JPH0929617A - 研磨装置 - Google Patents

研磨装置

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JPH0929617A
JPH0929617A JP17460295A JP17460295A JPH0929617A JP H0929617 A JPH0929617 A JP H0929617A JP 17460295 A JP17460295 A JP 17460295A JP 17460295 A JP17460295 A JP 17460295A JP H0929617 A JPH0929617 A JP H0929617A
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Yasuo Inada
安雄 稲田
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ワークが傷つくことを防止でき、ワーク全面
を均一に研磨してワーク表面の平坦度を向上できる研磨
装置を提供すること。 【構成】 表面にウェーハ24を研磨する研磨面60が
形成された定盤56と、ウェーハ24を研磨面60に押
圧する押圧部と、押圧部によって研磨面60に押圧され
たウェーハ24と定盤60とを相対的に運動させる運動
機構とを備え、ウェーハ24の表面を研磨する研磨装置
において、押圧部に設けられ、ウェーハ24を研磨面6
0へ押圧するように押圧部の表面から研磨面側60へ向
かって流体を噴出する噴出口36と、噴出口36から噴
出する流体を供給する噴出流体供給手段とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、研磨装置に関し、さら
に詳細には表面にワークを研磨する研磨面が形成された
定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押
圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤
とを相対的に運動させる運動機構を備え、ワークの表面
を研磨する研磨装置に関する。この研磨装置としては、
例えば半導体チップ用のウェーハ表面を鏡面研磨するた
めに用いるウェーハの研磨装置がある。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体装置の高集積化が進むに伴
い、その基板であるシリコンウェーハの平坦度や表面品
質の向上が厳しく要求されている。また、そのウェーハ
表面にデバイスを形成した際に堆積形成された層間絶縁
膜や金属配線の研磨においても、一層高精度に平坦化す
る要求が高まっている。従って、ウェーハの研磨装置に
ついては、ウェーハ表面を一層高精度に鏡面研磨できる
もの、または、表面を基準とする高精度な研磨のできる
ものが要求されている。
【0003】従来、ウェーハの研磨装置には、ウェーハ
表面の全面が、そのウェーハ表面に接触する定盤の研磨
面へ、均等な圧力で押圧できるように、ウェーハを押圧
する押圧部がエアバック機能を備えるものがある。その
研磨装置の保持部の一例を、図3に基づいて以下に説明
する。図3に示すように、回転する定盤56上に軟質弾
性繊維からなる研磨布58を接着して研磨面60が形成
され、その上方には回転および上下動可能な押圧部41
が設けられている。その押圧部41は、下方に向けて開
放する凹状のヘッド部材11と、外側部13aがヘッド
部材11の内底面に固定されると共に内側部13bが盤
状部材17に固定されて盤状部材17を上下方向及び水
平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持する板状
の弾性部材13と、ヘッド部材11の内部を盤状部材1
7および板状の弾性部材13によって画成して設けられ
る密閉空間である圧力室19と、圧力室19に所定圧力
の流体を供給する流体の供給手段(図示せず)とを具備
する。また、27はリング状の弾性部材であり、合成ゴ
ム等により成形されたO−リング状の部材からなる。こ
のリング状の弾性部材27は、盤状部材17の外周面と
前記外壁側部11aの内周面との間に配され、盤状部材
17のヘッド部材11との相対的移動(例えば相対的回
転)を吸収および規制するように作用する。
【0004】この研磨装置によれば、盤状部材17に水
張り等で保持されたウェーハ24の表面は、板状の弾性
部材13のエアバック作用によって、研磨面60の傾斜
に素早く追随できると共に、そのようにウェーハ24が
研磨面60の傾斜に追随した状態においても、ウェーハ
24の全面を研磨面60に均等な圧力で押圧できる。こ
のため、ウェーハ24の高い平行度及び平坦度を維持し
つつウェーハの表面を好適に鏡面研磨できる。なお、盤
状部材17の表面には、ウェーハ24を確実に水張りで
きるように、一般的に吸着性に富む表面を有するシート
状のバッキング材が貼設されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ウェーハの研磨装置では、盤状部材17を介してウェー
ハ24を間接的に押圧しているから、盤状部材17の平
坦度の精度、盤状部材17に加圧力が作用した際の変形
による寸法変化、およびバッキング材の厚さの精度等に
よる影響を受け易く、ウェーハ24の全面を、非常に高
い精度で研磨することは難しいという課題があった。ま
た、ウェーハ24の外周部が多く研磨される傾向にあ
り、いわゆる外周のダレが発生し易く、ウェーハ24の
全面について非常に高い精度の平坦度が要求される場合
には対応できないという課題があった。そして、ウェー
ハ24はバッキング材が当接して研磨面に押圧されるた
め、ウェーハ24とバッキング材の間に異物が入り、ウ
ェーハ24を傷つけてしまうという課題もあった。
【0006】本発明の目的は、ワークが傷つくことを防
止でき、ワーク全面を研磨面へ均等に押圧することによ
ってワーク全面を均一に研磨し、ワーク外周のダレを防
止すると共に、ワーク表面の平坦度を向上できる研磨装
置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は次の構成を備える。すなわち、本発明は、
表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワ
ークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によっ
て前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的
に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨す
る研磨装置において、前記押圧部に設けられ、ワークを
前記研磨面へ押圧するように押圧部の表面から研磨面側
へ向かって流体を噴出する噴出口と、前記噴出口から噴
出する流体を供給する噴出流体供給手段とを具備するこ
とを特徴とする。
【0008】また、表面にワークを研磨する研磨面が形
成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部
と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと
前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワ
ークの表面を研磨する研磨装置において、前記押圧部
が、下方に向けて開放する凹部を備えるヘッド部材と、
該ヘッド部材の凹部内側に配された盤状部材と、一方側
が前記ヘッド部材の壁部に固定されると共に、他方側が
前記盤状部材に固定され、該盤状部材を上下方向及び水
平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持する弾性
部材と、前記ヘッド部材の内部を前記盤状部材および前
記弾性部材によって画成して設けられる圧力室と、該圧
力室に圧力流体を供給する圧力流体供給手段と、前記盤
状部材に設けられ、ワークを前記研磨面へ押圧するよう
に盤状部材の表面から研磨面側へ向かって流体を噴出す
る噴出口と、前記噴出口から噴出する流体を供給する噴
出流体供給手段とを具備することで、ワークを研磨面へ
より均等に押圧できる。
【0009】また、前記圧力流体供給手段には前記圧力
室へ供給する流体の圧力を調整する圧力流体調整装置が
備えられ、前記噴出流体供給手段には前記噴出口から噴
出する流体の圧力を調整する噴出流体調整装置が備えら
れていることで、種々の研磨条件に好適に対応できる。
【0010】また、前記噴出口がワークに対応する位置
に複数配設されていることで、ワークを研磨面へバラン
スよく均等に押圧できる。
【0011】また、前記押圧部に噴出口およびワークを
囲うようにリング状に設けられ、ワークが前記研磨面に
押圧される際に、押圧部と研磨面とによって挟圧され、
噴出口から噴出する流体の流れを規制するリング部材を
備えることで、噴出する流体が無駄に流出することを防
止できる。
【0012】
【作用】請求項1にかかる発明によれば、押圧部に設け
られた噴出口から、ワークを定盤の研磨面に押圧するよ
うに押圧部の表面から研磨面側へ向かって、流体を噴出
できる。押圧部とワークの間に流体が介在して、ワーク
が研磨面に押圧されるため、ワークと押圧部とが接触し
てワークを傷つけることを防止できる。そして、ワーク
を押圧するのは流体圧であり、流体圧はワーク全面に対
して等圧力に作用できる。従って、ワーク全面を均一に
研磨し、ワーク外周のダレを防止すると共に、ワーク表
面の平坦度を向上できる。また、請求項2にかかる発明
によれば、盤状部材がヘッド部材の内部での移動が微小
範囲内で許容されるように弾性部材に吊持され、圧力室
に圧力流体を供給することで、盤状部材を研磨面に追随
させて押圧できると共に、盤状部材に設けられた噴出口
から、流体を噴出することで、研磨面にワークを押圧で
きる。すなわち、圧力室の圧力で盤状部材を研磨面へ均
等な圧力で押圧し、盤状部材と定盤表面の平行度を高い
精度で確保し、加えて、噴出する流体の圧力でワークを
直接的に押圧できるため、さらに高い精度にワークを研
磨面へ均等に押圧できる。従って、ワーク全面を均一に
研磨することができる。
【0013】
【実施例】以下、本発明を、ウェーハの研磨装置に適用
した場合の好適な実施例について、添付図面に基づいて
詳細に説明する。図1はウェーハの研磨装置の押圧部4
1aの構成を示す正面断面図であり、図2は図1のウェ
ーハの研磨装置によってウェーハ24を研磨する状態を
示す要部拡大正面断面図である。10はヘッド部材であ
り、下方へ開放する凹状に形成されており、ワークであ
るウェーハ24を押圧する押圧部の外郭部として設けら
れている。このヘッド部材10は、本実施例では、ヘッ
ド部材10は平板壁部10bと筒状側壁部10cによっ
て構成されており、平板壁部10bと筒状側壁部10c
の継ぎ合わせは、O−リング11によって気密されてい
る。12は盤状部材であり、ウェーハを押圧するための
押圧部材の一態様である。この盤状部材12は、ヘッド
部材10の凹部内側に配されている。
【0014】14は弾性部材の一態様である板状の弾性
部材であり、例えば硬質のゴム板材(本実施例では布入
りニトリルゴム)によってドーナツ状に形成されてい
る。外側部14aがヘッド部材10の内底面に固定され
ると共に内側部14bが盤状部材12に固定されてい
る。これにより、板状の弾性部材14は、盤状部材12
を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可
能に吊持している。板状の弾性部材14の外側部14a
は、ヘッド部材10の内底面10aへ、ボルト(図示せ
ず)の締め付けでリング部材16によって挟さまれて固
定される。また、板状の弾性部材14の内側部14b
は、ボルト(図示せず)の締め付けで押さえリング18
に挟まれて盤状部材12に固定されている。
【0015】20は圧力室であり、ヘッド部材10の内
部を盤状部材12および板状の弾性部材14によって画
成して設けられている。この圧力室20内へは、所定圧
力の流体が圧力流体供給手段(図示せず)によって供給
される。22は第1配管であり、圧力流体供給手段の圧
力源と圧力室20を連通している。前記圧力流体供給手
段には、圧力室20へ供給される流体の圧力を調整する
圧力流体調整装置(図示せず)が備えられている。な
お、圧力流体としては、空気または水等を利用できる。
26はリング状の弾性部材であり、例えばゴム等により
成形されたO−リング状の部材からなる。このリング状
の弾性部材26は、盤状部材12の外周面と筒状側壁部
10cの内周面の双方に当接するように配設され、盤状
部材12の水平方向の移動を微小範囲内で許容してい
る。これにより、ウェーハが研磨される際に発生する水
平方向(特に径方向)への作用力を吸収することができ
る。
【0016】32は流体室であり、盤状部材12を構成
する上盤部12aと下盤部12bの間に設けられた空間
である。この流体室32内へは、所定圧力の流体が噴出
流体供給手段(図示せず)によって供給される。なお、
この噴出流体供給手段の圧力源は、第2配管33、管継
手34を介して流体室32に連通している。また、噴出
流体供給手段には流体室32へ供給される流体の圧力を
調整する噴出流体調整装置(図示せず)が備えられてい
る。30はバッキング材であり、盤状部材12の外表面
に貼着されている。このバッキング材30は、弾性に富
むと共に吸着性に富む表面を有するシート状の部材であ
る。このバッキング材30の表面を利用して、水の表面
張力によってウェーハ24を吸着させ、盤状部材12に
保持させることができる。なお、本実施例では、盤状部
材12の表面にバッキング材30を設けたが、このバッ
キング材30に代えて、フィルム材層またはコーティン
グ層の表面を平坦性を出すように仕上げた薄膜部を設け
ることはもとより、盤状部材12の表面をそのまま利用
してウェーハ24を押圧できるのは勿論である。
【0017】36は噴出口であり、下盤部12bとバッ
キング材30を貫通して設けられている。この噴出口3
6は下盤部12bにウェーハ24の全面に対応して均一
に位置するように多数設けられている。この噴出口36
から、図2に示すように研磨面60側へ向かって流体を
噴出することで、ワーク24を研磨面60へ押圧でき
る。なお、噴出する流体としては、空気または水を利用
できる。また、流体室32を減圧することでウェーハ2
4を吸引して搬送する場合には、本実施例のようなバッ
キング材を要せず、盤状部材12の表面にフィルム材層
或いはコーティング層を設けてウェーハ24の保護をし
てもよい。
【0018】28は凹部であり、ヘッド部材10に設け
られている。この凹部28はヘッド部材10の周方向に
所定の間隔をおいて複数が設けられている。38はピン
状部材であり、盤状部材12に、凹部28に対応して所
定の間隔をおいて複数が立設されている。ピン状部材3
8は、前記凹部28へ挿入されて係合する凸部の一態様
である。このピン状部材38は、フランジ状の先端部3
8aを備えており、凹部28を形成する内底面28aと
内径部28bとの間で移動が規制される。これにより、
盤状部材12の上下方向の移動が規制されている。ま
た、ピン状部材の先端部38aは、凹部28に対して所
定の微小範囲内で相対的に移動可能に遊嵌された状態で
係合する係合部として作用する。従って、ヘッド部材1
0と盤状部材12との微小範囲の相対的移動を許容し、
板状の弾性部材14に作用する複合力を緩和することが
できる。これにより、板状の弾性部材が損傷することを
防止でき、結果的にエアーバック機能の低下を防止でき
る。なお、本実施例では、盤状部材12(保持部材)側
にピン状部材38(係合部)が設けられ、ヘッド部材1
0側に凹部28(被係合部)が設けられているが、逆
に、保持部材に被係合部を設け、ヘッド部材10側に係
合部が設けられてもよい。
【0019】40はテンプレートであり、盤状部材40
の外側表面(下面)に装着され、複数の噴出口36およ
びウェーハ24を囲うようにリング状に形成されてお
り、ウェーハ24の横滑りを防止する。また、このテン
プレート40は、ウェーハ24が研磨面60に押圧され
た際に、押圧部の盤状部材40と研磨面60とによって
挟圧され、噴出口から噴出する流体の流れを規制するリ
ング部材として作用する。規制される流体の流れは、テ
ンプレート40の研磨面60に押圧される圧力で調整で
きる。ウェーハ24を押圧する噴出する流体の圧力を好
適に確保できる。テンプレート40の厚さは、ウェーハ
24の厚さと同等に設定されている(本実施例では、ウ
ェーハ24の厚さよりも若干薄く設けられている)。な
お、研磨剤(砥粒を含む液状の研磨剤)がテンプレート
40内に好適に供給されるように、テンプレート40の
表面に複数の溝を設けてもよい。このようにテンプレー
ト40を設けることで、盤状部材12が、そのテンプレ
ート40によって定盤56の研磨面60に受けられる
(図2参照)ため、ウェーハ24の外周のダレが発生す
ることを防止できる。
【0020】なお、上記のウェーハの押圧部、およびウ
ェーハの押圧部に設けられてウェーハ24を研磨面60
に所定の押圧力で押圧する押圧手段の他に、ウェーハの
研磨装置の基本的な構成としては、表面に研磨面60が
形成された定盤56(図2および図3参照)、ウェーハ
表面を研磨面60に当接させるべくウェーハの押圧部と
定盤56とを接離動させる接離動手段、ウェーハ24が
研磨面60に当接・押圧された状態でウェーハ24と定
盤56とを回転および/または往復動によって相対的に
運動させる駆動手段、スラリー等を含む液状の研磨剤の
供給手段がある。
【0021】次に以上の構成からなるウェーハの研磨装
置に関して、その作動状態について説明する。先ず、押
圧部41aを移動して、ウェーハ24を、バッキング材
の表面からなる外側面に、水の表面張力によって吸着さ
せる。流体室32を減圧してウェーハ24を吸引して確
実に保持してもよい。そして、押圧部41aを移動し
て、ウェーハ24を定盤56の研磨面60上に位置させ
る。次に、圧力室20へ圧力流体供給手段によって所定
圧力の流体を供給することで、盤状部材12全体を研磨
面60に追随させて押圧させる。押圧前に研磨面60が
盤状部材12の面に対して傾いていても、流体圧の作用
で研磨面60に好適に追随させて、盤状部材12の全面
を均等に押圧できる。そして、流体室32へ噴出流体供
給手段によって所定圧力の流体を供給することで、噴出
口36から所定の圧力の流体が噴出する。噴出した流体
は、バッキング材30とウェーハ24の間を通り、ウェ
ーハ24の外周側面とテンプレート40の内周側面との
間を通過し、研磨布58内を通って排出される。その噴
出する流体の圧力によってウェーハ24が押圧される。
噴出する流体によってウェーハ24を直接的に押圧でき
るため、ウェーハ24の全面を研磨面60へ均等に押圧
できる。すなわち、圧力室20の圧力で盤状部材12全
体を研磨面60へ均等な圧力で押圧し、盤状部材12と
定盤56表面の平行度を高い精度で確保し、加えて、噴
出する流体の圧力でウェーハ24をより直接的に押圧で
きるため、さらに高い精度でウェーハ24を研磨面60
へ均等に押圧できる。従って、ウェーハ24全面を均一
に研磨することができる。特に、表面を基準とする高精
度な研磨に有効である。
【0022】また、圧力流体調整装置によって圧力室2
0へ供給される流体の圧力を調整すること、および噴出
流体調整装置によって噴出流体の圧力を調整すること
で、研磨条件を容易に変更できる。従って、ウェーハの
研磨条件に応じて、圧力室20に作用する圧力流体の圧
力値および噴出する流体の圧力値、およびその二つの圧
力値のバランスを容易に調整でき、研磨装置の汎用性を
向上できる。
【0023】また、圧力室20と噴出流体の2段の作用
で、ウェーハ24を研磨面に押圧することができるた
め、研磨面60の傾斜(面振れ)が比較的大きくても、
その傾斜に好適に追随することができる。なお、このウ
ェーハの研磨装置によれば、前記ウェーハ以外の被研磨
部材であるワーク(例えばガラス薄板材、水晶等の硬脆
性材料の表面)も鏡面状に研磨することもできる。
【0024】以上の実施例では、圧力室20へ圧力流体
を供給することで発生するエアバック作用によって盤状
部材12を研磨面60へ追随させたが、これに限らず、
ユニバーサルジョイントで盤状部材12を吊持および押
圧する構造を採用してもよい。また、板状の弾性部材1
4の代わりに蛇腹状の部材を用いてもよい。さらには盤
状部材12外表面と定盤56表面のを間隔を計測して両
面が平行になるように調整する調整機構を採用してもよ
い。また、以上に説明してきた実施例では、圧力室20
に圧縮空気を供給することによって盤状部材12を介し
てウェーハ24を研磨面に押圧する場合を説明したが、
他の流体圧例えば水圧または油圧を利用することもでき
る。以上、本発明の好適な実施例について種々述べてき
たが、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、
発明の精神を逸脱しない範囲内でさらに多くの改変を施
し得るのは勿論のことである。
【0025】
【発明の効果】請求項1にかかる発明によれば、押圧部
に設けられた噴出口から、ワークを定盤の研磨面に押圧
するように押圧部の表面から研磨面側へ向かって、流体
を噴出できる。押圧部とワークの間に流体が介在して、
ワークが研磨面に直接的に押圧されるため、ワークと押
圧部とが接触してワークを傷つけることを防止できると
共に、ワーク全面を均一に研磨し、ワーク外周のダレを
防止すると共に、ワーク表面の平坦度を向上できるとい
う著効を奏する。また、請求項2にかかる発明によれ
ば、圧力室の圧力で盤状部材を研磨面へ均等な圧力で押
圧し、盤状部材と定盤表面の平行度を高い精度で確保
し、加えて、噴出する流体の圧力でワークを直接的に押
圧できるため、さらに高い精度にワークを研磨面へ均等
に押圧できる。従って、ワーク全面を均一に研磨するこ
とができるという著効を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る研磨装置の押圧部の正面断面図。
【図2】図1の実施例の使用状態を示す要部を拡大した
正面断面図。
【図3】従来の技術を示す断面図。
【符号の説明】
10 ヘッド部材 12 盤状部材 14 板状の弾性部材 14a 外側部 14b 内側部 20 圧力室 24 ウェーハ 30 弾性薄膜 32 流体室 36 噴出口 40 テンプレート 41a 押圧部 56 定盤 58 研磨布 60 研磨面

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面にワークを研磨する研磨面が形成さ
    れた定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、
    該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記
    定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワーク
    の表面を研磨する研磨装置において、 前記押圧部に設けられ、ワークを前記研磨面へ押圧する
    ように押圧部の表面から研磨面側へ向かって流体を噴出
    する噴出口と、 前記噴出口から噴出する流体を供給する噴出流体供給手
    段とを具備することを特徴とする研磨装置。
  2. 【請求項2】 表面にワークを研磨する研磨面が形成さ
    れた定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、
    該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記
    定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワーク
    の表面を研磨する研磨装置において、 前記押圧部が、 下方に向けて開放する凹部を備えるヘッド部材と、 該ヘッド部材の凹部内側に配された盤状部材と、 一方側が前記ヘッド部材の壁部に固定されると共に、他
    方側が前記盤状部材に固定され、該盤状部材を上下方向
    及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持す
    る弾性部材と、 前記ヘッド部材の内部を前記盤状部材および前記弾性部
    材によって画成して設けられる圧力室と、 該圧力室に圧力流体を供給する圧力流体供給手段と、 前記盤状部材に設けられ、ワークを前記研磨面へ押圧す
    るように盤状部材の表面から研磨面側へ向かって流体を
    噴出する噴出口と、 前記噴出口から噴出する流体を供給する噴出流体供給手
    段とを具備することを特徴とする研磨装置。
  3. 【請求項3】 前記圧力流体供給手段には前記圧力室へ
    供給する流体の圧力を調整する圧力流体調整装置が備え
    られ、前記噴出流体供給手段には前記噴出口から噴出す
    る流体の圧力を調整する噴出流体調整装置が備えられて
    いることを特徴とする請求項2記載の研磨装置。
  4. 【請求項4】 前記噴出口がワークに対応する位置に複
    数配設されていることを特徴とする請求項1、2または
    3記載の研磨装置。
  5. 【請求項5】 前記押圧部に噴出口およびワークを囲う
    ようにリング状に設けられ、ワークが前記研磨面に押圧
    される際に、押圧部と研磨面とによって挟圧され、噴出
    口から噴出する流体の流れを規制するリング部材を備え
    ることを特徴とする請求項1、2、3または4記載の研
    磨装置。
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