JPH09288202A - Antireflection film - Google Patents

Antireflection film

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JPH09288202A
JPH09288202A JP9004917A JP491797A JPH09288202A JP H09288202 A JPH09288202 A JP H09288202A JP 9004917 A JP9004917 A JP 9004917A JP 491797 A JP491797 A JP 491797A JP H09288202 A JPH09288202 A JP H09288202A
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antireflection
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antireflection film
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弘照 長谷川
Sachiyo Oomura
早知代 大村
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Fukuvi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To greatly improve the weakness of an antireflection film formed of an amorphous fluororesin, i.e., the wear resistance and flaw resistance thereof and to provide the antireflection film which sufficiently withstands the use with the full-surface panel of a CRT display etc., by providing the surface of the antireflection film with an overcoating layer of a thickness at which the antireflection performance is not affected at all. SOLUTION: This film is formed of a plastic substrate 1 which has light transparency, a high-refractive index layer 2 which is consists essentially of metal alkoxide and colloidal metal oxide and/or metal halide applied on this substrate 1 and has antistatic performance, an antireflection layer 3 which consists of an amorphous fluororesin of a refractive index (nd) of <=1.36 applied on this high-refractive index layer 2 and a coating layer 4 which consists essentially of the org. polysiloxane applied on this antireflection film and has surface activatability. The excellent wear resistance, flaw resistance, adhesion property and light transparency are obtd. by forming such film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透光性に優れたプ
ラスチック材料を製造する際の反射防止膜に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection film for producing a plastic material having excellent light transmitting property.

【0002】[0002]

【従来の技術およびその問題点】透光性を有するプラス
チック材料は光学フィルターや光学レンズ等にも使用さ
れているが、屈折率が1.45〜1.60の範囲にある
ため、全くの透明といえども7〜10%程度の光学反射
を起こす。
2. Description of the Related Art A plastic material having a light-transmitting property is also used for an optical filter, an optical lens, etc., but since it has a refractive index in the range of 1.45 to 1.60, it is completely transparent. However, it causes about 7 to 10% optical reflection.

【0003】この光線反射は、光線透過率の低下や、反
射によるゴースト現象、また透過して物を見る際の見づ
らさの原因ともなる。
This light ray reflection causes a decrease in light ray transmittance, a ghost phenomenon due to reflection, and a difficulty in seeing an object through the light.

【0004】この反射を除去もしくは低減させる方法と
しては、真空蒸着法で屈折率の低いフッ化マグネシウ
ム、シリカ等のλ/4膜又は、屈折率の高い酸化チタ
ン、酸化ジルコニウム等のλ/4膜との組合せによる多
層コートが使用されてきた。
As a method of removing or reducing this reflection, a λ / 4 film such as magnesium fluoride or silica having a low refractive index or a λ / 4 film such as titanium oxide or zirconium oxide having a high refractive index is formed by a vacuum deposition method. Multilayer coats have been used in combination with.

【0005】光学レンズのような小さな物へのコートに
ついては、膜品質、生産性共に良好な方法であるが、C
RTディスプレィーの全面パネルのような大きな板につ
いては、蒸着釜への一回の投入数が極端に少なくなって
しまい、コストの高いものとなるという問題がある。
For coating a small object such as an optical lens, the film quality and the productivity are good, but C
For a large plate such as an RT-display full-scale panel, the number of charges per one time into the vapor deposition kettle becomes extremely small, which causes a problem of high cost.

【0006】一方、別の方法として、溶剤可溶の非晶質
フッ素樹脂を適当な溶媒に溶解し、ディッピング法で製
膜し、反射防止膜を得る方法も知られている。この方法
は、大きな板へのコートも比較的容易であるが、樹脂自
体の硬さに乏しく、λ/4波長膜、即ち100〜200
nm厚の膜は容易に剥離してしまう為、外部に露出した
状態での使用には無理がある。しかも、フッ素樹脂の特
徴である強撥水性、強撥油性、電気絶縁性の為に、静電
気を帯びやすく、埃を吸着しやすいという問題もある。
しかし、一番の問題は、真空蒸着法に比べて反射防止性
能がやや劣るということにある。
On the other hand, as another method, a method of obtaining an antireflection film by dissolving a solvent-soluble amorphous fluororesin in a suitable solvent and forming a film by a dipping method is also known. According to this method, it is relatively easy to coat a large plate, but the hardness of the resin itself is poor, and a λ / 4 wavelength film, that is, 100 to 200.
Since a film having a thickness of nm is easily peeled off, it is impossible to use the film exposed to the outside. In addition, since the fluororesin has the characteristics of strong water repellency, strong oil repellency, and electric insulation, there is a problem in that it is easily charged with static electricity and easily adsorbs dust.
However, the biggest problem is that the antireflection performance is slightly inferior to the vacuum deposition method.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、非晶質フッ
素樹脂で形成される反射防止膜の上に、反射防止性能に
全く影響を与えない厚さのオーバーコート層を設けるこ
とにより、膜の弱さ即ち耐磨耗性、耐擦傷性を大幅に改
善し、CRTディスプレィー全面パネル等の使用に十分
耐えうる反射防止膜を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides an antireflection film formed of an amorphous fluororesin with an overcoat layer having a thickness that does not affect the antireflection performance. The present invention provides an antireflection film that significantly improves the weakness, that is, the abrasion resistance and the scratch resistance, and can withstand the use of CRT display full-scale panels and the like.

【0008】また、非晶質フッ素樹脂で形成される反射
防止膜のアンダー層として、金属アルコキシドとコロイ
ド状金属酸化物及び/またはその無機前駆体との組み合
わせを用い、必要に応じエポキシ系樹脂を組み合わせた
高屈折率層を1〜2層設けることにより、フッ素樹脂の
特徴である強撥水性、強撥油性をそこなうこと無く、帯
電防止効果も兼ね備えた反射防止膜を提供すると共に、
2層以上の多層干渉膜の作用により、可視領域全体(4
00〜700nm)での低反射化が可能となり、真空蒸
着と同様の反射防止膜をゾル−ゲル法を用いたディッピ
ングによる製膜法で提供することを目的としている。
A combination of a metal alkoxide and a colloidal metal oxide and / or an inorganic precursor thereof is used as an under layer of an antireflection film formed of an amorphous fluororesin, and an epoxy resin is added if necessary. By providing one or two high refractive index layers in combination, an antireflection film having an antistatic effect is provided without impairing the strong water repellency and strong oil repellency that are the characteristics of fluororesins, and
The entire visible region (4
It is possible to achieve low reflectance in the range of 0 to 700 nm), and an object thereof is to provide an antireflection film similar to vacuum deposition by a film forming method by dipping using a sol-gel method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、透光性
を有するプラスチック基板、該基板上にコートされた金
属アルコキシドとコロイド状金属酸化物及び/または金
属ハライドと、必要によりエポキシ系樹脂とを主成分と
する帯電防止性能を有する高屈折率層、及び高屈折率層
上にコートされた屈折率(nd)1.36以下の非晶質
フッ素樹脂の反射防止層、及び該反射防止膜上にコート
された有機ポリシロキサンを主成分とし且つ界面活性能
力を有するフッ素系材料を含有するコート層から成るこ
とを特徴とする耐磨耗性、耐擦傷性、密着性及び透光性
に優れた反射防止膜が提供される。
According to the present invention, a light-transmissive plastic substrate, a metal alkoxide and a colloidal metal oxide and / or a metal halide coated on the substrate, and optionally an epoxy resin. And a high refractive index layer having an antistatic property as a main component, an antireflection layer of an amorphous fluororesin having a refractive index (nd) of 1.36 or less coated on the high refractive index layer, and the antireflection Wear resistance, scratch resistance, adhesion and translucency, which is characterized by comprising a coating layer containing a fluorine-based material having a surface-active ability and having organopolysiloxane as a main component coated on the film. An excellent antireflection film is provided.

【0010】[0010]

【発明の実施形態】本発明の反射防止膜の一例を示す図
1において、この反射防止膜は、透光性プラスチック基
板1、この基板上に設けられた高屈折率層2、高屈折率
層上に設けられた反射防止層3及び反射防止層上に設け
られたコート層4から成っている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In FIG. 1 showing an example of an antireflection film of the present invention, the antireflection film is a transparent plastic substrate 1, a high refractive index layer 2 and a high refractive index layer provided on the substrate. The antireflection layer 3 is provided on the upper side and the coat layer 4 is provided on the antireflection layer.

【0011】本発明の反射防止膜の他の例を示す図2に
おいて、この反射防止膜は、透光性プラスチック基板
1、この基板上に設けられた第1の高屈折率層2a、第
1の高屈折率層上に設けられた第2の高屈折率層2b、
第2の高屈折率層上に設けられた反射防止層3及び反射
防止層上に設けられたコート層4から成っている。
In FIG. 2 showing another example of the antireflection film of the present invention, the antireflection film is a transparent plastic substrate 1, a first high refractive index layer 2a provided on the substrate, and a first high refractive index layer 2a. A second high refractive index layer 2b provided on the high refractive index layer of
The antireflection layer 3 is provided on the second high refractive index layer, and the coating layer 4 is provided on the antireflection layer.

【0012】本発明では、プラスチック基板上に設ける
高屈折率層2、2a、2b等を、金属アルコキシドとコ
ロイド状金属酸化物及び/または金属ハライドと、必要
に応じエポキシ系樹脂とを主成分とする組成物で構成
し、高屈折率層が帯電防止性能をも有するようにする。
In the present invention, the high refractive index layers 2, 2a, 2b, etc. provided on the plastic substrate are mainly composed of a metal alkoxide, a colloidal metal oxide and / or a metal halide, and, if necessary, an epoxy resin. The high refractive index layer also has antistatic performance.

【0013】反射防止層3としては、屈折率(nd)
1.36以下の非晶質フッ素樹脂を使用し、また、コー
ト層4としては、有機ポリシロキサンを主成分とし且つ
界面活性能力を有するフッ素系材料を含有する組成物を
用いる。
The antireflection layer 3 has a refractive index (nd)
An amorphous fluororesin of 1.36 or less is used, and as the coating layer 4, a composition containing an organic polysiloxane as a main component and a fluorine-based material having a surface-active ability is used.

【0014】本発明によれば、上記非晶質フッ素樹脂か
ら成る反射防止層の下に、金属アルコキシドとコロイド
状金属酸化物及び/または金属ハライドと、必要に応じ
更にエポキシ系樹脂とを主成分とする高屈折率層を設け
ることにより、非晶質フッ素樹脂が本来有する撥水性、
撥油性、耐汚染性等を損なうことなしに、帯電防止性能
を付与し、非晶質フッ素樹脂の欠点であった埃等の吸着
傾向を防止することができる。
According to the present invention, a metal alkoxide, a colloidal metal oxide and / or a metal halide, and optionally an epoxy resin as a main component are provided under the antireflection layer made of the above amorphous fluororesin. By providing a high refractive index layer to
It is possible to impart antistatic performance and prevent the tendency of adsorbing dust and the like, which is a drawback of the amorphous fluororesin, without impairing oil repellency and stain resistance.

【0015】また、低屈折率の反射防止層の下に、高屈
折率層を設けたので、光線の反射率を一層低く抑制する
ことができ、ゾル−ゲルコート法による反射防止膜とし
ては、例外的に優れた反射防止性能が得られる。
Further, since the high-refractive index layer is provided under the low-refractive-index antireflection layer, the reflectance of light rays can be suppressed to a further low level, which is exceptional as an antireflection film by the sol-gel coating method. Excellent antireflection performance is obtained.

【0016】更に、コロイド状金属酸化物及び/または
金属ハライドと金属アルコキシドを組み合わせることに
より、強固な膜形成が可能となるばかりではなく、必要
に応じ更にエポキシ系樹脂を組み合わせることにより、
各種プラスチック基板との密着性が良くなり、下層の高
屈折率化が自在に調整できるようになったため、種々の
透明プラスチック基板に対応した多層反射防止膜の作成
が可能となった。
Furthermore, not only a strong film can be formed by combining a colloidal metal oxide and / or a metal halide with a metal alkoxide, but also by combining an epoxy resin, if necessary.
Adhesion to various plastic substrates has improved, and the higher refractive index of the lower layer can be adjusted freely, making it possible to create multilayer antireflection coatings compatible with various transparent plastic substrates.

【0017】反射防止塗料として有効な非晶質フッ素樹
脂の屈折率の低さは、分子中のフッ素原子の多量含有に
起因するものである。しかしながら、このフッ素原子の
存在により、膜表面の撥水性、撥油性が非常に高くな
り、ハードコート剤やそれに類した塗料をその上に形成
させようとしてもこれをはじいてしまい、水玉状になっ
て製膜できない。また、撥水性が非常に高く、その為静
電気を帯びやすく、空中の塵や埃などを吸着しやすいと
いう難点もある。
The low refractive index of the amorphous fluororesin effective as an antireflection coating is due to the large content of fluorine atoms in the molecule. However, the presence of this fluorine atom makes the surface of the film extremely water and oil repellent, and even if a hard coating agent or similar coating material is formed on it, it will be repelled, resulting in polka dots. Film cannot be formed. In addition, the water repellency is very high, which makes it easy to be charged with static electricity and easily adsorb dust in the air.

【0018】しかしながら、パーフルオロアルキル基を
有する(メタ)アクリレートとエチレングリコール(メ
タ)アクリレートとの低分子量共重合体のように、親水
性、親フッ素樹脂性の界面活性能力を有する材料は、フ
ッ素樹脂表面で完全な濡れ性を示し、これらを添加する
ことで有機ポリシロキサン系材料をフッ素樹脂表面にコ
ーティングすることが可能となった。
However, as a low molecular weight copolymer of (meth) acrylate having a perfluoroalkyl group and ethylene glycol (meth) acrylate, a material having hydrophilic and fluorophilic surface-active ability is fluorine. It showed complete wettability on the resin surface, and by adding these, it became possible to coat the surface of the fluororesin with the organic polysiloxane material.

【0019】しかも、有機ポリシロキサン系材料の特性
により、表面の滑り性が大幅に改善され、耐擦傷性、耐
磨耗性が得られ、非晶質フッ素樹脂の第一の難点である
膜の弱さを改善することができた。更に、パーフルオロ
アルキル基を有するポリシロキサンを用いることによ
り、耐水性、耐アルコール性が得られることも分かっ
た。
Moreover, due to the characteristics of the organic polysiloxane material, the slipperiness of the surface is greatly improved, scratch resistance and abrasion resistance are obtained, and the film which is the first difficulty of the amorphous fluororesin is formed. I was able to improve my weakness. Furthermore, it has been found that water resistance and alcohol resistance can be obtained by using a polysiloxane having a perfluoroalkyl group.

【0020】プラスチック基板1としては、特に限定す
るものではないが、光学特性の見地から、ポリメチルメ
タクリレート、ポリカーボネート、ポリアリルジグリコ
ールカーボネート、ポリスチレン等が使用でき、透明も
しくは油溶性染料で着色したものが使用される。フッ素
樹脂と基板との馴染み、密着性を上げる目的で、あらか
じめプライマーコートしたものを本発明に使用すること
も可能である。
The plastic substrate 1 is not particularly limited, but from the viewpoint of optical characteristics, polymethylmethacrylate, polycarbonate, polyallyldiglycolcarbonate, polystyrene or the like can be used, which is transparent or colored with an oil-soluble dye. Is used. For the purpose of improving the familiarity and adhesion between the fluororesin and the substrate, it is possible to use a primer-coated product in the present invention.

【0021】本発明で、高屈折率層2の成分として使用
され、その親水性により反射防止膜に帯電防止効果を付
与するコロイド状金属酸化物としては、シリカゾル、チ
タニアゾル、アルミナゾル、酸化ジルコニウムゾル、酸
化アンチモンゾル等が挙げられるが、屈折率の調整の点
や有機溶媒への分散性、コーティング液の安定性、更に
はプラスチック基板及び非晶質フッ素樹脂との濡れ性や
密着性を考慮すると、シリカゾル、アルミナゾル、酸化
アンチモンゾルが好ましい。又、これらのコロイド状金
属酸化物は金属塩化物の加水分解を有機溶媒中で行うこ
とにより、簡単に製造することができる。
In the present invention, colloidal metal oxides used as a component of the high refractive index layer 2 and imparting an antistatic effect to the antireflection film due to its hydrophilicity include silica sol, titania sol, alumina sol, zirconium oxide sol, Antimony oxide sol and the like can be mentioned, but in consideration of the adjustment of the refractive index, the dispersibility in an organic solvent, the stability of the coating liquid, and further the wettability and the adhesiveness with the plastic substrate and the amorphous fluororesin, Silica sol, alumina sol and antimony oxide sol are preferred. Further, these colloidal metal oxides can be easily produced by hydrolyzing a metal chloride in an organic solvent.

【0022】また、本発明において、高屈折率層2の成
分として使用され、屈折率を上げることを目的とする金
属ハライドとしては、金属塩化物、金属臭化物が使用さ
れ、一層具体的には、三塩化アンチモン、四塩化ジルコ
ニウム、三塩化ビスマス、四臭化チタン、三臭化アンチ
モン等が挙げられるが、高屈折率化の点や有機溶媒への
分散性、コーティング液の安定性を考慮すると、三塩化
アンチモン、三塩化ビスマス、三臭化アンチモンが好ま
しい。
Further, in the present invention, as the metal halide used as a component of the high refractive index layer 2 for the purpose of increasing the refractive index, metal chloride or metal bromide is used, more specifically, Antimony trichloride, zirconium tetrachloride, bismuth trichloride, titanium tetrabromide, antimony tribromide and the like can be mentioned, but considering the high refractive index, dispersibility in an organic solvent, and stability of the coating liquid, Antimony trichloride, bismuth trichloride and antimony tribromide are preferred.

【0023】また、これらのコロイド状金属酸化物をプ
ラスチック基板及び非晶質フッ素樹脂に接着するための
バインダーとして使用される金属アルコキシドは、下記
式(1) M(OR)m ‥‥(1) 式中、Mは金属を表し、Rは炭素数1〜5の炭化水素基
を表し、mは金属Mの原子価(3または4)を表す、 で表されるものである。
The metal alkoxide used as a binder for adhering these colloidal metal oxides to a plastic substrate and an amorphous fluororesin is represented by the following formula (1) M (OR) m (1) In the formula, M represents a metal, R represents a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and m represents a valence (3 or 4) of the metal M.

【0024】金属Mとしては、アルミニウム、チタン、
ジルコニウム、スズ等が適している。金属アルコキシド
の具体例としては、アルミニウムエトキサイド、アルミ
ニウムイソプロポキシド、アルミニウムブトキシド、ア
ルミニウムt−ブトキサイド、スズt−ブトキサイド、
チタンメトキサイド、チタンエトキサイド、チタンn−
プロポキサイド、チタンイソプロポキサイド、チタンn
−ブトキサイド、チタンイソブトキサイド、ジルコニウ
ムエトキサイド、ジルコニウムn−プロポキサイド、ジ
ルコニウムイソプロポキサイド、ジルコニウムn−ブト
キサイド等が挙げられる。
As the metal M, aluminum, titanium,
Zirconium, tin, etc. are suitable. Specific examples of the metal alkoxide include aluminum ethoxide, aluminum isopropoxide, aluminum butoxide, aluminum t-butoxide, tin t-butoxide,
Titanium methoxide, titanium ethoxide, titanium n-
Propoxide, titanium isopropoxide, titanium n
-Butoxide, titanium isobutoxide, zirconium ethoxide, zirconium n-propoxide, zirconium isopropoxide, zirconium n-butoxide and the like can be mentioned.

【0025】これらの金属アルコキシドは、水分と急速
に反応して、沈澱物を生成する特徴があり、非常に不安
定な物質である。これらをβ−ジケトンと反応させてキ
レート化合物にすることにより、安定なコーティング組
成物として使用できる。
These metal alkoxides are very unstable substances because they are characterized by rapidly reacting with water to form a precipitate. By reacting these with β-diketones to form chelate compounds, they can be used as stable coating compositions.

【0026】ここで、β−ジケトンの具体例として、ア
セト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸n−プ
ロピル、アセト酢酸i−プロピル、アセチルアセトン等
が挙げられるが、最も好ましくはアセト酢酸エチルが挙
げられる。β−ジケトンは金属アルコキシドに対して、
0.5〜2.0molのモル比で使用されるが、より好
ましくは0.8〜1.2molである。
Specific examples of the β-diketone include methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, n-propyl acetoacetate, i-propyl acetoacetate, acetylacetone, and the like, most preferably ethyl acetoacetate. . β-diketone is a metal alkoxide,
It is used in a molar ratio of 0.5 to 2.0 mol, more preferably 0.8 to 1.2 mol.

【0027】また、金属アルコキシドをキレート化した
化合物を加水分解して用いてもよい。加水分解を行うも
のとして、塩酸、硝酸、硫酸等の鉱酸または、酢酸、蓚
酸等の有機酸を水溶液として用いてもよい。
Further, a compound obtained by chelating a metal alkoxide may be used after being hydrolyzed. Mineral acids such as hydrochloric acid, nitric acid and sulfuric acid, or organic acids such as acetic acid and oxalic acid may be used as an aqueous solution for hydrolysis.

【0028】加水分解に際して、使用される酸性水溶液
は、金属アルコキシドのキレート化合物1molに対し
て0.5mol〜2.0molが好ましく、より好まし
いのは0.5mol〜1.0molである。この時、水
分量が多いとコーティング液の安定性が悪くなる。
In the hydrolysis, the acidic aqueous solution used is preferably 0.5 mol to 2.0 mol, and more preferably 0.5 mol to 1.0 mol, based on 1 mol of the metal alkoxide chelate compound. At this time, if the water content is large, the stability of the coating liquid becomes poor.

【0029】金属アルコキシドのキレート化合物のみで
形成される高屈折率層は、膜の強度が弱いために、それ
単独で光学薄膜として利用するにはやや困難な面があ
る。また、金属アルコキシドのキレート化合物だけでは
膜厚を厚くすることが難しく、その欠点を補い、尚且つ
その親水性により、帯電防止効果を付与するため、コロ
イド状金属酸化物を添加する。また、金属ハライドを添
加することでより高屈折率化を図ることができる。更
に、エポキシ系樹脂を添加することで厚膜化によるクラ
ックの防止、かつ、プラスチック基板との密着性を可能
とする。
The high-refractive index layer formed of only the chelate compound of metal alkoxide has a weak film strength, so that it is somewhat difficult to use it as an optical thin film by itself. Further, it is difficult to increase the film thickness only with the chelate compound of metal alkoxide, and in order to compensate for the drawback and to impart an antistatic effect due to its hydrophilic property, a colloidal metal oxide is added. Further, by adding a metal halide, a higher refractive index can be achieved. Furthermore, by adding an epoxy resin, it is possible to prevent cracks due to thickening of the film and to ensure adhesion with a plastic substrate.

【0030】本発明における高屈折率層用コーティング
組成物には、有機溶剤を溶媒として用いることができ
る。有機溶剤は、金属アルコキシドやコロイド状金属酸
化物との相溶性があるのでよく、特に制限されない。溶
剤として、アルコール類、ケトン類、エステル類、芳香
族炭化水素類等が挙げられる。具体例としては、メタノ
ール、イソプロパノール、メチルエチルケトン、酢酸イ
ソブチル、トルエン等が挙げられる。これらの溶剤を用
いて、全固形分濃度が全重量の1〜30重量%になる様
に、濃度調整をする。
An organic solvent can be used as a solvent in the coating composition for a high refractive index layer in the present invention. The organic solvent is not particularly limited as long as it is compatible with the metal alkoxide and colloidal metal oxide. Examples of the solvent include alcohols, ketones, esters, aromatic hydrocarbons and the like. Specific examples include methanol, isopropanol, methyl ethyl ketone, isobutyl acetate, toluene and the like. Using these solvents, the concentration is adjusted so that the total solid content concentration is 1 to 30% by weight based on the total weight.

【0031】コーティングの方法としては、薄膜形成の
容易なディッピング法が好適に使用できる。コートされ
た薄膜は、一般に70〜140℃程度の温度で熱処理す
ることが好ましい。
As a coating method, a dipping method which can easily form a thin film can be preferably used. Generally, the coated thin film is preferably heat-treated at a temperature of about 70 to 140 ° C.

【0032】屈折率n3 が1.36以下であるパーフル
ロ非晶質フッ素樹脂としては、主鎖に環構造を有するパ
ーフルオロ非晶質フッ素樹脂であれば何れでもよいが、
このパーフルオロ非晶質フッ素樹脂の適当な例として、
主鎖中に下記式(2)
The perfluoro amorphous fluororesin having a refractive index n 3 of 1.36 or less may be any perfluoro amorphous fluororesin having a ring structure in its main chain.
As a suitable example of this perfluoro amorphous fluororesin,
The following formula (2) in the main chain

【0033】[0033]

【化1】 R;パーフルオロアルキレン基 p;ゼロまたは1の数 q;ゼロまたは1の数 の反復単位、下記式(3)Embedded image R; perfluoroalkylene group p; number of zero or one q; repeating unit of number of zero or one, the following formula (3)

【0034】[0034]

【化2】 R;パーフルオロアルキレン基 の反復単位、及び/または下記式(4)Embedded image R: a repeating unit of a perfluoroalkylene group and / or the following formula (4)

【0035】[0035]

【化3】 R;パーフルオロアルキレン基 の反復単位の少なくとも1種を含有するパーフルオロフ
ッ素樹脂が挙げられる。
Embedded image R: A perfluorofluorine resin containing at least one repeating unit of a perfluoroalkylene group.

【0036】このパーフルオロフッ素樹脂は、反復単位
の全てが上記環状の反復単位から成っていても、或いは
反復単位の一部が上記環状の反復単位から反復単位の残
りの一部が線状のパーフルオロ単量体単位から成ってい
てもよい。
In this perfluorofluororesin, even if all of the repeating units are composed of the above cyclic repeating units, or a part of the repeating units is composed of the cyclic repeating units and the other part of the repeating units is linear. It may consist of perfluoromonomer units.

【0037】上記パーフルオロ非晶質フッ素樹脂は、そ
れ自体公知の方法で得ることができ、例えば両末端二重
結合のパーフルオロエーテル単量体の環化重合や、環状
パーフルオロ単量体のラジカル重合により得ることがで
きる。これらの重合に際して他のパーフルオロ単量体を
共存させることにより、共重合体を得ることができる。
The above-mentioned perfluoro amorphous fluororesin can be obtained by a method known per se, for example, cyclopolymerization of perfluoroether monomer having double bonds at both ends, or cyclic perfluoromonomer. It can be obtained by radical polymerization. A copolymer can be obtained by coexisting with another perfluoromonomer during these polymerizations.

【0038】両末端二重結合のパーフルオロエーテル単
量体としては、下記式(5) CF2 =CF−(−CF2 −)n −O−(−CF2 −)m −CF=CF2 ‥(5 ) (n=1〜5、m=1〜5、n+m=1〜6) で表されるパーフルオロエーテルを挙げることができ、
その例として、パーフルオロアリルビニルエーテル、パ
ーフルオロジアリルエーテル、パーフルオロブテニルビ
ニルエーテル、パーフルオロブテニルアリルビニルエー
テル、パーフルオロジブテニルエーテルなどが例示され
る。
The perfluoroether monomer having double bonds at both ends is represented by the following formula (5): CF 2 ═CF-(— CF 2 —) n —O — (— CF 2 —) m —CF═CF 2 (5) (n = 1 to 5, m = 1 to 5, n + m = 1 to 6)
Examples thereof include perfluoroallyl vinyl ether, perfluorodiallyl ether, perfluorobutenyl vinyl ether, perfluorobutenyl allyl vinyl ether, perfluorodibutenyl ether and the like.

【0039】両末端二重結合のパーフルオロエーテル単
量体の他のタイプとしては、下記式(6) CF2 =CFO−R−O−CF=CF2 ‥(6) R;パーフルオロアルキレン基 で表されるパーフルオロアルキレングリコールジビニル
エーテルを挙げることができ、その例として、パーフル
オロエチレングリコールジビニルエーテル、パーフルオ
ロテトラメチレングリコールジビニルエーテルなどが例
示される。
Another type of perfluoroether monomer having double bonds at both ends is represented by the following formula (6) CF 2 ═CFO—R—O—CF═CF 2 (6) R; perfluoroalkylene group The perfluoroalkylene glycol divinyl ether represented by can be mentioned, and examples thereof include perfluoroethylene glycol divinyl ether and perfluorotetramethylene glycol divinyl ether.

【0040】一方、環状パーフルオロ単量体としては、
例えば、下記式(7)
On the other hand, as the cyclic perfluoromonomer,
For example, the following formula (7)

【0041】[0041]

【化4】 R;パーフルオロアルキレン基 で表される単量体、特にパーフルオロ−2,2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソールを挙げることができる。
Embedded image R: a monomer represented by a perfluoroalkylene group, particularly perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole.

【0042】共重合に使用する他の単量体としては、テ
トラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パ
ーフルオロビニルプロピルエーテル、パーフルオロアリ
ルブチルエーテル、パーフルオロジビニルエチルエーテ
ル、パーフルオロビニルアリルエーテルなどが例示され
る。
Examples of other monomers used for the copolymerization include tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorovinylpropyl ether, perfluoroallyl butyl ether, perfluorodivinyl ethyl ether, perfluorovinyl allyl ether and the like. It

【0043】非晶質フッ素樹脂の適当な例は、これに制
限されないが、環状エーテルとパーフルオロ−2,2−
ジメチル−1,3−ジオキソールとの共重合体、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテルの共重合
体、パーフルオロビニルアリルエーテルとの環化共重合
体等である。
Suitable examples of amorphous fluororesins include, but are not limited to, cyclic ethers and perfluoro-2,2-.
Examples thereof include copolymers with dimethyl-1,3-dioxole, copolymers of tetrafluoroethylene and cyclic perfluoroether, and cyclized copolymers of perfluorovinylallyl ether.

【0044】具体的に入手可能なものとして、三井デュ
ポンフロロケミカル(株)製「テフロンAF」、旭硝子
(株)製「サイトップ」、住友スリーエム(株)製「フ
ロラードFC−722」、デュポン社の「テフロンAF
1600」等が挙げられる。
As concretely available ones, "Teflon AF" manufactured by Mitsui DuPont Fluorochemical Co., Ltd., "Cytop" manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., "Florard FC-722" manufactured by Sumitomo 3M Ltd., DuPont "Teflon AF
1600 "and the like.

【0045】溶剤としては、パーフロオロオクタン、パ
ーフルオロハイドロフラン等が揮発スピードのバランス
的に良好であり、上記樹脂を1〜5%濃度で溶解し、コ
ート液を作成することが出来る。
As the solvent, perfluorooctane, perfluorohydrofuran, etc. have a good balance in volatilization speed, and the above resin can be dissolved at a concentration of 1 to 5% to prepare a coating solution.

【0046】本発明で、オーバーコート層として使用さ
れ、耐磨耗性、耐擦傷性を付与する有機ポリシロキサン
系材料としては、シラノール基、アルコキシ基、アセチ
ル基、フェニル基、ポリエーテル基、パーフルオロアル
キル基等を側鎖に持つメチルポリシロキサン又はジメチ
ルポリシロキサンが挙げられる。
In the present invention, the organopolysiloxane material used as the overcoat layer and imparting abrasion resistance and scratch resistance includes silanol groups, alkoxy groups, acetyl groups, phenyl groups, polyether groups, and peroxy groups. Examples thereof include methylpolysiloxane or dimethylpolysiloxane having a fluoroalkyl group or the like in the side chain.

【0047】ポリシロキサン中のシラノール基、アルコ
キシ基(メトキシ基やエトキシ基等)、アセチル基等の
官能基は、ポリシロキサンに架橋反応性を付与するもの
であり、一方フェニル基はポリシロキサンに耐熱性や耐
久性等を付与するために有効であり、またポリエーテル
基は界面活性作用を付与するものであり、パーフルオロ
アルキル基は耐化学薬品性や耐水性を付与するものであ
る。用いるポリシロキサンは、好ましくは架橋反応性を
有するものがよい。
Functional groups such as silanol groups, alkoxy groups (methoxy groups, ethoxy groups, etc.), acetyl groups, etc. in polysiloxane impart crosslinkability to polysiloxane, while phenyl groups cause heat resistance to polysiloxane. It is effective for imparting properties and durability, the polyether group imparts a surface-active effect, and the perfluoroalkyl group imparts chemical resistance and water resistance. The polysiloxane used is preferably one having crosslinking reactivity.

【0048】具体的に、入手可能なものとして、有機シ
ロキサンとしては、東レ・ダウコーニング(株)製シリ
コーンオイルBY16−817(シラノール基)、SH
510(フェニル基)、SF8421(ポリエーテル
基)、FS1265(フルオロアルキル基)等が挙げら
れるが、本発明は勿論この例に限定されない。
Specifically, as the available organosiloxanes, silicone oil BY16-817 (silanol group) manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., SH
Examples thereof include 510 (phenyl group), SF8421 (polyether group), FS1265 (fluoroalkyl group), but the present invention is not limited to this example.

【0049】また、有機シロキサン系材料の表面張力や
界面張力を下げ、非晶質フッ素樹脂上に塗布させるため
の添加剤として、界面活性能力を有するフッ素系材料の
任意のものが使用されるが、好適なものとして、パーフ
ルオロ基と親水基を側鎖に持つフッ素化アルキルエステ
ルやパーフルオロ基と親油基とを側鎖に持つフッ素化脂
肪族高分子エステル等が挙げられる。
Further, as the additive for lowering the surface tension or interfacial tension of the organosiloxane material and coating it on the amorphous fluororesin, any one of the fluorocarbon materials having the surface active ability is used. Preferred examples include fluorinated alkyl esters having a perfluoro group and a hydrophilic group as side chains, and fluorinated aliphatic polymer esters having a perfluoro group and a lipophilic group as side chains.

【0050】具体的に入手可能なものとして、フッ素化
アルキルエステルとしては、住友スリーエム(株)製
「フロラードFC430」、「フロラードFC43
1」、フッ素化脂肪族高分子エステルとしては、住友ス
リーエム(株)製「フロラードFC740」が挙げられ
る。但し、本発明はこの材料のみに限定するものではな
い。
Fluorinated alkyl esters that can be specifically obtained include "Florard FC430" and "Florard FC43" manufactured by Sumitomo 3M Limited.
1 ", and examples of the fluorinated aliphatic polymer ester include" Florard FC740 "manufactured by Sumitomo 3M Limited. However, the present invention is not limited to this material.

【0051】界面活性能力を有するフッ素系材料の使用
料は、非晶質フッ素樹脂膜上に十分な濡れが確保される
ような量であれば良く、特に限定されないが、一般に有
機シロキサン系材料を基準として、0.5〜10.0重
量%、好ましくは1.0〜3.0重量%で用いればよ
い。
The amount of the fluorine-based material having surface active ability used is not particularly limited as long as it is sufficient to ensure sufficient wetting on the amorphous fluororesin film, but generally, an organic siloxane-based material is used. As a standard, 0.5 to 10.0% by weight, preferably 1.0 to 3.0% by weight may be used.

【0052】有機シロキサン系材料及び界面活性能力を
有するフッ素系材料は、有機溶媒に溶解して溶液の形で
コーティングに用いるのがよい。有機溶媒としては非晶
質フッ素樹脂を溶解、軟化しないようなものが好まし
く、アルコール系、エステル系、或いはこれらの混合系
などの易揮発性の溶剤が使用される。溶液中の固形分濃
度は、0.05〜3.0重量%程度であるのが望まし
い。
The organic siloxane-based material and the fluorine-based material having a surface active ability are preferably dissolved in an organic solvent and used for coating in the form of a solution. As the organic solvent, a solvent that does not dissolve or soften the amorphous fluororesin is preferable, and an easily volatile solvent such as an alcohol solvent, an ester solvent, or a mixture thereof is used. The solid content concentration in the solution is preferably about 0.05 to 3.0% by weight.

【0053】この場合、有機シロキサン系材料の硬化を
促進するために、ジブチルスズラウレート、スズオクト
エート等の触媒を触媒量で用いることもできる。
In this case, a catalyst such as dibutyltin laurate or tin octoate may be used in a catalytic amount in order to accelerate the curing of the organosiloxane material.

【0054】高屈折率を有する樹脂として、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、芳香族ポリエステ
ル系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリアリレート系樹
脂、フェノキシ系樹脂、エポキシ系樹脂及びそれらの塩
化物や臭素化物等があげられる。これらの樹脂のうち、
フェノキシ系樹脂やエポキシ系樹脂はプラスチック基板
への接着性に優れ、金属酸化物の分散用バインダーとし
ても好ましい。
As the resin having a high refractive index, a polystyrene resin, a polycarbonate resin, an aromatic polyester resin, a polysulfone resin, a polyarylate resin, a phenoxy resin, an epoxy resin and chlorides or bromides thereof, etc. Can be given. Of these resins,
A phenoxy resin or an epoxy resin is excellent in adhesiveness to a plastic substrate and is also preferable as a binder for dispersing a metal oxide.

【0055】エポキシ系樹脂とは、エピクロールヒドリ
ンと多価フェノール或いは多価アルコールとから誘導さ
れるエポキシ樹脂を基本とする樹脂類であり、これには
エポキシ樹脂そのものの他に、カルボキシル基末端、水
酸基末端、アミド基末端、イソシアネート基末端の重合
でこれを変成して成るエポキシエステル、エポキシビニ
ル、エポキシアミド、エポキシウレタン等の変性エポキ
シ樹脂も使用される。また、フェノキシ系樹脂とは、エ
ピクロールヒドリンと多価フェノール(ビスフェノー
ル)とから誘導される点では、エポキシ樹脂と共通して
いるが、はるかに高分子量であり、熱可塑性である点で
エポキシ樹脂と相違するものである。
Epoxy resins are resins based on epoxy resins derived from epichlorhydrin and polyhydric phenols or polyhydric alcohols, and include epoxy resin itself and carboxyl group terminal. A modified epoxy resin such as an epoxy ester, epoxy vinyl, epoxy amide, or epoxy urethane formed by modifying a hydroxyl group terminal, an amide group terminal, or an isocyanate group terminal is used. The phenoxy resin is similar to the epoxy resin in that it is derived from epichlorohydrin and polyhydric phenol (bisphenol), but it has a much higher molecular weight and is more thermoplastic. It is different from resin.

【0056】具体的に入手可能な塗料用エポキシ樹脂と
しては、大日本インキ工業(株)製「エピクロン85
0」、東レ・ダウコーニング(株)製、シリコーンレジ
ン「SR2410」、「SR2411」、「SR211
5」、鐘淵化学工業(株)製「カネカゼムラックYC3
315」、「YC3835」などがあげられる。もちろ
ん、本発明はこの例に限定されない。
Specific available epoxy resins for coating materials include "Epiclon 85" manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.
0 ", manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., silicone resin" SR2410 "," SR2411 "," SR211 "
5 "," Kaneka Zemlac YC3 "manufactured by Kaneka Fuchi Chemical Co., Ltd.
315 ”,“ YC3835 ”and the like. Of course, the invention is not limited to this example.

【0057】本発明において、高屈折率層の膜厚は50
〜400nm、非晶質フッ素樹脂の反射防止層の膜厚が
50〜200nm、有機ポリシロキサンを主成分とする
コート層の膜厚が200nm以下、好ましくは100n
m以下であることが好ましい。また、高屈折率層を複層
に設ける場合には、第1層目の高屈折層の膜厚が50〜
600nm、第2層目の高屈折層の膜厚が100〜40
0nmであることが好ましい。
In the present invention, the film thickness of the high refractive index layer is 50.
˜400 nm, the film thickness of the amorphous fluororesin antireflection layer is 50 to 200 nm, and the film thickness of the coating layer containing organic polysiloxane as a main component is 200 nm or less, preferably 100 n.
m or less. When the high refractive index layer is provided in multiple layers, the thickness of the first high refractive index layer is 50 to
600 nm, the thickness of the second high refraction layer is 100 to 40
It is preferably 0 nm.

【0058】また、各層の屈折率及び厚みを制御するこ
とにより、反射防止性能を最大限に向上させることがで
きる。プラスチック基板の屈折率をnS 、第一の高屈折
率層の屈折率をn3 、その厚みをd3 (単位はnm)、
第二の高屈折率層の屈折率をn2 、その厚みをd2 、反
射防止層の屈折率をn1 、その厚みをd1 としたとき、
次の層構成とすることが好ましい。
By controlling the refractive index and thickness of each layer, the antireflection performance can be maximized. The refractive index of the plastic substrate is n S , the refractive index of the first high refractive index layer is n 3 , and its thickness is d 3 (unit: nm),
When the refractive index of the second high refractive index layer is n 2 , its thickness is d 2 , the refractive index of the antireflection layer is n 1 , and its thickness is d 1 ,
The following layer structure is preferable.

【0059】図1の反射防止膜の場合、下記式(8)及
び(9) n3 ・nS 2 = n1 2 ‥(8) 及び n1 ・d1 =n3 ・d3 =λ/4 ‥(9) を実質的に満足するように、高屈折率層及び反射防止層
を設けるのがよい。
In the case of the antireflection film of FIG. 1, the following formulas (8) and (9) n 3 · n S 2 = n 1 2 (8) and n 1 · d 1 = n 3 · d 3 = λ / 4 It is preferable to provide the high refractive index layer and the antireflection layer so as to substantially satisfy (9).

【0060】次ぎに、図2の反射防止膜の場合、下記式
(10)及び(11) n1 ・n3 =n2 ・(n0 ・nS 1/2 ‥(10) 式中、n0 は空気の屈折率である、及び n1 ・d1 =n2 ・d2 =n3 ・d3 =λ/4 ‥(11) を実質的に満足するように、高屈折率層及び反射防止層
を設けるのがよい。
Next, in the case of the antireflection film of FIG. 2, the following formulas (10) and (11) n 1 · n 3 = n 2 · (n 0 · n s ) 1/2 (10) n 0 is the refractive index of air, and n 1 · d 1 = n 2 · d 2 = n 3 · d 3 = λ / 4 (11) It is preferable to provide an antireflection layer.

【0061】また、図2の反射防止膜の場合、下記式
(12)及び(13) n3 2・nS = n0 ・n1 2 ・・(12) 及び n1 ・d1 =n2 ・d2 /2=n3 ・d3 =λ/4 ・・(13) を実質的に満足するように、高屈折率層及び反射防止層
を設けることもできる。
In the case of the antireflection film shown in FIG. 2, the following equations (12) and (13) n 3 2 · n S = n 0 · n 1 2 ··· (12) and n 1 · d 1 = n 2 · d 2/2 = n 3 · d 3 = λ / 4 ·· (13) so as to substantially satisfy, can be provided a high refractive index layer and an antireflection layer.

【0062】また、図2の反射防止膜の場合、下記式
(14)及び(15) n3 2・nS = n0 ・n1 2 ‥(14) 及び n1 ・d1/3 =n2 ・d2 /2=n3 ・d3 =λ/4 ‥(15) を実質的に満足するように、高屈折率層及び反射防止層
を設けることもできる。
[0062] When the antireflection film of Figure 2, the following equation (14) and (15) n 3 2 · n S = n 0 · n 1 2 ‥ (14) and n 1 · d 1/3 = N 2 · d 2/2 = n 3 · d 3 = λ / 4 ‥ (15) so as to substantially satisfy, can be provided a high refractive index layer and an antireflection layer.

【0063】[0063]

【実施例】本発明を次の例で説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described with reference to the following examples.

【0064】非晶質フッ素樹脂コート液(コート液1)
の調製 テフロンAF−1600(三井デュポンフロロケミカル
(株)製)を濃度2%となるよう、沸点102℃のパー
フルオロオクタン、パーフルオロハイドロフランの混合
溶剤であるフロリナートFC−75(住友スリーエム
(株)製)に溶解しコート液を作成した(コート液
1)。
Amorphous fluororesin coating liquid (coating liquid 1)
Preparation of Teflon AF-1600 (manufactured by Mitsui DuPont Fluorochemicals Co., Ltd.) at a concentration of 2%, which is a mixed solvent of perfluorooctane and perfluorohydrofuran with a boiling point of 102 ° C., Fluorinert FC-75 (Sumitomo 3M Limited). )) To prepare a coating liquid (coating liquid 1).

【0065】第1層目の高屈折率層用コート液(コート
液2)の調製 アルミゾル10(川研ファインケミカル(株)製)が
1.8重量%、チタンテトラブトキシドモノマー(和光
純薬工業(株)製)が4.2重量%、アセト酢酸エチル
が3重量%、エチルセロソルブが10重量%になるよう
に、メタノールを用いて調製する(コート液2)。
Preparation of coating liquid for high refractive index layer (coating liquid 2) of the first layer 1.8 wt% of aluminum sol 10 (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), titanium tetrabutoxide monomer (Wako Pure Chemical Industries ( (Manufactured by Co., Ltd.) is 4.2% by weight, ethyl acetoacetate is 3% by weight, and ethyl cellosolve is 10% by weight, and is prepared using methanol (coating solution 2).

【0066】第2層目の高屈折率層用コート液(コート
液3)の調製 アルミゾル10(川研ファインケミカル(株)製)が
0.7重量%、チタンテトラブトキシドモノマー(和光
純薬工業(株)製)が6.3重量%、アセト酢酸エチル
が3重量%、エチルセロソルブが10重量%になるよう
に、メタノールを用いて調製する(コート液3)。
Preparation of coating liquid for high refractive index layer (coating liquid 3) of the second layer 0.7% by weight of aluminum sol 10 (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), titanium tetrabutoxide monomer (Wako Pure Chemical Industries ( (Manufactured by K.K.) of 6.3% by weight, ethyl acetoacetate of 3% by weight, and ethyl cellosolve of 10% by weight are prepared using methanol (coating solution 3).

【0067】第1層目の高屈折率層用コート液(コート
液4)の調製 チタンテトラブトキシドモノマー(和光純薬工業(株)
製)が6.0重量%、エピクロン850(大日本インキ
化学工業(株)製)が2.0重量%、アセト酢酸エチル
が2.5重量%、エピクロンB−570(大日本インキ
化学工業(株)製)が0.2重量%になるように酢酸イ
ソブチルを用いて調製する(コート液4)。
Preparation of coating liquid for high refractive index layer (coating liquid 4) of the first layer Titanium tetrabutoxide monomer (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
(Manufactured by Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.), 6.0% by weight, Epicron 850 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 2.0% by weight, ethyl acetoacetate 2.5% by weight, Epicron B-570 (Dainippon Ink and Chemicals ( Co., Ltd.) to prepare 0.2% by weight of isobutyl acetate (coating solution 4).

【0068】第2層目の高屈折率層用コート液(コート
液5)の調製 三塩化アンチモン(III )を1.5重量%になるように
エタノールに溶解させ、0.05規定塩酸を用いて、加
水分解させ、アンチモンゾルを作成する(調製液1)。
チタンテトラブトキシドモノマー(和光純薬工業(株)
製)が3.0重量%、アセト酢酸エチルが3.0重量%
になるようにイソプロピルアルコールを用いて調製する
(調製液2)。調製液1と調製液2を等重量づつ混合す
る(コート液5)。
Preparation of Coating Solution for High Refractive Index Layer (Coating Solution 5) of Second Layer Antimony trichloride (III) was dissolved in ethanol to a concentration of 1.5% by weight, and 0.05N hydrochloric acid was used. And hydrolyze to prepare antimony sol (Preparation liquid 1).
Titanium tetrabutoxide monomer (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
3.0% by weight, ethyl acetoacetate 3.0% by weight
Is prepared using isopropyl alcohol (Preparation liquid 2). Preparation liquid 1 and preparation liquid 2 are mixed in equal weights (coating liquid 5).

【0069】オーバーコート液(コート液6)の調製 両端末にシラノール基を有するジメチルシリコーンオイ
ル「BY16−817」(東レ・ダウンコーニング
(株)製)が0.2重量%になるよう、イソプロピルア
ルコールと酢酸イソブチルの重量比が2対3からなる混
合溶媒を用いて希釈し、ポリシロキサンの3重量%のフ
ッ素化アルキルエステル「フロラードFC430」(住
友スリーエム(株)製)を添加する(コート液6)。
Preparation of Overcoat Liquid (Coating Liquid 6) Isopropyl alcohol was added so that dimethyl silicone oil "BY16-817" (manufactured by Toray Down Corning Co., Ltd.) having silanol groups at both ends was 0.2% by weight. And dibutyl acetate are diluted with a mixed solvent having a weight ratio of 2: 3, and 3% by weight of polysiloxane of fluorinated alkyl ester "Florard FC430" (manufactured by Sumitomo 3M Limited) is added (Coating liquid 6 ).

【0070】実施例1 あらかじめシランカップリング剤にてプライマー処理を
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液2を引き上げ速度200mm/mi
nで製膜した。次に、コート液1を引き上げ速度200
mm/minで反射防止膜を製膜した。更に、コート液
6を100mm/minでオーバーコートした。この基
板を100℃、1時間の熱処理を行ない、反射防止性能
を有する基板を得た。表面反射率は0.1%T(測定波
長550nm)であり、鉛筆硬度は3Hで爪で強く擦っ
ても全く傷は付かなかった。また、この表面固有抵抗値
は2×1011Ω・cmであり、帯電防止効果を有してい
た。各層の屈折率及び厚みは前記式(8)及び(9)を
実質上満足するものであった。
Example 1 A coating solution 2 was pulled up at a speed of 200 mm / mi onto a polymethylmethacrylate cast substrate having a thickness of 2 mm which had been subjected to a primer treatment with a silane coupling agent in advance.
The film was formed by n. Next, the coating liquid 1 is pulled up at a speed of 200
An antireflection film was formed at mm / min. Further, the coating liquid 6 was overcoated at 100 mm / min. This substrate was heat-treated at 100 ° C. for 1 hour to obtain a substrate having antireflection performance. The surface reflectance was 0.1% T (measurement wavelength: 550 nm), the pencil hardness was 3H, and no scratches were formed even when strongly rubbed with a nail. Further, the surface specific resistance value was 2 × 10 11 Ω · cm, and it had an antistatic effect. The refractive index and the thickness of each layer substantially satisfied the expressions (8) and (9).

【0071】実施例2 あらかじめシランカップリング剤にてプライマー処理を
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液2を引き上げ速度200mm/mi
nで製膜した。次に、コート液3を引き上げ速度120
mm/minで製膜した。次に、コート液1を引き上げ
速度200mm/minで反射防止膜を製膜した。更
に、実施例1と同様にコート液6を100mm/min
でオーバーコートした。この基板を100℃、1時間の
熱処理を行ない、反射防止機能を有する基板を得た。表
面反射率は0.1%T(550nm)であり、400〜
700nmでの平均表面反射率は1.0%Tであり、全
可視領域で優れた反射防止性能を示した。鉛筆硬度は3
Hで、爪で強く擦っても全く傷は付かなかった。また、
この表面固有抵抗値は5×1011Ωであり、帯電防止効
果を有していた。各層の屈折率及び厚みは前記式(1
0)及び(11)を実質上満足するものであった。
Example 2 A coating liquid 2 was pulled up to a polymethylmethacrylate cast substrate having a thickness of 2 mm, which had been preliminarily treated with a silane coupling agent, at a speed of 200 mm / mi.
The film was formed by n. Next, the coating liquid 3 is pulled up at a speed of 120
The film was formed at mm / min. Next, the coating liquid 1 was pulled up to form an antireflection film at a speed of 200 mm / min. Further, as in Example 1, the coating liquid 6 was applied at 100 mm / min.
I overcoated it. This substrate was heat-treated at 100 ° C. for 1 hour to obtain a substrate having an antireflection function. The surface reflectance is 0.1% T (550 nm) and is 400 to
The average surface reflectance at 700 nm was 1.0% T, which showed excellent antireflection performance in the entire visible region. Pencil hardness is 3
With H, even if it was rubbed strongly with a nail, no scratch was given. Also,
This surface specific resistance value was 5 × 10 11 Ω and had an antistatic effect. The refractive index and the thickness of each layer are calculated by the formula (1
0) and (11) were substantially satisfied.

【0072】実施例3 あらかじめシランカップリング剤にてプライマー処理を
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液2を引き上げ速度200mm/mi
nで製膜した。次に、コート液3を引き上げ速度200
mm/minで2回コートした。次に、コート液1を引
き上げ速度200mm/minで反射防止膜を製膜し
た。更に、実施例1と同様にコート液6を100mm/
minでオーバーコートした。この基板を100℃、1
時間の熱処理を行ない、反射防止性能を有する基板を得
た。表面反射率は0.2%T(測定波長500nm)で
あり、400〜700nmでの平均表面反射率は0.7
%Tであり、全可視領域で優れた反射防止性能を示し
た。鉛筆硬度は3Hで、爪で強く擦っても全く傷はつか
なかった。また、この表面固有抵抗値は5×1010Ωで
あり、帯電防止効果を有していた。各層の屈折率及び厚
みは前記式(12)及び(13)を実質上満足するもの
であった。
Example 3 A coating liquid 2 was pulled up at a speed of 200 mm / mi onto a polymethylmethacrylate cast substrate having a thickness of 2 mm, which had been subjected to a primer treatment with a silane coupling agent in advance.
The film was formed by n. Next, the coating liquid 3 is pulled up at a speed of 200
It was coated twice at mm / min. Next, the coating liquid 1 was pulled up to form an antireflection film at a speed of 200 mm / min. Further, as in Example 1, the coating liquid 6 was applied at 100 mm /
Overcoated with min. This substrate is 100 ℃, 1
After heat treatment for a time, a substrate having antireflection performance was obtained. The surface reflectance is 0.2% T (measurement wavelength 500 nm), and the average surface reflectance at 400 to 700 nm is 0.7.
% T, which showed excellent antireflection performance in the entire visible region. The pencil hardness was 3H, and even if it was strongly rubbed with a nail, no scratch was given. The surface resistivity was 5 × 10 10 Ω, which had an antistatic effect. The refractive index and the thickness of each layer substantially satisfy the expressions (12) and (13).

【0073】実施例4 あらかじめシランカップリング剤にてプライマー処理を
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液2を引き上げ速度200mm/mi
nで3回コートした。次に、コート液3を引き上げ速度
200mm/minで2回コートした。次に、コート液
1を引き上げ速度200mm/minで反射防止膜を製
膜した。更に、実施例1と同様に、コート液6を100
mm/minでオーバーコートした。この基板を100
℃、1時間の熱処理を行ない、反射防止性能を有する基
板を得た。表面反射率は0.2%T(測定波長550n
m)であり、400〜700nmでの平均表面反射率は
0.7%Tであり、全可視領域で優れた反射防止性能を
示した。鉛筆硬度は3Hで、爪で強く擦っても全く傷は
付かなかった。また、この表面固有抵抗値は5×1010
Ω・cmであり、優れた帯電防止効果を有していた。各
層の屈折率及び厚みは前記式(14)及び(15)を実
質上満足するものであった。
Example 4 A coating liquid 2 was pulled up at a speed of 200 mm / mi onto a polymethylmethacrylate cast substrate having a thickness of 2 mm, which had been subjected to a primer treatment with a silane coupling agent in advance.
n coating 3 times. Next, the coating liquid 3 was coated twice at a pulling rate of 200 mm / min. Next, the coating liquid 1 was pulled up to form an antireflection film at a speed of 200 mm / min. Further, as in Example 1, 100 parts of the coating liquid 6 was added.
Overcoating was performed at mm / min. 100 this board
Heat treatment was performed at 1 ° C. for 1 hour to obtain a substrate having antireflection performance. Surface reflectance is 0.2% T (measurement wavelength 550n
m), and the average surface reflectance at 400 to 700 nm was 0.7% T, which showed excellent antireflection performance in the entire visible region. The pencil hardness was 3H, and even if it was strongly rubbed with a nail, no scratch was given. The surface resistivity is 5 × 10 10.
It was Ω · cm and had an excellent antistatic effect. The refractive index and the thickness of each layer substantially satisfy the expressions (14) and (15).

【0074】実施例5 あらかじめシランカップリング剤にてプライマー処理を
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液4を引き上げ速度200mm/mi
nで製膜した。次に、コート液1を引き上げ速度200
mm/minで反射防止膜を製膜した。更に、コート液
6を100mm/minでオーバーコートした。この基
板を100℃、1時間の熱処理を行い、反射防止性能を
有する基板を得た。表面反射率は0.1%T(測定波長
550nm)であり、鉛筆硬度は4Hで、爪で強く擦っ
ても全く傷は付かなかった。また、この表面固有抵抗値
は5×10 12Ω・cmであり、やや帯電防止効果を有し
ていた。各層の屈折率及び厚みは前記式(8)及び
(9)を実質上満足するものであった。
Example 5 Primer treatment with a silane coupling agent in advance
2mm thick polymethylmethacrylate cast
The coating liquid 4 is pulled up to the substrate and the speed is 200 mm / mi.
The film was formed by n. Next, the coating liquid 1 is pulled up at a speed of 200
An antireflection film was formed at mm / min. Furthermore, coating liquid
6 was overcoated at 100 mm / min. This group
The plate is heat-treated at 100 ° C for 1 hour for anti-reflection performance.
A substrate having is obtained. Surface reflectance is 0.1% T (measurement wavelength
550 nm), the pencil hardness is 4H, and it is rubbed strongly with a nail.
But it didn't hurt at all. Also, this surface resistivity
Is 5 × 10 12Ω · cm, has a slight antistatic effect
I was The refractive index and the thickness of each layer are expressed by the formula (8) and
(9) was substantially satisfied.

【0075】実施例6 あらかじめシランカップリング剤にてプライマー処理を
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液4を引き上げ速度200mm/mi
nで製膜した。次に、コート液5を引き上げ速度120
mm/minで製膜した。次に、コート液1を引き上げ
速度200mm/minで反射防止膜を製膜した。更
に、実施例1と同様にコート液6を100mm/min
でオーバーコートした。この基板を100℃、1時間の
熱処理を行ない、反射防止機能を有する基板を得た。表
面反射率は0.1%T(測定波長550nm)であり、
400〜700nmでの平均表面反射率は1.0%Tで
あり、全可視領域で優れた反射防止性能を示した。鉛筆
硬度は3Hで、爪で強く擦っても全く傷は付かなかっ
た。また、この表面固有抵抗値は5×1011Ωであり、
帯電防止効果を有していた。各層の屈折率及び厚みは前
記式(10)及び(11)を実質上満足するものであっ
た。
Example 6 The coating liquid 4 was pulled up to a polymethylmethacrylate cast substrate having a thickness of 2 mm, which had been preliminarily treated with a silane coupling agent, at a speed of 200 mm / mi.
The film was formed by n. Next, the coating liquid 5 is pulled up at a speed of 120
The film was formed at mm / min. Next, the coating liquid 1 was pulled up to form an antireflection film at a speed of 200 mm / min. Further, as in Example 1, the coating liquid 6 was applied at 100 mm / min.
I overcoated it. This substrate was heat-treated at 100 ° C. for 1 hour to obtain a substrate having an antireflection function. The surface reflectance is 0.1% T (measurement wavelength 550 nm),
The average surface reflectance at 400 to 700 nm was 1.0% T, which showed excellent antireflection performance in the entire visible region. The pencil hardness was 3H, and even if it was strongly rubbed with a nail, no scratch was given. The surface resistivity is 5 × 10 11 Ω,
It had an antistatic effect. The refractive index and the thickness of each layer substantially satisfy the expressions (10) and (11).

【0076】実施例7 あらかじめシランカップリング剤にてプライマー処理を
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液4を引き上げ速度200mm/mi
nで製膜した。次に、コート液5を引き上げ速度200
mm/minで2回コートした。次に、コート液1を引
き上げ速度200mm/minで反射防止膜を製膜し
た。更に、実施例1と同様にコート液6を100mm/
minでオーバーコートした。この基板を100℃、1
時間の熱処理を行ない、反射防止性能を有する基板を得
た。表面反射率は0.2%T(測定波長500nm)で
あり、400〜700nmでの平均表面反射率は0.7
%Tであり、全可視領域で優れた反射防止性能を示し
た。鉛筆硬度は3Hで、爪で強く擦っても全く傷はつか
なかった。また、この表面固有抵抗値は5×1011Ωで
あり、帯電防止効果を有していた。各層の屈折率及び厚
みは前記式(12)及び(13)を実質上満足するもの
であった。
Example 7 A coating solution 4 was pulled up at a speed of 200 mm / mi onto a polymethylmethacrylate cast substrate having a thickness of 2 mm, which had been subjected to a primer treatment with a silane coupling agent in advance.
The film was formed by n. Next, the coating liquid 5 is pulled up at a speed of 200
It was coated twice at mm / min. Next, the coating liquid 1 was pulled up to form an antireflection film at a speed of 200 mm / min. Further, as in Example 1, the coating liquid 6 was applied at 100 mm /
Overcoated with min. This substrate is 100 ℃, 1
After heat treatment for a time, a substrate having antireflection performance was obtained. The surface reflectance is 0.2% T (measurement wavelength 500 nm), and the average surface reflectance at 400 to 700 nm is 0.7.
% T, which showed excellent antireflection performance in the entire visible region. The pencil hardness was 3H, and even if it was strongly rubbed with a nail, no scratch was given. The surface resistivity was 5 × 10 11 Ω, which had an antistatic effect. The refractive index and the thickness of each layer substantially satisfy the expressions (12) and (13).

【0077】実施例8 あらかじめシランカップリング剤にてプライマー処理を
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液4を引き上げ速度200mm/mi
nで3回コートした。次に、コート液5を引き上げ速度
200mm/minで2回コートした。次に、コート液
1を引き上げ速度200mm/minで反射防止膜を製
膜した。更に、実施例1と同様に、コート液6を100
mm/minでオーバーコートした。この基板を100
℃、1時間の熱処理を行ない、反射防止性能を有する基
板を得た。表面反射率は0.2%T(測定波長550n
m)であり、400〜700nmでの平均表面反射率は
0.7%Tであり、全可視領域で優れた反射防止性能を
示した。鉛筆硬度は3Hで、爪で強く擦っても全く傷は
付かなかった。また、この表面固有抵抗値は5×1010
Ω・cmであり、優れた帯電防止効果を有していた。各
層の屈折率及び厚みは前記式(14)及び(15)を実
質上満足するものであった。
Example 8 A coating solution 4 was pulled up at a speed of 200 mm / mi onto a polymethylmethacrylate cast substrate having a thickness of 2 mm, which had been subjected to a primer treatment with a silane coupling agent in advance.
n coating 3 times. Next, the coating liquid 5 was coated twice at a pulling rate of 200 mm / min. Next, the coating liquid 1 was pulled up to form an antireflection film at a speed of 200 mm / min. Further, as in Example 1, 100 parts of the coating liquid 6 was added.
Overcoating was performed at mm / min. 100 this board
Heat treatment was performed at 1 ° C. for 1 hour to obtain a substrate having antireflection performance. Surface reflectance is 0.2% T (measurement wavelength 550n
m), and the average surface reflectance at 400 to 700 nm was 0.7% T, which showed excellent antireflection performance in the entire visible region. The pencil hardness was 3H, and even if it was strongly rubbed with a nail, no scratch was given. The surface resistivity is 5 × 10 10.
It was Ω · cm and had an excellent antistatic effect. The refractive index and the thickness of each layer substantially satisfy the expressions (14) and (15).

【0078】比較例1 あらかじめシランカップリング剤にてプライマー処理を
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液1を引き上げ速度200mm/mi
nで単層反射防止膜を製膜した。次に、コート液6を1
00mm/minでオーバーコートした。この基板を1
00℃、1時間の熱処理を行い、反射防止性能を有する
基板を得た。表面反射率は1.2%T(550nm)で
あり、鉛筆硬度は4Hで爪で強く擦っても全く傷は付か
なかった。この表面固有抵抗値は1015Ω・cm以上で
あり、全く帯電防止効果はなかった。
Comparative Example 1 A coating solution 1 was pulled up to a polymethylmethacrylate cast substrate having a thickness of 2 mm, which had been subjected to a primer treatment with a silane coupling agent in advance, at a speed of 200 mm / mi.
A single-layer antireflection film was formed by n. Next, coat liquid 6
Overcoating was performed at 00 mm / min. This board is
Heat treatment was performed at 00 ° C. for 1 hour to obtain a substrate having antireflection performance. The surface reflectance was 1.2% T (550 nm), the pencil hardness was 4H, and no scratch was given even when strongly rubbed with a nail. The surface resistivity was 10 15 Ω · cm or more, and there was no antistatic effect.

【0079】[0079]

【発明の効果】本発明によれば、非晶質フッ素樹脂を用
いた反射防止膜のアンダー層に、コロイド状金属酸化物
を用いた高屈折率層を1〜2層もうけることにより、全
可視領域(400〜700nm)で一定して優れた反射
防止性能を有し、かつ優れた帯電防止性能を有する反射
防止膜を提供することができる。更に、反射防止性能を
全く影響を与えない厚さのオーバーコート層を設けるこ
とで、膜強度の弱さ、即ち耐磨耗性、耐擦傷性を大幅に
改善し、無機蒸着反射防止膜に引けを取らないCRTデ
ィスプレー全面パネル等の使用に十分耐えうる反射防止
膜を提供することができる。
According to the present invention, one or two high refractive index layers containing a colloidal metal oxide are provided as an under layer of an antireflection film using an amorphous fluororesin, so that all visible light can be obtained. It is possible to provide an antireflection film having a constant and excellent antireflection performance in a region (400 to 700 nm) and an excellent antistatic performance. Furthermore, by providing an overcoat layer with a thickness that does not affect the antireflection performance at all, the weakness of the film strength, that is, abrasion resistance and scratch resistance, is greatly improved, and it is comparable to the inorganic vapor-deposited antireflection film. It is possible to provide an antireflection film that can sufficiently withstand use of a full-scale CRT display panel and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の反射防止膜の一例を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an antireflection film of the present invention.

【図2】本発明の反射防止膜の他の例を示す断面図であ
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the antireflection film of the present invention.

【記号の説明】[Explanation of symbols]

1 透光性プラスチック基板 2、2a,2b 高屈折率層 3 反射防止層 4 コート層 1 translucent plastic substrate 2, 2a, 2b high refractive index layer 3 antireflection layer 4 coating layer

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B32B 27/30 B32B 27/30 D C08J 7/04 CEW C08J 7/04 CEWK Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI Technical display location B32B 27/30 B32B 27/30 D C08J 7/04 CEW C08J 7/04 CEWK

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透光性を有するプラスチック基板、該基
板上にコートされた金属アルコキシドとコロイド状金属
酸化物及び/または金属ハライドとを主成分とする帯電
防止性能を有する高屈折率層、及び高屈折率層上にコー
トされた屈折率(nd)1.36以下の非晶質フッ素樹
脂の反射防止層、及び該反射防止膜上にコートされた有
機ポリシロキサンを主成分とし且つ界面活性能力を有す
るフッ素系材料を含有するコート層から成ることを特徴
とする耐磨耗性、耐擦傷性、密着性及び透光性に優れた
反射防止膜。
1. A light-transmissive plastic substrate, a high-refractive-index layer containing a metal alkoxide and a colloidal metal oxide and / or a metal halide coated on the substrate as main components and having antistatic properties, and An antireflection layer made of an amorphous fluororesin having a refractive index (nd) of 1.36 or less coated on the high refractive index layer, and an organic polysiloxane coated on the antireflection film as a main component and having a surface active ability. An antireflection film excellent in abrasion resistance, scratch resistance, adhesion and light transmission, characterized by comprising a coating layer containing a fluorine-based material having
【請求項2】 非晶質フッ素樹脂が環状エーテルとパー
フルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソールと
の共重合体またはテトラフルオロエチレンと環状パーフ
ルオロエーテルの共重合体もしくはパーフルオロビニル
アリルエーテルとの環化共重合体である請求項1記載の
反射防止膜。
2. The amorphous fluororesin is a copolymer of cyclic ether and perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole or a copolymer of tetrafluoroethylene and cyclic perfluoroether or perfluorovinyl. The antireflection film according to claim 1, which is a cyclized copolymer with an allyl ether.
【請求項3】 高屈折率層が、シランアルコキシド、ア
ルミニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、ジルコ
ニウムアルコキシドなどの高屈折率を有する金属アルコ
キシドと、シリカゾル、アルミナゾル、チタニアゾル、
ジルコニアゾルなどのコロイド状金属酸化物及び/また
は金属塩化物、金属臭化物等の金属ハライドとの組み合
わせにより屈折率(nd)を1.5〜2.0の間で自由
に調節することのできる高屈折率層である請求項1また
は2記載の反射防止膜。
3. The high refractive index layer comprises a metal alkoxide having a high refractive index such as silane alkoxide, aluminum alkoxide, titanium alkoxide, zirconium alkoxide, silica sol, alumina sol, titania sol,
The refractive index (nd) can be freely adjusted within the range of 1.5 to 2.0 by combining with a colloidal metal oxide such as zirconia sol and / or a metal halide such as metal chloride or metal bromide. The antireflection film according to claim 1, which is a refractive index layer.
【請求項4】 高屈折率層が、高屈折率を有し且つプラ
スチック基板と密着性の良いエポキシ系樹脂を含有する
請求項1乃至3の何れかに記載の反射防止膜。
4. The antireflection film according to claim 1, wherein the high refractive index layer contains an epoxy resin having a high refractive index and having good adhesion to the plastic substrate.
【請求項5】 コート層の界面活性能力を有するフッ素
系材料が、パーフルオロ基と親水基を側鎖に持つフッ素
化アルキルエステルまたはパーフルオロ基と親油基とを
側鎖に持つフッ素化脂肪族高分子エステルであり、且つ
コート層が200nm以下、好ましくは100nm以下
の膜厚を有する請求項1乃至4の何れかに記載の反射防
止膜。
5. A fluorine-based material having a surface-active ability of a coating layer is a fluorinated alkyl ester having a perfluoro group and a hydrophilic group in a side chain or a fluorinated fat having a perfluoro group and a lipophilic group in a side chain. The antireflection film according to any one of claims 1 to 4, which is a group polymer ester and has a coating layer having a thickness of 200 nm or less, preferably 100 nm or less.
【請求項6】 コート層の有機ポリシロキサンが、シラ
ノール基、アルコキシ基、アセチル基、フェニル基、ポ
リエーテル基、パーフルオロアルキル基等を側鎖に持つ
メチルポリシロキサン又は、ジメチルポリシロキサンで
ある請求項1乃至5の何れかに記載の反射防止膜。
6. The organic polysiloxane of the coating layer is methylpolysiloxane or dimethylpolysiloxane having a side chain of a silanol group, an alkoxy group, an acetyl group, a phenyl group, a polyether group, a perfluoroalkyl group and the like. Item 6. The antireflection film according to any one of items 1 to 5.
【請求項7】 プラスチック基板の屈折率をnS 、高屈
折率層の屈折率をn 1 、その厚みをd1 (単位はn
m)、反射防止層の屈折率をn3 、その厚みをd 3 とし
たとき、下記式(8)及び(9) n3 ・nS 2 = n1 2 ‥(8) 及び n1 ・d1 =n3 ・d3 =λ/4 ‥(9) に設計した3層反射防止膜。
7. The refractive index of a plastic substrate is nS, High yield
The refractive index of the folding layer is n 1, Its thickness d1(Unit is n
m), the refractive index of the antireflection layer is nThree, Its thickness d Threeage
Then, the following equations (8) and (9) nThree・ NS Two = N1 Two (8) and n1・ D1= NThree・ DThree= Λ / 4 A three-layer antireflection film designed to (9).
【請求項8】 高屈折率層を2層設け、プラスチック基
板の屈折率nS 、第一の高屈折率層の屈折率をn1 、そ
の厚みをd1 (単位はnm)、第二の高屈折率層の屈折
率をn2 、その厚みをd2 、反射防止層の屈折率を
3 、その厚みをd3 、空気の屈折率をn0 としたと
き、下記式(10)及び(11) n1 ・n3 =n2 ・(n0 ・nS 1/2 ‥(10) 及び n1 ・d1 =n2 ・d2 =n3 ・d3 =λ/4 ‥(11) が実質的に満足されるように、高屈折率層及び反射防止
層を設けた請求項1乃至6の何れかに記載の反射防止
膜。
8. A high refractive index layer is provided in two layers, the refractive index n S of the plastic substrate, the refractive index of the first high refractive index layer is n 1 , its thickness is d 1 (unit is nm), When the refractive index of the high refractive index layer is n 2 , its thickness is d 2 , the refractive index of the antireflection layer is n 3 , its thickness is d 3 , and the refractive index of air is n 0 , the following formula (10) and (11) n 1 · n 3 = n 2 · (n 0 · n S ) 1/2 ··· (10) and n 1 · d 1 = n 2 · d 2 = n 3 · d 3 = λ / 4 (( The antireflection film according to any one of claims 1 to 6, wherein a high refractive index layer and an antireflection layer are provided so that (11) is substantially satisfied.
【請求項9】 高屈折率層を2層設け、プラスチック基
板の屈折率nS 、第一の高屈折率層の屈折率をn1 、そ
の厚みをd1 (単位はnm)、第二の高屈折率層の屈折
率をn2 、その厚みをd2 、反射防止層の屈折率を
3 、その厚みをd3 、空気の屈折率をn0 としたと
き、下記式(12)及び(13) n3 2・nS = n0 ・n1 2 ‥(12) 及び n1 ・d1 =n2 ・d2 /2=n3 ・d3 =λ/4 ‥(13) が実質的に満足されるように、第一及び第二の高屈折率
層及び反射防止層を設けた請求項1乃至6の何れかに記
載の反射防止膜。
9. A high refractive index layer is provided in two layers, the refractive index n S of the plastic substrate, the refractive index of the first high refractive index layer is n 1 , its thickness is d 1 (unit is nm), When the refractive index of the high refractive index layer is n 2 , its thickness is d 2 , the refractive index of the antireflection layer is n 3 , its thickness is d 3 , and the refractive index of air is n 0 , the following formula (12) and (13) n 3 2 · n S = n 0 · n 1 2 ‥ (12) and n 1 · d 1 = n 2 · d 2/2 = n 3 · d 3 = λ / 4 ‥ (13) is substantially The antireflection film according to any one of claims 1 to 6, wherein the first and second high refractive index layers and the antireflection layer are provided so as to be satisfied.
【請求項10】 高屈折率層を2層設け、プラスチック
基板の屈折率nS 、第一の高屈折率層の屈折率をn1
その厚みをd1 (単位はnm)、第二の高屈折率層の屈
折率をn2 、その厚みをd2 、反射防止層の屈折率をn
3 、その厚みをd3 、空気の屈折率をn0 としたとき、
下記式(14)及び(15) n3 2・nS = n0 ・n1 2 ‥(14) 及び n1 ・d1/3 =n2 ・d2 /2=n3 ・d3 =λ/4 ‥(15) が実質的に満足されるように、第一及び第二の高屈折率
層及び反射防止層を設けた請求項1乃至6の何れかに記
載の反射防止膜。
10. provided two layers of high refractive index layer, the refractive index of the plastic substrate n S, the refractive index of the first high refractive index layer n 1,
Its thickness is d 1 (unit is nm), the refractive index of the second high refractive index layer is n 2 , its thickness is d 2 , and the refractive index of the antireflection layer is n.
3 , its thickness is d 3 , and the refractive index of air is n 0 ,
Formula (14) and (15) n 3 2 · n S = n 0 · n 1 2 ‥ (14) and n 1 · d 1/3 = As n 2 · d 2/2 = n 3 · d 3 = λ / 4 ‥ (15) is substantially satisfied, wherein providing the first and second high refractive index layer and antireflective layer Item 7. The antireflection film according to any one of items 1 to 6.
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