JPH09291395A - めっき残留応力の制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】めっき残留応力の大きさを制御するのに有利な
めっき残留応力の制御方法を提供すること。 【解決手段】対象物４の被めっき面４ｈにめっき処理を
施してめっき層を形成する方法である。対象物４に歪を
付加した状態でめっき処理を行い、めっき処理後に歪を
解放し、これによりめっき層におけるめっき残留応力を
制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はめっき層で発生する
めっき残留応力の制御方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】産業界では、対象物の被めっき面にめっ
き処理を施してめっき層を積層することが行われてい
る。めっき層は、対象物の表面性状の改善に貢献でき
る。めっき層の内部にはめっき残留応力が発生すること
がある。代表的なめっき処理である電気めっき処理によ
れば、電着応力とも呼ばれるめっき残留応力がめっき層
の内部に現れるとされている。即ち、文献によれば、図
１０に示すように片面に絶縁層１０１を被覆した板状の
対象物１００のめっき面にめっき層２００を形成する
と、図１０（Ａ）に示すようにめっき層２００が収縮せ
んとする場合には、対象物１００による拘束の影響で、
引張残留応力Ｆ_a がめっき層２００の内部に発生する。
また、図１０（Ｂ）に示すようにめっき層２００が膨張
せんとする場合には、対象物１００による拘束の影響
で、圧縮残留応力Ｆ_b がめっき層２００の内部に発生す
る。

【０００３】めっき条件の如何によって、圧縮残留応力
が現れたり、引張残留応力が現われたりする。ところで
従来より、めっき層の内部に発生するめっき残留応力の
大きさを軽減する方法として、応力減少剤をめっき液に
含ませてめっき処理する方法が知られている。

【０００４】まためっき層の内部のめっき残留応力の大
きさ自体を制御するための技術ではないものの、次の公
報技術が従来より開示されている。すなわち、特開昭５
４−１３６５３８号公報には、金属網体や箔体を電鋳加
工で形成する工程と、金属網体や箔体を張出加工してド
ーム状に塑性変形させる工程と、ドーム状の金属網体や
箔体にめっき処理を施し、ドーム状の金属網体や箔体に
めっき残留応力を付与する工程とを順に実施する方法が
開示されている。この方法は、めっき残留応力により、
ドーム状の金属網体や箔体の形状を維持することを意図
している。

【０００５】また特開昭６１−１４３５９１号公報に
は、溶接構造物の溶接残留応力がめっき液の温度で開放
されて応力バランスが崩れることに対処すべく、めっき
処理に先立って、溶接構造物に繰返し歪を与え、溶接構
造物における溶接残留応力そのものを、めっき処理の前
に軽減する方法が開示されている。上記公報技術は、め
っき層の内部のめっき残留応力の大きさ自体を制御する
ものではない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した実情
に鑑みなされたものであり、その課題は、対象物に積極
的に歪を付加した状態でめっき処理することにより、め
っき残留応力の大きさを制御するのに有利なめっき残留
応力の制御方法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に係るめっき残
留応力の制御方法は、対象物の被めっき面にめっき処理
を施してめっき層を形成する方法において、対象物に歪
を付加した状態でめっき処理を行い、めっき処理後に歪
を解放し、めっき層におけるめっき残留応力を制御する
ことを特徴とするものである。

【０００８】請求項２に係るめっき残留応力の制御方法
は、対象物の被めっき面にめっき処理を施してめっき層
を形成する方法において、めっき層に発生せんとするめ
っき残留応力と逆向きの歪を対象物に付加した状態でめ
っき処理を行い、めっき処理後に歪を解放し、解放に伴
いめっき層におけるめっき残留応力を軽減することを特
徴とするものである。

【０００９】請求項３に係るめっき残留応力の制御方法
によれば、請求項２において、対象物は円筒形状をな
し、被めっき面は、対象物の内周面及び外周面の少なく
とも一方を含み、めっき層に発生せんとするめっき残留
応力は、周方向にめっき層が収縮する方向の応力であ
り、歪は、円筒形状をなす対象物の内径が拡径する向き
の歪であることを特徴とするものである。

【００１０】請求項４に係る残留応力の制御方法によれ
ば、対象物の被めっき面にめっき処理を施してめっき層
を形成する方法において、対象物の被めっき面に引張歪
または圧縮歪を付加した状態でめっき処理を行ない、引
張歪または圧縮歪をめっき処理後に解放し、解放に伴い
めっき層に応力を付与することを特徴とするものであ
る。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明方法に係るめっき処理は、
湿式めっき処理でも乾式めっき処理でも良い。代表的な
湿式めっき処理としては電気めっき処理、無電解めっき
処理、溶融めっき処理が挙げられる。代表的な乾式めっ
き処理としては気相めっき処理が挙げられる。気相めっ
き処理としては蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング、ＣＶＤが挙げられる。

【００１２】本発明方法で用いる対象物としては、円筒
形状品、コップ形状品、板状品、盤状品、軸状品、棒状
品等が挙げられる。具体的にはシリンダブロックのボア
面、ピストン、バルブリフタが挙げられる。対象物の材
質は適宜選択できる。めっき層の材質としては、鉄系、
クロム系、ニッケル系、亜鉛系等の公知のものを選択で
きる。

【００１３】請求項１に係る方法によれば、対象物に歪
を付加した状態でめっき処理を行う。 歪の形態として
は、対象物に引張歪を付加する形態、あるいは、対象物
に圧縮歪を付加する形態を採用できる。めっき処理後に
歪は解放される。これによりめっき層におけるめっき残
留応力は制御される。請求項２に係る方法によれば、め
っき層に発生せんとするめっき残留応力と逆向きの歪を
対象物に付加した状態で、めっき処理を行う。めっき処
理後に逆向きの歪を解放する。付加される歪は、めっき
層に発生せんとするめっき残留応力と向きが逆であるた
め、相殺され易くなる。従ってめっき層におけるめっき
残留応力は、軽減また回避される。

【００１４】請求項３に係る方法は、円筒形状をなす対
象物に形成されためっき層に発生するめっき残留応力の
向きが、対象物の周方向に収縮する方向である場合を対
象とする。請求項３に係る方法によれば、円筒形状をな
す対象物の内径が拡径する向きの歪が対象物に付与され
た状態で、めっき処理が行われる。めっき処理後に歪が
解放される。付加される歪は、めっき残留応力と向きが
逆であるため、相殺され易くなる。従ってめっき層にお
けるめっき残留応力は、軽減また回避される。

【００１５】請求項４に係る方法によれば、対象物に引
張歪または圧縮歪を付加した状態でめっき処理を行な
う。この歪はめっき処理後に解放されるため、対象物は
元の形状またはそれに近い形状に回復する。これにより
めっき層に残留応力が付与される。対象物に引張歪が付
加された状態でめっき処理された場合には、めっき処理
後に引張歪が解放されるため、めっき層には圧縮残留応
力が付与される。また対象物に圧縮歪が付加された状態
でめっき処理された場合には、めっき処理後に圧縮歪が
解放されるため、めっき層には引張応力が付与される。

【００１６】

【実施例】

（第１実施例）以下、本発明を電気めっき処理に適用し
た実施例を図１〜図４を参照して説明する。この例は、
対象物４の外周面である被めっき面４ｈにめっき層が形
成される場合である。

【００１７】説明の便宜上、図１を参照してめっき装置
１から説明する。めっき装置１は、めっき液Ｒが収容さ
れた液室１０をもつ槽１１と、めっき液Ｒに浸漬された
複数個の可溶性の陽極体１２と、整流装置１３と、可溶
性の陽極体１２と整流装置１３の陽極とをつなぐ第１ケ
ーブル１４と、対象物４を保持する対象物保持手段１５
と、対象物４と整流装置１３の陰極とをつなぐ第２ケー
ブル１７とを備えている。

【００１８】陽極体１２はめっき層を構成する材料で形
成されている。対象物保持装置１５に保持された対象物
４は、めっき液Ｒに浸漬されている。対象物保持装置１
５は、支柱２０と、歪付与手段２２と、歪付与手段２２
の嵌合孔２２ａに嵌合されたくさび体２３と、くさび体
２３の螺子軸２４に螺合してくさび体２３を支柱２０に
保持するナット状の締付部材２５とを備えている。

【００１９】図２に示すように歪付与手段２２は、厚肉
円筒形状をなしており、横断面で放射方向にのびる複数
個のスリット２２ｋをもつ。スリット２２ｋは、歪付与
手段２２の内周側及び外周側から互い違いに形成されて
いる。スリット２２ｋは歪付与手段２２の軸長方向にも
延びている。スリット２２ｋにより、歪付与手段２２は
拡径及び縮径可能とされている。

【００２０】歪付与手段２２は非導電材料例えば硬質樹
脂で形成できる。図３に示すように、歪付与手段２２の
外周面である加圧面２２ｒは、歪付与手段２２の軸芯Ｐ
_c と実質的に平行とされている。歪付与手段２２の内周
側には円錐面状の第１傾斜面２２ｓが形成されている。
第１傾斜面２２ｓは、上方に向かうにつれて歪付与手段
２２の内径が小さくなる傾斜を備えている。

【００２１】くさび体２３の外周側には第２傾斜面２３
ｕが形成されている。第２傾斜面２３ｕは、歪付与手段
２２の第１傾斜面２２ｓの傾きとほぼ相応する円錐面状
をなしている。従って第２傾斜面２３ｕは、上方に向か
うにつれてくさび体２３の外径が小さくなる傾斜を備え
ている。本実施例では用いられる対象物４は、導電性を
もつ材料、一般的には金属（例えばアルミ合金）で形成
されている。対象物４は、前述したように円筒形状であ
り、内周面及び外周面をもつ。

【００２２】対象物４の嵌合孔４０に歪付与手段２２が
嵌合している状態で、締付部材２５が螺子軸２４に締付
けられると、締付けに伴い、くさび体２３が上方つまり
図３に示す矢印Ｙ１方向に変位し、くさび体２３の第２
傾斜面２３ｕが歪付与手段２２の第１傾斜面２２ｓを押
圧する。これにより図３に示すように、半径方向の外方
に向かう力、つまり矢印Ｘ１方向の力が歪付与手段２２
の周壁に作用し、歪付与手段２２が拡径する。

【００２３】この結果、歪付与手段２２の加圧面２２ｒ
が対象物４の周壁の内周面を半径方向外方に加圧する。
故に、対象物４が拡径する方向の歪が対象物４の周壁に
付加される。即ち、対象物４の周壁にはこれの周方向に
引張歪が付加される。このように対象物４の周壁に引張
歪が付加された状態で、陰極である対象物４と陽極体１
２との間に電圧が印加され、めっき処理が実行される。
めっき処理では、陽極体１２からめっき成分が電子を放
出しつつイオンとして溶解し、イオンがめっき液Ｒ中を
対象物４の側に泳動する。陰極である対象物４ではイオ
ンが電子を受取ってめっき金属として析出する。これに
より対象物４の外周面である被めっき面４ｈに、めっき
層４３が形成される。

【００２４】本実施例によれば、めっき処理後のめっき
層４３の内部には、対象物４の周方向において縮径する
方向の電着応力としてのめっき残留応力が残留する形態
である。そこで本実施例によれば、上記のようにめっき
処理が終了したら、締付部材２５が緩められる。故に、
対象物４の周壁に付加されていた引張歪は解放される。
解放に伴い、対象物４は縮径する方向に回復する。即
ち、めっき層４３の内部に発生していためっき残留応力
を相殺する方向に、対象物４は回復する。故に、めっき
層４３の内部におけるめっき残留応力は、軽減または回
避される。

【００２５】図４を参照して説明を加える。図４（Ｉ）
（Ａ）〜（Ｃ）は円筒形状の対象物４を用いた場合にお
いて、従来法による一般的なめっき処理を実行した形態
を模式的に示す。図４（ＩＩ）（Ａ）〜（Ｄ）は円筒形
状の対象物４を用いた場合において、本実施例法による
めっき処理を実行した形態を模式的に示す。従来法によ
る一般的なめっき処理を実行すれば、めっき処理後のめ
っき層４３には、図４（Ｉ）（Ｃ）に示すように、対象
物４の周長がＭ_a （例えば５００μｍ）相当ぶん収縮す
る方向のめっき残留応力が発生する形態である。

【００２６】これに対して本実施例方法によれば、めっ
き処理に先立ち、図４（ＩＩ）（Ｂ）に示すように歪付
与手段２２を矢印Ｘ１方向に拡径し、対象物４の周壁が
伸びる向きの引張歪が付加され、対象物４の周長がＭ_b
（＝Ｍ_a ＝５００μｍ）ぶん増す。この状態で、対象物
４の外周面である被めっき面４ｈにめっき処理が実行さ
れ、めっき層４３が積層される。めっき層４３が積層さ
れた後に、図４（ＩＩ）（Ｄ）に示すように歪付与手段
２２の引張歪が解放され、これにより歪付与手段２２は
縮径し、その周長はＭ_b 相当ぶん短縮される。このよう
にすれば、計算上では、めっき層４３の内部のめっき残
留応力は相殺されて、めっき層４３の内部の残留応力は
計算上では０となる。

【００２７】以上説明したように本実施例によれば、め
っき層４３の内部のめっき残留応力を軽減または回避で
きるため、めっき層４３における剥離や膨れ等を軽減、
回避するのに有利である。第１実施例によれば、対象物
４の材質、めっき層４３の材質は適宜選択できるもの
の、対象物４の材質はアルミ合金系を採用でき、めっき
層４３の材質は鉄系を採用できる。この場合には、陽極
体１２の材質は鉄系、めっき液Ｒは硫酸第１鉄水溶液を
採用できる。

【００２８】また他の形態としては、対象物４の材質は
マグネシウム合金系を採用でき、めっき層４３の材質は
クロムを採用できる。この場合には、陽極体１２の材質
はクロム系、めっき液Ｒはクロム酸水溶液を採用でき
る。ところで、めっき処理の条件の如何によっては、対
象物４の外周面である被めっき面４ｈに積層されためっ
き層４３には、周方向に縮まる向きのめっき残留応力が
実質的に発生しない形態もある。この場合には、前述の
ように対象物４の周壁が周方向にのびる方向に引張歪が
付与された状態で、対象物４にめっき層４３が積層さ
れ、その後に引張歪が解放されて対象物４が縮径すれ
ば、対象物４の周壁に積層されためっき層４３に圧縮残
留応力を積極的に付与することができる。この場合に
は、圧縮残留応力に基づき、めっき層４３の耐疲労性の
改善に貢献できる。

【００２９】（第２実施例）図５は本発明を電気めっき
処理に適用した第２実施例を説明する。この例は、対象
物４の内周面である被めっき面４ｈにめっき層４３が形
成される場合である。図５を参照してめっき装置５から
説明する。めっき装置５は、主柱状をなす可溶性の陽極
体１２と、第１通孔６０ｘを備えた上蓋６０と、第２通
孔６２ｘを備えた下蓋６２と、上蓋６０に装備されたリ
ング状の上シール材６３と、下蓋６２に装備されたリン
グ状の下シール材６４と、陽極体１２の外周面と上蓋６
０との境界域をシールするリング状のシール材６５と、
陽極体１２の外周面と下蓋６２との境界域をシールする
リング状のシール材６６と、整流装置１３と、陽極体１
２と整流装置１３の陽極とをつなぐ第１ケーブル１４
と、第２ケーブル１７とを備えている。陽極体１２は、
めっき層４３を構成する材料で形成されている。陽極体
１２は第１通孔６０ｘ及び第２通孔６２ｘに挿通されて
いる。

【００３０】対象物４は円筒形状をなし、軸長方向にお
いて上蓋６０と下蓋６２とで挟持されている。対象物４
は、第２ケーブル１７により整流装置１３の陰極につな
がれている。上蓋６０と対象物４との間は上シール材６
３でシールされている。下蓋６２と対象物４との間は下
シール材６４でシールされている。本実施例では対象物
４の周壁で液室１０が区画されており、この液室１０に
めっき液Ｒが封入されている。めっき液Ｒは加圧手段６
９により加圧可能とされている。加圧手段６９としては
周知の液加圧装置を用いればよく、例えばポンプ装置、
プランジャピストン装置、コンプレッサ装置等を採用で
きる。

【００３１】対象物４にめっき処理した後においては、
めっき層４３の内部に、これの周長が収縮（Ｍ_a 相当ぶ
ん）する方向のめっき残留応力が発生する形態である。
そこで本実施例方法によれば、めっき処理に先立ち、液
室１０のめっき液Ｒが加圧手段６９により加圧され、対
象物４が拡径する向きの引張歪が対象物４の周壁に付加
される。この場合、対象物４の周長はＭ_b （＝Ｍ_a ）相
当ぶん増加される。

【００３２】この状態で前述同様に、陰極である対象物
４と陽極体１２との間に電圧が印加され、めっき処理が
実行される。すると、対象物４の内周面である被めっき
面４ｈにめっき層４３が形成される。めっき処理が終了
した後に、めっき液Ｒの加圧が解放され、対象物４の引
張歪は解放され、対象物４は縮径する。この場合、対象
物４の周長はＭ_b 相当ぶん短縮される。このようにすれ
ば、めっき層４３のめっき残留応力は相殺されて、計算
上ではめっき層４３の内部のめっき残留応力は０とな
る。

【００３３】なお液室１０のめっき液Ｒを加圧する場合
の加圧力は、Ｍ_b ＝Ｍ_a ＝５００μｍである場合には、
次のように設定できる。対象物４の内周面の半径をｒ
（ｍｍ）、対象物４の周壁の肉厚をｔ（ｍｍ）、対象物
４のヤング率をＥ（ｋｇｆ／ｍｍ² ）とすると、加圧力
Ｐ（ｋｇｆ／ｍｍ² ）は次のようにできる。 Ｐ＝５００×１０⁶ ×Ｅ×（ｔ／ｒ） ところで前述したように、めっき処理の条件の如何によ
っては、対象物４の内周面である被めっき面４ｈに積層
されためっき層４３には、周長が縮まる向きのめっき残
留応力が実質的に発生しない形態もある。この場合に
は、前述のようにめっき処理の後に、対象物４の周長が
伸びる方向に引張歪が付与された状態で、対象物４にめ
っき層４３が積層され、その後に引張歪が解放されて対
象物４の周壁が縮径すれば、対象物４の周壁のめっき層
４３の内部に圧縮残留応力を積極的に付与することがで
きる。この場合には、めっき層４３の耐疲労性の改善に
有利である。

【００３４】（第３実施例）第３実施例を図６に示す。
この例は第１実施例と基本的には同様の構成であり、同
様の作用効果を奏する。但しこの例の場合には円筒形状
の対象物４の周壁で区画された液室１０にめっき液Ｒの
代わりに、粉粒体８０が収容されている。対象物４が当
接部材８２に当接された状態で、歪付与手段として機能
する加圧盤８３により粉粒体８０が矢印Ｙ２方向に加圧
されると、対象物４の周壁にはこれを拡径する方向の引
張歪が付加される。

【００３５】このように対象物４の周壁に引張歪が付加
された状態で、対象物４の周壁の外周面である被めっき
面４ｈにめっき処理によりめっき層４３が積層される。
めっき処理後に、引張歪が解放され、対象物４の周壁が
縮径する方向に回復する。これにより対象物４の周壁に
積層されためっき層４３のめっき残留応力を軽減、緩和
できる。

【００３６】（第４実施例）この例は、めっき層４３に
圧縮残留応力を積極的に付与する例である。図７（Ａ）
に示すように、背面に絶縁膜４ｔが形成された板状の対
象物４を用いる。図７（Ｂ）に示すように、歪付与手段
２２が矢印Ｓ１方向に前進し、歪付与手段２２で対象物
４は反る。この状態では、対象物４の中立線Ｐ_k を境と
して、絶縁膜４ｔの側には圧縮歪が付加されるととも
に、対象物４の被めっき面４ｈには引張歪が付加され
る。

【００３７】このように対象物４の被めっき面４ｈに引
張歪が付加された状態で、めっき処理が実行され、被め
っき面４ｈにめっき層４３が積層される。めっき処理
後、歪付与手段２２が矢印Ｓ２方向に退避すれば、対象
物４の反りは解放され、図７（Ｃ）に示すように対象物
４は元の形状に回復する。従って被めっき面４ｈの引張
歪は解放される。このようにすれば、対象物４の被めっ
き面４ｈに積層されためっき層４３に、矢印Ｎ１方向の
圧縮残留応力が積極的に付与される。圧縮残留応力が付
与されためっき層４３は、耐疲労性の改善に有利であ
る。

【００３８】（第５実施例）この例は、めっき層４３に
引張応力を積極的に付与する例である。図８（Ａ）に示
すように、背面に絶縁膜４ｔが形成された対象物４を用
いる。図８（Ｂ）に示すように、歪付与手段２２が矢印
Ｓ２方向に移動し、歪付与手段２２で対象物４は反る。
この状態では、対象物４の中立線Ｐ_k を境として、絶縁
膜４ｔの側には引張歪が付加されるとともに、対象物４
の被めっき面４ｈには圧縮歪が付加される。

【００３９】このように対象物４の被めっき面４ｈに圧
縮歪が付加された状態で、めっき処理が実行され、被め
っき面４ｈにめっき層４３が積層される。めっき処理
後、歪付与手段２２が矢印Ｓ１方向に退避すれば、対象
物４の反りは解放され、図８（Ｃ）に示すように対象物
４は元の形状に回復する。従って被めっき面４ｈの圧縮
歪は解放される。このようにすれば、対象物４に積層さ
れためっき層４３に、矢印Ｎ２方向の引張応力を積極的
に付与できる。従って引張応力が大きければ、油等の潤
滑剤を保持する機能を奏するクラックをめっき層４３に
機械的に形成することができる。いわゆるポーラスめっ
きを形成することができる。

【００４０】（第６実施例）図９は第６実施例に係る形
態を示す構成図である。この例では、板状の対象物４を
引張力により対象物４の面方向に引張って引張歪を付与
した状態で、対象物４にめっき処理を実行する。めっき
処理後には引張歪は解放される。

【００４１】

【発明の効果】請求項１に係る方法によれば、対象物に
歪を付加しつつ、めっき処理を行う。めっき処理後に歪
は解放される。これによりめっき層におけるめっき残留
応力は制御される。めっき層におけるめっき残留応力
は、めっき層の剥離や膨れ等の要因となることがある。
この点請求項２に係る方法によれば、対象物に付加され
る歪は、めっき層に発生せんとするめっき残留応力と向
きが逆であるため、歪が解放されれば、めっき層に発生
していためっき残留応力は、相殺され易くなる。従って
めっき層におけるめっき残留応力は、軽減または回避さ
れる。よってめっき層の剥離や膨れ等の不具合を改善す
るのに有利である。

【００４２】請求項３に係る方法は、円筒形状をなす対
象物に形成されためっき層に発生するめっき残留応力の
向きが、対象物の周方向に収縮する方向である場合を対
象とする。請求項３に係る方法によれば、円筒形状をな
す対象物の内径が拡径する向きの歪が対象物に付与され
た状態で、めっき処理が行われる。めっき処理後に歪が
解放される。対象物に付加される歪は、めっき層に発生
せんとする残留応力と向きが逆であるため、相殺され易
くなる。従ってめっき層におけるめっき残留応力は、軽
減また回避される。よってめっき層の剥離や膨れ等の不
具合を改善するのに有利である。

【００４３】請求項４に係る方法によれば、対象物に引
張歪または引張歪を付加した状態でめっき処理を行な
う。この歪はめっき処理後に解放されるため、対象物
は、歪を与える前の元の形態、または、それに近い形態
に回復する。従って対象物に引張歪を付加した状態でめ
っき処理が実行され、めっき処理後に引張歪が解放され
た場合には、対象物に積層されているめっき層に圧縮応
力が付与され、めっき層の耐疲労性の改善に貢献でき
る。故に、めっき層の耐疲労性が要請される機械部品等
として使用する場合に適する。

【００４４】また対象物に圧縮歪を付加した状態でめっ
き処理が実行され、めっき処理後に圧縮歪が解放された
場合には、対象物に積層されているめっき層に引張応力
が付与される。そのため、油溜等の機能を奏するクラッ
クをめっき層に形成するのに有利である。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例に係る方法で用いる装置の構成図で
ある。

【図２】円筒形状の対象物が歪付与手段に装備されてい
る状態を示す平面図である。

【図３】円筒形状の対象物が歪付与手段に装備されてい
る状態を示す断面図である。

【図４】めっき残留応力を軽減する形態を示す構成図で
ある。

【図５】第２実施例に係る方法で用いる装置の構成図で
ある。

【図６】第３実施例に係る方法で用いる装置の構成図で
ある。

【図７】第４実施例に係る形態を示す構成図である。

【図８】第５実施例に係る形態を示す構成図である。

【図９】第６実施例に係る形態を示す構成図である。

【図１０】従来技術に係る形態を示す構成図である。

【符号の説明】

図中、１２は陽極体、２２は歪付与手段、４は対象物、
４ｈは被めっき面、４３はめっき層を示す。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】対象物の被めっき面にめっき処理を施して
   めっき層を形成する方法において、 前記対象物に歪を付加した状態で前記めっき処理を行
   い、前記めっき処理後に前記歪を解放し、前記めっき層
   におけるめっき残留応力を制御することを特徴とするめ
   っき残留応力の制御方法。
2. 【請求項２】対象物の被めっき面にめっき処理を施して
   めっき層を形成する方法において、 前記めっき層に発生せんとするめっき残留応力と逆向き
   の歪を前記対象物に付加した状態で前記めっき処理を行
   い、前記めっき処理後に前記歪を解放し、解放に伴い前
   記めっき層におけるめっき残留応力を軽減することを特
   徴とするめっき残留応力の制御方法。
3. 【請求項３】請求項２において、前記対象物は円筒形状
   をなし、前記被めっき面は、前記対象物の内周面及び外
   周面の少なくとも一方を含み、前記めっき層に発生せん
   とする前記めっき残留応力は、周方向に前記めっき層が
   収縮する方向の応力であり、 歪は、円筒形状をなす前記対象物の内径が拡径する向き
   の歪であることを特徴とするめっき残留応力の制御方
   法。
4. 【請求項４】対象物の被めっき面にめっき処理を施して
   めっき層を形成する方法において、 前記対象物に引張歪または圧縮歪を付加した状態で前記
   めっき処理を行ない、前記引張歪または圧縮歪をめっき
   処理後に解放し、解放に伴い前記めっき層に応力を付与
   することを特徴とするめっき残留応力の制御方法。