6.77 (1H, t, J = 53.7 Hz), 4.05 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例87
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−5−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55)及び4−[1−メチル−5−(トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−3−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−1)
(1)2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−4−(4,4,4−トリフルオロ−1−ヒドロキシ−3−オキソ−1−ブテニル)ベンゾニトリル(工程B−4)
実施例13(2)で得られた4−(1−エトキシ−4,4,4−トリフルオロ−3−オキソ−1−ブテニル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ] ベンゾニトリル(96.6mg,0.25mmol)をメタノール(3ml)に溶かし、2N塩酸(1.0ml)を加え、50℃で3時間撹拌した。反応液に、飽和食塩水及び水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮して、標記化合物(87.2mg、収率97%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:8.19 (1H, d, J=1.5Hz), 7.94 (1H, dd, J=8.2, 1.5Hz), 7.84 (1H, d, J=8.2Hz), 6.56 (1H, s), 3.63 (2H, q, J=9.3Hz)。
(2)4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55、工程B−3)及び4−[1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−1、工程B−3)
上記(2)の化合物(55.4mg、0.16mmol)をエタノール(3.0ml)に溶かし、酢酸(150μl)及びメチルヒドラジン(13μl)を加え、2時間、加熱還流した。放冷した後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネウムで乾燥し、減圧で濃縮した。得られた残渣を、薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、化合物番号1−55の化合物(19.9mg、収率35%)及び化合物番号2−1の化合物(1.9mg、収率3%)を得た。
化合物番号1−55の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.84 (1H, d, J=7.9Hz), 7.74 (1H, s), 7.50 (1H, d, J=7.9Hz), 6.65 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.61 (2H, q, J=9.4Hz)。
化合物番号2−1の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:8.09 (1H, d, J=1.6Hz), 7.81 (1H, dd, J=7.9, 1.6Hz), 7.73 (1H, d, J=7.9Hz), 6.96 (1H, s), 4.07 (3H, s), 3.61 (2H, q, J=9.4Hz)。Example 47
3- (Heptafluoropropyl) -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -1H-pyrazole (Compound No. 1-72, step) C-1, C-4 to C-8 and step A-3)
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.07 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.54 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.41 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 ( 3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.9 Hz), 2.47 (3H, s).
Example 48
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-15, Step B) -1, B-2, B-4 and B-3) and 1-methyl-3- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) phenyl] -5- (trifluoromethyl ) -1H-pyrazole (Compound No. 2-14, Steps B-1, B-2, B-4 and B-3)
(1) 4- (1-Ethoxyethenyl) -1-methyl-2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzene (Step B-1)
To a toluene solution (5.0 ml) of 4-bromo-1-methyl-2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzene (1.05 g, 3.68 mmol) was added tributyl (1-ethoxyvinyl). ) Tin (1.24 ml, 3.68 mmol) and bis (triphenylphosphine) palladium (II) chloride (0.129 g, 0.184 mmol) were added, and the mixture was heated and stirred at 100 ° C. for 3 hours. A saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (5 ml) and a 10% aqueous potassium fluoride solution (5 ml) were added to the reaction solution, and the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes, and then the reaction solution was filtered through celite. After separating the organic layer of the filtrate, the aqueous layer was extracted once with ethyl acetate. The organic layers were combined, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give the title compound as an oil.
This compound was used in the next step without further purification.
(2) 4-Ethoxy-1,1,1-trifluoro-4- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} but-3-en-2-one (Process B-2)
The total amount of the compound of (1) above was dissolved in tetrahydrofuran (10 ml), cooled to 0 ° C., pyridine (0.36 ml, 4.42 mmol) was added, followed by trifluoroacetic anhydride (0.52 ml, 3. 68 mmol) and stirred at the same temperature for 2 hours, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. A saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (5 ml) and a 10% aqueous potassium fluoride solution (5 ml) were added to the reaction solution, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then the reaction solution was filtered through celite. After separating the organic layer of the filtrate, the aqueous layer was extracted once with ethyl acetate. The organic layers were combined, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 10/1) to give the title compound (841.0 mg).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.66 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.36 (1H, dd, J = 7.6Hz, 1.4Hz), 7.27 (1H, d, J = 7.6Hz, 5.80 (1H, s), 4.18 ( 2H, q, J = 6.9Hz), 3.44 (2H, q, J = 9.6Hz), 2.51 (3H, s), 1.49 (3H, t, J = 6.9Hz).
(3) 1,1,1-trifluoro-4-hydroxy-4- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} but-3-en-2-one (Process B-4)
The above compound (2) (841.0 mg) was dissolved in methanol (9 ml), 2N hydrochloric acid (3.0 ml) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 3 hours. To the reaction solution were added saturated brine (10 ml) and water (10 ml), and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give the title compound (845.6 mg, 67% yield over 2 steps).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 15.10 (1H, brd. s), 8.06 (1H, s), 7.76 (1H, d, J = 7.6Hz), 7.37 (1H, d, J = 7.6Hz), 6.53 (1H, s), 3.47 (1H, q, J = 8.9Hz), 2.55 (3H, s).
(4) 1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-15 Step B-3) and 1-methyl-3- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) phenyl] -5- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 2) -14, process B-3)
The compound of (3) (37.5 mg, 0.109 mmol) was dissolved in ethanol (1.0 ml), acetic acid (100 μl) and methylhydrazine (9 μl) were added, and the mixture was heated to reflux for 2 hours. After allowing to cool, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted twice with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 1/5) to give compound No. 1-15 (11.7 mg, yield 30%) and compound No. 2-14. Of the compound (8.2 mg, 21% yield).
Compound No. 1-15
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.60 (1H, d, J = 2.1Hz), 7.57 (1H, d = 8.2H), 7.31 (1H, dd, J = 8.2, 2.1Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J = 9.4Hz).
Compound No. 2-14
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.90 (1H, d, J = 1.4Hz), 7.59 (1H, dd, J = 7.6, 1.4Hz), 7.27 (1H, d, J = 7.6Hz), 6.86 (1H, s), 4.03 ( 3H, s), 3.45 (2H, q, J = 9.6Hz), 2.49 (3H, s).
Example 49
3- {4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1, 2,4-oxadiazole (Compound No. 1-150, Steps D-1 and D-2)
(1) N′-hydroxy-4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] Benzenecarboximide (Step D-1)
4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1-55) ( Hydroxylamine hydrochloride (953.4 mg, 13.72 mmol) and triethylamine (1.9 ml, 13.63 mmol) were added to a solution of 1.00 g, 2.74 mmol) of 1,4-dioxane (10.0 ml) and stirred at 70 ° C. for 6 hours. Subsequently, it stirred at 120 degreeC for 2 hours. The reaction solution was poured into water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 1/1 to 1/4) to obtain the title compound (536.5 mg, yield 49.2%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.63 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.60 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.40 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 6.89 (1H, br s), 6.59 (1H, s), 4.99 (2H, br s), 3.92 (3H, s), 3.54 (2H, q, J = 9.6 Hz).
(2) 3- {4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1,2,4-oxadiazole (Compound No. 1-150, Step D-2)
To a solution of the compound (1) (102.1 mg, 0.26 mmol) in ethanol (2.6 ml) at room temperature was added ethyl orthoformate (0.26 ml, 1.56 mmol) and sulfuric acid (2 drops) at the same temperature for 6 days. Stir. The reaction solution was poured into a saturated sodium bicarbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 1/2) to obtain the title compound (Compound No. 1-150, 32.1 mg, yield 30.7%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.87 (1H, s), 8.13 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.76 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 ( 3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.7 Hz).
Example 50
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] -1H-pyrazole (Compound No. 1-109, Steps E-1 to E-6)
(1) 1-methyl-5- (4-methylphenyl) -1H-pyrazol-3-ol (Step E-1)
To a mixed solution of ethyl 3- (4-methylphenyl) -2-propinoate (651.2 mg, 3.46 mmol) in ethanol (3.5 ml) and water (3.5 ml) was added methylhydrazine (0.2 ml, 3.76 mmol), and And stirred with heating for 7 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, ethyl acetate was added, and the mixture was filtered to obtain a solid. The obtained solid was washed with ethyl acetate and then dried to obtain the title compound (79.1 mg, yield 12.1%).
1 H-NMR spectrum (DMSO-d 6 ) δ: 9.60 (1H, s), 7.35 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.27 (2H, d, J = 8.0 Hz), 5.56 (1H, s), 3.59 (3H, s), 2.35 ( 3H, s).
(2) 1-methyl-5- (4-methylphenyl) -1H-pyrazole-3-thiol (step E-2)
Lawesson's reagent (502.5 mg, 1.24 mmol) was added to a toluene (4.8 ml) solution of the compound (1) (456.0 mg, 2.42 mmol), and the mixture was heated and stirred at 120 ° C. for 7 hours. The reaction solution was poured into water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain the title compound (259.6 mg, yield 52.5%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.61 (2H, d, J = 8.1 Hz), 7.18 (2H, d, J = 8.1 Hz), 6.67 (0.5H, s), 6.66 (0.5H, s), 3.80 (3H, s), 2.36 (3H, s).
(3) 1-methyl-5- (4-methylphenyl) -3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] -1H-pyrazole (Step E-3)
To a solution of compound (2) (294.6 mg, 1.44 mmol) in 1,4-dioxane (8.0 ml) at room temperature, sodium hydroxide (385.6 mg, 9.64 mmol), water (3.1 ml) and 1,1,1, 1-Trifluoro-2-iodoethane (0.71 ml, 7.20 mmol) was added, and the mixture was heated with stirring at 65 ° C. for 6.5 hours. The reaction solution was poured into water and extracted with ether. The extract was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain the title compound (203.2 mg, yield 49.2%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.64 (2H, d, J = 8.3Hz), 7.20 (2H, d, J = 8.3 Hz), 6.74 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.30 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.36 (3H, s).
(4) 2-Methyl-5- {1-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] -1H-pyrazol-5-yl} benzenesulfonyl chloride (Step E-4)
To the compound (30.7) (200.7 mg, 0.70 mmol) was added chlorosulfonic acid (0.70 ml, 10.53 mmol) under ice cooling, and the mixture was heated and stirred at 50 ° C. for 4 hours. The reaction solution was poured into ice water containing ethyl acetate and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give the title compound (323.4 mg).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.41 (1H, d, J = 1.6 Hz), 8.00 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.44 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.83 (1H, s), 4.02 ( 3H, s), 3.33 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.81 (3H, s).
(5) 2-Methyl-5- {1-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] -1H-pyrazol-5-yl} benzenethiol (Step E-5)
Zinc (199.4 mg, 3.05 mmol) was added to an acetic acid solution (3.0 ml) of the above compound (4) (68.0 mg), and the mixture was heated to reflux for 3.5 hours. Ice water and ethyl acetate were added to the reaction solution, and insoluble matters were removed by filtration. The filtrate was extracted with ethyl acetate, and the extract was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 2/1) to obtain the title compound (31.6 mg, yield in 2 steps 67.4%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.69 (1H, s), 7.43 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.17 (1H, d, J = 7.8 Hz), 6.73 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.37 ( 1H, s), 3.30 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.34 (3H, s).
(6) 1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio]- 1H-pyrazole (Compound No. 1-109, Step E-6)
To a solution of the above compound (5) (31.6 mg, 0.099 mmol) in N, N-dimethylformamide (3 ml), 1,1,1-trifluoro-2-iodoethane (15 μl, 0.15 mmol), potassium carbonate (15.2 mg) 0.11 mmol) and Rongalite (1.8 mg, 0.012 mmol) were added and stirred at room temperature overnight. The reaction solution was poured into water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain the title compound (32.1 mg, yield 80.8%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.87 (1H, s), 7.58 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.24 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74 (1H, s), 4.00 (3H, s), 3.46 ( 2H, q, J = 9.6 Hz), 3.32 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.48 (3H, s).
Example 51
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(trifluoromethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-158, Step C-8)
2-Methyl-5- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] benzenethiol and trifluoromethyl iodide as in Example 17 (8). Work up to give the title compound.
Furthermore, the compounds of Examples 52 to 86 below were produced using Steps A to E below.
Example 52
5- {2-Fluoro-4-methyl-5-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1- 79)
The title compound was obtained using 3-fluoro-4-bromotoluene as a starting material and the reaction and post-treatment of Steps C-4 to C-8 and Step A-2a.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.52 (1H, d, J = 7.2 Hz), 7.13 (1H, d, J = 10.4 Hz), 6.57 (1H, s), 3.84 (3H, s), 3.34 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.56 (3H, s).
Example 53
5- [4-Methyl-3- (propylsulfinyl) phenyl] -1- (2,2,2-trifluoroethyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-85)
4-acetyltoluene is reacted with 2,2,2-trifluoroethyl trifluoroacetate using a known method (for example, a method such as J. Org. Chem., 1990, vol. 55, 1959-1964). Using the obtained 1,1,1-trifluoro-4-hydroxy-4- (4-methylphenyl) but-3-en-2-one as a starting material, Steps C-3 to C-8 and Step A The title compound was obtained using -3 reaction and workup.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.93 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.42 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 7.37 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.66 (1H, s), 4.78- 4.69 (2H, m), 2.87-2.78 (1H, m), 2.74-2.67 (1H, m), 2.45 (3H, s), 1.97-1.85 (1H, m), 1.76-1.65 (1H, m), 1.08 (3H, t, J = 7.6 Hz).
Example 54
5- {4-Bromo-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-86)
4-acetyl-1-bromobenzene and 2,2,2-trifluoroethyl trifluoroacetate and known methods (for example, methods such as J. Org. Chem., 1990, vol. 55, 1959-1964)) And using the obtained 4- (4-bromophenyl) -1,1,1-trifluoro-4-hydroxybut-3-en-2-one as a starting material, steps C-3 to C- The title compound was obtained using reaction 8 and workup.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.75 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.58 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.21 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 ( 3H, s), 3.53 (2H, q, J = 9.6 Hz).
Example 55
5- {4-Bromo-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-87)
Using Step A-3, the compound of Example 54 was oxidized to give the title compound.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.04 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.77 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.51 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.66 (1H, s), 3.96 ( 3H, s), 3.91-3.81 (1H, m), 3.49-3.39 (1H, m).
Example 56
4- [3- (Difluoromethyl) -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1-88)
The title compound was obtained by reacting difluoroacetic acid with oxalyl chloride and using the corresponding acid chloride obtained as a starting material and the reaction and post-treatment of Steps B-2 and B-3.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.82 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.73 (1H, 1.2 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 8.2, 1.2 Hz), 6.70 (1H, t, J = 55.1 Hz), 6.61 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.2 Hz).
Example 57
4- {1-methyl-3- [2,2,2-trifluoro-1- (trifluoromethyl) ethyl] -1H-pyrazol-5-yl} -2-[(2,2,2-trifluoro Ethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1-89)
2-Trifluoromethyl-3,3,3-trifluoropropionic acid is reacted with oxalyl chloride, and the corresponding acid chloride obtained is used as a starting material to carry out the reaction and post-treatment of steps B-2 and B-3. Used to give the title compound.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.82 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.75 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 8.1, 1.5 Hz), 6.54 (1H, s), 4.40- 4.28 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz).
Example 58
5- {4-Ethyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-90)
(1) 1-methyl-3- (trifluoromethyl) -5- [3-nitro-4- (2-trimethylsilylethynyl) phenyl] -1H-pyrazole
1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -5- (4-bromophenyl) -1H-pyrazole was subjected to the reaction and post-treatment of Step C-4, and the resulting 1-methyl-3- (trifluoro) was obtained. To a solution of methyl) -5- (3-nitro-4-bromophenyl) -1H-pyrazole (3.42 g, 9.7 mmol) in triethylamine (20 ml) was added trimethylsilylacetylene (2.1 ml, 14.7 mmol), palladium acetate. (II) (22.4 mg, 0.1 mmol), triphenylphosphine (83.5 mg, 0.3 mmol) and cuprous iodide (12.3 mg, 0.06 mmol) were added, followed by 4 at 100 ° C. Stir with heating for hours. The reaction solution was cooled to room temperature and then concentrated under reduced pressure. Ethyl acetate was added to the residue, washed with saturated ammonium chloride solution and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 10/1) to obtain the title compound (2.72 g).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.09 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.78 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.62 (1H, dd, J = 7.7, 1.7 Hz), 6.67 (1H, s), 3.97 ( 3H, s), 0.30 (9H, s).
(2) 5- (3-Nitro-4-ethynylphenyl) -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole
To a solution of the compound (1) (1.10 g, 3.0 mmol) in methanol (10 ml) was added potassium carbonate (41.4 mg, 0.3 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. Then, it concentrated under reduced pressure. Ethyl acetate was added to the residue, washed twice with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 7/1) to obtain the title compound (0.81 g).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.13 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.83 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.66 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 6.68 (1H, s), 3.99 ( 3H, s), 3.65 (1H, s).
(3) 2-ethyl-5- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] aniline
To a solution of the compound (2) (0.79 g, 2.7 mmol) in methanol (10 ml) was added 5% Pd-CaCO. 3 -PbO (100 mg) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours under a hydrogen atmosphere. After replacing the reaction vessel with nitrogen, the reaction solution was filtered through celite, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain the title compound (0.26 g).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.16 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.76 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.69 (1H, d, J = 1.4 Hz), 6.49 (1H, s), 3.91 ( 3H, s), 3.77 (2H, br s), 2.56 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.30 (3H, t, J = 7.6 Hz).
(4) 5- {4-Ethyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-90) )
To a solution of the above compound (3) (260 mg, 0.9 mmol) in acetonitrile (2 ml), 2,2′-dithiobis (1,1,1-trifluoroethane) (331.5 mg, 1.4 mmol) and nitrous acid t-Butyl (140 μl, 1.2 mmol) was added and stirred at room temperature for 2 hours. Ethyl acetate was added to the reaction mixture, washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by reverse phase column chromatography (elution solvent: acetonitrile / water = 80/20) to obtain the title compound (26.0 mg).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.52 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.37 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.30 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 ( 3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.92 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.29 (3H, t, J = 7.6 Hz).
Example 59
1-methyl-5- {4- (2-propenyl) -3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-91)
To a solution of the compound of Example 54 (209 mg, 0.5 mmol) in toluene (2 ml) was added 2-propenyltributyltin (182 mg, 0.55 mmol), bisdibenzylideneacetone palladium (0) (14.4 mg, 0.025 mmol) and triphenyl. Phosphine (27.8 mg, 0. mmol) was added, and the mixture was heated and stirred at 130 ° C. for 4 hours under a nitrogen atmosphere. The reaction solution was cooled and then filtered through celite. The filtrate was washed twice with 10% aqueous ammonia, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 20/1) to obtain the title compound (113.4 mg).
1H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.57 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.38 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.32 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.56 (1H, s), 6.04- 5.95 (1H, m), 5.19-5.15 (1H, m), 5.11-5.05 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.69 (2H, d, J = 6.2 Hz), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz).
Example 60
5- {4-ethenyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-92)
The title compound was obtained in the same manner as in Example 59 using the compound of Example 54 and tributylvinyltin.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.68 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.63 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.39 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.34 (1H, dd, J = 17.2 , 11.0 Hz), 6.58 (1H, s), 5.84 (1H, d, J = 17.2 Hz), 5.52 (1H, d, J = 11.0 Hz), 3.93 (3H, s), 3.36 (2H, q, J = 9.4 Hz).
Example 61
4-Chloro-1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1- 93)
(1) 4-chloro-1-methyl-5- (4-methyl-3-nitrophenyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole
4-Bromo-2-nitrotoluene was subjected to the reaction in Step C-1, and the resulting 1-methyl-5- (4-methyl-3-nitrophenyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole was obtained. N-chlorosuccinimide (144 mg) was added to a solution of (248.6 mg, 0.84 mmol) in N, N-dimethylformamide form (2.8 ml), and the mixture was stirred at 70 ° C. for 6 hours. After cooling to room temperature, the reaction mixture was poured into water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 1/1) to obtain the title compound (185.6 mg, yield 66.9%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.45 (1H, s), 8.13 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 3.97 (3H, s).
(2) 4-chloro-1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (compound Number 1-93)
The above compound (1) was subjected to the reaction and post-treatment in Steps C-5 to C-8 to obtain the title compound.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.50 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.27-7.24 (1H, m), 3.84 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.55 (3H, s).
Example 62
4- [4-Chloro-1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1 -94)
Using 4-bromo-2-fluorobenzonitrile as a starting material, the reaction was carried out in the same manner as in the former stage of Example 61, followed by post-treatment, and the resulting 1-methyl-4-chloro-5- (4-cyano-3-) was obtained. Fluorophenyl) -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole was subjected to the reaction and workup of Step A-2b to give the title compound.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.89 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 7.9 Hz), 3.88 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.4 Hz).
Example 63
5- {4- (Difluoromethyl) -3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-95 )
4-Bromo-3-fluorobenzaldehyde was subjected to the reaction and post-treatment of steps A-1a and A-2a to give 4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole-5. -Il] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzaldehyde (189.1 mg, 0.51 mmol) was dissolved in methylene chloride (2 ml) and deoxoflow (0.14 ml) was added at room temperature. Stir for 15 hours. The reaction mixture was diluted with methylene chloride, washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 2/1) to obtain the title compound (62.4 mg, yield 30.8%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.73 (1H, s), 7.55 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.19 (1H, t, J = 55.0 Hz), 6.62 (1H, s), 3.94 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.5 Hz).
Example 64
1-methyl-5- {4-propyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-96)
The title compound was obtained using 1-bromo-4-propylbenzene as a starting material and the reaction and post-treatment of Steps C-4 to C-8 and A-2a.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.52 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.28 (2H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 ( 3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.86 (2H, t, J = 7.6 Hz), 1.69 (2H, tt, J = 7.6, 7.6 Hz), 1.02 (3H, t, J = 7.6 Hz).
Example 65
5- {4-Cyclopropyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-97)
(1) 4-Bromo-1-cyclopropyl-2-nitrobenzene
Copper nitrate trihydrate (3.14 g, 13.0 mmol) was dissolved in a solution of acetic acid (6 ml) and acetic anhydride (14 ml) in a mixed solution of acetic acid (4 ml) and acetic anhydride (10 ml) under ice cooling. 4-Bromocyclopropylbenzene (2.32 g, 11.8 mmol) was added and stirred at room temperature for 8 hours. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with dichloromethane. The extract was washed with saturated aqueous ammonium chloride solution and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 30/1) to obtain the title compound (1.37 g).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.95 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.59 (1H, dd, J = 8.4, 2.0 Hz), 7.03 (1H, d, J = 8.4 Hz), 2.33 (1H, tt, J = 6.9 , 4.5 Hz), 1.11-1.03 (2H, m), 0.73-0.66 (2H, m).
(2) 5- {4-cyclopropyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1- 97)
Using the compound (1) as a starting material, the title compound was obtained using the reaction and post-treatment of Steps C-4 to C-8 and A-2a.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.53 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.26 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.01 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 ( 3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.48-2.41 (1H, m), 1.15-1.10 (2H, m), 0.81-0.77 (2H, m).
Example 66
4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzaldehyde O-methyloxime (Compound No. 1- 98)
4-Bromo-3-fluorobenzaldehyde was subjected to the reaction and post-treatment of steps A-1a and A-2a to give 4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole- 5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzaldehyde (113.0 mg, 0.31 mmol) was dissolved in methanol (2 ml) and O-methylhydroxylamine (32.7 mg). And stirred at room temperature for 2 hours. Further, tetrahydrofuran (1 ml) was added, and the mixture was stirred overnight at room temperature. The reaction mixture was poured into water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 6/1) to obtain the title compound (26.5 mg, yield 20.8%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.69 (1H, s), 8.01 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.65 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.8, 1.7 Hz), 6.60 ( 1H, s), 4.04 (3H, s), 3.93 (3H, s), 3.37 (2H, q, J = 9.3 Hz).
Example 67
3- (Difluoromethoxy) -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole (Compound No. 1-99)
The compound of Example 68 (1) was reacted in the same manner as in Example 68 (3) and worked up to give 3-difluoroacetyl-1-methyl-5- (4-methylphenyl) -1H. The title compound was obtained using the reaction and post-treatment of Steps C-4 to C-8 starting from -pyrazole.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.49 (1H, s), 7.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.83 (1H, t, J = 73.6 Hz), 5.91 (1H, s), 3.75 (3H, s), 3.42 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.52 (3H, s).
Example 68
3-[(Difluoromethyl) thio] -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole (Compound No. 1-100)
(1) 3-hydroxy-1-methyl-5- (4-methylphenyl) -1H-pyrazole and 3-hydroxy-2-methyl-5- (4-methylphenyl) -1H-pyrazole
Ethyl 3- (4-methylphenyl) prop-2-inoate (6.03 g, 32.0 mmol) is dissolved in ethanol (32 ml) and water (32 ml) and methylhydrazine (1.9 ml, 35.2 mmol) is added. And stirred at 60 ° C. for 7 hours. After cooling to room temperature, the mixture was concentrated under reduced pressure, and the resulting crystals were collected by filtration. The crystals were washed with chilled ethyl acetate and then dried under reduced pressure. The resulting crystals (a mixture of pyrazolone regioisomer, 1-methyl and 2-methyl) were used in the next step without purification.
(2) 1-methyl-5- (4-methylphenyl) -1,2-dihydro-3H-pyrazole-3-thione
The above compound (1) (crude product: 456.0 mg) was added to toluene (4.8 ml), Lawesson's reagent (502.5 mg) was added, and the mixture was heated to reflux for 7 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, poured into water, and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 3/1) to give the title compound (259.6 mg, yield 52.5%).
(3) 3-[(Difluoromethyl) thio] -1-methyl-5- (4-methylphenyl) -1H-pyrazole
The above compound (2) (254.1 mg, 1.24 mmol) was dissolved in 1,4-dioxane (4.1 ml), and sodium hydroxide (261.9 mg, 5.3 mmol) was dissolved in water (1.6 ml). The solution was added and heated to 60-65 ° C. To this reaction liquid, chlorodifluoromethane gas was introduced for 2 minutes, and then stirred at the same temperature for 4 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, poured into water, and extracted with diethyl ether. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 4/1) to obtain the title compound (99.5 mg, yield 31.5%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.66 (2H, d, J = 7.9Hz), 7.20 (2H, d, J = 7.9Hz), 6.71 (1H, t, J = 56.5Hz), 4.00 (3H, s), 2.37 (3H, s).
(4) 3-Difluoromethylthio-1-methyl-5- (4-methyl-3-chlorosulfonylphenyl) -1H-pyrazole
The compound of (3) above was added to chlorosulfonic acid (233.4 mg, 2.0 mmol) under ice cooling, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 2 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, poured into water, and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give the title compound (114.7 mg) as a crude product. This compound was subjected to the next step without further purification.
(5) S- (5- {3-[(Difluoromethyl) thio] -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl} -2-methylphenyl) ethanethioate
The compound of (4) (114.7 mg) was dissolved in acetic acid (3 ml), sodium acetate (134.0 mg) and zinc powder (108.0 mg) were added, and the mixture was heated to reflux for 1 hour. The reaction solution was cooled to room temperature and then filtered through celite. The filtrate was poured into ice water, neutralized with aqueous ammonia, and the aqueous layer was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 4/1) to obtain the title compound (75.9 mg, yield 71%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.82 (1H, d, J = 1.4Hz), 7.73 (1H, d, J = 7.6, 1.4Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6Hz), 6.85 (1H, s), 6.71 ( 1H, t, J = 56.4Hz), 4.00 (3H, s), 2.43 (3H, s), 2.36 (3H, s).
(6) 5- {3-[(Difluoromethyl) thio] -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl} -2-methylbenzenethiol
The compound of (5) (73.9 mg, 0.23 mmol) was dissolved in ethanol (3.0 ml), 6N aqueous sodium hydroxide solution (0.44 ml) was added, and the mixture was heated to reflux for 2 hours. After cooling to room temperature, water was added and extracted with ethyl acetate. Ice was added to the aqueous layer, and the mixture was acidified with 6N aqueous hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give the title compound (63.3 mg, yield 98.2%) as a crude product.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.70 (1H, brd. s), 7.44 (1H, dd, J = 7.7, 1.6Hz), 7.17 (1H, d, J = 7.7Hz), 6.83 (1H, s), 6.71 (1H, t , J = 56.5Hz), 4.00 (3H, s), 3.38 (1H, s), 2.34 (3H, s).
(7) 3-[(Difluoromethyl) thio] -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole (Compound No. 1) -100)
The above compound (6) (63.3 mg, 0.22 mmol) was dissolved in N, N-dimethylformamide (2.0 ml) and sodium hydride (12.3 mg in 60% mineral oil) and 1, 1,1-trifluoro-2-iodoethane (28 μl) was added and stirred at 80 ° C. for 1 hour. The reaction solution was cooled to room temperature, poured into ice water, and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The resulting residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 4/1) to obtain the title compound (38.2 mg, yield 46.9%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.89 (1H, s), 7.60 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.25 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.85 (1H, s), 6.73 (1H, t, J = 56.4 Hz), 4.01 (3H, s), 3.45 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.48 (3H, s).
Example 69
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] -1H-pyrazole (Compound No. 1-109)
The reaction was conducted in the same manner as in Example 68 except that 1,1,1-trifluoro-2-iodoethane was used in place of chlorodifluoromethane, and post-treatment was performed to give the title compound.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.87 (1H, s), 7.58 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.24 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74 (1H, s), 4.00 (3H, s), 3.50- 3.25 (4H, m), 2.48 (3H, s).
Example 70
5- {4-Methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1- (2,2,2-trifluoroethyl) -3- (trifluoromethyl) -1H- Pyrazole (Compound No. 1-145)
The reaction was conducted in the same manner as in Example 53 except that 1,1,1-trifluoro-2-iodoethyl was used in place of propyl bromide, followed by post-treatment to give the title compound.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.47 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.37 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.22 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.60 (1H, s), 4.67 ( 3H, q, J = 7.8 Hz), 3.42 (3H, q, J = 9.6 Hz), 2.54 (3H, s).
Example 71
3-Methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1- (2,2,2-trifluoroethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-146)
(1) 3-Methyl-1- (2,2,2-trifluoroethyl) -1H-pyrazol-5-yl trifluoromethanesulfonate
Ethyl 3-oxobutanoic acid was subjected to the reaction and post-treatment of Step B-3, and the resulting 3-methyl-1- (2,2,2-trifluoroethyl) -1H-pyrazol-5-ol and 3 -To a solution of methyl-2- (2,2,2-trifluoroethyl) -1H-pyrazol-5-ol (3.60 g, 20.0 mmol) in dichloromethane (20 ml) under ice-cooling, triethylamine (2 .23 g, 22.0 mmol) and trifluoromethanesulfonic anhydride (6.21 g, 22.0 mmol) were added and stirred at the same temperature for 1 hour. The reaction mixture was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 7/1) to obtain the title compound (6.06 g).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 6.05 (1H, s), 4.58 (2H, q, J = 8.0 Hz), 2.27 (3H, s).
(2) 3-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1- (2,2,2-trifluoroethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-146)
The title compound was obtained using the reaction and post-treatment of Steps C-1 and C-4 to C-8 using the compound of (1) as a starting material.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.45 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.32 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.19 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.14 (1H, s), 4.55 ( 2H, q, J = 8.2 Hz), 3.42 (2H, q, J = 9.4 Hz), 2.51 (3H, s), 2.33 (3H, s).
Example 72
4- [1-Methyl-3- (nonafluorobutyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1-147) The reaction was conducted in the same manner as in Example 57 using fluoropentanoic acid as a starting material, and post-treatment was performed to give the title compound.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.84 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.75 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 8.1Hz), 6.67 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.62 ( 2H, q, J = 9.3 Hz).
Example 73
5- {4-Ethynyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 1-148) 5- 5- (4-Bromo-3-nitrophenyl) was obtained by subjecting (4-bromophenyl) -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole to the reaction and post-treatment of Step C-4. ) -1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole was reacted in the same manner as in Example 58 (1) and worked up to give 5- [4- (2-trimethylsilyl) ethynyl- 3-Nitrophenyl] -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole was used as a starting material, and the title compound was obtained using the reaction and post-treatment of Steps C-5 to C-8.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.66 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.58 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.33 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 6.59 (1H, s), 3.92 ( 3H, s), 3.59 (2H, q, J = 9.6 Hz), 3.59 (1H, s).
Example 74
3- {4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -4,5- Dihydro-1,2,4-oxadiazole (Compound No. 1-149)
(1) N′-hydroxy-4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzenecarboxy Midamide
4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1-55) ( 1.00 g, 2.74 mmol) are dissolved in 1,4-dioxane (10 ml), hydroxylamine hydrochloride (953.4 mg, 13.7 mmol) and triethylamine (1.9 ml, 13.7 mmol) are added and 70 ° C. The mixture was stirred for 6 hours with heating, and further stirred for 2 hours under reflux. The reaction mixture was cooled to room temperature, water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 1/1 to 1/4) to give the title compound (536.5 mg, yield 49.2%).
(2) 3- {4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -4 , 5-Dihydro-1,2,4-oxadiazole (Compound No. 1-149)
The above compound (1) (248.3 mg, 0.62 mmol) was dissolved in acetonitrile (5.5 ml), 37% aqueous formaldehyde solution (0.26 ml) and acetic acid (0.1 ml) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. The mixture was further heated and stirred for 1 hour under reflux. The reaction solution was cooled to room temperature, poured into a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The resulting residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 1/1) to obtain the title compound (29.7 mg, yield 11.6%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.87 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.69 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.45 (1H, dd, J = 8.1, 1.7 Hz), 6.61 (1H, s), 5.54 ( 2H, d, J = 4.0 Hz), 5.16 (1H, br s), 3.94 (3H, s), 3.55 (2H, q, J = 9.5 Hz).
Example 75
3- {4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1,2, 4-oxadiazole (Compound No. 1-150)
The compound of Example 74 (1) (102.1 mg, 0.26 mmol) was dissolved in ethanol (2.6 ml), ethyl orthoformate (0.26 ml, 1.56 mmol) and concentrated sulfuric acid (2 drops) were added at room temperature. And stirred overnight. The reaction solution was poured into a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 1/2) to obtain the title compound (32.1 mg, yield 30.7%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.87 (1H, s), 8.13 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.76 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 ( 3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.7 Hz).
Example 76
2- {4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1,3- Thiazole (Compound No. 1-151)
5- [4-Bromo-3- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole was reacted in the same manner as in Example 59, followed by Treatment gave the title compound (39% yield).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.13 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.01 (1H, d, J = 3.4 Hz), 7.73 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.54 (1H, d, J = 3.4 Hz) 7.48 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.64 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.6 Hz).
Example 77
1- {4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} ethanol (Compound No. 1 -152)
5- [4-Bromo-3- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole with (1-ethoxyethenyl) tributyltin React as in Example 59 and work up to give 1- {4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2 , 2-trifluoroethyl) thio] phenyl} ethanone (153 mg, 0.4 mmol) in methanol (5 ml) under ice-cooling, sodium borohydride (18.2 mg, 0.4 mmol) was added. Stir for hours. Ethyl acetate was added to the reaction mixture, washed twice with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by reverse phase column chromatography (elution solvent: acetonitrile / water = 60/40) to obtain the title compound (78.7 mg).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.75 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.55 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 6.57 (1H, s), 5.57- 5.50 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.53-3.44 (2H, m), 1.99 (1H, d, J = 4.1 Hz), 1.55 (3H, d, J = 6.2 Hz).
Example 78
4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzaldehyde oxime (Compound No. 1-153)
4-Bromo-2-fluorobenzaldehyde was subjected to the reaction of steps A-1a and A-2a, and the resulting 4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] was obtained. -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzaldehyde was subjected to the subsequent reaction and post-treatment of Example 66 to obtain the title compound.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.77 (1H, s), 7.98-7.95 (2H, m), 7.67 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.43 (1H, dd, J = 8.0, 1.8 Hz), 6.61 (1H, s ), 3.95 (3H, s), 3.39 (2H, q, J = 9.5 Hz).
Example 79
3-Chloro-1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole (Compound No. 1-154)
(1) 3-chloro-1-methyl-5- (4-methylphenyl) -1H-pyrazole
Phosphorus oxychloride (1.4 ml, 15.0 mmol) was added to the compound of Example 68 (1) (258.0 mg, 1.37 mmol), and heated in a shield tube at 180 ° C. for 5 minutes. The reaction solution was cooled to room temperature and poured into ice water. The reaction solution was neutralized with potassium carbonate, and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 4/1) to obtain the title compound (127.5 mg, yield 45.0%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.61 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.19 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.46 (1H, s), 3.87 (3H, s), 2.36 (3H, s).
(2) 3-Chloro-1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole (Compound No. 1-154)
The above compound (1) was subjected to the reaction and post-treatment of Steps E-4 to E-6 to obtain the title compound.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.85 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.47 (1H, s), 3.88 ( 3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.7 Hz), 2.48 (3H, s).
Example 80
3-Chloro-1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -1H-pyrazole (Compound No. 1-155)
The compound of Example 79 was subjected to the reaction and post-treatment in Step A-3 to obtain the title compound.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.28 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.85 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.28 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.57 (1H, s), 3.89 ( 3H, s), 3.52-3.36 (2H, m), 2.41 (3H, s).
Example 81
3-Bromo-1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole (Compound No. 1-156)
The title compound was obtained in the same manner as in Example 79 except that phosphorus oxybromide was used instead of phosphorus oxychloride.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.85 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 7.8, 1.6 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.8 Hz), 6.55 (1H, s), 3.92 ( 3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.7 Hz), 2.48 (3H, s).
Example 82
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- [4- (trifluoromethyl) phenyl] -1H-pyrazole (Compound No. 1 -157)
The compound of Example 81 was subjected to the reaction and post-treatment of Step A-1b to obtain the title compound.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.95 (1H, s), 7.76-7.58 (5H, m), 7.29-7.26 (1H, m), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.50 (3H, s).
Example 83
3- {4-Methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1- (2,2,2-trifluoroethyl) -5- (trifluoromethyl) -1H- Pyrazole (Compound No. 2-10)
The title compound was obtained in the same manner as in Example 70 using 4-acetyltoluene as a starting material.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.91 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.63 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 7.29 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.98 (1H, s), 4.84 ( 3H, q, J = 8.0 Hz), 3.45 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.50 (3H, s).
Example 84
3- {4-Bromo-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-5- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 2-11)
The title compound was obtained in the same manner as in Example 54 using 4-acetyl-1-bromobenzene as a starting material.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.96 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.65 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.88 (1H, s), 4.04 ( 3H, s), 3.55 (2H, q, J = 9.6 Hz).
Example 85
3- [4-Methyl-3- (propylthio) phenyl] -1- (2,2,2-trifluoroethyl) -5- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole (Compound No. 2-12)
The title compound was obtained in the same manner as in Example 83 using 4-acetyltoluene as a starting material.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.69 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.47 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 7.21 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.96 (1H, s), 4.84 ( 2H, q, J = 7.6 Hz), 2.95 (2H, t, J = 7.6 Hz), 2.39 (3H, s), 1.77-1.69 (2H, m), 1.07 (3H, t, J = 7.6 Hz).
Example 86
4- [5- (Difluoromethyl) -1-methyl-1H-pyrazol-3-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 2-13)
The title compound was obtained in the same manner as in Example 56 using difluoroacetic acid as a starting material.
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.09 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 8.2, 1.5 Hz), 7.72 (1H, d, J = 8.1 Hz), 6.82 (1H, s), 6.77 ( 1H, t, J = 53.7 Hz), 4.05 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.5 Hz).
Example 87
4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl-1H-pyrazol-5-yl) -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound Nos. 1-55) and 4 -[1-Methyl-5- (trifluoromethyl-1H-pyrazol-3-yl) -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 2-1)
(1) 2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] -4- (4,4,4-trifluoro-1-hydroxy-3-oxo-1-butenyl) benzonitrile (Step B- 4)
4- (1-Ethoxy-4,4,4-trifluoro-3-oxo-1-butenyl) -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio obtained in Example 13 (2) Benzonitrile (96.6 mg, 0.25 mmol) was dissolved in methanol (3 ml), 2N hydrochloric acid (1.0 ml) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 3 hr. Saturated brine and water were added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain the title compound (87.2 mg, yield 97%).
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.19 (1H, d, J = 1.5Hz), 7.94 (1H, dd, J = 8.2, 1.5Hz), 7.84 (1H, d, J = 8.2Hz), 6.56 (1H, s), 3.63 ( 2H, q, J = 9.3Hz).
(2) 4- [1-Methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 1- 55, Step B-3) and 4- [1-Methyl-5- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-3-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile (Compound No. 2-1, Step B-3)
The compound of the above (2) (55.4 mg, 0.16 mmol) was dissolved in ethanol (3.0 ml), acetic acid (150 μl) and methylhydrazine (13 μl) were added, and the mixture was heated to reflux for 2 hours. After allowing to cool, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by thin layer chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 3/1) to give compound No. 1-55 (19.9 mg, 35% yield) and Compound No. 2-1. (1.9 mg, 3% yield) was obtained.
Compound No. 1-55
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9Hz), 7.74 (1H, s), 7.50 (1H, d, J = 7.9Hz), 6.65 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.61 ( 2H, q, J = 9.4Hz).
Compound No. 2-1
1 H-NMR spectrum (CDCl Three ) δ: 8.09 (1H, d, J = 1.6Hz), 7.81 (1H, dd, J = 7.9, 1.6Hz), 7.73 (1H, d, J = 7.9Hz), 6.96 (1H, s), 4.07 ( 3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4Hz).
以下の製剤例において、化合物及び補助剤の種類及び配合比率はこれらのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。また、以下の説明において、%は質量百分率を示す。 In the following formulation examples, the types and blending ratios of the compound and the auxiliary agent are not limited to these and can be changed in a wide range. Moreover, in the following description,% shows a mass percentage.
製剤例1
乳剤
化合物番号1の化合物5%に、キシレン42.5%及びジメチルスルホキシド42.5%を加え溶解し、次いでこれにポリオキシエチレンヒマシ油エーテルとアルキルベンゼンスルホン酸カルシウムの混合物(8:2)10%を混合して、乳剤を得た。本剤は水で希釈し、散布液として使用する。Formulation Example 1
Emulsion 42.5% of xylene and 42.5% of dimethyl sulfoxide were added to 5% of the compound of Compound No. 1 and dissolved, and then mixed with polyoxyethylene castor oil ether and calcium alkylbenzenesulfonate (8: 2) 10% Were mixed to obtain an emulsion. This product is diluted with water and used as a spray.
製剤例2
水和剤
化合物番号1の化合物5%にカオリン79%及び珪藻土10%を混合し、更にラウリル硫酸ナトリウム3%及びリグニンスルホン酸ナトリウム3%を混合して微粉砕して、水和剤を得た。本剤は水で希釈して散布液として使用する。Formulation Example 2
Hydrating Agent 5% of Compound No. 1 compound was mixed with 79% kaolin and 10% diatomaceous earth, and further mixed with 3% sodium lauryl sulfate and 3% sodium lignin sulfonate to obtain a wettable powder. . This product is diluted with water and used as a spray.
製剤例3
粉剤
化合物番号1の化合物1%にタルクと炭酸カルシウムの混合物(1:1)99%を加え、混合後、粉砕して、粉剤を得た。本剤はこのまま散布して使用する。Formulation Example 3
Powder A mixture of talc and calcium carbonate (1: 1) 99% was added to 1% of the compound No. 1, and the mixture was pulverized to obtain a powder. Disperse this product as it is.
製剤例4
粒剤
化合物番号1の化合物2%をベントナイト微粉末30%、タルク66%、リグニンスルホン酸ナトリウム2%と混合した後、水を加えて均等になるまで混練する。次に造粒機を通して造粒し整粒機、乾燥機、篩を通すことにより、粒径0.6〜1.0mmの粒剤を得た。本剤はこのまま土壌面に散布して使用する。Formulation Example 4
Granule Compound 2% of Compound No. 1 is mixed with 30% bentonite fine powder, 66% talc, and 2% sodium lignin sulfonate, and then kneaded until water is evenly mixed. Next, the mixture was granulated through a granulator and passed through a granulator, a dryer, and a sieve to obtain granules having a particle size of 0.6 to 1.0 mm. This product should be sprayed on the soil surface as it is.
製剤例5
油剤
化合物番号1の化合物0.1%を白灯油に溶解し、全体を100%とし油剤を得た。Formulation Example 5
Oil agent 0.1% of compound No. 1 compound was dissolved in white kerosene to obtain 100% oil as a whole.
試験例1
ナミハダニ殺成虫試験
本発明の個々の化合物を300ppm含有し、これに展着剤0.01%を加用した薬液を調製した。ササゲ(Vigna sinenis Savi)の初生葉に、ナミハダニ(Tetranychus urticae)雌成虫を接種した。接種1日後にミズホ式回転散布塔にて、上記の薬液7mlを、散布液量が3.5mg/cm2 葉になるように散布した。風乾後、ササゲ葉を25℃の恒温室内に保存し、3日後成虫の生死を調べ、死虫率(%)を算出した。
その結果、以下の化合物が100%の死虫率を示した。
化合物番号1−3、化合物番号1−4、化合物番号1−7、化合物番号1−8、化合物番号1−9、化合物番号1−10、化合物番号1−11、化合物番号1−12、化合物番号1−13、化合物番号1−15、化合物番号1−16、化合物番号1−17、化合物番号1−19、化合物番号1−23、化合物番号1−35、化合物番号1−41、化合物番号1−43、化合物番号1−55、化合物番号1−56、化合物番号1−61、化合物番号1−64、化合物番号1−65、化合物番号1−66、化合物番号1−67、化合物番号1−68、化合物番号1−69、化合物番号1−70、化合物番号1−71、化合物番号1−72、化合物番号1−73、化合物番号1−74、化合物番号1−75、化合物番号1−76、化合物番号1−77、化合物番号1−78、化合物番号1−79、化合物番号1−86、化合物番号1−87、化合物番号1−88、化合物番号1−89、化合物番号1−90、化合物番号1−91、化合物番号1−92、化合物番号1−93、化合物番号1−94、化合物番号1−95、化合物番号1−96、化合物番号1−97、化合物番号1−98、化合物番号1−99、化合物番号1−100、化合物番号1−109、化合物番号1−147、化合物番号1−148、化合物番号1−149、化合物番号1−150、化合物番号1−151、化合物番号1−152、化合物番号1−153、化合物番号1−154、化合物番号1−155、化合物番号1−156、化合物番号1−157、化合物番号2−1、化合物番号2−3、化合物番号2−9、化合物番号2−10、化合物番号2−11、化合物番号2−12及び化合物番号2−13の化合物。 Test example 1
Nite spider mite insecticide test A chemical solution containing 300 ppm of each compound of the present invention and 0.01% spreader added thereto was prepared. Primary leaves of cowpea (Vigna sinenis Savi) were inoculated with female adults of Tetanychus urticae. One day after the inoculation, 7 ml of the above chemical solution was sprayed on a Mizuho rotary spray tower so that the amount of sprayed liquid was 3.5 mg / cm 2 leaves. After air drying, the cowpea leaves were stored in a constant temperature room at 25 ° C., and after 3 days, the life and death of adults were examined, and the death rate (%) was calculated.
As a result, the following compounds showed 100% mortality.
Compound No. 1-3, Compound No. 1-4, Compound No. 1-7, Compound No. 1-8, Compound No. 1-9, Compound No. 1-10, Compound No. 1-11, Compound No. 1-12, Compound No. 1-13, Compound No. 1-15, Compound No. 1-16, Compound No. 1-17, Compound No. 1-19, Compound No. 1-23, Compound No. 1-35, Compound No. 1-41, Compound No. 1- 43, compound number 1-55, compound number 1-56, compound number 1-61, compound number 1-64, compound number 1-65, compound number 1-66, compound number 1-67, compound number 1-68, Compound No. 1-69, Compound No. 1-70, Compound No. 1-71, Compound No. 1-72, Compound No. 1-73, Compound No. 1-74, Compound No. 1-75, Compound No. 1-76, Compound No. 1-7 Compound No. 1-78, Compound No. 1-79, Compound No. 1-86, Compound No. 1-87, Compound No. 1-88, Compound No. 1-89, Compound No. 1-90, Compound No. 1-91, Compound No. 1-92, Compound No. 1-93, Compound No. 1-94, Compound No. 1-95, Compound No. 1-96, Compound No. 1-97, Compound No. 1-98, Compound No. 1-99, Compound No. 1 -100, Compound No. 1-109, Compound No. 1-147, Compound No. 1-148, Compound No. 1-149, Compound No. 1-150, Compound No. 1-151, Compound No. 1-152, Compound No. 1-153 Compound No. 1-154, Compound No. 1-155, Compound No. 1-156, Compound No. 1-157, Compound No. 2-1, Compound No. 2-3, Compound No. 2-9, Object number 2-10, Compound No. 2-11, Compound No. 2-12 and Compound No. 2-13.
試験例2
ミカンハダニ殺成虫試験
本発明の個々の化合物を300ppm含有し、これに展着剤0.01%を加用した薬液を調製した。クワ(Morus bombycis)葉に、ミカンハダニ(Panonychus citri)雌成虫を接種した。接種1日後にミズホ式回転散布塔にて、上記の薬液7mlを、散布液量が3.5mg/cm2 葉になるように散布した。風乾後、クワ葉を25℃の恒温室内に保存し、3日後成虫の生死を調べ、死虫率(%)を算出した。
その結果、以下の化合物が100%の死虫率を示した。
化合物番号1−3、化合物番号1−4、化合物番号1−7,化合物番号1−8,化合物番号1−9化合物番号、化合物番号1−10、化合物番号1−11、化合物番号1−12、化合物番号1−13、化合物番号1−15、化合物番号1−16、化合物番号1−17、化合物番号1−19、化合物番号1−23、化合物番号1−35、化合物番号1−41、化合物番号1−43、化合物番号1−55、化合物番号1−56、化合物番号1−61、化合物番号1−63、化合物番号1−64、化合物番号1−65、化合物番号1−66、化合物番号1−67、化合物番号1−68、化合物番号1−69、化合物番号1−70、化合物番号1−71、化合物番号1−72、化合物番号1−73、化合物番号1−74、化合物番号1−75、化合物番号1−77、化合物番号1−78、化合物番号1−79、化合物番号1−85、化合物番号1−86、化合物番号1−87、化合物番号1−88、化合物番号1−89、化合物番号1−90、化合物番号1−91、化合物番号1−92、化合物番号1−93、化合物番号1−94、化合物番号1−95、化合物番号1−96、化合物番号1−97、化合物番号1−98、化合物番号1−99、化合物番号1−100、化合物番号1−109、化合物番号1−145、化合物番号1−146、化合物番号1−147、化合物番号1−149、化合物番号1−150、化合物番号1−154、化合物番号1−155、化合物番号1−156、化合物番号2−1、化合物番号2−3、化合物番号2−10及び化合物番号2−11の化合物。
殺成虫率(%)=死虫数/放虫数×100Test example 2
Citrus spider mite insecticide test The chemical | medical solution which added each compound of this invention 300ppm and added the spreading agent 0.01% to this was prepared. Mulberry (Morus bombysis) leaves were inoculated with adult females of Panonychus citri. One day after the inoculation, 7 ml of the above chemical solution was sprayed on a Mizuho rotary spray tower so that the amount of sprayed liquid was 3.5 mg / cm 2 leaves. After air drying, the mulberry leaves were stored in a constant temperature room at 25 ° C., and after 3 days, the life and death of adults were examined, and the death rate (%) was calculated.
As a result, the following compounds showed 100% mortality.
Compound No. 1-3, Compound No. 1-4, Compound No. 1-7, Compound No. 1-8, Compound No. 1-9 Compound No., Compound No. 1-10, Compound No. 1-11, Compound No. 1-12, Compound No. 1-13, Compound No. 1-15, Compound No. 1-16, Compound No. 1-17, Compound No. 1-19, Compound No. 1-23, Compound No. 1-35, Compound No. 1-41 and Compound No. 1-43, compound number 1-55, compound number 1-56, compound number 1-61, compound number 1-63, compound number 1-64, compound number 1-65, compound number 1-66, compound number 1- 67, compound number 1-68, compound number 1-69, compound number 1-70, compound number 1-71, compound number 1-72, compound number 1-73, compound number 1-74, compound number 1-75, Compound No. 1-77, Compound No. 1-78, Compound No. 1-79, Compound No. 1-85, Compound No. 1-86, Compound No. 1-87, Compound No. 1-88, Compound No. 1-89, Compound No. 1 -90, compound number 1-91, compound number 1-92, compound number 1-93, compound number 1-94, compound number 1-95, compound number 1-96, compound number 1-97, compound number 1-98 Compound No. 1-99, Compound No. 1-100, Compound No. 1-109, Compound No. 1-145, Compound No. 1-146, Compound No. 1-147, Compound No. 1-149, Compound No. 1-150, Compound Compounds No. 1-154, No. 1-155, No. 1-156, No. 2-1, No. 2-3, No. 2-10 and No. 2-11.
Insecticidal rate (%) = number of dead insects / number of released insects x 100
本発明の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体は、例えば、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類及び植物寄生性線虫類等の広範囲の害虫に対して優れた防除効果を示し、農園芸用殺虫剤として有用である。 The (3-sulfur atom-substituted phenyl) pyrazole derivative of the present invention is, for example, a hemipod pest, a lepidopteran pest, a coleopteran pest, a diptera pest, a hymenopteran pest, a straight pest, a termite pest, or a thrips It exhibits excellent control effects against a wide range of pests such as eye pests, spider mites, and plant parasitic nematodes, and is useful as an agricultural and horticultural insecticide.
Claims (54)
R1は、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子、C3−C6シクロアルキル基及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又はC3−C6シクロアルキル基を表し、
Aは、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルキニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−6個の置換基である。)、式 −C(Y)=NOR (式中、Rは、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、Yは、水素原子又はアミノ基を表す。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基及びC1−C6アルコキシ基からなる群から選択される1〜3個の置換基である。)又はシアノ基を表し、
Xは、mが2又は3の整数を表す場合、同一又は異なってもよく、ハロゲン原子を表し、
mは、0乃至3の整数を表し、
nは、0又は1の整数を表し、
Qは、下記の一般式(Q−1)又は(Q−2):
R 2 及びR 5 は、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)を表し、
R3、R4、R 6 及びR 7 は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)、置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜5個の置換基である。]を表す。]
で表される基を表す。]
で表される(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩を有効成分として含有する殺ダニ剤。The following general formula (I)
R 1 is an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a C 3 -C 6 cycloalkyl group and a cyano group) An optionally substituted C 2 -C 6 alkenyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of a halogen atom and a cyano group) or C. It represents 3 -C 6 cycloalkyl group,
A is a halogen atom, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of a hydroxyl group and a halogen atom), substitution which may C 2 -C be the 6 alkenyl group (the substituent is a 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atom.), optionally substituted C 2 -C 6 An alkynyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms), an optionally substituted C 3 -C 6 cycloalkyl group (the substituent is a halogen atom) 1-6 substituents selected from the group consisting of atoms.), Formula —C (Y) ═NOR (wherein R represents a hydrogen atom or a C 1 -C 6 alkyl group, Y represents Represents a hydrogen atom or an amino group). A 5-6 membered heteroaryl group containing 1-3 heteroatoms selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, which may be partially saturated, the substituent represents 1-3 is a substituent.), or a cyano group selected from the group consisting of halogen atom, C 1 -C 6 alkyl group and C 1 -C 6 alkoxy group,
X may be the same or different when m represents an integer of 2 or 3, and represents a halogen atom;
m represents an integer of 0 to 3,
n represents an integer of 0 or 1,
Q is the following general formula (Q-1) or (Q-2) :
R 2 and R 5 represent an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is 1-9 substituents selected from the group consisting of halogen atoms);
R 3 , R 4 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is selected from the group consisting of halogen atoms) 1-9 substituents), an optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms). A C 1 -C 6 alkylthio group which may be substituted (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms), or may be substituted. Phenyl group [the substituent is a halogen atom, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (the substituent is 1-9 substituents selected from the group consisting of halogen atoms) and substituted C 1 -C 6 optionally a 1 to 5 substituents selected from the group consisting of a ruxoxy group (the substituent is 1 to 7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms). ]. ]
Represents a group represented by ]
A (3 sulfur atom-substituted phenyl) pyrazole derivative represented by the formula (1) or a salt thereof as an active ingredient .
1−メチル−5−[4−メチル−3−(プロピルスルフィニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
5−{4−クロロ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−(プロピルチオ)ベンゾニトリル、
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
4−[1−エチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール、
4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール、
5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
5−{4−エチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
1−メチル−5−{4−(2−プロぺニル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
4−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
5−{4−シクロプロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
3−(ジフルオロメトキシ)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール、
3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール又は
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール
である、請求項1記載の殺ダニ剤。The compound represented by the general formula (I) is:
1-methyl-5- [4-methyl-3- (propylsulfinyl) phenyl] -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
5- {4-chloro-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2- (propylthio) benzonitrile,
4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile,
4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile,
4- [1-ethyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile,
4- [1-methyl-3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile,
4- [1-methyl-3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile,
1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazole 1-methyl-5- {4- Methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazole,
4- [3- (heptafluoropropyl) -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile,
4- [3- (heptafluoropropyl) -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile,
3- (heptafluoropropyl) -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -1H-pyrazole,
5- {4-Bromo-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole 5- {4-Bromo-3- [(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
5- {4-ethyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
1-methyl-5- {4- (2-propenyl) -3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
4-chloro-1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
5- {4-cyclopropyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
3- (difluoromethoxy) -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole,
3-[(Difluoromethyl) thio] -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole or 1-methyl-5 It is {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] -1H-pyrazole. The described acaricide .
R R 11 は、置換されていてもよいCIs optionally substituted C 11 −C-C 66 アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子、CAn alkyl group (the substituent is a halogen atom, C 33 −C-C 66 シクロアルキル基及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC1-7 substituents selected from the group consisting of a cycloalkyl group and a cyano group. ), Optionally substituted C 22 −C-C 66 アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又はCAn alkenyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of a halogen atom and a cyano group) or C 33 −C-C 66 シクロアルキル基を表し、Represents a cycloalkyl group,
Aは、ハロゲン原子、置換されていてもよいC A is a halogen atom, C which may be substituted 11 −C-C 66 アルキル基(当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいCAn alkyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of a hydroxyl group and a halogen atom), an optionally substituted C; 22 −C-C 66 アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいCAn alkenyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms), optionally substituted C 22 −C-C 66 アルキニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいCAn alkynyl group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms), optionally substituted C 33 −C-C 66 シクロアルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−6個の置換基である。)、式 −C(Y)=NOR (式中、Rは、水素原子又はCA cycloalkyl group (the substituent is 1-6 substituents selected from the group consisting of halogen atoms), a formula —C (Y) ═NOR (wherein R is a hydrogen atom or C 11 −C-C 66 アルキル基を表し、Yは、水素原子又はアミノ基を表す。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、ハロゲン原子、CRepresents an alkyl group, and Y represents a hydrogen atom or an amino group. 5) containing 1 to 3 heteroatoms selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, which may be substituted or partially saturated A 6-membered heteroaryl group (the substituent is a halogen atom, C 11 −C-C 66 アルキル基及びCAlkyl group and C 11 −C-C 66 アルコキシ基からなる群から選択される1〜3個の置換基である。)又はシアノ基を表し、1 to 3 substituents selected from the group consisting of alkoxy groups. ) Or a cyano group,
Xは、mが2又は3の整数を表す場合、同一又は異なってもよく、ハロゲン原子を表し、 X may be the same or different when m represents an integer of 2 or 3, and represents a halogen atom;
mは、0乃至3の整数を表し、 m represents an integer of 0 to 3,
nは、0又は1の整数を表し、 n represents an integer of 0 or 1,
Qは、下記の一般式(Q−1)又は(Q−2): Q is the following general formula (Q-1) or (Q-2):
R R 22 は、置換されていてもよいCIs optionally substituted C 11 −C-C 66 アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)を表し、Represents an alkyl group (the substituent is 1-9 substituents selected from the group consisting of halogen atoms);
R R 33 及びRAnd R 44 は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいCEach independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted C 11 −C-C 66 アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)、置換されていてもよいCAn alkyl group (the substituent is 1-9 substituents selected from the group consisting of halogen atoms), optionally substituted C 11 −C-C 66 アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいCAn alkoxy group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms), optionally substituted C 11 −C-C 66 アルキルチオ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいCAn alkylthio group (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms) or an optionally substituted phenyl group [the substituent is a halogen atom, substituted Moyo C 11 −C-C 66 アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)及び置換されていてもよいCAn alkyl group (the substituent is 1-9 substituents selected from the group consisting of halogen atoms) and optionally substituted C; 11 −C-C 66 アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜5個の置換基である。]を表す。]1 to 5 substituents selected from the group consisting of alkoxy groups (the substituent is 1-7 substituents selected from the group consisting of halogen atoms). ]. ]
で表される基を表し、Represents a group represented by
式(Q−2)中、In formula (Q-2),
R R 55 は、置換されていてもよいCIs optionally substituted C 11 −C-C 66 アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)を表し、Represents an alkyl group (the substituent is 1-9 substituents selected from the group consisting of halogen atoms);
R R 66 は、置換されていてもよいCIs optionally substituted C 11 −C-C 66 アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)を表し、Represents an alkyl group (the substituent is 1-9 substituents selected from the group consisting of halogen atoms);
R R 77 は、水素原子を表す。]Represents a hydrogen atom. ]
で表される基を表す。]Represents a group represented by ]
で表される(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。(3-sulfur atom-substituted phenyl) pyrazole derivative represented by the formula:
1−メチル−5−[4−メチル−3−(プロピルスルフィニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、 1-methyl-5- [4-methyl-3- (propylsulfinyl) phenyl] -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、 1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、 1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
5−{4−クロロ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、 5- {4-chloro-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−(プロピルチオ)ベンゾニトリル、 4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2- (propylthio) benzonitrile,
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、 4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile,
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、 4- [1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile,
4−[1−エチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、 4- [1-ethyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile,
4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、 4- [1-methyl-3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile,
4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、 4- [1-methyl-3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile,
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール 1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazole
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール、 1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -3- (pentafluoroethyl) -1H-pyrazole,
4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、 4- [3- (heptafluoropropyl) -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] benzonitrile,
4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、 4- [3- (heptafluoropropyl) -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl] -2-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] benzonitrile,
3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール、 3- (heptafluoropropyl) -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -1H-pyrazole,
5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール 5- {4-Bromo-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole
5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、 5- {4-bromo-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) sulfinyl] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
5−{4−エチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、 5- {4-ethyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
1−メチル−5−{4−(2−プロぺニル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、 1-methyl-5- {4- (2-propenyl) -3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
4−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、 4-chloro-1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
5−{4−シクロプロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、 5- {4-cyclopropyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole,
3−(ジフルオロメトキシ)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール、 3- (difluoromethoxy) -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole,
3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール又は 3-[(difluoromethyl) thio] -1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -1H-pyrazole or
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール 1-methyl-5- {4-methyl-3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] phenyl} -3-[(2,2,2-trifluoroethyl) thio] -1H-pyrazole
である、請求項28記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。The (3-sulfur atom substituted phenyl) pyrazole derivative according to claim 28 or a salt thereof.
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