JPH09283032A - Gas discharge type display panel and its manufacture - Google Patents

Gas discharge type display panel and its manufacture

Info

Publication number
JPH09283032A
JPH09283032A JP8089824A JP8982496A JPH09283032A JP H09283032 A JPH09283032 A JP H09283032A JP 8089824 A JP8089824 A JP 8089824A JP 8982496 A JP8982496 A JP 8982496A JP H09283032 A JPH09283032 A JP H09283032A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
discharge
forming
display panel
partition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8089824A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiichi Tsuchida
誠一 槌田
Nobuyuki Ushifusa
信之 牛房
Eiji Matsuzaki
永二 松崎
Kazuo Suzuki
和雄 鈴木
Teruo Takai
輝男 高井
Kyoko Amamiya
恭子 雨宮
Muneyuki Sakagami
志之 坂上
Fusaji Shoji
房次 庄子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP8089824A priority Critical patent/JPH09283032A/en
Publication of JPH09283032A publication Critical patent/JPH09283032A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display cell shape having high luminous efficiency of phosphors and high luminance with low power by providing multiple main discharge recesses having phosphor layers on the curved inner walls on the front substrate side surface. SOLUTION: Display electrodes 6, 6a, bus electrodes 7, 7a, a dielectric layer 8 having the film thickness of 0.002-0.03mm, and a protective layer 9 having the thickness of 0.0001-0.002mm are formed on a glass substrate 4 to obtain a front substrate 1. A photosensitive film 1120 is laminated on the surface of a glass substrate 5, it is exposed, developed, washed with water, and dried, the glass substrate 5 is machined by the sand blast method to remove the portion of the glass substrate 5 not covered by the film 1120, and recesses having the depth of 0.08-0.3mm are formed as main discharge spaces 100. Address electrodes 10 and phosphor layers 12 are provided on the recesses to obtain a back substrate 2 having barrier ribs 11 and the phosphor layers 12. The front substrate 1 and the back substrate 2 are fixed so that the display electrodes 6 and bus electrodes 7 are made perpendicular to the address electrodes 10.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イなどのガス放電型表示装置に用いられるガス放電型表
示パネルとその製造方法とに係り、特に、蛍光体の発光
効率の高い表示セル形状を有し、高輝度、低電力を可能
にするガス放電型表示パネルとその製造方法とに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas discharge type display panel used in a gas discharge type display device such as a plasma display and a method for manufacturing the same, and more particularly to a display cell having a high luminous efficiency of a phosphor. The present invention relates to a gas discharge type display panel capable of high brightness and low power and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイなどのガス放電型
表示装置は自己発光により表示を行うため、視野角が広
く、表示が見やすい。また、薄型のものが作製できるこ
とや大画面を実現できるなどの特長を持っており、情報
端末機器の表示装置や高品位テレビジョン受像機への応
用が始まっている。
2. Description of the Related Art A gas discharge type display device such as a plasma display performs display by self-emission, so that the display angle is wide and the display is easy to see. In addition, it has features such as being able to produce a thin type and realizing a large screen, and has begun to be applied to display devices of information terminal equipment and high-definition television receivers.

【0003】プラズマディスプレイは直流駆動型と交流
駆動型に大別される。このうち、交流駆動型のプラズマ
ディスプレイは、電極を覆っている誘電体層のメモリー
作用によって輝度が高く、保護層の形成などにより実用
に耐える寿命が得られるようになった。その結果、プラ
ズマディスプレイは多用途のビデオ・モニタとして実用
化されている。この例を図7と図8とに示す。
[0003] Plasma displays are roughly classified into a DC drive type and an AC drive type. Among them, the AC drive type plasma display has a high luminance due to the memory effect of the dielectric layer covering the electrodes, and has a practically usable life due to the formation of the protective layer and the like. As a result, plasma displays have been put to practical use as versatile video monitors. An example of this is shown in FIGS.

【0004】図7は実用化されたプラズマディスプレイ
パネルの構造を示す斜視図である。この図では、見易く
するため、前面基板1を背面基板2と放電空間領域3よ
り離して図示した。前面基板1は、前面ガラス基板4上
にITO(Indium Tin Oxide)や酸化
スズ(SnO2)などの透明導電材料からなる表示電極
6と低抵抗材料からなるバス電極7、透明な絶縁材料か
らなる誘電体層8、酸化マグネシウム(MgO)などの
材料からなる保護層9が形成された構造となっている。
背面基板2は、背面ガラス基板5上にアドレス電極10
とバリアリブ11、蛍光体層12が形成された構造とな
っている。そして、前面基板1と背面基板2を表示電極
6とアドレス電極10がほぼ直交するように張合わせる
ことにより、放電空間領域3が前面基板1と背面基板2
の間に形成されている。
FIG. 7 is a perspective view showing the structure of a practical plasma display panel. In this figure, the front substrate 1 is shown separated from the rear substrate 2 and the discharge space region 3 for easy viewing. The front substrate 1 comprises a display electrode 6 made of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) or tin oxide (SnO 2 ) on the front glass substrate 4, a bus electrode 7 made of a low resistance material, and a transparent insulating material. It has a structure in which a dielectric layer 8 and a protective layer 9 made of a material such as magnesium oxide (MgO) are formed.
The rear substrate 2 includes the address electrodes 10 on the rear glass substrate 5.
The barrier rib 11 and the phosphor layer 12 are formed. Then, the front substrate 1 and the rear substrate 2 are attached to each other so that the display electrodes 6 and the address electrodes 10 are substantially orthogonal to each other, so that the discharge space region 3 is formed in the front substrate 1 and the rear substrate 2.
Is formed between.

【0005】図8は、図7に示したガス放電型表示装置
の断面図である。図8において、(a)はアドレス電極
10に平行な断面を、(b)はアドレス電極10に垂直
な(a)に示した図のA−B断面を、(c)はアドレス
電極10に垂直な(a)に示した図のC−D断面を示し
ている。このガス放電型表示装置では、前面基板1に設
けた1対の表示電極6の間に交流電圧を印加し、背面基
板2に設けたアドレス電極10と表示電極6の間に電圧
を印加することによってアドレス放電を発生させ、所定
の放電セルに主放電を発生させる。この主放電で発生す
る紫外線により蛍光体12を発光させ、表示を行ってい
る。
FIG. 8 is a sectional view of the gas discharge type display device shown in FIG. In FIG. 8, (a) is a cross section parallel to the address electrode 10, (b) is a cross section taken along the line AB of FIG. 8 (a) perpendicular to the address electrode 10, and (c) is perpendicular to the address electrode 10. 7A shows a C-D cross section of the drawing shown in FIG. In this gas discharge type display device, an AC voltage is applied between a pair of display electrodes 6 provided on the front substrate 1, and a voltage is applied between the address electrodes 10 provided on the rear substrate 2 and the display electrodes 6. As a result, an address discharge is generated, and a main discharge is generated in a predetermined discharge cell. The display is performed by causing the phosphors 12 to emit light by the ultraviolet rays generated by the main discharge.

【0006】図7と図8とに示した従来のガス放電型表
示装置の製造工程の一例を、図9を用いて簡単に説明す
る。
An example of the manufacturing process of the conventional gas discharge display device shown in FIGS. 7 and 8 will be briefly described with reference to FIG.

【0007】まず、前面基板1の製造工程について説明
する。ソーダライムガラス等からなる前面ガラス基板4
を洗浄し、その一方の主表面上に透明電極パターン6を
形成する。ITOを透明電極材料として用いた場合、透
明電極パターン6の形成は、スパタッタリング法等を用
いてITOを成膜した後に周知のフォトエッチング法に
よって行われることが多い。それに対し、SnO2を用
いた場合、透明電極パターン6はリフトオフ法を用いた
化学蒸着法(Chemical VaporDepos
itoin,CVD)によって形成されることが多く、
前面ガラス基板に用いるソーダライムガラスもシリカ等
により被覆されることが多い。
First, the manufacturing process of the front substrate 1 will be described. Front glass substrate 4 made of soda lime glass, etc.
And the transparent electrode pattern 6 is formed on one of the main surfaces. When ITO is used as a transparent electrode material, the transparent electrode pattern 6 is often formed by a well-known photo-etching method after forming an ITO film by using a sputtering method or the like. On the other hand, when SnO 2 is used, the transparent electrode pattern 6 is formed by chemical vapor deposition (Chemical Vapor Depos) using a lift-off method.
It is often formed by
Soda lime glass used for the front glass substrate is often coated with silica or the like.

【0008】バス電極7には銅(Cu)膜をクロム(C
r)膜でサンドイッチしたCr/Cu/Cr積層膜が用
いられることが多く、成膜後に周知のフォトエッチング
を行うことによって形成される。透明電極6とバス電極
7を形成した前面ガラス基板4上に、誘電体ペーストを
印刷し、乾燥、焼結を行うことによって透明な誘電体層
8が形成される。誘電体層8が形成された前面ガラス基
板4上に印刷法によって真空封止を行うためのシール層
17が形成され、さらに、真空蒸着法等によっててMg
O層が形成される。これで前面基板1が完成する。
A copper (Cu) film is formed on the bus electrode 7 by chromium (C).
A Cr / Cu / Cr laminated film sandwiched by r) film is often used, and is formed by performing well-known photoetching after film formation. A transparent dielectric layer 8 is formed by printing a dielectric paste on the front glass substrate 4 on which the transparent electrodes 6 and the bus electrodes 7 are formed, drying and sintering. A seal layer 17 for vacuum sealing is formed by a printing method on the front glass substrate 4 on which the dielectric layer 8 is formed, and further, a Mg layer is formed by a vacuum deposition method or the like.
An O layer is formed. Thus, the front substrate 1 is completed.

【0009】次に、背面基板2の製造工程について説明
する。ソーダライムガラス等からなる背面ガラス基板5
を洗浄し、その一方の主表面上に銀(Ag)ペーストを
用いた厚膜印刷法により、アドレス電極パターン10を
形成する。アドレス電極10を形成した背面ガラス基板
5上に、厚膜印刷と乾燥を繰り返すことによって、バリ
アリブ11を形成する。次いで、厚膜印刷法によって蛍
光体層12を形成することによって背面基板2が完成す
る。
Next, the manufacturing process of the rear substrate 2 will be described. Rear glass substrate 5 made of soda lime glass, etc.
And the address electrode pattern 10 is formed on one of the main surfaces by a thick film printing method using a silver (Ag) paste. On the back glass substrate 5 on which the address electrodes 10 are formed, the barrier ribs 11 are formed by repeating thick film printing and drying. Next, the back substrate 2 is completed by forming the phosphor layer 12 by a thick film printing method.

【0010】完成した前面基板1と背面基板2を、位置
合わせをしながら組み立てる。排気や封入ガス導入を行
う排気管(図示せず)を取り付け、その後、封着炉で基
板同士のシールと排気管の固定を行う。基板同士のシー
ルは、基板工程で形成したシール層17(低融点ガラ
ス、フリット)により溶融固着させる。次に、排気装置
にパネルを取り付け、バネルをベーキングしながら排気
管で真空排気する。この後、例えばネオン(Ne)とキ
セノン(Xe)の混合ガスを封入し、排気管のチップオ
フとエージングを行うことにより、図8と図9に示した
従来のガス放電型表示装置が完成する。ここで示したガ
ス放電型表示装置の従来例は、たとえば、フラットパネ
ルディスプレ1996(日経マイクロデバイス編、19
95年)の第208頁から215頁に記載されている。
The completed front substrate 1 and rear substrate 2 are assembled while aligning them. An exhaust pipe (not shown) for exhausting and introducing a sealed gas is attached, and thereafter, the substrates are sealed and the exhaust pipe is fixed in a sealing furnace. The seal between the substrates is melted and fixed by the seal layer 17 (low-melting glass, frit) formed in the substrate process. Next, a panel is attached to the exhaust device, and the panel is evacuated with an exhaust pipe while baking the panel. Thereafter, for example, a mixed gas of neon (Ne) and xenon (Xe) is sealed, and the exhaust pipe is chipped off and aged, thereby completing the conventional gas discharge display device shown in FIGS. . The conventional example of the gas discharge type display device shown here is, for example, a flat panel display 1996 (edited by Nikkei Microdevice, 19th edition).
1995), pp. 208-215.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、背
面基板2に設けるバリアリブ11の形成が最も難しい。
図9を用いて説明した厚膜印刷法によるバリアリブ形成
では、厚膜印刷と乾燥を何度も繰り返すため、厚膜パタ
ーンの寸法精度や欠陥の発生、厚膜パターン相互の位置
合わせ不良、大型スクリーン版の変形などが発生しやす
い。そのため、製造工程が長くなり、製造歩留りも低く
なる。また、厚膜印刷法による0.05mm程度の微細
化は困難であり、大型スクリーン版ほど変形が発生しや
すい。これは、表示画面の高精細化や大形化を困難なも
のとしている。
According to the above conventional technique, it is most difficult to form the barrier ribs 11 provided on the back substrate 2.
In the barrier rib formation by the thick film printing method described with reference to FIG. 9, since thick film printing and drying are repeated many times, dimensional accuracy and defects of thick film patterns occur, misalignment of thick film patterns with each other, and large screens. Plate deformation is likely to occur. Therefore, the manufacturing process becomes longer and the manufacturing yield becomes lower. Further, it is difficult to reduce the size to about 0.05 mm by the thick film printing method, and the larger the screen plate, the more easily the deformation occurs. This makes it difficult to increase the definition and size of the display screen.

【0012】また、このようにして作製したバリアリブ
の形状は、矩形に近いものである。このバリアリブの放
電空間側の面に蛍光体を形成すると、バリアリブの形状
に従った構造となるため、主放電により発生した紫外線
からの距離が一定とならず、発光強度に差が生じ、その
ためセル内において輝度むらが生じる原因となる。
The shape of the barrier rib thus produced is close to a rectangle. When a fluorescent substance is formed on the surface of the barrier rib on the discharge space side, the structure conforms to the shape of the barrier rib, so the distance from the ultraviolet rays generated by the main discharge is not constant, and a difference in light emission intensity occurs. This causes uneven brightness in the interior.

【0013】そこで、本発明は、これらの問題に対応す
るため、製造が容易で、均一な輝度の得られるガス放電
型表示パネルと、その製造方法とを提供することを目的
とする。
In order to address these problems, it is an object of the present invention to provide a gas discharge type display panel which is easy to manufacture and has uniform brightness, and a manufacturing method thereof.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、ガス放
電型表示装置を放電空間となる複数個の“凹部(溝を含
む)”と表示セルを選択するためのアドレス電極を有す
る背面基板と表示のための主放電を発生させる表示電極
を有する前面基板を張り合わせた構造とし、上記放電空
間を分離するバリアリブを背面ガラス基板材料によって
構成し、上記アドレス電極を上記凹部に埋め込んだ導体
層によって形成し、主放電空間の表示セルの形状を主放
電のプラズマ形状に類似させ、発生する紫外線の強度が
同等な位置に蛍光体を配し、蛍光体の発光効率を高くす
ることによって達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a gas discharge type display device with a plurality of "recesses (including grooves)" serving as discharge spaces and a rear substrate having address electrodes for selecting display cells. And a structure in which a front substrate having a display electrode for generating a main discharge for display is laminated, a barrier rib separating the discharge space is made of a rear glass substrate material, and the address electrode is made of a conductor layer embedded in the recess. It is achieved by making the shape of the display cell in the main discharge space similar to the shape of the plasma of the main discharge, and disposing the phosphor at a position where the intensity of the generated ultraviolet rays is equal to increase the luminous efficiency of the phosphor. .

【0015】かかる構成によれば、放電空間に用いる上
記凹部は背面ガラス基板の表面をサンドブラスト法によ
り掘り込むことにより、アドレス電極をこの凹部に導体
層を埋め込むだけで形成できるようになるので、バリア
リブを設ける背面基板の製造工程の工程短縮と製造歩留
りの向上が達成される。サンドブラスト法により掘り込
む形状が主放電のプラズマ形状に類似している。
According to this structure, since the recess used for the discharge space can be formed by digging the surface of the rear glass substrate by the sandblasting method, the address electrode can be formed only by burying the conductor layer in the recess. It is possible to reduce the number of manufacturing steps of the rear substrate provided with and to improve the manufacturing yield. The shape dug by the sandblast method is similar to the plasma shape of the main discharge.

【0016】また、前面基板と接触するバリアリブの上
面が背面ガラス基板自体の表面で構成されるため、バリ
アリブと前面基板の密着性が従来のガス放電型表示装置
に比べて改善される。これにより、放電がバリアリブと
前面基板の間の隙間を通って隣接する放電空間に広がる
ことを防止でき、表示セル選択の信頼性が向上するとと
もに、発生する紫外線の強度が同等な位置に蛍光体を配
すことができるため、蛍光体の発光効率を高くでき、従
来のガス放電型表示装置に比べて高輝度、低電力が達成
できる。
Further, since the upper surface of the barrier rib which comes into contact with the front substrate is constituted by the surface of the rear glass substrate itself, the adhesion between the barrier rib and the front substrate is improved as compared with the conventional gas discharge display device. This prevents the discharge from spreading through the gap between the barrier rib and the front substrate to the adjacent discharge space, which improves the reliability of display cell selection and allows the phosphors to be located at positions where the intensity of ultraviolet rays generated is the same. Therefore, the luminous efficiency of the phosphor can be increased, and higher brightness and lower power can be achieved as compared with the conventional gas discharge type display device.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明のガス放電型表示パネルの
第1の形態は、主放電用電極を備える前面基板と、補助
放電用電極を備える背面基板とを備え、背面基板は、前
面基板側表面に、内壁に蛍光体層を有する複数の主放電
用凹部を備え、主放電用凹部は、内壁がわん曲している
というものである。また、補助放電用電極は、主放電用
凹部の内壁と、上記蛍光体層との間に設けるようにすれ
ば、さらに製造が容易になる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A first mode of a gas discharge type display panel of the present invention comprises a front substrate provided with electrodes for main discharge and a back substrate provided with electrodes for auxiliary discharge, and the back substrate is the front substrate. The side surface is provided with a plurality of main discharge recesses each having a phosphor layer on the inner wall, and the main discharge recesses are formed by bending the inner wall. Further, if the auxiliary discharge electrode is provided between the inner wall of the main discharge recess and the phosphor layer, the manufacturing becomes easier.

【0018】本発明のガス放電型表示パネルの第2の形
態は、主放電用電極を備える前面基板と、補助放電用電
極を備える背面基板と、記前面基板と背面基板とに挟ま
れた隔壁基板とを備え、隔壁基板は、前面基板側表面
に、内壁に蛍光体層を有する複数の主放電用凹部を備
え、背面基板側表面に、複数の補助放電用凹部を備え、
主放電用凹部は、内壁がわん曲しているというものであ
る。
A second mode of the gas discharge type display panel of the present invention is a front substrate having a main discharge electrode, a rear substrate having an auxiliary discharge electrode, and a partition wall sandwiched between the front substrate and the rear substrate. And a partition substrate, the front substrate side surface, a plurality of main discharge recesses having a phosphor layer on the inner wall, the back substrate side surface, a plurality of auxiliary discharge recesses,
The inner wall of the recess for main discharge is curved.

【0019】本発明のガス放電型表示パネルの第3の形
態は、主放電用電極を備える前面基板と、補助放電用電
極を備える背面基板と、前面基板と背面基板とに挟まれ
た隔壁基板とを備え、隔壁基板は、前面基板側表面に、
内壁に蛍光体層を有する複数の主放電用凹部を備え、背
面基板は、隔壁基板側表面に、複数の補助放電用凹部を
備え、主放電用凹部は、内壁がわん曲しているというも
のである。
A third mode of the gas discharge display panel of the present invention is a front substrate having electrodes for main discharge, a rear substrate having electrodes for auxiliary discharge, and a partition substrate sandwiched between the front substrate and the rear substrate. The partition substrate is provided on the front substrate side surface,
The inner wall is provided with a plurality of main discharge recesses having a phosphor layer, the rear substrate is provided with a plurality of auxiliary discharge recesses on the partition substrate side surface, and the main discharge recesses are curved inner walls. Is.

【0020】なお、第2または第3の形態では、主放電
用凹部と同様、補助放電用凹部も、内壁がわん曲してい
ることが望ましい。また、補助放電用電極は、上記補助
放電用凹部の内壁に設けられているが望ましい。
In the second or third embodiment, it is desirable that the inner wall of the recess for auxiliary discharge is bent similarly to the recess for main discharge. The auxiliary discharge electrode is preferably provided on the inner wall of the auxiliary discharge recess.

【0021】上述した第1〜第3の形態のいずれにおい
ても、凹部を、同一方向に延びた溝により構成すること
ができる。この場合、主放電用凹部の延伸方向と、補助
放電用凹部の延伸方向とは、前面基板上から見たとき直
交するようにすることが望ましい。また、凹部を、縦横
にマトリクス状に配置された凹みにより構成することも
できる。
In any of the above-described first to third embodiments, the recess can be formed by a groove extending in the same direction. In this case, it is desirable that the extending direction of the main discharge recess and the extending direction of the auxiliary discharge recess are orthogonal to each other when viewed from the front substrate. Further, the recesses may be formed by recesses arranged in a matrix in the vertical and horizontal directions.

【0022】なお、凹部を溝とする倍は、上記表示パネ
ルの、上記溝の延伸方向に直角な断面において、上記溝
の内壁が、円の一部を構成するようにすることが望まし
い。また、凹部の内壁が、球面形状の一部を構成するよ
うにしてもよい。放電の発生源からの距離が均等になる
からである。
When the concave portion is used as a groove, it is desirable that the inner wall of the groove forms a part of a circle in a cross section of the display panel at right angles to the extending direction of the groove. Further, the inner wall of the recess may form part of the spherical shape. This is because the distance from the discharge generation source becomes uniform.

【0023】第1の形態の表示パネルは、主放電用電極
を備える前面基板を形成する前面基板形成工程と、補助
放電用電極を備える背面基板を形成する背面基板形成工
程と、前面基板および背面基板を対向させて組み立てる
組み立て工程とを備える製造方法により作製される。こ
こで、背面基板形成工程は、基材表面に、内部がわん曲
している主放電用凹部を複数形成する工程を有する。
The display panel of the first embodiment has a front substrate forming step of forming a front substrate having main discharge electrodes, a rear substrate forming step of forming a rear substrate having auxiliary discharge electrodes, a front substrate and a back surface. It is produced by a manufacturing method including an assembling step of assembling the substrates so as to face each other. Here, the back substrate forming step has a step of forming a plurality of main discharge recesses, the inside of which is curved, on the surface of the base material.

【0024】ここで、背面基板形成工程は、記補助放電
用電極を主放電用凹部の内壁に形成する工程と、補助放
電用電極を覆うように、主放電用凹部の内壁に蛍光体層
を形成する工程とを、さらに有することが望ましい。
Here, in the back substrate forming step, a step of forming the auxiliary discharge electrode on the inner wall of the main discharge recess and a phosphor layer on the inner wall of the main discharge recess so as to cover the auxiliary discharge electrode. And the step of forming.

【0025】第2の形態の表示パネルは、主放電用電極
を備える前面基板を形成する前面基板形成工程と、補助
放電用電極を備える背面基板を形成する背面基板形成工
程と、前面基板および背面基板との間を離間するための
隔壁基板を形成する隔壁基板形成工程と、背面基板、隔
壁基板、および前面基板を積層して固定する組み立て工
程とを備える製造方法により作製される。ここで、隔壁
基板形成工程は、基材の表裏両面に、内部がわん曲して
いる凹部を、それぞれ複数形成する工程を有する。
In the display panel of the second embodiment, a front substrate forming step of forming a front substrate having electrodes for main discharge, a rear substrate forming step of forming a rear substrate having electrodes for auxiliary discharge, a front substrate and a back surface are provided. It is manufactured by a manufacturing method including a partition substrate forming step of forming a partition substrate for separating from the substrate and an assembly step of stacking and fixing the back substrate, the partition substrate and the front substrate. Here, the partition substrate forming step includes a step of forming a plurality of concave portions each having an inner curved surface on both front and back surfaces of the base material.

【0026】第3の形態の表示パネルは、主放電用電極
を備える前面基板を形成する前面基板形成工程と、補助
放電用電極を備える背面基板を形成する背面基板形成工
程と、前面基板および背面基板の間を離間するための隔
壁基板を形成する隔壁基板形成工程と、背面基板、隔壁
基板、および前面基板を積層して固定する組み立て工程
とを備える製造方法であって、隔壁基板形成工程が、基
材の表裏一方の面に、内部がわん曲している凹部を複数
形成する工程を有し、背面基板形成工程が、基材の表裏
一方の面に、内部がわん曲している凹部を複数形成する
工程を有し、組み立て工程は、背面基板の凹部を設けた
面と、隔壁基板の凹部を設けていない面とを対向させ、
隔壁基板の凹部を設けた面と、前面基板とを対向させて
組み立てる工程を有する製造方法によって作製される。
In the display panel of the third embodiment, a front substrate forming step of forming a front substrate having a main discharge electrode, a rear substrate forming step of forming a rear substrate having an auxiliary discharge electrode, a front substrate and a back surface. A partition wall substrate forming step of forming a partition wall substrate for separating between the substrates, and an assembly step of stacking and fixing a rear substrate, a partition wall substrate, and a front substrate, the partition wall substrate forming step comprising: , A step of forming a plurality of concave portions having an inner curved surface on one of the front and back surfaces of the substrate, and In the assembling step, the surface of the back substrate on which the recess is provided and the surface of the partition substrate on which the recess is not provided face each other.
It is manufactured by a manufacturing method including a step of assembling the front surface substrate and the surface of the partition substrate on which the concave portion is provided so as to face each other.

【0027】[0027]

【実施例】【Example】

<実施例1>本発明の第1の実施例を図1により説明す
る。図1は本発明を適用したガス放電型表示装置の一部
を断面図で示したものである。図1(a)はアドレス電
極10に平行な断面を、図1(b)はアドレス電極10
に垂直である、図1(a)に示したA−B断面を、図1
(c)はアドレス電極10に垂直である、図1(a)に
示したC−D断面を示している。
<First Embodiment> A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view showing a part of a gas discharge type display device to which the present invention is applied. FIG. 1A shows a cross section parallel to the address electrode 10, and FIG.
1 is a sectional view taken along line A-B shown in FIG.
FIG. 1C shows a CD section shown in FIG. 1A, which is perpendicular to the address electrode 10.

【0028】図において、1は前面基板を、2は背面基
板を、3は放電空間領域を、4は前面ガラス基板を、5
は背面ガラス基板を、6と6aは透明導電材料からなる
表示電極を、7と7aは表示電極の一部と重なるように
設けられたバス電極を、8は誘電体層を、9はMgOか
らなる保護層を、11は主放電空間を限定するバリアリ
ブを、12は蛍光体層を、100は表示のための主放電
が発生する主放電空間を示す。
In the figure, 1 is a front substrate, 2 is a rear substrate, 3 is a discharge space region, 4 is a front glass substrate, and 5 is a front glass substrate.
Is a back glass substrate, 6 and 6a are display electrodes made of a transparent conductive material, 7 and 7a are bus electrodes provided so as to partially overlap the display electrodes, 8 is a dielectric layer, and 9 is MgO. Is a protective layer, 11 is a barrier rib that limits the main discharge space, 12 is a phosphor layer, and 100 is a main discharge space in which main discharge for display occurs.

【0029】以下、本実施例の製造方法の一例を図2に
より説明する。まず、前面基板1の製造方法について説
明する。 (1)前面ガラス基板4とするソーダライムガラス等の
ガラス板を中性洗剤等により洗浄する。
An example of the manufacturing method of this embodiment will be described below with reference to FIG. First, a method for manufacturing the front substrate 1 will be described. (1) A glass plate such as soda lime glass as the front glass substrate 4 is washed with a neutral detergent or the like.

【0030】(2)洗浄した前面ガラス基板4上にスパ
ッタリング法や電子線蒸着法などの成膜手法により酸化
スズ(SnO2)膜やITO(Indium Tin
Oxide)膜などの透明導電膜を形成する。次いで周
知のフォトエッチング法によって透明導電膜の加工を行
い、表示電極6、6aとして働く電極パターンを形成す
る。表示電極のパターン寸法は製造する放電セルの大き
さに合わせて定めれば良い。
(2) A tin oxide (SnO 2 ) film or ITO (Indium Tin) film is formed on the cleaned front glass substrate 4 by a film forming method such as a sputtering method or an electron beam evaporation method.
A transparent conductive film such as an oxide film is formed. Then, the transparent conductive film is processed by a well-known photoetching method to form an electrode pattern serving as the display electrodes 6 and 6a. The pattern size of the display electrode may be determined according to the size of the discharge cell to be manufactured.

【0031】(3)表示電極6、6aを形成した前面ガ
ラス基板4上に、スパッタリング法や電子線蒸着法等の
成膜手法を用いてクロム(Cr)膜で銅(Cu)膜をサ
ンドイッチしたCr/Cu/Cr積層膜を形成する。次
いで、周知のフォトエッチング法を用いてCr/Cu/
Cr積層膜の加工を行い、表示電極6、6aの一部と重
なるように電極パターンを形成し、バス電極7、7aと
する。Cu膜の膜厚とバス電極のパターン寸法はバス電
極に要求される抵抗値によって定めれば良い。
(3) A copper (Cu) film is sandwiched by a chromium (Cr) film on the front glass substrate 4 on which the display electrodes 6 and 6a are formed by using a film forming method such as a sputtering method or an electron beam evaporation method. A Cr / Cu / Cr laminated film is formed. Then, using a well-known photo-etching method, Cr / Cu /
The Cr laminated film is processed and an electrode pattern is formed so as to overlap a part of the display electrodes 6 and 6a to form the bus electrodes 7 and 7a. The thickness of the Cu film and the pattern size of the bus electrode may be determined according to the resistance value required for the bus electrode.

【0032】(4)表示電極6とバス電極7を形成した
前面ガラス基板4の所定の場所にアルミニウム(A
l)、シリコン(Si)、酸素(O)を主成分とする加
水分解型コーティング剤(アルコキシドなど)をブレー
ド法やスプレー法等の手法を用いて塗布し、100〜4
00℃の温度で1〜60分間加熱することにより膜厚が
0.002〜0.03mmの誘電体層8を形成する。
(4) Aluminum (A) is placed at a predetermined location on the front glass substrate 4 on which the display electrodes 6 and the bus electrodes 7 are formed.
l), a hydrolysis-type coating agent (alkoxide, etc.) containing silicon (Si) and oxygen (O) as main components is applied by a method such as a blade method or a spray method, and 100 to 4
By heating at a temperature of 00 ° C. for 1 to 60 minutes, the dielectric layer 8 having a thickness of 0.002 to 0.03 mm is formed.

【0033】(5)スパッタリング法や電子線蒸着法等
の成膜手法を用いてMgO膜を所定の場所に成膜し、保
護層9とする。MgO膜の膜厚はガス放電型表示装置に
要求される寿命によって定める必要があるが、その代表
値は0.0001〜0.002mmである。
(5) An MgO film is formed at a predetermined place by using a film forming method such as a sputtering method or an electron beam evaporation method to form the protective layer 9. The thickness of the MgO film needs to be determined according to the life required for the gas discharge type display device, and a typical value is 0.0001 to 0.002 mm.

【0034】以上の工程により、前面基板1が完成し
た。なお、本実施例では、Al、Si、Oを主成分とす
る加水分解型コーティング剤として、トリ(n−ブトキ
シ)アルミニウムと、テトラ(n−ブチル)シリケート
とを、AlおよびSiの酸化物に換算したとき37:6
3の重量比で含むn−ブタノール溶液を、常温で加水分
解して得られたゲルを用いた。
Through the above steps, the front substrate 1 is completed. In this example, tri (n-butoxy) aluminum and tetra (n-butyl) silicate were converted into Al and Si oxides as the hydrolysis-type coating agent containing Al, Si, and O as main components. 37: 6 when converted
The gel obtained by hydrolyzing the n-butanol solution contained in the weight ratio of 3 at room temperature was used.

【0035】次に背面基板2の製造方法について説明す
る。 (1)背面ガラス基板5とするソーダライムガラス等の
ガラス板を中性洗剤等を用いて洗浄する。
Next, a method of manufacturing the rear substrate 2 will be described. (1) A glass plate such as soda lime glass as the rear glass substrate 5 is washed with a neutral detergent or the like.

【0036】(2)感光性フィルム1120を背面ガラ
ス基板5上にラミネートし,周知の露光、現像、水洗、
乾燥を行うことにより、所定の感光性フィルムパターン
を形成する。
(2) Laminating the photosensitive film 1120 on the back glass substrate 5, exposing, developing, washing with water, as is well known.
By drying, a predetermined photosensitive film pattern is formed.

【0037】(3)サンドブラスト処理を行うことによ
り、背面ガラス基板5の感光性フィルム1120によっ
て被覆されていない部分を除去し、主放電空間100を
となる“溝”を背面ガラス基板5の表面に形成する。こ
の場合、溝の深さが0.08〜0.3mmになるよう
に、サンドブラスト条件を調整する。
(3) By sandblasting, the portion of the rear glass substrate 5 which is not covered with the photosensitive film 1120 is removed, and "grooves" forming the main discharge space 100 are formed on the surface of the rear glass substrate 5. Form. In this case, the sandblasting conditions are adjusted so that the groove depth is 0.08 to 0.3 mm.

【0038】(4)主放電空間100となる“溝”を設
けた背面ガラス基板5上に、スパッタリング法や電子線
蒸着法等の成膜手法を用いてCr/Cu/Cr積層膜を
形成する。この工程により、アドレス電極10を構成す
るCr/Cu/Cr積層膜が主放電空間100となる
“溝”の中に埋め込まれる。アドレス電極10の形成プ
ロセスの例を図3に示すが、これについては、後で説明
する。
(4) A Cr / Cu / Cr laminated film is formed on the rear glass substrate 5 provided with "grooves" which become the main discharge space 100, by a film forming method such as sputtering or electron beam evaporation. . By this step, the Cr / Cu / Cr laminated film forming the address electrode 10 is embedded in the “groove” which becomes the main discharge space 100. An example of the process of forming the address electrode 10 is shown in FIG. 3, which will be described later.

【0039】(5)主放電空間100となる“溝”の内
壁の表面に、スプレー法やブレード法等の手法を用いて
蛍光体12を塗布する。カラー表示のガス放電型表示装
置の場合には、緑、青、赤の所定のパターンのマスクを
位置合せし、緑、青、赤の色を発色する蛍光体層12を
塗布する。次いで、150〜400℃の温度で5〜60
分の熱処理を行う。
(5) The phosphor 12 is applied to the surface of the inner wall of the "groove" which becomes the main discharge space 100 by using a method such as a spray method or a blade method. In the case of a gas discharge type display device of a color display, a mask of a predetermined pattern of green, blue and red is aligned, and a phosphor layer 12 for emitting green, blue and red colors is applied. Then 5-60 at a temperature of 150-400 ° C
Heat treatment for a minute.

【0040】(6)厚膜印刷法を用いてフリットガラス
のパターン形成を行い、乾燥を行うことにより、真空封
止を行うためのシール層(図示せず)を形成する。
(6) A frit glass pattern is formed by using a thick film printing method and dried to form a seal layer (not shown) for vacuum sealing.

【0041】以上の工程により、放電空間を分離するバ
リアリブ11と蛍光体層12を有する背面基板2が完成
した。なお、背面基板2には、パネル組み立て後に行う
排気とガス導入のためにチップ管(図示せず)を取り付
ける。
Through the above steps, the rear substrate 2 having the barrier ribs 11 for separating the discharge space and the phosphor layer 12 is completed. A chip tube (not shown) is attached to the rear substrate 2 for exhaust and gas introduction after the panel is assembled.

【0042】以上の各工程で完成した前面基板1と背面
基板2の位置合せを行い、400〜450℃の熱処理を
施すことによってこれらの基板を固定する。この場合、
前面基板1に設けた表示電極6およびバス電極7と背面
基板5に設けたアドレス電極10をほぼ直交させる。次
に、背面基板に設けたチップ管(図示せず)を通して前
面基板1と背面基板2の間に形成される主放電空間10
0の真空排気を行い、例えば3%のXeを含むNeを主
放電空間100に導入し、主放電空間100内の圧力を
35〜70kPaに調節する。次いで、チップ管(図示
せず)の局部加熱によってチップオフを行うことにより
図1に示したガス放電型表示装置が完成した。
The front substrate 1 and the rear substrate 2 completed in the above steps are aligned and heat-treated at 400 to 450 ° C. to fix these substrates. in this case,
The display electrodes 6 and the bus electrodes 7 provided on the front substrate 1 and the address electrodes 10 provided on the rear substrate 5 are substantially orthogonal to each other. Next, the main discharge space 10 formed between the front substrate 1 and the rear substrate 2 is passed through a chip tube (not shown) provided on the rear substrate.
The vacuum is evacuated to 0, for example, Ne containing 3% Xe is introduced into the main discharge space 100, and the pressure in the main discharge space 100 is adjusted to 35 to 70 kPa. Next, the gas discharge type display device shown in FIG. 1 was completed by performing chip-off by locally heating a chip tube (not shown).

【0043】次に、上記説明で省略したアドレス電極1
0の形成プロセスを、図3に従って説明する。アドレス
電極10の代表的な形成プロセスは、図3に示した
(A)と(B)との2つのプロセスである。
Next, the address electrode 1 omitted in the above description.
The process of forming 0 will be described with reference to FIG. Typical forming processes of the address electrode 10 are two processes of (A) and (B) shown in FIG.

【0044】まず、(A)のプロセスについて説明す
る。 (1)主放電空間100となる“溝”を形成した背面ガ
ラス基板5を中性洗剤やアルコールを用いて洗浄する。
First, the process (A) will be described. (1) The rear glass substrate 5 having the “groove” which becomes the main discharge space 100 is washed with a neutral detergent or alcohol.

【0045】(2)主放電空間100となる溝を形成し
た背面ガラス基板5上に、スパッタリング法や電子線蒸
着法等の成膜手法を用いてCr/Cu/Cr積層膜から
なる導体層1140を形成する。
(2) A conductor layer 1140 made of a Cr / Cu / Cr laminated film is formed on the rear glass substrate 5 in which a groove serving as the main discharge space 100 is formed by using a film forming method such as a sputtering method or an electron beam evaporation method. To form.

【0046】(3)テープ研磨法やポリッシング法等の
研磨法を用いてCr/Cu/Cr積層膜を形成した背面
ガラス基板5の表面研磨を行う。これにより、感光性フ
ィルム1120の上に堆積した導体層1140が除去さ
れる。この工程は、感光性フィルム1120の除去を容
易にするために行うものである。従って、導体層114
0の形成後に行う感光性フィルム1120の除去が可能
であれば、省略できる。
(3) The back glass substrate 5 having the Cr / Cu / Cr laminated film formed thereon is polished by a polishing method such as a tape polishing method or a polishing method. As a result, the conductor layer 1140 deposited on the photosensitive film 1120 is removed. This step is performed to facilitate removal of the photosensitive film 1120. Therefore, the conductor layer 114
If the photosensitive film 1120 can be removed after the formation of 0, it can be omitted.

【0047】(4)濃度が1〜4%、温度が40〜50
℃の水酸化ナトリウム水溶液を用いたスプレー剥離によ
って、感光性フィルム1120を除去する。この場合の
代表的なスプレー圧は、1〜3kg/cm2である。
(4) Concentration is 1 to 4%, temperature is 40 to 50
The photosensitive film 1120 is removed by spray peeling using a sodium hydroxide aqueous solution at 0 ° C. A typical spray pressure in this case is 1 to 3 kg / cm 2.

【0048】次に、(B)のプロセスについて説明す
る。 (1)濃度が1〜4%、温度が40〜50℃の水酸化ナ
トリウム水溶液を用いたスプレー剥離によって、主放電
空間100となる“溝”を形成した背面ガラス基板5か
ら感光性フィルム1120を除去する。この場合の代表
的なスプレー圧は、1〜3kg/cm2である。
Next, the process (B) will be described. (1) The photosensitive film 1120 is removed from the rear glass substrate 5 having the “grooves” forming the main discharge space 100 by spray peeling using a sodium hydroxide aqueous solution having a concentration of 1 to 4% and a temperature of 40 to 50 ° C. Remove. A typical spray pressure in this case is 1 to 3 kg / cm 2.

【0049】(2)感光性フィルム1120を除去した
背面ガラス基板5上に、スパッタリング法や電子線蒸着
法等の成膜手法を用いてCr/Cu/Crからなる導体
層1140を形成する。
(2) On the rear glass substrate 5 from which the photosensitive film 1120 has been removed, a conductor layer 1140 made of Cr / Cu / Cr is formed by a film forming method such as a sputtering method or an electron beam evaporation method.

【0050】(3)テープ研磨法やポリッシング法等の
研磨法を用いてCr/Cu/Cr積層膜を形成した背面
ガラス基板5の表面研磨を行う。これにより、バリアリ
ブ11上に堆積した導体層1140が除去される。次い
で、アルコール等を用いて洗浄を行い、砥粒等を除去す
る。
(3) The back glass substrate 5 having the Cr / Cu / Cr laminated film formed thereon is polished by a polishing method such as a tape polishing method or a polishing method. As a result, the conductor layer 1140 deposited on the barrier rib 11 is removed. Next, cleaning is performed using alcohol or the like to remove the abrasive grains and the like.

【0051】以上、本発明の第1の実施例における製造
工程のアドレス電極10の形成方法の例を示した。図3
に示した(A)、(B)のいずれの場合にも、アドレス
電極10を構成する導体層1140をバリアリブ11を
形成してから形成している。この点が、図9に示したバ
リアリブの従来の製造方法とは異なっている。
The example of the method of forming the address electrode 10 in the manufacturing process in the first embodiment of the present invention has been described above. FIG.
In either of the cases (A) and (B) shown in (1), the conductor layer 1140 forming the address electrode 10 is formed after the barrier rib 11 is formed. This point is different from the conventional manufacturing method of the barrier rib shown in FIG.

【0052】本実施例では、バス電極7とアドレス電極
10の材料としてCuとCrを用いているが、AlやT
i、Ni、W、Moの金属やこれらの合金を用いてもさ
しつかえない。また、バス電極7とアドレス電極10を
構成する材料の形成方法としてスパッタリング法や電子
線蒸着法を用いているが、形成方法に制限はなく、めっ
き法や抵抗加熱蒸着法、厚膜印刷法などを用いても良
い。表示電極6を構成する透明導電材料も酸化すずやI
TOに限定されるものではなく、また、その形成方法と
してもスパッタリング法や電子線蒸着法に限定されるも
のではなく、化学気相反応法やソル−ゲル法などを用い
てもさしつかえない。誘電体層8の形成にはアルコキシ
ドを用いているが、この材料に限定されるものではな
い。また、誘電体層8の形成方法としてブレード法やス
プレー法と熱硬化法を組み合わせた方法を用いている
が、形成方法にも制限はなく、スパッタリング法や化学
気相反応法、厚膜印刷法などを用いてもさしつかえな
い。保護層9としてMgOを用いているが、放電ガスに
対するスパッタリング率が低く、2次電子放出係数が高
ければ良く、MgOのほか、CaOやSrO、これらの
混合物を用いても差支えない。また、本実施例では放電
ガスとしてNeとXeの混合気体を用いているが、これ
らに限定されるものではない。
In this embodiment, Cu and Cr are used as materials for the bus electrodes 7 and the address electrodes 10, but Al and T
Metals of i, Ni, W, Mo and alloys thereof may be used. In addition, although a sputtering method or an electron beam evaporation method is used as a method for forming the material forming the bus electrode 7 and the address electrode 10, there is no limitation on the formation method, and a plating method, a resistance heating evaporation method, a thick film printing method, and the like. May be used. The transparent conductive material forming the display electrode 6 is also tin oxide or I
The method is not limited to TO, and the forming method thereof is not limited to the sputtering method or the electron beam evaporation method, and a chemical vapor phase reaction method, a sol-gel method or the like may be used. Although an alkoxide is used to form the dielectric layer 8, the material is not limited to this. Further, as the method for forming the dielectric layer 8, a method combining a blade method, a spray method and a thermosetting method is used, but the forming method is not limited, and the sputtering method, the chemical vapor reaction method, the thick film printing method are used. It does not matter even if you use such as. Although MgO is used as the protective layer 9, it is sufficient if the sputtering rate to the discharge gas is low and the secondary electron emission coefficient is high, and CaO, SrO, or a mixture thereof may be used in addition to MgO. Further, in this embodiment, a mixed gas of Ne and Xe is used as the discharge gas, but the discharge gas is not limited to these.

【0053】本発明を適用した本実施例のガス放電型表
示装置は450℃以下の低温プロセスで製造できるた
め、歪点が低いが安価なソーダライムガラス等のガラス
を基板とし使用できる。しかし、製造プロセスの温度を
450℃以下にすることを要求している訳ではなく、製
造プロセスの温度を450℃より高温にした場合にも本
実施例のガス放電型表示装置は製造できる。
Since the gas discharge type display device of this embodiment to which the present invention is applied can be manufactured by a low temperature process of 450 ° C. or lower, a glass such as soda lime glass which has a low strain point but is inexpensive can be used as a substrate. However, the temperature of the manufacturing process is not required to be 450 ° C. or lower, and the gas discharge display device of this embodiment can be manufactured even when the temperature of the manufacturing process is higher than 450 ° C.

【0054】本実施例で示したガス放電型表示装置で
は、例えば3%のXeを含むNeガスを封入することに
より前面基板1と背面基板2の間に主放電空間100を
形成している。バリアリブ11は前面基板1の表面にに
接触することによって主放電空間100を形成してい
る。表示電極6が伸延する方向に配列された表示セルの
主放電空間100は分離されているが、表示電極6が伸
延する方向と直交する方向に配列された表示セルは主放
電空間100を共有している。主放電空間を共有するよ
うに配列した表示セル列は、アドレス電極10の延伸方
向に沿って存在するので、ここでは、“アドレス電極セ
ル列”と呼ぶことにする。また、表示電極6に沿って配
列した表示セル列を、“表示電極セル列”と呼ぶことに
する。蛍光体層12は、背面ガラス基板5の表面に掘り
込まれた“溝”の内壁、すなわち、背面ガラス基板5に
形成された“溝”の底(アドレス電極10の上面)とバ
リアリブ11の側面に形成されている。アドレス電極セ
ル列では主放電空間100が表示セルによって共有され
ているが、それぞれの表示セルの放電空間は一対の表示
電極6と6aの間に電圧を印加することによって限定さ
れている。
In the gas discharge type display device shown in this embodiment, the main discharge space 100 is formed between the front substrate 1 and the rear substrate 2 by enclosing Ne gas containing 3% Xe, for example. The barrier rib 11 contacts the surface of the front substrate 1 to form the main discharge space 100. The main discharge spaces 100 of the display cells arranged in the direction in which the display electrodes 6 extend are separated, but the display cells arranged in the direction orthogonal to the direction in which the display electrodes 6 extend share the main discharge space 100. ing. The display cell array arranged so as to share the main discharge space exists along the extending direction of the address electrode 10, and will be referred to as “address electrode cell array” here. In addition, a display cell row arranged along the display electrode 6 is referred to as a “display electrode cell row”. The phosphor layer 12 is an inner wall of the “groove” dug into the surface of the rear glass substrate 5, that is, the bottom of the “groove” formed in the rear glass substrate 5 (the upper surface of the address electrode 10) and the side surface of the barrier rib 11. Is formed in. In the address electrode cell column, the main discharge space 100 is shared by the display cells, but the discharge space of each display cell is limited by applying a voltage between the pair of display electrodes 6 and 6a.

【0055】この実施例で示したガス放電型表示装置の
場合にも、図7と図8に示した従来のガス放電型表示装
置と同じ駆動を行うことができる。すなわち、アドレス
電極上に形成された蛍光体層上に壁電荷を形成し、壁電
荷の電圧に外部電圧を印加することによってアドレス放
電を発生させて表示セルを選択する駆動を行うことがで
きる。なお、表示電極6の一方の電極をすべての表示セ
ルに共通な共通電極とすることが多いが、この実施例で
は、表示電極6と表示電極6aのいずれを共通電極とし
ても差支えない。
In the case of the gas discharge type display device shown in this embodiment, the same driving as that of the conventional gas discharge type display device shown in FIGS. 7 and 8 can be performed. That is, by forming wall charges on the phosphor layer formed on the address electrodes and applying an external voltage to the voltage of the wall charges, it is possible to generate address discharge and select a display cell. In addition, although one electrode of the display electrode 6 is often used as a common electrode common to all display cells, in this embodiment, either the display electrode 6 or the display electrode 6a may be used as a common electrode.

【0056】この発明の実施例において本発明を適用し
た第1点は、主放電空間100を背面ガラス基板5を掘
り込んで形成し、主放電により励起された紫外線からの
距離が一定の所に蛍光体が形成できた点である。これに
よって、紫外線の発光強度のばらつきが低減でき、輝度
ばらつきが防止でき、最も発光効率が良好である。ま
た、放電空間を形成するバリアリブ11の形成工程が簡
略化された。ガス放電型表示装置では、前面基板に対し
て背面基板に設けたバリアリブを接触させて放電空間を
形成する。そのため、バリアリブの表面と前面基板の密
着性の確保は、バリアリブと前面基板の間の隙間をなく
し、放電がバリアリブを越えて広がるのを防止するため
に重要である。この点においても、本発明の実施例で
は、バリアリブ11の表面の平面だしを背面ガラス基板
5自体の表面で行っているので、図9に示した従来の方
法で形成したバリアリブに比べて優れている。すなわ
ち、本発明を適用した本実施例によれば、バリアリブ1
1と前面基板1の密着性を従来のガス放電型表示装置に
比較して良好なものにできる。これは、非選択セルの誤
放電による誤表示を防止できることを示している。
The first point to which the present invention is applied in the embodiment of the present invention is that the main discharge space 100 is formed by digging the rear glass substrate 5 and the distance from the ultraviolet rays excited by the main discharge is constant. This is the point that the phosphor could be formed. As a result, variations in emission intensity of ultraviolet rays can be reduced, variations in brightness can be prevented, and luminous efficiency is most favorable. Moreover, the process of forming the barrier ribs 11 that form the discharge spaces is simplified. In the gas discharge type display device, a barrier rib provided on the back substrate is brought into contact with the front substrate to form a discharge space. Therefore, ensuring the adhesiveness between the surface of the barrier rib and the front substrate is important for eliminating the gap between the barrier rib and the front substrate and preventing the discharge from spreading beyond the barrier rib. Also in this point, in the embodiment of the present invention, the flattening of the surface of the barrier rib 11 is performed on the surface of the rear glass substrate 5 itself, which is superior to the barrier rib formed by the conventional method shown in FIG. There is. That is, according to the present embodiment to which the present invention is applied, the barrier rib 1
1 and the front substrate 1 can be made to have good adhesion as compared with the conventional gas discharge type display device. This indicates that erroneous display due to erroneous discharge of non-selected cells can be prevented.

【0057】この発明の実施例において本発明を適用し
た第2点は、放電空間を構成する凹部(溝)を形成して
から(これによりバリアリブ11が形成される)、アド
レス電極10を形成した点にある。この方法により、ア
ドレス電極10を形成するための導体層の加工プロセス
(例えば、フォトエッチング)を省略でき、背面基板の
製造工程の短縮が達成される。また、本発明を適用した
この実施例では、従来のガス放電型表示装置とその製造
方法に比べて次の効果が得られる。
The second point to which the present invention is applied in the embodiment of the present invention is to form the recesses (grooves) forming the discharge space (the barrier ribs 11 are formed thereby) and then form the address electrodes 10. In point. By this method, the process of processing the conductor layer for forming the address electrode 10 (for example, photoetching) can be omitted, and the manufacturing process of the rear substrate can be shortened. Further, in this embodiment to which the present invention is applied, the following effects can be obtained as compared with the conventional gas discharge type display device and its manufacturing method.

【0058】(a)バリアリブ11をソーダライムガラ
スの歪み点より低い温度で形成できるので、ガラス基板
の変形を抑制できる。
(A) Since the barrier ribs 11 can be formed at a temperature lower than the strain point of soda lime glass, the deformation of the glass substrate can be suppressed.

【0059】(b)背面基板2の歩留まりは、バリアリ
ブ形成不良とアドレス電極の形成不良によって低下す
る。特に、バリアリブの形成不良が重大な問題あり、従
来のガス放電型表示装置の製造方法では、アドレス電極
が良品であってもバリアリブ形成不良によって不良とな
る背面基板2が多い。それに対し、本発明の実施例で
は、良品のバリアリブを有する背面基板にのみアドレス
電極を形成することが可能になる。すなわち、背面基板
の製造歩留まりを高くできる。
(B) The yield of the rear substrate 2 is lowered due to defective formation of barrier ribs and defective formation of address electrodes. In particular, defective formation of barrier ribs is a serious problem, and in the conventional method of manufacturing a gas discharge type display device, many rear substrates 2 are defective due to defective formation of barrier ribs even if the address electrodes are good. On the other hand, in the embodiment of the present invention, the address electrode can be formed only on the rear substrate having the good barrier rib. That is, the manufacturing yield of the back substrate can be increased.

【0060】以上述べたように、本発明の第1の実施例
によれば、背面基板の製造工程の工程短縮と歩留り向上
が達成でき、表示セル選択の信頼性を高くできるガス放
電型表示装置を提供できる効果がある。
As described above, according to the first embodiment of the present invention, the gas discharge type display device capable of shortening the manufacturing process of the rear substrate and improving the yield and enhancing the reliability of the display cell selection. There is an effect that can be provided.

【0061】なお、本発明の第1の実施例では、背面ガ
ラス基板5としてソーダライムガラスを用いたが、その
他のガラス板やセラミック基板などの電気的絶縁性板材
を用いても差支えない。また、アドレス電圧の対する耐
圧が確保されれば、一方の主表面に放電空間として働く
“溝”を設けた金属板などの導電性材料を絶縁材料で被
覆して背面ガラス基板5としても差支えない。この場合
には、背面基板2の大きな機械的強度と優れた熱放散性
の効果も得られる。
In the first embodiment of the present invention, soda lime glass is used as the back glass substrate 5, but other glass plates or electrically insulating plate materials such as ceramic substrates may be used. Further, as long as the withstand voltage against the address voltage is secured, the back glass substrate 5 may be formed by coating a conductive material such as a metal plate having a "groove" serving as a discharge space on one main surface with an insulating material. . In this case, the effects of the large mechanical strength of the rear substrate 2 and the excellent heat dissipation are also obtained.

【0062】<実施例2>本発明の第2の実施例を図4
により説明する。図4は本発明を適用したガス放電型表
示装置の一部を断面図で示したものである。図4の
(a)はアドレス電極10に平行な断面を、図4(b)
はアドレス電極10に垂直である、図4(a)に示した
A−B断面を、図4(c)はアドレス電極10に垂直で
ある、図4(a)に示したC−D断面を示している。図
4に示したように、本発明の第2の実施例では、格子状
バリアリブ18を前面基板1と背面基板2の間に挿入し
た以外は上記本発明の第1の実施例と同様の方法でガス
放電型表示装置を作製した。
<Second Embodiment> FIG. 4 shows a second embodiment of the present invention.
This will be described below. FIG. 4 is a sectional view showing a part of a gas discharge type display device to which the present invention is applied. 4A shows a cross section parallel to the address electrode 10 and FIG.
4A is a cross section perpendicular to the address electrode 10 shown in FIG. 4A, and FIG. 4C is a cross section perpendicular to the address electrode 10 shown in FIG. 4A. Shows. As shown in FIG. 4, in the second embodiment of the present invention, the same method as in the first embodiment of the present invention except that the grid-shaped barrier ribs 18 are inserted between the front substrate 1 and the rear substrate 2. Then, a gas discharge type display device was produced.

【0063】格子状バリアリブ18は、絶縁材料又は絶
縁処理した金属材料である。上記格子状バリアリブ18
の絶縁材料は、前面ガラス基板4及び背面ガラス基板5
と同じ材質のソーダライムガラスを使用し、所定の形状
にサンドブラスト処理又は化学エッチング処理により作
製した。また、上記格子状バリアリブ18に用いる金属
材料の絶縁処理としては、上述の第1の実施例の誘電体
層8に使用した加水分解型コーティング剤を用いて行っ
た。上記金属材料としては、前面ガラス基板4及び背面
ガラス基板5に用いるソーダライムガラスと熱膨張係数
がほぼ一致する426合金を用い、所定の形状に化学エ
ッチング処理により作製した。
The grid-like barrier ribs 18 are made of an insulating material or an insulating-treated metal material. The lattice-shaped barrier rib 18
The insulating material is the front glass substrate 4 and the rear glass substrate 5.
Using soda lime glass of the same material as above, it was formed into a predetermined shape by sandblasting or chemical etching. In addition, the insulating treatment of the metal material used for the grid-like barrier ribs 18 was performed using the hydrolysis-type coating agent used for the dielectric layer 8 of the first embodiment. As the metal material, 426 alloy having a thermal expansion coefficient substantially equal to that of soda lime glass used for the front glass substrate 4 and the rear glass substrate 5 was used, and it was formed into a predetermined shape by chemical etching.

【0064】本実施例においても、上述の第1の実施例
と同様の効果が得られた。
Also in this embodiment, the same effect as that of the above-mentioned first embodiment was obtained.

【0065】<実施例3>本発明の第3の実施例を図5
により説明する。図5は本発明を適用したガス放電型表
示装置の一部を断面図で示したものである。図5の
(a)はアドレス電極10に平行な断面を、図5(b)
はアドレス電極10に垂直である、図5(a)に示した
A−B断面を、図5(c)はアドレス電極10に垂直で
ある、図5(a)に示したC−D断面を示している。図
5に示したように、本発明の第3の実施例では、バリア
リブ11を有する隔壁基板13を前面基板1と背面基板
2の間に挿入した以外は、第1の実施例と同様の方法で
ガス放電型表示装置を作製した。
<Embodiment 3> A third embodiment of the present invention is shown in FIG.
This will be described below. FIG. 5 is a sectional view showing a part of a gas discharge type display device to which the present invention is applied. 5A shows a cross section parallel to the address electrode 10 and FIG.
5A is a cross section perpendicular to the address electrode 10 shown in FIG. 5A, and FIG. 5C is a cross section perpendicular to the address electrode 10 shown in FIG. 5A. Shows. As shown in FIG. 5, in the third embodiment of the present invention, the same method as in the first embodiment except that the partition substrate 13 having the barrier ribs 11 is inserted between the front substrate 1 and the rear substrate 2. Then, a gas discharge type display device was produced.

【0066】図5に示したバリアリブ11を有する隔壁
基板13を形成する方法を以下に示す。
A method of forming the partition substrate 13 having the barrier ribs 11 shown in FIG. 5 will be described below.

【0067】(1)隔壁基板13用ガラス基材を中性洗
剤やアルコールを用いて洗浄する。
(1) The glass substrate for the partition substrate 13 is washed with a neutral detergent or alcohol.

【0068】(2)隔壁基板13用ガラス基材に感光性
樹脂を塗布し、各セルにおける前面基板1側と背面基板
2側との放電の導通経路を作成するための所定パターン
を有するポジ(ネガ)フィルムをセットし、3kW(出
力8mW)の超高圧水銀灯を用い、露光量を200mJ
/cm2〜250mJ/cm2に調節して露光を行う。
(2) A positive resin having a predetermined pattern for applying a photosensitive resin to the glass substrate for the partition substrate 13 to form a discharge conduction path between the front substrate 1 side and the rear substrate 2 side in each cell. Negative) film is set and the exposure amount is 200 mJ using a 3 kW (output 8 mW) ultra high pressure mercury lamp.
/ Cm 2 to 250 mJ / cm 2 and exposure is performed.

【0069】(3)その後、0.2%〜0.5%の炭酸
ナトリウム水溶液を用いて、現像温度:25℃、圧力:
1.2kg/cm2、時間:105秒の条件でスプレー
現像を行う。この現像の後、0.1%程度の希酸で中和
し、水洗、乾燥を行う。
(3) Thereafter, using a 0.2% to 0.5% sodium carbonate aqueous solution, the developing temperature: 25 ° C., the pressure:
Spray development is performed under the conditions of 1.2 kg / cm 2 and time: 105 seconds. After this development, it is neutralized with a dilute acid of about 0.1%, washed with water and dried.

【0070】(4)次に、サンドブラスト法により、前
面基板側と背面基板側との放電の導通経路を形成する。
導通経路の寸法及び形状は、0.1mm×0.15mm
の貫通孔である。
(4) Next, a conduction path for discharge between the front substrate side and the rear substrate side is formed by the sandblast method.
The size and shape of the conduction path is 0.1 mm x 0.15 mm
Through hole.

【0071】(5)導通経路作成のためのサンドブラス
ト加工後、剥離液により感光膜を剥離し、その後、この
隔壁基板13用ガラス基材の両面に感光性樹脂を塗布
し、セルを形成するための所定パターンのポジ(ネガ)
フィルムをセットし、3kW(出力8mW)の超高圧水
銀灯を用い、露光量を200mJ/cm2〜250mJ
/cm2に調節して露光を行う。
(5) In order to form a cell by sandblasting for forming a conductive path, the photosensitive film is peeled off by a peeling solution, and then a photosensitive resin is applied to both surfaces of the glass substrate for the partition substrate 13. Positive pattern (negative)
Set the film and use a super high pressure mercury lamp of 3kW (output 8mW), and the exposure amount is 200mJ / cm 2 to 250mJ.
/ Cm 2 and adjust the exposure.

【0072】(6)その後、0.2%〜0.5%の炭酸
ナトリウム水溶液を用いて、現像温度:25℃、圧力:
1.2kg/cm2、時間:105秒の条件でスプレー
現像を行う。この現像の後、0.1%程度の希酸で中和
し、水洗、乾燥を行う。
(6) Then, using a 0.2% to 0.5% sodium carbonate aqueous solution, the developing temperature: 25 ° C., the pressure:
Spray development is performed under the conditions of 1.2 kg / cm 2 and time: 105 seconds. After this development, it is neutralized with a dilute acid of about 0.1%, washed with water and dried.

【0073】(7)両面サンドブラスト法により、セル
の主放電用の空間100、補助放電用の空間200を形
成する。これにより、バリアリブ11と、前面基板1及
び背面基板2の間にこれらの面に平行な隔壁13とが形
成される。
(7) A space 100 for main discharge and a space 200 for auxiliary discharge of the cell are formed by the double-sided sandblasting method. Thereby, the barrier ribs 11 and the partition walls 13 parallel to these surfaces are formed between the front substrate 1 and the rear substrate 2.

【0074】(8)さらに、この隔壁13の前面基板側
に、スプレー法により白色蛍光体を塗布する。150℃
〜300℃の温度で5分〜60分間の乾燥を行う。
(8) Further, a white phosphor is applied to the front substrate side of the partition wall 13 by a spray method. 150 ° C
Dry at a temperature of ~ 300 ° C for 5 to 60 minutes.

【0075】前述した工程により作成したガス放電型表
示パネルは、各セル間を隔離するバリアリブ11により
画素となるセルが形成され、各セル内に前面基板1及び
背面基板2の面に平行に補助放電を隠すための隔壁13
が形成されて構成される。そして、背面基板2上に形成
された電極10に交流電圧を印加することにより、セル
の補助放電用の空間内に補助放電を発生させる。この補
助放電は、導通経路を通して前面基板1に形成された平
行した2つの電極6及び6a間に印加した交流電圧によ
る主放電を発生させる。この主放電により生じる紫外線
は、蛍光体を発光させ、その光が前面基板を透過して、
表示面全体で画像を形成する。その際、補助放電による
発光は、隔壁で遮光され、主放電による発光のみが観察
されることになる。従って、本実施例により得られた表
示パネルでは、第1の実施例と同様の効果に加えて、表
示される画像に充分なコントラストを得ることができる
という効果もあった。
In the gas discharge type display panel produced by the above-mentioned process, cells to be pixels are formed by the barrier ribs 11 separating the cells, and the cells are assisted in parallel with the surfaces of the front substrate 1 and the rear substrate 2 in each cell. Partition wall 13 to hide the discharge
Is formed. Then, by applying an AC voltage to the electrode 10 formed on the rear substrate 2, an auxiliary discharge is generated in the space for the auxiliary discharge of the cell. This auxiliary discharge causes a main discharge due to the AC voltage applied between the two parallel electrodes 6 and 6a formed on the front substrate 1 through the conduction path. The ultraviolet light generated by this main discharge causes the phosphor to emit light, and the light passes through the front substrate,
An image is formed on the entire display surface. At that time, the light emission due to the auxiliary discharge is shielded by the partition wall, and only the light emission due to the main discharge is observed. Therefore, in the display panel obtained in this example, in addition to the same effect as in the first example, there was an effect that a sufficient contrast can be obtained in the displayed image.

【0076】<実施例4>本発明の第4の実施例を図6
により説明する。図6は本発明を適用したガス放電型表
示装置の一部を断面図で示したものである。図6の
(a)はアドレス電極10に平行な断面を、図6(b)
はアドレス電極10に垂直である、図6(a)に示した
A−B断面を、図6(c)はアドレス電極10に垂直で
ある、図6(a)に示したC−D断面を示している。図
6に示したように、本発明の第4の実施例では、本発明
の第3の実施例と同様に、バリアリブ11を有する隔壁
基板13を前面基板1と背面基板2の間に挿入した以外
は上記本発明の第1の実施例と同様の方法でガス放電型
表示装置を作製した。
<Fourth Embodiment> A fourth embodiment of the present invention is shown in FIG.
This will be described below. FIG. 6 is a sectional view showing a part of a gas discharge type display device to which the present invention is applied. 6A shows a cross section parallel to the address electrode 10 and FIG.
6A is a vertical cross section of the address electrode 10 shown in FIG. 6A, and FIG. 6C is a vertical cross section of the address electrode 10 shown in FIG. 6A. Shows. As shown in FIG. 6, in the fourth embodiment of the present invention, similarly to the third embodiment of the present invention, the partition substrate 13 having the barrier ribs 11 is inserted between the front substrate 1 and the rear substrate 2. A gas discharge display device was manufactured by the same method as in the first embodiment of the present invention except for the above.

【0077】図6に示したバリアリブ11を有する隔壁
基板13を形成する方法は、上記本発明の第3の実施例
における(2)〜(4)の工程を除いた以外は、上記本
発明の第3の実施例と同様である。但し、主放電用の空
間100の長手方向と、補助放電用の空間200の長手
方向とがほぼ直交する用に形成する。
The method of forming the partition substrate 13 having the barrier ribs 11 shown in FIG. 6 is the same as that of the present invention except that steps (2) to (4) in the third embodiment of the present invention are omitted. It is similar to the third embodiment. However, the longitudinal direction of the space 100 for the main discharge and the longitudinal direction of the space 200 for the auxiliary discharge are formed so as to be substantially orthogonal to each other.

【0078】前述した工程により作成したガス放電型表
示パネルは、各セル間を隔離するバリアリブ11により
画素となるセルが形成され、各セル内に前面基板1及び
背面基板2の面に平行に補助放電を隠すための隔壁13
が形成されて構成される。そして、背面基板2上に形成
された電極10に交流電圧を印加することにより、セル
の補助放電用の空間内に補助放電を発生させる。この補
助放電は、導通経路を通して前面基板1に形成された平
行した2つの電極6及び6a間に印加した交流電圧によ
る主放電を発生させる。この主放電により生じる紫外線
は、蛍光体を発光させ、その光が前面基板を透過して、
表示面全体で画像を形成する。その際、補助放電による
発光は、隔壁で遮光され、主放電による発光のみが観察
されることになるため、表示される画像に充分なコント
ラストを得ることができる。従って、本実施例では、上
述の第1および第3の実施例と同様の効果が得られた。
In the gas discharge type display panel produced by the above-described process, cells to be pixels are formed by the barrier ribs 11 that separate the cells from each other, and the cells are assisted in parallel with the surfaces of the front substrate 1 and the rear substrate 2 in each cell. Partition wall 13 to hide the discharge
Is formed. Then, by applying an AC voltage to the electrode 10 formed on the rear substrate 2, an auxiliary discharge is generated in the space for the auxiliary discharge of the cell. This auxiliary discharge causes a main discharge due to the AC voltage applied between the two parallel electrodes 6 and 6a formed on the front substrate 1 through the conduction path. The ultraviolet light generated by this main discharge causes the phosphor to emit light, and the light passes through the front substrate,
An image is formed on the entire display surface. At this time, the light emitted by the auxiliary discharge is shielded by the barrier ribs, and only the light emitted by the main discharge is observed, so that a sufficient contrast can be obtained in the displayed image. Therefore, in this embodiment, the same effect as that of the above-mentioned first and third embodiments was obtained.

【0079】<実施例5>誘電体層8の形成に使用する
材料を表1及び2に示す材料にした以外は、上記本発明
の第1〜4の実施例と同様の方法でガス放電型表示装置
を作製した。表1には加水分解型コーティング剤を、表
2には水ガラス系材料を、それぞれ示す。表中の組成
は、無機酸化物に換算した時の重量%である。いずれの
組成においても、良好な誘電体層8を得ることができ、
第1〜4の実施例と同様の効果が得られた。
<Embodiment 5> A gas discharge type is prepared in the same manner as in the first to fourth embodiments of the present invention, except that the materials used for forming the dielectric layer 8 are those shown in Tables 1 and 2. A display device was manufactured. Table 1 shows hydrolyzable coating agents, and Table 2 shows water glass materials. The composition in the table is% by weight when converted to an inorganic oxide. With any composition, a good dielectric layer 8 can be obtained,
The same effects as those of the first to fourth examples were obtained.

【0080】[0080]

【表1】 [Table 1]

【0081】[0081]

【表2】 [Table 2]

【0082】<実施例6>本実施例においても、第1の
実施例と同様にしてガス放電型表示パネルを作製した。
ただし、背面基板に”溝”を形成する際、図10(a)
に示したように、アドレス電極の延伸方向に平行な方向
にもわん曲させた。なお、図10(a)はアドレス電極
10に平行な断面を、図10(b)はアドレス電極10
に垂直である、図10(a)に示したA−B断面を、図
10(c)はアドレス電極10に垂直である、図10
(a)に示したC−D断面を示している。
Example 6 In this example also, a gas discharge type display panel was produced in the same manner as in the first example.
However, when forming the "groove" on the rear substrate, as shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the address electrodes were also bent in a direction parallel to the extending direction. 10A shows a cross section parallel to the address electrode 10, and FIG. 10B shows the address electrode 10.
10 is perpendicular to the address electrode 10, and FIG. 10 (c) is perpendicular to the address electrode 10.
The CD cross section shown to (a) is shown.

【0083】本実施例により得られた表示パネルは、実
施例1の表示パネルに比べて、さらに均一な輝度が得ら
れた。
The display panel obtained in this example provided more uniform brightness than the display panel of Example 1.

【0084】[0084]

【発明の効果】本発明によれば、主放電空間に形成する
蛍光体の形状を主放電により励起される紫外線からの距
離が一定となるように形成できるため、発光強度のばら
つきがないため輝度ばらつきがなく、最も発光効率の良
いガス放電型表示装置の構造と製造方法を提供できる効
果が得られる。
According to the present invention, since the shape of the phosphor formed in the main discharge space can be formed so that the distance from the ultraviolet rays excited by the main discharge is constant, there is no variation in the emission intensity and the brightness is high. It is possible to provide the effect that the structure and manufacturing method of the gas discharge type display device having the best luminous efficiency without variations can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 実施例1の表示パネルの構成を示す部分断面
図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a configuration of a display panel of Example 1.

【図2】 実施例1の製造工程の一例を示す工程フロー
図である。
2 is a process flow chart showing an example of a manufacturing process of Example 1. FIG.

【図3】 実施例1の製造工程におけるアドレス電極形
成プロセスの例を示す工程フロー図である。
FIG. 3 is a process flow chart showing an example of an address electrode forming process in the manufacturing process of the first embodiment.

【図4】 実施例2の表示パネルの構成を示す部分断面
図である。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing the configuration of the display panel of Example 2.

【図5】 実施例3の表示パネルの構成を示す部分断面
図である。
FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing a configuration of a display panel of Example 3.

【図6】 実施例4の表示パネルの構成を示す部分断面
図である。
FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing the configuration of the display panel of Example 4.

【図7】 ガス放電型表示パネルの従来例を示す斜視図
である。
FIG. 7 is a perspective view showing a conventional example of a gas discharge type display panel.

【図8】 ガス放電型表示パネルの従来例を示す断面図
である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a conventional example of a gas discharge type display panel.

【図9】 従来のガス放電型表示装置の製造方法の一例
を示す工程フロー図である。
FIG. 9 is a process flow chart showing an example of a method of manufacturing a conventional gas discharge display device.

【図10】 実施例6の表示パネルの構成を示す部分断
面図である。
FIG. 10 is a partial cross-sectional view showing the configuration of the display panel of Example 6.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…前面基板、2…背面基板、3…放電空間領域、4…
前面ガラス基板、5…背面ガラス基板、6・6a…表示
電極(透明電極)、7・7a…バス電極、8…誘電体
層、9…保護層(MgO)、10…アドレス電極、10
a…補助放電用共通電極、11…バリアリブ、12…蛍
光体層、13…隔壁、17…シール層、18…ブラック
格子、100…主放電空間、200…補助放電空間、1
120…感光性フィルム、1140…導体層。
1 ... Front substrate, 2 ... Rear substrate, 3 ... Discharge space region, 4 ...
Front glass substrate, 5 ... Rear glass substrate, 6.6a ... Display electrode (transparent electrode), 7.7a ... Bus electrode, 8 ... Dielectric layer, 9 ... Protective layer (MgO), 10 ... Address electrode, 10
a ... Common electrode for auxiliary discharge, 11 ... Barrier rib, 12 ... Phosphor layer, 13 ... Partition, 17 ... Seal layer, 18 ... Black lattice, 100 ... Main discharge space, 200 ... Auxiliary discharge space, 1
120 ... Photosensitive film, 1140 ... Conductor layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 和雄 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 高井 輝男 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所映像情報メディア事業部 内 (72)発明者 雨宮 恭子 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 坂上 志之 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 庄子 房次 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Kazuo Suzuki, inventor Kazuo Suzuki, 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama, Kanagawa, Ltd., Hitachi, Ltd., Institute of Industrial Science (72) Teruo Takai, 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama, Kanagawa Incorporated company Hitachi, Ltd., Visual Information Media Division (72) Inventor Kyoko Amamiya 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Production Engineering Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Shika Sakagami Totsuka, Yokohama-shi, Kanagawa 292, Yoshida-cho, Ward-ku, Hitachi, Ltd., Production Engineering Laboratory, Ltd. (72) Inventor, Fusuji Shoko, 292, Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama, Kanagawa

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】主放電用電極を備える前面基板と、 補助放電用電極を備える背面基板とを備え、 上記背面基板は、 前面基板側表面に、内壁に蛍光体層を有する複数の主放
電用凹部を備え、 上記主放電用凹部は、内壁がわん曲していることを特徴
とするガス放電型表示パネル。
1. A front substrate provided with electrodes for main discharge and a back substrate provided with electrodes for auxiliary discharge, wherein the back substrate has a plurality of main discharges having a phosphor layer on an inner wall on a front substrate side surface. A gas discharge type display panel comprising a concave portion, wherein the main discharge concave portion has a curved inner wall.
【請求項2】請求項1において、 上記補助放電用電極は、上記主放電用凹部の内壁と、上
記蛍光体層との間に設けられていることを特徴とするガ
ス放電型表示パネル。
2. The gas discharge display panel according to claim 1, wherein the auxiliary discharge electrode is provided between the inner wall of the main discharge recess and the phosphor layer.
【請求項3】主放電用電極を備える前面基板と、 補助放電用電極を備える背面基板と、 上記前面基板と上記背面基板とに挟まれた隔壁基板とを
備え、 上記隔壁基板は、 前面基板側表面に、内壁に蛍光体層を有する複数の主放
電用凹部を備え、 背面基板側表面に、複数の補助放電用凹部を備え、 上記主放電用凹部は、内壁がわん曲していることを特徴
とするガス放電型表示パネル。
3. A front substrate provided with electrodes for main discharge, a back substrate provided with electrodes for auxiliary discharge, and a partition substrate sandwiched between the front substrate and the back substrate, wherein the partition substrate is a front substrate. The side surface is provided with a plurality of main discharge recesses having a phosphor layer on the inner wall, the rear substrate side surface is provided with a plurality of auxiliary discharge recesses, and the main discharge recesses are curved inner walls. Gas discharge type display panel characterized by.
【請求項4】主放電用電極を備える前面基板と、 補助放電用電極を備える背面基板と、 上記前面基板と上記背面基板とに挟まれた隔壁基板とを
備え、 上記隔壁基板は、 前面基板側表面に、内壁に蛍光体層を有する複数の主放
電用凹部を備え、 上記背面基板は、 隔壁基板側表面に、複数の補助放電用凹部を備え、 上記主放電用凹部は、内壁がわん曲していることを特徴
とするガス放電型表示パネル。
4. A front substrate provided with electrodes for main discharge, a back substrate provided with electrodes for auxiliary discharge, and a partition substrate sandwiched between the front substrate and the back substrate, wherein the partition substrate is a front substrate. The side surface is provided with a plurality of main discharge recesses having a phosphor layer on the inner wall, the back substrate is provided with a plurality of auxiliary discharge recesses on the partition substrate side surface, and the main discharge recess has an inner wall. A gas discharge type display panel characterized by being bent.
【請求項5】請求項3または4において、 上記補助放電用凹部は、内壁がわん曲していることを特
徴とするガス放電型表示パネル。
5. The gas discharge type display panel according to claim 3, wherein an inner wall of the recess for auxiliary discharge is curved.
【請求項6】請求項4において、 上記補助放電用電極は、上記補助放電用凹部の内壁に設
けられていることを特徴とするガス放電型表示パネル。
6. The gas discharge type display panel according to claim 4, wherein the auxiliary discharge electrode is provided on an inner wall of the auxiliary discharge recess.
【請求項7】請求項1,3または4において、 上記主放電用凹部は、同一方向に延びた溝であることを
特徴とするガス放電型表示パネル。
7. The gas discharge display panel according to claim 1, 3 or 4, wherein the main discharge recesses are grooves extending in the same direction.
【請求項8】請求項3または4において、 上記補助放電用凹部は、同一方向に延びた溝であること
を特徴とするガス放電型表示パネル。
8. The gas discharge display panel according to claim 3, wherein the recess for auxiliary discharge is a groove extending in the same direction.
【請求項9】請求項7または8において、 上記表示パネルの、上記溝の延伸方向に直角な断面にお
いて、上記溝の内壁は、円の一部を構成することを特徴
とするガス放電型表示パネル。
9. The gas discharge display according to claim 7, wherein an inner wall of the groove constitutes a part of a circle in a cross section of the display panel at a right angle to the extending direction of the groove. panel.
【請求項10】請求項1,3,4において、 上記主放電用凹部の内壁は、球面形状の一部を構成する
ことを特徴とするガス放電型表示パネル。
10. The gas discharge type display panel according to claim 1, 3, or 4, wherein the inner wall of the main discharge concave portion constitutes a part of a spherical shape.
【請求項11】請求項3または4において、 上記補助放電用凹部の内壁は、球面形状の一部を構成す
ることを特徴とするガス放電型表示パネル。
11. The gas discharge display panel according to claim 3, wherein an inner wall of the auxiliary discharge recess forms a part of a spherical shape.
【請求項12】主放電用電極を備える前面基板を形成す
る前面基板形成工程と、 補助放電用電極を備える背面基板を形成する背面基板形
成工程と、 上記前面基板と、上記背面基板とを対向させて組み立て
る組み立て工程とを備え、 上記背面基板形成工程は、 基材表面に、内部がわん曲している主放電用凹部を複数
形成する工程を有することを特徴とするガス放電型表示
パネルの製造方法。
12. A front substrate forming step of forming a front substrate having an electrode for main discharge, a back substrate forming step of forming a back substrate having an electrode for auxiliary discharge, the front substrate and the back substrate facing each other. And the assembling step of assembling, wherein the back substrate forming step has a step of forming a plurality of main discharge concave portions having an inner curved surface on the base material surface. Production method.
【請求項13】請求項12において、 上記背面基板形成工程は、 上記補助放電用電極を、上記主放電用凹部の内壁に形成
する工程と、 上記補助放電用電極を覆うように、上記主放電用凹部の
内壁に蛍光体層を形成する工程とを、さらに有すること
を特徴とするガス放電型表示パネル。
13. The back substrate forming step according to claim 12, wherein the auxiliary discharge electrode is formed on an inner wall of the main discharge recess, and the main discharge is performed so as to cover the auxiliary discharge electrode. And a step of forming a phosphor layer on the inner wall of the recess for use in gas discharge display panel.
【請求項14】主放電用電極を備える前面基板を形成す
る前面基板形成工程と、 補助放電用電極を備える背面基板を形成する背面基板形
成工程と、 上記前面基板と上記背面基板との間を離間するための隔
壁基板を形成する隔壁基板形成工程と、 上記背面基板と、上記隔壁基板と、上記前面基板とを積
層して固定する組み立て工程とを備え、 上記隔壁基板形成工程は、 基材の表裏両面に、内部がわん曲している凹部を、それ
ぞれ複数形成する工程を有することを特徴とするガス放
電型表示パネルの製造方法。
14. A front substrate forming step of forming a front substrate having an electrode for main discharge, a back substrate forming step of forming a rear substrate having an electrode for auxiliary discharge, and a step between the front substrate and the back substrate. A partition substrate forming step of forming a partition substrate for separation, an assembly step of stacking and fixing the back substrate, the partition substrate, and the front substrate, wherein the partition substrate forming step is a base material. 2. A method of manufacturing a gas discharge type display panel, comprising the step of forming a plurality of concave portions each having a curved inner surface on both front and back sides thereof.
【請求項15】主放電用電極を備える前面基板を形成す
る前面基板形成工程と、 補助放電用電極を備える背面基板を形成する背面基板形
成工程と、 上記前面基板と上記背面基板との間を離間するための隔
壁基板を形成する隔壁基板形成工程と、 上記背面基板と、上記隔壁基板と、上記前面基板とを積
層して固定する組み立て工程とを備え、 上記隔壁基板形成工程は、 基材の表裏一方の面に、内部がわん曲している凹部を複
数形成する工程を有し、 上記背面基板形成工程は、 基材の表裏一方の面に、内部がわん曲している凹部を複
数形成する工程を有し、 上記組み立て工程は、 上記背面基板の上記凹部を設けた面と、上記隔壁基板の
上記凹部を設けていない面とを対向させ、上記隔壁基板
の上記凹部を設けた面と、上記前面基板とを対向させて
組み立てる工程を有することを特徴とするガス放電型表
示パネルの製造方法。
15. A front substrate forming step of forming a front substrate having a main discharge electrode, a back substrate forming step of forming a back substrate having an auxiliary discharge electrode, and a step between the front substrate and the back substrate. A partition substrate forming step of forming a partition substrate for separation, an assembly step of stacking and fixing the back substrate, the partition substrate, and the front substrate, wherein the partition substrate forming step is a base material. Has a step of forming a plurality of concave portions having an inner curved surface on one of the front and back surfaces thereof, and the back substrate forming step includes forming a plurality of concave portions having an inner curved surface on one of the front and back surfaces of the base material. The assembly step includes the step of forming the recessed surface of the partition substrate, and the surface of the partition substrate opposite to the recessed surface of the partition substrate. And the front substrate above Method for manufacturing a gas discharge display panel comprising a step of assembling by.
JP8089824A 1996-04-11 1996-04-11 Gas discharge type display panel and its manufacture Pending JPH09283032A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8089824A JPH09283032A (en) 1996-04-11 1996-04-11 Gas discharge type display panel and its manufacture

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8089824A JPH09283032A (en) 1996-04-11 1996-04-11 Gas discharge type display panel and its manufacture

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09283032A true JPH09283032A (en) 1997-10-31

Family

ID=13981512

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8089824A Pending JPH09283032A (en) 1996-04-11 1996-04-11 Gas discharge type display panel and its manufacture

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09283032A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990040872A (en) * 1997-11-20 1999-06-15 구자홍 Structure and Manufacturing Method of Plasma Display
WO2002019369A1 (en) * 2000-08-30 2002-03-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Plasma display unit and production method thereof
KR100570673B1 (en) * 2001-01-16 2006-04-12 삼성에스디아이 주식회사 Gas discharge type display device
US7348726B2 (en) 2002-08-02 2008-03-25 Samsung Sdi Co., Ltd. Plasma display panel and manufacturing method thereof where address electrodes are formed by depositing a liquid in concave grooves arranged in a substrate
US7518309B2 (en) 2003-10-23 2009-04-14 Samsung Sdi Co., Ltd. Plasma display panel
WO2009069173A1 (en) * 2007-11-26 2009-06-04 Hitachi, Ltd. Method of forming barrier wall for production of plasma display panel
US7567035B2 (en) * 2003-05-09 2009-07-28 Samsung Sdi Co., Ltd. Gas discharge display device and method for manufacturing the same
JP2012503844A (en) * 2008-09-23 2012-02-09 ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニバーシティ オブ イリノイ Oval microcavity plasma device and powder blasting method

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990040872A (en) * 1997-11-20 1999-06-15 구자홍 Structure and Manufacturing Method of Plasma Display
WO2002019369A1 (en) * 2000-08-30 2002-03-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Plasma display unit and production method thereof
US6891331B2 (en) 2000-08-30 2005-05-10 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Plasma display unit and production method thereof
US7040947B2 (en) 2000-08-30 2006-05-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of forming electrode layers
KR100570673B1 (en) * 2001-01-16 2006-04-12 삼성에스디아이 주식회사 Gas discharge type display device
US7348726B2 (en) 2002-08-02 2008-03-25 Samsung Sdi Co., Ltd. Plasma display panel and manufacturing method thereof where address electrodes are formed by depositing a liquid in concave grooves arranged in a substrate
US7567035B2 (en) * 2003-05-09 2009-07-28 Samsung Sdi Co., Ltd. Gas discharge display device and method for manufacturing the same
US7518309B2 (en) 2003-10-23 2009-04-14 Samsung Sdi Co., Ltd. Plasma display panel
WO2009069173A1 (en) * 2007-11-26 2009-06-04 Hitachi, Ltd. Method of forming barrier wall for production of plasma display panel
JP2012503844A (en) * 2008-09-23 2012-02-09 ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニバーシティ オブ イリノイ Oval microcavity plasma device and powder blasting method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH1049072A (en) Gas discharge type display device and its manufacture
JP2001084913A (en) Gas discharge type display panel
JPH09283032A (en) Gas discharge type display panel and its manufacture
WO2001029858A1 (en) Plasma display and method for producing the same
US6512499B1 (en) Flat plasma discharge display device
JPH117897A (en) Gas discharge display panel and display device using it
JPH09283033A (en) Gas discharge type display panel and its manufacture
JP2004119118A (en) Plasma display device and its manufacturing method
JP3306511B2 (en) Rear substrate of plasma display panel and method of manufacturing the same
EP1391907A1 (en) Plasma display
JPH09129138A (en) Surface discharge type plasma display panel
KR20010029871A (en) Flat display apparatus
JP4085223B2 (en) Plasma display device
JP2000011892A (en) Gas-discharge type display panel and display device using the same
JP2002117769A (en) Gas discharge type display device and its manufacturing device
JPH09283031A (en) Gas discharge type display panel and its manufacture
JPH11339666A (en) Front substrate for ac plasma display panel and ac plasma display panel
JP4457066B2 (en) Plasma display panel
KR100340076B1 (en) Method for simultaneous forming electrode and barrier rib of plasma display panel by electroplating
JP2000243303A (en) Structure for back side substrate of discharge type display device
JP2002117770A (en) Gas discharge panel substrate and gas discharge panel
JPH1064433A (en) Gas discharge type display device
JP2002015677A (en) Gas discharge type display panel
EP1760752A1 (en) Plasma Display Panel
JP2001283737A (en) Plasma display panel