JPH09283333A - Soft-magnetic thin film and magnetic head made from soft-magnetic thin film - Google Patents

Soft-magnetic thin film and magnetic head made from soft-magnetic thin film

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JPH09283333A
JPH09283333A JP9110596A JP9110596A JPH09283333A JP H09283333 A JPH09283333 A JP H09283333A JP 9110596 A JP9110596 A JP 9110596A JP 9110596 A JP9110596 A JP 9110596A JP H09283333 A JPH09283333 A JP H09283333A
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JP
Japan
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thin film
soft magnetic
magnetic thin
element selected
magnetic
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JP9110596A
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Japanese (ja)
Inventor
Fumiyoshi Kirino
文良 桐野
Yoshitsugu Koiso
良嗣 小礒
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a soft-magnetic thin film improved in its soft-magnetic characteristics, heat stability, and corrosion resistance. SOLUTION: This soft-magnetic thin film is mainly made from Fe and contains Ta and/or Hf, and C and/or N, and the plane (110) of Fe is a prioritizes orientation and the size d1 of Fe crystal particle is less than 15nm, and the particle size d2 of Ta-C, Ta-N, Hf-C, or Hf-N is less than 3nm. The size of a crystal particle is controlled by precipitating Fe crystal particle first in the beginning of thin film forming and Ta-C, Ta-N, Hf-C, and Hf-N cystal particle thereafter.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高飽和磁束密度を
有する微結晶析出型のFe系の軟磁性薄膜に係り、特
に、高性能でしかも高信頼性を有する軟磁性薄膜、並び
に、その軟磁性膜を用いて作製した磁気ヘッド及び磁気
記録装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microcrystalline precipitation type Fe-based soft magnetic thin film having a high saturation magnetic flux density, and particularly to a soft magnetic thin film having high performance and high reliability, and a soft magnetic thin film thereof. The present invention relates to a magnetic head and a magnetic recording device manufactured using a magnetic film.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の高度情報化社会の進展に伴い、小
型でしかも高密度な情報記憶装置に対するニーズが高ま
っている。この中で、磁気記録装置は、高密度記録、ダ
ウンサイジングへの研究が急速に進められている。高密
度記録を実現するために、記録した微小磁区が安定に存
在するように高保磁力を有する媒体と、この媒体に記録
できる高性能な磁気ヘッドが必要となる。高保磁力媒体
を十分に磁化して信号を記録するためには、強い磁界が
発生できる高飽和磁束密度を有する磁気ヘッド材料が必
要となる。
2. Description of the Related Art With the progress of advanced information society in recent years, there is an increasing need for a compact and high-density information storage device. Among them, in magnetic recording devices, researches on high-density recording and downsizing are being rapidly advanced. In order to realize high-density recording, a medium having a high coercive force so that recorded magnetic domains are stably present and a high-performance magnetic head capable of recording on this medium are required. In order to record a signal by sufficiently magnetizing a high coercivity medium, a magnetic head material having a high saturation magnetic flux density capable of generating a strong magnetic field is required.

【0003】現在、提案されている高飽和磁束密度を有
する材料として、Fe−C系やFe−N系等の材料があ
る。これらの材料は、軟磁気特性を発現させるために、
一定の温度で熱処理を行っている。この熱処理温度は、
結晶化温度により決定されるもので、用いる材料系及び
その組成に依存している。この他に、この材料を用いて
磁気ヘッドを作製する場合、特に、そのヘッドがメタル
・イン・ギャップ(MIG)型ヘッドである場合には、
ヘッド製造工程にガラスボンディング工程を含むため
に、一定温度以上でのアニールが必要である。その場合
のボンディング温度は、用いる溶着ガラスの融解温度で
決定され、一般に、ボンディング温度は結晶化温度より
高くするのが普通である。それは、ボンディング温度が
高いとガラスの強度は優れ、逆に低い温度ではガラスは
十分な強度を有していないからである。そのために、通
常用いられているガラスでは、軟磁気特性が発現する温
度より高い場合が多い。その結果、少なくともガラスの
融解温度で耐えるだけの熱安定性を磁性膜は有していな
ければならない。特に、軟磁気特性は析出してくる微結
晶粒子サイズに依存していることから、良好な軟磁気特
性を有する磁性膜を得るためには、この結晶粒子サイズ
を制御しなければならない。
At present, as a material having a high saturation magnetic flux density which has been proposed, there are Fe-C type and Fe-N type materials. In order to develop soft magnetic properties, these materials are
Heat treatment is performed at a constant temperature. This heat treatment temperature is
It is determined by the crystallization temperature and depends on the material system used and its composition. In addition to this, when a magnetic head is manufactured using this material, particularly when the head is a metal-in-gap (MIG) type head,
Since the head manufacturing process includes a glass bonding process, annealing at a certain temperature or higher is required. The bonding temperature in that case is determined by the melting temperature of the fused glass used, and generally, the bonding temperature is usually higher than the crystallization temperature. This is because when the bonding temperature is high, the strength of the glass is excellent, and when the temperature is low, the glass does not have sufficient strength. For this reason, in the case of a commonly used glass, the temperature is often higher than the temperature at which the soft magnetic characteristics are exhibited. As a result, the magnetic film must have sufficient thermal stability to withstand at least the melting temperature of the glass. In particular, since the soft magnetic characteristics depend on the size of the precipitated fine crystal particles, it is necessary to control the crystal particle size in order to obtain a magnetic film having good soft magnetic characteristics.

【0004】さらに、これらの材料は、Feを主体とし
ているために、大気中の酸素や水と反応して水酸化物や
酸化物を生成し、磁気特性、特に、保磁力や飽和磁束密
度の変動を生じるために、磁気ヘッドの性能が低下する
場合があった。そこで、この材料を用いた磁気ヘッドを
実用化するのに当り、磁性膜を使用環境中へ放置したと
きの腐食による磁気特性の変動を抑制するとともに、ガ
ラスボンディング工程を経ても磁気特性の変動が生じな
いようにすることが課題であった。
Further, since these materials are mainly composed of Fe, they react with oxygen and water in the atmosphere to form hydroxides and oxides, and their magnetic properties, especially coercive force and saturation magnetic flux density Due to the fluctuation, the performance of the magnetic head may be deteriorated. Therefore, when putting a magnetic head using this material into practical use, it is possible to suppress fluctuations in magnetic characteristics due to corrosion when the magnetic film is left in the operating environment, and to prevent fluctuations in magnetic characteristics even after the glass bonding process. The challenge was to prevent it from happening.

【0005】これらの課題を解決するために、磁性元素
以外に、耐食性を向上させるための元素を添加すること
が提案されているが、軟磁気特性と耐食性を両立させる
ことは困難であった。これらの点について検討したもの
に、特開平3−20444号公報がある。
In order to solve these problems, it has been proposed to add an element for improving corrosion resistance in addition to the magnetic element, but it has been difficult to achieve both soft magnetic characteristics and corrosion resistance. Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-20444 discloses an examination of these points.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記公報には、軟磁気
特性、熱安定性、或いは耐食性のいずれか1つの特性を
向上させるのに有効な方法が開示されている。しかしな
がら、これらの特性を同時に向上させる方法についての
十分な開示はない。特に、飽和磁束密度が1.5T以上
の軟磁性膜に対して前記特性を同時に向上させる方法に
ついては全く開示されていない。
The above publication discloses a method effective for improving any one of soft magnetic characteristics, thermal stability, and corrosion resistance. However, there is not enough disclosure about how to improve these properties simultaneously. In particular, there is no disclosure of a method for simultaneously improving the above characteristics for a soft magnetic film having a saturation magnetic flux density of 1.5 T or more.

【0007】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたもので、良好な軟磁気特性を有すると同
時に、高熱安定性を有し、かつ、高信頼性を有する軟磁
性薄膜を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and has a soft magnetic thin film having good soft magnetic characteristics, high thermal stability and high reliability. The purpose is to provide.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成できる本
発明による軟磁性薄膜は、Feを主体とする軟磁性薄膜
において、Ta或いはHfの内から選択された少なくと
も1種類の元素と、C或いはNの内から選択された少な
くとも1種類の元素を含み、Feの結晶粒子のサイズd
1 とTa−C,Ta−N,Hf−C、或いはHf−N粒
子のサイズd2の比d1/d2が5以下であることを特徴
とする。
A soft magnetic thin film according to the present invention which can achieve the above object is a soft magnetic thin film mainly composed of Fe, wherein at least one element selected from Ta or Hf and C or Fe crystal grain size d containing at least one element selected from N
1 and Ta-C, Ta-N, Hf-C, or the ratio d 1 / d 2 of the size d 2 of the Hf-N particles is equal to or more than 5.

【0009】また、前記目的を達成できる本発明による
軟磁性薄膜は、Feを主体とする軟磁性薄膜において、
Ta或いはHfの内から選択された少なくとも1種類の
元素と、C或いはNの内から選択された少なくとも1種
類の元素を含み、Feの(110)面が優先配向してお
り、Feの結晶粒子のサイズd1 とTa−C,Ta−
N,Hf−C、或いはHf−N粒子のサイズd2 の比d
1/d2が5以下であることを特徴とする。
A soft magnetic thin film according to the present invention which can achieve the above object is a soft magnetic thin film mainly composed of Fe,
Fe crystal particles containing at least one element selected from Ta or Hf and at least one element selected from C or N, in which the (110) plane of Fe is preferentially oriented. Size d 1 and Ta-C, Ta-
Ratio d of N, Hf-C, or Hf-N particle size d 2
1 / d 2 is 5 or less.

【0010】また、前記目的を達成できる本発明による
軟磁性薄膜は、Feを主体とする軟磁性薄膜において、
Ta或いはHfの内から選択された少なくとも1種類の
元素と、C或いはNの内から選択された少なくとも1種
類の元素を含み、Feの(110)面が優先配向してお
り、Feの結晶粒子のサイズd1 が15nm以下であ
り、Ta−C,Ta−N,Hf−C、或いはHf−N粒
子のサイズd2 が3nm以下であることを特徴とする。
The soft magnetic thin film according to the present invention which can achieve the above object is a soft magnetic thin film mainly composed of Fe,
Fe crystal particles containing at least one element selected from Ta or Hf and at least one element selected from C or N, in which the (110) plane of Fe is preferentially oriented. size d 1 of is at 15nm or less, Ta-C, Ta-N , Hf-C, or the size d 2 of the Hf-N particles is equal to or is 3nm or less.

【0011】また、前記目的を達成できる本発明による
軟磁性薄膜は、Feを主体とする軟磁性薄膜において、
Ta或いはHfの内から選択された少なくとも1種類の
元素と、C或いはNの内から選択された少なくとも1種
類の元素を含み、Feの(110)面が優先配向してお
り、Feの結晶粒子のサイズd1 が15nm以下であ
り、Ta−C,Ta−N,Hf−C、或いはHf−N粒
子のサイズd2 が3nm以下であり、比d1/d2が5以
下であることを特徴とする。
The soft magnetic thin film according to the present invention that can achieve the above object is a soft magnetic thin film mainly composed of Fe,
Fe crystal particles containing at least one element selected from Ta or Hf and at least one element selected from C or N, in which the (110) plane of Fe is preferentially oriented. Has a size d 1 of 15 nm or less, a Ta-C, Ta-N, Hf-C, or Hf-N particle size d 2 of 3 nm or less, and a ratio d 1 / d 2 of 5 or less. Characterize.

【0012】本発明による軟磁性薄膜の結晶粒子サイズ
の制御は、成膜初期にFeの結晶粒子を析出させ、その
後にTa−C,Ta−N,Hf−C,Hf−Nの結晶粒
子を析出させて、結晶粒子の成長を制御することで実現
できる。このように、磁性膜の磁気特性、耐熱性、さら
には、信頼性を確保するには、Fe結晶粒子のサイズと
Ta−C,Ta−N,Hf−C,Hf−Nの結晶粒子の
サイズの比を一定値以下に保つとともに、各結晶粒子の
サイズを一定の値以下にすることが必要である。ここ
で、結晶粒子の長辺の寸法をもって結晶粒子のサイズと
する。
To control the crystal grain size of the soft magnetic thin film according to the present invention, Fe crystal grains are deposited at the initial stage of film formation, and then Ta--C, Ta--N, Hf--C, and Hf--N crystal grains are deposited. It can be realized by controlling the growth of crystal grains by precipitation. As described above, in order to secure the magnetic characteristics, heat resistance, and reliability of the magnetic film, the size of the Fe crystal particles and the sizes of the Ta-C, Ta-N, Hf-C, and Hf-N crystal particles are required. It is necessary to keep the ratio of (3) below a certain value and to keep the size of each crystal grain below a certain value. Here, the dimension of the long side of the crystal grain is defined as the size of the crystal grain.

【0013】本発明は、磁性膜の飽和磁束密度が1.5
T以上の磁性膜に対して特に好適である。磁性膜の構造
は、Feの結晶相の結晶粒界にTa−C,Ta−N,H
f−CやHf−Nの結晶粒子を分散させた構造であるこ
とが最も好ましい。さらに、C或いはNの内から選択さ
れた少なくとも1種類の元素の一部がFeの結晶相中に
固溶しているのがより好ましい。このことにより、Fe
の結晶粒子を微細化できるとともに、結晶粒子の成長を
抑制できるため、軟磁気特性を向上できると同時に、耐
食性や耐熱性の向上を図ることができる。この場合、F
eの格子面間隔が増大するのは、C或いはNの内から選
択された少なくとも1種類の元素の一部がFeの結晶相
中に固溶したことを示している。
In the present invention, the saturation magnetic flux density of the magnetic film is 1.5.
It is particularly suitable for a magnetic film of T or more. The structure of the magnetic film is Ta-C, Ta-N, H at the crystal grain boundaries of the Fe crystal phase.
Most preferably, it has a structure in which f-C or Hf-N crystal particles are dispersed. Further, it is more preferable that a part of at least one element selected from C or N be solid-solved in the Fe crystal phase. This makes Fe
Since the crystal grains can be made finer and the growth of the crystal grains can be suppressed, the soft magnetic characteristics can be improved, and at the same time, the corrosion resistance and the heat resistance can be improved. In this case, F
The increase in the lattice spacing of e indicates that a part of at least one element selected from C and N is dissolved in the Fe crystal phase.

【0014】さらに、上記の軟磁性薄膜において、Ta
或いはHfの内より選択された少なくとも1種類の元素
とN或いはCの内より選択された少なくとも1種類の元
素との化学量論比が〔Hf〕(或いは〔Ta〕)/
〔N〕(或いは〔C〕)=0.50〜1.5の間である
ことが最も好ましい。これは、磁気特性及び耐食性の観
点から必須の組成範囲である。軟磁性薄膜において、T
a或いはHfの内より選択された少なくとも1種類の元
素とN或いはCの内より選択された少なくとも1種類の
元素との化学量論比を制御することにより、イオンの価
数を制御することができる。
Further, in the above soft magnetic thin film, Ta
Alternatively, the stoichiometric ratio of at least one element selected from Hf and at least one element selected from N or C is [Hf] (or [Ta]) /
Most preferably, [N] (or [C]) is between 0.50 and 1.5. This is an essential composition range from the viewpoint of magnetic properties and corrosion resistance. In soft magnetic thin film, T
It is possible to control the valence of ions by controlling the stoichiometric ratio of at least one element selected from a or Hf and at least one element selected from N or C. it can.

【0015】前記軟磁性薄膜を用いた磁気ヘッドとして
は、メタル・イン・ギャップ型の磁気ヘッドが最も好適
である。この磁気ヘッドを用いた磁気記録装置は、テー
プ状或いは円板状の移動磁気記録媒体に画像情報や音声
情報を記録再生することができる。
A metal-in-gap type magnetic head is most suitable as the magnetic head using the soft magnetic thin film. A magnetic recording device using this magnetic head can record and reproduce image information and audio information on a tape-shaped or disk-shaped moving magnetic recording medium.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて説明する。ここでは、Fe79Hf129 合金膜を磁
性膜として用いた場合を例にとって本発明の詳細を説明
する。磁性膜は、スパッタ法により作製した。ターゲッ
トには、Fe87Hf13合金を用い、放電ガスにはAr/
2(体積比92/8)混合ガスを用いた。投入RF電
力密度は400W/150mm2φで、放電ガス圧力は
6mTorrである。ただし、これらの条件は絶対的な
ものではなく、作製装置や作製方法に依存する。形成し
た磁性膜の膜厚は5μmであった。
Embodiments of the present invention will be described below. Here, the present invention will be described in detail with reference to the case where a Fe 79 Hf 12 N 9 alloy film is used as a magnetic film. The magnetic film was produced by the sputtering method. Fe 87 Hf 13 alloy was used as the target, and Ar / was used as the discharge gas.
A mixed gas of N 2 (volume ratio 92/8) was used. The input RF power density is 400 W / 150 mm 2 φ, and the discharge gas pressure is 6 mTorr. However, these conditions are not absolute and depend on the manufacturing apparatus and manufacturing method. The thickness of the formed magnetic film was 5 μm.

【0017】磁性膜の構造は、作製直後ではX線的に非
晶質であった。この磁性膜を600℃で30分間アニー
ルした。アニールは真空中或いはArやN2 等の不活性
ガス中で行い、熱処理中は外部から10kOeの磁界を
印加した。この膜の磁気特性を調べたところ、飽和磁束
密度:Bsが1.6T、透磁率:μが5000(5MH
z)、保磁力:Hcが0.1Oe、磁歪定数:λsが2
×10-7、そして、比抵抗:ρが95×10-8Ω・mで
あり、良好であった。特に、比抵抗が大きいので、渦電
流損失が小さく、高周波領域での記録や再生に好適であ
る。この磁性膜の構造は、Feの(110)面がメイン
ピークであり、Scherrerの式によりFeの結晶粒子サイ
ズを求めると、8nmであった。この他に、Hf−Nに
起因するX線の回折ピークが観測された。ピークが非常
にブロードであるのでFeより正確な測定はできない
が、このピークから結晶粒子サイズを求めると、約2n
mであった。先のFeの結晶粒子とのサイズ比を求める
と、Fe/Hf−N比は8/2=4であった。
The structure of the magnetic film was X-ray amorphous immediately after preparation. This magnetic film was annealed at 600 ° C. for 30 minutes. Annealing was performed in vacuum or in an inert gas such as Ar or N 2 , and a magnetic field of 10 kOe was externally applied during the heat treatment. When the magnetic characteristics of this film were examined, the saturation magnetic flux density: Bs was 1.6 T and the magnetic permeability: μ was 5000 (5 MH).
z), coercive force: Hc is 0.1 Oe, magnetostriction constant: λs is 2
× 10 −7 , and the specific resistance ρ was 95 × 10 −8 Ω · m, which was good. Particularly, since the specific resistance is large, the eddy current loss is small, which is suitable for recording and reproducing in a high frequency region. In the structure of this magnetic film, the (110) plane of Fe was the main peak, and the crystal grain size of Fe determined by the Scherrer's formula was 8 nm. In addition to this, an X-ray diffraction peak due to Hf-N was observed. Since the peak is very broad, more accurate measurement than that of Fe is not possible, but the crystal grain size is calculated from this peak to be about 2n.
m. When the size ratio of the above Fe to the crystal particles was obtained, the Fe / Hf-N ratio was 8/2 = 4.

【0018】また、この膜を0.5N NaClaq中
へ1000時間浸漬させたが、錆びの発生は見られず、
且つ、磁気特性の劣化は見られなかった。さらに、この
磁性膜を700℃で熱処理しても磁気特性や耐食性の劣
化は見られなかった。次に、スパッタ条件及び熱処理条
件等を種々選択してFe及びTaCの各結晶粒子サイズ
を制御することで、Fe結晶粒子サイズとHf−Nの結
晶粒子サイズの異なる多数の磁性膜を作製し、Fe結晶
粒子サイズとHf−Nの結晶粒子サイズと耐食性の関係
を調べた。その結果を図1に示す。図中、白丸(○)は
0.5N NaClaq中へ1000時間浸漬させても
錆びの発生が見られなかった膜であり、黒丸(●)は逆
に腐食が発生した膜である。錆の発生の有無は目視によ
って判定した。
When this film was immersed in 0.5N NaClaq for 1000 hours, no rust was observed,
Moreover, no deterioration of magnetic properties was observed. Further, even if this magnetic film was heat-treated at 700 ° C., no deterioration in magnetic properties or corrosion resistance was observed. Next, various magnetic films having different Fe crystal particle sizes and Hf-N crystal particle sizes are produced by controlling various crystal particle sizes of Fe and TaC by variously selecting sputtering conditions and heat treatment conditions. The relationship between the Fe crystal grain size, the Hf-N crystal grain size, and the corrosion resistance was investigated. The result is shown in FIG. In the figure, white circles (◯) are films in which no rust was found even after immersion in 0.5N NaClaq for 1000 hours, and black circles () are films in which corrosion occurred. The presence or absence of rust was visually determined.

【0019】図1から、Feの結晶粒子サイズが15n
mを超えるか、或いは、Hf−N粒子サイズが3nmを
超えると、耐食性が急激に劣化することがわかる。ま
た、Feの結晶粒子サイズが3nm以下では、逆に、軟
磁気特性、特に、保磁力が1Oe以上になるので、軟磁
性膜として用いることはできない。さらに、Hf−N結
晶粒子サイズが1nm程度、かつFeの結晶粒子サイズ
が3nmを超える膜はプロセスの関係から作製できなか
った。Hf−N結晶粒子サイズは、2nm程度が実質的
な下限値となる。しかし、透過型電子顕微鏡レベルで観
察して、Fe粒子サイズが2nmでHf−N粒子サイズ
が1nmの膜は、耐食性は良好であるが、保磁力が大き
く、磁気ヘッド材料としては不適当である。
From FIG. 1, the crystal grain size of Fe is 15n.
It can be seen that the corrosion resistance sharply deteriorates when m exceeds m or the Hf-N particle size exceeds 3 nm. On the other hand, when the crystal grain size of Fe is 3 nm or less, on the contrary, the soft magnetic characteristics, especially the coercive force becomes 1 Oe or more, and therefore it cannot be used as a soft magnetic film. Further, a film having an Hf-N crystal grain size of about 1 nm and an Fe crystal grain size of more than 3 nm could not be produced due to the process. The Hf-N crystal grain size has a practical lower limit of about 2 nm. However, a film having a Fe particle size of 2 nm and a Hf-N particle size of 1 nm as observed on a transmission electron microscope level has good corrosion resistance, but has a large coercive force and is unsuitable as a magnetic head material. .

【0020】また、HfとNの化学量論比は1:1では
なく、透過型電子顕微鏡を用いた格子像観察結果から、
その格子面間隔を推定すると、Hf43 である。ここ
で、Hf/N=1.3であるが、化学量論比を変化させ
ても0.5から1.5の範囲であれば所望の磁気特性及
び耐食性を得ることができる。この条件は、成膜時の放
電ガス中の窒素濃度を変化させることにより実現でき
る。
Further, the stoichiometric ratio of Hf and N is not 1: 1, but from the result of lattice image observation using a transmission electron microscope,
Estimating the lattice spacing is Hf 4 N 3 . Here, Hf / N = 1.3, but desired magnetic characteristics and corrosion resistance can be obtained within the range of 0.5 to 1.5 even if the stoichiometric ratio is changed. This condition can be realized by changing the nitrogen concentration in the discharge gas during film formation.

【0021】このようなFe相中にHf−Nを分散させ
た磁性膜は、通常は成膜直後は非晶質であり、500℃
〜600℃で熱処理してFe相とHf−N相とに分離、
析出させる。そして、Fe/Hf−N結晶粒子サイズ比
が5以下になるように制御する。さらに制御精度を向上
させるには、作業性は低下するが、成膜直後にFeの結
晶粒子を予め析出させ、500℃〜600℃で熱処理す
ることによりHf−N相を析出させると、Feの結晶粒
子の成長を抑制できると同時にHf−N粒子の成長を押
さえることができる。その結果、Fe相を最大で15n
mに、また、Hf−N相を最大で3nmに抑制でき、し
かも、その精度は、組成変動、スパッタ条件の変動、熱
処理条件の変動のいずれに対しても強い。添加した窒素
は、Hfと化合物を形成する以外に、Fe相中に侵入型
固溶体を形成している。これによっても磁性膜の耐食性
を向上させることができる。
The magnetic film in which Hf-N is dispersed in the Fe phase is usually amorphous immediately after the film formation and has a temperature of 500 ° C.
Heat treatment at ~ 600 ° C to separate Fe phase and Hf-N phase,
Precipitate. Then, the Fe / Hf-N crystal grain size ratio is controlled to be 5 or less. In order to further improve the control accuracy, the workability decreases, but if Fe crystal particles are pre-deposited immediately after film formation and the Hf-N phase is deposited by heat treatment at 500 ° C. to 600 ° C., the Fe It is possible to suppress the growth of the crystal particles and at the same time suppress the growth of the Hf-N particles. As a result, the maximum Fe phase is 15n
m, and the Hf-N phase can be suppressed to a maximum of 3 nm, and its accuracy is strong against any of composition fluctuation, sputtering condition fluctuation, and heat treatment condition fluctuation. The added nitrogen forms an interstitial solid solution in the Fe phase in addition to forming a compound with Hf. This can also improve the corrosion resistance of the magnetic film.

【0022】以上述べてきた効果は、Hf−N粒子に固
有なものではなく、この粒子以外に、Hf−C、Ta−
C、或いは、Ta−Nのいずれを分散させても同様の効
果が得られる。炭素を用いた場合には、炭化物以外に炭
素はFe相中へ金属間化合物を形成して存在する。化合
物の材質による違いは、耐食性の観点から電気化学的な
溶解電位を測定すると、Hf−N粒子を分散させた場合
が最も高く、0.75V(Ag/AgCl電極基準、p
H=8.3)であり、最も高い耐食性を有している。そ
して、Hf−Cがこれに続き(0.7V)、Ta−C及
びTa−Nが中でも低い(0.6V)が、いずれの膜も
実用上は十分な耐食性を有している。
The effects described above are not peculiar to Hf-N particles, and in addition to these particles, Hf-C and Ta-
Similar effects can be obtained by dispersing either C or Ta-N. When carbon is used, carbon is present in the Fe phase in the form of an intermetallic compound in addition to the carbide. The difference depending on the material of the compound is that when the electrochemical dissolution potential is measured from the viewpoint of corrosion resistance, it is the highest when Hf-N particles are dispersed, and 0.75 V (Ag / AgCl electrode standard, p
H = 8.3), which has the highest corrosion resistance. Then, Hf-C follows (0.7 V), and Ta-C and Ta-N are low (0.6 V), but both films have sufficient corrosion resistance in practical use.

【0023】上記の磁性膜を用いて、MIG(メタル・
イン・ギャップ)型ヘッドを作製した。図2は、作製し
たMIG型ヘッドの概略図である。軟磁性薄膜1を単結
晶のフェライト基板2上に形成した。ここで用いた磁性
膜の組成は、Fe80Hf812である。ギャップ部3
は、フェライト基板2上に形成した軟磁性薄膜1の上
に、SiO2 を200nmの膜厚に形成した後にCrを
10nmの膜厚に形成して作った。これを窒素気流中に
て600℃で30分間熱処理し、同一形状のヘッド基板
を低融点ガラス4によりボンディングした。
Using the above magnetic film, MIG (metal
An in-gap type head was produced. FIG. 2 is a schematic view of the manufactured MIG type head. The soft magnetic thin film 1 was formed on a single crystal ferrite substrate 2. The composition of the magnetic film used here is Fe 80 Hf 8 N 12 . Gap part 3
Was formed by forming SiO 2 to a film thickness of 200 nm and then forming Cr to a film thickness of 10 nm on the soft magnetic thin film 1 formed on the ferrite substrate 2. This was heat-treated in a nitrogen stream at 600 ° C. for 30 minutes, and head substrates of the same shape were bonded with the low melting point glass 4.

【0024】基板と磁性膜の間に両者の接着性の向上の
ための接合層を設けても良い。この接合層は、例えば、
SiO2,Si34,Cr23,Cr,Fe−Cr等と
することができる。この下地膜を磁性を有するものとす
ると、磁気ヘッドの性能をより向上させることができ
る。このようにして作製した磁気ヘッドにおいては、膜
剥離などは生じなかった。
A bonding layer may be provided between the substrate and the magnetic film to improve the adhesiveness between them. This bonding layer is, for example,
SiO 2, Si 3 N 4, Cr 2 O 3, Cr, can be a Fe-Cr or the like. If the underlayer has magnetism, the performance of the magnetic head can be further improved. No film peeling or the like occurred in the magnetic head thus manufactured.

【0025】この磁気ヘッドをVTR装置に組み込み、
テープを走行させ画像情報を記録した。図3は、VTR
装置の機能ブロック図である。図3に示した磁気ヘッド
20は、図2のMIG型磁気ヘッドである。磁気ヘッド
20は、記録/再生時には磁気ヘッド操作機構(図示せ
ず)により変位し、所定速度で走行する磁気テープTに
接触せしめられる。磁気テープTの駆動は、図示しない
磁気テープ駆動系により行われる。
By incorporating this magnetic head in a VTR device,
The tape was run and the image information was recorded. Figure 3 shows the VTR
It is a functional block diagram of an apparatus. The magnetic head 20 shown in FIG. 3 is the MIG type magnetic head of FIG. The magnetic head 20 is displaced by a magnetic head operating mechanism (not shown) at the time of recording / reproducing and brought into contact with the magnetic tape T running at a predetermined speed. The magnetic tape T is driven by a magnetic tape drive system (not shown).

【0026】記録時には、入力ビデオ信号は、まずプリ
・エンファシス31に送られ、さらにFM変調器32、
記録イコライザ33、記録増幅器34を介して回転トラ
ンス35に送られる。さらに、回転トランス35から磁
気ヘッド20に伝達され、磁気ヘッド20によりそれに
接触して走行する磁気テープTに記録される。再生時に
は、磁気テープTに記録されたビデオ信号は、まず磁気
ヘッド20により読み取られてから回転トランス35に
伝達される。さらに、回転トランス35から、再生前置
増幅器36、再生イコライザ37、リミッタ38、FM
復調器39、低域フィルタ40及びタイムベース・コレ
クタ41を介して出力ビデオ信号となる。
At the time of recording, the input video signal is first sent to the pre-emphasis 31, and then the FM modulator 32,
It is sent to the rotary transformer 35 via the recording equalizer 33 and the recording amplifier 34. Further, it is transmitted from the rotary transformer 35 to the magnetic head 20 and recorded by the magnetic head 20 on the magnetic tape T running in contact with it. During reproduction, the video signal recorded on the magnetic tape T is first read by the magnetic head 20 and then transmitted to the rotary transformer 35. Further, from the rotary transformer 35, a reproduction preamplifier 36, a reproduction equalizer 37, a limiter 38, an FM.
The output video signal is output through the demodulator 39, the low pass filter 40 and the time base collector 41.

【0027】このVTR装置によりハイビジョンのディ
ジタル情報を記録したところ、S/Nは40dB以上が
得られた。ここで、磁気ヘッド20と磁気テープTの相
対速度は36m/s、データ転送レートは46.1Mb
ps、トラック幅は40μmとした。次に、この磁気ヘ
ッドの耐食性を0.5規定塩化ナトリウム水溶液中への
浸漬試験法、及び、高温高湿度環境(60℃、相対湿
度:95%)中での結露試験法により評価した。まず、
MIG型ヘッドチップを0.5規定塩化ナトリウム水溶
液中へ500時間浸漬させた。その後、このヘッドを再
び装置にセットして記録再生特性を測定した。その結
果、浸漬前となんら記録再生特性に違いは見られなかっ
た。また、高温高湿度環境(60℃、相対湿度95%)
中での結露試験法による評価は、先のMIGヘッドをペ
ルチェ素子上に固定して10℃に保ち、全体を60℃、
相対湿度95%環境中へ放置した。その結果、ヘッド全
体に、結露が生じた。この状態で2000時間以上この
環境中へ放置したが、腐食の発生や記録特性や再生信号
の劣化は見られなかった。
When high-definition digital information was recorded by this VTR device, an S / N of 40 dB or more was obtained. Here, the relative speed between the magnetic head 20 and the magnetic tape T is 36 m / s, and the data transfer rate is 46.1 Mb.
The ps and the track width were 40 μm. Next, the corrosion resistance of this magnetic head was evaluated by a dip test method in a 0.5N sodium chloride aqueous solution and a dew condensation test method in a high temperature and high humidity environment (60 ° C., relative humidity: 95%). First,
The MIG type head chip was immersed in a 0.5N sodium chloride aqueous solution for 500 hours. Thereafter, the head was set in the apparatus again, and the recording / reproducing characteristics were measured. As a result, no difference was observed in the recording / reproducing characteristics from before the immersion. Also, high temperature and high humidity environment (60 ℃, relative humidity 95%)
In the evaluation by the dew condensation test method, the MIG head was fixed on the Peltier device and kept at 10 ° C.
It was left in an environment with a relative humidity of 95%. As a result, dew condensation occurred on the entire head. When left in this environment for more than 2000 hours in this state, no corrosion was observed and no deterioration in recording characteristics or reproduction signal was observed.

【0028】ここではVTR用の磁気ヘッドを例に説明
したが、本発明の軟磁性膜を用いた磁気ヘッドは磁気デ
ィスクやヘリカルスキャンを用いた磁気テープ装置等に
対しても適用できる。また、ここではFe−Hf系を例
にとって説明した。しかし、ここに述べた効果は、Fe
−Hf系に固有のものではなく、Hfの他にLa,C
e,Cu,Au,Pb,Ag,Tl等の元素を添加して
も同様の効果が得られる。ただし、磁気特性、熱安定性
及び耐食性のすべての観点から最も効果が大きいのは、
Hfを添加した場合である。しかもこの元素は状態図的
にはFeに固溶しないのでその効果が最も大きい。これ
にLa及びCeがこれに続き、Cu,Au,Pb,A
g,Tlがその次である。
Although a magnetic head for a VTR has been described here as an example, the magnetic head using the soft magnetic film of the present invention can be applied to a magnetic disk or a magnetic tape device using a helical scan. In addition, here, the Fe-Hf system has been described as an example. However, the effect described here is
-Hf system is not peculiar to La, C in addition to Hf
Similar effects can be obtained by adding elements such as e, Cu, Au, Pb, Ag, and Tl. However, the most effective from all viewpoints of magnetic properties, thermal stability and corrosion resistance,
This is the case when Hf is added. Moreover, since this element does not form a solid solution with Fe in the phase diagram, its effect is greatest. This is followed by La and Ce, followed by Cu, Au, Pb, A
g and Tl are next.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明によれば、Bs≧1.5T以上の
高飽和磁束密度を有し、且つ、良好な軟磁気特性を示
し、しかも、高熱安定性及び高耐食性を有する軟磁性膜
を得ることができる。これにより、高性能でしかも高信
頼性を有する磁気ヘッド及びそれを用いた磁気記録装置
が得られる。特に、VTR装置、磁気テープ装置や磁気
ディスク装置等の各種磁気記録装置において、高保磁力
を有する磁気記録媒体を十分に磁化できるので、高密度
記録が可能になる。
According to the present invention, a soft magnetic film having a high saturation magnetic flux density of Bs ≧ 1.5 T or more, good soft magnetic characteristics, high thermal stability and high corrosion resistance is obtained. Obtainable. As a result, a magnetic head having high performance and high reliability and a magnetic recording device using the same can be obtained. In particular, in various magnetic recording devices such as VTR devices, magnetic tape devices, magnetic disk devices, etc., a magnetic recording medium having a high coercive force can be sufficiently magnetized, so that high density recording becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】Fe系軟磁性膜のFe結晶粒子サイズ及びHf
−N結晶粒子サイズと耐食性との関係を示す図。
FIG. 1 Fe crystal grain size and Hf of Fe-based soft magnetic film
The figure which shows the relationship between N crystal grain size and corrosion resistance.

【図2】磁気ヘッドの構造を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a structure of a magnetic head.

【図3】VTR装置の機能ブロック図。FIG. 3 is a functional block diagram of a VTR device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…軟磁性薄膜、2…フェライト基板、3…ギャップ
部、4…低融点ガラス
1 ... Soft magnetic thin film, 2 ... Ferrite substrate, 3 ... Gap part, 4 ... Low melting point glass

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Feを主体とする軟磁性薄膜において、
Ta或いはHfの内から選択された少なくとも1種類の
元素と、C或いはNの内から選択された少なくとも1種
類の元素を含み、Feの結晶粒子のサイズd1 とTa−
C,Ta−N,Hf−C、或いはHf−N粒子のサイズ
2 の比d1/d2が5以下であることを特徴とする軟磁
性薄膜。
1. A soft magnetic thin film containing Fe as a main component,
Fe or Fe containing at least one element selected from Ta or Hf and at least one element selected from C or N, and having Fe crystal grain size d 1 and Ta−
A soft magnetic thin film characterized in that the ratio d 1 / d 2 of the size d 2 of C, Ta-N, Hf-C or Hf-N particles is 5 or less.
【請求項2】 Feを主体とする軟磁性薄膜において、
Ta或いはHfの内から選択された少なくとも1種類の
元素と、C或いはNの内から選択された少なくとも1種
類の元素を含み、Feの(110)面が優先配向してお
り、Feの結晶粒子のサイズd1 とTa−C,Ta−
N,Hf−C、或いはHf−N粒子のサイズd2 の比d
1/d2が5以下であることを特徴とする軟磁性薄膜。
2. In a soft magnetic thin film mainly composed of Fe,
Fe crystal particles containing at least one element selected from Ta or Hf and at least one element selected from C or N, in which the (110) plane of Fe is preferentially oriented. Size d 1 and Ta-C, Ta-
Ratio d of N, Hf-C, or Hf-N particle size d 2
1 / d 2 is 5 or less, a soft magnetic thin film.
【請求項3】 Feを主体とする軟磁性薄膜において、
Ta或いはHfの内から選択された少なくとも1種類の
元素と、C或いはNの内から選択された少なくとも1種
類の元素を含み、Feの(110)面が優先配向してお
り、Feの結晶粒子のサイズd1 が15nm以下であ
り、Ta−C,Ta−N,Hf−C、或いはHf−N粒
子のサイズd2 が3nm以下であることを特徴とする軟
磁性薄膜。
3. In a soft magnetic thin film mainly composed of Fe,
Fe crystal particles containing at least one element selected from Ta or Hf and at least one element selected from C or N, in which the (110) plane of Fe is preferentially oriented. size d 1 is at 15nm or less, Ta-C, Ta-N , Hf-C, or soft magnetic thin film characterized in that the size d 2 of the Hf-N particles is 3nm following.
【請求項4】 Feを主体とする軟磁性薄膜において、
Ta或いはHfの内から選択された少なくとも1種類の
元素と、C或いはNの内から選択された少なくとも1種
類の元素を含み、Feの(110)面が優先配向してお
り、Feの結晶粒子のサイズd1 が15nm以下であ
り、Ta−C,Ta−N,Hf−C、或いはHf−N粒
子のサイズd2 が3nm以下であり、比d1/d2が5以
下であることを特徴とする軟磁性薄膜。
4. In a soft magnetic thin film mainly composed of Fe,
Fe crystal particles containing at least one element selected from Ta or Hf and at least one element selected from C or N, in which the (110) plane of Fe is preferentially oriented. Has a size d 1 of 15 nm or less, a Ta-C, Ta-N, Hf-C, or Hf-N particle size d 2 of 3 nm or less, and a ratio d 1 / d 2 of 5 or less. Characteristic soft magnetic thin film.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項に記載の軟
磁性薄膜において、磁性膜の飽和磁束密度が1.5T以
上であることを特徴とする軟磁性薄膜。
5. The soft magnetic thin film according to claim 1, wherein a saturation magnetic flux density of the magnetic film is 1.5 T or more.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項に記載の軟
磁性薄膜において、Feの結晶相の結晶粒界にTa−
C,Ta−N,Hf−C、或いはHf−Nの内より選択
された少なくとも1種類の結晶粒子が分散していること
を特徴とする軟磁性薄膜。
6. The soft magnetic thin film according to any one of claims 1 to 5, wherein Ta-is present at a crystal grain boundary of a Fe crystal phase.
A soft magnetic thin film in which at least one kind of crystal particles selected from C, Ta-N, Hf-C, and Hf-N is dispersed.
【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項に記載の軟
磁性薄膜において、C或いはNの内より選択された少な
くとも1種類の元素の一部がFeの結晶相中に固溶して
いることを特徴とする軟磁性薄膜。
7. The soft magnetic thin film according to claim 1, wherein a part of at least one element selected from C and N is solid-solved in the Fe crystal phase. A soft magnetic thin film characterized in that
【請求項8】 請求項7に記載の軟磁性薄膜において、
C或いはNの内より選択された少なくとも1種類の元素
の一部をFeの結晶相中に固溶させることによりFeの
格子面間隔を増大させたことを特徴とする軟磁性薄膜。
8. The soft magnetic thin film according to claim 7,
A soft magnetic thin film characterized in that the lattice spacing of Fe is increased by solid-dissolving at least one kind of element selected from C or N in a crystal phase of Fe.
【請求項9】 請求項7又は8に記載の軟磁性薄膜にお
いて、C或いはNの内より選択された少なくとも1種類
の元素の一部をFeの結晶相中に固溶させることによ
り、Feの結晶粒子サイズを15nm以下に制御したこ
とを特徴とする軟磁性薄膜。
9. The soft magnetic thin film according to claim 7 or 8, wherein a part of at least one element selected from C and N is dissolved in the Fe crystal phase to form a solid solution of Fe. A soft magnetic thin film having a crystal grain size controlled to 15 nm or less.
【請求項10】 請求項1〜9のいずれか1項に記載の
軟磁性薄膜において、Ta或いはHfの内より選択され
た少なくとも1種類の元素とN或いはCの内より選択さ
れた少なくとも1種類の元素との化学量論比が〔Hf〕
(或いは〔Ta〕)/〔N〕(或いは〔C〕)=0.5
0〜1.5の間であることを特徴とする軟磁性薄膜。
10. The soft magnetic thin film according to claim 1, wherein at least one element selected from Ta or Hf and at least one element selected from N or C. Stoichiometric ratio with the element of [Hf]
(Or [Ta]) / [N] (or [C]) = 0.5
A soft magnetic thin film having a thickness of 0 to 1.5.
【請求項11】 請求項1〜10のいずれか1項に記載
の軟磁性薄膜において、Ta或いはHfの内より選択さ
れた少なくとも1種類の元素とN或いはCの内より選択
された少なくとも1種類の元素との化学量論比を制御す
ることにより、イオンの価数を制御したことを特徴とす
る軟磁性薄膜。
11. The soft magnetic thin film according to claim 1, wherein at least one element selected from Ta or Hf and at least one element selected from N or C. A soft magnetic thin film characterized in that the valence of ions is controlled by controlling the stoichiometric ratio with the element.
【請求項12】 請求項1〜11のいずれか1項に記載
の軟磁性薄膜を用いたことを特徴とするメタル・イン・
ギャップ型の磁気ヘッド。
12. A metal-in-made using the soft magnetic thin film according to any one of claims 1 to 11.
Gap type magnetic head.
【請求項13】 請求項12に記載の磁気ヘッドを備
え、移動する磁気記録媒体に情報の記録、再生を行うこ
とを特徴とする磁気記録装置。
13. A magnetic recording apparatus comprising the magnetic head according to claim 12 for recording and reproducing information on a moving magnetic recording medium.
【請求項14】 請求項13に記載の磁気記録装置にお
いて、画像情報及び/又は音声情報を記録することを特
徴とする磁気記録装置。
14. The magnetic recording device according to claim 13, wherein image information and / or audio information is recorded.
【請求項15】 請求項13に記載の磁気記録装置にお
いて、前記磁気記録媒体はテープ状又は円板状であるこ
とを特徴とする磁気記録装置。
15. The magnetic recording device according to claim 13, wherein the magnetic recording medium has a tape shape or a disk shape.
【請求項16】 Feを主体とし、Ta或いはHfの内
より選択された少なくとも1種類の元素と、C或いはN
の内より選択された少なくとも1種類の元素を含み、F
eの(110)面が優先配向した軟磁性薄膜の製造方法
において、 成膜初期にFeの結晶粒子を析出させ、その後にTa−
C,Ta−N,Hf−C,Hf−Nの結晶粒子を析出さ
せることにより、結晶粒子の成長を制御して、Feの結
晶粒子のサイズd1 を15nm以下とし、Ta−C,T
a−N,Hf−C、或いはHf−N粒子のサイズd2
3nm以下とすることを特徴とする軟磁性薄膜の製造方
法。
16. Fe as a main component, at least one element selected from Ta or Hf, and C or N.
Containing at least one element selected from among
In the method for manufacturing a soft magnetic thin film in which the (110) plane of e is preferentially oriented, Fe crystal grains are deposited at the initial stage of film formation, and then Ta-
By precipitating crystal grains of C, Ta-N, Hf-C, and Hf-N, the growth of the crystal grains is controlled, and the size d 1 of the Fe crystal grains is set to 15 nm or less.
A method for producing a soft magnetic thin film, wherein the size d 2 of a-N, Hf-C, or Hf-N particles is 3 nm or less.
JP9110596A 1996-04-12 1996-04-12 Soft-magnetic thin film and magnetic head made from soft-magnetic thin film Pending JPH09283333A (en)

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JP9110596A JPH09283333A (en) 1996-04-12 1996-04-12 Soft-magnetic thin film and magnetic head made from soft-magnetic thin film
US08/831,537 US5962153A (en) 1996-04-12 1997-04-08 Soft magnetic thin film, and magnetic head and magnetic recording apparatus using the film
KR1019970013278A KR100279786B1 (en) 1996-04-12 1997-04-10 Soft magnetic thin film, magnetic head and magnetic recording device using the same

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1312686C (en) * 2001-11-23 2007-04-25 皇家飞利浦电子股份有限公司 Multi-stack optical data storage medium and use of such medium
CN110660554A (en) * 2019-09-29 2020-01-07 苏州科技大学 High-permeability high-frequency planar inductor and preparation method thereof

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