JPH09277161A - Carrying hand for object to be polished - Google Patents

Carrying hand for object to be polished

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JPH09277161A
JPH09277161A JP11565696A JP11565696A JPH09277161A JP H09277161 A JPH09277161 A JP H09277161A JP 11565696 A JP11565696 A JP 11565696A JP 11565696 A JP11565696 A JP 11565696A JP H09277161 A JPH09277161 A JP H09277161A
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JP
Japan
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hand
top ring
polishing
damper
semiconductor wafer
Prior art date
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Pending
Application number
JP11565696A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiji Katsuoka
誠司 勝岡
Toyomi Nishi
豊美 西
Tetsuji Togawa
哲二 戸川
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Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Publication date
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Publication of JPH09277161A publication Critical patent/JPH09277161A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a carrying hand for an object to be polished which can facilitate position adjusting work between a hand and a top ring during receiving and delivering a semiconductor wafer and prevent an excessive load from being given to the joint part of a robot arm provided with the hand. SOLUTION: The top surface of this hand is provided with a recessed storage part 11 for storing disc-shaped semiconductor wafers. 8 dampers 21 consisting of a flexible plate respectively are formed at prescribed intervals around the storage part 11. The damper 21 protrudes upwards from the top surface of the hand 1, and the surface is inclined by a prescribed angel to the top surface of the hand 1. One edge of the storage part 11 side of the damper 21 is made a guide edge 23 at the time of storing the semiconductor wafers in the storage part 11.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はトップリングとの間
でポリッシング対象物の受け渡しを行なうのに使用する
ポリッシング対象物搬送用ハンドに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hand for transporting a polishing object used to transfer a polishing object to and from a top ring.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体ウエハの製造工程において
は、半導体ウエハ表面を平坦且つ鏡面化するためにポリ
ッシング装置が使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a process of manufacturing a semiconductor wafer, a polishing apparatus has been used to make the surface of the semiconductor wafer flat and mirror-finished.

【0003】この種のポリッシング装置は、各々独立し
た回転数で回転するターンテーブルとトップリングとを
有し、トップリングの下面に保持した半導体ウエハの表
面をターンテーブル上に設けた研磨面に接触して砥液を
供給しながら研磨する。
[0003] This type of polishing apparatus has a turntable and a top ring that rotate at independent rotation speeds, and the surface of a semiconductor wafer held on the lower surface of the top ring is brought into contact with a polishing surface provided on the turntable. And polishing while supplying the polishing liquid.

【0004】ところでこのトップリングへの半導体ウエ
ハの受け渡し、つまり研磨前の半導体ウエハをトップリ
ングに渡したり、研磨後の半導体ウエハをトップリング
から受け取ったりすることは、ロボットのアームの先端
に取り付けたハンドによって行なわれていた。
By the way, the delivery of the semiconductor wafer to the top ring, that is, the delivery of the semiconductor wafer before polishing to the top ring and the receipt of the semiconductor wafer after polishing from the top ring are attached to the tip of the arm of the robot. It was done by hand.

【0005】図12はトップリングとハンドの間におけ
る半導体ウエハの受け渡し状態を示す図である。同図に
示すようにハンド80は、略平板状部材の中央に略円形
に凹む収納部81を設けて構成されている。なおこのハ
ンド80は図示しないロボットのアームに取り付けられ
ることによって、水平方向(矢印a,b方向)と、垂直
方向(矢印c,d方向)への移動が可能となっている。
FIG. 12 is a view showing a semiconductor wafer delivery state between the top ring and the hand. As shown in the figure, the hand 80 is configured by providing a storage portion 81 that is recessed in a substantially circular shape in the center of a substantially flat plate-shaped member. The hand 80 can be moved in the horizontal direction (arrows a and b directions) and the vertical direction (arrows c and d directions) by being attached to a robot arm (not shown).

【0006】一方トップリング90は略円板状であって
その外周にガイドリング97を取り付け、その下面のガ
イドリング97の内側に半導体ウエハ100を吸着する
吸着面91を設けて構成されている。なおこのトップリ
ング90は、球軸受93を介して駆動軸95に取り付け
られている。
On the other hand, the top ring 90 is substantially disk-shaped and has a guide ring 97 attached to the outer periphery thereof, and a suction surface 91 for sucking the semiconductor wafer 100 is provided inside the guide ring 97 on the lower surface thereof. The top ring 90 is attached to the drive shaft 95 via a ball bearing 93.

【0007】そしてトップリング90からハンド80に
半導体ウエハ100を渡す場合は、半導体ウエハ100
を吸着したトップリング90の真下に、ハンド80を接
近させ、この状態でトップリング90による半導体ウエ
ハ100の吸着を中止することによって、該半導体ウエ
ハ100をハンド80の収納部81内に落下して保持さ
せる。そしてハンド80を矢印d,b方向に移動する。
When the semiconductor wafer 100 is transferred from the top ring 90 to the hand 80, the semiconductor wafer 100
The hand 80 is made to approach directly below the top ring 90 that has sucked the semiconductor wafer 100, and in this state, the suction of the semiconductor wafer 100 by the top ring 90 is stopped, so that the semiconductor wafer 100 falls into the storage portion 81 of the hand 80. Hold it. Then, the hand 80 is moved in the directions of arrows d and b.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで半導体ウエハ
100の受け渡しをするためにトップリング90の下面
にハンド80を接近させたとき、もし両者間に隙間があ
ると該隙間から半導体ウエハ100が抜け出る恐れがあ
る。
When the hand 80 is brought close to the lower surface of the top ring 90 for delivering the semiconductor wafer 100, if there is a gap between the two, the semiconductor wafer 100 may come out of the gap. There is.

【0009】そしてこの問題点を解決する方法として
は、トップリング90の外周に取り付けたガイドリング
97の下面にハンド80の上面を極めて狭い隙間を介し
て対向させるように両者の位置調整を行なう方法と、ガ
イドリング97の下面にハンド80の上面を直接当接さ
せてしまう方法とがある。
As a method of solving this problem, the position of the guide ring 97 attached to the outer periphery of the top ring 90 is adjusted so that the upper surface of the hand 80 faces the lower surface of the guide ring 97 with an extremely narrow gap. Then, there is a method of directly contacting the upper surface of the hand 80 with the lower surface of the guide ring 97.

【0010】しかしながらガイドリング97とハンド8
0とを極めて狭い間隔で対向させるように両者の位置決
めをすることは困難であり、その位置調整作業が煩雑に
なってしまう。
However, the guide ring 97 and the hand 8
It is difficult to position both 0 and 0 so as to face each other at an extremely narrow interval, and the position adjustment work becomes complicated.

【0011】またガイドリング97にハンド80を直接
当接させる場合は、該当接によってハンド80を取り付
けたロボットのアームの関節部に過大な負担をかけてし
まう恐れがあり、このため該関節部の機械的強度を強い
ものにしなければならず、コストアップを招いてしま
う。
Further, when the hand 80 is brought into direct contact with the guide ring 97, there is a possibility that the corresponding contact may impose an excessive load on the joint of the arm of the robot to which the hand 80 is attached. The mechanical strength must be strong, which leads to an increase in cost.

【0012】なおハンドの中にはその表面に真空吸着機
構を設け、該表面に半導体ウエハを真空吸着する構造の
ものもあるが、この種のハンドについても上記ハンド8
0の問題点と同様の問題点があった。
Some hands have a structure in which a vacuum suction mechanism is provided on the surface thereof and a semiconductor wafer is vacuum-sucked on the surface. This type of hand also has the above-mentioned hand 8
There was a problem similar to the problem of 0.

【0013】本発明は上述の点に鑑みてなされたもので
ありその目的は、ポリッシング対象物の受け渡しの際の
ハンドとトップリング間の位置調整作業が容易に行な
え、且つハンドを取り付けたロボットアームの関節部へ
の負担が過大になることもないポリッシング対象物搬送
用ハンドを提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to easily perform a position adjustment work between a hand and a top ring at the time of delivering an object to be polished, and to attach a hand to the robot arm. An object of the present invention is to provide a hand for transporting an object to be polished, which does not cause an excessive load on the joint part of the.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め本発明は、上面にポリッシング対象物を載置してトッ
プリングの下面に接近又は当接することによって該トッ
プリングとの間で前記ポリッシング対象物の受け渡しを
行なうポリッシング対象物搬送用のハンドにおいて、前
記ハンドには、前記ポリッシング対象物をトップリング
に受け渡す際の上下方向の衝撃を緩衝する緩衝部材を設
けることとした。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention places the polishing object on the upper surface and approaches or abuts the lower surface of the top ring so that the polishing is performed with the top ring. In the hand for transporting the polishing object for delivering the object, the hand is provided with a cushioning member for cushioning a vertical impact when the polishing object is delivered to the top ring.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて詳細に説明する。 〔第一実施形態〕図1は本発明の第一実施形態にかかる
ハンド1を示す斜視図、図2はハンド1の平面図(但し
取っ手13の部分は省略)、図3は図2のA−A部分の
断面矢視図である。図1〜図3に示すようにこのハンド
1は、所定の厚みを有する略長方形状の板(金属板の表
面に合成樹脂被膜を施したもの)の上面に円板状の半導
体ウエハを収納する寸法形状の凹状の収納部11を設
け、且つその外周から取っ手13を突出して構成されて
いる。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. [First Embodiment] FIG. 1 is a perspective view showing a hand 1 according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the hand 1 (however, the handle 13 is omitted), and FIG. It is a cross-sectional arrow view of the -A portion. As shown in FIGS. 1 to 3, the hand 1 stores a disc-shaped semiconductor wafer on the upper surface of a substantially rectangular plate (having a synthetic resin coating on the surface of a metal plate) having a predetermined thickness. A storage unit 11 having a concave shape is provided, and a handle 13 is projected from the outer periphery of the storage unit 11.

【0016】収納部11はその中央に貫通孔15を設け
ている。またこの収納部11の内周側面には下から上に
向かってその内径を大きくするようなテーパー面17を
設けている。
The storage section 11 has a through hole 15 in the center thereof. Further, a taper surface 17 is provided on the inner peripheral side surface of the storage portion 11 so as to increase the inner diameter thereof from the bottom to the top.

【0017】そして該収納部11の上端辺の外側周囲に
は所定間隔ごとに、全部で8枚のダンパ(緩衝部材)2
1が突出している。
A total of eight dampers (cushioning members) 2 are provided around the outer periphery of the upper end of the storage portion 11 at predetermined intervals.
1 is protruding.

【0018】このダンパ21は可撓性を有する合成樹脂
板によって構成されており、ハンド1の上面から上方向
に突出している部分は、該ハンド1の突出面に対してダ
ンパ21の面が所定角度傾くように構成されている。
The damper 21 is made of a flexible synthetic resin plate, and the portion of the damper 21 protruding upward from the upper surface of the hand 1 has a predetermined surface with respect to the protruding surface of the hand 1. It is configured to tilt at an angle.

【0019】またこのダンパ21は、その一辺をハンド
1の収納部11側に向け、この辺を半導体ウエハの収納
部11内への収納の際のガイド辺23としている。
Further, one side of the damper 21 is directed toward the storage portion 11 side of the hand 1, and this side is used as a guide side 23 for storing the semiconductor wafer in the storage portion 11.

【0020】このガイド辺23は、下から上に向かって
収納部11から離れる方向にテーパー状に形成されてい
る。またこのガイド辺23の下端は、テーパー面17の
上端辺に一致している(図3参照)。
The guide side 23 is formed in a taper shape in a direction away from the storage portion 11 from the bottom to the top. The lower end of the guide side 23 coincides with the upper end of the tapered surface 17 (see FIG. 3).

【0021】ここで図4はハンド1にダンパ21を取り
付ける方法を示す要部拡大斜視図(図1のX部分の部分
拡大図)である。同図に示すようにダンパ21は、その
上端の斜めに傾斜する傾斜面25と、ハンド1内に収納
される収納部27と、該収納部27の下端において直角
に折れ曲がる固定部29とによって構成されている。
FIG. 4 is an enlarged perspective view of an essential part showing a method of attaching the damper 21 to the hand 1 (a partially enlarged view of the X portion in FIG. 1). As shown in the figure, the damper 21 is composed of an inclined surface 25 that is inclined at the upper end thereof, a storage portion 27 that is stored in the hand 1, and a fixing portion 29 that is bent at a right angle at the lower end of the storage portion 27. Has been done.

【0022】このダンパ21は、ハンド1に設けた貫通
溝19の下側からその傾斜面25を挿入して該傾斜面2
5のみをハンド1の上面に突出し、この状態で固定部2
9に設けた孔28内にネジ26を挿入してハンド1の下
面に設けたネジ穴(図示せず)に螺合することによって
取り付けられる。
In this damper 21, the inclined surface 25 is inserted from the lower side of the through groove 19 provided in the hand 1 so that the inclined surface 2 is formed.
Only 5 is projected on the upper surface of the hand 1, and in this state, the fixing portion 2
It is attached by inserting the screw 26 into the hole 28 provided in 9 and screwing it into a screw hole (not shown) provided in the lower surface of the hand 1.

【0023】図5はこのハンド1とトップリング90の
間における半導体ウエハの受け渡し状態を示す図であ
る。なおこのトップリング90は前記図12に示すトッ
プリング90と同一なので、その詳細な説明は省略す
る。
FIG. 5 is a view showing a semiconductor wafer delivery state between the hand 1 and the top ring 90. Since the top ring 90 is the same as the top ring 90 shown in FIG. 12, detailed description thereof will be omitted.

【0024】トップリング90からハンド1に半導体ウ
エハ100を渡す場合、半導体ウエハ100を吸着した
トップリング90の真下に、ハンド1を接近させてダン
パ21をガイドリング97の下面に当接し、この状態で
トップリング90による半導体ウエハ100の吸着を中
止することによって、該半導体ウエハ100をハンド1
の収納部11内に落下して保持する。
When the semiconductor wafer 100 is transferred from the top ring 90 to the hand 1, the hand 1 is brought close to directly below the top ring 90 which has sucked the semiconductor wafer 100, and the damper 21 is brought into contact with the lower surface of the guide ring 97. By stopping the suction of the semiconductor wafer 100 by the top ring 90, the semiconductor wafer 100 is held by the hand 1.
It is dropped and held in the storage section 11 of.

【0025】このときトップリング90のガイドリング
97の下面には、ハンド1の上面から突出するダンパ2
1が当接するが、該ダンパ21は可撓性を有する板体な
ので容易にたわみ、従ってトップリング90に当接して
も該トップリング90を傷付けたり、またハンド1を取
り付けたロボットアームの関節部に過度の負担をかける
こともない。特にこの実施形態にかかるダンパ21はそ
の面がハンド1の上面に対して斜めに傾いているので、
トップリング90に当接した際に該面の傾斜角度が大き
くなるようにたわみ、その変形が容易に行なえる。
At this time, the damper 2 protruding from the upper surface of the hand 1 is provided on the lower surface of the guide ring 97 of the top ring 90.
1, but the damper 21 is easily bent because it is a flexible plate, and therefore the top ring 90 is damaged even if it comes into contact with the top ring 90, and the joint part of the robot arm to which the hand 1 is attached. There is no undue burden on the. Particularly, since the surface of the damper 21 according to this embodiment is inclined with respect to the upper surface of the hand 1,
When the top ring 90 is brought into contact with the top ring 90, the surface bends so as to have a large inclination angle, and the deformation can be easily performed.

【0026】またガイドリング97にダンパ21が当接
しているので、ハンド1上に半導体ウエハ100を落下
させる際に該半導体ウエハ100が外部に抜け出てしま
う恐れもない。
Since the damper 21 is in contact with the guide ring 97, when the semiconductor wafer 100 is dropped onto the hand 1, there is no fear that the semiconductor wafer 100 will come out.

【0027】またトップリング90とハンド1の相互位
置が多少ずれて、半導体ウエハ100をトップリング9
0から落下した際に、該半導体ウエハ100の外周の一
部がダンパ21のガイド辺23上に乗るように落下する
場合があるが、本実施形態においては、ダンパ21のガ
イド辺23の下端が収納部11のテーパー面17の上端
辺に一致しているので、該半導体ウエハ100の外周
は、ガイド辺23上に当接した後、該ガイド辺23とテ
ーパー面17の上を滑って収納部11内に確実に収納さ
れる。
Further, the mutual positions of the top ring 90 and the hand 1 are slightly displaced from each other, and the semiconductor wafer 100 is moved to the top ring 9
When falling from 0, a part of the outer circumference of the semiconductor wafer 100 may fall so as to ride on the guide side 23 of the damper 21, but in the present embodiment, the lower end of the guide side 23 of the damper 21 is Since it matches the upper end side of the tapered surface 17 of the storage portion 11, the outer periphery of the semiconductor wafer 100 abuts on the guide side 23 and then slides over the guide side 23 and the tapered surface 17 to store the storage portion. It is securely stored in 11.

【0028】〔第二実施形態〕ところで半導体ウエハ1
00の中には図6に示すように、その外周の所定部分を
直線状にカットしたいわゆるオリエンテーションフラッ
ト101を設けたものがある。
Second Embodiment By the way, the semiconductor wafer 1
As shown in FIG. 6, some of 00s are provided with a so-called orientation flat 101 in which a predetermined portion of the outer periphery thereof is linearly cut.

【0029】そしてこの種の半導体ウエハ100の受け
渡しに前記ハンド1を用いた場合は以下のような問題点
があった。即ちこの半導体ウエハ100をトップリング
90からハンド1上に落下した際、該半導体ウエハ10
0の位置がずれて、図7に示すように、そのオリエンテ
ーションフラット101の両端の角状部分e,eがダン
パ21とダンパ21の間のテーパー面17の上端辺上に
ひっかかってしまい、該半導体ウエハ100が収納部1
1内に収納されない恐れがあった。
When the hand 1 is used to transfer the semiconductor wafer 100 of this type, there are the following problems. That is, when the semiconductor wafer 100 is dropped from the top ring 90 onto the hand 1, the semiconductor wafer 10 is
As shown in FIG. 7, the angular portions e, e at both ends of the orientation flat 101 are caught on the upper end side of the tapered surface 17 between the dampers 21 as shown in FIG. Wafer 100 is storage unit 1
There was a risk that it would not be stored in 1.

【0030】図8はこの問題点をも解決するハンド1−
2の実施形態を示す斜視図、図9はハンド1−2の平面
図(但し取っ手13の部分は省略)、図10は図9のB
−B断面矢視図である。この実施形態において前記第一
実施形態と同一部分には同一符号を付してその詳細な説
明は省略する。
FIG. 8 shows a hand 1-that solves this problem as well.
2 is a perspective view showing the second embodiment, FIG. 9 is a plan view of the hand 1-2 (however, the handle 13 is omitted), and FIG. 10 is B of FIG.
FIG. In this embodiment, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0031】即ちこの実施形態において前記第一実施形
態と相違する点は、収納部11の周囲に取り付けた8枚
のダンパ21の取り付け位置である。
That is, this embodiment is different from the first embodiment in the mounting position of the eight dampers 21 mounted around the storage section 11.

【0032】即ちこの実施形態にかかるダンパ21の場
合は、ダンパ21のテーパー状のガイド辺23の下端を
収納部11のテーパー面17の下端辺と一致せしめ、ダ
ンパ21のガイド辺23がテーパー面17から内側に突
出するようにしている。
That is, in the case of the damper 21 according to this embodiment, the lower end of the tapered guide side 23 of the damper 21 is made to coincide with the lower end of the tapered surface 17 of the storage portion 11, and the guide side 23 of the damper 21 is tapered. It is designed to project inward from 17.

【0033】このようにダンパ21を形成すれば、トッ
プリング90からハンド1−2上に半導体ウエハ100
を落下した際に、もし図6に示す半導体ウエハ100の
オリエンテーションフラット101の両端の角状部分
e,eが図11に示すようにダンパ21とダンパ21の
間から突出するように位置した場合であっても、テーパ
ー面17の内側まで突出しているダンパ21のガイド辺
23によって、該角状部分eはテーパー面17の上端辺
にひっかかることなくガイド辺23に導かれて収納部1
1内に正確に収納される。
If the damper 21 is formed in this manner, the semiconductor wafer 100 is transferred from the top ring 90 to the hand 1-2.
If the corner portions e, e at both ends of the orientation flat 101 of the semiconductor wafer 100 shown in FIG. 6 are positioned so as to project from between the dampers 21 as shown in FIG. Even if there is, the corner portion e is guided by the guide side 23 of the damper 21 protruding to the inside of the tapered surface 17 without being caught on the upper end side of the tapered surface 17, and the storage portion 1
Accurately stored in 1.

【0034】この実施形態ではダンパ21のガイド辺2
3の下端を収納部11の内周側面に設けたテーパー面1
7の下端辺と一致せしめているが、両者は必ずしも一致
させる必要はない。また収納部11の内周側面に必ずし
もテーパー面17を設ける必要もない。即ち要はテーパ
ー状のガイド辺23を収納部11の内周側面(実施例で
はテーパー面17)の内部に突出するように位置せしめ
ることによって、落下させた半導体ウエハ100のオリ
エンテーションフラット101の角状部分eが2つのダ
ンパ21の間から外方に突出するように位置したとして
も前記収納部11の内周側面の上端辺にひっかからない
で収納部11内に導かれるものであれば良い。
In this embodiment, the guide side 2 of the damper 21
Tapered surface 1 provided with the lower end of 3 on the inner peripheral side surface of the storage portion 11
Although they are made to coincide with the lower end side of 7, it is not always necessary for both to be coincident. Further, it is not always necessary to provide the tapered surface 17 on the inner peripheral side surface of the storage section 11. That is, the point is that the tapered guide side 23 is positioned so as to project inside the inner peripheral side surface (tapered surface 17 in the embodiment) of the storage portion 11, so that the orientation flat 101 of the dropped semiconductor wafer 100 has a rectangular shape. Even if the portion e is positioned so as to project outward from between the two dampers 21, it is sufficient if it can be guided into the storage portion 11 without being caught by the upper end side of the inner peripheral side surface of the storage portion 11.

【0035】なおダンパ21のハンド1−2上に突出す
る面はハンド1−2の上面に対して所定角度傾いている
ので、この実施形態の場合、図8,図9に示すように、
ハンド1−2の上面には該ダンパ21を逃げるための8
か所の凹部31を設けている。
Since the surface of the damper 21 protruding above the hand 1-2 is inclined at a predetermined angle with respect to the upper surface of the hand 1-2, in the case of this embodiment, as shown in FIGS.
8 on the upper surface of the hand 1-2 for escaping the damper 21
A recess 31 is provided at some place.

【0036】〔第三実施形態〕図13,図14は本発明
の第三実施形態にかかるハンド50を示す図であり、図
13(a)は平面図、図13(b)は側断面図、図14
は分解斜視図である。
[Third Embodiment] FIGS. 13 and 14 are views showing a hand 50 according to a third embodiment of the present invention. FIG. 13 (a) is a plan view and FIG. 13 (b) is a side sectional view. , FIG. 14
Is an exploded perspective view.

【0037】両図に示すようにこのハンド50は、平板
状のハンド本体部材51の上に、バネ部材(緩衝部材)
61を介して載置部材71を取り付けて構成されてい
る。
As shown in both figures, this hand 50 has a flat plate-shaped hand main body member 51 and a spring member (cushioning member).
The mounting member 71 is attached via 61.

【0038】ここでハンド本体部材51は、長方形状の
板体であって、その所定位置に円形凹部53と、該円形
凹部53の両側に円形孔55,55を設けて構成されて
いる。なお円形孔55,55は下方向に向かってテーパ
ー状にその内径を広げている(図13(b)参照)。
Here, the hand body member 51 is a rectangular plate body, and is formed by providing a circular recess 53 at a predetermined position and circular holes 55, 55 on both sides of the circular recess 53. The circular holes 55, 55 have a tapered inner diameter that widens downward (see FIG. 13B).

【0039】バネ部材61はコイルスプリングで構成さ
れ、その上下両端にはバネ受け63,63が取り付けら
れる。
The spring member 61 is composed of a coil spring, and spring receivers 63, 63 are attached to both upper and lower ends thereof.

【0040】載置部材71は円板状に形成され、その所
定位置に2つの貫通するネジ孔73,73と、2つの貫
通孔75,75とが設けられている。また載置部材71
の下面中央には円形凹部77(図13(b)参照)が設
けられている。
The mounting member 71 is formed in a disk shape, and two screw holes 73, 73 penetrating therethrough and two through holes 75, 75 are provided at predetermined positions thereof. Also, the mounting member 71
A circular recess 77 (see FIG. 13B) is provided at the center of the lower surface of the.

【0041】また79,79は取付部材であり、該取付
部材79,79は略円筒状であってその上端面にネジ孔
81,81を設け、且つその下部にその外径をテーパー
状に広げてなる係止部83,83を設けて構成されてい
る。
Reference numerals 79 and 79 denote attachment members. The attachment members 79 and 79 have a substantially cylindrical shape, and screw holes 81 and 81 are provided on the upper end surface thereof, and the outer diameter thereof is widened in a tapered shape at the lower portion thereof. It is configured by providing locking portions 83, 83.

【0042】また85,85は真空吸引機構であり、該
真空吸引機構85,85は、真空配管87,87の先端
に、ジョイント88,88を取り付けて構成されてい
る。ジョイント88,88の先端には前記載置部材71
のネジ孔73,73に螺合するネジ89,89が切られ
ている。
Reference numerals 85 and 85 are vacuum suction mechanisms, and the vacuum suction mechanisms 85 and 85 are constructed by attaching joints 88 and 88 to the tips of the vacuum pipes 87 and 87. At the tips of the joints 88, 88, the mounting member 71 described above is provided.
Screws 89, 89 that are screwed into the screw holes 73, 73 are cut.

【0043】そしてこのハンド50を組み立てるには、
ハンド本体部材51の円形凹部53内に、バネ受け63
とバネ部材61とバネ受け63を載せ、その上から真空
吸引機構85,85のジョイント88,88を取り付け
た載置部材71を載せる。
To assemble this hand 50,
A spring receiver 63 is provided in the circular recess 53 of the hand body member 51.
The spring member 61 and the spring receiver 63 are placed, and the placing member 71 to which the joints 88, 88 of the vacuum suction mechanisms 85, 85 are attached is placed thereon.

【0044】次に取付部材79,79をハンド本体部材
51の円形孔55,55にその下面側から挿入してその
上端のネジ孔81,81に載置部材71の貫通孔75,
75にその上側から挿入したネジ200,200を螺合
する。円形孔55,55は、取付部材79の円周よりも
大きく形成されており、ウエハ載置時等の際にx軸、y
軸方向の遊びを持たせるようにしている。これにより受
渡しの際の傾動に対しても追従できる。
Next, the mounting members 79, 79 are inserted into the circular holes 55, 55 of the hand body member 51 from the lower surface side thereof, and the screw holes 81, 81 at the upper end thereof are inserted into the through holes 75 of the mounting member 71.
The screws 200, 200 inserted from the upper side into 75 are screwed together. The circular holes 55, 55 are formed to be larger than the circumference of the mounting member 79, so that the x-axis and y-axis can be set when the wafer is placed.
It is designed to have some play in the axial direction. This makes it possible to follow tilting during delivery.

【0045】そしてこのハンド50を用いて該ハンド5
0からトップリングに半導体ウエハを渡す場合は、図1
5に示すように、ハンド50の載置部材71の上面に前
記真空吸着機構85,85によって吸着した半導体ウエ
ハ100をトップリング90の下面に当接する。
Then, using this hand 50, the hand 5
When transferring a semiconductor wafer from 0 to the top ring,
As shown in FIG. 5, the semiconductor wafer 100 sucked by the vacuum suction mechanisms 85, 85 on the upper surface of the mounting member 71 of the hand 50 is brought into contact with the lower surface of the top ring 90.

【0046】このとき載置部材71はバネ部材61によ
って若干下降し、バネ部材61の弾発力以上の負荷がハ
ンド50やトップリング90にかからないので、トップ
リング90が傷付くことはなく、またハンド50を取り
付けたロボットアームの関節部に過度の負担をかけるこ
ともない。
At this time, the mounting member 71 is slightly lowered by the spring member 61, and the load exceeding the elastic force of the spring member 61 is not applied to the hand 50 or the top ring 90, so that the top ring 90 is not damaged and An excessive load is not applied to the joint part of the robot arm to which the hand 50 is attached.

【0047】そしてトップリング90によって半導体ウ
エハ100を吸着すると同時に真空吸着機構85,85
の吸着を停止し、ハンド50を下降させる。
Then, the semiconductor wafer 100 is sucked by the top ring 90, and at the same time, the vacuum suction mechanism 85, 85
To stop the hand 50 and lower the hand 50.

【0048】以上のように半導体ウエハ100は所定の
弾発力でトップリング90に弾接された状態でその受渡
しが行なわれるので、該半導体ウエハ100が外部に抜
け出す恐れもない。
As described above, since the semiconductor wafer 100 is delivered while being elastically contacted with the top ring 90 by a predetermined elastic force, there is no possibility that the semiconductor wafer 100 will come out.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば以下のような優れた効果を有する。 ハンドの収納部の周囲にダンパを設けたので、該ダン
パをトップリングに当接させることができ、半導体ウエ
ハが外部に抜け出てしまうことがなく、またハンドとト
ップリングの間でポリッシング対象物を受け渡す際にハ
ンドを取り付けたロボットアームの関節部に過度の負担
をかけることもない。またポリッシング対象物の受け渡
しの際のハンドとトップリング間の位置調整をそれほど
厳密に行なわなくても良くなり、該調整作業が容易にな
る。
As described in detail above, the present invention has the following excellent effects. Since the damper is provided around the storage part of the hand, the damper can be brought into contact with the top ring, the semiconductor wafer does not come out to the outside, and the polishing target is kept between the hand and the top ring. It does not put an excessive burden on the joint part of the robot arm to which the hand is attached when delivering. Further, it becomes unnecessary to adjust the position between the hand and the top ring when transferring the polishing object, so that the adjustment work becomes easy.

【0050】ダンパのガイド辺をハンドの収納部の内
周側面の内側に突出するように位置せしめた場合は、オ
リエンテーションフラットを設けたポリッシング対象物
であっても、ハンドの収納部に対してオリエンテーショ
ンフラットを特定の位置に位置合わせしなくてもオリエ
ンテーションフラット両端の角状部分が収納部の内周側
面の上端辺にひっかかることなく、該ポリッシング対象
物を確実に収納部内に収納できる。
When the guide side of the damper is positioned so as to project to the inside of the inner peripheral side surface of the storage part of the hand, the orientation of the storage part of the hand is improved even if the polishing target has an orientation flat. Even if the flat is not aligned with a specific position, the corners at both ends of the orientation flat can be reliably stored in the storage unit without being caught by the upper end sides of the inner peripheral side surfaces of the storage unit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第一実施形態にかかるハンド1を示す
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a hand 1 according to a first embodiment of the present invention.

【図2】ハンド1の平面図(但し取っ手13の部分は省
略)である。
FIG. 2 is a plan view of the hand 1 (however, the handle 13 is omitted).

【図3】図2のA−A部分の断面矢視図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図4】ハンド1にダンパ21を取り付ける方法を示す
要部拡大斜視図である。
FIG. 4 is an enlarged perspective view of an essential part showing a method of attaching the damper 21 to the hand 1.

【図5】ハンド1とトップリング90の間における半導
体ウエハ100の受け渡し状態を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a delivery state of the semiconductor wafer 100 between the hand 1 and the top ring 90.

【図6】半導体ウエハ100を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a semiconductor wafer 100.

【図7】半導体ウエハ100とハンド1との係合状態を
示す要部拡大図である。
FIG. 7 is an enlarged view of a main part showing an engagement state between the semiconductor wafer 100 and the hand 1.

【図8】本発明の第二実施形態にかかるハンド1−2を
示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing a hand 1-2 according to the second embodiment of the present invention.

【図9】ハンド1−2の平面図(但し取っ手15の部分
は省略)である。
FIG. 9 is a plan view of the hand 1-2 (however, the handle 15 is omitted).

【図10】図9のB−B断面矢視図である。10 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.

【図11】半導体ウエハ100とハンド1−2との係合
状態を示す要部拡大図である。
FIG. 11 is an enlarged view of a main part showing an engaged state of the semiconductor wafer 100 and the hand 1-2.

【図12】従来のトップリングとハンドの間における半
導体ウエハの受け渡し状態を示す図である。
FIG. 12 is a view showing a delivery state of a semiconductor wafer between a conventional top ring and a hand.

【図13】本発明の第三実施形態にかかるハンド50を
示す図であり、図13(a)は平面図、図13(b)は
側断面図である。
13A and 13B are diagrams showing a hand 50 according to a third embodiment of the present invention, FIG. 13A is a plan view, and FIG. 13B is a side sectional view.

【図14】本発明の第三実施形態にかかるハンド50を
示す分解斜視図である。
FIG. 14 is an exploded perspective view showing a hand 50 according to a third embodiment of the present invention.

【図15】ハンド50の動作説明図である。FIG. 15 is a diagram illustrating the operation of the hand 50.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1−2 ハンド 11 収納部 17 テーパー面 21 ダンパ 23 ガイド辺 90 トップリング 100 半導体ウエハ(ポリッシング対象物) 50 ハンド 51 ハンド本体部材 61 バネ部材 71 載置部材 85,85 真空吸引機構 1, 1-2 hand 11 storage part 17 taper surface 21 damper 23 guide side 90 top ring 100 semiconductor wafer (object to be polished) 50 hand 51 hand body member 61 spring member 71 mounting member 85, 85 vacuum suction mechanism

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 上面にポリッシング対象物を載置してト
ップリングの下面に接近又は当接することによって該ト
ップリングとの間で前記ポリッシング対象物の受け渡し
を行なうポリッシング対象物搬送用のハンドにおいて、 前記ハンドには、前記ポリッシング対象物をトップリン
グに受け渡す際の上下方向の衝撃を緩衝する緩衝部材を
設けたことを特徴とするポリッシング対象物搬送用ハン
ド。
1. A hand for transporting a polishing object, wherein a polishing object is placed on an upper surface and approaches or abuts a lower surface of a top ring to transfer the polishing object to and from the top ring. A hand for transporting a polishing object, wherein the hand is provided with a cushioning member for cushioning a vertical impact when the polishing object is delivered to a top ring.
【請求項2】 上面にポリッシング対象物を収納する凹
状の収納部を形成し、該収納部をトップリングの下面に
接近又は当接することによって該トップリングとの間で
前記ポリッシング対象物の受け渡しを行なうポリッシン
グ対象物搬送用のハンドにおいて、 前記収納部の周囲には所定間隔ごとに、可撓性を有する
板からなるダンパを上方向に突出するように取り付け、
且つ該ダンパの面をハンドの上面に対して所定角度傾
け、更に該ダンパの収納部側の一辺をポリッシング対象
物の収納部内への収納の際のガイド辺としたことを特徴
とするポリッシング対象物搬送用ハンド。
2. A concave storage portion for storing a polishing object is formed on an upper surface, and the storage object is transferred to and from the top ring by approaching or abutting the storage portion to a lower surface of the top ring. In a hand for carrying out a polishing object to be carried out, a damper made of a plate having flexibility is attached around the storage section so as to project upward,
Further, the surface of the damper is inclined at a predetermined angle with respect to the upper surface of the hand, and one side of the damper on the side of the storage portion is used as a guide side for storing the polishing target in the storage portion. Transporting hand.
【請求項3】 前記ダンパのガイド辺をテーパー状に形
成すると共に、該テーパー状のガイド辺を前記収納部の
内周側面の内側に突出するように位置せしめたことを特
徴とする請求項2記載のポリッシング対象物搬送用ハン
ド。
3. The guide side of the damper is formed in a tapered shape, and the tapered guide side is positioned so as to project inside the inner peripheral side surface of the storage portion. Hand for transporting the described polishing object.
【請求項4】 上面にポリッシング対象物を吸着又は載
置してトップリングの下面に接近又は当接することによ
って該トップリングとの間で前記ポリッシング対象物の
受け渡しを行なうポリッシング対象物搬送用のハンドに
おいて、 前記ハンドは、前記ポリッシング対象物を載置する載置
部材と、 該載置部材の下側にバネ部材を介在して取り付けられる
ハンド本体部材とによって構成されていることを特徴と
するポリッシング対象物搬送用ハンド。
4. A hand for transporting a polishing target object which picks up or mounts a polishing target object on an upper surface thereof and approaches or abuts a lower surface of a top ring to transfer the polishing target object to or from the top ring. In the above polishing, the hand is composed of a mounting member for mounting the polishing target object, and a hand body member mounted below the mounting member with a spring member interposed therebetween. Hand for conveying objects.
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