JPH09274194A - Production of liquid crystal element - Google Patents

Production of liquid crystal element

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JPH09274194A
JPH09274194A JP8160896A JP8160896A JPH09274194A JP H09274194 A JPH09274194 A JP H09274194A JP 8160896 A JP8160896 A JP 8160896A JP 8160896 A JP8160896 A JP 8160896A JP H09274194 A JPH09274194 A JP H09274194A
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JP
Japan
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resin
liquid crystal
crystal element
elastic film
cured
Prior art date
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Application number
JP8160896A
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Japanese (ja)
Inventor
Shunichi Nakahara
俊一 中原
Haruo Tomono
晴夫 友野
Yuji Matsuo
雄二 松尾
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPH09274194A publication Critical patent/JPH09274194A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a liquid crystal panel which deals with the trend toward higher fineness and larger area and to maintain the uniform orientation of liquid crystals of this liquid crystal panel. SOLUTION: A glass substrate 11 packed with resins 13L between metallic electrodes 12,... is pressurized in an arrow F1 direction via a smoothing plate 32 and the resins 13L are cured in this pressurized state. An elastic film 31b is formed on the surface of this smoothing plate 31 and, therefore, the resin film 32b intrudes between the electrode spacings and forms recesses of a prescribed depth in the films 13L. The similar stage is thereafter repeated by using not the smoothing plate 32 with the elastic film but the smoothing plate which is not coated with the elastic film. As a result, the resins 13L are packed into the recesses and are cured and the smooth surface is formed by the resins 13L and the metallic electrodes 12,.... If the liquid crystal panel is produced by forming transparent electrodes, etc., on this smooth surface, the delay of the voltage waveforms is eliminated by combination use of the metallic electrodes 12,... and the transparent electrodes and the liquid crystal panel dealing the trend toward the higher fineness and the larger area is obtd. In addition, the liquid crystal layer thickness is made uniform and the orientation state of the liquid crystals is improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶素子の製造方
法に係り、詳しくは、ベース基板の表面に厚膜の駆動電
極を形成した場合に該電極相互の間隙に樹脂を充填して
該電極と樹脂とによって平滑な面を形成する方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal device, and more particularly, when a thick film drive electrode is formed on the surface of a base substrate, a resin is filled in a gap between the electrodes to form the electrode. And a resin to form a smooth surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、液晶素子(以下“液晶パネ
ル”とする)は種々の分野において利用されている。ま
ず、この液晶パネルの構造を、図1に沿って簡単に説明
する。
2. Description of the Related Art Conventionally, liquid crystal elements (hereinafter referred to as "liquid crystal panels") have been used in various fields. First, the structure of the liquid crystal panel will be briefly described with reference to FIG.

【0003】この液晶パネルP1 は、図1に示すよう
に、相対向するように配置された一対の電極基板1,1
を備えており、これらの電極基板1,1はシール材2に
よって貼り合わされて、その内部間隙にはたとえば強誘
電性液晶3が保持されている。
This liquid crystal panel P 1 is, as shown in FIG. 1, a pair of electrode substrates 1, 1 arranged so as to face each other.
These electrode substrates 1 and 1 are attached to each other by a sealing material 2, and a ferroelectric liquid crystal 3 is held in the inner space thereof.

【0004】一方、各電極基板1はガラス基板5を有し
ており、このガラス基板5の表面にはITO透明電極
6,…が形成されている。これらの透明電極6,…は、
500〜5000Å程度の厚さであり、パターニング処
理によって通常ストライプ状に形成されている。また、
これらの透明電極6,…の表面には、ショート防止のた
めの絶縁膜7が酸化シリコンや酸化チタン等によって5
00〜3000Å程度の厚さに形成されており、さらに
その表面にはポリイミド樹脂等によって配向制御膜9が
形成されている。そして、このような液晶パネルP1
は、相対向する透明電極6,…,6,…に電圧を印加し
て駆動されていた。
On the other hand, each electrode substrate 1 has a glass substrate 5, and ITO transparent electrodes 6, ... Are formed on the surface of the glass substrate 5. These transparent electrodes 6, ...
It has a thickness of about 500 to 5000Å and is usually formed in a stripe shape by a patterning process. Also,
An insulating film 7 for preventing short circuit is formed on the surfaces of these transparent electrodes 6, ...
It is formed to have a thickness of about 00 to 3000 Å, and an alignment control film 9 is formed on the surface thereof with a polyimide resin or the like. Then, such a liquid crystal panel P 1
Were driven by applying a voltage to the transparent electrodes 6, ..., 6 ,.

【0005】しかしながら、上記の透明電極6,…では
抵抗率が比較的高い(体積抵抗;200〜4000×1
-8Ω)ため、表示面積の大型化並びに液晶パネルの高
精細化に伴い、液晶パネルにおける電圧波形の遅延が問
題となっていた。なお、このような電圧波形の遅延を解
決する一つの方法としては透明電極6,…を厚くする方
法が考えられるが、その方法によれば、成膜に時間やコ
ストがかかったり、透明電極6,…のガラス基板5への
密着性も悪くなる等の欠点があり、実用的では無かっ
た。
However, the transparent electrodes 6, ... Have relatively high resistivity (volume resistance: 200 to 4000 × 1).
Therefore, the delay of the voltage waveform in the liquid crystal panel has become a problem with the increase in the display area and the higher definition of the liquid crystal panel. As a method of solving such a delay of the voltage waveform, a method of thickening the transparent electrodes 6, ... Is conceivable. According to this method, it takes time and cost to form the film, and the transparent electrode 6 , And the like have a drawback such as poor adhesion to the glass substrate 5 and are not practical.

【0006】そこで、電圧波形の遅延を回避するための
液晶パネルが、特開平2−63019号公報等に開示さ
れている。
Therefore, a liquid crystal panel for avoiding the delay of the voltage waveform is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2-63019.

【0007】この液晶パネルP2 は、図2(a) に示すよ
うに、平行に配置された一対の埋め込み配線基板10,
10を備えており、これらの埋め込み配線基板10,1
0はシール材2によって貼り合わされて、その内部間隙
には強誘電性液晶3が保持されている。
As shown in FIG. 2 (a), the liquid crystal panel P 2 includes a pair of embedded wiring boards 10 arranged in parallel,
10 and these embedded wiring boards 10, 1
The reference numeral 0 is attached by the sealing material 2, and the ferroelectric liquid crystal 3 is held in the internal gap.

【0008】この埋め込み配線基板10は、同図(b) に
詳示するように、透明なガラス基板11を備えており、
このガラス基板11の表面にはストライプ状の金属電極
12,…が多数形成されている。これらの金属電極1
2,…は所定間隙を置いて配置されているが、該間隙に
は紫外線硬化樹脂(UV硬化樹脂)13,…が充填され
ている。そして、この樹脂13,…は金属電極12,…
と共に連続面を形成し、該面には、各金属電極12,…
に沿うようにストライプ状の透明電極6,…が形成され
ている。さらに、透明電極6,…は、絶縁膜7や配向制
御膜9によって被覆されている。
The embedded wiring substrate 10 is provided with a transparent glass substrate 11, as shown in detail in FIG.
A large number of stripe-shaped metal electrodes 12, ... Are formed on the surface of the glass substrate 11. These metal electrodes 1
, Are arranged with a predetermined gap therebetween, and the gap is filled with an ultraviolet curable resin (UV curable resin) 13 ,. The resin 13, ... Is the metal electrode 12 ,.
A continuous surface is formed together with each metal electrode 12, ...
Striped transparent electrodes 6, ... Are formed along. Further, the transparent electrodes 6, ... Are covered with the insulating film 7 and the orientation control film 9.

【0009】この埋め込み配線基板10によれば、金属
電極12,…と透明電極6,…とによって駆動信号を印
加するため、それらの抵抗値が低くなり、電圧波形の遅
延が解消される。
According to the embedded wiring board 10, since the drive signals are applied by the metal electrodes 12, ... And the transparent electrodes 6, .., the resistance values thereof are lowered and the delay of the voltage waveform is eliminated.

【0010】次に、このような液晶パネルP2 の製造方
法について、図3(a) 〜(h) に沿って説明する。 (配線基板形成工程)まず、1μm程度の膜厚でストラ
イプ状の金属電極12,…をガラス基板11の表面に多
数形成し、図3(b) に示すような配線基板A1 を得る
(以下、配線基板A1 における金属電極12,…の形成
された側の面を“配線面15”とする)。 (樹脂供給工程)本工程においては、図3(a) に示すよ
うに、ディスペンサー等の定量滴下治具20を用い、U
V硬化樹脂等の樹脂モノマー液13Lを平滑板21の平
滑な表面に所定量だけ滴下する(この樹脂モノマー液1
3Lは液体の状態で供給され、その後硬化されるが、硬
化される前の液状の樹脂を符号13Lで表し、硬化後の
樹脂を符号13Sで表し、特に区別を要しない場合は単
に“樹脂13”とする)。
Next, a method of manufacturing such a liquid crystal panel P 2 will be described with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (h). (Wiring board forming step) First, a large number of stripe-shaped metal electrodes 12, ... With a film thickness of about 1 μm are formed on the surface of the glass substrate 11 to obtain a wiring board A 1 as shown in FIG. , The surface of the wiring board A 1 on the side where the metal electrodes 12, ... Are formed is referred to as “wiring surface 15”). (Resin supplying step) In this step, as shown in FIG. 3 (a), a fixed amount dropping jig 20 such as a dispenser is used, and U
A predetermined amount of a resin monomer liquid 13L such as a V-curable resin is dropped onto the smooth surface of the smooth plate 21 (this resin monomer liquid 1
3L is supplied in a liquid state and then cured, but a liquid resin before being cured is represented by reference numeral 13L, and a resin after curing is represented by reference numeral 13S. "And).

【0011】そして、樹脂13Lの滴下された平滑板2
1の表面に、配線基板A1 の配線面15を重ね合わせ
て、樹脂13Lを平滑板21と配線基板A1 とによって
挟むようにする(同図(b) (c) 参照。以下、樹脂13L
を平滑板21と配線基板A1 とによって挟み込むように
したものを“被加圧体A2 ”とする)。これにより、配
線基板A1 の配線面15、すなわち、金属電極12,…
の形成された部分に、樹脂13Lが供給されることとな
る。 (加圧工程、樹脂硬化工程)本工程においては、図3
(d) (e) に示すように、プレス機25を用いる。このプ
レス機25は上下板25U,25Dを有しており、上板
25Uの下面には厚肉の透明基板26が配置されてい
る。そして、上述の樹脂供給工程にて作製した被加圧体
2 を、この透明基板26と下板25Dとの間に、配線
基板A1 を上側にした状態でセットし、プレス機25を
駆動する。これにより、上板25Uが矢印F1 の方向に
駆動され、被加圧体A2 は上板25Uと下板25Dとの
間で加圧される。
Then, the smooth plate 2 on which the resin 13L is dropped
The wiring surface 15 of the wiring board A 1 is superposed on the surface of No. 1 so that the resin 13L is sandwiched between the smoothing plate 21 and the wiring board A 1 (see (b) and (c) in the figure.
Which is sandwiched between the smooth plate 21 and the wiring board A 1 is referred to as “pressurized body A 2 ”. As a result, the wiring surface 15 of the wiring board A 1 , that is, the metal electrodes 12, ...
The resin 13L is supplied to the portion where the resin is formed. (Pressure process, resin curing process) In this process, as shown in FIG.
(d) As shown in (e), a press machine 25 is used. The press 25 has upper and lower plates 25U and 25D, and a thick transparent substrate 26 is arranged on the lower surface of the upper plate 25U. Then, the pressed body A 2 produced in the resin supply step described above is set between the transparent substrate 26 and the lower plate 25D with the wiring substrate A 1 facing upward, and the press 25 is driven. To do. As a result, the upper plate 25U is driven in the direction of the arrow F 1 , and the pressed body A 2 is pressed between the upper plate 25U and the lower plate 25D.

【0012】このとき、金属電極12,…の全ての表面
は、平滑板21を介して均一な圧力で加圧され、樹脂1
3Lは、金属電極12,…の表面からは排除されて電極
間隙に充填され、金属電極12,…と共に平滑な面を形
成することとなる。
At this time, all the surfaces of the metal electrodes 12, ... Are pressed with a uniform pressure through the smooth plate 21, and the resin 1
3L is excluded from the surface of the metal electrodes 12, ... And is filled in the electrode gap, and forms a smooth surface together with the metal electrodes 12 ,.

【0013】そして、上述のように金属電極12,…の
表面が加圧されている状態で、同図(f) に示すように、
透明基板26の側方からUV硬化樹脂13Lに紫外線L
(以下、“UV光L”とする)を照射し、樹脂13Lを
硬化させる。 (剥離工程)次に、プレス機25による加圧を解除し、
被加圧体A2 をプレス機25から取り出す。
While the surfaces of the metal electrodes 12, ... Are pressed as described above, as shown in FIG.
From the side of the transparent substrate 26 to the UV curable resin 13L, ultraviolet rays L
(Hereinafter, referred to as “UV light L”) is irradiated to cure the resin 13L. (Peeling step) Next, the pressure applied by the press 25 is released,
The body A 2 to be pressed is taken out from the press 25.

【0014】その後、不図示の工具等によって図3(g)
に示す矢印F2 の方向に力を加え、平滑板21を剥離す
る(同図(h) 参照)。 (その他の工程)その後、金属電極12,…と樹脂13
Sとによって形成される面に、パターニングされた透明
電極6,…を形成し、さらに透明電極6,…を覆うよう
に絶縁膜7や配向制御膜9を形成し、埋め込み配線基板
10を得る。
Then, with a tool or the like not shown in FIG.
A force is applied in the direction of arrow F 2 shown in to peel off the smooth plate 21 (see FIG. 6 (h)). (Other steps) After that, the metal electrodes 12, ... And the resin 13
The patterned transparent electrodes 6, ... Are formed on the surface formed by S and the insulating film 7 and the orientation control film 9 are further formed so as to cover the transparent electrodes 6 ,.

【0015】そして、一対の埋め込み配線基板10,1
0をシール材2によって貼り合わせ、その内部間隙には
強誘電性液晶3を注入し、液晶パネルP2 を作成する。
Then, the pair of embedded wiring boards 10 and 1
0 is bonded by the sealing material 2, and the ferroelectric liquid crystal 3 is injected into the inner space thereof to form the liquid crystal panel P 2 .

【0016】なお、この液晶パネルP2 においては、金
属電極12,…の表面から樹脂13Sが排除されている
ため、透明電極6,…と金属電極12,…とは良好に接
触されて、その導通性が確保されている。
In the liquid crystal panel P 2 , since the resin 13S is removed from the surfaces of the metal electrodes 12, ..., The transparent electrodes 6, ... And the metal electrodes 12 ,. Continuity is secured.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】ところで、樹脂13
は、一般的に、UV光Lが照射されて硬化する際に収縮
する性質を有しており、また、従来の製造方法によれ
ば、樹脂13Lは、平滑板21にて加圧されて、金属電
極12,…と共に平滑な面を形成している状態で硬化さ
れる。したがって、硬化後の樹脂13は、図4に詳示す
るように、金属電極12,…の厚さ分よりも収縮し、樹
脂13の表面には凹部(以下、このような樹脂13の収
縮に伴って生ずる凹部を“ヒケ”とする)Sが発生す
る。具体的には、樹脂13の体積収縮率は3〜10%程
度であり、また金属電極12,…の厚みは上述したよう
に1μm程度であるため、ヒケSの深さは0.02〜
0.1μm程度となり、無視できない値となる。特に、
金属電極12,…の厚みが2μm以上の場合には、従来
の製造方法では、必要とされる平坦性を確保することは
不可能であった。
By the way, the resin 13
Generally has a property of shrinking when being cured by being irradiated with UV light L. Further, according to the conventional manufacturing method, the resin 13L is pressed by the smooth plate 21, It is hardened while forming a smooth surface together with the metal electrodes 12, .... Therefore, as shown in detail in FIG. 4, the cured resin 13 shrinks more than the thickness of the metal electrodes 12, ..., And a recess is formed on the surface of the resin 13 (hereinafter, such resin 13 shrinks. The resulting recessed portion is referred to as "sink") S occurs. Specifically, since the volumetric shrinkage of the resin 13 is about 3 to 10% and the thickness of the metal electrodes 12, ... Is about 1 μm as described above, the depth of the sink mark S is 0.02 to 0.02.
It is about 0.1 μm, which is a value that cannot be ignored. Especially,
When the thickness of the metal electrodes 12, ... Is 2 μm or more, it is impossible to secure the required flatness by the conventional manufacturing method.

【0018】そして、このような埋め込み配線基板10
を用いて液晶パネルを製造した場合には、液晶の配向が
均一でなくなるという問題があった。
Then, such an embedded wiring board 10
When a liquid crystal panel is manufactured by using, there is a problem that the alignment of liquid crystal is not uniform.

【0019】そこで、本発明は、電圧波形の遅延を解消
して高精細化に対応可能でありながら配向特性に優れる
液晶素子の製造方法を提供することを目的とするもので
ある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal element which eliminates the delay of the voltage waveform and can cope with high definition, while having excellent alignment characteristics.

【0020】また、本発明は、製造品質を一定にして、
製造歩留りを向上させ、製品のコストダウンが可能な液
晶素子の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。
Further, according to the present invention, the manufacturing quality is kept constant,
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal element, which can improve the manufacturing yield and reduce the cost of the product.

【0021】さらに、本発明は、透明電極の透過率を下
げることなく、光学的な差異やクロストークの発生もな
い、表示品質に優れた液晶素子の製造方法を提供するこ
とを目的とするものである。
It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid crystal device having excellent display quality without lowering the transmittance of the transparent electrode, causing no optical difference or crosstalk. Is.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】本発明は、上述事情に鑑
みなされたものであって、ベース基板の表面に駆動電極
を多数形成して配線基板を形成する配線基板形成工程
と、前記駆動電極の形成された部分に液状の樹脂を供給
する第1の樹脂供給工程と、前記駆動電極の表面を第1
の加圧部材を介して加圧することに基づき前記多数の駆
動電極相互の間隙に樹脂を充填する第1の加圧工程と、
前記充填された樹脂を硬化させる第1の樹脂硬化工程
と、前記第1の加圧部材を前記配線基板から剥離する剥
離工程と、を備えた液晶素子の製造方法において、前記
第1の加圧部材を、平滑な板状部材と、該板状部材に被
覆された弾性を有する弾性膜と、により構成し、前記第
1の加圧工程において、前記弾性膜にて押圧することに
より樹脂に凹みを形成し、前記第1の樹脂硬化工程にお
いて、前記凹みを有した状態に樹脂を硬化させ、前記樹
脂の凹みに新たに液状の樹脂を供給する第2の樹脂供給
工程と、弾性膜で被覆されておらず平滑な第2の加圧部
材を介して前記駆動電極の表面を加圧することに基づき
前記凹みに樹脂を充填する第2の加圧工程と、前記第2
の樹脂供給工程にて供給された樹脂を硬化させる第2の
樹脂硬化工程と、前記第2の加圧部材を前記配線基板か
ら剥離する剥離工程とを、前記剥離工程の後に順次実施
した、ことを特徴とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and a wiring board forming step of forming a plurality of drive electrodes on the surface of a base board to form a wiring board, and the drive electrodes. A first resin supplying step of supplying a liquid resin to the portion where the
A first pressurizing step of filling a resin into the gaps between the plurality of drive electrodes based on pressurizing via the pressurizing member of
A method for manufacturing a liquid crystal element, comprising: a first resin curing step of curing the filled resin; and a peeling step of peeling the first pressure member from the wiring board. The member is composed of a smooth plate-shaped member and an elastic elastic film covered with the plate-shaped member, and is depressed in the resin by pressing with the elastic film in the first pressing step. And a second resin supply step of supplying a new liquid resin to the recess of the resin in the first resin curing step to cure the resin in the state of having the recess, and coating with an elastic film. A second pressurizing step of filling resin into the recesses by pressurizing the surface of the drive electrode through a smooth second pressurizing member, and
The second resin curing step of curing the resin supplied in the resin supply step and the peeling step of peeling the second pressure member from the wiring board are sequentially performed after the peeling step. Is characterized by.

【0023】この場合、前記第1の樹脂硬化工程にて、
前記駆動電極相互の間隙に充填された樹脂を完全に硬化
させる、ようにすると好ましい。また、前記凹みの深さ
を0.2〜1.0μmの範囲内とし、かつ、前記第2の
樹脂硬化工程までを経て前記駆動電極の間隙に配置され
た樹脂の厚さを、1.0μm以上とした方が好ましい。
In this case, in the first resin curing step,
It is preferable to completely cure the resin filled in the gap between the drive electrodes. Further, the depth of the recess is within a range of 0.2 to 1.0 μm, and the thickness of the resin disposed in the gap between the drive electrodes after the second resin curing step is 1.0 μm. The above is preferable.

【0024】一方、前記第1の加圧部材における弾性膜
が、所定の溶液を前記板状部材表面に塗布し、加熱する
ことにより、形成される、ようにしてもよい。また、前
記第1の加圧部材における弾性膜が、柔軟性フィルムを
接着することにより、形成される、ようにしてもよい。
On the other hand, the elastic film of the first pressing member may be formed by applying a predetermined solution to the surface of the plate member and heating it. The elastic film of the first pressure member may be formed by adhering a flexible film.

【0025】また、前記第1の樹脂供給工程にて、前記
第1の加圧部材に樹脂を滴下すると共に該樹脂の滴下さ
れた第1の加圧部材を前記配線基板に重ね合わせること
により、前記駆動電極の形成された部分に液状の樹脂を
供給する、ようにしてもよい。さらに、前記第1の加圧
工程並びに前記第2の加圧工程のいずれか一方、又は双
方において、前記配線基板及び前記加圧部材の構造体
を、プレス機の一対のラムの間にセットし、かつ、前記
一対のラムによって前記構造体を加圧する、ようにして
もよい。
In the first resin supplying step, the resin is dropped onto the first pressure member and the first pressure member onto which the resin is dropped is superposed on the wiring board. A liquid resin may be supplied to the portion where the drive electrodes are formed. Further, in either or both of the first pressurizing step and the second pressurizing step, the structure of the wiring board and the pressurizing member is set between a pair of rams of a press machine. Further, the structure may be pressed by the pair of rams.

【0026】また一方、前記第1の加圧工程及び前記第
1の樹脂硬化工程を同時に実施し、前記樹脂の表面が前
記弾性膜によって押圧されて凹みを形成している状態
で、該樹脂を硬化させる、ようにすると好ましい。ま
た、前記第2の加圧工程及び前記第2の樹脂硬化工程を
同時に実施し、かつ、前記駆動電極の表面を前記第2の
加圧部材を介して加圧している状態で、前記充填された
樹脂を硬化する、ようにしてもよい。
On the other hand, the first pressurizing step and the first resin curing step are carried out at the same time, and when the surface of the resin is pressed by the elastic film to form a depression, the resin is applied. It is preferable to cure. Further, the filling is performed while the second pressurizing step and the second resin curing step are simultaneously performed, and the surface of the drive electrode is pressed by the second pressurizing member. The resin may be cured.

【0027】また、前記樹脂が、紫外線が照射されて硬
化するUV硬化樹脂であり、かつ、前記第1の樹脂硬化
工程及び前記第2の樹脂硬化工程にて、前記樹脂に紫外
線を照射することに基づき、前記樹脂を硬化するように
しても良い。この場合、前記第1の樹脂硬化工程並びに
前記第2の樹脂硬化工程のいずれか一方、又は双方にお
いて、前記一対のラムの内のいずれか一方のラムと前記
構造体との間に透明基板を介装し、前記構造体を加圧し
ている状態で前記透明基板を介して前記樹脂に紫外線を
照射する、ようにしてもよい。さらに、前記樹脂が、熱
硬化型であり、かつ、前記樹脂が、加熱されることによ
り硬化される、ようにしてもよい。
The resin is a UV curable resin which is cured by being irradiated with ultraviolet rays, and the resin is irradiated with ultraviolet rays in the first resin curing step and the second resin curing step. Based on the above, the resin may be cured. In this case, in either or both of the first resin curing step and the second resin curing step, a transparent substrate is provided between any one of the pair of rams and the structure. The resin may be interposed and the resin may be irradiated with ultraviolet rays through the transparent substrate while the structure is being pressurized. Further, the resin may be a thermosetting type, and the resin may be cured by heating.

【0028】また、前記駆動電極が金属電極である、よ
うにしてもよい。さらに、前記第2の樹脂硬化工程との
後に実施され、前記樹脂及び前記駆動電極によって形成
された面に、該駆動電極に沿うように透明電極を形成す
る、ようにしてもよい。
The drive electrode may be a metal electrode. Further, a transparent electrode may be formed on the surface formed by the resin and the driving electrode after the second resin curing step so as to be along the driving electrode.

【0029】なお、以上構成に基づき、配線基板形成工
程において、ベース基板の表面に駆動電極を多数形成し
配線基板を形成する。そして、第1の樹脂供給工程にお
いて、前記駆動電極の形成された部分に液状の樹脂を供
給する。さらに、第1の加圧工程において、前記駆動電
極の表面を第1の加圧部材を介して加圧する。ここで、
第1の加圧部材の表面には弾性膜が形成されているが、
この第1の加圧工程においては、前記駆動電極と接しな
い部分においては弾性膜は駆動電極の間隙に入り込んで
樹脂表面に凹みを形成し、第1の樹脂硬化工程が実施さ
れることによって樹脂は所定深さの凹みを有した状態で
硬化される。
Based on the above structure, in the wiring board forming step, a large number of drive electrodes are formed on the surface of the base board to form the wiring board. Then, in the first resin supplying step, liquid resin is supplied to the portion where the drive electrode is formed. Further, in the first pressing step, the surface of the drive electrode is pressed via the first pressing member. here,
An elastic film is formed on the surface of the first pressure member,
In the first pressurizing step, the elastic film penetrates into the gap between the drive electrodes to form a recess on the resin surface in the portion which is not in contact with the drive electrode, and the first resin curing step is carried out, whereby the resin is removed. Is cured with a recess having a predetermined depth.

【0030】次に、剥離工程を実施して前記第1の加圧
部材を前記配線基板から剥離し、第2の樹脂供給工程を
実施して前記樹脂の凹みに新たに液状の樹脂を供給す
る。さらに、第2の加圧工程においては、弾性膜で被覆
されておらず平滑な第2の加圧部材を介して前記駆動電
極の表面を加圧し、第2の樹脂硬化工程を実施して前記
第2の樹脂供給工程にて供給された樹脂を硬化させる。
Next, a peeling step is carried out to peel the first pressure member from the wiring board, and a second resin feeding step is carried out to feed a new liquid resin into the recess of the resin. . Further, in the second pressurizing step, the surface of the drive electrode is pressed through the smooth second pressurizing member which is not covered with the elastic film, and the second resin curing step is performed to perform the above-mentioned process. The resin supplied in the second resin supply step is cured.

【0031】ところで、この第2の樹脂硬化工程におい
ては、第1の樹脂硬化工程にて既に硬化されている樹脂
は硬化・収縮せず、第2の樹脂供給工程にて前記凹みに
供給された樹脂のみが硬化される。したがって、該凹み
が浅ければ浅いほど、第2の樹脂硬化工程にて硬化され
る樹脂の収縮量もわずかとなり、樹脂と駆動電極とによ
る平坦性も良好になると考えられる。しかし、実際に
は、樹脂の凹みが0.2μmより浅い場合には、樹脂を
基板全体に均一に埋めることが困難となり、却って平坦
性が阻害されてしまう。本発明においては、前記凹みの
深さを弾性膜の厚さ等によって制御することにより、樹
脂を基板全体に均一に埋めると共に、樹脂の収縮量を小
さくして樹脂と駆動電極とによる平坦性を確保してい
る。
By the way, in the second resin curing step, the resin already cured in the first resin curing step does not cure and shrink, and is supplied to the recess in the second resin supplying step. Only the resin is cured. Therefore, it is considered that the shallower the depression is, the smaller the shrinkage amount of the resin cured in the second resin curing step is, and the better the flatness between the resin and the drive electrode is. However, in reality, when the recess of the resin is shallower than 0.2 μm, it becomes difficult to uniformly fill the entire substrate with the resin, which rather impairs the flatness. In the present invention, the depth of the recess is controlled by the thickness of the elastic film or the like so that the resin is uniformly filled in the entire substrate, and the shrinkage amount of the resin is reduced so that the flatness between the resin and the drive electrode is reduced. Have secured.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下、図面に沿って、本発明の実
施の形態について説明する。なお、図2及び図3に示す
ものと同一部分は同一符号を付して説明を省略する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The same parts as those shown in FIGS. 2 and 3 are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0033】まず、本発明の第1の実施の形態につい
て、図5乃至図9に沿って説明する。なお、本実施の形
態において製造される液晶パネル(液晶素子)は、図2
に示すものと同じ構造であり、金属電極12,…の間隙
に樹脂13が充填されたものである。
First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Note that the liquid crystal panel (liquid crystal element) manufactured in this embodiment has the same structure as that shown in FIG.
The structure is the same as that shown in (1), and the resin 13 is filled in the gaps between the metal electrodes 12, ....

【0034】本実施の形態に係る液晶パネルの製造方法
について、図5乃至図9に沿って説明する。 (配線基板形成工程)まず、上述した従来例と同様に、
1μm程度の膜厚でストライプ状の金属電極(駆動電
極)12,…をガラス基板(ベース基板)11の表面に
多数形成し、配線基板A1 を得る(図5(b) 参照)。 (第1の樹脂供給工程)本工程においては、第1の加圧
部材として平滑板31を用いる。この平滑板31は、図
6に詳示するように、平滑な板状部材31aを有してお
り、その板状部材31aの表面は、平滑でかつ弾性を有
する膜31b(以下、“弾性膜31b”とする)によっ
て被覆されている。なお、図6は、加圧状態を示す図で
あるため、弾性膜31bは平滑状態が維持されていない
(詳細は後述)。
A method of manufacturing the liquid crystal panel according to this embodiment will be described with reference to FIGS. (Wiring board forming step) First, similarly to the above-mentioned conventional example,
A large number of striped metal electrodes (driving electrodes) 12, ... With a film thickness of about 1 μm are formed on the surface of a glass substrate (base substrate) 11 to obtain a wiring substrate A 1 (see FIG. 5B). (First Resin Supply Step) In this step, the smooth plate 31 is used as the first pressing member. As shown in detail in FIG. 6, the smooth plate 31 has a smooth plate-shaped member 31a, and the surface of the plate-shaped member 31a is a smooth and elastic film 31b (hereinafter, "elastic film"). 31b ″). Since FIG. 6 is a diagram showing a pressed state, the elastic film 31b is not maintained in a smooth state (details will be described later).

【0035】そして、本工程においては、ディスペンサ
等の定量滴下治具20を用いて、樹脂モノマー液13L
を平滑板31の平滑な表面(弾性膜31aの形成された
側の面)に所定量だけ滴下する(従来例と同様に、硬化
される前の液状の樹脂を符号13Lで表し、硬化後の樹
脂を符号13Sで表し、特に区別を要しない場合は単に
“樹脂13”とする)。なお、この樹脂13は、UV光
の照射により硬化されるUV硬化樹脂である。
Then, in this step, 13 L of resin monomer liquid is used by using a fixed amount dropping jig 20 such as a dispenser.
Is dropped on the smooth surface of the smooth plate 31 (the surface on the side where the elastic film 31a is formed) by a predetermined amount (as in the conventional example, the liquid resin before curing is represented by reference numeral 13L, and after curing) The resin is represented by reference numeral 13S, and is simply referred to as "resin 13" unless a distinction is required. The resin 13 is a UV curable resin that is cured by irradiation with UV light.

【0036】そして、樹脂13Lの滴下された平滑板3
1の表面に、配線基板A1 の配線面15を重ね合わせ
て、樹脂13Lを平滑板31と配線基板A1 とによって
挟み込むようにする(同図(b) (c) 参照。以下、樹脂1
3Lを平滑板31と配線基板A1 とによって挟み込むよ
うにして構成した構造体を“被加圧体A2 ”とする)。
これにより、配線基板A1 の配線面15、すなわち、金
属電極12,…の形成された部分に、液状の樹脂13L
が供給されることとなる。 (第1の加圧工程、第1の樹脂硬化工程)本工程におい
ては、図5(d) (e) に示すように、プレス機25を用い
る。このプレス機25は上下板(ラム)25U,25D
を有しており、上板25Uの下面には厚肉の透明基板2
6が配置されている。そして、上述の樹脂供給工程にて
作製した被加圧体(構造体)A2 を、この透明基板26
と下板25Dとの間に、配線基板A1 を上側にした状態
でセットし、プレス機25を駆動する。これにより、上
板25Uが矢印F1 の方向に駆動され、被加圧体A2
上板25Uと下板25Dとの間で加圧される。
Then, the smooth plate 3 onto which the resin 13L is dropped
The wiring surface 15 of the wiring board A 1 is superposed on the surface of No. 1 so that the resin 13L is sandwiched between the smoothing plate 31 and the wiring board A 1 (see (b) and (c) in FIG.
A structure constructed by sandwiching 3 L between the smooth plate 31 and the wiring board A 1 is referred to as “pressurized body A 2 ”.
As a result, the liquid resin 13L is formed on the wiring surface 15 of the wiring board A 1 , that is, on the portion where the metal electrodes 12, ... Are formed.
Will be supplied. (First Pressing Step, First Resin Curing Step) In this step, a pressing machine 25 is used as shown in FIGS. This press machine 25 has upper and lower plates (rams) 25U, 25D.
And has a thick transparent substrate 2 on the lower surface of the upper plate 25U.
6 are arranged. Then, the pressed body (structure) A 2 produced in the resin supply step described above is transferred to the transparent substrate 26.
Then, the wiring board A 1 is set between the lower plate 25D and the lower plate 25D, and the press 25 is driven. As a result, the upper plate 25U is driven in the direction of the arrow F 1 , and the pressed body A 2 is pressed between the upper plate 25U and the lower plate 25D.

【0037】なお、このときの加圧力は、平滑板31の
弾性膜31bが所定の変形状態となるような加圧力とす
る。すなわち、このときの加圧力は、平滑板31の弾性
膜31bが、図6に詳示するように金属電極12,…と
接する部分においては金属電極12,…に押圧されて薄
くなり、金属電極12,…と接しない部分においては液
状の樹脂13Lを押圧しながら電極間隙に所定量入り込
むような、加圧力とする。これにより、樹脂13Lは、
金属電極12,…の表面からは完全に排除されて電極相
互の間隙に充填され、該間隙部分においては、樹脂13
Lの表面が、平滑板31の弾性膜31bに押圧されて金
属電極12,…の表面から所定量押し込まれることとな
る。
The pressing force at this time is set so that the elastic film 31b of the smooth plate 31 is brought into a predetermined deformed state. That is, the pressing force at this time is thinned by being pressed by the metal electrodes 12, ... In the portion where the elastic film 31b of the smooth plate 31 is in contact with the metal electrodes 12 ,. At a portion not in contact with 12, ..., The pressing force is set so as to enter the electrode gap by a predetermined amount while pressing the liquid resin 13L. As a result, the resin 13L is
The metal electrodes 12, ... Are completely removed from the surface and filled in the gaps between the electrodes, and the resin 13 is filled in the gaps.
The surface of L is pressed by the elastic film 31b of the smooth plate 31 and is pushed in by a predetermined amount from the surface of the metal electrodes 12, ....

【0038】そして、上述のように金属電極12,…の
表面等が加圧されている状態、すなわち、第1の加圧工
程を実施している状態で、図5(f) に示すように、透明
基板26の側方からUV硬化樹脂13LにUV光Lを照
射して第1の樹脂硬化工程を同時に実施し、樹脂13L
を硬化させる。
Then, as shown in FIG. 5 (f), in the state where the surfaces of the metal electrodes 12, ... Are pressurized as described above, that is, in the state where the first pressurizing step is performed. , UV light L is irradiated to the UV curable resin 13L from the side of the transparent substrate 26 to simultaneously perform the first resin curing step, and the resin 13L
To cure.

【0039】ここで、この樹脂の硬化時においては硬化
収縮に伴って樹脂13Lの表面が0.02〜0.1μm
程度下がって、上述したヒケが現象的に発生するが(図
4参照)、本実施の形態においては、上述のように樹脂
13の表面に弾性膜31bが押圧された状態で硬化され
るため、樹脂13の表面はさらに下がって、図7に詳示
するように0.2〜1.0μm程度の深さの凹部23を
形成する(以下、このように弾性膜31bによって樹脂
13の表面に意図的に形成される凹部23を、現象的に
発生するヒケとは区別して“凹み23”とする)。
Here, when the resin is cured, the surface of the resin 13L is 0.02-0.1 μm as the resin shrinks due to curing shrinkage.
Although the sink mark described above occurs phenomenonally (see FIG. 4), in the present embodiment, since the elastic film 31b is cured while being pressed against the surface of the resin 13 as described above, The surface of the resin 13 is further lowered to form a recessed portion 23 having a depth of about 0.2 to 1.0 μm as shown in detail in FIG. The concave portion 23 that is formed as a result is referred to as a “dent 23” in distinction from a sink mark that occurs phenomenologically).

【0040】なお、本工程におけるUV光Lの照射は十
分に行ない、樹脂13が完全に硬化されて、後工程にお
いてUV光を再照射しても収縮が起こらないようにす
る。 (第1の剥離工程)次に、プレス機25による加圧を解
除し、被加圧体A2 をプレス機25から取り出す。
The UV light L is sufficiently irradiated in this step so that the resin 13 is completely cured so that shrinkage does not occur even if UV light is re-irradiated in the subsequent step. (First Peeling Step) Next, the pressure applied by the press machine 25 is released, and the body A 2 to be pressed is taken out of the press machine 25.

【0041】その後、不図示の工具等によって図5(g)
に示す矢印F2 の方向に力を加え、平滑板31を剥離す
る。これにより、図5(h) に示すように、金属電極1
2,…の間隙が樹脂13によって埋められた構造体A4
が得られる(以下、この一体物を“中間基板A4 ”と
し、金属電極12,…の形成された側の面を“配線面3
0”とする)。 (第2の樹脂供給工程)次に、中間基板A4 に対して第
2の樹脂供給工程を施す。本工程においては、弾性膜3
1bで被覆された平滑板31では無く、弾性膜で被覆さ
れておらず平滑な面を有する平滑板(第2の加圧部材)
21を用いる(図8(a) 参照)。
After that, using a tool not shown in FIG.
The smooth plate 31 is peeled off by applying a force in the direction of the arrow F 2 shown in FIG. As a result, as shown in FIG. 5 (h), the metal electrode 1
Structure A 4 in which the gap between 2, ...
(Hereinafter, this integrated body is referred to as “intermediate substrate A 4 ”, and the surface on which the metal electrodes 12, ... Are formed is referred to as “wiring surface 3”.
0 "). (Second resin supply step) Next, a second resin supply step is performed on the intermediate substrate A 4. In this step, the elastic film 3 is used.
Instead of the smooth plate 31 covered with 1b, a smooth plate not covered with an elastic film and having a smooth surface (second pressing member)
21 is used (see FIG. 8 (a)).

【0042】そして、ディスペンサ等の定量滴下治具2
0を用いて、UV硬化樹脂等の樹脂モノマー液13Lを
平滑板21の平滑な表面に所定量だけ滴下する(従来例
と同様に、硬化される前の液状の樹脂を符号13Lで表
し、硬化後の樹脂を符号13Sで表し、特に区別を要し
ない場合は単に“樹脂13”とする)。
A fixed amount dropping jig 2 such as a dispenser
0 is used to drop a predetermined amount of a resin monomer liquid 13L such as a UV curable resin on the smooth surface of the smooth plate 21 (as in the conventional example, the liquid resin before curing is represented by reference numeral 13L, The subsequent resin is represented by reference numeral 13S, and is simply referred to as "resin 13" if no distinction is required).

【0043】その後、図8(b) 及び(c) に示すように、
樹脂13Lの滴下された平滑板21の表面に、中間基板
4 の配線面30を重ね合わせて、樹脂13Lを平滑板
21と中間基板A4 とによって挟み込むようにする(以
下、樹脂13Lを平滑板21と中間基板A4 とによって
挟み込むようにしたものを“被加圧体A5 ”とする)。
これにより、上述した各凹み23,…には、液状の新た
な樹脂13Lが供給されることとなる。
After that, as shown in FIGS. 8 (b) and 8 (c),
The wiring surface 30 of the intermediate substrate A 4 is superposed on the surface of the smooth plate 21 onto which the resin 13L has been dropped so that the resin 13L is sandwiched between the smooth plate 21 and the intermediate substrate A 4 (hereinafter, the resin 13L is smooth. What is sandwiched between the plate 21 and the intermediate substrate A 4 is referred to as “subject A 5 ”.
As a result, a new liquid resin 13L is supplied to each of the recesses 23, ...

【0044】なお、本工程で用いる樹脂13Lは、上述
した樹脂供給工程で用いたものと同じ材質のものであ
る。 (第2の加圧工程、第2の樹脂硬化工程)そして、本工
程においては、図8(d) 及び(e) に示すように、再び上
述のプレス機25を使用し、透明基板26と下板25D
との間に、中間基板A4 を上側にした状態で被加圧体
(構造体)A5 をセットし、プレス機25を駆動する。
これにより、上板25Uが矢印F1 の方向に駆動され、
被加圧体A5 は上板25Uと下板25Dとの間で加圧さ
れる。
The resin 13L used in this step is made of the same material as that used in the resin supply step described above. (Second pressurizing step, second resin curing step) Then, in this step, as shown in FIGS. 8 (d) and 8 (e), the above-mentioned pressing machine 25 is used again and the transparent substrate 26 and Lower plate 25D
In the meantime, the pressed body (structure) A 5 is set with the intermediate substrate A 4 on the upper side, and the press 25 is driven.
As a result, the upper plate 25U is driven in the direction of arrow F 1 ,
The pressed body A 5 is pressed between the upper plate 25U and the lower plate 25D.

【0045】このとき、金属電極12,…の表面には平
滑板21が強くかつ均一な加圧力で押圧され、液状のU
V硬化樹脂13Lは、金属電極12,…の表面からは完
全に排除されて、凹み23,…に充填される。また、平
滑板21の表面には弾性膜が形成されていないため、樹
脂13Lは、金属電極12,…の表面と共に平滑な面を
形成する(図9参照)。
At this time, the smooth plate 21 is pressed against the surface of the metal electrodes 12, ...
The V-curable resin 13L is completely removed from the surfaces of the metal electrodes 12, ... And is filled in the depressions 23 ,. Further, since the elastic film is not formed on the surface of the smooth plate 21, the resin 13L forms a smooth surface together with the surfaces of the metal electrodes 12, ... (See FIG. 9).

【0046】そして、上述のように金属電極12,…の
表面が加圧されて第2の加圧工程が実施されている状態
で、図8(f) に示すように、透明基板26の側方からU
V硬化樹脂13LにUV光Lを照射して前記第2の樹脂
硬化工程を同時に実施し、樹脂13Lを完全に硬化させ
る。 (第2の剥離工程)次に、プレス機25による加圧を解
除し、被加圧体A5 をプレス機25から取り出す。
Then, in the state where the surface of the metal electrodes 12, ... Is pressed and the second pressing step is performed as described above, as shown in FIG. From U
The V-curing resin 13L is irradiated with UV light L and the second resin curing step is simultaneously performed to completely cure the resin 13L. (Second Peeling Step) Next, the pressure applied by the press machine 25 is released, and the body A 5 to be pressed is taken out of the press machine 25.

【0047】その後、不図示の工具等によって図8(g)
に示す矢印F2 の方向に力を加え、平滑板21を剥離
し、図8(h) に示すような基板A6 を得る。この基板A
6 においては、樹脂13は金属電極12,…の間隙に充
填され、金属電極12,…と共にほぼ平滑な面を形成し
ている(図9参照)。 (その他の工程)その後、樹脂13及び金属電極12,
…によって形成された面に、各金属電極12,…に沿う
ように透明電極6,…をパターン状に形成し、さらに、
透明電極6,…を絶縁膜7や配向制御膜9によって被覆
し、埋め込み配線基板10を作成する。なお、樹脂13
は、金属電極12,…の表面から排除されているため、
透明電極6,…と金属電極12,…とは、良好に接触さ
れて、その導通性が確保される。
After that, with a tool or the like not shown in FIG.
A force is applied in the direction of arrow F 2 shown in FIG. 8 to peel off the smooth plate 21 to obtain a substrate A 6 as shown in FIG. 8 (h). This board A
In 6 , the resin 13 is filled in the gap between the metal electrodes 12, ... And forms a substantially smooth surface together with the metal electrodes 12, ... (See FIG. 9). (Other steps) After that, the resin 13 and the metal electrode 12,
The transparent electrodes 6, ... Are formed in a pattern along the metal electrodes 12, ...
The transparent electrodes 6, ... Are covered with the insulating film 7 and the orientation control film 9 to form the embedded wiring substrate 10. The resin 13
Are excluded from the surface of the metal electrodes 12, ...
The transparent electrodes 6, ... And the metal electrodes 12 ,.

【0048】そして、このようにして作成された埋め込
み配線基板10,10を一対貼り合わせ、基板間隙に液
晶3を注入して、液晶パネルを作成する。
Then, a pair of the embedded wiring substrates 10 and 10 thus produced are bonded to each other, and the liquid crystal 3 is injected into the gap between the substrates to produce a liquid crystal panel.

【0049】なお、本実施の形態においては、第2の樹
脂硬化工程までを経て金属電極12,…の間隙に配置さ
れた樹脂13の厚さを、1.0μm以上としている。
In the present embodiment, the thickness of the resin 13 arranged in the gap between the metal electrodes 12, ... After the second resin curing step is 1.0 μm or more.

【0050】ところで、本実施の形態において弾性膜3
1bは、その表面が平滑となるのであれば如何なる方法
によって形成されても良く、例えば、ロールコート、バ
ーコート、ディップコート等のコーティング方法によっ
て所定の溶液を板状部材31aの表面に塗布し、加熱し
て形成しても良く、柔軟性フィルムを接着することによ
り形成しても良い。
By the way, in this embodiment, the elastic film 3 is used.
1b may be formed by any method as long as the surface is smooth, for example, a predetermined solution is applied to the surface of the plate-shaped member 31a by a coating method such as roll coating, bar coating, or dip coating, It may be formed by heating, or may be formed by adhering a flexible film.

【0051】また、弾性膜31bの材質としては、硬化
後にある程度の弾性を有し、かつ板状部材31aへの形
成が容易であれば、ポリウレタン系、ポリアミド系、ポ
リイミド系、アクリル系、エポキシ系など如何なる材質
でも良い。さらに、弾性膜31bの性状も一液型、二液
型以上の混合型、熱硬化型、又は光硬化型など、如何な
るものでも良い。ただし、形成された弾性膜31bは、
一連の液晶パネルの製造工程において板状部材31aと
剥離しないように充分に密着している必要がある。また
さらに、弾性膜31bの膜厚は、第1の加圧工程におい
て樹脂13Lの表面が金属電極12,…の表面から所定
量押し込まれ、その結果、第1の樹脂効果工程終了後に
樹脂13の表面に、深さ0.2〜1.0μm程度の凹み
23を形成するもの(膜厚)であれば如何なる膜厚でも
良く、具体的には、この弾性膜31bの膜厚は数μmか
ら数10μm程度と自由度がある。
As a material of the elastic film 31b, a polyurethane-based, polyamide-based, polyimide-based, acrylic-based, or epoxy-based material may be used as long as it has some elasticity after curing and can be easily formed into the plate-shaped member 31a. Any material may be used. Furthermore, the elastic film 31b may be of any type such as a one-component type, a mixed type of two or more types, a thermosetting type, or a photo-curing type. However, the formed elastic film 31b is
In a series of liquid crystal panel manufacturing processes, it is necessary that the plate-shaped member 31a and the plate-shaped member 31a are sufficiently adhered so as not to separate from each other. Furthermore, as for the film thickness of the elastic film 31b, the surface of the resin 13L is pushed in a predetermined amount from the surfaces of the metal electrodes 12, ... Any film thickness may be used as long as it forms a recess 23 having a depth of about 0.2 to 1.0 μm (film thickness). Specifically, the thickness of the elastic film 31b is from several μm to several μm. There is a degree of freedom of about 10 μm.

【0052】一方、平滑板31の板状部材31aの材質
としては、表面硬度が硬く、剛性に富むものであれば如
何なるものでも良く、金属、セラミックス、又はガラス
が用いられる。また、この板状部材31aの表面には、
精密切削または研削あるいは研磨などの加工方法による
加工が施されており、100mm長当たりの平面度を10
μm以内に、好ましくは2μm以内に設定されている。
On the other hand, as the material of the plate member 31a of the smooth plate 31, any material may be used as long as it has a high surface hardness and a high rigidity, and metal, ceramics, or glass is used. Further, on the surface of the plate-shaped member 31a,
It is processed by precision cutting, grinding, polishing, or other processing methods, and the flatness per 100 mm length is 10
It is set within μm, preferably within 2 μm.

【0053】さらに、本実施の形態においては、金属電
極12,…の間隙に充填する樹脂としては、UV硬化型
樹脂モノマー、オリゴマー及び光重合開始剤の混合組成
物であり、アクリル系、エポキシ系、エン・チオール系
等いかなる重合方式のものでも良いが、液晶パネルの製
造工程(例えば、ITOスパッタ成膜工程や配向膜焼成
工程)に耐え得るよう、耐熱性、耐薬品性、耐洗浄性を
具備している必要がある。したがって、例えば、主成分
である反応性オリゴマーに耐熱性のある分子構造を導入
したものや、多官応モノマーにより架橋密度を高めたも
のが好ましい。また、上述の実施の形態においては、樹
脂13Lを硬化するためにUV光を照射したが、もちろ
んこれに限る必要はなく、ガラス基板11などの透明媒
体を透過し、かつ樹脂13Lを硬化させる光であれば、
可視光や赤外線光等、他の波長の光を使用しても良い。
但し、これらの可視光や赤外線光を用いる場合には、樹
脂13の材質を、使用する光の波長に合わせて適宜変更
する必要がある。さらに、このような光硬化型の樹脂だ
けでなく、熱硬化型の樹脂モノマーを使用するようにし
ても良い。
Further, in the present embodiment, the resin filled in the gaps between the metal electrodes 12, ... Is a mixed composition of a UV-curable resin monomer, an oligomer and a photopolymerization initiator, such as an acrylic type or an epoxy type. , Ene / thiol type, etc. may be used, but heat resistance, chemical resistance, and cleaning resistance should be set so that it can withstand the manufacturing process of liquid crystal panels (for example, ITO sputter film forming process and alignment film baking process). It is necessary to have it. Therefore, for example, a reactive oligomer as a main component into which a heat-resistant molecular structure is introduced or a cross-linking density increased by a multi-functional monomer is preferable. Further, in the above-described embodiment, UV light is irradiated to cure the resin 13L, but needless to say, it is not limited to this, and light that transmits a transparent medium such as the glass substrate 11 and cures the resin 13L may be used. If,
Light of other wavelengths such as visible light and infrared light may be used.
However, when using these visible light and infrared light, it is necessary to appropriately change the material of the resin 13 according to the wavelength of the light used. Furthermore, not only such a photo-curable resin but a thermosetting resin monomer may be used.

【0054】一方、ガラス基板11には、液晶基板用と
して用いられるごく一般的なものを使用すれば良く、例
えば、ソーダガラス(青板ガラス)を用いても良い。な
お、かかるガラス基板11の厚さは1mm程度で、かつ両
面を研磨した平行度の良好のものが好ましい。また、こ
のガラス基板11は、UV光を少しでも透過し、かつ、
各加圧工程において破壊されないような強度を有するも
のであればどのような材質でも良いが、特に、石英ガラ
ス、BK7ガラス等が好ましい。
On the other hand, the glass substrate 11 may be made of a generally used one for liquid crystal substrates, for example, soda glass (blue plate glass) may be used. In addition, it is preferable that the glass substrate 11 has a thickness of about 1 mm and both surfaces thereof are polished to have good parallelism. Further, the glass substrate 11 transmits UV light as much as possible, and
Any material may be used as long as it has a strength so as not to be broken in each pressurizing step, but quartz glass, BK7 glass and the like are particularly preferable.

【0055】さらに、金属電極12,…には、アルミニ
ウム、クロム、モリブデン、銅等の、抵抗値が小さく、
しかも、1μm程度の厚さに成膜がし易く、さらにガラ
スへの密着性が良好なものが好ましい。なお、配線基板
1 の配線面15には、シランカップリング処理等の密
着処理を行ない、UV硬化樹脂13Lが良好に密着する
ようにしても良い。
Further, the metal electrodes 12, ... Have a small resistance value such as aluminum, chromium, molybdenum, copper,
Moreover, it is preferable that the film can be easily formed into a film having a thickness of about 1 μm and that it has good adhesion to glass. The wiring surface 15 of the wiring board A 1 may be subjected to a contact treatment such as a silane coupling treatment so that the UV curable resin 13L adheres well.

【0056】またさらに、プレス機25としては、上下
板25U,25Dを具備し、かつ、配線基板A1 の全体
に樹脂13Lを均一に押し広げることのできる加圧力を
有するものであればどのようなものでも良く、油圧シリ
ンダーやエアーシリンダーによるプレス機や、液体圧プ
レス機であっても良い。また、その圧力は、5〜50kg
/cm2の範囲の範囲が望ましい。さらに、第1の加圧工程
と第2の加圧工程とにおいて、同じタイプのプレス機を
用いても良く、異なるタイプのプレス機を用いても良
い。
Further, as the press 25, what is necessary is that it is provided with the upper and lower plates 25U and 25D and has a pressing force that can uniformly spread the resin 13L over the entire wiring board A 1. Any machine such as a hydraulic cylinder, an air cylinder press machine, or a liquid press machine may be used. Moreover, the pressure is 5 to 50 kg.
A range of / cm 2 is desirable. Furthermore, in the first pressurizing step and the second pressurizing step, the same type of press machine may be used, or different types of press machines may be used.

【0057】また、UV光を照射するUVランプは、樹
脂13Lを硬化させるに足る照度を有していればどのよ
うなものでも良く、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、
キセノンランプ等を用いれば良い。
Further, the UV lamp for irradiating the UV light may be any UV lamp having an illuminance sufficient to cure the resin 13L, for example, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp,
A xenon lamp or the like may be used.

【0058】次に、本実施の形態の作用について説明す
る。
Next, the operation of the present embodiment will be described.

【0059】第1の加圧工程においては、金属電極1
2,…の表面等には平滑板31が押圧されるため、液状
の樹脂13Lは、金属電極12,…の表面からは完全に
排除されて電極間隙に充填される。なお、この平滑板3
1はその表面に弾性膜31bを有しているため、該弾性
膜31bは、金属電極12,…と接する部分においては
金属電極12,…に押圧されて薄くなる。
In the first pressing step, the metal electrode 1
Since the smooth plate 31 is pressed against the surfaces of 2, ..., The liquid resin 13L is completely removed from the surfaces of the metal electrodes 12 ,. In addition, this smooth plate 3
Since 1 has an elastic film 31b on its surface, the elastic film 31b is thinned by being pressed by the metal electrodes 12, ... In a portion in contact with the metal electrodes 12 ,.

【0060】また、金属電極12,…と接しない部分に
おいては、弾性膜31bは、図6に詳示するように、樹
脂13Lを押圧して金属電極12,…の間隙に入り込
む。
Further, in the portion which is not in contact with the metal electrodes 12, ..., The elastic film 31b presses the resin 13L and enters the gap between the metal electrodes 12, ... As shown in FIG.

【0061】そして、このような加圧状態でUV光Lを
照射すると、樹脂13Lは、硬化収縮すると共に弾性膜
31bに押圧され、結果的に0.2〜1.0μm程度の
深さの凹み23を形成する(図7参照)。
When the UV light L is irradiated under such a pressure, the resin 13L is cured and shrunk and pressed by the elastic film 31b, resulting in a recess having a depth of about 0.2 to 1.0 μm. 23 is formed (see FIG. 7).

【0062】その後、樹脂の凹み23には、液状の新た
な樹脂13Lが供給され(第2の樹脂供給工程)、樹脂
13Lは、弾性膜で被覆されていない平滑板21を介し
て加圧される(第2の加圧工程)。したがって、樹脂1
3Lは、金属電極12,…の表面から排除されると共に
凹み23に充填されて、金属電極12,…と共に平滑な
面を形成する。
Then, a new liquid resin 13L is supplied to the resin recess 23 (second resin supplying step), and the resin 13L is pressed through the smooth plate 21 not covered with the elastic film. (Second pressurizing step). Therefore, resin 1
3L is excluded from the surfaces of the metal electrodes 12, ... And is filled in the recesses 23 to form a smooth surface together with the metal electrodes 12 ,.

【0063】次に、第2の樹脂硬化工程においてはUV
光Lが照射されるが、第1の樹脂硬化工程にて既に硬化
されている樹脂(第1層)は硬化・収縮せず、第2の樹
脂供給工程にて新たに供給された樹脂13L(第2層)
のみが硬化される。この新たに供給された樹脂13L
は、硬化と同時に収縮するものの、その量は微量である
ため収縮量も小さく、したがって、樹脂13Lは、金属
電極12,…とほぼ平滑な面を形成した状態で硬化され
る。
Next, in the second resin curing step, UV is used.
Although the light L is irradiated, the resin (first layer) already cured in the first resin curing step does not cure or shrink, and the resin 13L (newly supplied in the second resin supplying step) 2nd layer)
Only hardened. This newly supplied resin 13L
Shrinks at the same time as it cures, but its amount is small, so the shrinkage amount is small, and therefore the resin 13L is cured in a state in which a substantially smooth surface is formed with the metal electrodes 12 ,.

【0064】ところで、樹脂13と金属電極12,…と
による平坦性は、第2の樹脂硬化工程にて硬化される樹
脂13の収縮量が小さい程良好となることから、理論上
は、凹み23が浅ければ浅いほどその平坦性も良好にな
るとも考えられる。しかし、実際には、樹脂の凹み23
が0.2μmよりも浅い場合には、樹脂13Lを基板全
体に均一に埋めることが困難となり、却って平坦性が阻
害されてしまう。本実施の形態においては、樹脂の凹み
23を、0.2〜1.0μmの範囲内にしているため、
樹脂13Lを基板全体に均一に埋めることが可能になる
と共に、樹脂13Lの収縮量も小さくでき、その結果、
樹脂13と金属電極12,…とによる平坦性も良好にで
きる。
By the way, the flatness of the resin 13 and the metal electrodes 12, ... Is better as the shrinkage amount of the resin 13 cured in the second resin curing step is smaller. It is considered that the shallower is the better the flatness. However, in reality, the resin depression 23
Is less than 0.2 μm, it becomes difficult to uniformly fill the entire substrate with the resin 13L, which rather impairs the flatness. In the present embodiment, since the resin recess 23 is within the range of 0.2 to 1.0 μm,
The resin 13L can be uniformly filled in the entire substrate, and the shrinkage amount of the resin 13L can be reduced. As a result,
The flatness due to the resin 13 and the metal electrodes 12, ... Can be improved.

【0065】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。
Next, the effect of this embodiment will be described.

【0066】本実施の形態によれば、第2の樹脂硬化工
程にて硬化される樹脂13Lは、第2の樹脂供給工程に
て供給された樹脂であるが、この新たに供給される樹脂
13Lは、厚さが1.0μm以下で微量であることか
ら、その収縮量もごく僅かとなる。また、従来のように
樹脂13Sの表面にヒケが発生している状態で第2の樹
脂供給工程を実施しても、ヒケは0.02〜0.1μm
程度と浅いものであることから樹脂13Lを基板全体に
均一に埋めることが困難であるが、本実施の形態におい
ては、樹脂の凹み23を0.2μm以上の深さとしたた
め、そのような問題も無く、樹脂13Lを基板全体に均
一に埋めることが可能になる。さらに、第2の加圧工程
及び第2の樹脂硬化工程においては、弾性膜で被覆され
ておらず平滑な平滑板21によって金属電極12,…の
表面を加圧しながら樹脂13Lを硬化させるようにし
た。本実施の形態においては、これらの要因により、第
2の樹脂硬化工程を経て樹脂13と金属電極12,…と
により形成される面が平滑なものとなり、この平滑な面
上に透明電極6,…を形成して液晶パネルを作成して
も、液晶の配向は均一に保たれる。
According to the present embodiment, the resin 13L cured in the second resin curing step is the resin supplied in the second resin supplying step, but this newly supplied resin 13L is used. Has a very small thickness of 1.0 μm or less, the contraction amount thereof is also very small. Moreover, even if the second resin supply step is performed in the state where the sink mark is generated on the surface of the resin 13S as in the conventional case, the sink mark is 0.02 to 0.1 μm.
It is difficult to uniformly fill the entire substrate with the resin 13L because it is shallow, but in the present embodiment, since the resin recess 23 has a depth of 0.2 μm or more, such a problem also occurs. It becomes possible to uniformly fill the entire substrate with the resin 13L. Further, in the second pressurizing step and the second resin curing step, the resin 13L is cured while pressing the surface of the metal electrodes 12, ... With the smooth flat plate 21 not covered with the elastic film. did. In the present embodiment, due to these factors, the surface formed by the resin 13 and the metal electrodes 12, ... After the second resin curing step becomes smooth, and the transparent electrodes 6, 6 are formed on this smooth surface. .. is formed to form a liquid crystal panel, the orientation of the liquid crystal is kept uniform.

【0067】換言すれば、樹脂13の表面にヒケ等が発
生せず、また、液晶の配向が不均一とならず、液晶パネ
ルの製造品質を一定にできる。その結果、製造歩留りが
向上され、製品のコストダウンを図ることが可能とな
る。
In other words, sink marks or the like are not generated on the surface of the resin 13, the alignment of the liquid crystal is not uneven, and the manufacturing quality of the liquid crystal panel can be made constant. As a result, the manufacturing yield is improved and the cost of the product can be reduced.

【0068】また、本実施の形態によれば、第1の樹脂
硬化工程にて樹脂13Lを完全に硬化させるようにした
ため、第2の樹脂硬化工程にて硬化される樹脂は、第2
の樹脂供給工程にて新たに供給された樹脂13Lであ
る。したがって、第2の樹脂硬化工程における樹脂の収
縮量はごく僅かとなり、樹脂13の平坦性が顕著で、上
述の効果が顕著となる。
Further, according to the present embodiment, since the resin 13L is completely cured in the first resin curing step, the resin cured in the second resin curing step is the second resin.
This is the resin 13L newly supplied in the resin supply step of. Therefore, the amount of shrinkage of the resin in the second resin curing step is extremely small, the flatness of the resin 13 is remarkable, and the above-mentioned effect is remarkable.

【0069】さらに、本実施の形態によれば、第1の加
圧工程及び第1の樹脂硬化工程を同時に実施し、樹脂1
3Lの表面が弾性膜31bによって押圧されている状態
で樹脂13Lを硬化するようにしているため、凹み23
の深さを所定量に正確に制御でき、その結果、上述の効
果を確実に得ることができる。またさらに、第2の加圧
工程及び第2の樹脂硬化工程を同時に実施し、金属電極
12,…の表面を平滑板21を介して加圧している状態
で、充填された樹脂13Lを硬化するようにしているた
め、樹脂13の表面を平滑にでき、その結果、上述の効
果を確実に得ることができる。
Further, according to the present embodiment, the first pressurizing step and the first resin curing step are carried out at the same time, and the resin 1
Since the resin 13L is cured while the surface of 3L is pressed by the elastic film 31b, the recess 23
The depth can be accurately controlled to a predetermined amount, and as a result, the above effect can be reliably obtained. Further, the second pressurizing step and the second resin curing step are simultaneously performed, and the filled resin 13L is cured while the surface of the metal electrodes 12, ... Is being pressed through the smooth plate 21. As a result, the surface of the resin 13 can be made smooth, and as a result, the above effects can be reliably obtained.

【0070】一方、本実施の形態によれば、樹脂13
を、UV光が照射されて硬化されるUV硬化樹脂とし、
かつ、プレス機25に透明基板26を配置して、透明基
板26を介して樹脂13LにUV光Lを照射する第1の
樹脂硬化工程と、第1の加圧工程とを同時に実施するよ
うにしたため、凹み23の深さを正確に制御でき、上述
の効果を容易かつ確実に得ることができる。
On the other hand, according to the present embodiment, the resin 13
Is a UV curable resin that is cured by being irradiated with UV light,
In addition, the transparent substrate 26 is disposed in the press 25, and the first resin curing step of irradiating the resin 13L with the UV light L through the transparent substrate 26 and the first pressurizing step are performed at the same time. Therefore, the depth of the recess 23 can be accurately controlled, and the above-described effects can be easily and reliably obtained.

【0071】また、本実施の形態においては、樹脂13
及び金属電極12,…によって形成された平滑な面に
は、金属電極12,…に沿って透明電極6,…が形成さ
れており、製造された液晶パネルは、これら金属電極1
2,…と透明電極6,…とに駆動電圧を印加して駆動で
きる。したがって、金属電極12,…が低抵抗である
分、透明電極6,…のみで駆動する場合に比べて抵抗値
が低減され、電圧波形の遅延が解消され、高精細化に対
応可能な液晶パネルを得ることができる。
In this embodiment, the resin 13
The transparent electrodes 6, ... Are formed along the metal electrodes 12, ... On the smooth surface formed by the metal electrodes 12 ,.
, And the transparent electrodes 6, ... Can be driven by applying a drive voltage. Therefore, since the metal electrodes 12, ... Have low resistance, the resistance value is reduced as compared with the case where only the transparent electrodes 6, ... Are driven, the delay of the voltage waveform is eliminated, and high-definition liquid crystal panel can be supported. Can be obtained.

【0072】さらに、このように電圧波形の遅延が解消
されることから、透明電極6,…を厚く形成する必要が
なく、透明電極6,…の透過率が下がって該電極が認識
されてしまうこともない。また、金属電極12,…は透
明電極6,…の裏側に形成されるものであることから、
配向制御膜9に凹凸が生ずることもなく、光学的な差異
やクロストークの発生の心配もない。したがって、本実
施の形態によれば、このような表示品質に優れた液晶パ
ネルを製造できる。
Further, since the delay of the voltage waveform is eliminated in this manner, it is not necessary to form the transparent electrodes 6, ... Thick, and the transmittance of the transparent electrodes 6 ,. Nothing. Further, since the metal electrodes 12, ... Are formed on the back side of the transparent electrodes 6 ,.
There is no unevenness in the orientation control film 9, and there is no concern about optical difference or occurrence of crosstalk. Therefore, according to the present embodiment, such a liquid crystal panel having excellent display quality can be manufactured.

【0073】またさらに、従来、金属電極12,…の厚
みを2μm以上に厚くすると、ヒケ量が大きくなって樹
脂表面の平坦性を確保することが困難であったが、本実
施の形態によれば、そのような問題も無い。したがっ
て、金属電極12,…を厚くできる分、液晶パネルの低
抵抗化が図れ、より一層高精細化に対応可能な液晶パネ
ルを得ることができる。
Further, conventionally, when the thickness of the metal electrodes 12, ... Is increased to 2 μm or more, it is difficult to secure the flatness of the resin surface due to the large amount of sink marks. However, according to the present embodiment. If so, there is no such problem. Therefore, the thickness of the metal electrodes 12, ... Can be increased, so that the resistance of the liquid crystal panel can be reduced, and a liquid crystal panel that can cope with higher definition can be obtained.

【0074】なお、本実施の形態においては、樹脂供給
工程、加圧工程、並びに樹脂硬化工程等の一連の工程を
2回繰り返すことにより液晶パネルを製造したが、もち
ろんこれに限る必要はなく、3回以上繰り返して液晶パ
ネルを製造しても良い。
In the present embodiment, the liquid crystal panel is manufactured by repeating the series of steps such as the resin supplying step, the pressurizing step, and the resin curing step twice, but the invention is not limited to this. The liquid crystal panel may be manufactured by repeating three times or more.

【0075】[0075]

【実施例】まず、第1の実施例について説明する。EXAMPLE First, a first example will be described.

【0076】本実施例に係る液晶パネルの製造方法につ
いて説明する。 (配線基板形成工程)本工程においては、ガラス基板1
1として、寸法が120×120×1.1mmで両面が研
磨された青板ガラスを使用した。
A method of manufacturing the liquid crystal panel according to this embodiment will be described. (Wiring Substrate Forming Step) In this step, the glass substrate 1
As No. 1, soda lime glass having dimensions of 120 × 120 × 1.1 mm and polished on both sides was used.

【0077】そして、このガラス基板11の表面には、
アルミニウム(Al)膜をスパッタリングにより2μm
の厚さに成膜し、フォトリソエッチング法によってパタ
ーニングを行なって、ストライプ状の金属電極12,…
を形成した。なお、この金属電極12,…は、ピッチを
320μmとし、配線幅を20μmとし、本数を370
本とした。
Then, on the surface of the glass substrate 11,
2μm aluminum (Al) film by sputtering
Film thickness and patterning is performed by photolithographic etching method to form striped metal electrodes 12, ...
Was formed. The metal electrodes 12, ... Have a pitch of 320 μm, a wiring width of 20 μm, and a number of 370.
Book.

【0078】また、これらの金属電極12,…の表面に
は、シランカップリング剤としてA−174(日本ユニ
カー株式会社製)1重量部、エチルアルコール40重量
部からなるカップリング剤をスピンコートし、100℃
の温度で20分間熱処理し、後工程で充填される樹脂1
3のために密着向上処理を施した。 (第1の樹脂供給工程)本工程においては、板状部材3
1aの表面に弾性膜31bが形成された平滑板31を用
いた。
The surface of each of these metal electrodes 12, ... Was spin-coated with a coupling agent consisting of 1 part by weight of A-174 (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) and 40 parts by weight of ethyl alcohol as a silane coupling agent. , 100 ° C
Resin 1 which is heat-treated at the temperature of 20 minutes and filled in the subsequent process
For No. 3, adhesion improvement treatment was performed. (First Resin Supply Step) In this step, the plate-shaped member 3
A smooth plate 31 having an elastic film 31b formed on the surface of 1a was used.

【0079】板状部材31aとしては、寸法が140×
140×1.1mmで、両面研磨によりその平面度が5μ
m以下に仕上げられた青板ガラスを用いた。また、この
板状部材31aの表面には、厚さが10μmの弾性膜3
1bを形成した。この弾性膜31bを形成するに際して
は、まず、主剤100重量部、硬化剤37重量部からな
る2液性オーバーコート剤(LC−2040;三洋化成
株式会社製)を調合した液状弾性膜材料を板状部材31
aの片面にスピンコートし、該材料の仮硬化のために8
0℃の温度で10分間ベーキングを行ない、さらにこれ
を2回繰り返した後、本硬化のために200℃の温度で
1時間ベーキングを行なった。
The plate member 31a has a size of 140 ×
140 × 1.1mm, the flatness is 5μ by double side polishing
A soda-lime glass finished to m or less was used. In addition, the elastic film 3 having a thickness of 10 μm is formed on the surface of the plate member 31a.
1b was formed. In forming the elastic film 31b, first, a liquid elastic film material prepared by mixing a two-component overcoating agent (LC-2040; manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.) consisting of 100 parts by weight of a main agent and 37 parts by weight of a curing agent is used. Member 31
Spin coating on one side of a and use 8 for temporary curing of the material
Baking was performed at a temperature of 0 ° C. for 10 minutes, and this was repeated twice, and then baking was performed at a temperature of 200 ° C. for 1 hour for main curing.

【0080】また、UV硬化樹脂13には、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート50重量部、ネオペンチル
グリコールジアクリレート50重量部、1−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン2重量部からなるUV硬
化型樹脂組成物を用い、この組成物をディスペンサー2
0によって平滑板31のほぼ中央部に滴下した。なお、
滴下するUV硬化樹脂13Lの量は250μlとした。
As the UV curable resin 13, a UV curable resin composition comprising 50 parts by weight of pentaerythritol triacrylate, 50 parts by weight of neopentyl glycol diacrylate and 2 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone was used. Dispenser 2
0 was dripped almost at the center of the smooth plate 31. In addition,
The amount of the UV curable resin 13L dropped was 250 μl.

【0081】そして、樹脂13Lの滴下された平滑板表
面に、配線基板A1 の配線面15を、気泡が巻き込まれ
ないようにゆっくりと重ね合わせ、しばらく放置し、被
加圧体A2 を作成した。 (第1の加圧工程、第1の樹脂硬化工程)また、本実施
例においては、5トンの油圧プレス機25を用い、上下
板25U,25Dのサイズを250×250mm角とし
た。さらに、透明基板26には、120×120×60
mmのサイズのBK7ガラス板を用い、この透明基板26
を、エポキシ接着剤で上板25Uの下面に精度良く接着
して用いた。なお、この透明基板26の4側方には、1
00Wの高圧水銀ランプ4本を配置し、UV光を照射で
きるようにした。
Then, the wiring surface 15 of the wiring board A 1 is slowly superposed on the surface of the smooth plate onto which the resin 13L has been dropped so as not to entrap air bubbles, and left for a while to form the body A 2 to be pressed. did. (First Pressing Step, First Resin Curing Step) Further, in this embodiment, a 5-ton hydraulic press 25 was used and the sizes of the upper and lower plates 25U and 25D were set to 250 × 250 mm square. Further, the transparent substrate 26 has 120 × 120 × 60
This transparent substrate 26 using a BK7 glass plate with a size of mm
Was used by being accurately adhered to the lower surface of the upper plate 25U with an epoxy adhesive. In addition, 1 is provided on the four sides of the transparent substrate 26.
Four 00W high-pressure mercury lamps were arranged so that UV light could be irradiated.

【0082】そして、被加圧体A2 を透明基板26と下
板25Dとの間にセットし、約1分かけて加圧力を3ト
ンまで高め、その加圧力を10分間保持した後、上述し
た高圧水銀ランプからUV光Lを透明基板26の4側方
から2分間だけ照射し、樹脂13を完全に硬化させた。 (第1の剥離工程)次に、プレス機25による加圧を解
除し、被加圧体A2 をプレス機25から取り出し、不図
示の工具等によって平滑板31を剥離した。
Then, the body A 2 to be pressed is set between the transparent substrate 26 and the lower plate 25D, the pressure is increased to 3 tons in about 1 minute, and the pressure is maintained for 10 minutes. The UV light L was irradiated from the four sides of the transparent substrate 26 for 2 minutes from the high pressure mercury lamp to completely cure the resin 13. (First Peeling Step) Next, the pressure applied by the press machine 25 was released, the pressed body A 2 was taken out of the press machine 25, and the smooth plate 31 was peeled off by a tool (not shown) or the like.

【0083】なお、樹脂13の厚さは約1.5μmであ
った。 (第2の樹脂供給工程)本工程においては、弾性膜なし
の平滑板21を用い、この平滑板21の表面中央部に、
ディスペンサー20によって樹脂13Lを150μlだ
け滴下した。
The thickness of the resin 13 was about 1.5 μm. (Second resin supplying step) In this step, a smooth plate 21 without an elastic film is used, and the smooth plate 21 is
150 μl of 13 L of resin was dropped by the dispenser 20.

【0084】なお、樹脂13Lは、第1の樹脂供給工程
で使用したものと同じものとし、平滑板21としては、
第1の樹脂供給工程で使用した板状部材31aと同じ材
質・形状のものを弾性膜なしの状態で用いることとし
た。
The resin 13L is the same as that used in the first resin supplying step, and the smooth plate 21 is
The same material and shape as the plate-shaped member 31a used in the first resin supplying step is used without the elastic film.

【0085】そして、樹脂13Lの滴下された平滑板表
面に、中間基板A4 の配線面30を、気泡が巻き込まれ
ないようにゆっくりと重ね合わせ、その状態でしばらく
放置し、被加圧体A5 を作成した。 (第2の加圧工程、第2の樹脂硬化工程)そして、透明
基板26と下板25Dとの間に中間基板A4 を上側にし
た状態に被加圧体A5 をセットし、第1の加圧工程と同
様に加圧し、UV光の照射を行なった。すなわち、約1
分かけて加圧力を3トンまで高めて、その加圧力を10
分間保持した後、高圧水銀ランプからUV光Lを2分間
だけ照射し、樹脂13を完全に硬化させた。 (第2の剥離工程)その後、被加圧体A5 をプレス機2
5から取り出し平滑板21を剥離して、基板A6 を作成
した。
Then, the wiring surface 30 of the intermediate substrate A 4 is slowly superposed on the surface of the smooth plate onto which the resin 13L has been dropped so as not to entrap air bubbles, and left in that state for a while. Created 5 . (Second Pressing Step, Second Resin Curing Step) Then, the pressed body A 5 is set between the transparent substrate 26 and the lower plate 25D with the intermediate substrate A 4 on the upper side. The pressure was applied in the same manner as in the step of applying pressure and irradiation with UV light was performed. That is, about 1
The pressure is increased to 3 tons over a period of 10 minutes.
After being held for a minute, UV light L was irradiated from the high pressure mercury lamp for 2 minutes to completely cure the resin 13. (Second peeling step) Thereafter, the pressed body A 5 is pressed by the press 2
Then, the smooth plate 21 was taken out from the sample No. 5, and a substrate A 6 was prepared.

【0086】本実施例によれば、この基板A6 におい
て、金属電極12,…と樹脂13,…とが平滑な面を形
成していることが確認できた。
According to this example, it was confirmed that the metal electrodes 12, ... And the resins 13, ... Formed smooth surfaces on this substrate A 6 .

【0087】ついで、第2の実施例について説明する。Next, the second embodiment will be described.

【0088】本実施例においては、平滑板31の板状部
材31aとして、寸法が140×140×1.1mmで、
両面研磨により平面度を5μm以下に仕上げた青板ガラ
スを用い、その板状部材31aの表面には、接着剤を塗
布し、厚さ20μmのポリテレフタレートフィルムをロ
ールラミネータにて圧着し、弾性膜31bを形成した。
In this embodiment, the plate member 31a of the smooth plate 31 has a size of 140 × 140 × 1.1 mm,
A soda-lime glass having a flatness of 5 μm or less finished by double-sided polishing was used. An adhesive was applied to the surface of the plate-shaped member 31a, and a 20 μm-thick polyterephthalate film was pressure-bonded with a roll laminator to obtain an elastic film 31b. Was formed.

【0089】なお、それ以外の構成、製造方法は、上述
した第1実施例と同様にした。
The other structure and manufacturing method were the same as those in the first embodiment.

【0090】本実施例によれば、埋め込み基板におい
て、金属電極12,…と樹脂13,…とが平滑な面を形
成していることが確認できた。
According to this example, it was confirmed that the metal electrodes 12, ... And the resins 13, ... Formed a smooth surface in the embedded substrate.

【0091】なお、本実施例においては、弾性膜31b
にポリテレフタレートフィルムを用いたが、ある程度の
弾性を有していればどのような材質でも良く、例えば、
ポリエチレン、ポリエステル、ポリエーテル、エーテル
ケトンなどの樹脂フィルムを用いても良く、或は、ポリ
ウレタン、シリコンなどのゴムフィルムを用いても良
い。
In this embodiment, the elastic film 31b is used.
Although a polyterephthalate film was used for the above, any material may be used as long as it has elasticity to some extent.
A resin film such as polyethylene, polyester, polyether, or ether ketone may be used, or a rubber film such as polyurethane or silicone may be used.

【0092】ついで、第3の実施例について、図10に
沿って説明する。
Next, a third embodiment will be described with reference to FIG.

【0093】本実施例においては、樹脂13として、セ
メダイン1565(セメダイン株式会社製)と硬化剤D
とを10:1に混合したエポキシ系熱硬化型樹脂モノマ
ーを使用し、プレス機としては、図10に示すような、
上下板35U,35Dの内部にヒーター35H,35H
を組み込んだプレス機35を使用した。また、第1及び
第2の樹脂硬化工程においては、UV光の照射ではな
く、120℃で30分間の加熱処理を行ない、この加熱
処理によって樹脂13Lを硬化させることとした。
In this embodiment, as the resin 13, Cemedine 1565 (made by Cemedine Co., Ltd.) and the curing agent D are used.
Using an epoxy thermosetting resin monomer in which and are mixed in a ratio of 10: 1, as a press machine, as shown in FIG.
Heaters 35H, 35H inside the upper and lower plates 35U, 35D
The press machine 35 incorporating the above was used. In addition, in the first and second resin curing steps, heat treatment at 120 ° C. for 30 minutes is performed instead of UV light irradiation, and the resin 13L is cured by this heat treatment.

【0094】なお、その他の条件は、上述第1の実施例
と同様とした。
The other conditions were the same as those in the first embodiment.

【0095】本実施例を実施したところ、埋め込み基板
において、金属電極12,…と樹脂13,…とが平滑な
面を形成していることが確認できた。
When this example was carried out, it was confirmed that the metal electrodes 12, ... And the resins 13, ... Formed smooth surfaces in the embedded substrate.

【0096】[0096]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
第2の樹脂硬化工程において硬化される樹脂は第2の樹
脂供給工程にて供給された樹脂であるが、この新たに供
給される樹脂は微量であることから、その収縮量もごく
僅かとなる。また、従来のように樹脂の表面にヒケが発
生している状態で第2の樹脂供給工程を実施しても、ヒ
ケは浅いものであることから、樹脂を基板全体に均一に
埋めることが困難であるが、本発明によれば、前記第1
の加圧工程及び前記第1の樹脂硬化工程において、弾性
膜を有する第1の加圧部材を用いて凹みを有した状態に
樹脂を硬化させるようにしたため、この凹みの深さを所
定範囲内とすることにより、樹脂を基板全体に均一に埋
めることが可能になる。さらに、前記第2の加圧工程及
び前記第2の樹脂硬化工程においては、弾性膜で被覆さ
れておらず平滑な第2の加圧部材によって前記駆動電極
の表面を加圧しながら樹脂を硬化させるようにした。そ
の結果、第2の樹脂硬化工程終了後においては、駆動電
極相互の間隙に充填された樹脂は、駆動電極と共に平滑
な面を形成することとなり、この平滑な面上に透明電極
等を形成して液晶素子を作成しても、液晶の配向は均一
に保たれる。換言すれば、樹脂の表面にヒケ等が発生せ
ず、液晶素子の製造品質を一定にできる。その結果、製
造歩留りが向上され、製品のコストダウンを図ることが
可能となる。
As described above, according to the present invention,
The resin that is cured in the second resin curing step is the resin that was supplied in the second resin supply step, but the amount of newly supplied resin is very small, so the amount of shrinkage is also very small. . Further, even if the second resin supplying step is performed in the state where the sink marks are generated on the surface of the resin as in the conventional case, since the sink marks are shallow, it is difficult to uniformly bury the resin on the entire substrate. However, according to the present invention, the first
In the pressurizing step and the first resin curing step, the resin is cured using the first pressurizing member having the elastic film so as to have a recess, so that the depth of the recess is within a predetermined range. By this, it becomes possible to uniformly fill the entire substrate with the resin. Further, in the second pressing step and the second resin curing step, the resin is cured while the surface of the drive electrode is pressed by the smooth second pressing member which is not covered with the elastic film. I did it. As a result, after the completion of the second resin curing step, the resin filled in the gaps between the drive electrodes forms a smooth surface together with the drive electrodes, and a transparent electrode or the like is formed on this smooth surface. Even if a liquid crystal element is manufactured by using the above method, the alignment of the liquid crystal is kept uniform. In other words, sink marks or the like do not occur on the surface of the resin, and the manufacturing quality of the liquid crystal element can be made constant. As a result, the manufacturing yield is improved and the cost of the product can be reduced.

【0097】このような効果は、前記第1の樹脂硬化工
程にて樹脂を完全に硬化させた場合に、特に顕著とな
り、前記凹みの深さを、0.2〜1.0μmの範囲内と
し、かつ、前記第2の樹脂硬化工程までを経て前記駆動
電極の間隙に配置された樹脂の厚さを、1.0μm以上
とした場合に、特に顕著となる。
Such an effect becomes particularly remarkable when the resin is completely cured in the first resin curing step, and the depth of the recess is set within the range of 0.2 to 1.0 μm. Moreover, when the thickness of the resin disposed in the gap between the drive electrodes after the second resin curing step is 1.0 μm or more, it becomes particularly remarkable.

【0098】なお、前記第1の加圧工程及び前記第1の
樹脂硬化工程を同時に実施し、前記樹脂の表面が弾性膜
によって押圧されている状態で該樹脂を硬化させるよう
にした場合には、前記樹脂の表面に形成される凹みを所
定量の深さに正確に制御でき、その結果、上述の効果を
確実に得ることができる。また、前記第2の加圧工程及
び前記第2の樹脂硬化工程を同時に実施し、前記駆動電
極の表面を前記第2の加圧部材を介して加圧している状
態で、前記充填された樹脂を硬化するようにした場合に
は、前記樹脂の表面を平滑にでき、その結果、上述の効
果を確実に得ることができる。
When the first pressurizing step and the first resin curing step are carried out simultaneously and the resin is cured while the surface of the resin is pressed by the elastic film, The dents formed on the surface of the resin can be accurately controlled to a predetermined depth, and as a result, the above-described effects can be reliably obtained. Further, the filled resin is applied in a state in which the second pressurizing step and the second resin curing step are simultaneously performed and the surface of the drive electrode is pressed by the second pressurizing member. When the resin is cured, the surface of the resin can be made smooth, and as a result, the above-mentioned effects can be reliably obtained.

【0099】さらに、前記樹脂を、紫外線が照射されて
硬化されるUV硬化樹脂とし、かつ、プレス機における
いずれか一方のラムと構造体との間に透明基板を介装し
て、前記透明基板を介して前記樹脂に紫外線を照射する
ようにした場合には、前記構造体を加圧している状態で
前記樹脂を硬化させることが容易にできる。したがっ
て、上述の効果を容易に得ることができる。
Further, the resin is a UV curable resin which is cured by being irradiated with ultraviolet rays, and a transparent substrate is interposed between any one of the rams and the structure in the press machine to form the transparent substrate. When the resin is irradiated with the ultraviolet ray through the resin, the resin can be easily cured while the structure is being pressed. Therefore, the above effect can be easily obtained.

【0100】またさらに、樹脂及び駆動電極によって形
成された平滑な面に、該駆動電極に沿って透明電極等を
形成すれば、製造された液晶素子は、これら駆動電極と
透明電極とに駆動電圧を印加して駆動できる。したがっ
て、透明電極のみで駆動する場合に比べて抵抗値が低減
され、電圧波形の遅延が解消され、高精細化に対応可能
な液晶素子を得ることができる。かかる効果は、前記駆
動電極を金属電極とした場合には、顕著となる。
Furthermore, if a transparent electrode or the like is formed along the drive electrode on a smooth surface formed by the resin and the drive electrode, the manufactured liquid crystal element has a drive voltage applied to the drive electrode and the transparent electrode. Can be applied to drive. Therefore, the resistance value is reduced, the delay of the voltage waveform is eliminated, and a liquid crystal element capable of coping with high definition can be obtained as compared with the case of driving only by the transparent electrode. Such an effect becomes remarkable when the drive electrode is a metal electrode.

【0101】また、上述のように、駆動電極と透明電極
とを併設した場合には、電圧波形の遅延が解消されるこ
とから、透明電極を厚く形成する必要がなく、透明電極
の透過率が下がって該電極が認識されてしまうこともな
い。さらに、前記駆動電極は透明電極の裏側に形成され
るものであることから、該透明電極の表面に配向制御膜
を形成したとしても、該配向制御膜に凹凸が生ずること
もなく、光学的な差異やクロストークの発生の心配もな
い。したがって、本発明によれば、このような表示品質
に優れた液晶素子を製造できる。
Further, as described above, when the driving electrode and the transparent electrode are provided side by side, the delay of the voltage waveform is eliminated, so that it is not necessary to form the transparent electrode thick, and the transmittance of the transparent electrode is reduced. There is no possibility that the electrode will be lowered and recognized. Further, since the drive electrode is formed on the back side of the transparent electrode, even if an alignment control film is formed on the surface of the transparent electrode, the alignment control film does not have unevenness, and the There are no concerns about differences or crosstalk. Therefore, according to the present invention, such a liquid crystal element having excellent display quality can be manufactured.

【0102】またさらに、従来、駆動電極の厚みを2μ
m以上にするとヒケ量が大きくなり樹脂表面の平坦性を
確保することが困難であったが、本発明によれば、その
ような問題も無い。したがって、駆動電極を厚くできる
分、液晶素子の低抵抗化が図れ、より一層高精細化に対
応可能な液晶素子を得ることができる。
Furthermore, conventionally, the thickness of the drive electrode is 2 μm.
If it is m or more, the amount of sink marks becomes large and it is difficult to secure the flatness of the resin surface, but according to the present invention, there is no such problem. Therefore, the thickness of the drive electrode can be increased, so that the resistance of the liquid crystal element can be reduced, and a liquid crystal element capable of achieving higher definition can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の液晶パネルの構造を説明するための断面
図。
FIG. 1 is a sectional view for explaining the structure of a conventional liquid crystal panel.

【図2】従来の他の液晶パネルの構造を説明するための
断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining the structure of another conventional liquid crystal panel.

【図3】従来の液晶パネルの製造方法の一例を説明する
ための図。
FIG. 3 is a diagram for explaining an example of a conventional method for manufacturing a liquid crystal panel.

【図4】樹脂の硬化収縮に伴う従来の問題点を説明する
ための図。
FIG. 4 is a diagram for explaining a conventional problem associated with resin shrinkage upon curing.

【図5】本発明に係る液晶パネルの製造方法を説明する
ための図であり、特に配線基板形成工程から第1の剥離
工程までを説明するための図。
FIG. 5 is a diagram for explaining the manufacturing method of the liquid crystal panel according to the present invention, particularly for explaining the wiring substrate forming process to the first peeling process.

【図6】第1の加圧工程における樹脂の形状等を説明す
るための詳細断面図。
FIG. 6 is a detailed cross-sectional view for explaining the shape of resin and the like in the first pressurizing step.

【図7】第1の剥離工程終了後における樹脂の形状等を
説明するための詳細断面図。
FIG. 7 is a detailed cross-sectional view for explaining the shape of the resin and the like after the completion of the first peeling step.

【図8】本発明に係る液晶パネルの製造方法を説明する
ための図であり、特に第2の樹脂供給工程から第2の剥
離工程までを説明するための図。
FIG. 8 is a diagram for explaining the manufacturing method of the liquid crystal panel according to the present invention, particularly for explaining the process from the second resin supply process to the second peeling process.

【図9】第2の剥離工程終了後における樹脂の形状等を
説明するための詳細断面図。
FIG. 9 is a detailed cross-sectional view for explaining the shape of the resin and the like after completion of the second peeling step.

【図10】他のプレス機の構造を説明するための断面
図。
FIG. 10 is a sectional view for explaining the structure of another press machine.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 埋め込み配線基板 11 ガラス基板(ベース基板) 12,… 金属電極(駆動電極) 13,13L,13S UV硬化樹脂(樹脂) 21 平滑板(第2の加圧部材) 23 凹み 25 プレス機 25U,25D 上下板(ラム) 26 透明基板 31 平滑板(第1の加圧部材) 31a 平滑な板状部材 31b 弾性膜 35 プレス機 35U,35D 上下板(ラム) A1 配線基板 A2 被加圧体(構造体) A5 被加圧体(構造体) P2 液晶パネル(液晶素子)10 Embedded Wiring Board 11 Glass Substrate (Base Substrate) 12, ... Metal Electrode (Drive Electrode) 13, 13L, 13S UV Curing Resin (Resin) 21 Smooth Plate (Second Pressing Member) 23 Recess 25 Press Machine 25U, 25D Upper and lower plates (ram) 26 Transparent substrate 31 Smooth plate (first pressing member) 31a Smooth plate member 31b Elastic film 35 Press machine 35U, 35D Upper and lower plates (ram) A 1 Wiring board A 2 Pressurized body ( Structure) A 5 Pressurized body (structure) P 2 Liquid crystal panel (liquid crystal element)

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ベース基板の表面に駆動電極を多数形成
して配線基板を形成する配線基板形成工程と、前記駆動
電極の形成された部分に液状の樹脂を供給する第1の樹
脂供給工程と、前記駆動電極の表面を第1の加圧部材を
介して加圧することに基づき前記多数の駆動電極相互の
間隙に樹脂を充填する第1の加圧工程と、前記充填され
た樹脂を硬化させる第1の樹脂硬化工程と、前記第1の
加圧部材を前記配線基板から剥離する剥離工程と、を備
えた液晶素子の製造方法において、 前記第1の加圧部材を、平滑な板状部材と、該板状部材
に被覆された弾性を有する弾性膜と、により構成し、 前記第1の加圧工程において、前記弾性膜にて押圧する
ことにより樹脂に凹みを形成し、 前記第1の樹脂硬化工程において、前記凹みを有した状
態に樹脂を硬化させ、 前記樹脂の凹みに新たに液状の樹脂を供給する第2の樹
脂供給工程と、弾性膜で被覆されておらず平滑な第2の
加圧部材を介して前記駆動電極の表面を加圧することに
基づき前記凹みに樹脂を充填する第2の加圧工程と、前
記第2の樹脂供給工程にて供給された樹脂を硬化させる
第2の樹脂硬化工程と、前記第2の加圧部材を前記配線
基板から剥離する剥離工程とを、前記剥離工程の後に順
次実施した、 ことを特徴とする液晶素子の製造方法。
1. A wiring board forming step of forming a plurality of drive electrodes on a surface of a base board to form a wiring board, and a first resin supplying step of supplying a liquid resin to a portion where the drive electrodes are formed. A first pressurizing step of filling a resin into a gap between the plurality of drive electrodes based on pressurizing a surface of the drive electrode via a first pressurizing member, and curing the filled resin. A method for manufacturing a liquid crystal element, comprising: a first resin curing step; and a peeling step of peeling the first pressure member from the wiring board, wherein the first pressure member is a smooth plate-shaped member. And an elastic elastic film covered with the plate-shaped member, and in the first pressurizing step, a depression is formed in the resin by pressing with the elastic film, In the resin curing process, the resin has a dented state. Surface of the drive electrode through a second resin supply step of curing a fat and newly supplying a liquid resin into the recess of the resin, and a smooth second pressure member not covered with an elastic film. A second pressurizing step of filling the recess with resin based on pressurizing the second resin, a second resin curing step of curing the resin supplied in the second resin supplying step, and the second applying step. A method of manufacturing a liquid crystal element, wherein a peeling step of peeling the pressure member from the wiring board is sequentially performed after the peeling step.
【請求項2】 前記第1の樹脂硬化工程にて、前記駆動
電極相互の間隙に充填された樹脂を完全に硬化させる、 ことを特徴とする請求項1記載の液晶素子の製造方法。
2. The method for manufacturing a liquid crystal element according to claim 1, wherein the resin filled in the gap between the drive electrodes is completely cured in the first resin curing step.
【請求項3】 前記凹みの深さを0.2〜1.0μmの
範囲内とし、かつ、 前記第2の樹脂硬化工程までを経て前記駆動電極の間隙
に配置された樹脂の厚さを、1.0μm以上とした、 ことを特徴とする請求項1又は2記載の液晶素子の製造
方法。
3. The depth of the recess is in the range of 0.2 to 1.0 μm, and the thickness of the resin disposed in the gap between the drive electrodes after the second resin curing step is: 3. The method for manufacturing a liquid crystal element according to claim 1, wherein the thickness is 1.0 μm or more.
【請求項4】 前記第1の加圧部材における弾性膜が、
所定の溶液を前記板状部材表面に塗布し、加熱すること
により、形成される、 ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の
液晶素子の製造方法。
4. The elastic film of the first pressure member is
The liquid crystal element manufacturing method according to claim 1, wherein the liquid crystal element is formed by applying a predetermined solution to the surface of the plate-shaped member and heating it.
【請求項5】 前記第1の加圧部材における弾性膜が、
柔軟性フィルムを接着することにより、形成される、 ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の
液晶素子の製造方法。
5. The elastic film of the first pressure member is
The method for producing a liquid crystal element according to claim 1, which is formed by adhering a flexible film.
【請求項6】 前記第1の樹脂供給工程にて、前記第1
の加圧部材に樹脂を滴下すると共に該樹脂の滴下された
第1の加圧部材を前記配線基板に重ね合わせることによ
り、前記駆動電極の形成された部分に液状の樹脂を供給
する、 ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の
液晶素子の製造方法。
6. The first resin supply step, the first resin
The liquid resin is supplied to the portion where the drive electrode is formed by dropping the resin on the pressure member and overlapping the first pressure member on which the resin is dropped onto the wiring board. The method of manufacturing a liquid crystal element according to claim 1, wherein the liquid crystal element is manufactured.
【請求項7】 前記第1の加圧工程並びに前記第2の加
圧工程のいずれか一方、又は双方において、前記配線基
板及び前記加圧部材の構造体を、プレス機の一対のラム
の間にセットし、かつ、 前記一対のラムによって前記構造体を加圧する、 ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の
液晶素子の製造方法。
7. The structure of the wiring board and the pressing member is disposed between a pair of rams of a press in either one or both of the first pressing step and the second pressing step. 7. The method for producing a liquid crystal element according to claim 1, wherein the structure is pressed by the pair of rams.
【請求項8】 前記第1の加圧工程及び前記第1の樹脂
硬化工程を同時に実施し、 前記樹脂の表面が前記弾性膜によって押圧されて凹みを
形成している状態で、該樹脂を硬化させる、 ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項記載の
液晶素子の製造方法。
8. The first pressurizing step and the first resin curing step are simultaneously performed, and the resin is cured while the surface of the resin is pressed by the elastic film to form a recess. The method for producing a liquid crystal element according to claim 1, wherein the liquid crystal element is produced.
【請求項9】 前記第2の加圧工程及び前記第2の樹脂
硬化工程を同時に実施し、かつ、 前記駆動電極の表面を前記第2の加圧部材を介して加圧
している状態で、前記充填された樹脂を硬化する、 ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項記載の
液晶素子の製造方法。
9. The second pressurizing step and the second resin curing step are performed at the same time, and the surface of the drive electrode is pressed by the second pressurizing member, The method of manufacturing a liquid crystal element according to claim 1, wherein the filled resin is cured.
【請求項10】 前記樹脂が、紫外線が照射されて硬化
するUV硬化樹脂であり、かつ、 前記第1の樹脂硬化工程及び前記第2の樹脂硬化工程に
て、前記樹脂に紫外線を照射することに基づき、前記樹
脂を硬化するようにした、 ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項記載の
液晶素子の製造方法。
10. The resin is a UV curable resin that is cured by being irradiated with ultraviolet rays, and the resin is irradiated with ultraviolet rays in the first resin curing step and the second resin curing step. 10. The method for producing a liquid crystal element according to claim 1, wherein the resin is cured based on the above.
【請求項11】 前記第1の樹脂硬化工程並びに前記第
2の樹脂硬化工程のいずれか一方、又は双方において、
前記一対のラムの内のいずれか一方のラムと前記構造体
との間に透明基板を介装し、 前記構造体を加圧している状態で前記透明基板を介して
前記樹脂に紫外線を照射する、 ことを特徴とする請求項10記載の液晶素子の製造方
法。
11. In either or both of the first resin curing step and the second resin curing step,
A transparent substrate is interposed between any one of the pair of rams and the structure, and the resin is irradiated with ultraviolet rays through the transparent substrate while the structure is being pressed. The method for manufacturing a liquid crystal element according to claim 10, wherein
【請求項12】 前記樹脂が、熱硬化型であり、かつ、 前記樹脂が、加熱されることにより硬化される、 ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項記載の
液晶素子の製造方法。
12. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the resin is a thermosetting type, and the resin is cured by heating. Production method.
【請求項13】 前記駆動電極が金属電極である、 ことを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項記載
の液晶素子の製造方法。
13. The method of manufacturing a liquid crystal element according to claim 1, wherein the drive electrode is a metal electrode.
【請求項14】 前記第2の樹脂硬化工程との後に実施
され、前記樹脂及び前記駆動電極によって形成された面
に、該駆動電極に沿うように透明電極を形成する、 ことを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項記載
の液晶素子の製造方法。
14. A transparent electrode is formed on the surface formed by the resin and the drive electrode, the transparent electrode being formed after the second resin curing step and along the drive electrode. Item 14. A method for manufacturing a liquid crystal element according to any one of items 1 to 13.
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