JPH09281506A - Liquid crystal element - Google Patents

Liquid crystal element

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Publication number
JPH09281506A
JPH09281506A JP11323896A JP11323896A JPH09281506A JP H09281506 A JPH09281506 A JP H09281506A JP 11323896 A JP11323896 A JP 11323896A JP 11323896 A JP11323896 A JP 11323896A JP H09281506 A JPH09281506 A JP H09281506A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal element
coating film
resin composition
photosensitive resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP11323896A
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Japanese (ja)
Inventor
Eiji Watanabe
英司 渡▲辺▼
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JNC Corp
Original Assignee
Chisso Corp
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Publication date
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Publication of JPH09281506A publication Critical patent/JPH09281506A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the deterioration of the electrical property of a liquid crystal of its own by containing a resin coating film, which is obtained from a photosensitive resin composition using a photo-acid generating agent as an initiator and has liquid crystal resistance, as a spacer. SOLUTION: The resin coating film obtained from the photosensitive resin composition using the photo-acid generating agent as the initiator and having liquid crystal resistance is used as the spacer or a sealing material. The photosensitive resin composition consists essentially of a silicon-containing polyimide precursor and the photo-acid generating agent, is a solution obtained by dissolving the essential components in an organic solvent and contains no acrylic monomer. And the coating film of the photosensitive resin composition is formed on a substrate having a transparent electrode and a part of the coating film is exposed through a photomask. And one of the exposed region of the coating film or the unexposed region is developed to be removed. As a result, a liquid crystal layer having excellent liquid crystal orienting property, free from the deterioration of electrical property such as after-image phenomenon, excellent in opening ratio and contrast, high in mechanical strength and having uniform layer thickness is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0010】[0010]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶素子に関する。
更に詳しくは、TN方式、STN方式、強誘電方式、反
強誘電方式等の液晶素子に樹脂皮膜を組み込んだ液晶素
子に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a liquid crystal device.
More specifically, it relates to a liquid crystal element in which a resin film is incorporated into a liquid crystal element such as a TN type, an STN type, a ferroelectric type and an antiferroelectric type.

【0011】[0011]

【従来の技術】マイクロコンピュータ、ワードプロセッ
サ、テレビ、時計や電卓に用いられている液晶素子に
は、上、下2枚で一対をなす透明電極基板の間でネマチ
ック液晶分子の配列方向を90度に捻った構造のツイス
ト・ネマチック(以下、TNと略す)モードが採用され
ている。また、ねじれ角を180〜300度と大きくし
たスーパーツイステッドネマチック(以下、STNと略
す)モードも開発され、大画面でも表示品位の良好な液
晶素子が得られるようになった。さらに、近年では、マ
トリックス表示やカラー表示等を行うようになってきた
ため、多数の画素電極とこれらのON−OFFを行うこ
とのできるアクティブ型TNモードを採用したMIM
(金属ー絶縁相ー金属)素子やTFT(電界効果型薄膜
トランジスタ)素子の開発が盛んになってきた。また、
高速応答が可能な強誘電性液晶や高精細な表示を可能に
する反強誘電性液晶を用いた素子も開発されている。
2. Description of the Related Art In liquid crystal elements used in microcomputers, word processors, televisions, watches and calculators, nematic liquid crystal molecules are aligned at 90 degrees between a pair of upper and lower transparent electrode substrates. A twisted nematic (TN) mode with a twisted structure is adopted. In addition, a super twisted nematic (hereinafter abbreviated as STN) mode having a large twist angle of 180 to 300 degrees has been developed, and a liquid crystal element having a good display quality even on a large screen can be obtained. Furthermore, in recent years, since matrix display and color display have come to be performed, a large number of pixel electrodes and an MIM adopting an active TN mode capable of performing ON / OFF of these pixel electrodes are employed.
The development of (metal-insulating phase-metal) elements and TFT (field effect thin film transistor) elements has become active. Also,
A device using a ferroelectric liquid crystal capable of high-speed response or an antiferroelectric liquid crystal capable of high-definition display has also been developed.

【0012】これらのモード全てに共通する点として液
晶層は、ガラス製のビーズやジビニルベンゼン系樹脂の
ビーズにより数μmという層厚が制御されている。この
層厚を制御する材料としてビーズ(スペーサー)が考え
出された。即ち、スペーサーは一般に球形の粒子であ
る。このビーズは基板上に散布されるが、この散布法
は、ビーズを大気中で散布する乾式法及びビーズを分散
させた溶液を散布する湿式法等がある。しかしながら、
このビーズは液晶素子内に散布させたのみであるため、
ビーズの移動、素子の破壊、開口率の低下が発生する。
そこで、例えば特公平7−56543号公報等により感
光性有機材料を用いた液晶表示装置の作製方法が知られ
ているが、配向処理を行った基板上に感光性有機材料を
塗布して液晶素子を作製すると、液晶配向不良の発生、
電気特性の低下が認められ、実用的な液晶素子を得るこ
とが困難であった。感光性有機材料は一般に、光照射に
よる照射部と未照射部の溶解性の差を利用するが、重合
(架橋)可能な炭素−炭素二重結合を有する化合物が含
まれる場合及び光開始剤、増感剤等が多量に存在する場
合は、配向不良の発生や電気特性の低下のため、実用的
な液晶素子は得られないという問題がある。
As common to all of these modes, the liquid crystal layer has a layer thickness of several μm controlled by glass beads or divinylbenzene resin beads. Beads (spacers) have been devised as a material for controlling the layer thickness. That is, the spacers are generally spherical particles. The beads are sprayed on the substrate. As the spraying method, there are a dry method of spraying the beads in the atmosphere, a wet method of spraying a solution in which the beads are dispersed, and the like. However,
Since these beads are only scattered in the liquid crystal element,
Movement of beads, destruction of elements, and reduction in aperture ratio occur.
Therefore, for example, a method for manufacturing a liquid crystal display device using a photosensitive organic material is known from Japanese Patent Publication No. 7-56543, etc., but a photosensitive organic material is applied onto a substrate subjected to an alignment treatment to form a liquid crystal element. , The liquid crystal alignment failure occurs,
It was difficult to obtain a practical liquid crystal element because the deterioration of the electric characteristics was recognized. Photosensitive organic materials generally utilize the difference in solubility between irradiated and unirradiated areas by light irradiation, but when a compound having a polymerizable (crosslinkable) carbon-carbon double bond is contained and a photoinitiator, When a large amount of the sensitizer and the like are present, there is a problem that a practical liquid crystal element cannot be obtained due to the occurrence of alignment failure and deterioration of electric characteristics.

【0013】また、従来、液晶素子の張り合わせ用接着
剤及び液晶化合物(液晶組成物)の密閉用としてシール
剤が使用されている。一般に、このシール剤としてはエ
ポキシ系の熱硬化樹脂が使用されているが、このシール
剤周辺部での配向不良の発生が問題となっており、その
原因はエポキシの硬化促進剤やその樹脂自身が液晶中に
溶出するためと考えられている。
Further, conventionally, a sealant has been used as an adhesive for bonding liquid crystal elements and for sealing a liquid crystal compound (liquid crystal composition). Generally, an epoxy thermosetting resin is used as this sealing agent, but the problem of the occurrence of misalignment in the peripheral area of this sealing agent is caused by the epoxy curing accelerator and the resin itself. Is believed to be dissolved in the liquid crystal.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題点を解決することであり、良好な液晶配向性を有
し、残像現象、電圧保持率等の電気特性の低下がなく、
開口率及びコントラストに優れ、機械的強度が高く、液
晶層の層厚の均一な液晶素子を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, having good liquid crystal orientation, and preventing deterioration of electric characteristics such as afterimage phenomenon and voltage holding ratio.
An object of the present invention is to provide a liquid crystal element having an excellent aperture ratio and contrast, a high mechanical strength, and a uniform liquid crystal layer thickness.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明者等は従来技術に
かかる上述の問題を解決すべく鋭意検討を行った。その
結果、例えば特開平6−298931号公報、特開平6
−308730号公報、特開平6−308731号公
報、特開平6−348016号公報、特開平7−361
92号公報、特開平7−228777号公報等に開示さ
れた感光性樹脂、すなわち光照射により酸を発生する化
合物(以下、光酸発生剤と略す)を必須成分として含有
し、それを開始剤とする感光性樹脂組成物から得られた
樹脂皮膜を用いることにより、上述の種々の問題を解決
しうることを見い出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made extensive studies to solve the above-mentioned problems of the prior art. As a result, for example, Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 6-298931 and 6
-308730, JP-A-6-308731, JP-A-6-348016, JP-A-7-361
No. 92, JP-A-7-228777, etc., containing a photosensitive resin, that is, a compound capable of generating an acid upon irradiation with light (hereinafter abbreviated as a photoacid generator), as an essential component, and an initiator thereof. It was found that the above-mentioned various problems can be solved by using a resin film obtained from the photosensitive resin composition described above, and the present invention has been completed.

【0016】本発明で用いられる感光性樹脂組成物はシ
リコン含有ポリイミド前駆体、光酸発生剤を主成分と
し、これらを有機溶媒に溶解させることにより得られる
溶液である。従って、通常の感光性ポリイミド樹脂組成
物が含有するアクリル系モノマーを一切含有しないこと
を特徴とするものである。本発明は以下の構成よりな
る。 (1) 光酸発生剤を開始剤とする感光性樹脂組成物か
ら得られた耐液晶性を有する樹脂皮膜を含有することを
特徴とする液晶素子。 (2) 該樹脂皮膜が液晶素子のスペーサーである
(1)項に記載の液晶素子。 (3) 該樹脂皮膜がビーズを含むことを特徴とする
(2)項に記載の液晶素子。 (4) 該樹脂皮膜が液晶素子のシール剤である(1)
若しくは(2)項に記載の液晶素子。 (5) 透明電極を持つ基板上に光酸発生剤を開始剤と
する感光性樹脂組成物の皮膜を形成する工程と、フォト
マスクを通して光照射することにより該皮膜の一部を露
光させる工程と、光照射後、該皮膜の露光領域若しくは
未露光領域の何れかを現像除去する工程を経て製造され
ることを特徴とする(1)項に記載の液晶素子。
The photosensitive resin composition used in the present invention is a solution obtained by dissolving a silicon-containing polyimide precursor and a photoacid generator as main components and dissolving them in an organic solvent. Therefore, it is characterized in that it does not contain any acrylic monomer contained in a usual photosensitive polyimide resin composition. The present invention has the following configurations. (1) A liquid crystal element comprising a resin film having liquid crystal resistance, which is obtained from a photosensitive resin composition having a photoacid generator as an initiator. (2) The liquid crystal device according to item (1), wherein the resin film is a spacer of the liquid crystal device. (3) The liquid crystal device according to item (2), wherein the resin film contains beads. (4) The resin film is a sealant for liquid crystal elements (1)
Alternatively, the liquid crystal element according to item (2). (5) A step of forming a film of a photosensitive resin composition having a photoacid generator as an initiator on a substrate having a transparent electrode, and a step of exposing a part of the film by irradiating with light through a photomask. The liquid crystal element according to item (1), which is manufactured through a step of developing and removing either an exposed region or an unexposed region of the film after the light irradiation.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明の液晶素子の作製方法を以
下に示す。スペーサーは液晶層の層厚を制御する物であ
るが、以下のような方法で作製することができる。すな
わち、上、下の基板の内側には、透明導電性電極(例え
ばインジウムースズ酸化物(ITO)、酸化スズ(Sn
X)) と液晶層を配向処理された面または配向膜とが
順次積層されている。さらに、上、下一方又その両側に
は該樹脂皮膜を目的とする厚さになるように感光性樹脂
組成物を塗布し、フォトマスクを通して光照射し、その
後、現像、焼成を行い開口部以外の場所(例えば、画素
間)に柱状のスペーサーを形成する。ここで、該スペー
サーは、点状でも線状でも良いが各画素間の光抜けを防
止する点から後者の方が好ましい。さらに、該樹脂皮膜
中に従来から用いられてきたビーズを分散させ、固定さ
せて使用することもできる。また、感光性樹脂組成物を
ガラス基板上に塗布し、同様にパターニングを行い基板
の周辺部のみ該組成物を残し、その上に別の基板を対向
するように液晶セルを組み立て、圧着し、焼成すること
によりシール材を液晶素子に組み込むことができる。
さらに、該樹脂皮膜は配向処理剤としても用いることが
できる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A method for manufacturing a liquid crystal element of the present invention will be described below. The spacer controls the thickness of the liquid crystal layer, and can be produced by the following method. That is, inside the upper and lower substrates, transparent conductive electrodes (for example, indium tin oxide (ITO), tin oxide (Sn), etc.
O x )) and the surface or the alignment film having the liquid crystal layer subjected to the alignment treatment are sequentially laminated. Further, a photosensitive resin composition is applied on one side or both sides of the upper side, the lower side, or both sides of the resin coating so as to have a desired thickness, and light irradiation is performed through a photomask, and then development and baking are performed, except for the opening. A columnar spacer is formed at the location (for example, between pixels). Here, the spacer may have a dot shape or a linear shape, but the latter is preferable from the viewpoint of preventing light leakage between pixels. Further, conventionally used beads can be dispersed and fixed in the resin film for use. Further, the photosensitive resin composition is applied onto a glass substrate, and the patterning is performed in the same manner to leave the composition only in the peripheral portion of the substrate, and a liquid crystal cell is assembled so as to face another substrate thereon, and pressure-bonded, The sealing material can be incorporated into the liquid crystal element by firing.
Further, the resin film can be used as an alignment treatment agent.

【0018】ここで、液晶化合物及び組成物としては、
チッソ社製液晶が特に好ましいが、限定される物ではな
い。すなわち、何れの液晶化合物及び組成物を使用する
ことができる。液晶化合物としてより具体的には、次の
一般式(1)〜(8)で表される化合物が好ましい。
Here, as the liquid crystal compound and the composition,
A liquid crystal manufactured by Chisso Corporation is particularly preferable, but not limited thereto. That is, any liquid crystal compound and composition can be used. More specifically, the liquid crystal compounds are preferably compounds represented by the following general formulas (1) to (8).

【0019】[0019]

【化1】 Embedded image

【0020】式(1)〜(3)において、R1は炭素数
1〜10のアルキル基を示し、Y1はフッ素原子、塩素
原子、OCF3、OCF2H、CF3、CF2Hまたは
CFH2を示し、L1、L2、L3及びL4は相互に独
立して水素原子またはフッ素原子を示し、Z1及びZ2
は相互に独立して1,2−エチレン基、−CH=CH−
または共有結合を示し、aは1または2を示す。
In the formulas (1) to (3), R1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y1 represents a fluorine atom, a chlorine atom, OCF3, OCF2H, CF3, CF2H or CFH2, and L1, L2, L3 and L4 each independently represent a hydrogen atom or a fluorine atom, and Z1 and Z2
Are independently of each other a 1,2-ethylene group, -CH = CH-
Or a covalent bond, and a represents 1 or 2.

【0021】式(4)において、R2はフッ素原子、炭
素数1〜10のアルキル基または炭素数2〜10のアル
ケニル基を示す。該アルキル基またはアルケニル基中の
任意のメチレン基は酸素原子によって置換されていても
よいが、2つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置
換されることはない。環Bは1,4−シクロヘキシレ
ン、1,4−フェニレンまたは1,3−ジオキサン−
2,5−ジイルを示し、環Cは1,4−シクロヘキシレ
ン、1,4−フェニレンまたはピリミジン−2,5−ジ
イルを示し、環Dは1,4−シクロヘキシレンまたは
1,4−フェニレンを示し、Z3は1,2−エチレン
基、−COO−または共有結合を示し、L5及びL6は
相互に独立して水素原子またはフッ素原子を示し、b及
びcは相互に独立して0または1を示す。
In the formula (4), R2 represents a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms. Any methylene group in the alkyl group or alkenyl group may be substituted with an oxygen atom, but no two or more methylene groups are continuously substituted with an oxygen atom. Ring B is 1,4-cyclohexylene, 1,4-phenylene or 1,3-dioxane-
2,5-diyl, ring C represents 1,4-cyclohexylene, 1,4-phenylene or pyrimidine-2,5-diyl, ring D represents 1,4-cyclohexylene or 1,4-phenylene. Z3 represents a 1,2-ethylene group, -COO- or a covalent bond, L5 and L6 each independently represent a hydrogen atom or a fluorine atom, and b and c each independently represent 0 or 1. Show.

【0022】式(5)において、R3は炭素数1〜10
のアルキル基を示し、L7は水素原子またはフッ素原子
を示し、dは0または1を示す。
In the formula (5), R3 has 1 to 10 carbon atoms.
Is an alkyl group, L7 is a hydrogen atom or a fluorine atom, and d is 0 or 1.

【0023】式(6)において、R4は炭素数1〜10
のアルキル基を示し、環E及び環Fは相互に独立して
1,4−シクロヘキシレンまたは1,4−フェニレンを
示し、Z4及びZ5は相互に独立して−COO−または
共有結合を示し、Z6は−COO−または−C≡C−を
示し、L8及びL9は相互に独立して水素原子またはフ
ッ素原子を示し、Y2はフッ素原子、OCF3、OCF
2H、CF3、CF2HまたはCFH2を示し、e、f
及びgは相互に独立して0または1を示す。
In the formula (6), R4 has 1 to 10 carbon atoms.
The alkyl group of, ring E and ring F are independently of each other 1,4-cyclohexylene or 1,4-phenylene, Z4 and Z5 are independently of each other -COO- or a covalent bond, Z6 represents -COO- or -C≡C-, L8 and L9 each independently represent a hydrogen atom or a fluorine atom, and Y2 represents a fluorine atom, OCF3, OCF.
2H, CF3, CF2H or CFH2, e, f
And g each independently represent 0 or 1.

【0024】式(7)において、R5及びR6は相互に
独立して炭素数1〜10のアルキル基または炭素数2〜
10のアルケニル基を示す。いずれにおいてもそのうち
の任意のメチレン基は酸素原子によって置換されていて
もよいが、2つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に
置換されることはない。環Gは1,4−シクロヘキシレ
ン、1,4−フェニレンまたはピリミジン−2,5−ジ
イルを示し、環Hは1,4−シクロヘキシレンまたは
1,4−フェニレンを示し、Z7は−C≡C−、−CO
O−、1,2−エチレン基、−CH=CH−C≡C−ま
たは共有結合を示し、Z8は−COO−または共有結合
を示す。
In the formula (7), R5 and R6 are, independently of each other, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or 2 to 2 carbon atoms.
10 alkenyl groups are shown. In each case, any of the methylene groups may be substituted by an oxygen atom, but two or more methylene groups are not consecutively substituted by an oxygen atom. Ring G represents 1,4-cyclohexylene, 1,4-phenylene or pyrimidine-2,5-diyl, Ring H represents 1,4-cyclohexylene or 1,4-phenylene, and Z7 is -C≡C. -, -CO
O-, 1,2-ethylene group, -CH = CH-C [identical to] C- or a covalent bond is shown, and Z8 is -COO- or a covalent bond.

【0025】式(8)において、R7及びR8は相互に
独立して炭素数1〜10のアルキル基または炭素数2〜
10のアルケニル基を示す。いずれにおいてもそのうち
の任意のメチレン基は酸素原子によって置換されていて
もよいが、2つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に
置換されることはない。環Iは1,4−シクロヘキシレ
ン、1,4−フェニレンまたはピリミジン−2,5−ジ
イルを示し、環Jは1,4−シクロヘキシレン、環上の
1つ以上の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよ
い1,4−フェニレンまたはピリミジン−2,5−ジイ
ルを示し、環Kは1,4−シクロヘキシレンまたは1,
4−フェニレンを示し、Z9及びZ10は相互に独立し
て−COO−、1,2−エチレン基または共有結合を示
し、Z11は−CH=CH−、−C≡C−、−COO−
または共有結合を示し、hは0または1を示す。
In formula (8), R7 and R8 are independently of each other an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or 2 to 2 carbon atoms.
10 alkenyl groups are shown. In each case, any of the methylene groups may be substituted by an oxygen atom, but two or more methylene groups are not consecutively substituted by an oxygen atom. Ring I is 1,4-cyclohexylene, 1,4-phenylene or pyrimidine-2,5-diyl, Ring J is 1,4-cyclohexylene, and one or more hydrogen atoms on the ring are substituted with fluorine atoms. 1,4-phenylene or pyrimidine-2,5-diyl, which is optionally substituted, and ring K is 1,4-cyclohexylene or 1,4-cyclohexylene.
4-phenylene, Z9 and Z10 independently of each other represent -COO-, 1,2-ethylene group or a covalent bond, and Z11 represents -CH = CH-, -C≡C-, -COO-.
Alternatively, it represents a covalent bond, and h represents 0 or 1.

【0026】液晶組成物としてより具体的には、一般式
(1)、(2)及び(3)からなる群から選択される化
合物を少なくとも1種類含有することを特徴とする液晶
組成物、あるいは一般式(4)、(5)、(6)、
(7)及び(8)からなる群から選択される化合物を少
なくとも1種類含有することを特徴とする液晶組成物、
あるいは第一成分として、一般式(1)、(2)及び
(3)からなる群から選択される化合物を少なくとも1
種類含有し、第二成分として、一般式(4)、(5)、
(6)、(7)及び(8)からなる群から選択される化
合物を少なくとも1種類含有することを特徴とする液晶
組成物等が好ましい。
More specifically, the liquid crystal composition contains at least one compound selected from the group consisting of formulas (1), (2) and (3), or General formulas (4), (5), (6),
A liquid crystal composition comprising at least one compound selected from the group consisting of (7) and (8),
Alternatively, as the first component, at least one compound selected from the group consisting of formulas (1), (2) and (3) is used.
Containing a type, as the second component, the general formula (4), (5),
A liquid crystal composition or the like characterized by containing at least one compound selected from the group consisting of (6), (7) and (8) is preferable.

【0027】一般式(1)〜(3)の化合物として、好
ましくは式(1ー1)〜式(3ー53)で表される化合
物を挙げることができる。
As the compounds of the general formulas (1) to (3), the compounds represented by the formulas (1-1) to (3-53) can be preferably mentioned.

【0028】[0028]

【化2】 Embedded image

【0029】[0029]

【化3】 Embedded image

【0030】[0030]

【化4】 Embedded image

【0031】[0031]

【化5】 Embedded image

【0032】[0032]

【化6】 [Chemical 6]

【0033】[0033]

【化7】 Embedded image

【0034】[0034]

【化8】 Embedded image

【0035】[0035]

【化9】 Embedded image

【0036】[0036]

【化10】 (R1は前記と同一の意味を示す)Embedded image (R1 has the same meaning as above)

【0037】一般式(1)〜(3)の化合物は誘電異方
性値が正の化合物で、熱的安定性や化学的安定性に優れ
ており、特に電圧保持率の高い、あるいは比抵抗値の大
きいといった高信頼性が要求されるTFT用の液晶組成
物を調製する場合には、不可欠な化合物である。
The compounds of the general formulas (1) to (3) are compounds having a positive dielectric anisotropy value and are excellent in thermal stability and chemical stability, and particularly have a high voltage holding ratio or a specific resistance. It is an indispensable compound when preparing a liquid crystal composition for TFT, which requires high reliability such as a large value.

【0038】一般式(4)〜(6)の化合物として、好
ましくは式(4−1)〜(6−14)の化合物を挙げる
ことができる。
As the compounds of the general formulas (4) to (6), the compounds of the formulas (4-1) to (6-14) can be preferably mentioned.

【0039】[0039]

【化11】 Embedded image

【0040】[0040]

【化12】 [Chemical 12]

【0041】[0041]

【化13】 Embedded image

【0042】(R2〜R4は前記と同一の意味を示す) 一般式(4)〜(6)の化合物は誘電異方性値が正でそ
の値が大きく、特にしきい値電圧を小さくする目的で使
用される。また、粘度調整、屈折率異方性値の調製、透
明点を高くする等のネマチックレンジを広げる目的にも
使用される。さらに、しきい値電圧の急峻性を改良する
目的にも使用される。
(R2 to R4 have the same meanings as described above) The compounds of the general formulas (4) to (6) have a positive dielectric anisotropy value and a large value, and particularly the purpose of reducing the threshold voltage. Used in. It is also used for the purpose of adjusting the viscosity, adjusting the refractive index anisotropy value, and expanding the nematic range such as increasing the clearing point. Further, it is also used for the purpose of improving the steepness of the threshold voltage.

【0043】一般式(7)及び(8)の化合物として、
好ましくは式(7−1)〜(8−12)の化合物を挙げ
ることができる。
As the compounds of the general formulas (7) and (8),
Preferably, the compounds of formulas (7-1) to (8-12) can be mentioned.

【0044】[0044]

【化14】 Embedded image

【0045】[0045]

【化15】 (R5〜R8は前記と同一の意味を示す) 一般式(7)及び(8)の化合物は誘電異方性値が負か
または弱い正である化合物である。一般式(7)の化合
物は主として粘度低下または屈折率異方性値調整の目的
で使用される。また、一般式(8)の化合物は透明点を
高くする等のネマチックレンジを広げる目的または屈折
率異方性値調整の目的で使用される。
Embedded image (R5 to R8 have the same meanings as described above) The compounds of the general formulas (7) and (8) are compounds having a negative or weakly positive dielectric anisotropy value. The compound of the general formula (7) is mainly used for the purpose of decreasing the viscosity or adjusting the refractive index anisotropy value. Further, the compound of the general formula (8) is used for the purpose of broadening the nematic range such as increasing the clearing point or adjusting the refractive index anisotropy value.

【0046】また、配向処理された面及び配向剤として
は、液晶分子の配向を規制するものであり、無機物或い
は有機物どちらでもよい。一般的にはポリイミド系、ポ
リアミド系樹脂が多く用いられているがその例として、
チッソ社製配向剤が特に好ましが、限定される物ではな
い。すなわち、配向剤の何れをも用いることができる。
The surface subjected to the alignment treatment and the aligning agent regulate the alignment of the liquid crystal molecules, and may be either an inorganic substance or an organic substance. Generally, polyimide-based and polyamide-based resins are often used, but as an example,
Chisso Orientation Agents are particularly preferred, but not limiting. That is, any of the aligning agents can be used.

【0047】配向剤としてより具体的には、次の一般式
(9)で表される構造の配向剤が好ましい。
More specifically, the aligning agent having a structure represented by the following general formula (9) is preferable.

【化16】 Embedded image

【0048】式(9)において、Xは2価の芳香族基、
Yは4価の芳香族環または4、5または6員環構造を有
する脂肪族環を示す。Xの具体例としては式(X1)〜
(X8)で示される基を挙げることができる。
In the formula (9), X is a divalent aromatic group,
Y represents a tetravalent aromatic ring or an aliphatic ring having a 4-, 5- or 6-membered ring structure. Specific examples of X include formula (X1) to
The group shown by (X8) can be mentioned.

【0049】[0049]

【化17】 Embedded image

【0050】式中、RはHまたは炭素数1〜10のアル
キル基を示し、nは1〜3の整数を示し、mは1または
2を示す。Yの具体例としては式(Y1)〜(Y11)
で示される基を挙げることができる。
In the formula, R represents H or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, n represents an integer of 1 to 3, and m represents 1 or 2. Specific examples of Y include formulas (Y1) to (Y11).
And the group represented by

【0051】[0051]

【化18】 式中、RはHまたは炭素数1〜10のアルキル基を示
し、nは0〜4の整数を示し、mは0または1を示す。
Embedded image In the formula, R represents H or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, n represents an integer of 0 to 4, and m represents 0 or 1.

【0052】液晶素子として用いる基板は通常、基板上
に電極、具体的にはITOやSnOXの透明電極が形成
された物であるが、さらに、この電極と基板との間に、
基板からのアルカリ溶出防止のため絶縁膜、カラーフィ
ルター、カラーフィルターオーバーコート等のアンダー
コート膜を設けてもよく、電極上に絶縁膜、カラーフィ
ルター膜等のオーバーコート膜を設けてもよい。これら
の電極、アンダーコート、その他の液晶素子の構成は、
従来の液晶素子の構成が使用可能である。
The substrate used as a liquid crystal element is usually one on which an electrode, specifically, a transparent electrode of ITO or SnO x is formed. Further, between this electrode and the substrate,
An insulating film, an undercoat film such as a color filter or a color filter overcoat may be provided to prevent alkali elution from the substrate, and an overcoat film such as an insulating film or a color filter film may be provided on the electrode. The configuration of these electrodes, undercoat, and other liquid crystal elements is
Conventional liquid crystal element configurations can be used.

【0053】本発明に用いられる光酸発生剤を必須成分
として含有する樹脂皮膜は通常、溶液の状態で供され
る。該樹脂皮膜は基板上に塗布され、加熱により溶媒を
除去した後、光照射が行なわれると酸が発生し、これを
触媒として更に加熱処理することで光照射部と未照射部
での反応性が異なることを利用する。その結果、照射部
と未照射部で溶解性の差が生じ、これを利用して現像を
行うことができる。さらに再び加熱処理をすることで反
応を完結させる。このことから、目的とする場所にパタ
ーン化された有機物層を形成することが可能となる。該
樹脂皮膜は基板との密着性に極めて優れていると共に、
光により酸を発生する化合物を少量添加するのみで十分
な感光性を有するため、他に炭素ー炭素二重結合、光開
始剤、増感剤等の光反応性組成物を添加する必要がない
ので、液晶素子の配向不良の発生や電気特性の低下を防
ぐことができる。さらには硬化時の体積収縮を小さくす
ることができる。
The resin film containing the photo-acid generator used in the present invention as an essential component is usually provided in the form of a solution. The resin film is applied on the substrate, and after the solvent is removed by heating, acid is generated when light irradiation is performed, and by using this as a catalyst, further heat treatment is performed, whereby the reactivity in the light irradiation portion and the non-irradiation portion is increased. Take advantage of the different. As a result, a difference in solubility occurs between the irradiated portion and the non-irradiated portion, and development can be performed by utilizing this difference. The reaction is completed by performing heat treatment again. From this, it becomes possible to form a patterned organic material layer at a desired location. The resin film has excellent adhesion to the substrate,
There is no need to add other photoreactive compositions such as carbon-carbon double bonds, photoinitiators, and sensitizers because the compound has sufficient photosensitivity by adding a small amount of a compound that generates an acid by light. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of alignment failure of the liquid crystal element and the deterioration of electrical characteristics. Further, volume shrinkage during curing can be reduced.

【0054】次に本発明に用いられる樹脂皮膜を用いた
パターン化された柱を有する液晶素子の形成方法につい
て説明する。本発明に用いられる樹脂皮膜はスピンコー
ト、浸漬、印刷、ディスペンスあるいはロールコーター
等公知の方法により配向処理を施された液晶素子基板上
に塗布する。尚、樹脂皮膜の柱を形成した後にラビング
処理等の配向処理を行うこともできる。
Next, a method for forming a liquid crystal element having patterned columns using the resin film used in the present invention will be described. The resin film used in the present invention is applied onto a liquid crystal element substrate which has been subjected to an alignment treatment by a known method such as spin coating, dipping, printing, dispensing or a roll coater. Incidentally, it is also possible to carry out an orientation treatment such as a rubbing treatment after forming the columns of the resin film.

【0055】得られた塗膜は電気炉、ホットプレート、
赤外線ヒーター等の加熱手段を用い30〜150℃、よ
り好ましくは60〜120℃の温度で1〜90分乾燥
(プリベーク)を行うことにより塗膜中の大部分の溶媒
の除去を行う。次にこの塗膜にフォトマスクを置き、化
学線を照射する。化学線としてはX線、電子線、紫外
線、あるいは可視光線等が例として挙げられるが、紫外
線または電子線が特に好適である。引き続き必要に応じ
て上記加熱手段により30〜220℃、より好ましくは
60〜200℃で30秒〜90分間加熱(露光後ベー
ク)を行い、光照射によって生じた酸による触媒反応で
照射部と未照射部の溶解性の変化を促進させる。
The obtained coating film was an electric furnace, a hot plate,
Most of the solvent in the coating film is removed by performing drying (prebaking) at a temperature of 30 to 150 ° C, more preferably 60 to 120 ° C for 1 to 90 minutes using a heating means such as an infrared heater. Next, a photomask is placed on this coating film and irradiated with actinic rays. Examples of the actinic rays include X-rays, electron rays, ultraviolet rays, visible rays and the like, but ultraviolet rays or electron rays are particularly preferable. Subsequently, if necessary, heating (post-exposure bake) is performed at 30 to 220 ° C., more preferably 60 to 200 ° C. for 30 seconds to 90 minutes by the above heating means, and the irradiated portion and unirradiated portion are subjected to a catalytic reaction by an acid generated by light irradiation. Promotes changes in the solubility of irradiated parts.

【0056】次いで現像液で未反応部を溶解除去するこ
とによりレリーフパターンを得る。ここで使用される現
像液はN−メチル−2−ピロリドン(以下、NMPと略
す)、N,N−ジメチルアセトアミド(以下、DMAc
と略す)、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ヘキサメチ
ルホスホルアミド、メチルホルムアミド、N−アセチル
−2−ピロリドン、2−メトキシエタノール、2−エト
キシエタノール、2−ブトキシエタノ−ル、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチル
エーテル、シクロペンタノン、クレゾール、γ−ブチロ
ラクトン、イソホロン、N,N−ジエチルアセトアミ
ド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチル
メトキシアセトアミド、テトラヒドロフラン、N−メチ
ル−ε−カプロラクタム、テトラヒドロチオフェンジオ
キシド{スルフォラン(sulpholane)}等、
またはこれにアルコール、キシレン、水等の貧溶媒を混
合したものや界面活性剤を添加したものが使用される。
また有機溶媒以外にも水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリ
ウム、アンモニア等の無機アルカリ類の水溶液、エチル
アミン、n−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−n
−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチル
アミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリ
メチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド等の
有機アミン類の水溶液、場合によってはこれら水溶液に
アルコールを混合した溶液を使用することができる。
Next, a relief pattern is obtained by dissolving and removing the unreacted portion with a developing solution. The developing solution used here is N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter, abbreviated as NMP), N, N-dimethylacetamide (hereinafter, DMAc).
Abbreviated), N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, pyridine, hexamethylphosphoramide, methylformamide, N-acetyl-2-pyrrolidone, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethano. -, Diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, cyclopentanone, cresol, γ-butyrolactone, isophorone, N, N-diethylacetamide, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylmethoxyacetamide, Tetrahydrofuran, N-methyl-ε-caprolactam, tetrahydrothiophene dioxide {sulfolane}, etc.,
Alternatively, a mixture of this with a poor solvent such as alcohol, xylene, or water, or a mixture with addition of a surfactant is used.
In addition to organic solvents, aqueous solutions of inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, ammonia, ethylamine, n-propylamine, diethylamine, di-n.
-Aqueous solutions of organic amines such as propylamine, triethylamine, methyldiethylamine, tetramethylammonium hydroxide, trimethylhydroxyethylammonium hydroxide, and in some cases, solutions obtained by mixing alcohol with these aqueous solutions can be used.

【0057】更に必要によりアルコール、水等の貧溶媒
中でリンスし、更に150℃以下の温度で乾燥を行う。
現像により形成されたレリーフパターンの有機物は、反
応を完結するため、これを上記加熱手段により100〜
500℃、好ましくは150〜400℃の温度で1分〜
5時間焼成(ポストベーク)することにより、パターン
化された有機膜が形成される。また該樹脂皮膜に従来の
ビーズを分散させ塗布して、上記の工程を行いビーズを
所定の位置に固定することが可能である。さらには、該
樹脂皮膜を塗布した後に、従来のビーズを散布して液晶
素子上に乗せ、上記工程を行いビーズを所定の位置に固
定することが可能である。
Further, if necessary, it is rinsed in a poor solvent such as alcohol or water, and further dried at a temperature of 150 ° C. or lower.
The organic substance of the relief pattern formed by the development completes the reaction, so that the organic substance of 100-
1 minute ~ at a temperature of 500 ℃, preferably 150 ~ 400 ℃
By baking (post-baking) for 5 hours, a patterned organic film is formed. Further, it is possible to disperse and coat the conventional beads on the resin film and perform the above steps to fix the beads at a predetermined position. Furthermore, after applying the resin film, it is possible to spray conventional beads and place them on the liquid crystal element, and perform the above steps to fix the beads at predetermined positions.

【0058】上記工程で得られた液晶素子基板は、上、
下の位置合わせを行い圧着後、熱処理して液晶素子基板
が組み合わされ、液晶注入が行われ、注入口を封止して
液晶素子を作る。または、液晶を液晶素子基板上に散布
した後、基板を重ね合わせ、液晶が漏れないように密封
して液晶素子を作ってもよい。これらの工程から耐液晶
性を有する樹脂皮膜を液晶素子中に存在させた液晶素子
が製造される。本発明の液晶素子は、良好な液晶配向性
を有し、残像現象、電圧保持率等の電気特性に優れ、開
口率、コントラストに優れ、機械的強度が高く液晶層の
層厚の均一な液晶素子が製造できることを特徴とする。
The liquid crystal element substrate obtained in the above step is
The liquid crystal device is assembled by aligning the lower part and pressure-bonding, and then heat-treated to assemble the liquid crystal device substrates, injecting the liquid crystal, and sealing the injection port to manufacture the liquid crystal device. Alternatively, the liquid crystal element may be manufactured by spraying the liquid crystal on the liquid crystal element substrate, superposing the substrates, and sealing the liquid crystal so as not to leak. From these steps, a liquid crystal element in which a resin film having liquid crystal resistance is present in the liquid crystal element is manufactured. The liquid crystal element of the present invention has a good liquid crystal orientation, is excellent in electrical characteristics such as afterimage phenomenon and voltage holding ratio, is excellent in aperture ratio and contrast, is high in mechanical strength, and has a uniform liquid crystal layer thickness. The feature is that the device can be manufactured.

【0059】評価法 以下に示す実施例及び比較例において、配向性の確認は
偏光板を用いて行い、また、電圧保持率の測定は、ゲー
トパルス幅69μs、周波数60Hz、波高±4.5V
の矩形波をソースに印加することにより変化するドレイ
ンをオシロスコープより読み取ることにより行った。こ
れを4回行い、平均値を用い、全く電圧が減少しなかっ
た場合を100%として相対値を電圧保持率とした。こ
の電圧保持率の値が大きいほど、液晶素子の消費電流が
小さくて済み、液晶素子全体の耐久性及び信頼性が向上
する。また、残像現象の度合い(残留DC)はC−Vカ
ーブ法を用いて測定した。C−Vカーブ法は液晶素子に
25mV、1KHzの交流を印加し、さらに周波数0.
0036Hzの直流の三角波を重たんさせ、電圧を−1
0〜10Vの範囲で掃引することにより変化する容量C
を記録する方法である。ここで得られる値は、液晶素子
の厚さ及び配向剤の膜厚が同じであれば、電荷の偏り安
定化のパラメーターとなる。すなわち残留電荷の小さい
液晶素子ほど残像現象を緩和できる。
Evaluation Method In the examples and comparative examples shown below, the orientation was confirmed using a polarizing plate, and the voltage holding ratio was measured by a gate pulse width of 69 μs, a frequency of 60 Hz, and a wave height of ± 4.5 V.
It was performed by reading the drain which changed by applying the rectangular wave of 1 to the source with an oscilloscope. This was repeated four times, and the average value was used. When the voltage did not decrease at all, the relative value was defined as the voltage holding ratio, which was set to 100%. The larger the value of the voltage holding ratio, the smaller the current consumption of the liquid crystal element, which improves the durability and reliability of the entire liquid crystal element. The degree of the afterimage phenomenon (residual DC) was measured by the CV curve method. In the C-V curve method, an alternating current of 25 mV and 1 KHz is applied to the liquid crystal element, and the frequency of 0.
The voltage is -1 by overlapping the DC triangular wave of 0036Hz.
Capacitance C that changes by sweeping in the range of 0-10V
Is a method of recording. The value obtained here is a parameter for stabilizing the bias of electric charge when the thickness of the liquid crystal element and the thickness of the alignment agent are the same. That is, the after-image phenomenon can be alleviated as the liquid crystal element has smaller residual charges.

【0060】以下に実施例によって本発明を更に具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら
限定される物ではない。また、本実施例で使用された感
光性樹脂組成物溶液は、チッソ社製の光酸発生剤を必須
成分として含有する感光性樹脂組成物であり、特開平6
−298931号公報、特開平6−308730号公
報、特開平6−308731号公報、特開平6−348
016号公報、特開平7−36192号公報、特開平7
−228777号公報に開示されているものである。す
なわち、チッソ社製LIXONコートPIP−8041
である。また、本実施例及び比較例で使用された液晶
は、チッソ社製LIXON5055XXであり、配向剤
は、チッソ社製LIXONアライナーPIA−5004
である。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The photosensitive resin composition solution used in this example is a photosensitive resin composition containing a photo acid generator manufactured by Chisso Corporation as an essential component.
-298931, JP-A-6-308730, JP-A-6-308731, JP-A-6-348.
016, JP-A-7-36192, JP-A-7-
No. 228777. That is, LIXON coat PIP-8041 manufactured by Chisso Corporation
It is. The liquid crystal used in this example and the comparative example is LIXON5055XX manufactured by Chisso Corporation, and the alignment agent is LIXON aligner PIA-5004 manufactured by Chisso Corporation.
It is.

【0061】実施例1 片面にITO電極を設けた10cm角の透明ガラス基板
上に、LIXONアライナーPIA−5004をスピン
コート法で塗布し、塗膜後、100℃で10分間乾燥し
た後、オーブン中250℃で90分間加熱処理を行い、
膜厚約0.06μmの配向膜を塗布した基板を得た。こ
の基板2枚の配向膜面をそれぞれラビング処理し、1枚
の基板にLIXONコートPIP−8041をスピンコ
ート法により塗布し、オーブン中にて90℃で30分間
プリベークを行った。この時、乾燥後の膜厚が約6.3
μmとなるように塗布時の回転を調整した。次に10μ
m幅、100μm長のラインパターンが描かれたフォト
マスクを通し、高圧水銀灯(9mW/cm2 )で150
mJ/cm2 の露光を行った。露光後、120℃のオー
ブン中で30分間露光後ベークを行い、NMP70重量
部、イソプロピルアルコール30重量部の混合溶液で現
像を行い、水でリンスした後乾燥した。このようにして
いずれも電極間(画素間)に10μm幅、100μm長
の鮮明なパターンが得られた。これを更に180℃で6
0分間ポストベークを行うことで、目的とする6μm厚
の柱状のパターンが得られた(スペーサー)。このパタ
ーンの基板内の厚さのバラツキは、6.00±0.06
μm(40箇所の測定)であり、面内均一性に優れてい
た。次に、上記の基板をラビング方向が平行で、かつ互
いに対向するように液晶セルを組み立て、エポキシ系シ
ール材(三井東圧化学社製ストラクトボンドXN−21
−F、以下同一)を使用して貼り合わせ、LIXON5
055XXを封入した。封入後120℃で30分間アイ
ソトロピック処理を行い、室温まで徐冷して液晶素子を
得た。液晶配向性及び電気特性の結果は、表1に示し
た。
Example 1 LIXON aligner PIA-5004 was applied onto a 10 cm square transparent glass substrate having an ITO electrode on one side by a spin coating method, and after coating, the coating was dried at 100 ° C. for 10 minutes and then in an oven. Heat treatment at 250 ℃ for 90 minutes,
A substrate coated with an alignment film having a thickness of about 0.06 μm was obtained. The alignment film surfaces of the two substrates were each rubbed, LIXON coat PIP-8041 was applied to one substrate by spin coating, and prebaked at 90 ° C. for 30 minutes in an oven. At this time, the film thickness after drying is about 6.3.
The rotation at the time of application was adjusted so as to be μm. Then 10μ
Through a photomask with a line pattern of m width and 100 μm length, 150 with a high pressure mercury lamp (9 mW / cm 2 ).
Exposure was performed at mJ / cm 2 . After the exposure, post-exposure baking was performed in an oven at 120 ° C. for 30 minutes, development was performed with a mixed solution of 70 parts by weight of NMP and 30 parts by weight of isopropyl alcohol, rinsed with water, and then dried. Thus, a clear pattern having a width of 10 μm and a length of 100 μm was obtained between the electrodes (between the pixels). This is further 6 at 180 ℃
By performing post-baking for 0 minutes, a target columnar pattern having a thickness of 6 μm was obtained (spacer). The variation in the thickness of this pattern in the substrate is 6.00 ± 0.06.
μm (measurement at 40 points), and the in-plane uniformity was excellent. Next, a liquid crystal cell was assembled so that the rubbing directions of the above substrates were parallel and opposed to each other, and an epoxy-based sealant (Structbond XN-21 manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) was used.
-F, the same below), using LIXON5
055XX was enclosed. After encapsulation, isotropic treatment was performed at 120 ° C. for 30 minutes, and the liquid crystal element was obtained by gradually cooling to room temperature. Table 1 shows the results of the liquid crystal orientation and the electrical characteristics.

【0062】[0062]

【表1】 [Table 1]

【0063】実施例2 実施例1と同様のガラス基板と方法でラビング処理した
基板にLIXONコートPIP−8041を塗布して、
現像まで行った。この時、液晶セルの貼り合わせ及びシ
ール材として基板の周辺部に密閉用のパターンも作製し
た。次に、上記の基板をラビング方向が平行で、かつ互
いに対向するように液晶セルを組み立て、圧着し180
℃で60分間焼成を行い、感光性樹脂の焼成と貼り合わ
せを同時に行った。この液晶セルのセル厚を測定したと
ころ6.0μmであった。ここで、スペーサーとシール
材が同時に形成された。次に、LIXON5055XX
を封入した。封入後120℃で30分間アイソトロピッ
ク処理を行い、室温まで徐冷して液晶素子を得た。液晶
配向性及び電気特性の結果は、表1に示した。
Example 2 A LIXON coat PIP-8041 was applied to a glass substrate and a substrate rubbed by the same method as in Example 1,
Development was performed. At this time, a pattern for bonding the liquid crystal cells and as a sealing material was also formed around the periphery of the substrate. Next, a liquid crystal cell is assembled so that the rubbing directions of the above substrates are parallel and face each other, and the substrates are pressure-bonded 180
Baking was performed at 60 ° C. for 60 minutes, and baking and bonding of the photosensitive resin were performed at the same time. When the cell thickness of this liquid crystal cell was measured, it was 6.0 μm. Here, the spacer and the sealing material were simultaneously formed. Next, LIXON5055XX
Was enclosed. After encapsulation, isotropic treatment was performed at 120 ° C. for 30 minutes, and the liquid crystal element was obtained by gradually cooling to room temperature. Table 1 shows the results of the liquid crystal orientation and the electrical characteristics.

【0064】実施例3 10gのLIXONコートPIP−8041にビーズ
(日本電気硝子社製ミクロパールPF−60(平均粒径
6.0±0.3μm))を1g添加し分散させた。この
分散液を実施例1と同様のガラス基板と方法でラビング
処理した基板に、焼成後にLIXONコートPIP−8
041の厚さが1μmとなるように回転数を調整し、塗
布、プリベーク、露光、露光後ベーク、現像、180℃
で60分間本焼成を行った。電極間に得られたパターン
にはミクロパール(スペーサー)が接着されており、電
極上には全くミクロパールスペーサーがない基板が得ら
れた。次に、上記の基板をラビング方向が平行で、かつ
互いに対向するように液晶セルを組み立て、エポキシ系
シール材を使用して貼り合わせた。このセル厚を測定し
たところ、6.1μmであった。次にLIXON505
5XXを封入し、封入後120℃で30分間アイソトロ
ピック処理を行い、室温まで徐冷して液晶素子を得た。
液晶配向性及び電気特性の結果は、表1に示した。
Example 3 To 10 g of LIXON-coated PIP-8041, 1 g of beads (Micropearl PF-60 (average particle size 6.0 ± 0.3 μm) manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) was added and dispersed. This dispersion was rubbed by the same glass substrate and method as in Example 1 to obtain a LIXON coat PIP-8 after firing.
Rotation speed was adjusted so that the thickness of 041 was 1 μm, and coating, pre-baking, exposure, post-exposure baking, development, 180 ° C.
Main firing was performed for 60 minutes. Micropearls (spacers) were adhered to the pattern obtained between the electrodes, and a substrate having no micropearl spacers on the electrodes was obtained. Next, a liquid crystal cell was assembled such that the rubbing directions were parallel to each other and opposed to each other, and the substrates were bonded together by using an epoxy-based sealing material. When the cell thickness was measured, it was 6.1 μm. Next, LIXON 505
After enclosing 5XX, an isotropic treatment was performed at 120 ° C. for 30 minutes after the encapsulation, and the liquid crystal element was obtained by gradually cooling to room temperature.
Table 1 shows the results of the liquid crystal orientation and the electrical characteristics.

【0065】実施例4 実施例1と同様のガラス基板と方法でラビング処理した
基板にLIXONコートPIP−8041を焼成後に1
μmとなるように回転数を調整し塗布を行った。次に実
施例3で使用したミクロパールをこの塗布した基板上に
散布し、実施例1と同様に、プリベーク、露光、露光後
ベーク、現像、180℃で60分間本焼成を行った。電
極間に得られたパターンにはミクロパール(スペーサ
ー)が接着されており、電極上には全くミクロパールス
ペーサーがない基板が得られた。次に、上記の基板をラ
ビング方向が平行で、かつ互いに対向するように液晶セ
ルを組み立て、エポキシ系シール材を使用して貼り合わ
せた。この液晶セルのセル厚を測定したところ、6.1
μmであった。次にLIXON5055XXを封入し、
封入後、120℃で30分間アイソトロピック処理を行
い、室温まで徐冷して液晶素子を得た。液晶配向性及び
電気特性の結果は、表1に示した。
Example 4 LIXON coat PIP-8041 was baked on a glass substrate and a substrate which had been rubbed by the same method as in Example 1 and was then subjected to 1
The number of rotations was adjusted so that the thickness became μm, and coating was performed. Next, the micropearl used in Example 3 was dispersed on this coated substrate, and prebaking, exposure, post-exposure baking, development, and main baking at 180 ° C. for 60 minutes were performed in the same manner as in Example 1. Micropearls (spacers) were adhered to the pattern obtained between the electrodes, and a substrate having no micropearl spacers on the electrodes was obtained. Next, a liquid crystal cell was assembled such that the rubbing directions were parallel to each other and opposed to each other, and the substrates were bonded together by using an epoxy-based sealing material. The cell thickness of this liquid crystal cell was measured and found to be 6.1.
μm. Next, enclose LIXON 5055XX,
After encapsulation, an isotropic treatment was performed at 120 ° C. for 30 minutes, and the liquid crystal element was obtained by gradually cooling to room temperature. Table 1 shows the results of the liquid crystal orientation and the electrical characteristics.

【0066】実施例5 実施例1と同様のガラス基板と方法でLIXONアライ
ナーPIA−5004を塗布焼成した基板に、LIXO
NコートPIP−8041を塗布して、現像まで行っ
た。この時、液晶セルのシール用に基板の周辺部に密閉
用のパターンも作製した。ここで、スペーサーとシール
材が形成された。次に、上記の基板及び配向膜のみの基
板にラビング処理を行い、ラビング方向が平行で、かつ
互いに対向するように液晶セルを組み立て、圧着し18
0℃で60分間焼成を行い、感光性樹脂の焼成と貼り合
わせを同時に行った。この液晶セルのセル厚を測定した
ところ6.0μmであった。次に、LIXON5055
XXを封入した。封入後120℃で30分間アイソトロ
ピック処理を行い、室温まで徐冷して液晶素子を得た。
液晶配向性及び電気特性の結果は、表1に示した。
Example 5 A glass substrate and a method similar to those in Example 1 were used to apply LIXON aligner PIA-5004 to the substrate, followed by firing.
N coat PIP-8041 was applied and development was performed. At this time, a sealing pattern was also formed on the periphery of the substrate for sealing the liquid crystal cell. Here, the spacer and the sealing material were formed. Next, the above substrate and the substrate having only the alignment film are subjected to rubbing treatment to assemble the liquid crystal cells so that the rubbing directions are parallel and face each other, and pressure bonding is performed.
Baking was carried out at 0 ° C. for 60 minutes, and baking and bonding of the photosensitive resin were performed at the same time. When the cell thickness of this liquid crystal cell was measured, it was 6.0 μm. Next, LIXON5055
XX was enclosed. After encapsulation, isotropic treatment was performed at 120 ° C. for 30 minutes, and the liquid crystal element was obtained by gradually cooling to room temperature.
Table 1 shows the results of the liquid crystal orientation and the electrical characteristics.

【0067】比較例1 攪拌装置、滴下ロート、温度計、コンデンサー及び窒素
置換装置を付した2lのフラスコを恒温槽中に固定し
た。4,4’−ジアミノジフェニルエーテル110gを
NMP278gに溶解し、アミン溶液を調合した。別に
無水ピロメリット酸120gをDMAc308gに分散
させ、次いでNMP184gを加えて溶解させ、酸溶液
を得た。60℃のアミン溶液に酸溶液を加えて3時間反
応させる事により、30℃で6Pa・sの溶液を得た。
この溶液50g、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェ
ノン(以下、ミヒラーケトンと略す)1.15gを30
gのDMAcに溶解した溶液及びジエチルアミノエチル
メタクリレート10.2gを10gのDMAcに溶解し
た溶液を混合、濾過した。得られた溶液を実施例1と同
様のラビングした基板の1枚に塗布して、100℃、5
分間乾燥し、7.2μmの塗膜を得た。次いで、フォト
マスクを通し800mJ/cm2 の露光を行い、露光
後、DMAc71.4重量部とメチルアルコール28.
6重量部の混合溶媒で現像し、レリーフ・パターンを得
た。このようにしていずれも電極間(画素間)に10μ
m幅、100μm長の鮮明なパターンが得られた。これ
を180℃で60分間焼成を行うことで、目的とする6
μm厚の柱状のパターンが得られた。次に、上記の基板
をラビング方向が平行で、かつ互いに対向するように液
晶セルを組み立て、エポキシ系シール材を使用して貼り
合わせた、次に、LIXON5055XXを封入した。
封入後120℃で30分間アイソトロピック処理を行
い、室温まで徐冷して液晶素子を得た。偏光板を用いて
液晶配向性を確認したところ、全く液晶の配向が見られ
ず、電圧を印可しても液晶のスイッチングが確認されな
かった。液晶配向性及び電気特性の結果は、表1に示し
た。
Comparative Example 1 A 2 l flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a thermometer, a condenser and a nitrogen purging device was fixed in a constant temperature bath. 110 g of 4,4′-diaminodiphenyl ether was dissolved in 278 g of NMP to prepare an amine solution. Separately, 120 g of pyromellitic dianhydride was dispersed in 308 g of DMAc, and then 184 g of NMP was added and dissolved to obtain an acid solution. An acid solution was added to the amine solution at 60 ° C. and the mixture was reacted for 3 hours to obtain a solution of 6 Pa · s at 30 ° C.
30 g of 50 g of this solution and 1.15 g of 4,4′-dimethylaminobenzophenone (hereinafter abbreviated as Michler's ketone)
A solution prepared by dissolving 10.2 g of diethylaminoethyl methacrylate in 10 g of DMAc was mixed and filtered. The obtained solution was applied onto one of the rubbed substrates similar to that in Example 1, and the temperature was set to 100 ° C. for 5
After drying for 7 minutes, a coating film of 7.2 μm was obtained. Then, 800 mJ / cm 2 exposure was performed through a photomask, and after the exposure, 71.4 parts by weight of DMAc and 28.
Development was performed with 6 parts by weight of the mixed solvent to obtain a relief pattern. In this way, 10 μm between the electrodes (pixels)
A clear pattern having a width of m and a length of 100 μm was obtained. By firing this at 180 ° C. for 60 minutes, the target 6
A columnar pattern having a thickness of μm was obtained. Next, a liquid crystal cell was assembled so that the rubbing directions were parallel to each other and opposed to each other, and the substrates were bonded together by using an epoxy-based sealing material, and then LIXON 5055XX was sealed.
After encapsulation, isotropic treatment was performed at 120 ° C. for 30 minutes, and the liquid crystal element was obtained by gradually cooling to room temperature. When the liquid crystal orientation was confirmed using a polarizing plate, no liquid crystal orientation was observed, and no liquid crystal switching was observed even when a voltage was applied. Table 1 shows the results of the liquid crystal orientation and the electrical characteristics.

【0068】比較例2 攪拌装置、滴下ロート、温度計、コンデンサー及び窒素
置換装置を付した500mlのフラスコに、3,3’,
4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物1
6.1g、3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテ
トラカルボン酸二無水物10.9g、2ーヒドロキシエ
チルメタクリレート27.0gを及びγーブチロラクト
ン67.8gを投入し、氷浴下、かき混ぜながらピリジ
ン17.0gを加えた。室温で16時間かき混ぜた後、
ジシクロヘキシルカルボジイミド41.2gを含むγー
ブチロラクトン45.2gの溶液を氷浴下、30分間で
加え、続いて、4,4’ービス(4ーアミノフェノキ
シ)ビフェニル35.0gを79.1gのγーブチロラ
クトンに懸濁したものを60分間で加えた。氷浴下、3
時間かき混ぜた後、エチルアルコール3.97gを加え
て、さらに1時間かき混ぜ、上記のプロセスで生じた固
形物を濾過により除去した。反応溶液を7950gのエ
チルアルコールに加え、生成した沈殿を濾別した後、真
空乾燥した。得られたポリイミド前駆体50g、ベンゾ
フェノン2g、テトラエチレングリコールジメタクリレ
ート6g、ミヒラーケトン0.05g、N−フェニルジ
エタノールアミン1g、2ーメルカプトベンズイミダゾ
ール1.5g、γーグリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン1g、N−ニトロソジフェニルアミン0.0
5gをNMP75gに溶解、濾過した。
Comparative Example 2 In a 500 ml flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a thermometer, a condenser and a nitrogen purging device, 3, 3 ',
4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 1
6.1 g, 30.9 g of 3,3 ′, 4,4′-diphenylethertetracarboxylic dianhydride, 27.0 g of 2-hydroxyethyl methacrylate and 67.8 g of γ-butyrolactone are added, and the mixture is stirred in an ice bath. While adding 17.0 g of pyridine. After stirring at room temperature for 16 hours,
A solution of 45.2 g of γ-butyrolactone containing 41.2 g of dicyclohexylcarbodiimide was added in an ice bath for 30 minutes, followed by addition of 35.0 g of 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl to 79.1 g of γ-butyrolactone. The butyrolactone suspension was added over 60 minutes. Under ice bath, 3
After stirring for 3 hours, 3.97 g of ethyl alcohol was added, and the mixture was further stirred for 1 hour, and the solid produced in the above process was removed by filtration. The reaction solution was added to 7950 g of ethyl alcohol, the generated precipitate was filtered off, and then vacuum dried. 50 g of the obtained polyimide precursor, 2 g of benzophenone, 6 g of tetraethylene glycol dimethacrylate, 0.05 g of Michler's ketone, 1 g of N-phenyldiethanolamine, 1.5 g of 2-mercaptobenzimidazole, 1 g of γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, N -Nitrosodiphenylamine 0.0
5 g was dissolved in 75 g NMP and filtered.

【0069】得られた溶液を実施例1と同様のラビング
した基板の1枚に塗布して、100℃、5分間乾燥し、
7.0μmの塗膜を得た。次いで、フォトマスクを利用
し600mJ/cm2 の露光を行い、露光後、γーブチ
ロラクトン50重量部とキシレン50重量部の混合溶媒
で現像し、レリーフ・パターンを得た。このようにして
いずれも電極間(画素間)に10μm幅、100μm長
の鮮明なパターンが得られた。これを180℃で60分
間焼成を行うことで、目的とする6μm厚の柱状のパタ
ーンが得られた。次に、上記の基板をラビング方向が平
行で、かつ互いに対向するように液晶セルを組み立て、
エポキシ系シール材を使用して貼り合わせ、LIXON
5055XXを封入した。封入後120℃で30分間ア
イソトロピック処理を行い、室温まで徐冷して液晶素子
を得た。偏光板を用いて液晶配向性を確認したところ、
全く液晶の配向が見られず、電圧を印可しても液晶のス
イッチングが確認されなかった。液晶配向性及び電気特
性の結果は、表1に示した。
The obtained solution was applied to one of the rubbed substrates similar to Example 1 and dried at 100 ° C. for 5 minutes,
A coating film having a thickness of 7.0 μm was obtained. Next, exposure was performed at 600 mJ / cm 2 using a photomask, and after the exposure, development was performed with a mixed solvent of 50 parts by weight of γ-butyrolactone and 50 parts by weight of xylene to obtain a relief pattern. Thus, a clear pattern having a width of 10 μm and a length of 100 μm was obtained between the electrodes (between the pixels). This was baked at 180 ° C. for 60 minutes to obtain an intended columnar pattern having a thickness of 6 μm. Next, a liquid crystal cell is assembled so that the rubbing directions of the above substrates are parallel to each other and face each other,
LIXON, which is attached using an epoxy sealant
5055XX was enclosed. After encapsulation, isotropic treatment was performed at 120 ° C. for 30 minutes, and the liquid crystal element was obtained by gradually cooling to room temperature. When the liquid crystal orientation was confirmed using a polarizing plate,
No liquid crystal orientation was observed, and no liquid crystal switching was confirmed even when a voltage was applied. Table 1 shows the results of the liquid crystal orientation and the electrical characteristics.

【0070】比較例3 攪拌装置、滴下ロート、温度計、コンデンサー及び窒素
置換装置を付した2lのフラスコに、4,4’−ジアミ
ノジフェニルエーテル100gをNMP791gに溶解
しアミン溶液を調合した。次にこの溶液を氷冷によって
溶液温度を約15℃に保ちながら、撹拌下に無水ピロメ
リット酸109gを加えた。加え終わってからさらに約
15℃で3時間反応させて溶液を得た。この溶液10g
に2.34gのパラアジド安息香酸2ー(N,N−ジメ
チルアミノ)エチルを溶解し濾過を行った。得られた溶
液を実施例1と同様のラビングした基板の1枚に塗布し
て、100℃、5分間乾燥し、6.5μmの塗膜を得
た。次いで、フォトマスクを利用し600mJ/cm2
の露光を行い、露光後、DMAc82.5重量部とエチ
ルアルコール17.5重量部の混合溶媒で現像し、レリ
ーフ・パターンを得た。このようにしていずれも電極間
(画素間)に10μm幅、100μm長の鮮明なパター
ンが得られた。これを180℃で60分間焼成を行うこ
とで、目的とする6μm厚の柱状のパターンが得られ
た。次に、上記の基板をラビング方向が平行で、かつ互
いに対向するように液晶セルを組み立て、エポキシ系シ
ール材を使用して貼り合わせ、LIXON5055XX
を封入した。封入後120℃で30分間アイソトロピッ
ク処理を行い、室温まで徐冷して液晶素子を得た。偏光
板を用いて液晶配向性を確認したところ、全く液晶の配
向が見られず、電圧を印可しても液晶のスイッチングが
確認されなかった。液晶配向性及び電気特性の結果は、
表1に示した。
Comparative Example 3 In a 2 l flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a thermometer, a condenser and a nitrogen purging device, 100 g of 4,4'-diaminodiphenyl ether was dissolved in 791 g of NMP to prepare an amine solution. Next, 109 g of pyromellitic anhydride was added to this solution while stirring, while keeping the solution temperature at about 15 ° C. by ice cooling. After the addition was completed, the mixture was further reacted at about 15 ° C. for 3 hours to obtain a solution. 10 g of this solution
2.34 g of 2- (N, N-dimethylamino) ethyl paraazide benzoate was dissolved in the resulting solution, followed by filtration. The obtained solution was applied to one of the rubbed substrates as in Example 1, and dried at 100 ° C. for 5 minutes to obtain a coating film of 6.5 μm. Then, using a photomask, 600 mJ / cm 2
After exposure, development was performed with a mixed solvent of 82.5 parts by weight of DMAc and 17.5 parts by weight of ethyl alcohol to obtain a relief pattern. Thus, a clear pattern having a width of 10 μm and a length of 100 μm was obtained between the electrodes (between the pixels). This was baked at 180 ° C. for 60 minutes to obtain an intended columnar pattern having a thickness of 6 μm. Next, a liquid crystal cell was assembled so that the rubbing directions were parallel to each other and opposed to each other, and the substrates were bonded together by using an epoxy-based sealing material, and LIXON5055XX.
Was enclosed. After encapsulation, isotropic treatment was performed at 120 ° C. for 30 minutes, and the liquid crystal element was obtained by gradually cooling to room temperature. When the liquid crystal orientation was confirmed using a polarizing plate, no liquid crystal orientation was observed, and no liquid crystal switching was observed even when a voltage was applied. The results of liquid crystal alignment and electrical properties are
The results are shown in Table 1.

【0071】比較例4 攪拌装置、滴下ロート、温度計、コンデンサー及び窒素
置換装置を付した500mlのフラスコに、シリコンジ
アミン(チッソ社製FM3311)51gと4,4’−
ジアミノジフェニルエーテル42gをNMP200gに
溶解し、アミン溶液を得た。次いで、3,3’,4,
4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物77g
を加え、3時間反応させポリアミド酸溶液を得た。得ら
れたポリアミド酸溶液10gに対して2.297gの
1,4ーブタンジオールジメタクリレートとミヒラーケ
トン0.138gを室温で3時間撹拌し溶解後、濾過し
た。得られた溶液を実施例1と同様のラビングした基板
の1枚に塗布して、100℃、5分間乾燥し、7.1μ
mの塗膜を得た。次いで、フォトマスクを利用し500
mJ/cm2 の露光を行い、露光後、NMP60重量部
とメチルアルコール40重量部の混合溶媒で現像し、レ
リーフ・パターンを得た。このようにしていずれも電極
間(画素間)に10μm幅、100μm長の鮮明なパタ
ーンが得られた。これを180℃で60分間焼成を行う
ことで、目的とする6μm厚の柱状のパターンが得られ
た。次に、上記の基板をラビング方向が平行で、かつ互
いに対向するように液晶セルを組み立て、エポキシ系シ
ール材を使用して貼り合わせ、LIXON5055XX
を封入した。封入後120℃で30分間アイソトロピッ
ク処理を行い、室温まで徐冷して液晶素子を得た。偏光
板を用いて液晶配向性を確認したところ、全く液晶の配
向が見られず、電圧を印可しても液晶のスイッチングが
確認されなかった。液晶配向性及び電気特性の結果は、
表1に示した。
Comparative Example 4 In a 500 ml flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a thermometer, a condenser and a nitrogen purging device, 51 g of silicon diamine (FM3311 manufactured by Chisso Corporation) and 4,4'- were added.
42 g of diaminodiphenyl ether was dissolved in 200 g of NMP to obtain an amine solution. Then, 3,3 ', 4
4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 77g
Was added and reacted for 3 hours to obtain a polyamic acid solution. 2.297 g of 1,4-butanediol dimethacrylate and 0.138 g of Michler's ketone were dissolved in 10 g of the obtained polyamic acid solution by stirring at room temperature for 3 hours, and then filtered. The obtained solution was applied to one of the rubbed substrates as in Example 1, dried at 100 ° C. for 5 minutes, and 7.1 μm.
m was obtained. Then, using a photomask,
Exposure was performed at mJ / cm 2 , and after exposure, development was performed with a mixed solvent of 60 parts by weight of NMP and 40 parts by weight of methyl alcohol to obtain a relief pattern. Thus, a clear pattern having a width of 10 μm and a length of 100 μm was obtained between the electrodes (between the pixels). This was baked at 180 ° C. for 60 minutes to obtain an intended columnar pattern having a thickness of 6 μm. Next, a liquid crystal cell was assembled so that the rubbing directions were parallel to each other and opposed to each other, and the substrates were bonded together by using an epoxy-based sealing material, and LIXON5055XX.
Was enclosed. After encapsulation, isotropic treatment was performed at 120 ° C. for 30 minutes, and the liquid crystal element was obtained by gradually cooling to room temperature. When the liquid crystal orientation was confirmed using a polarizing plate, no liquid crystal orientation was observed, and no liquid crystal switching was observed even when a voltage was applied. The results of liquid crystal alignment and electrical properties are
The results are shown in Table 1.

【0072】[0072]

【発明の効果】本発明で用いた光酸発生剤を必須成分と
して得られる樹脂皮膜を構成材料として用いた液晶素子
は、液晶本来の電気特性が低下することなく、従来の有
機材料では得られなかった実用的な配向性、電気特性を
有し、該樹脂皮膜をスペーサーとして用いられた場合に
は液晶層の層厚が均一に制御され、柱状の形態で層厚を
制御するため機械的強度に優れており、また、シール材
として用いられた場合には密着性に優れている。本発明
により液晶素子の形成が容易になり、開口率向上、コン
トラストに優れるなどその実用的な効果は大である。
The liquid crystal element using the resin film obtained by using the photo-acid generator used as an essential component in the present invention as a constituent material can be obtained by the conventional organic material without deteriorating the original electric characteristics of the liquid crystal. It has a practical orientation and electrical properties that were not available, and when the resin film is used as a spacer, the layer thickness of the liquid crystal layer is controlled uniformly, and the layer thickness is controlled in a columnar form to provide mechanical strength. It also has excellent adhesiveness when used as a sealant. According to the present invention, a liquid crystal element can be easily formed, its aperture ratio is improved, and its contrast is excellent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の液晶素子の構造を示した図面である。FIG. 1 is a drawing showing a structure of a liquid crystal element of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明絶縁性基板(第一基板) 2 透明絶縁性基板(第二基板) 3 透明導電性電極(第一電極) 4 透明導電性電極(第二電極) 5 配向膜 6 液晶層 7 柱状樹脂皮膜 1 Transparent Insulating Substrate (First Substrate) 2 Transparent Insulating Substrate (Second Substrate) 3 Transparent Conductive Electrode (First Electrode) 4 Transparent Conductive Electrode (Second Electrode) 5 Alignment Film 6 Liquid Crystal Layer 7 Columnar Resin Film

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光酸発生剤を開始剤とする感光性樹脂組
成物から得られた耐液晶性を有する樹脂皮膜を含有する
ことを特徴とする液晶素子。
1. A liquid crystal device comprising a resin film having liquid crystal resistance, which is obtained from a photosensitive resin composition containing a photo-acid generator as an initiator.
【請求項2】 該樹脂皮膜が液晶素子のスペーサーであ
る請求項1に記載の液晶素子。
2. The liquid crystal element according to claim 1, wherein the resin film is a spacer of the liquid crystal element.
【請求項3】 該樹脂皮膜がビーズを含むことを特徴と
する請求項2に記載の液晶素子。
3. The liquid crystal device according to claim 2, wherein the resin film contains beads.
【請求項4】 該樹脂皮膜が液晶素子のシール剤である
請求項1若しくは2に記載の液晶素子。
4. The liquid crystal element according to claim 1, wherein the resin film is a sealant for the liquid crystal element.
【請求項5】 透明電極を持つ基板上に光酸発生剤を開
始剤とする感光性樹脂組成物の皮膜を形成する工程と、
フォトマスクを通して光照射することにより該皮膜の一
部を露光させる工程と、光照射後、該皮膜の露光領域若
しくは未露光領域の何れかを現像除去する工程を経て製
造されることを特徴とする請求項1に記載の液晶素子。
5. A step of forming a film of a photosensitive resin composition having a photoacid generator as an initiator on a substrate having a transparent electrode,
It is manufactured through a step of exposing a part of the film by light irradiation through a photomask and a step of developing and removing either an exposed region or an unexposed region of the film after the light irradiation. The liquid crystal element according to claim 1.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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