JPH0593806A - Color filter and production thereof - Google Patents

Color filter and production thereof

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JPH0593806A
JPH0593806A JP25486691A JP25486691A JPH0593806A JP H0593806 A JPH0593806 A JP H0593806A JP 25486691 A JP25486691 A JP 25486691A JP 25486691 A JP25486691 A JP 25486691A JP H0593806 A JPH0593806 A JP H0593806A
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JP
Japan
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sheet
transparent substrate
resin sheet
black matrix
matrix pattern
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JP25486691A
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Inventor
Kaoru Arai
Seiichi Yamazaki
誓一 山崎
薫 新井
Original Assignee
Fujitsu Ltd
富士通株式会社
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To flatten over coat layers covering picture elements. CONSTITUTION:This color filter is constituted by depositing the over coat layers 6a, 6b, 6c tightly adhered with an org. high-polymer sheet atop a transparent substrate 1 formed with black matrix patterns 2 and the picture elements 3 to 5. The black matrix patterns 2 and the picture elements 3 to 5 are formed atop the transparent substrate 1 and a thermoplastic high-polymer sheet or thermoplastic and UV curing type high-polymer sheet is superposed thereon. The sheet is then pressed toward the transparent substrate 1 by a press plate 11 and is heated to the melting temp. of the sheet, by which the sheet is tightly adhered to the transparent substrate 1, the black matrix patterns 2 and the picture elements 3 to 5 and the front surface of the resin sheet is flattened. The resin sheet is thereafter heated up to its curing temp. or is irradiated with UV rays 12 and is thereby cured.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明はカラー液晶表示パネル等に用いるカラーフィルタとその製造方法、特に、平坦性を良くすることによってカラー液晶表示パネルに使用したとき、表示品質を向上せしめると同時に、平坦性の良いものを低コストで効率良く製造可能にするカラーフィルタとその製造方法に関する。 A color filter and manufacturing method thereof for use in the present invention such as a color liquid crystal display panel BACKGROUND OF THE, especially when used in color liquid crystal display panel by improving the flatness and improving an image quality at the same time, color filter having good flatness efficiently be manufactured at low cost and a manufacturing method thereof.

【0002】 [0002]

【従来の技術】薄型,軽量,低消費電力等の特徴を有することによって、OA機器,パソコン,携帯用テレビ等に需要が拡大しつつあるカラー液晶表示パネルとして、 BACKGROUND ART thin, light, by having the features such as low power consumption, OA equipment, a personal computer, a color liquid crystal display panel demand for portable television or the like is expanding,
単純マトリックス方式とアクティブマトリックス方式とが、代表的なものとして知られている。 Simple matrix and an active matrix method are known as typical.

【0003】アクティブマトリックス方式は、表示品質に優れるも製造技術が難しく、高価格になるという難点がある。 [0003] The active matrix method is excellent in display quality is also difficult to manufacture technology, there is a disadvantage that becomes a high price. 単純マトリックス方式は、表示品質においてアクティブマトリックス方式より劣るが、低価格で製造できるという利点がある。 Simple matrix is ​​less than the active matrix method in a display quality, it can be advantageously manufactured at a low cost.

【0004】何れの場合も、透明基板に3色のR(赤), [0004] In either case, the transparent substrate three colors of R (red),
G(緑),B(青)画素からなるカラーフィルタを形成し、それら3色の画素を選択的に駆動して混色し、任意のカラー表示を行わせるようになる。 G (green), B (blue) to form a color filter comprising pixels, by selectively driving the pixels of these three colors were mixed, so to perform any color display.

【0005】図6はカラー液晶表示パネルに使用するためカラーフィルタが形成された基板の従来の製造方法を説明する断面図である。 [0005] FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a conventional method of manufacturing a substrate having a color filter formed for use in color liquid crystal display panel. 図6(イ) において、1はガラス基板、2は基板1の表面に形成したブラックマトリックスパターン、3はR画素、4はG画素、5はB画素、6 6 (a), 1 denotes a glass substrate, 2 a black matrix pattern formed on the surface of the substrate 1, the R pixel 3, G pixels 4, 5 B pixels, 6
はトップコート層、7は透明電極である。 The top coat layer, 7 is a transparent electrode.

【0006】図6(イ) において、基板1の表面には金属クロムの蒸着膜等よりなるブラックマトリックスパターン2を形成したのち、ブラックマトリックスパターン2 [0006] In FIG. 6 (b), after the surface of the substrate 1 formed with the black matrix pattern 2 made of vapor-deposited film of a metal such as chromium, black matrix pattern 2
の多数の透孔を埋めるように、画素3〜5を適当な順序にて形成する。 To fill a large number of through holes of forming the pixel 3-5 in a suitable order.

【0007】一般に、金属クロムの蒸着膜より形成したブラックマトリックスパターン2の厚さは1000Å程度、 [0007] Generally, the thickness of the black matrix pattern 2 formed from deposited film of metal chromium 1000Å about,
スピンコート法により被着した画素膜より形成した画素3〜5の厚さは2μm 程度である。 The thickness of the pixel 3-5 formed from pixels film deposited by a spin-coating method is about 2 [mu] m. なお、画素3〜5の高さを揃えるため、画素3〜5を形成したのちそれらの平坦化加工、例えばポリッシング加工を施したものもある。 Incidentally, there is for aligning the height of the pixels 3-5, their planarization after forming the pixel 3-5, also for example those having been subjected to polishing process.

【0008】図6(ロ) において、画素3〜5の形成に伴う凹凸を埋めるトップコート層6は、一般に、ポリイミド樹脂液やアクリル樹脂液等の塗付膜をスピンコート法により厚さ2〜4μm 程度に被着したのち、その不要部を除去して形成する。 [0008] In FIG. 6 (b), a top coat layer 6 fills the irregularities caused by the formation of the pixel 3-5, generally, the thickness 2 by spin coating a coating with film of a polyimide resin solution, an acrylic resin solution and the like After depositing about 4 [mu] m, it is formed by removing the unnecessary portion.

【0009】図6(ハ) において、トップコート層6の上に形成した図紙の厚さ方向に整列する多数本の透明電極7は、一般に、端部(接続端子)を基板1の表面に形成せしめる。 [0009] In FIG. 6 (c), a large number of transparent electrodes 7 aligned in the thickness direction of Fig paper formed on the top coat layer 6 is typically an end portion (connection terminal) to the surface of the substrate 1 formation allowed to.

【0010】 [0010]

【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、 As explained in the invention Problems to be Solved] or more,
従来のカラーフィルタは、その上に透明電極7を形成する等のためにトップコート層6が必要であり、トップコート層6の表面は平坦でなければならない。 Conventional color filters are required topcoat layer 6 for such forming a transparent electrode 7 thereon, the surface of the top coat layer 6 should be flat. しかし、従来のトップコート層6は図6(ハ) に示す如く、画素3〜 However, conventional top coat layer 6 as shown in FIG. 6 (c), pixel 3
5の間に対応し深さが数百Å程度にもなる凹部の発生が不可避であり、例えば厚さ千数百Å程度の透明電極7をその上に形成したとき、透明電極7の信頼性が損なわれるという問題点があった。 5 is a development of recess depth corresponding is also about several hundred Å is unavoidable during, for example, a thickness of thousands hundred Å about the transparent electrode 7 when formed thereon, reliability of the transparent electrode 7 there has been a problem that is impaired.

【0011】なお、トップコート層6の前記凹部をなくすためスピンコート方法を改善(樹脂膜の多層塗付)したり、研磨加工を施す方法もある。 [0011] Incidentally, there or to improve the spin coating method to eliminate the recess of the top coat layer 6 (with the multilayer coating of the resin film), a method of performing a polishing process. しかし、複数回スピンコートする樹脂膜の多層化方法は表面の平坦化が不十分であり、研磨加工を施す方法はコストアップとなり、 However, multilayered method of a resin film a plurality of times the spin coating is insufficient flattening of the surface, a method of applying the polishing process becomes cost,
かつ、表面を傷付けたり汚れが付着し易いという欠点がある。 And, there is a disadvantage that tends to adhere dirty or scratch the surface.

【0012】 [0012]

【課題を解決するための手段】図1(イ),(ロ),(ハ) は本発明方法の基本構成の説明図であり、図1(イ) に示すカラーフィルタは、ブラックマトリックスパターン2,画素3〜5を形成した基板1の上に、凹所充填性を有する有機高分子シート、例えばシリコンゲルシートをキシレンで柔らかくしたシートを重ね、それを硬化(キシレンを蒸発)せしめてトップコート層6a を形成したものである。 Means for Solving the Problems] FIG. 1 (a), (b), (c) is an explanatory view of the basic configuration of the present invention method, a color filter shown in FIG. 1 (b), the black matrix pattern 2 , on the substrate 1 formed with the pixel 3-5, the organic polymer sheet having a recess filling property, for example a silicone gel sheet overlaid softened sheets with xylene, the top coat layer allowed to cure (evaporate xylene) it 6a is obtained by the formation.

【0013】図1(ロ) に示すカラーフィルタは、ブラックマトリックスパターン2,画素3〜5を形成した基板1の上に、熱可塑性樹脂シート例えばポリスチレン系樹脂シートを重ね、平滑下面の押さえ板11を介して該樹脂シートを加熱(溶融)・押圧し、トップコート層6b を形成したものであり、押さえ板11はトップコート層6b [0013] Color 1 (b) filter, a black matrix pattern 2, on a substrate 1 formed with the pixel 3-5, the thermoplastic resin sheet for example superposed polystyrene resin sheet, smooth lower surface of the pressing plate 11 heating (melting), pressing the resin sheet through is obtained by forming a top coat layer 6b, pressing plate 11 is a topcoat layer 6b
を冷却してから除去する。 It is removed from the cooling.

【0014】図1(ハ) に示すカラーフィルタは、ブラックマトリックスパターン2,画素3〜5を形成した基板1の上に、熱可塑性の紫外線硬化性樹脂シート例えばポリスチレン系UV樹脂シートを重ね、平滑下面の押さえ板を介して該樹脂シートを加熱(溶融)・押圧し、押さえ板を除去して(または通して)紫外線12を照射し、トップコート層6c を形成したものである。 [0014] The color filter shown in FIG. 1 (c), the black matrix pattern 2, on a substrate 1 formed with the pixel 3-5, superimposed thermoplastic ultraviolet curable resin sheet such as polystyrene-based UV resin sheet, smooth through the lower surface of the pressing plate and heated (molten) pressing said resin sheet, to remove the presser plate past (or through) the ultraviolet 12 is irradiated is obtained by forming a topcoat layer 6c.

【0015】 [0015]

【作用】図2は本発明に係わるトップコート層形成用スチレン系樹脂シートの硬化収縮特性と従来のトップコート層形成液の硬化収縮特性との比較図である。 [Action] Figure 2 is a comparison diagram with the curing shrinkage properties of the cured shrinkage characteristics and conventional top coating layer forming solution of the styrene-based resin sheet for the top coat layer formed according to the present invention. 縦軸を収縮率(%),横軸を硬化温度(℃)とした図2において、トップコート層形成のため使用する従来のシリコン系樹脂液およびアクリル系樹脂液の収縮特性の収縮率は、200℃以上の硬化温度で安定するが、それらの収縮率は70%以上であるのに対し、本発明に使用するスチレン系樹脂シートの収縮特性は、硬化温度を200℃ The vertical axis shrinkage (%), in Figure 2 the horizontal axis and the curing temperature (° C.), shrinkage shrink characteristic of conventional silicon-based resin solution and an acrylic resin solution used for the top coat layer formation, stabilized at 200 ° C. or higher curing temperatures, but while their shrinkage is 70% or more, shrinkage characteristics of the styrene-based resin sheet used in the present invention, 200 ° C. the curing temperature
としたとき10%程度である。 It is about 10% when the.

【0016】従って、トップコート層形成のため樹脂液を使用する従来方法では、樹脂液塗付直後の上面がスピンコート法によって平坦化されても、基板2に塗付された厚さと画素4に塗付された厚さとが異なり、硬化処理したときの収縮率が大きいことによって凹部を生じる。 [0016] Therefore, in the conventional method of using a resin liquid for the top coat layer formed, also the upper surface immediately with liquid resin coating is flattened by a spin coating method, the thickness of the pixel 4 which is attached a coating on the substrate 2 it is different from the thickness attached coating, resulting in the recess by a large shrinkage upon curing.

【0017】他方、トップコート層形成のため樹脂シートを使用する上記手段によれば、軟化させたとき一部が画素4間に流れ込み、硬化前では基板2の上部と画素4 [0017] On the other hand, according to the way of using the resin sheet for the top coat layer formed, a part when softened flows between the pixel 4, the top and the pixel substrate 2 in uncured 4
の上部とでは厚さに差が生じる。 Difference in thickness occurs in the upper. 従って、樹脂シートを使用してもトップコート層の表面に凹部を生じるが、樹脂シートの収縮率が樹脂液より著しく小さいため硬化後の凹部は、樹脂液を使用し形成された凹部に比べ 1/7程度以下に浅くなる。 Thus, although resulting in recesses in the surface of the topcoat layer even by using a resin sheet, the recess after curing for shrinkage of the resin sheet is significantly smaller than the resin liquid, compared to the recess that is using the resin liquid form 1 / 7 about following in becomes shallower.

【0018】さらに、樹脂シート特有のプロードな厚さむらについては、熱可塑性樹脂による自己平坦性または押圧処理により解消される。 Furthermore, for the resin sheet specific upload thickness irregularity are overcome by self-flatness or pressing treatment with a thermoplastic resin.

【0019】 [0019]

【実施例】図3は本発明の実施例によるカラー液晶表示パネル用基板の説明図、図4(イ)〜(ヘ) は図3に示すトップコート層の製造工程の説明図である。 DETAILED DESCRIPTION FIG. 3 is an explanatory view of a substrate for a color liquid crystal display panel according to an exemplary embodiment of the present invention, FIG. 4 (a) to (f) are explanatory views of a manufacturing process of the topcoat layer shown in FIG.

【0020】図3において、1は厚さ1.1mmのソーダライムガラスにてなる基板、2は従来と同じ方法で厚さ10 [0020] In FIG. 3, the substrate 1 is made at a thickness of 1.1mm soda-lime glass, 2 is the thickness in the same manner as the conventional of 10
00Å程度に形成したブラックマトリックスパターン、3 A black matrix pattern formed about Å, 3
はR画素、4はG画素、5はB画素、10は樹脂シートを使用して形成したトップコート層、7は透明電極である。 The R pixel, G pixel is 4, the B pixel 5, a top coat layer formed using the resin sheet 10, 7 is a transparent electrode.

【0021】図4(イ) において、ブラックマトリックスパターン2および画素3〜5を形成した基板1の表面に、トップコート層形成用樹脂シート13を重ね、図4 [0021] In FIG. 4 (b), the surface of the substrate 1 formed with the black matrix pattern 2 and the pixel 3-5, superimposed top coat layer forming resin sheet 13, FIG. 4
(ロ) に示す如く樹脂シート13を基板2の表面にラミネートさせる。 Thereby laminating the resin sheet 13 on the surface of the substrate 2 as shown in (b). その際、樹脂シート13が例えばシリコンゲルシートをキシレンで柔らかくしたものであるとき、樹脂シート13には凹所充填性を有するため、硬化(キシレンを蒸発)せしめるだけで図1(イ) に示すトップコート層6a が完成し、トップコート層6a の上に透明電極を形成すれば、カラー液晶表示パネル用基板が完成する。 Top this time, when the resin sheet 13, for example, silicone gel sheet is obtained by soft and xylene, which only since the resin sheet 13 having a recess filling property, allowed to cure (evaporate xylene) is shown in FIG. 1 (b) coating layer 6a is completed, by forming a transparent electrode on the top coat layer 6a, a substrate for a color liquid crystal display panel is completed.

【0022】図4(ハ) は、ブラックマトリックスパターン2および画素3〜5を形成した基板2の表面に重ねた樹脂シート13が、基板1,ブラックマトリックスパターン2,画素3〜5に対し密着性を有するポリエステル系樹脂やブデン系樹脂等にてなる熱可塑性の場合であり、 FIG. 4 (c), the resin sheet 13 overlaid on the surface of the substrate 2 formed with the black matrix pattern 2 and pixel 3 to 5, the substrate 1, a black matrix pattern 2, adhesion to the pixel 3-5 a case of a thermoplastic consisting in a polyester resin and Buden resins having,
平滑下面の押さえ板11を介して樹脂シート13を例えば14 The resin sheet 13, for example via the pressing plate 11 of the flat bottom surface 14
0℃に加熱して溶融せしめると共に基板1に向けて押圧し、次いで、樹脂シート13を例えば 200℃に加熱して硬化させると、図1(ロ) に示すトップコート層6b が完成し、トップコート層6b の上に透明電極を形成すれば、 Was heated to 0 ℃ pressed toward the substrate 1 together with allowed to melt, then the heating and curing the resin sheet 13, for example to 200 ° C., to complete the top coat layer 6b shown in FIG. 1 (b), the top by forming a transparent electrode on the coating layer 6b,
カラー液晶表示パネル用基板が完成する。 Color liquid crystal display panel substrate is completed.

【0023】図4(ニ) は、ブラックマトリックスパターン2および画素3〜5を形成した基板2の表面に重ねた樹脂シート13が、基板1,ブラックマトリックスパターン2,画素3〜5に対し密着性を有すると共に熱可塑性かつ紫外線硬化性の場合であり、かかる樹脂シート13を使用してなるトップコート層6c(図1(ハ))は、トップコート層6b と同様に押さえ板11を使用し、樹脂シート13 FIG. 4 (d), the resin sheet 13 overlaid on the surface of the substrate 2 formed with the black matrix pattern 2 and pixel 3 to 5, the substrate 1, a black matrix pattern 2, adhesion to the pixel 3-5 the is the case of thermoplastic and UV curable and having a top coat layer 6c made using the resin sheet 13 (FIG. 1 (c)) uses the holding plate 11 similar to the top coat layer 6b, resin sheet 13
を加熱溶融せしめ表面を平坦化したのち、押さえ板11を除去して紫外線12を照射して硬化せしめて完成し、トップコート層6c の上に透明電極を形成すれば、カラー液晶表示パネル用基板が完成する。 After flattening the heat melting allowed surface was irradiated with ultraviolet rays 12 completed allowed to cure to remove the presser plate 11, by forming a transparent electrode on the top coat layer 6c, a substrate for a color liquid crystal display panel There is completed.

【0024】図5は本発明の他の実施例によるトップコート層の製造工程の説明図であり、図5(イ) において、 FIG. 5 is an explanatory view of the manufacturing process of other top coat layer according to an embodiment of the present invention, in FIG. 5 (b),
ブラックマトリックスパターン2および画素3〜5を形成した基板2の表面に、トップコート層形成用樹脂シート13を対向せしめる。 The black matrix pattern 2 and the surface of the substrate 2 formed with the pixel 3-5, allowed to face a top coat layer-forming resin sheet 13. 樹脂シート13は定盤14の下面に固定されており、定盤14の位置調整によって樹脂シート13 The resin sheet 13 is fixed to the lower surface of the surface plate 14, the resin sheet 13 by adjusting the position of the platen 14
は、基板1に対する位置調整を行うことができるようになり、基板1の所定部に樹脂シート13が搭載可能になる。 Is, it becomes possible to perform position adjustment for the substrate 1, the resin sheet 13 is to be installed in a predetermined portion of the substrate 1.

【0025】次いで、図5(ロ) に示す如く回転しながら基板1に向けて樹脂シート13を押圧する回転ローラ15を使用したラミネータにより、樹脂シート13を画素3〜5 [0025] Then, the laminator using a rotating roller 15 for pressing the resin sheet 13 toward the substrate 1 while rotating as shown in FIG. 5 (b), the pixel 3-5 and the resin sheet 13
に仮固着させる。 To temporarily affixed to. ただし、図5(イ) の定盤14が樹脂シート13を基板1に向けて押圧できるように構成されていれば、ローラ15を使用するラミネータは不要である。 However, if it is configured as surface plate 14 in FIG. 5 (b) can be pressed against the resin sheet 13 to the substrate 1, a laminator to use the roller 15 is not required.

【0026】図5(ハ) において、16は耐熱性有機高分子にてなる真空パックであり、樹脂シート13を仮固着させた画素3〜5を形成した基板1には押さえ板11を重ね、 [0026] In FIG. 5 (c), 16 is a vacuum pack comprising at heat-resistant organic polymer, overlapped pressing plate 11 to the substrate 1 formed with the pixel 3-5 with the resin sheet 13 is provisionally fixed,
それらを真空パック16に封入したのち、パック16内を減圧すると外気圧によって押さえ板11は樹脂シート13を基板1に向けて押圧するようになる。 After encapsulate them in a vacuum pack 16, the pressing plate 11 by external air pressure when pressure inside the pack 16 will be pressed toward the resin sheet 13 to the substrate 1. そこで、それをオートクレーブ装置 (加熱加圧炉) に挿入し、加熱すると共に加圧する。 Therefore, it was inserted into an autoclave (heating pressing oven), pressed together and heated.

【0027】樹脂シート13が熱可塑性樹脂よりなるときオートクレーブ装置による加熱は、樹脂シート13の溶融温度まで加熱しその一定時間後に、樹脂シート13の硬化温度まで加熱温度を上げる。 The heating by an autoclave when the resin sheet 13 is made of thermoplastic resin, after heating to the melting temperature of the resin sheet 13 that a predetermined time, raising the heating temperature to the curing temperature of the resin sheet 13. そして、オートクレーブ装置による加圧は、真空パック16の減圧では不十分な押圧力を補って、樹脂シート13を基板1に押圧させることになる。 Then, the pressure by autoclave is supplemented with insufficient pressure in the vacuum of the vacuum pack 16, thus to press the resin sheet 13 to the substrate 1.

【0028】そこで、オートクレーブ装置から取り出して冷却し、真空パック16および押さえ板11を取り除くと、図1(ロ) に示すトップコート層6b が完成し、トップコート層6b の上に透明電極を形成すれば、カラー液晶表示パネル用基板が完成する。 [0028] Therefore, taken out from the autoclave was cooled, upon removal of vacuum packing 16 and the pressing plate 11, completing the top coat layer 6b shown in FIG. 1 (b), forming a transparent electrode on the top coat layer 6b if, substrate for a color liquid crystal display panel is completed.

【0029】次いで、樹脂シート13が熱可塑性かつ紫外線硬化性樹脂にてなるときオートクレーブ装置による加熱は、樹脂シート13の溶融温度まで加熱しその一定時間後に取り出し、真空パック16および押さえ板11を通してまたは取り除いて、図5(ニ)に示す如く紫外線12を樹脂シート13に照射し、トップコート層6c が完成する。 [0029] Then, heating by the autoclave when the resin sheet 13 is a thermoplastic and UV curable resin, by heating to the melting temperature of the resin sheet 13 taken out after the predetermined time, or through a vacuum pack 16 and the presser plate 11 removed by the ultraviolet 12 as shown in FIG. 5 (d) irradiating the resin sheet 13, the top coat layer 6c is completed.

【0030】 [0030]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によるカラーフィルタとその製造方法は、樹脂シートを使用しトップコート層を形成することによって、トップコート層の表面が平坦化が極めて容易となり、液晶表示パネルの表示基板に適用したとき、透明電極の信頼性を向上し得た効果が得られた。 As described above, according to the present invention, a color filter and manufacturing method thereof according to the present invention, by forming a top coat layer using a resin sheet, flattening the surface of the top coat layer becomes extremely easy, the liquid crystal when applied to the display substrate of the display panel, the effect obtained by improving the reliability of the transparent electrode was obtained.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】 本発明方法の基本構成の説明図である。 FIG. 1 is an explanatory view of the basic configuration of the present invention method.

【図2】 本発明に係わるトップコート層形成用スチレン系樹脂シートの硬化収縮特性と従来のトップコート層形成液の硬化収縮特性との比較図である。 2 is a comparative diagram between curing shrinkage characteristics and the curing shrinkage characteristics of the conventional top coat layer forming liquid of a styrene-based resin sheet for the top coat layer formed according to the present invention.

【図3】 本発明の実施例によるカラー液晶表示パネル用基板の説明図である。 Figure 3 is an illustration of a substrate for a color liquid crystal display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

【図4】 図3に示すトップコート層の製造工程の説明図である。 It explains the manufacturing step of FIG. 4 topcoat layer shown in FIG.

【図5】 本発明の他の実施例によるトップコート層の製造工程の説明図である。 It is an explanatory view of a manufacturing step of the top coat layer according to another embodiment of the present invention; FIG.

【図6】 カラー液晶表示パネルに使用するためカラーフィルタが形成された基板の従来の製造方法を説明する断面図である。 6 is a cross-sectional view illustrating a conventional method of manufacturing a substrate having a color filter formed for use in color liquid crystal display panel.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1はカラーフィルタを形成する透明基板 2はブラックマトリックスパターン 3〜5は画素 6a,6b,6c,10はオーバーコート層 11は押さえ板 12は紫外線 13は有機高分子シート 1 transparent substrate 2 is a black matrix pattern 3-5 pixels 6a to form a color filter, 6b, 6c, 10 is the overcoat layer 11 is presser plate 12 UV 13 organic polymer sheet

Claims (5)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 ブラックマトリックスパターン(2) と多数の画素(3,4,5) とを形成した透明基板(1) の上面に、 To 1. A black top surface of the matrix pattern (2) and a plurality of pixels (3,4,5) and the formed transparent substrate (1),
    該ブラックマトリックスパターン(2) および画素(3,4, The black matrix pattern (2) and pixel (3,4,
    5) を覆うように、有機高分子シート(13)を密着させたオーバーコート層(6a,6b,6c)が被着されてなることを特徴とするカラーフィルタ。 5) so as to cover the color filter, characterized in that the overcoat layer was brought into close contact with the organic polymer sheet (13) (6a, 6b, 6c) is formed by deposition.
  2. 【請求項2】 前記有機高分子シート(13)が熱可塑性樹脂シートであることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ。 Wherein said color filter according to claim 1, wherein the organic polymer sheet (13) is a thermoplastic resin sheet.
  3. 【請求項3】 前記有機高分子シート(13)が熱可塑性かつ紫外線硬化性樹脂シートであることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ。 Wherein the color filter according to claim 1, wherein the organic polymer sheet (13) is a thermoplastic and ultraviolet-curing resin sheet.
  4. 【請求項4】 透明基板(1) の上面にブラックマトリックスパターン(2) と多数の画素(3,4,5) とを形成し、該透明基板(1),ブラックマトリックスパターン(2) および画素(3,4,5) に対し密着性を有する熱可塑性樹脂シート 4. A top black matrix pattern (2) and a plurality of pixels (3,4,5) and is formed on the transparent substrate (1), the transparent substrate (1), a black matrix pattern (2) and pixel (3,4,5) a thermoplastic resin having adhesiveness to sheet
    (13)を該透明基板(1) の上面に重ね、該シート(13)を押さえ板(11)で該透明基板(1) に向けて押圧すると共に該シート(13)の溶融温度に加熱し、該樹脂シート(13)を該透明基板(1),ブラックマトリックスパターン(2) および画素(3,4,5) に密着せしめると共に該樹脂シートの上面を平坦化せしめ、次いで該樹脂シート(13)をその硬化温度まで加熱することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 (13) the superposed on the upper surface of the transparent substrate (1), and heated to the melting temperature of the sheet (13) as well as pressed toward the transparent substrate (1) with plate holding the sheet (13) (11) , the resin sheet (13) a transparent substrate (1), a black matrix pattern (2) and allowed to planarize the upper surface of the resin sheet together with the allowed to contact the pixel (3,4,5), then the resin sheet (13 method of manufacturing a color filter, wherein a) is heated to its curing temperature.
  5. 【請求項5】 透明基板(1) の上面ににブラックマトリックスパターン(2)と多数の画素(3,4,5) とを形成し、 5. The black matrix pattern (2) and a plurality of pixels (3,4,5) and is formed on the upper surface of the transparent substrate (1),
    該透明基板(1),ブラックマトリックスパターン(2) および画素(3,4,5) に対し密着性を有する熱可塑性かつ紫外線硬化性樹脂シート(13)を該透明基板(2) の上面に重ね、該シート(13)を押さえ板(11)で該透明基板(1) に向けて押圧すると共に加熱し、該樹脂シート(13)を該透明基板(1),ブラックマトリックスパターン(2) および画素 The transparent substrate (1), overlapping the black matrix pattern (2) and a pixel thermoplastic and ultraviolet-curing resin sheet having adhesion to (3,4,5) (13) on the upper surface of the transparent substrate (2) , said sheet (13) a pressing plate (11) toward the transparent substrate (1) is heated with pressing, the resin sheet (13) a transparent substrate (1), a black matrix pattern (2) and pixel
    (3,4,5) に密着せしめると共に該樹脂シート(13)の上面を平坦化せしめ、次いで平坦化させた該樹脂シート(13) Together allowed to contact the (3,4,5) brought planarize the upper surface of the resin sheet (13), then the resin sheet is flattened (13)
    に紫外線(12)を照射し硬化させることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 Method of manufacturing a color filter, characterized in that to irradiate and cure the ultraviolet (12).
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