JP2002258236A - Method and apparatus for manufacturing wiring board and method for manufacturing liquid crystal element - Google Patents

Method and apparatus for manufacturing wiring board and method for manufacturing liquid crystal element

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JP2002258236A
JP2002258236A JP2001377629A JP2001377629A JP2002258236A JP 2002258236 A JP2002258236 A JP 2002258236A JP 2001377629 A JP2001377629 A JP 2001377629A JP 2001377629 A JP2001377629 A JP 2001377629A JP 2002258236 A JP2002258236 A JP 2002258236A
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substrate
polymer material
resin
wiring board
manufacturing
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Yuji Matsuo
雄二 松尾
Masaru Kamio
優 神尾
Hiroyuki Tokunaga
博之 徳永
Haruo Tomono
晴夫 友野
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Canon Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and an apparatus for manufacturing a wiring board and a method for manufacturing a liquid crystal element which can prevent a polymer material from outside protruding. SOLUTION: In a pressing process of a UV cured resin 5 for flatly filling between metal electrodes 3 on a glass substrate 2, a smoothing plate 1 is positioned in a position corresponding to a region L to be flatly filled with the UV cured resin 5 on the glass substrate 2 by positioning jigs 59a, 59b. Since a size of the smoothing plate 1 is larger than the region L to be flatly filled with the UV cured resin 5 on the glass substrate 2 and smaller than the glass substrate 2 and a pressed area by moving rollers 51a, 51b is larger than the region L to be flatly filled with the UV cured resin 5 on the glass substrate 2 and smaller than the glass substrate 2, the excess UV cured resin 5 protruding from a gap between the smoothing plate 1 and the glass substrate 2 does not go outside the glass substrate 2 and members of the manufacturing apparatus can be prevented from contamination.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、配線基板の製造方
法、液晶素子の製造方法及び配線基板の製造装置に関
し、特に高分子材料が外にはみ出すのを防止するように
したものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a wiring board, a method for manufacturing a liquid crystal element, and an apparatus for manufacturing a wiring board, and more particularly to a method for preventing a polymer material from protruding outside.

【0002】[0002]

【従来の技術】TN(Twisted Nemati
c)やSTN(Super Twisted Nema
tic)型等の液晶素子では、従来より、ガラス基板上
に形成される透明電極にはITO(Indium Ti
nOxide)膜などが一般に用いられている。
2. Description of the Related Art Twisted Nemati (TN)
c) and STN (Super Twisted Nema)
In a liquid crystal element of a (tic) type or the like, a transparent electrode formed on a glass substrate has conventionally been made of ITO (Indium Ti).
An nOxide) film or the like is generally used.

【0003】透明電極(ITO)は抵抗率が大きいた
め、最近のように表示面積の大型化、高精細化に伴って
印加される電圧波形の遅延が問題になってきた。特に、
強誘電性液晶を用いた液晶素子では基板ギャップ(液晶
層の厚さ)がより狭いため(例えば、1.0〜2.0μ
m程度)、電圧波形の遅延が顕著であった。また、抵抗
低減のために透明電極の膜厚を厚く形成することも考え
られるが、膜厚を厚くするとガラス基板への密着性が悪
くなり成膜にも長時間を要し、且つコストも高くなる等
の問題点があった。
[0003] Since the transparent electrode (ITO) has a large resistivity, there has recently been a problem of a delay in a voltage waveform applied with an increase in a display area and a high definition. In particular,
In a liquid crystal element using a ferroelectric liquid crystal, the substrate gap (the thickness of the liquid crystal layer) is narrower (for example, 1.0 to 2.0 μm).
m), and the delay of the voltage waveform was remarkable. It is also conceivable to form the transparent electrode to have a large thickness in order to reduce the resistance. However, when the thickness is increased, the adhesion to the glass substrate becomes poor, and it takes a long time to form the film, and the cost is high. There were problems such as becoming.

【0004】このため、このような問題点を解決するた
めに、膜厚の薄い透明電極の下に低抵抗率の金属電極を
併設する構成の液晶素子が提案されている(例えば、特
開平2−63019号公報、特開平6−347810号
公報等)。
Therefore, in order to solve such a problem, a liquid crystal element having a configuration in which a metal electrode having a low resistivity is provided under a transparent electrode having a small thickness has been proposed (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 2 (1990) -1990). -63019, JP-A-6-347810, etc.).

【0005】このような液晶素子用の配線基板として
は、例えば透光性基板の表面に複数の補助電極となる導
電性パターンが形成され、その導電性パターンの相互間
が高分子材料である樹脂材によって平坦に埋められると
共に、その導電性パターン上に透明電極が形成された構
造としたものがある。そして、このような配線基板の製
造方法においては、まず表面が平坦な平滑板を用意し、
導電性パターンが形成された透光性基板の表面と平滑板
の表面との間に流動性の樹脂材を介在させてから透光性
基板と平滑板とを略線状に加圧して接触させる。
As a wiring substrate for such a liquid crystal element, for example, a conductive pattern to be a plurality of auxiliary electrodes is formed on the surface of a light-transmitting substrate, and a resin material in which the conductive patterns are made of a polymer material is provided between the conductive patterns. There is a structure in which a transparent electrode is formed on the conductive pattern while being buried flat by a material. And in such a method of manufacturing a wiring board, first, a smooth plate having a flat surface is prepared,
A fluid resin material is interposed between the surface of the light-transmitting substrate on which the conductive pattern is formed and the surface of the smooth plate, and then the light-transmissive substrate and the smooth plate are brought into contact with each other by being pressed substantially linearly. .

【0006】次に、これら透光性基板と平滑板とを接触
させつつ、その加圧部位をそれらの一方側から他方側に
向かって相対的に移動させることにより透光性基板と平
滑板とを互いに密着させると共に流動性の樹脂材を透光
性基板の導電性パターン形成領域に押し広げ、この後、
この押し広げられた樹脂材をUV光にて硬化させてから
平滑板を剥離するようにする。
Next, while the light-transmitting substrate and the smooth plate are in contact with each other, the pressurized portion is relatively moved from one side thereof to the other side, so that the light-transmitting substrate and the smooth plate are moved. And spread the fluid resin material over the conductive pattern forming area of the light-transmitting substrate,
After curing the spread resin material with UV light, the smooth plate is peeled off.

【0007】ここで、このように樹脂材を硬化させるこ
とにより、導電性パターンの相互間が樹脂材によって平
坦に埋められた金属配線基板が得られ、最後にこの金属
配線基板上に透明電極を形成して配線基板の製造が終了
する。
Here, by curing the resin material in this manner, a metal wiring board in which the conductive patterns are filled with the resin material flatly is obtained. Finally, a transparent electrode is formed on the metal wiring board. Then, the manufacture of the wiring board is completed.

【0008】次に、このような製造方法の一例を図1を
用いて説明する。
Next, an example of such a manufacturing method will be described with reference to FIG.

【0009】まず、(a)のように、表面が平滑な平滑
板1の表面上に、高分子材料であるUV硬化型樹脂モノ
マー液(以下、単に「樹脂」という)5をディスペンサ
6等の定量滴下治具を用いて所定量滴下する。次に、
(b)及び(c)のように、あらかじめ導電性パターン
として1μm程度の膜厚からなる金属配線(電極)3が
透光性基板の一例であるガラス基板2の表面に施されて
いる金属配線基板4を平滑板1に、その配線面4aを平
滑板1側に向けて樹脂5を挟むように接触させる。
First, as shown in (a), a UV curable resin monomer liquid (hereinafter simply referred to as “resin”) 5 as a polymer material is placed on a surface of a smooth plate 1 having a smooth surface, such as a dispenser 6. A predetermined amount is dropped using a fixed amount dropping jig. next,
As shown in (b) and (c), a metal wiring (electrode) 3 having a thickness of about 1 μm as a conductive pattern is previously provided on the surface of a glass substrate 2 which is an example of a light-transmitting substrate. The substrate 4 is brought into contact with the smoothing plate 1 with the wiring surface 4a facing the smoothing plate 1 so as to sandwich the resin 5 therebetween.

【0010】次に、(d)のように、平滑板1と金属配
線基板4によって樹脂5を挟んだ一体物45を、例えば
回転する一対のローラ7間に矢印方向から入れ(この例
では、矢印方向と金属配線3を実質的に垂直にする)、
その一体物45をプレスする。これにより、平滑板1と
金属配線基板4とが圧接すると共に樹脂5は金属配線基
板4の金属配線形成領域に押し広げられる。なお、この
プレス圧力は、樹脂5を金属配線3の表面上から排除す
ることができると共に、金属配線基板4と平滑板1を強
く、しかも基板4全面に均一に密着させることができる
大きさの圧力である。
Next, as shown in FIG. 1D, an integrated member 45 sandwiching the resin 5 between the smoothing plate 1 and the metal wiring board 4 is inserted, for example, between a pair of rotating rollers 7 in the direction of the arrow (in this example, The direction of the arrow is substantially perpendicular to the metal wiring 3),
The unit 45 is pressed. As a result, the smoothing plate 1 and the metal wiring board 4 are pressed against each other, and the resin 5 is spread over the metal wiring forming area of the metal wiring board 4. The pressing pressure is such that the resin 5 can be removed from the surface of the metal wiring 3 and that the metal wiring board 4 and the smooth plate 1 can be firmly and uniformly adhered to the entire surface of the board 4. Pressure.

【0011】次に、(e)のように、金属配線基板4の
側からUV光を照射し、押し広げた樹脂5を硬化させた
後、(f)のように図には具体的には示していない離型
治具により平滑板1から樹脂5と一体となった金属配線
基板4を矢印方向に剥離する。そして、最後にこのよう
に金属配線3の相互間が樹脂5によって平坦に埋められ
た金属配線基板4に(g)の2点鎖線で示すITO膜等
の透明電極15を形成して配線基板10を得る。
Next, as shown in (e), the resin 5 is irradiated with UV light from the side of the metal wiring substrate 4 to cure the spread resin 5, and as shown in FIG. The metal wiring board 4 integrated with the resin 5 is peeled from the smooth plate 1 in the direction of the arrow by a release jig not shown. Finally, a transparent electrode 15 such as an ITO film indicated by a two-dot chain line is formed on the metal wiring board 4 in which the space between the metal wirings 3 is thus buried flat with the resin 5 to form the wiring board 10. Get.

【0012】このような配線基板及び配線基板の製造方
法では、図2の(a)に示すように金属配線基板4を平
滑板1に樹脂5を挟むように接触させる際、図2の
(b)に示すように樹脂5の中に気泡21を巻き込むこ
とがある。ここで、通常、このように樹脂5に気泡21
が存在するようになっても、例えば図2(c)に示すプ
レス工程中、ローラ7の回転にて樹脂5が流動するた
め、これに伴い気泡21も一体物45の外へ押し出され
る。
In such a wiring board and a method of manufacturing the wiring board, when the metal wiring board 4 is brought into contact with the smooth plate 1 so as to sandwich the resin 5 as shown in FIG. As shown in ()), bubbles 21 may be entrained in the resin 5. Here, usually, bubbles 21 are formed in the resin 5 as described above.
2C, for example, during the pressing process shown in FIG. 2C, the resin 5 flows by the rotation of the roller 7, so that the bubbles 21 are also pushed out of the integrated body 45.

【0013】また、低抵抗率の金属電極を、透明電極を
形成する下地のガラス基板に形成して配線基板を作製す
る場合の他の例として、図3(a)〜(h)に示すよう
な製造方法がある。
FIGS. 3A to 3H show another example of a case where a metal electrode having a low resistivity is formed on an underlying glass substrate on which a transparent electrode is formed to produce a wiring substrate. There are various manufacturing methods.

【0014】先ず、予め1μm程度の膜厚で金属電極1
02が形成されているガラス基板101の金属電極10
2側に流動性のUV硬化樹脂103をディスペンサー1
04で所定量滴下する(図3(a)参照)。次に、表面
が平滑な透光性の平滑板105を、ガラス基板101上
に滴下したUV硬化樹脂103を挟むように接触させる
(図3(b),(c)参照)。
First, the metal electrode 1 having a thickness of about 1 μm is
02 of the glass substrate 101 on which the metal electrode 02 is formed.
Dispenser 1 with flowable UV curable resin 103 on 2 side
A predetermined amount is dropped at 04 (see FIG. 3A). Next, a light-transmitting smooth plate 105 having a smooth surface is brought into contact with the UV curable resin 103 dropped on the glass substrate 101 (see FIGS. 3B and 3C).

【0015】次に、平滑板105とガラス基板101と
でUV硬化樹脂103を挟んだ一体物を、プレス装置の
回転自在な上下のローラ106a,106b間に矢印A
方向から搬送し、加圧して密着させる(図3(d)参
照)。この場合、加圧部位を金属電極102のストライ
プ方向に略垂直に進行させる。この時、UV硬化樹脂1
03を金属電極102の表面から排出し、平滑板105
とガラス基板101とを強く、しかもガラス基板101
の全面に均一に密着させる。
Next, an integrated body sandwiching the UV-curable resin 103 between the smoothing plate 105 and the glass substrate 101 is placed between the upper and lower rotatable rollers 106a and 106b of a pressing device by an arrow A.
It is conveyed from the direction, and is brought into close contact by pressing (see FIG. 3D). In this case, the pressurized portion is advanced substantially perpendicular to the stripe direction of the metal electrode 102. At this time, UV curable resin 1
03 is discharged from the surface of the metal electrode 102,
And the glass substrate 101 are strong.
And evenly adhere to the entire surface.

【0016】次に、平滑板105とガラス基板101と
でUV硬化樹脂103を挟んだ一体物をローラ106
a,106b間から取り出し、平滑板105側の上方か
らUV光107を照射してUV硬化樹脂103を硬化さ
せる(図3(e)参照)。
Next, an integrated body sandwiching the UV curable resin 103 between the smoothing plate 105 and the glass
The UV curable resin 103 is cured by irradiating it with UV light 107 from above the smoothing plate 105 side (see FIG. 3E).

【0017】次に、離型治具(図示省略)により平滑板
105からガラス基板101とUV硬化樹脂103の一
体物を剥離して、金属電極102間にUV硬化樹脂10
3を埋め込んだ配線基板108を得ていた(図3
(f),(g)参照)。そして、この配線基板108の
各金属電極102上に電気的に接するようにして、IT
O膜等の透明電極109などが形成される(図3(h)
参照)。
Next, the integrated body of the glass substrate 101 and the UV curable resin 103 is peeled off from the smooth plate 105 by a release jig (not shown), and the UV curable resin
3 has been obtained (FIG. 3).
(See (f) and (g)). Then, each of the metal electrodes 102 of the wiring board 108 is electrically connected to the
A transparent electrode 109 such as an O film is formed (FIG. 3H).
reference).

【0018】このような方法においても、ガラス基板1
01と平滑板105との間に樹脂103を挟む際に気泡
を巻き込むことがあるが、図3(d)に示す工程中でロ
ーラ106a,106bの回転により樹脂103が流動
し、これに伴い気泡を系外に排出することができる(図
示せず)。
In such a method, the glass substrate 1
When the resin 103 is sandwiched between the sheet 103 and the smoothing plate 105, the resin 103 flows due to the rotation of the rollers 106a and 106b in the process shown in FIG. Can be discharged out of the system (not shown).

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の配線基板の製造方法において、図1、2に示す
方法では平滑板1と基板4との間に滴下する樹脂5を、
また図3に示す方法ではガラス基板101上の金属電極
102間にディスペンサー104で滴下するUV硬化樹
脂103を、夫々再現性よく適切な量に制御することが
難しかった。
However, in the above-described conventional method of manufacturing a wiring board, the method shown in FIGS.
In the method shown in FIG. 3, it is difficult to control the amount of the UV curable resin 103 dropped by the dispenser 104 between the metal electrodes 102 on the glass substrate 101 to an appropriate amount with good reproducibility.

【0020】このように、滴下するUV硬化樹脂等の樹
脂の滴下量の制御が難しい背景には、樹脂の粘度が、配
線基板製造装置や雰囲気等の環境の温度変化に敏感に変
化してしまい、滴下条件(例えば、空気圧送タイプのデ
ィスペンサーでは、加圧力、加圧時間、ノズルの径等)
が一定であるにも関わらず、滴下量の再現性が得られな
いということがあった。
As described above, it is difficult to control the amount of dripping of the resin such as the UV curable resin to be dripped, because the viscosity of the resin changes sensitively to the temperature change of the wiring board manufacturing apparatus or the environment such as the atmosphere. , Dripping conditions (eg, pressure, pressurization time, nozzle diameter, etc. for a pneumatic feed type dispenser)
In some cases, reproducibility of the drop amount was not obtained despite the fact that was constant.

【0021】このような事情では、例えば図1,2に示
す方法では滴下する樹脂5の量が少ない場合には流動が
不足したり、また金属配線3の高さが高く、その側壁が
樹脂5の流動の障害になる場合には気泡21が一体物4
5の外へ押し出されず、図2(c)のように金属配線3
の間に取り残されてしまうという現象が起こる。
In such a situation, for example, in the method shown in FIGS. 1 and 2, when the amount of the resin 5 to be dropped is small, the flow is insufficient, or the height of the metal wiring 3 is high, and the side wall of the resin 5 In the case of obstruction of the flow of air, the air bubbles 21
5 is not pushed out of the metal wiring 3 as shown in FIG.
The phenomenon that is left behind occurs.

【0022】そして、以上のような気泡21が樹脂5に
巻き込まれたまま、図2(d)のように一体物45に対
してUV光を照射して樹脂5を硬化させ、この後(e)
のように平滑板1から樹脂5と一体となった金属配線基
板4を剥離しても、この金属配線基板4では気泡21が
残ったまま硬化した樹脂5の表面は大きく陥没してい
る。
Then, as shown in FIG. 2 (d), the resin material 5 is cured by irradiating the integrated object 45 with UV light while the air bubbles 21 as described above are entrapped in the resin 5, and thereafter (e). )
Even when the metal wiring board 4 integrated with the resin 5 is peeled off from the smooth plate 1 as described above, the surface of the hardened resin 5 with the air bubbles 21 remaining in this metal wiring board 4 is greatly depressed.

【0023】このため、後に透明電極15を形成した
際、この陥没部分で透明電極15が断線したり、液晶素
子にすべくセルを形成した際に、陥没部分のセル厚が他
の領域と比較して極端に大きくなり、結果的に液晶の配
向ムラ等の重大な欠陥の原因になっていた。
For this reason, when the transparent electrode 15 is formed later, the transparent electrode 15 is disconnected at this recessed portion, or when a cell is formed to form a liquid crystal element, the cell thickness of the recessed portion is compared with that of other regions. As a result, it becomes extremely large, and consequently causes serious defects such as uneven alignment of liquid crystal.

【0024】そこで、このような問題を回避すべく、樹
脂5の量を多くすると図1(d),図2(c)に示すプ
レス工程後、基板4と平滑板1からはみ出た樹脂がロー
ラ7に付着することがあり、これを除去する必要が生じ
て生産性を低下させることにつながる(図1,2は示さ
ず)。
In order to avoid such a problem, if the amount of the resin 5 is increased, after the pressing step shown in FIGS. 7 and need to be removed, leading to a decrease in productivity (FIGS. 1 and 2 are not shown).

【0025】一方、図3に示す製造方法の例では、滴下
したUV硬化樹脂103の量が少ないと、前述の図1,
2の例の場合と同様に樹脂中の気泡が系外に充分に排出
されず、また、図4に示すように平滑板105と金属電
極102を形成したガラス基板101間にUV硬化樹脂
103を挟んだ一体物を、上下のローラ106a,10
6b間で加圧した時に、全ての金属電極102間、特に
両端側にはUV硬化樹脂103がゆき渡らず、金属電極
102間を均一に埋め込んで平坦化することができなか
った。
On the other hand, in the example of the manufacturing method shown in FIG. 3, if the amount of the UV curable resin 103 dropped is small, the aforementioned FIG.
As in the case of Example 2, bubbles in the resin are not sufficiently discharged out of the system, and the UV curable resin 103 is placed between the smoothing plate 105 and the glass substrate 101 on which the metal electrodes 102 are formed as shown in FIG. The upper and lower rollers 106a, 10
When the pressure was applied between the electrodes 6b, the UV curable resin 103 did not spread between all the metal electrodes 102, especially on both ends, and the metal electrodes 102 could not be evenly embedded and flattened.

【0026】また、図5に示すように、滴下したUV硬
化樹脂103の量が多くなると、平滑板105と金属電
極102を形成したガラス基板101間にUV硬化樹脂
103を挟んだ一体物を、上下のローラ106a,10
6b間で加圧した時に、余分なUV硬化樹脂103aが
平滑板105とガラス基板101間からはみ出してロー
ラ106a,106bや製造装置の部材等に付着するこ
とにより、その都度付着したUV硬化樹脂103aを取
り除く必要があるため、生産性の低下を招く原因になっ
ていた。
As shown in FIG. 5, when the amount of the UV curable resin 103 dropped is increased, an integrated body having the UV curable resin 103 interposed between the smooth plate 105 and the glass substrate 101 on which the metal electrode 102 is formed is formed. Upper and lower rollers 106a, 10
6b, the excess UV curable resin 103a protrudes from between the flat plate 105 and the glass substrate 101 and adheres to the rollers 106a and 106b, members of the manufacturing apparatus, and the like. Must be removed, which has led to a decrease in productivity.

【0027】また、図6、図7に示すように、金属電極
102を形成したガラス基板101上に気泡110が混
入しているUV硬化樹脂103を滴下して、平滑板10
5と金属電極102を形成したガラス基板101間にU
V硬化樹脂103を挟んだ時に、UV硬化樹脂103に
混入している気泡110を、上下のローラ106a,1
06bによる加圧で完全に排出するには、UV硬化樹脂
103を最低限必要な量に対して多めの量に予め設定し
て滴下する必要があるが、ローラ106a,106bに
よる加圧時に、余分なUV硬化樹脂103aが外にはみ
出し、ローラ106a,106bや製造装置の部品等に
付着することにより、その都度付着したUV硬化樹脂1
03aを取り除く必要があった。
As shown in FIGS. 6 and 7, a UV curable resin 103 containing bubbles 110 is dropped on a glass substrate 101 on which a metal electrode 102 is formed.
5 and the glass substrate 101 on which the metal electrode 102 is formed.
When the V-cured resin 103 is sandwiched, the bubbles 110 mixed in the UV-cured resin 103 are separated from the upper and lower rollers 106a, 1
In order to completely discharge the UV-curable resin 103 by pressing with the pressure of 06b, it is necessary to previously set the UV-curable resin 103 to an amount larger than the minimum required amount and drop it. UV curable resin 103a protrudes outside and adheres to rollers 106a and 106b, parts of a manufacturing apparatus, etc.
03a had to be removed.

【0028】本発明の目的は、流動性を有する高分子材
料(樹脂)を平滑板と金属電極を形成した基板間に挟ん
で加圧した時に、高分子材料が外にはみ出すのを防止し
て、基板の高分子材料で平坦に埋めるべき領域を高分子
材料で均一に埋め込むことができるようにした配線基板
の製造方法、配線基板の製造装置及び液晶素子の製造方
法を提供することである。
An object of the present invention is to prevent a polymer material (a resin) having fluidity from protruding outside when pressed between a smooth plate and a substrate on which a metal electrode is formed and pressed. It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing a wiring board, a manufacturing apparatus of a wiring board, and a method of manufacturing a liquid crystal element, in which a region to be buried with a polymer material of a substrate can be uniformly embedded with a polymer material.

【0029】[0029]

【課題を解決するための手段】本発明は、表面が平滑な
平滑板と、表面に電極をパターンニングして形成した基
板間に流動性を有する高分子材料を介在させ、前記平滑
板と前記基板間に前記高分子材料を挟んだ一体物を加圧
し、前記高分子材料を延伸して前記平滑板の表面に前記
電極を形成した前記基板を密着させ、前記高分子材料を
硬化させた後に前記基板を前記平滑板から剥離すること
により、前記基板上の前記電極間に前記高分子材料を平
坦化して埋め込んだ配線基板を作製する配線基板の製造
方法において、前記平滑板の大きさを、前記基板の高分
子材料で平坦に埋めるべき領域より大きくし、且つ前記
基板より小さくすると共に、前記加圧の範囲を前記基板
の前記高分子材料で平坦に埋めるべき領域より大きく
し、且つ前記基板より小さくする、ことを特徴とするも
のである。
According to the present invention, there is provided a smooth plate having a smooth surface and a polymer material having fluidity interposed between substrates formed by patterning electrodes on the surface. After pressing the integrated body sandwiching the polymer material between the substrates, stretching the polymer material, bringing the substrate on which the electrodes are formed into close contact with the surface of the smooth plate, and curing the polymer material By peeling the substrate from the smooth plate, in the method of manufacturing a wiring board to produce a wiring board in which the polymer material is flattened and embedded between the electrodes on the substrate, the size of the smooth plate, The area of the substrate to be buried flat with the polymer material is made larger than the area to be buried flat with the polymer material, and the area of the pressure is made larger than the area of the substrate to be buried flat with the polymer material. Yo Smaller, it is characterized in.

【0030】また本発明は、表面が平滑な平滑板と、表
面に導電性の電極をパターンニングして形成した基板間
に流動性を有する高分子材料を介在させる高分子材料滴
下手段と、前記平滑板と前記基板間に前記高分子材料を
挟んだ一体物を加圧し、前記高分子材料を延伸して前記
平滑板の表面に前記電極を形成した前記基板を密着させ
る加圧手段と、前記高分子材料を硬化させる硬化手段と
を有し、前記基板を前記平滑板から剥離して、前記基板
上の前記電極間に前記高分子材料を平坦化して埋め込ん
だ配線基板を作製する配線基板の製造装置において、前
記平滑板の大きさを、前記基板の前記高分子材料で平坦
に埋めるべき領域より大きくし、且つ前記基板より小さ
くすると共に、前記加圧手段による加圧範囲を前記基板
の前記高分子材料で平坦に埋めるべき領域より大きく
し、且つ前記基板より小さくし、前記基板の前記高分子
材料で平坦に埋めるべき領域に対応して、前記平滑板を
位置決めする位置決め手段を備えた、ことを特徴とする
ものである。
The present invention also provides a smoothing plate having a smooth surface, a polymer material dropping means for interposing a polymer material having fluidity between substrates formed by patterning conductive electrodes on the surface, Pressing means for pressing an integrated body sandwiching the polymer material between a smooth plate and the substrate, stretching the polymer material and bringing the substrate on which the electrodes are formed into close contact with the surface of the smooth plate, A curing means for curing the polymer material, the substrate is peeled from the smooth plate, and the polymer material is flattened and embedded between the electrodes on the substrate to produce a wiring board for producing a wiring board. In the manufacturing apparatus, the size of the smooth plate is made larger than a region of the substrate to be buried flat with the polymer material, and smaller than the substrate, and the pressing range of the substrate is set by the pressing unit. Polymer material Positioning means for positioning the smoothing plate larger than the area to be buried flat, smaller than the substrate, and corresponding to the area of the substrate to be buried flat with the polymer material, Is what you do.

【0031】また本発明は、互いに対向するように配置
され電極群を形成した一対の配線基板間に液晶が挟持さ
れ、前記配線基板の少くとも一方が、透光性の基板上に
導電性の電極をパターンニングして形成され、前記電極
間に高分子材料を埋め込んで平坦化されている液晶素子
の製造方法において、前記配線基板を、表面が平滑な平
滑板と、表面に導電性の電極をパターンニングして形成
した基板間に流動性を有する高分子材料を介在させ、前
記平滑板と前記基板間に前記高分子材料を挟んだ一体物
を加圧し、前記高分子材料を延伸して前記平滑板の表面
に前記電極を形成した前記基板を密着させ、前記高分子
材料を硬化させた後に前記基板を前記平滑板から剥離す
ることによって形成し、前記平滑板の大きさを、前記基
板の前記高分子材料で平坦に埋めるべき領域より大きく
し、且つ前記基板より小さくすると共に、前記加圧の範
囲を前記基板の前記高分子材料で平坦に埋めるべき領域
より大きくし、且つ前記基板より小さくする、ことを特
徴とするものである。
Further, according to the present invention, a liquid crystal is sandwiched between a pair of wiring boards which are arranged so as to face each other to form an electrode group, and at least one of the wiring boards is provided on a light-transmitting substrate. In a method for manufacturing a liquid crystal element, which is formed by patterning electrodes and is planarized by embedding a polymer material between the electrodes, the wiring substrate is formed by a smooth plate having a smooth surface, and a conductive electrode formed on the surface. A polymer material having fluidity is interposed between the substrates formed by patterning, and an integral body sandwiching the polymer material between the smooth plate and the substrate is pressed, and the polymer material is stretched. The substrate on which the electrodes are formed is brought into close contact with the surface of the smooth plate, and after the polymer material is cured, the substrate is formed by peeling the substrate from the smooth plate. The above-mentioned polymer material Larger than the area to be buried flat and smaller than the substrate, the range of the pressure is larger than the area of the substrate to be buried flat with the polymer material, and smaller than the substrate. It is a feature.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を用いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0033】図8は、本発明の実施の形態に係る方法に
より得られる配線基板を用いた液晶素子の構造を示す断
面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing the structure of a liquid crystal element using a wiring board obtained by the method according to the embodiment of the present invention.

【0034】同図において、11は液晶素子であり、こ
の液晶素子11は、偏光板18,18の間に対向して配
置された一対の配線基板10,10を備えており、配線
基板10,10は球状のスペーサビーズ14により所定
の基板ギャップ(例えば、1.5μm)で挟持され、こ
の基板ギャップ間に、例えばカイラルスメクチック液
晶、ネマチック液晶等の液晶12が挟持されている。
In FIG. 1, reference numeral 11 denotes a liquid crystal element. The liquid crystal element 11 includes a pair of wiring boards 10 and 10 arranged between the polarizing plates 18 and 18 so as to face each other. Numeral 10 is sandwiched between spherical spacer beads 14 at a predetermined substrate gap (for example, 1.5 μm), and a liquid crystal 12 such as a chiral smectic liquid crystal or a nematic liquid crystal is sandwiched between the substrate gaps.

【0035】配線基板10は、ガラス基板2上にアルミ
ニウムからなる金属電極3がそれぞれ配線パターンさ
れ、金属電極3のライン間に充填した絶縁層であるUV
硬化樹脂等の樹脂5で平坦化されている。
The wiring substrate 10 is an insulating layer filled with a metal electrode 3 made of aluminum on a glass substrate 2 and filled between lines of the metal electrode 3.
It is flattened by a resin 5 such as a cured resin.

【0036】また、金属電極3と樹脂5の表面上には、
金属電極3と電気的に接するようにしてITO(Ind
ium Tin Oxide)からなる透明電極15が
形成され、更にその上に必要に応じて設けられる絶縁層
16を介して配向膜17が形成されており、透明電極1
5は金属電極3に合わせてストライプ状にそれぞれ形成
され、一対の配線基板10の夫々に形成されたものが互
いに90°の角度で交差して対向したマトリックス電極
が構成されている。ここで透明電極15は、素子内での
主電極を構成し、金属電極3は透明電極15の低抵抗を
補佐する補助電極として機能する。
On the surfaces of the metal electrode 3 and the resin 5,
In order to make electrical contact with the metal electrode 3, ITO (Ind
A transparent electrode 15 made of ium tin oxide is formed, and an orientation film 17 is further formed thereon via an insulating layer 16 provided as necessary.
Numerals 5 are formed in a stripe shape in conformity with the metal electrode 3, and a matrix electrode is formed in which a pair of wiring substrates 10 formed on each other cross each other at an angle of 90 ° and face each other. Here, the transparent electrode 15 constitutes a main electrode in the element, and the metal electrode 3 functions as an auxiliary electrode for assisting the low resistance of the transparent electrode 15.

【0037】次に、本発明の参考例に係る配線基板の製
造方法の基本的な形態を図9、10、11、19、20
に沿って説明する。
Next, a basic mode of a method of manufacturing a wiring board according to a reference example of the present invention will be described with reference to FIGS.
It is explained along.

【0038】まず、図19に示す、透明性材料、反射性
の材料からなる基板(ガラス基板)2上に金属材料から
なるストライプ状パターンの金属配線(電極)3を設け
た構造の金属配線基板4を図20に示す方法により作製
する。
First, as shown in FIG. 19, a metal wiring substrate having a structure in which a metal wiring (electrode) 3 of a stripe pattern made of a metal material is provided on a substrate (glass substrate) 2 made of a transparent material and a reflective material. 4 is manufactured by the method shown in FIG.

【0039】まず、基板2上の全面にスパッタリング法
により、金属材料層23を形成し(図20(a))、更
にこの金属材料層23上にフォトレジスト層24をスピ
ンコート法により形成する。続いて、配線パターンの形
状のライン部を有するフォトマスク25を介してフォト
レジスト層24を露光(図20(b))及び現像した
後、必要に応じてポストベークを施し、金属材料層23
上にエッチングパターン(レジストパターン)24’を
得る(図20(c))。
First, a metal material layer 23 is formed on the entire surface of the substrate 2 by sputtering (FIG. 20A), and a photoresist layer 24 is further formed on the metal material layer 23 by spin coating. Subsequently, after exposing (FIG. 20B) and developing the photoresist layer 24 through a photomask 25 having a line portion in the form of a wiring pattern, post-baking is performed as necessary, and the metal material layer 23 is formed.
An etching pattern (resist pattern) 24 'is obtained on the upper surface (FIG. 20C).

【0040】続いて、金属材料層23上にエッチングパ
ターン24’を有する基板2をエッチング液に浸漬する
等してエッチング処理を施し、レジストに被覆されてい
ない部分の金属材料層23をエッチング除去し、エッチ
ングパターン24’を剥離して金属配線3のパターンを
得る(図20(d))。
Subsequently, the substrate 2 having the etching pattern 24 'on the metal material layer 23 is subjected to an etching treatment by immersing the substrate 2 in an etching solution or the like, so that the metal material layer 23 not covered with the resist is removed by etching. Then, the etching pattern 24 'is peeled to obtain a pattern of the metal wiring 3 (FIG. 20D).

【0041】ここで、金属配線3の材料としては、抵抗
値が小さいアルミニウムの他、例えば、ニッケル、モリ
ブデン、クロム、タングステン、タンタル、銀、銅、導
電性樹脂、導電性セラミックスを用いることができる。
Here, as a material of the metal wiring 3, in addition to aluminum having a small resistance value, for example, nickel, molybdenum, chromium, tungsten, tantalum, silver, copper, conductive resin, and conductive ceramics can be used. .

【0042】又、金属電極3間に予めカラーフィルター
層(パターン)を、フォトリソグラフィ法、印刷法、昇
華型転写法、インクジェット法等周知の方法で所定の厚
みで形成することで、カラーフィルター機能を備えた金
属配線基板を得ることができる。
Further, by forming a color filter layer (pattern) between the metal electrodes 3 in advance with a predetermined thickness by a known method such as a photolithography method, a printing method, a sublimation transfer method, an ink jet method, etc. Can be obtained.

【0043】また、基板2上にカラーフィルター層(パ
ターン)を形成した後、このカラーフィルター層上に図
20(a)〜(d)の工程によって、金属配線3を形成
することもできる。この場合、基板2の表面にカラーフ
ィルターパターンを形成した後、当該パターンによる凹
凸を平坦化し保護機能を有する樹脂材料からなる保護層
を形成した後、図20(a)〜(d)の工程によって、
金属配線3を形成することが好ましい。かかる保護層に
より、金属配線3の形成時のエッチング工程(特に酸等
のエッチング液を使用する場合)において、下層のカラ
ーフィルターが変色することを防止することができる。
After a color filter layer (pattern) is formed on the substrate 2, the metal wiring 3 can be formed on the color filter layer by the steps shown in FIGS. In this case, after forming a color filter pattern on the surface of the substrate 2, flattening the unevenness due to the pattern and forming a protective layer made of a resin material having a protective function, the steps shown in FIGS. ,
It is preferable to form the metal wiring 3. With such a protective layer, it is possible to prevent the color filter of the lower layer from being discolored in the etching step (particularly when using an etching solution such as an acid) when forming the metal wiring 3.

【0044】続いて、上述のように得られた金属配線基
板を用い、図9、10、11に示す工程により配線基板
を作製する。
Subsequently, using the metal wiring board obtained as described above, a wiring board is manufactured through the steps shown in FIGS.

【0045】平滑板1の一辺(後工程で対向する金属配
線基板の電極のストライプ方向と垂直になる一辺)に沿
った端部に、ディスペンサ6によりUV硬化性の樹脂5
を供給する(図9(a),(b))。
The end of the smoothing plate 1 along one side (one side perpendicular to the stripe direction of the electrodes of the metal wiring board opposed in a later step) is coated with a UV-curable resin 5 by a dispenser 6.
(FIGS. 9A and 9B).

【0046】続いて、平滑板1の樹脂5が供給された側
の面と、1μm程度の膜厚からなるストライプ状の金属
配線3が複数形成された金属配線基板4の配線面4aと
を、樹脂5が金属配線3のストライプ方向に対して垂直
となるように対向させ該平滑板1と金属配線基板4とを
樹脂5を挟むように接触させる(図9(c))。
Subsequently, the surface of the smoothing plate 1 on the side to which the resin 5 is supplied and the wiring surface 4a of the metal wiring board 4 on which a plurality of stripe-shaped metal wirings 3 having a thickness of about 1 μm are formed. The resin 5 is opposed to the metal wiring 3 so as to be perpendicular to the stripe direction, and the smooth plate 1 and the metal wiring board 4 are brought into contact with the resin 5 therebetween (FIG. 9C).

【0047】次に、平滑板1と金属配線基板4によって
樹脂5を挟んだ一体物45を、好ましくは加熱し、樹脂
5を流動させた状態で、例えば回転する一対のローラ間
に通し、加圧部位を樹脂5が平滑板1、金属配線基板4
間の樹脂5が供給された端部から金属配線3のストライ
プに沿って(矢印Pの方向)、平滑板1の樹脂5が供給
された側の辺の対辺側に向かって移動させ、一体物45
をプレスする。こうして、樹脂5を金属配線3のストラ
イプ方向に沿って押し広げ(図9(d)、(e))、プ
レス圧力の設定により金属配線3上の樹脂5を排除し、
金属配線3のライン間に充填させながら平滑板1と金属
配線基板4を密着させる(図9(f))。
Next, the integrated body 45 sandwiching the resin 5 between the smoothing plate 1 and the metal wiring board 4 is preferably heated and passed through, for example, a pair of rotating rollers in a state where the resin 5 is caused to flow. The pressure portion is made of a resin 5 made of a smooth plate 1, a metal wiring board 4
The smooth plate 1 is moved from the end where the resin 5 is supplied along the stripe of the metal wiring 3 (in the direction of the arrow P) to the opposite side of the side where the resin 5 is supplied to the smooth plate 1 to form an integrated object. 45
Press Thus, the resin 5 is pushed and spread along the stripe direction of the metal wiring 3 (FIGS. 9D and 9E), and the resin 5 on the metal wiring 3 is eliminated by setting the pressing pressure.
The smoothing plate 1 and the metal wiring board 4 are brought into close contact with each other while filling the space between the metal wirings 3 (FIG. 9F).

【0048】かかるプレスの工程について、図10
(a)〜(c)に詳細に示す。同図(a)は、プレス操
作時の平面構造を示す図であり、(b)は、(a)のA
側から見た側面の構造を示す図、(c)は(a)のB側
から見た図である。
FIG. 10 shows the pressing process.
Details are shown in (a) to (c). FIG. 2A is a diagram showing a planar structure at the time of a pressing operation, and FIG.
FIG. 3C is a diagram showing the structure of the side surface viewed from the side, and FIG. 4C is a diagram viewed from the side B in FIG.

【0049】プレス工程は、一対のロール7間に一体物
45を通すことにより行われ、これにより一体物45が
ロール7に対して相対的に移動し、これに伴い加圧部位
が金属配線3に沿ってP方向に移動する。このとき、加
圧部位の移動方向Pは、配線3に対して完全に平行であ
る必要はない。例えば、図11(a)〜(c)に示すよ
うに、金属配線自体が基板2の両端部で中央部に比して
角度を持って屈曲するような場合でも、加圧により樹脂
5が外部に排除するように操作すればよい。
The pressing step is carried out by passing the integral member 45 between the pair of rolls 7, whereby the integral member 45 moves relatively to the rolls 7, and accordingly, the pressurized portion is moved to the metal wiring 3. Move in the P direction. At this time, the moving direction P of the pressurized portion does not need to be completely parallel to the wiring 3. For example, as shown in FIGS. 11A to 11C, even when the metal wiring itself is bent at an angle at both ends of the substrate 2 at an angle compared to the center, the resin 5 is externally pressed by the pressure. What is necessary is just to operate to eliminate.

【0050】このようにプレスの工程に続いて、図1
(e)〜(f)に示す工程と同様に、例えば金属配線基
板4側からUV光を照射し(金属配線基板4の基板2が
透光性基板の場合)、押し広げた樹脂5を硬化させた
後、平滑板1から樹脂5が金属配線間に充填され、一体
となった金属配線基板4を剥離する。更に、必要に応じ
て金属配線3のライン間が樹脂5によって平坦に埋めら
れた金属配線基板4に、各金属電極3に対応してITO
等からなる透明電極15を設け、配線基板10を得る。
As described above, following the pressing step, FIG.
Similarly to the steps shown in (e) to (f), for example, UV light is irradiated from the side of the metal wiring substrate 4 (when the substrate 2 of the metal wiring substrate 4 is a translucent substrate), and the spread resin 5 is cured. After that, the resin 5 is filled between the metal wirings from the flat plate 1 and the integrated metal wiring board 4 is peeled off. Further, if necessary, a metal wiring board 4 in which the space between the metal wirings 3 is flatly filled with a resin 5 is provided on the metal wiring board 4 in correspondence with each metal electrode 3.
The transparent substrate 15 made of the above is provided to obtain the wiring board 10.

【0051】尚、上記の形態では、樹脂材としてUV硬
化樹脂を用いたが、これ以外にUV光照射以外の処理で
硬化し得る材料、例えば赤外線硬化性樹脂材や熱硬化性
樹脂を用いることもできる。この場合、図1(e)に示
す工程の処理を適宜変更すればよい。
In the above embodiment, a UV-curable resin is used as the resin material. However, a material that can be cured by a process other than irradiation with UV light, such as an infrared-curable resin material or a thermosetting resin, may be used. Can also. In this case, the processing in the step shown in FIG.

【0052】以下、上記の形態で用いるプレスの装置に
ついて説明する。
The press apparatus used in the above embodiment will be described below.

【0053】図12に示す加圧ローラ201a、201
bは、図10、11に示す一対のローラ7に相当するも
ので、そのサイズは、基板の大きさ樹脂等により設定さ
れる。
Pressure rollers 201a, 201 shown in FIG.
b corresponds to the pair of rollers 7 shown in FIGS. 10 and 11, and the size thereof is set by the size resin of the substrate or the like.

【0054】次に、ローラ201a、201bにかける
荷重は、2つのエアーシリンダー204a、204bで
ローラ軸の両端を押す構造にして、かつ、ローラ201
a、201bの軸受に調芯ころ軸受け205a、205
b、205c、205dを使用し、平滑板1と金属配線
基板4の一体物45と、それらを収めたロールプレスヤ
トイ207にかける加圧力を均等化する。
Next, the load applied to the rollers 201a and 201b is such that two air cylinders 204a and 204b are used to push both ends of the roller shaft.
a, 201b bearings on the centering roller bearings 205a, 205b
By using b, 205c and 205d, the pressing force applied to the integrated body 45 of the smoothing plate 1 and the metal wiring board 4 and the roll press toy 207 containing them is equalized.

【0055】次に、図12のA矢視図である図13に示
すように、上下のローラ201a、201bは、上下を
等しい速さで回転させるために、駆動軸はサーボモータ
軸206’の1つにし、その駆動力は、スプロケットを
2枚持った分割軸210を介して、一方はチェーン21
1により下側ローラ軸201b’ヘ、もう一方はチェー
ン212により回転軸214へと振り分ける。このと
き、チェーン212の弛みを調節できるように、テンシ
ョンアジャスター213を設ける。
Next, as shown in FIG. 13 which is a view taken in the direction of the arrow A in FIG. 12, the upper and lower rollers 201a and 201b are driven by a servo motor shaft 206 'in order to rotate the upper and lower rollers at the same speed. One of them is driven by a split shaft 210 having two sprockets.
1 to the lower roller shaft 201b 'and the other to the rotating shaft 214 by the chain 212. At this time, a tension adjuster 213 is provided so that the slack of the chain 212 can be adjusted.

【0056】一方、回転軸214に伝わった駆動力は、
チェーン215を介して回転軸216へ伝え、このとき
もチェーン215の弛みを調節できるように、テンショ
ンアジャスター217を設ける。ここで、回転軸216
まで伝わった駆動力は、同軸の歯車219から歯車22
0を通して回転軸201a’ヘ伝えられるようにする。
On the other hand, the driving force transmitted to the rotating shaft 214 is
A tension adjuster 217 is provided so that the rotation is transmitted to the rotation shaft 216 via the chain 215 and the slack of the chain 215 can be adjusted at this time. Here, the rotation shaft 216
The transmission of the driving force from the coaxial gear 219 to the gear 22
0 to the rotating shaft 201a '.

【0057】また、上側ローラ201aは、下側ローラ
201bと等速で回転し、かつ、上下動をも可能にしな
ければならない。そのため、回転軸214、216及び
テンションアジャスター217の回転軸は、スイングア
ーム218により一体化され、そのスイングアーム21
8は回転軸214と同軸にスイングできるようにする。
The upper roller 201a must rotate at the same speed as the lower roller 201b, and must be able to move up and down. Therefore, the rotating shafts of the rotating shafts 214 and 216 and the tension adjuster 217 are integrated by the swing arm 218, and the swing arm 21
Numeral 8 allows the robot to swing coaxially with the rotation shaft 214.

【0058】さらに、回転軸216と201a’は、リ
ニアガイドレールにより上下にのみ移動可能な連結部品
221により連結され、上側ローラ201aの回転と上
下動を両立させる。ただし、回転軸216は、スイング
アーム218が動く際に、横方向にもわずかながら動く
ので、その位置ずれを回避するために、連結部品221
は回転軸216を長穴で支持する。
Further, the rotating shafts 216 and 201a 'are connected by a connecting member 221 which can be moved only up and down by a linear guide rail, so that the rotation of the upper roller 201a and the vertical movement are compatible. However, when the swing arm 218 moves, the rotation shaft 216 also moves slightly in the horizontal direction.
Supports the rotating shaft 216 with a long hole.

【0059】次に、上述した液晶素子11の製造方法
を、図21(a)〜(e)を参照して説明する。
Next, a method of manufacturing the above-described liquid crystal element 11 will be described with reference to FIGS.

【0060】基板2上にアルミニウム等からなる金属配
線(電極)3を形成して、この金属配線3のライン間に
樹脂5を埋め込んで平坦化するまでの工程は、上述した
図9、10、11で示した配線基板の製造方法と同様で
あり、ここでは省略する。
The steps from forming a metal wiring (electrode) 3 made of aluminum or the like on the substrate 2 to embedding the resin 5 between the lines of the metal wiring 3 and flattening the same are described in FIGS. This is the same as the method of manufacturing the wiring board shown by 11, and the description is omitted here.

【0061】次に、金属配線3と樹脂5上に透明電極を
構成するITO(Indium Tin Oxide)
層30を、スパッタリング法により例えば700Å程度
の厚みで形成する(図21(a)参照)。
Next, ITO (Indium Tin Oxide) forming a transparent electrode on the metal wiring 3 and the resin 5
The layer 30 is formed with a thickness of, for example, about 700 ° by a sputtering method (see FIG. 21A).

【0062】次に、このITO(Indium Tin
Oxide)層30上にフォトレジスト31をスピン
コート法により2μm程度の厚みで塗布し、配線パター
ンが描かれているフォトマスク32を通して露光した
後、フォトレジスト31を現像、ポストベークしてエッ
チングパターンを形成する(図21(b)、(c)参
照)。
Next, this ITO (Indium Tin)
A photoresist 31 is coated on the Oxide) layer 30 by a spin coating method to a thickness of about 2 μm, and after exposing through a photomask 32 on which a wiring pattern is drawn, the photoresist 31 is developed and post-baked to form an etching pattern. It is formed (see FIGS. 21B and 21C).

【0063】次に、フォトレジスト31が形成された基
板2をエッチング液、例えばヨウ化水素酸等に浸し、フ
ォトレジスト31で覆われていない部分のITO層30
をエッチングし、その後フォトレジスト31を剥離して
金属配線3に対して透明電極15を配線パターンニング
する(図21(d)参照)。
Next, the substrate 2 on which the photoresist 31 is formed is immersed in an etching solution, for example, hydroiodic acid, and the portion of the ITO layer 30 not covered with the photoresist 31 is immersed.
Then, the photoresist 31 is peeled off, and the transparent electrode 15 is subjected to wiring patterning with respect to the metal wiring 3 (see FIG. 21D).

【0064】次に、透明電極15上に必要に応じてTa
Ox等の絶縁層16を形成した後、例えばポリアミド酸
(例えば、日立化成(株)社製;商品名:LQ180
0)をNMP/nBC=1/1液で1.5wt%に希釈
した溶液をスピンコートで2000rpm、20sec
の条件で塗布し、その後270℃で約1時間加熱焼成処
理を施して、厚さ200Å程度の配向膜17を形成する
(図21(e)参照)。そして、この配向膜17に対し
てラビング処理を施す。
Next, if necessary, Ta is formed on the transparent electrode 15.
After forming the insulating layer 16 of Ox or the like, for example, polyamic acid (for example, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd .; trade name: LQ180)
0) was diluted with NMP / nBC = 1/1 solution to 1.5 wt% and spin-coated at 2000 rpm for 20 sec.
Then, a heating and baking treatment is performed at 270 ° C. for about 1 hour to form an alignment film 17 having a thickness of about 200 ° (see FIG. 21E). Then, a rubbing process is performed on the alignment film 17.

【0065】次に、一対の基板2のうち一方の基板表面
に球状のスペーサビーズ14(図8参照)を配置すると
共に、他方の基板の表面周縁にエポキシ樹脂等のシール
材13(図8参照)をフレキソ印刷法により塗布し、一
対の配向膜17のラビング方向が、例えば平行、あるい
は数度のクロス角をもち、かつ同方向になるようにして
一対の基板2を所定のセルギャップで貼り合わせ、この
基板ギャップ間に液晶12を注入することにより、図8
に示した液晶素子11を得た。
Next, spherical spacer beads 14 (see FIG. 8) are arranged on the surface of one of the pair of substrates 2 and a sealing material 13 such as epoxy resin (see FIG. 8) is provided around the surface of the other substrate. ) Is applied by a flexographic printing method, and the pair of substrates 2 is bonded at a predetermined cell gap such that the rubbing directions of the pair of alignment films 17 are, for example, parallel or have a cross angle of several degrees and are in the same direction. By injecting the liquid crystal 12 between the substrate gaps as shown in FIG.
Was obtained.

【0066】ところで、前述の形態では、図9(d)又
は(e)に示すプレス工程において、前述したように金
属配線3の表面が平滑板1の表面に密着するためには、
挟まれている樹脂5の粘度が相応に低くなければならな
いため、場合によっては所定の温度まで金属配線基板4
や平滑板1を含めて樹脂5を加熱することがある。
By the way, in the above-described embodiment, in the pressing step shown in FIG. 9D or FIG. 9E, as described above, in order for the surface of the metal wiring 3 to be in close contact with the surface of the smooth plate 1,
Since the viscosity of the sandwiched resin 5 must be appropriately low, the metal wiring board 4 may reach a predetermined temperature in some cases.
In some cases, the resin 5 including the flat plate 1 and the smooth plate 1 is heated.

【0067】このように加熱する場合、例えばまず図9
(a)、(b)に示すように平滑板1の表面にディスペ
ンサー6で樹脂5を所定量滴下(同図においては8点滴
下)した後、(c)のように金属配線基板4の配線面4
a側を樹脂5を挟むように接触させた状態で加熱する。
なお、このとき一体物45の間には、(c)のように気
泡21が巻き込まれている。
In the case of heating as described above, for example, first, FIG.
As shown in FIGS. 3A and 3B, a predetermined amount of resin 5 is dropped on the surface of the smoothing plate 1 with a dispenser 6 (8 points in FIG. 4), and then the wiring of the metal wiring board 4 is dropped as shown in FIG. Face 4
The heating is performed in a state where the a side is in contact with the resin 5 therebetween.
At this time, the air bubbles 21 are trapped between the integrated objects 45 as shown in FIG.

【0068】ここで、このように加熱すると、その条件
によっては加熱によって温められた樹脂5は粘度が過度
に低くなるため、加圧に先行して図14(a)〜(c)
のように、金属配線3のストライプに沿って急速に広が
ると同時に厚さも薄くなって行くが、その時の樹脂5の
厚さは、金属配線基板4のたわみや傾きにより変化す
る。なお、図14(b)、(c)は、右側周辺が最も薄
くなっていく場合を示しており、この場合右側に行く
程、樹脂5の広がり速度は急速に低下する。また、自重
では樹脂5は広がらなくなってくるので、その後は樹脂
5の表面張力による毛細管現象で広がっていく。
When the resin 5 is heated in this way, the viscosity of the resin 5 heated by the heating becomes excessively low depending on the conditions.
As shown in the figure, the thickness of the resin 5 spreads rapidly along the stripe of the metal wiring 3 and becomes thinner at the same time. However, the thickness of the resin 5 at that time changes due to the deflection and inclination of the metal wiring board 4. FIGS. 14B and 14C show the case where the area around the right side becomes thinnest. In this case, the spreading speed of the resin 5 decreases rapidly toward the right side. In addition, since the resin 5 does not spread under its own weight, the resin 5 spreads thereafter by a capillary phenomenon due to the surface tension of the resin 5.

【0069】このため、加圧前における金属配線3の表
面と金属配線基板4の表面との、平滑板1の表面に対す
る隙間の大きさの差が樹脂5全体の厚さが薄くなるにつ
れて大きくなり、当初は例えば図14(a)の所定部分
S1の拡大図である図15の(a)のように樹脂5の広
がりが均一に進んでいたものが、次第に図15の(b)
のように、配線3上の樹脂5aの方が先行するようにな
り、その後、先行した樹脂5aが不規則に繋がってしま
う現象が起き、やがて図14の(b)の所定部分S2の
拡大図である図15の(c)のように気泡21’が形成
される。
For this reason, the difference in the size of the gap between the surface of the metal wiring 3 and the surface of the metal wiring board 4 before pressing with respect to the surface of the smoothing plate 1 increases as the thickness of the entire resin 5 decreases. Initially, for example, as shown in FIG. 15A, which is an enlarged view of the predetermined portion S1 in FIG. 14A, the resin 5 spreads uniformly, but gradually the resin 5 gradually spreads as shown in FIG.
As shown in FIG. 14, the resin 5a on the wiring 3 precedes, and thereafter, the preceding resin 5a is irregularly connected, and eventually an enlarged view of the predetermined portion S2 in FIG. A bubble 21 'is formed as shown in FIG.

【0070】このように形成された気泡21’は、特に
プレス工程における樹脂5の流動に対しても流動しにく
いことがあり、図9(a)〜(c)の工程で樹脂中に生
じた気泡とともに、プレス工程後も金属配線3のライン
間に取り残されることがある。
The bubbles 21 ′ thus formed may not easily flow even in the case of the resin 5 in the pressing step, and the bubbles 21 ′ are formed in the resin in the steps shown in FIGS. 9A to 9 C. Along with the air bubbles, they may be left between the lines of the metal wiring 3 even after the pressing step.

【0071】上述するような問題は、図9や図14のよ
うな樹脂5を基板の端部に滴下した場合にのみならず、
金属配線基板4のいずれの領域に滴下した場合でも共通
に生じ得る。次に、上述の問題に特に鑑みてなされた参
考例となる実施の形態1について図16を参照して説明
する。
The above-described problem occurs not only when the resin 5 is dropped on the edge of the substrate as shown in FIGS.
Even if it is dropped on any area of the metal wiring board 4, it may occur in common. Next, a first embodiment, which is a reference example made especially in view of the above-described problem, will be described with reference to FIG.

【0072】まず、図16(a)のように、予め図20
に示す工程で基板2の表面に1μm程度の膜厚からなる
ストライプ状の金属配線3を形成した構成(平面では図
9(c)に示すようなパターン形状を有する)の金属配
線基板4の配線面4aの例えば一端(金属配線3と垂直
な辺に沿った端部)に、高分子材料である樹脂5をディ
スペンサー6等の定量滴下治具を用いて所定量滴下す
る。
First, as shown in FIG.
The wiring of the metal wiring board 4 having a configuration in which the stripe-shaped metal wiring 3 having a thickness of about 1 μm is formed on the surface of the substrate 2 in the process shown in FIG. For example, a predetermined amount of a resin 5 as a polymer material is dropped on one end (an end along a side perpendicular to the metal wiring 3) of the surface 4a using a dispenser 6 or the like.

【0073】ここで、この高分子材料を供給する工程に
おいて、樹脂5の滴下量は、金属配線3間を埋め込むの
に最低限必要な量の約10〜50倍とすることが好まし
い。なお、このような滴下量とすることにより、後述す
るように金属配線基板4と平滑板1との隙間をできるだ
け厚くして予備プレス工程での樹脂の流動を多く得られ
るようにすると共に、埋めるべき金属配線間の領域より
も広い領域を樹脂5で覆えるようにする。
Here, in the step of supplying the polymer material, it is preferable that the amount of the resin 5 to be dropped is about 10 to 50 times the minimum amount required for embedding between the metal wirings 3. In addition, by setting such a dropping amount, as described later, the gap between the metal wiring board 4 and the smooth plate 1 is made as thick as possible so that a large amount of resin flows in the pre-pressing step and is filled. A region wider than a region between metal wirings to be covered can be covered with the resin 5.

【0074】次に、(b)、(c)のように、この金属
配線基板4に、表面が平滑な平滑板1を樹脂5を挟むよ
うに接触させて金属配線基板4と平滑板1とを貼り合わ
せる。このとき、平滑板1を急速に接触させると、気泡
21が巻き込まれる可能性が大きくなるので、できるだ
けゆっくりと接触させるようにするのが望ましい。
Next, as shown in (b) and (c), the smooth plate 1 having a smooth surface is brought into contact with the metal wiring substrate 4 with the resin 5 interposed therebetween, so that the metal wiring substrate 4 and the smooth plate 1 are brought into contact with each other. Paste. At this time, if the smooth plate 1 is brought into rapid contact, the possibility that the air bubbles 21 are caught increases, so it is desirable that the contact be made as slowly as possible.

【0075】好ましくは、(c)に示す金属配線基板4
の金属配線3を有する基板面と平滑板1との間隔である
H1を金属配線厚さの50〜200倍とする。
Preferably, the metal wiring board 4 shown in FIG.
The distance H1 between the substrate surface having the metal wiring 3 and the smooth plate 1 is set to be 50 to 200 times the thickness of the metal wiring.

【0076】そして、このように金属配線基板4と平滑
板1とを貼り合わせる工程が終了した後、(d)のよう
に、平滑板1と金属配線基板4によって樹脂5を挟んだ
一体物45を回転する一対の対向配置された予備加圧手
段である第一のプレス用ローラ8間に矢印a方向に入れ
好ましくは樹脂5を加熱しない状態で、その一体物45
をプレスする。
Then, after the step of bonding the metal wiring board 4 and the smoothing board 1 to each other is completed, as shown in FIG. Is inserted in the direction of arrow a between a pair of first pressing rollers 8 which are pre-pressurizing means disposed opposite to each other, and preferably, the resin 5 is not heated, and the integrated member 45 is rotated.
Press

【0077】ただし、このプレスは平滑板1を金属配線
3の表面に押し付けるためではなく、樹脂5を金属配線
基板4と平滑板1との間の隙間41を所定の幅H2に保
ちながら、かつ金属配線3の間を樹脂5で埋めるべき領
域R1より広範囲に広げるためのものであり、この第一
のプレス工程を予備プレス工程(予備加圧工程)と呼
ぶ。なお、好ましくは、H2を金属配線厚さの4〜10
倍とする。
However, this press is not for pressing the smooth plate 1 against the surface of the metal wiring 3, but for keeping the gap 41 between the metal wiring substrate 4 and the smooth plate 1 at a predetermined width H2 while maintaining the resin 5 at a predetermined width H2. This is for widening the space between the metal wirings 3 more than the region R1 to be filled with the resin 5, and this first pressing step is referred to as a preliminary pressing step (preliminary pressing step). Preferably, H2 is 4 to 10 times the thickness of the metal wiring.
Double it.

【0078】ここで、この予備プレス工程を用いること
により、たとえ前に行われた(c)の貼り合わせ工程に
おいて、樹脂5の中に気泡21が巻き込まれても、その
ときの基板1,4間の隙間41の幅H1が、予備プレス
によってH2まで縮まる過程で起きる樹脂5の流動によ
り、矢印aに示す一体物45の移動方向とは反対方向の
矢印の向きに気泡21を移動させることができる。
Here, by using this pre-pressing step, even if air bubbles 21 are caught in the resin 5 in the bonding step (c) performed earlier, the substrates 1, 4 Due to the flow of the resin 5 that occurs during the process of reducing the width H1 of the gap 41 between the gaps to H2 by the preliminary press, the bubbles 21 can be moved in the direction of the arrow opposite to the direction of movement of the integrated object 45 shown by the arrow a. it can.

【0079】これにより、気泡21は平滑板1と金属配
線基板4の搬送後端から余分な樹脂5とともに排出され
るか、または排出されなくとも、少なくとも金属配線3
の間を樹脂5で埋めるべき領域R1より外側に移動させ
ることができる。そして、このように気泡21を少なく
とも金属配線3の間を樹脂5で埋めるべき領域R1より
も外側に移動させることにより、気泡21の影響を防ぐ
ことができる。
As a result, the bubbles 21 are discharged together with the extra resin 5 from the rear end of the transport of the smooth plate 1 and the metal wiring board 4, or at least the metal wiring 3 is not discharged.
Can be moved outside the region R1 to be filled with the resin 5. By moving the bubbles 21 at least between the metal wirings 3 and outside the region R1 to be filled with the resin 5, the influence of the bubbles 21 can be prevented.

【0080】なお、仮に後のプレス工程で樹脂5の粘度
を下げる必要性が発生し、高温環境下で行うことになっ
ても、すでに金属配線3間を埋めるべき領域R1はすで
に樹脂5で覆われているため、毛細管現象による気泡は
発生しない。
Incidentally, even if it is necessary to lower the viscosity of the resin 5 in the subsequent pressing step, and if it is to be performed in a high temperature environment, the region R1 to be filled between the metal wirings 3 is already covered with the resin 5. As a result, no bubbles are generated due to the capillary phenomenon.

【0081】ここで、予備プレスの条件は、樹脂5の粘
度や予備プレス用ローラー8の能力により様々な組み合
わせが考えられるが、加圧力は滴下した樹脂5を広げる
のに必要な最小限の加圧力に留め、その後の本プレス工
程における樹脂5の流路を確保するよう、できるだけ隙
間41の幅H2を大きくしておくことが望ましい。
Various conditions can be considered for the pre-pressing conditions depending on the viscosity of the resin 5 and the capacity of the pre-press roller 8, but the pressing force is the minimum pressing force necessary to spread the dropped resin 5. It is desirable to keep the width H2 of the gap 41 as large as possible so as to maintain the pressure and secure the flow path of the resin 5 in the subsequent main pressing step.

【0082】また、予備プレス工程に使用する予備プレ
ス用ローラー8は、基本的に後述する本プレス工程の本
プレス用ローラー7と同じものを種々の条件を変更して
使用するようにすればよいが、必要な圧力、温度、回転
速度等が、あらかじめ解っているのであれば、専用のも
のを用意した方が装置を安価に用意できる場合もある。
As the pre-press roller 8 used in the pre-press step, basically the same roller as the main press roller 7 in the main press step described later may be used with various conditions changed. However, if the necessary pressure, temperature, rotation speed and the like are known in advance, it may be possible to prepare the device at a lower cost by preparing a dedicated device.

【0083】次に、この予備プレス工程が終了した後、
(e)のように予備プレスされた一体物45’を、回転
する一対のプレス用ローラー7間に矢印b方向に入れ、
その一体物45’を片側からプレスして密着させる。こ
の第二のプレス工程(本加圧工程)で、樹脂5を金属配
線3の表面上から排除し、金属配線基板4と平滑板1を
強く、しかも金属配線基板4全面に均一に密着させる。
Next, after this pre-pressing step is completed,
The integrated material 45 ′ pre-pressed as shown in (e) is inserted between the pair of rotating pressing rollers 7 in the direction of arrow b,
The one piece 45 'is pressed from one side and brought into close contact. In the second pressing step (main pressing step), the resin 5 is removed from the surface of the metal wiring 3, and the metal wiring board 4 and the smooth plate 1 are strongly and uniformly adhered to the entire surface of the metal wiring board 4.

【0084】このとき、樹脂5の粘度が比較的高く、金
属配線3の表面上の樹脂5の排除が困難な場合は、この
工程をあらかじめ高温に維持した樹脂5を加熱した環境
下で行い、樹脂5の粘度を下げることで、排除を容易に
する方法を採ることもできる。
At this time, if the viscosity of the resin 5 is relatively high and it is difficult to remove the resin 5 on the surface of the metal wiring 3, this step is performed in an environment where the resin 5 is maintained at a high temperature in advance and heated. A method of reducing the viscosity of the resin 5 to facilitate the exclusion can be adopted.

【0085】かかる予備プレス及び本プレスの工程は、
前述の図10、11、16(d)に示すような金属配線
3と加圧方向の関係により行うことが好ましく、又図1
2、13に示す構造の装置を用いる。
The steps of the preliminary press and the main press are as follows.
It is preferable that the pressing be performed in the relationship between the metal wiring 3 and the pressing direction as shown in FIGS. 10, 11, and 16 (d).
An apparatus having the structure shown in FIGS.

【0086】この後、既述した従来技術と同様に、金属
配線基板4の側から樹脂硬化光であるUV光を照射し
て、樹脂5を硬化させる(図1(e)参照)。次に、こ
の樹脂硬化工程が終了した後、図示しない離型治具によ
り、平滑板1を金属配線基板4と樹脂5の一体物から剥
離する(図1(f)参照)。
After that, similarly to the above-described conventional technique, the resin 5 is cured by irradiating UV light as resin curing light from the side of the metal wiring board 4 (see FIG. 1E). Next, after the resin curing step is completed, the smooth plate 1 is peeled off from the integrated body of the metal wiring board 4 and the resin 5 by a release jig (not shown) (see FIG. 1F).

【0087】そして、この剥離工程が終了した後、最後
にこのように金属配線3の相互間が樹脂5によって平坦
に埋められた、即ち平坦化層が形成された金属配線基板
4に必要に応じてITO膜等の透明電極15を形成して
配線基板10を形成する(図1(g)参照)。
After the peeling step is completed, finally, the metal wiring 3 is filled with the resin 5 so as to be flat, that is, the metal wiring substrate 4 on which the flattening layer is formed. Then, a transparent electrode 15 such as an ITO film is formed to form the wiring substrate 10 (see FIG. 1G).

【0088】なお、このような透明電極形成工程まで行
って配線基板10を形成した後は、図21で示したよう
な工程を経て液晶素子を製造する。即ち、配線基板10
の透明基板15上に必要に応じて絶縁層16及び配向膜
17を成膜し、この後配向膜17に対するラビングを行
う。次に、この配線基板10と同様に形成した他の配線
基板10とを図8に示すようにスペーサ14を介して対
向させ、最後にシール材13にて両基板10の間に液晶
12を封入する隙間を形成するように接着する。そし
て、最後に、この隙間に液晶12を封入して液晶素子1
1の製造が終了する。
After forming the wiring substrate 10 by performing the steps up to the transparent electrode forming step, a liquid crystal element is manufactured through the steps shown in FIG. That is, the wiring board 10
An insulating layer 16 and an alignment film 17 are formed on the transparent substrate 15 as necessary, and then rubbing is performed on the alignment film 17. Next, as shown in FIG. 8, the wiring substrate 10 is opposed to another wiring substrate 10 formed in the same manner via a spacer 14, and finally, a liquid crystal 12 is sealed between both substrates 10 with a sealing material 13. To form a gap. Finally, the liquid crystal 12 is sealed in this gap, and the liquid crystal element 1
1 is completed.

【0089】次に、参考例となる実施の形態1の1実施
例を説明する。
Next, an example of the first embodiment as a reference example will be described.

【0090】本実施例においては、図20に示す工程に
沿って寸法が300×350×1.1(mm)の両面研
磨された青板ガラス2の表面に、アルミニウムをスパッ
タリングにより厚さ2μmに成膜してから、フォトリソ
エッチング法によりピッチ320μm、配線幅20μm
のストライプ形状のアルミニウム配線パターンである金
属電極3を有する金属配線基板4を作成した。さらに、
その表面に、シランカップリング剤としてA−174
(日本ユニカー(株)製)1重量部、エチルアルコール
40重量部からなるカップリング処理剤をスピンコート
し、100℃で20分熱処理して密着処理を施した。
In the present embodiment, aluminum is sputtered to a thickness of 2 μm on the surface of a soda-lime glass 2 having a size of 300 × 350 × 1.1 (mm) and polished on both sides in accordance with the process shown in FIG. After forming the film, the pitch is 320 μm and the wiring width is 20 μm by photolithography.
A metal wiring board 4 having a metal electrode 3 which is a stripe-shaped aluminum wiring pattern was prepared. further,
A-174 is used as a silane coupling agent on the surface.
A coupling treatment agent consisting of 1 part by weight (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) and 40 parts by weight of ethyl alcohol was spin-coated, and subjected to a heat treatment at 100 ° C. for 20 minutes to perform an adhesion treatment.

【0091】次に、ペンタエリストリールトリアクリレ
ート50重量部、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト50重量部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン2重量部からなる樹脂5としてのUV硬化型樹脂
組成物を、金属配線基板4の配線面4a側の一端にディ
スペンサー6を用いて金属配線のストライプ方向に対し
て垂直方向に1列に10点、等間隔に合計5gを滴下し
た(図16(a)参照)。なお、これとは別に、寸法が
300×340×1.1(mm)の青板ガラスを、両面
研磨により平面度5μmに仕上げた平滑板1を作成し
た。
Next, a UV-curable resin composition as a resin 5 consisting of 50 parts by weight of pentaerythryl triacrylate, 50 parts by weight of neopentyl glycol diacrylate, and 2 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone was used to prepare a metal wiring. Using a dispenser 6 at one end on the wiring surface 4a side of the substrate 4, a total of 5 g was dropped at equal intervals at 10 points in a row in the direction perpendicular to the stripe direction of the metal wiring (see FIG. 16A). Separately, a smooth plate 1 was prepared by finishing a soda lime glass having a size of 300 × 340 × 1.1 (mm) to a flatness of 5 μm by double-side polishing.

【0092】そして、樹脂5が滴下された金属配線基板
4に、平滑板1を樹脂5が接するように重ね、平滑板1
と金属配線基板4との隙間41の幅H1を200μm程
得ることができた。また、このように平滑板1と樹脂5
とが接する際に、直径0.5〜5mmの大きさの気泡2
1が、目視で10個程度確認された(図16(b),
(c)参照)。
Then, the smooth plate 1 is superimposed on the metal wiring board 4 on which the resin 5 has been dropped so that the resin 5 is in contact with the metal wiring board 4.
The width H1 of the gap 41 between the substrate and the metal wiring board 4 was about 200 μm. Also, as described above, the smooth plate 1 and the resin 5
When the bubbles 2 come into contact with each other, bubbles 2 having a diameter of 0.5 to 5 mm
Approximately 10 were confirmed visually (FIG. 16 (b),
(C)).

【0093】その後、図12、13に示す構造の幅40
0mm、直径100mmの心棒に、厚さ10mmのゴム
硬度60度のシリコンゴムを備えた上下2本の予備プレ
ス用ローラー201a、201b(図16(d)のロー
ラ8に相当)を備えた設定荷重100Kgのロールラミ
ネーター機を用い、その上下の予備プレス用ローラーの
間に平滑板1と金属配線基板4の一体物45の端部を挟
み込んでからローラー速度40cm/分、プレス圧力約
1Kg/cm、25℃で予備プレスを行った。
Thereafter, the width 40 of the structure shown in FIGS.
A set load provided with two upper and lower pre-press rollers 201a and 201b (corresponding to the roller 8 in FIG. 16 (d)) provided on a mandrel having a diameter of 0 mm and a diameter of 100 mm and silicon rubber having a thickness of 10 mm and a rubber hardness of 60 degrees Using a roll laminator machine of 100 kg, the end of the integrated body 45 of the smooth plate 1 and the metal wiring board 4 is sandwiched between the upper and lower pre-press rollers, and then the roller speed is 40 cm / min and the press pressure is about 1 kg / cm 2. , 25 ° C.

【0094】この予備プレスにより樹脂5は、幅H2が
10μm程度の隙間41を保ちながら、金属配線3の間
を樹脂5で埋めるべき領域R1を全て覆うことができ
た。また、この予備プレスの際、樹脂5に巻き込んでい
た気泡21は2個残ったが、この気泡21は金属配線3
の間を樹脂5で埋めるべき領域R1の外側に移動してい
たため問題にならなかった(図16(d)参照)。
By this preliminary pressing, the resin 5 was able to cover the entire region R1 in which the space between the metal wirings 3 should be filled with the resin 5 while maintaining the gap 41 having a width H2 of about 10 μm. In addition, during this pre-pressing, two bubbles 21 that had been caught in the resin 5 remained, but these bubbles 21
Since the gap was moved outside the region R1 to be filled with the resin 5, no problem occurred (see FIG. 16D).

【0095】その後、後の本プレス工程での樹脂5の排
除性を高めるため、平滑板1と金属配線基板4の一体物
45をオーブンを用いて60℃で20分間加熱した(予
備加熱)。このとき、加熱中の樹脂5は毛細管現象を起
こさず、泡の発生は確認されなかった。
Thereafter, in order to enhance the exclusion of the resin 5 in the subsequent main pressing step, the integrated body 45 of the smooth plate 1 and the metal wiring board 4 was heated at 60 ° C. for 20 minutes using an oven (preliminary heating). At this time, the resin 5 during heating did not cause a capillary phenomenon, and no generation of bubbles was confirmed.

【0096】次に、予備プレス用ローラー8と同一仕様
の本プレス用ローラー7を使用したロールラミネーター
機(図12、13に示す構造の装置と同様の構造であり
ローラ7は、同図のローラ201a、201bに相当)
で、平滑板1と金属配線基板4の一体物45を挟み込ん
でからローラ速度20cm/分、プレス圧力約5Kg/
cm、ローラー温度60℃で加圧した(図16(e)
参照)。
Next, a roll laminator machine using the main press roller 7 having the same specifications as the preliminary press roller 8 (having the same structure as the apparatus having the structure shown in FIGS. 12 and 13; (Equivalent to 201a, 201b)
The roller speed is 20 cm / min and the pressing pressure is about 5 kg / min.
cm 2 and a roller temperature of 60 ° C. (FIG. 16E)
reference).

【0097】その後は、金属配線基板4側から100W
の高圧水銀ランプ4本により2分間UV照射を行ってか
ら、離型治具により平滑板1を金属配線基板4と硬化し
た樹脂5との一体物から剥離した。そして、最後にこの
ように金属配線3の相互間が樹脂5によって平坦に埋め
られた金属配線基板4に透明電極15を形成して配線基
板10を形成した。
Thereafter, 100 W from the metal wiring board 4 side
UV irradiation was performed for 2 minutes by using four high-pressure mercury lamps, and then the smoothing plate 1 was peeled off from the integrated body of the metal wiring substrate 4 and the cured resin 5 by a release jig. Finally, the transparent electrode 15 was formed on the metal wiring board 4 in which the space between the metal wirings 3 was filled with the resin 5 so as to be flat, thereby forming the wiring board 10.

【0098】なお、この透明電極形成工程の前に、金属
配線3との接触抵抗値を測定するために、この金属配線
3に合わせてピッチ320μm、膜幅300μmのIT
O膜を金属配線基板4上に成膜し、フォトリソ・エッチ
ング法によリパターンを施し、120mmパターン長の
抵抗値を測定したところ、全ての電極配線が800Ω以
下の低い抵抗値を示し、欠陥のない低抵抗な金属配線基
板4ができていることを確認した。
Prior to the transparent electrode forming step, in order to measure the contact resistance value with the metal wiring 3, an IT having a pitch of 320 μm and a film width of 300 μm was adjusted in accordance with the metal wiring 3.
An O film was formed on the metal wiring substrate 4 and re-patterned by a photolithography / etching method. When the resistance value of a 120 mm pattern length was measured, all the electrode wirings showed a low resistance value of 800Ω or less. It was confirmed that a low-resistance metal wiring board 4 having no defect was formed.

【0099】このように、本加圧工程の前に付加された
予備加圧工程により、本加圧を行う前に配線基板製造時
に発生した気泡を少くとも金属電極形成領域外に移動さ
せることにより、気泡の悪影響を防ぐことができる。そ
して、このように気泡の悪影響を防ぐことにより、配線
基板の製造歩留まりを向上させることができ、基板の単
価を安くすることができる。
As described above, by the preliminary pressurizing step added before the main pressurizing step, by moving at least bubbles generated at the time of manufacturing the wiring board to the outside of the metal electrode formation region before performing the main pressurizing step. , The adverse effects of air bubbles can be prevented. By preventing the bad influence of the bubbles in this way, the production yield of the wiring board can be improved, and the unit cost of the board can be reduced.

【0100】なお、これまでの説明において、樹脂5を
金属配線ストライプと垂直な辺の一端に滴下し、予備加
圧工程及び本加圧工程において加圧部位を金属配線スト
ライプに沿って移動させたが、樹脂5を金属配線基板4
上の任意の領域に滴下し、予備加圧工程や本加圧工程で
金属配線ストライプと所定の角度をもった方向に移動さ
せてもよい。
In the above description, the resin 5 is dropped on one end of a side perpendicular to the metal wiring stripe, and the pressurized portion is moved along the metal wiring stripe in the pre-pressing step and the main pressing step. However, the resin 5 is
It may be dropped on an arbitrary area above and moved in a direction having a predetermined angle with the metal wiring stripe in the pre-pressing step or the main pressing step.

【0101】特に、樹脂5を金属配線基板4と平滑板1
の一端に供給し、金属配線3のストライプ方向に沿って
加圧部位が移動する加圧操作により、樹脂5が金属配線
ストライプ方向に沿って押し広げられるため、樹脂5中
に含まれる気泡21はストライプ方向に沿って、金属配
線基板4と平滑板1の加圧の最終端(図9(d)、
(e)、図16(d)、(e)の右端)から速やかに排
出されるため、より好ましい。
In particular, the resin 5 is applied to the metal wiring board 4 and the smooth plate 1
The resin 5 is pushed along the metal wiring stripe direction by a pressing operation in which the resin 5 is supplied to one end of the metal wiring 3 and the pressing part moves along the stripe direction of the metal wiring 3. Along with the stripe direction, the final pressure end of the metal wiring board 4 and the smooth plate 1 (FIG. 9D,
(E), it is more preferable because it is quickly discharged from the right end of FIGS. 16 (d) and (e).

【0102】次に、参考例となる実施の形態2に係る配
線基板の製造方法について説明する。
Next, a description will be given of a method of manufacturing a wiring board according to Embodiment 2 which is a reference example.

【0103】本実施の形態は、既述した参考例となる実
施の形態1における予備プレス工程において、これらの
工程の前、中あるいは後を低温の環境下で行うものであ
り、このように低温の環境下で行うことにより、樹脂5
の粘度を上げることができる。
In the present embodiment, in the pre-pressing step in Embodiment 1 which is the reference example described above, these steps are performed before, during, or after in a low-temperature environment. In the environment of the resin 5
Can be increased.

【0104】そして、このように樹脂5の粘度を上げる
ことにより、予備プレス工程で混入した気泡21をさら
に排除しやすくする効果が得られると共に、予備プレス
後の隙間41の幅H2(図16(d))も大きくなるの
で、その後の本プレス工程における樹脂5の流路をより
広く確保することができ、樹脂5の排除をさらに容易に
行うことができる。
By increasing the viscosity of the resin 5 in this way, the effect of making it easier to remove the bubbles 21 mixed in the pre-pressing step is obtained, and the width H2 of the gap 41 after the pre-pressing (FIG. 16 ( Since d)) also increases, the flow path of the resin 5 in the subsequent main pressing step can be secured wider, and the removal of the resin 5 can be performed more easily.

【0105】次に、参考例となる実施の形態2の1実施
例を説明する。
Next, an example of the second embodiment as a reference example will be described.

【0106】本実施例においては、貼り合わせ工程が終
わった後、金属配線基板4と硬化した樹脂5との一体物
45を5℃の環境下に30分間放置して樹脂5の粘度を
上げ、図16(d)に示す予備プレスは室温にて行っ
た。
In this embodiment, after the bonding step is completed, the integrated body 45 of the metal wiring board 4 and the cured resin 5 is left in an environment of 5 ° C. for 30 minutes to increase the viscosity of the resin 5. The preliminary press shown in FIG. 16D was performed at room temperature.

【0107】この結果、樹脂5は、幅H2が15μm程
度の隙間41を保ちながら、金属配線3の間を樹脂5で
埋めるべき領域R1を全て覆うことができた。また、樹
脂5に巻き込んでいた気泡21は、予備プレス後に1個
残ったが、金属配線3の間を樹脂5で埋めるべき領域R
1の外側に移動していたため問題にならなかった。さら
に、予備加熱中の樹脂5は毛細管現象を起こさず、泡の
発生は確認されなかった。
As a result, the resin 5 was able to cover the entire region R1 to be filled with the resin 5 between the metal wires 3 while maintaining the gap 41 having a width H2 of about 15 μm. In addition, one bubble 21 that has been entrained in the resin 5 remains after the pre-pressing.
There was no problem because it was moving outside of 1. Further, the resin 5 during the preheating did not cause the capillary phenomenon, and the generation of bubbles was not confirmed.

【0108】次に、参考例となる実施の形態3に係る配
線基板の製造方法について説明する。
Next, a description will be given of a method of manufacturing a wiring board according to Embodiment 3 which is a reference example.

【0109】本実施の形態は、既述した参考例となる実
施の形態2における予備プレス工程において、予備プレ
ス用ローラー8の回転速度を80cm/分以上の高速と
するものであり、このように予備プレス用ローラー8を
高速回転させることにより、予備プレス時の樹脂5の流
動速度を速め、接液時に混入した気泡21をさらに排除
しやすくすることができる。
In the present embodiment, the rotational speed of the pre-press roller 8 is set to a high speed of 80 cm / min or more in the pre-press step in the second embodiment which is the reference example described above. By rotating the pre-press roller 8 at a high speed, the flow speed of the resin 5 during the pre-press can be increased, and the bubbles 21 mixed during the liquid contact can be more easily removed.

【0110】また、予備プレス後の隙間41の幅H2を
大きくすることができるので、その後の本プレス工程に
おける樹脂5の流路をより広く確保することができ、樹
脂5の排除をさらに容易に行うことができる。
Further, since the width H2 of the gap 41 after the pre-press can be increased, the flow path of the resin 5 in the subsequent main press step can be secured wider, and the removal of the resin 5 can be more easily performed. It can be carried out.

【0111】次に、参考例となる実施の形態3の1実施
例について説明する。
Next, an example of Embodiment 3 as a reference example will be described.

【0112】本実施例においては、予備プレス工程をロ
ーラー8の回転速度を100cm/分で行った。
In this embodiment, the preliminary pressing step was performed at a rotation speed of the roller 8 of 100 cm / min.

【0113】この結果、樹脂5は、幅H2が20μm程
度の隙間41を保ちながら、金属配線3の間を樹脂5で
埋めるべき領域R1を全て覆うことができた。また、樹
脂5に巻き込んでいた気泡21は、予備プレスによっ
て、1つも残らず全て排除できた。さらに、予備加熱中
の樹脂は毛細管現象を起こさず、泡の発生は確認されな
かった。
As a result, the resin 5 was able to cover the entire region R1 to be filled with the resin 5 between the metal wires 3 while maintaining the gap 41 having a width H2 of about 20 μm. In addition, all of the air bubbles 21 entrained in the resin 5 were completely removed by the pre-press. Further, the resin during the preheating did not cause a capillary phenomenon, and generation of bubbles was not confirmed.

【0114】次に、参考例となる実施の形態4に係る配
線基板の製造方法について説明する。
Next, a description will be given of a method of manufacturing a wiring board according to Embodiment 4 which is a reference example.

【0115】本実施の形態は、既述した参考例となる実
施の形態1における予備プレス工程において、図17の
ように、予備プレス用ローラー8の間隔D1を固定する
ようにしたものであり、このように予備プレス用ローラ
ー8の間隔D1を固定することにより、予備プレス時の
環境温度や、予備プレス用ローラー8の回転速度に関わ
らず、予備プレス後の隙間41の幅H2を一定に保つこ
とができる。これにより、その後のプレス工程における
樹脂5の流路をより広く確保することができ、樹脂5の
排除がさらに容易に行える。
In this embodiment, as shown in FIG. 17, the interval D1 between the pre-press rollers 8 is fixed in the pre-press step in the first embodiment which is the reference example described above. By fixing the distance D1 between the preliminary press rollers 8 in this manner, the width H2 of the gap 41 after the preliminary press is kept constant regardless of the environmental temperature during the preliminary press and the rotation speed of the preliminary press roller 8. be able to. Thereby, the flow path of the resin 5 in the subsequent pressing step can be secured more widely, and the removal of the resin 5 can be performed more easily.

【0116】なお、接液時に混入した気泡21を排除す
る効果をより大きくするには、あらかじめ滴下する樹脂
5の量を多めにし、図16(d)の隙間41の幅H2を
厚くしておけば良い。即ち、樹脂5の滴下量をできるだ
け増やした上で、予備プレス用ローラー8の間隔を任意
に設定することで、接液時に混入した気泡21の排除能
力と、プレス時の金属配線3上の樹脂5の排除能力を任
意に制御することができる。
In order to further increase the effect of eliminating the bubbles 21 mixed during the liquid contact, the amount of the resin 5 to be dropped is increased in advance, and the width H2 of the gap 41 in FIG. Good. That is, by increasing the amount of the resin 5 to be dropped as much as possible, and by arbitrarily setting the interval between the pre-press rollers 8, the ability to remove the bubbles 21 mixed during the liquid contact and the resin on the metal wiring 3 during the press 5 can be arbitrarily controlled.

【0117】次に、参考例となる実施の形態4の1実施
例について説明する。
Next, an example of the fourth embodiment as a reference example will be described.

【0118】本実施例においては、予備プレス工程にお
ける予備プレス用ローラー8の間隔D1を、樹脂5によ
る厚みH2が予備プレス工程において10μm程度で一
定となるように固定し、金属配線3の間を全て埋めるべ
き領域R1の全体を樹脂5により被覆した。
In the present embodiment, the interval D1 between the pre-press rollers 8 in the pre-press step is fixed so that the thickness H2 of the resin 5 is constant at about 10 μm in the pre-press step, and the space between the metal wires 3 is fixed. The entire region R1 to be completely filled was covered with the resin 5.

【0119】この結果、樹脂5に巻き込んでいた気泡2
1は、予備プレスによって1つも残らず全て排除でき
た。さらに、予備加熱中の樹脂5は毛細管現象を起こさ
ず、泡の発生は確認されなかった。
As a result, the bubbles 2 entrapped in the resin 5
No. 1 was completely removed by the pre-press. Further, the resin 5 during the preheating did not cause the capillary phenomenon, and the generation of bubbles was not confirmed.

【0120】ところで、これまで説明してきたように、
樹脂5を多量に滴下するようにすると、滴下された樹脂
5の形状が球状にならず自重で広がってしまい、平滑板
1との接触が点接触にならず面接触になってしまうので
気泡21が巻き込まれる可能性は更に大きくなってしま
う。このため、このような場合は、樹脂5の滴下ポイン
トを数点に分けて滴下すると良い。
By the way, as described above,
If a large amount of the resin 5 is dropped, the shape of the dropped resin 5 does not become spherical but expands by its own weight, and the contact with the smooth plate 1 becomes surface contact instead of point contact. Is more likely to be involved. For this reason, in such a case, it is preferable to divide the resin 5 at several points.

【0121】また、他の方法としては、樹脂5が垂れ落
ちないのであれば、図18(a)のように樹脂5を滴下
した後、(b)のように滴下された金属配線基板4を反
転することで樹脂5の形状を尖らせるようにする。そし
て、このように樹脂5の形状を尖らせることにより、平
滑板1と接触する際に点接触させ、気泡を巻き込みにく
くすることもできる。
As another method, if the resin 5 does not droop, the resin 5 is dropped as shown in FIG. 18A, and then the dropped metal wiring board 4 is dropped as shown in FIG. The shape of the resin 5 is sharpened by inversion. By sharpening the shape of the resin 5 in this way, it is possible to make a point contact when the resin 5 comes into contact with the smooth plate 1 and to make it difficult for bubbles to be involved.

【0122】何れにしても、前述の予備プレス工程で気
泡はほとんど除去されるので、必ずしも気泡をゼロにし
ておく必要はないが、製品の歩留まりを向上させるため
には、樹脂5が平滑板1に接触する際にはできるだけ気
泡を巻き込まないように滴下条件等を設定しておくのが
望ましい。また、滴下させる基板と接触させる基板は、
必ずしも図16や図18の通りである必要はなく、平滑
板1に滴下し、金属配線基板4を接触させる方法でも良
い。
In any case, since the air bubbles are almost completely removed in the pre-pressing step, it is not always necessary to keep the air bubbles at zero. However, in order to improve the product yield, the resin 5 must It is desirable to set the dropping conditions and the like so as to prevent air bubbles from being caught as much as possible when contacting the surface. Also, the substrate to be brought into contact with the substrate to be dropped is:
The method does not necessarily have to be as shown in FIGS. 16 and 18, but may be a method in which the metal wiring board 4 is brought into contact with the smoothing plate 1 by dropping it.

【0123】以下、本発明の実施の形態に係る配線基板
の製造方法を説明する。
Hereinafter, a method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present invention will be described.

【0124】先ず、例えば寸法が300×340mm、
厚さ1.1mmの両面が研磨された(ガラス)基板2の
一方の表面にアルミニウムからなる金属配線(電極)3
を有する金属配線基板4(図19参照)を前述の図20
に示す工程に沿って作製する。
First, for example, the dimensions are 300 × 340 mm,
A metal wiring (electrode) 3 made of aluminum is provided on one surface of a (glass) substrate 2 having both sides polished to a thickness of 1.1 mm.
20 (see FIG. 19).
It is manufactured according to the process shown in FIG.

【0125】ここで、この金属配線3は例えば以下のよ
うにして形成される。先ず、基板2上の全面にスパッタ
リング法により、例えば金属電極を構成する膜厚2μm
程度のアルミニウム層23を形成し(図20(a)参
照)、このアルミニウム層23上にフォトレジスト24
をスピンコート法により2μm程度の膜厚で塗布し、配
線パターンが描かれているフォトマスク25を通して露
光した後、このフォトレジスト24を現像、ポストベー
クしてアルミニウム層23上にエッチングパターンを形
成する(図20(b),(c)参照)。
Here, the metal wiring 3 is formed, for example, as follows. First, for example, a film thickness of 2 μm forming a metal electrode is formed on the entire surface of the substrate 2 by sputtering.
Aluminum layer 23 is formed (see FIG. 20A), and a photoresist 24 is formed on this aluminum layer 23.
Is applied with a thickness of about 2 μm by a spin coating method, and is exposed through a photomask 25 on which a wiring pattern is drawn. Then, the photoresist 24 is developed and post-baked to form an etching pattern on the aluminum layer 23. (See FIGS. 20 (b) and 20 (c)).

【0126】次に、アルミニウム層23上にフォトレジ
スト24が形成された基板2をエッチング液に浸して、
フォトレジスト24に覆われていない部分のアルミニウ
ム層3をエッチングし、その後エッチングパターンを剥
離して基板2上にアルミニウムからなる金属配線3を形
成した(図20(d)参照)。この金属配線3は、例え
ば幅20μmでピッチ300μmのストライプ状にパタ
ーンニングされている。
Next, the substrate 2 having the photoresist 24 formed on the aluminum layer 23 is immersed in an etching solution.
The portion of the aluminum layer 3 not covered with the photoresist 24 was etched, and then the etching pattern was peeled off to form a metal wiring 3 made of aluminum on the substrate 2 (see FIG. 20D). The metal wiring 3 is patterned in a stripe shape having a width of 20 μm and a pitch of 300 μm, for example.

【0127】続いて、図22に示す工程に沿って、配線
基板の製造プロセスを説明する。
Subsequently, the manufacturing process of the wiring board will be described along the steps shown in FIG.

【0128】そして、この基板2の金属配線3側にシラ
ンカプリング剤(例えば、日本ユニカー(株)社製;商
品名:A−174)1重量部、エチルアルコール40重
量部からなるカップリング処理剤をスピンコートした
後、100℃で20分熱処理して密着処理を施す。
A coupling agent consisting of 1 part by weight of a silane coupling agent (for example, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd .; trade name: A-174) and 40 parts by weight of ethyl alcohol is provided on the metal wiring 3 side of the substrate 2. Is spin-coated, and then subjected to a heat treatment at 100 ° C. for 20 minutes to perform an adhesion treatment.

【0129】次に、基板2の金属配線3を形成した側の
表面に、例えば流動性UV硬化型の樹脂5をディスペン
サー6により定量(例えば、合計800mg)滴下する
(図22(a)参照)。ここで、ディスペンサー6は、
例えばノズル径0.5mm、吐出圧力1Kg/cm
吐出時間1.2秒、滴下点数5点(図では1点滴下だ
が、実際には基板サイズが大きいので5点に分けてい
る)に設定した。
Next, for example, a liquid UV curable resin 5 is dropped in a fixed amount (for example, 800 mg in total) by a dispenser 6 on the surface of the substrate 2 on which the metal wiring 3 is formed (see FIG. 22A). . Here, the dispenser 6
For example, a nozzle diameter of 0.5 mm, a discharge pressure of 1 kg / cm 2 ,
The ejection time was set to 1.2 seconds, and the number of drops was set to 5 points (in the figure, 1 point was dropped, but actually the substrate size is large, so it is divided into 5 points).

【0130】なお、1点の滴下量は、樹脂800mgを
滴下するよう160mgとした。また、滴下に要する時
間は6秒(1.2秒×5)とした。また、UV硬化型の
樹脂5としては、例えばペンタエリストリールトリアク
リレート50重量部、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート50重量部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン2重量部からなる組成物を用いる。
The amount of drop at one point was 160 mg so that 800 mg of resin was dropped. The time required for dropping was 6 seconds (1.2 seconds × 5). As the UV-curable resin 5, for example, a composition comprising 50 parts by weight of pentaerythryl triacrylate, 50 parts by weight of neopentyl glycol diacrylate, and 2 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone is used.

【0131】ここで、この条件によって滴下する樹脂5
は、全ての金属配線3の間を埋め込むのに必要な樹脂量
を遥かに越えているが、後の工程で樹脂5を加圧して延
伸する時に、樹脂5内に混入している気泡を排出するた
めにはこの程度の樹脂量が必要である。
Here, the resin 5 dropped under these conditions
Is far more than the amount of resin necessary to bury the space between all of the metal wirings 3, but when the resin 5 is stretched by applying pressure in a later step, air bubbles mixed in the resin 5 are discharged. To do so, this amount of resin is required.

【0132】そして、本形態に係る製造装置には、樹脂
5の加圧に用いる平滑板1を、基板2上の樹脂5で平坦
に埋めるべき領域に位置決めするための位置決め治具5
9a,59bを有しており、この位置決め治具59a,
59bを基板2の端面側にそれぞれ配置する(図22
(b)参照)。
The manufacturing apparatus according to the present embodiment has a positioning jig 5 for positioning the smoothing plate 1 used for pressurizing the resin 5 in an area to be buried flat with the resin 5 on the substrate 2.
9a, 59b.
59b are arranged on the end face side of the substrate 2 (FIG. 22).
(B)).

【0133】なお、この位置決め治具59a、59b
は、SUS等の金属、或いはフッ素系樹脂等の樹脂材料
にて形成されたものである。また、位置決め治具59
a,59bの内側には、後の工程で平滑板1を用いて樹
脂5を加圧して延伸した時に、両端の各金属配線3の間
からはみ出した余分な樹脂5を溜めるための凹部59
c,59dがそれぞれ形成されている。
The positioning jigs 59a, 59b
Is made of a metal such as SUS or a resin material such as a fluororesin. Also, the positioning jig 59
A concave portion 59 is provided inside a and 59b for storing the excess resin 5 protruding from between the metal wirings 3 at both ends when the resin 5 is stretched by pressing using the smooth plate 1 in a later step.
c, 59d are respectively formed.

【0134】さらに、位置決め治具59a,59bの各
先端部59e,59fは、基板2に形成した両端の各金
属配線3上よりも少し外側に位置しており、この先端部
59e,59f間に平滑板1がちょうど入るようにして
いる。
Further, the tips 59e, 59f of the positioning jigs 59a, 59b are located slightly outside the metal wires 3 at both ends formed on the substrate 2, and are located between the tips 59e, 59f. The smooth plate 1 is just inserted.

【0135】即ち、平滑板1の加圧方向(図では左右方
向)の大きさは、基板2に形成した各金属配線3の間を
樹脂5で平坦に埋めるべき範囲Lより少し大きく形成さ
れ、且つ基板2より小さく形成されている。本実施の形
態では、例えば平滑板1は、220(幅)×290(長
さ)mm、厚さ1.1mmの寸法からなり、その両面が
平滑に研磨された青板ガラス板で形成されている。な
お、平滑板1の樹脂5と接する側の表面に、後の工程で
加圧された樹脂5を離型しやすくするために予めフッ素
系或はシリコン系等からなる離型剤を薄く塗っておいて
もよい。
That is, the size of the smoothing plate 1 in the pressing direction (the left-right direction in the figure) is formed to be slightly larger than the range L in which the space between the metal wirings 3 formed on the substrate 2 is to be flatly filled with the resin 5. Further, it is formed smaller than the substrate 2. In the present embodiment, for example, the smooth plate 1 has a size of 220 (width) × 290 (length) mm and a thickness of 1.1 mm, and both surfaces thereof are formed of a blue polished glass plate that is polished smoothly. . In order to facilitate the release of the resin 5 pressurized in a later step, a release agent made of a fluorine-based or silicon-based material is thinly applied to the surface of the smooth plate 1 in contact with the resin 5. You may leave.

【0136】次に、位置決め治具59a,59bの各先
端部59e,59f間に平滑板1を配置して、金属配線
3間に滴下した樹脂5を挟む(図22(c)参照)。こ
の後、樹脂5の流動を容易にするために、基板2上の金
属配線3間に滴下した樹脂5を位置決め治具59a,5
9b間に配置した平滑板1で挟んだ一体物45を、オー
ブン(図示省略)内に入れて60℃で20分間加熱す
る。
Next, the smoothing plate 1 is arranged between the tip portions 59e and 59f of the positioning jigs 59a and 59b, and the resin 5 dropped between the metal wirings 3 is sandwiched (see FIG. 22C). Thereafter, in order to facilitate the flow of the resin 5, the resin 5 dropped between the metal wirings 3 on the substrate 2 is positioned by positioning jigs 59 a and 5.
The integrated body 45 sandwiched between the smoothing plates 1 disposed between 9b is placed in an oven (not shown) and heated at 60 ° C. for 20 minutes.

【0137】次に、加熱された一体物45を搬送装置
(図示省略)により矢印A方向に搬送し、ロールプレス
装置(図示省略)の回転自在な上下のローラ51a,5
1b間に挟んで加圧して樹脂5を延伸する(図22
(d),(e),(f),(g)参照)。
Next, the heated unit 45 is transported in the direction of arrow A by a transport device (not shown), and the upper and lower rollers 51a, 5a of a roll press device (not shown) are rotatable.
1b to stretch the resin 5 by applying pressure (FIG. 22).
(D), (e), (f) and (g)).

【0138】ここで、ローラ51a,51bは、例えば
直径80mm、長さ600mmの金属製のローラ本体の
表面に幅220mm、厚さ10mmのゴム硬度60のシ
リコンゴム(図示省略)が巻かれたものを用い、ロール
プレス時にゴミ等の異物を巻き込んでも、基板2や平滑
板1を破損することはない。また、ローラ51a,51
bは、その周速が1分当たり20cmの速度で回転し、
ローラ51a,51bの回転軸52a,52bの両端に
は、合計500Kgfの荷重がエアーシリンダー(図示
省略)によってかけられている。
The rollers 51a and 51b are, for example, a metal roller body having a diameter of 80 mm and a length of 600 mm and silicon rubber (not shown) having a width of 220 mm and a thickness of 10 mm and a rubber hardness of 60 wound thereon. The substrate 2 and the smooth plate 1 are not damaged even if foreign matter such as dust is involved during roll pressing. Further, the rollers 51a, 51
b rotates at a peripheral speed of 20 cm per minute,
A total load of 500 kgf is applied to both ends of the rotating shafts 52a and 52b of the rollers 51a and 51b by an air cylinder (not shown).

【0139】更に、ローラ51a,51bは、その中に
埋め込まれているヒータ(図示省略)によって予め所定
温度(例えば60℃)に加熱されている。また、ローラ
51a,51bには、加圧時に平滑板1にローラ51
a,51bの表面に巻いたシリコンゴムが位置するよう
にガイド部材(図示省略)が設けられている。なお、ロ
ーラ51a、51bの機構は、図12、13に示すよう
な構造を用いる。
Further, the rollers 51a and 51b are previously heated to a predetermined temperature (for example, 60 ° C.) by a heater (not shown) embedded therein. Further, the rollers 51a and 51b have the roller 51
A guide member (not shown) is provided such that the wound silicone rubber is positioned on the surfaces of a and 51b. The mechanism of the rollers 51a and 51b uses a structure as shown in FIGS.

【0140】また、上述した装置では、前記一体物45
の搬送路上のローラ51a,51bの前後に、前記一体
物45の加圧開始と加圧解除のタイミングを検出するた
めの2個の光電センサー53a,53bと、光電センサ
ー53a,53bからの検知信号に基づいてローラ51
a,51bによる一体物45の加圧開始と加圧解除の動
作を制御する制御装置54を有している。
Further, in the above-described device, the integrated member 45 is used.
Before and after the rollers 51a and 51b on the conveyance path, two photoelectric sensors 53a and 53b for detecting the timing of starting pressurization and releasing pressure of the integrated object 45, and detection signals from the photoelectric sensors 53a and 53b. Roller 51 based on
A control device 54 is provided for controlling the operation of starting pressurizing and releasing pressurization of the integrated object 45 by the a and 51b.

【0141】ここで、ローラ51a,51bと光電セン
サー53a,53b間の間隔は、平滑板1の長さ(本実
施の形態では例えば290mmとする)と略同じに設定
されている。そして、このロールプレス装置のローラ5
1a,51bによる加圧は、光電センサー53a,53
bによる一体物45の検出/非検出(ON/OFF)信
号に基づいて、制御装置54により以下のように制御さ
れる。
Here, the interval between the rollers 51a and 51b and the photoelectric sensors 53a and 53b is set to be substantially the same as the length of the smooth plate 1 (for example, 290 mm in the present embodiment). And the roller 5 of this roll press device
The pressurization by 1a and 51b is performed by photoelectric sensors 53a and 53b.
Based on the detection / non-detection (ON / OFF) signal of the integrated object 45 by b, the control device 54 controls as follows.

【0142】先ず、図22(d)に示したように、光電
センサー53aで前記一体物45を検出している時(O
N時)、即ち一体物45がローラ51a,51b側に搬
送されている時にはローラ51a,51bの動作をOF
Fにして、一体物45を加圧していない。
First, as shown in FIG. 22D, when the integrated object 45 is detected by the photoelectric sensor 53a (O
N), that is, when the integrated object 45 is being conveyed to the rollers 51a and 51b, the operation of the rollers 51a and 51b is turned off.
In F, the one-piece object 45 is not pressurized.

【0143】そして、図22(e)に示したように、一
体物45の後端が光電センサー52a上を通過した時
(OFF時)、即ち一体物45の先端側がローラ51
a,51b間に搬送されると、ローラ51a,51bを
動作させて、一体物45の基板2と平滑板1の先端側を
挟んで加圧する。そして、図22(f),(g)に示し
たように、ローラ51a,51bにより平滑板1の後端
側まで加圧された後、一体物45の先端が光電センサー
52b上を通過した時(OFF時)、即ちローラ51
a,51bによる一体物45の加圧が終了すると、ロー
ラ51a,51bの加圧を解除する。
Then, as shown in FIG. 22E, when the rear end of the unit 45 passes over the photoelectric sensor 52a (at the time of OFF), that is, the front end of the unit 45 is
When the sheet is conveyed between a and 51b, the rollers 51a and 51b are operated to press the front end side of the substrate 2 and the flat plate 1 of the integrated object 45 and pressurize the same. Then, as shown in FIGS. 22F and 22G, when the front end of the integrated body 45 passes over the photoelectric sensor 52b after being pressed to the rear end side of the smooth plate 1 by the rollers 51a and 51b. (When OFF), that is, the roller 51
When the pressing of the integrated body 45 by a and 51b is completed, the pressing of the rollers 51a and 51b is released.

【0144】このように、ローラ51aは平滑板1の先
端から後端間を加圧しながら移動し、ローラ51bは基
板2上を加圧しながら移動する。即ち、加圧を行うロー
ラ51a,51bの移動範囲を、基板2の樹脂5で平坦
に埋めるべき領域(図22(b)に示した領域L)より
大きくし、且つ基板2より小さくすることにより、全て
の金属配線3間に樹脂5が均一に埋め込まれる。そし
て、この加圧により、樹脂5を金属配線3の上面から排
除し、平滑板1と基板2とを強く、しかも基板2の全て
の金属配線3の全面に均一に樹脂5を密着させて平坦化
する。
As described above, the roller 51a moves while pressing between the front end and the rear end of the smooth plate 1, and the roller 51b moves while pressing on the substrate 2. That is, the moving range of the rollers 51a and 51b for applying pressure is made larger than a region (the region L shown in FIG. 22B) to be buried flat with the resin 5 of the substrate 2 and smaller than that of the substrate 2. The resin 5 is uniformly embedded between all the metal wirings 3. Then, the resin 5 is removed from the upper surface of the metal wiring 3 by this pressure, and the smooth plate 1 and the substrate 2 are strengthened, and the resin 5 is evenly adhered to the entire surface of all the metal wirings 3 of the substrate 2 and flattened. Become

【0145】なお、この樹脂5の加圧工程において、図
23に示すように端部の金属配線3間からはみ出した余
分な樹脂5aは、位置決め治具59a(,59b)の凹
部59c(,59d)に溜り、溜った余分な樹脂5a
は、この樹脂自体の表面張力で凹部59c(,59d)
内から外に流れ出すことはなく、また、凹部59c(,
59d)に接することもない。
In the pressurizing step of the resin 5, as shown in FIG. 23, the excess resin 5a protruding from between the metal wires 3 at the end is removed by the concave portions 59c (59d) of the positioning jig 59a (59b). ), Accumulated excess resin 5a
Is the concave portion 59c (59d) due to the surface tension of the resin itself.
It does not flow out from the inside, and the recesses 59c (,
59d).

【0146】次に、位置決め治具59a,59b上に露
光マスク55a,55bを被せて、凹部59c,59d
内に溜った余分な樹脂5aを露光しないようにした後、
平滑板1の上方から100Wの高圧水銀ランプ(図示省
略)4本でUV光(ピーク波長が365nm)56を2
分間照射して、金属配線3間に延伸した樹脂5を硬化さ
せる(図24(a)参照)。
Next, the exposure masks 55a and 55b are put on the positioning jigs 59a and 59b, and the concave portions 59c and 59d are placed.
After not exposing the excess resin 5a accumulated inside,
UV light (having a peak wavelength of 365 nm) 56 is applied by two 100 W high-pressure mercury lamps (not shown) from above the smoothing plate 1.
The resin 5 stretched between the metal wires 3 is cured by irradiating the resin 5 for minutes (see FIG. 24A).

【0147】次に、基板2上から位置決め治具59a,
59bを取り外して、離型治具(図示省略)により平滑
板1を剥離した後(図24(b)参照)、基板2の金属
配線3間に樹脂5を硬化して埋め込んだ一体物を、イソ
プロピルアルコールで2分間超音波洗浄して、両側の各
金属配線3の外側にある未硬化な余分な樹脂5aを洗い
落とすことにより、基板2上の全ての金属配線3間に樹
脂5を均一に埋め込んで平坦化した配線基板10を得る
(図24(c)参照)。
Next, positioning jigs 59a,
After removing the smoothing plate 1 with a release jig (not shown) (see FIG. 24B), the resin 5 is cured and embedded between the metal wirings 3 of the substrate 2 to form an integrated body. The resin 5 is uniformly embedded between all the metal wirings 3 on the substrate 2 by ultrasonic cleaning with isopropyl alcohol for 2 minutes to wash off the uncured extra resin 5a outside each metal wiring 3 on both sides. Thus, the wiring substrate 10 flattened is obtained (see FIG. 24C).

【0148】そして、この配線基板10の各金属配線3
上に電気的に接するようにして、例えば、前述の図21
に示す工程に沿ってITO膜等の透明電極15などが形
成され液晶素子を作製する(図24(d)参照)。
Then, each metal wiring 3 of this wiring board 10
As shown in FIG.
A transparent electrode 15 such as an ITO film is formed in accordance with the steps shown in FIG.

【0149】また、図25に示すように、位置決め治具
59a,59bの凹部59c(,59d)にスポンジ状
の吸収体58を設けることにより、平滑板1と基板2間
からはみ出した余分な樹脂5aを吸収することができる
ので、平滑板1と基板2間からはみ出す余分な樹脂5a
が多い場合でも、この吸収体58ではみ出した余分な樹
脂5aを吸収し、位置決め治具59a,59bが汚れる
ことを防止することができる。
Further, as shown in FIG. 25, the sponge-like absorber 58 is provided in the concave portions 59c (59d) of the positioning jigs 59a, 59b, so that excess resin protruding from between the smooth plate 1 and the substrate 2. 5a can be absorbed, so that extra resin 5a protruding from between the smooth plate 1 and the substrate 2
Even if there is a large amount, the excess resin 5a protruding from the absorber 58 can be absorbed to prevent the positioning jigs 59a and 59b from being soiled.

【0150】なお、位置決め治具59a,59bの凹部
59c,59dにスポンジ状の吸収体58を設けるかど
うかは、ディスペンサー6の樹脂供給量精度や、混入す
る気泡の排除に必要な樹脂5の量等によって決まる、は
み出す余分な樹脂5aの量によって決定することができ
る。即ち、樹脂供給量精度の低い安価なディスペンサー
6を用いる場合に、凹部59c,59dに吸収体58を
設けると効果的である。
Whether or not the sponge-like absorber 58 is provided in the concave portions 59c and 59d of the positioning jigs 59a and 59b depends on the accuracy of the resin supply amount of the dispenser 6 and the amount of the resin 5 necessary for eliminating air bubbles mixed therein. It can be determined by the amount of the excess resin 5a that protrudes, which is determined by the above. That is, when an inexpensive dispenser 6 having a low resin supply amount accuracy is used, it is effective to provide the absorber 58 in the concave portions 59c and 59d.

【0151】このように、樹脂5の加圧工程時に、平滑
板1と基板2間からはみ出した余分な樹脂5aで、ロー
ルプレス装置のローラ51a,51bや位置決め治具5
9a,59b等の製造装置の部材を汚すことなく、生産
性よく良好な配線基板10を作製することができる。
As described above, during the pressurizing step of the resin 5, the extra resin 5 a protruding from between the smooth plate 1 and the substrate 2 is used by the rollers 51 a and 51 b of the roll press device and the positioning jig 5.
A good wiring board 10 can be manufactured with good productivity without soiling members of the manufacturing apparatus such as 9a and 59b.

【0152】また、樹脂5に気泡が混入している場合で
も、樹脂5の滴下量を多めにして気泡を排除しながら加
圧した場合でも、気泡を含む余分な樹脂5aを位置決め
治具59a,59bの凹部59c,59dに溜めて、未
硬化樹脂を洗浄して除去することができるので、歩留り
をよくして、良好な配線基板10を作製することができ
る。
Even when air bubbles are mixed in the resin 5 or when the resin 5 is dropped and the pressure is increased while eliminating the air bubbles, the extra resin 5a including the air bubbles is removed by the positioning jig 59a, Since the uncured resin can be collected in the recesses 59c and 59d of the portion 59b and washed and removed, the yield can be improved and the favorable wiring board 10 can be manufactured.

【0153】尚、図22に示す形態ではロールによるプ
レス工程(図22(d)〜(g)では、加圧部位の移動
が金属配線3のストライプ方向と垂直に設定されたが、
これを前述の図10、11、16(d)に示す形態のよ
うに金属配線3のストライプ方向に沿うようにすること
で特に樹脂5の滴下量の多い場合、金属配線3のライン
間に生じる気泡を低減させることができる。
In the form shown in FIG. 22, the pressing process using a roll (in FIGS. 22 (d) to (g), the movement of the pressurized portion is set perpendicular to the stripe direction of the metal wiring 3;
By forming this along the stripe direction of the metal wiring 3 as in the above-described embodiments shown in FIGS. 10, 11, and 16 (d), particularly when the dripping amount of the resin 5 is large, it occurs between the lines of the metal wiring 3. Bubbles can be reduced.

【0154】[0154]

【発明の効果】以上説明したように本発明の配線基板の
製造方法、液晶素子の製造方法及び配線基板の製造装置
によれば、高分子材料の加圧時に平滑板と基板間から高
分子材料がはみ出しても製造装置の部材等に付着して汚
すことを防止することができるので、付着した高分子材
料の拭き掃除工程が不要となり、生産性よく配線基板、
更にはこれを用いた液晶素子を作製することができる。
As described above, according to the method for manufacturing a wiring board, the method for manufacturing a liquid crystal element, and the apparatus for manufacturing a wiring board of the present invention, the polymer material is removed from between the smooth plate and the substrate when the polymer material is pressed. Even if it protrudes, it can be prevented from adhering to and contaminating the members of the manufacturing apparatus, etc.
Further, a liquid crystal element using this can be manufactured.

【0155】また、本発明の製造方法で得られた液晶素
子は、透明電極の下に低抵抗の金属配線を併設した構成
により、特にカイラルスメクチック液晶を用いた場合、
電圧波形の遅延を抑制して液晶を安定して駆動すること
ができるので、表示品位の向上を図ることができる。
The liquid crystal device obtained by the manufacturing method of the present invention has a structure in which a low-resistance metal wiring is provided under a transparent electrode, particularly when a chiral smectic liquid crystal is used.
Since the liquid crystal can be driven stably by suppressing the delay of the voltage waveform, display quality can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】一般的な第一の配線基板の製造方法をその工程
に沿って示す断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a general method of manufacturing a first wiring board along its steps.

【図2】一般的な第二の配線基板の製造方法をその工程
に沿って示す断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a general method for manufacturing a second wiring board along the steps;

【図3】一般的な第三の配線基板の製造方法をその工程
に沿って示す断面図。
FIG. 3 is a sectional view showing a general method of manufacturing a third wiring board along the steps;

【図4】上記一般的な配線基板の製造方法における問題
点を説明する第一の図。
FIG. 4 is a first diagram illustrating a problem in the general method of manufacturing a wiring board.

【図5】上記一般的な配線基板の製造方法における問題
点を説明する第二の図。
FIG. 5 is a second diagram illustrating a problem in the above general method for manufacturing a wiring board.

【図6】上記一般的な配線基板の製造方法における問題
点を説明する第三の図。
FIG. 6 is a third diagram illustrating a problem in the above general method for manufacturing a wiring board.

【図7】上記一般的な配線基板の製造方法における問題
点を説明する第四の図。
FIG. 7 is a fourth diagram illustrating a problem in the general method of manufacturing a wiring board.

【図8】本発明の参考例に係る配線基板の製造方法によ
り得られる液晶素子の構造を示す断面図。
FIG. 8 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal element obtained by a method of manufacturing a wiring board according to a reference example of the present invention.

【図9】本発明の参考例に係る配線基板の製造方法を基
本的な工程に沿って示す断面図。
FIG. 9 is a sectional view showing a method of manufacturing a wiring board according to a reference example of the present invention along basic steps.

【図10】上記本発明の参考例に係る配線基板の製造方
法におけるプレスの工程を示す図。
FIG. 10 is a view showing a pressing step in the method of manufacturing a wiring board according to the reference example of the present invention.

【図11】上記本発明の参考例に係る配線基板の製造方
法におけるプレスの工程を示す図。
FIG. 11 is a view showing a pressing step in the method for manufacturing a wiring board according to the reference example of the present invention.

【図12】本発明の参考例に係る配線基板の製造方法に
おいて使用されるプレス装置の機構を示す図。
FIG. 12 is a diagram showing a mechanism of a press device used in a method of manufacturing a wiring board according to a reference example of the present invention.

【図13】図12のA矢視図。FIG. 13 is a view taken in the direction of the arrow A in FIG. 12;

【図14】上記配線基板の製造方法において生じる気泡
の発生、成長の様子を示す図。
FIG. 14 is a diagram showing a state of generation and growth of bubbles generated in the method of manufacturing a wiring board.

【図15】上記配線基板の製造方法において生じる気泡
の発生、成長の様子を示す他の図。
FIG. 15 is another view showing a state of generation and growth of bubbles generated in the method of manufacturing a wiring board.

【図16】本発明の参考例に係る配線基板の製造方法に
おける第一の形態をその工程に沿って示す断面図。
FIG. 16 is a sectional view showing a first mode of the method for manufacturing a wiring board according to the reference example of the present invention along the steps.

【図17】本発明の参考例に係る配線基板の製造方法に
おける第四の形態のプレス工程を示す断面図。
FIG. 17 is a sectional view showing a fourth embodiment of a pressing step in the method of manufacturing a wiring board according to the reference example of the present invention.

【図18】本発明の参考例に係る配線基板の製造方法に
おける更に別の形態の液晶の滴下の工程を示す断面図。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing a liquid crystal dropping process of still another mode in a method of manufacturing a wiring board according to a reference example of the present invention.

【図19】本発明の参考例に係る配線基板の製造方法に
おいて用いる金属配線基板の構造を示す断面図。
FIG. 19 is a sectional view showing the structure of a metal wiring board used in the method of manufacturing a wiring board according to the reference example of the present invention.

【図20】本発明の参考例に係る液晶基板の製造方法の
一形態を、その工程に沿って示す断面図。
FIG. 20 is a cross-sectional view showing one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal substrate according to a reference example of the present invention along the steps.

【図21】本発明の参考例に係る液晶素子の製造方法の
一形態に係る一部の工程を示す断面図。
FIG. 21 is a cross-sectional view illustrating some steps of one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal element according to a reference example of the present invention.

【図22】本発明の配線基板の製造方法の実施の形態を
その工程に沿って示す断面図。
FIG. 22 is a sectional view showing an embodiment of the method of manufacturing a wiring board of the present invention along the steps.

【図23】本発明の配線基板の製造方法の実施の形態に
おいて用いる樹脂の位置を定める位置決め治具の詳細な
構造を示す図。
FIG. 23 is a diagram showing a detailed structure of a positioning jig for determining a position of a resin used in the embodiment of the wiring board manufacturing method of the present invention.

【図24】上記本発明の液晶素子の製造方法の実施の形
態に係る他の工程を示す断面図。
FIG. 24 is a cross-sectional view showing another process according to the embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal element of the present invention.

【図25】本発明の配線基板の製造方法の実施の形態に
おいて用いる樹脂の位置を定める位置決め治具の別の形
態を示す図。
FIG. 25 is a view showing another embodiment of a positioning jig for determining the position of the resin used in the embodiment of the method of manufacturing a wiring board of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 平滑板 2 ガラス基板 3 金属配線 4 金属配線基板 5 樹脂 7 本プレス用ローラ 8 予備プレス用ローラ 10 配線基板 11 液晶素子 12 液晶 15 透明電極 18 平坦化層 21 気泡 45 一体物 51a,51b ローラ 59a,59b 位置決め治具 59c,59d 凹部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Smooth board 2 Glass substrate 3 Metal wiring 4 Metal wiring board 5 Resin 7 Roller for main press 8 Roller for preliminary press 10 Wiring board 11 Liquid crystal element 12 Liquid crystal 15 Transparent electrode 18 Flattening layer 21 Bubbles 45 Integrated material 51a, 51b Roller 59a , 59b Positioning jig 59c, 59d Recess

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1343 G02F 1/1343 5E343 H05K 3/22 H05K 3/22 B (72)発明者 徳永 博之 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 友野 晴夫 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2H088 FA18 FA30 HA01 HA02 HA04 HA12 MA10 2H090 HA01 HB07X HC05 HC17 HC18 HD03 JA05 JC14 JD14 LA01 LA15 2H092 GA05 GA17 HA04 JB24 JB33 JB58 KB04 MA05 MA13 MA37 NA19 NA28 PA01 PA08 4F041 AA02 AA05 AB02 BA05 BA22 BA56 4F042 AA02 AA06 AA10 BA06 BA08 DB41 DC00 DD22 DD27 DD46 5E343 AA02 AA26 BB02 BB08 BB61 BB71 DD25 DD76 ER50 GG20──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02F 1/1343 G02F 1/1343 5E343 H05K 3/22 H05K 3/22 B (72) Inventor Hiroyuki Tokunaga Tokyo 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku Canon Inc. (72) Inventor Haruo Tomino 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. F-term (reference) 2H088 FA18 FA30 HA01 HA02 HA04 HA12 MA10 2H090 HA01 HB07X HC05 HC17 HC18 HD03 JA05 JC14 JD14 LA01 LA15 2H092 GA05 GA17 HA04 JB24 JB33 JB58 KB04 MA05 MA13 MA37 NA19 NA28 PA01 PA08 4F041 AA02 AA05 AB02 BA05 BA22 BA56 4F042 AA02 AA02A06BA06 DD06 BB61 BB71 DD25 DD76 ER50 GG20

Claims (28)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面が平滑な平滑板と、表面に電極をパ
ターンニングして形成した基板間に流動性を有する高分
子材料を介在させ、前記平滑板と前記基板間に前記高分
子材料を挟んだ一体物を加圧し、前記高分子材料を延伸
して前記平滑板の表面に前記電極を形成した前記基板を
密着させ、前記高分子材料を硬化させた後に前記基板を
前記平滑板から剥離することにより、前記基板上の前記
電極間に前記高分子材料を平坦化して埋め込んだ配線基
板を作製する配線基板の製造方法において、 前記平滑板の大きさを、前記基板の高分子材料で平坦に
埋めるべき領域より大きくし、且つ前記基板より小さく
すると共に、前記加圧の範囲を前記基板の前記高分子材
料で平坦に埋めるべき領域より大きくし、且つ前記基板
より小さくする、 ことを特徴とする配線基板の製造方法。
1. A flowable polymer material is interposed between a smooth plate having a smooth surface and a substrate formed by patterning electrodes on the surface, and the polymer material is interposed between the smooth plate and the substrate. The sandwiched body is pressed, the polymer material is stretched, the substrate on which the electrodes are formed is brought into close contact with the surface of the smooth plate, and after the polymer material is cured, the substrate is separated from the smooth plate. In the method of manufacturing a wiring board for producing a wiring board in which the polymer material is flattened and embedded between the electrodes on the substrate, the size of the smooth plate is made flat with the polymer material of the substrate. A larger area than the area to be buried and smaller than the substrate, and a range of the pressurization larger than the area of the substrate to be buried flat with the polymer material and smaller than the substrate. Method of manufacturing a wiring board.
【請求項2】 前記基板の前記高分子材料で平坦に埋め
るべき領域に対応して、前記平滑板を位置決めすること
を特徴とする請求項1記載の配線基板の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the smoothing plate is positioned corresponding to a region of the substrate to be buried flat with the polymer material.
【請求項3】 前記加圧は、前記基板及び前記平滑板の
それぞれの表面を回転自在なローラで挟んで一方側から
他方側に移動させて行うことを特徴とする請求項1記載
の配線基板の製造方法。
3. The wiring board according to claim 1, wherein the pressing is performed by moving each surface of the substrate and the smooth plate from one side to the other side with a rotatable roller interposed therebetween. Manufacturing method.
【請求項4】 前記一体物を加圧する位置に搬送し、前
記基板の前記高分子材料で平坦に埋めるべき領域に対応
させて前記一体物の加圧開始と加圧解除のタイミングを
制御して加圧を行うことを特徴とする請求項1記載の配
線基板の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the unit is transported to a position where the unit is pressurized, and the start and the release of the pressurization of the unit are controlled in accordance with an area of the substrate to be buried flat with the polymer material. 2. The method according to claim 1, wherein pressure is applied.
【請求項5】 前記基板の端部側に凹部を形成し、前記
加圧により前記電極間からはみ出した余分な前記高分子
材料を、前記基板の外に洩れないように前記凹部に溜め
ることを特徴とする請求項1記載の配線基板の製造方
法。
5. A method according to claim 5, wherein a concave portion is formed at an end portion of the substrate, and excess polymer material protruding from between the electrodes due to the pressure is stored in the concave portion so as not to leak out of the substrate. The method for manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein:
【請求項6】 前記高分子材料の硬化は、前記基板の前
記高分子材料で平坦に埋めるべき領域のみ行うことを特
徴とする請求項1記載の配線基板の製造方法。
6. The method according to claim 1, wherein the hardening of the polymer material is performed only in a region of the substrate to be buried flat with the polymer material.
【請求項7】 前記高分子材料は、紫外線の照射により
硬化されるUV硬化樹脂であることを特徴とする請求項
1記載の配線基板の製造方法。
7. The method for manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein the polymer material is a UV-curable resin that is cured by irradiation of ultraviolet rays.
【請求項8】 前記平滑板の外側から紫外線をそれぞれ
照射して前記UV硬化樹脂を硬化することを特徴とする
請求項7記載の配線基板の製造方法。
8. The method according to claim 7, wherein the UV curing resin is cured by irradiating ultraviolet rays from outside the smooth plate.
【請求項9】 前記基板は透光性基板であり、該透光性
基板側から紫外線を照射して前記高分子材料を硬化させ
ることを特徴とする請求項7記載の配線基板の製造方
法。
9. The method according to claim 7, wherein the substrate is a light-transmitting substrate, and the polymer material is cured by irradiating ultraviolet rays from the light-transmitting substrate side.
【請求項10】 表面が平滑な平滑板と、表面に導電性
の電極をパターンニングして形成した基板間に流動性を
有する高分子材料を介在させる高分子材料滴下手段と、
前記平滑板と前記基板間に前記高分子材料を挟んだ一体
物を加圧し、前記高分子材料を延伸して前記平滑板の表
面に前記電極を形成した前記基板を密着させる加圧手段
と、前記高分子材料を硬化させる硬化手段とを有し、前
記基板を前記平滑板から剥離して、前記基板上の前記電
極間に前記高分子材料を平坦化して埋め込んだ配線基板
を作製する配線基板の製造装置において、 前記平滑板の大きさを、前記基板の前記高分子材料で平
坦に埋めるべき領域より大きくし、且つ前記基板より小
さくすると共に、前記加圧手段による加圧範囲を前記基
板の前記高分子材料で平坦に埋めるべき領域より大きく
し、且つ前記基板より小さくし、 前記基板の前記高分子材料で平坦に埋めるべき領域に対
応して、前記平滑板を位置決めする位置決め手段を備え
た、 ことを特徴とする配線基板の製造装置。
10. A smoothing plate having a smooth surface, and a polymer material dropping means for interposing a polymer material having fluidity between substrates formed by patterning conductive electrodes on the surface,
Pressing means for pressing an integrated body sandwiching the polymer material between the smooth plate and the substrate, stretching the polymer material, and bringing the substrate on which the electrodes are formed into close contact with the surface of the smooth plate; Curing means for curing the polymer material, a wiring board for peeling the substrate from the smooth plate, and flattening and embedding the polymer material between the electrodes on the substrate to produce a wiring board In the manufacturing apparatus, the size of the smooth plate is larger than a region of the substrate to be buried flat with the polymer material, and smaller than the substrate, and a pressing range of the pressing unit by the pressing unit is Positioning means for positioning the smoothing plate, which is larger than the area to be buried flat with the polymer material and smaller than the substrate, corresponds to the area of the substrate to be buried flat with the polymer material. Example was, apparatus for manufacturing a wiring substrate, characterized in that.
【請求項11】 前記加圧手段は、前記基板及び前記平
滑板のそれぞれの表面を回転自在なローラで挟んで一方
側から他方側に移動させて加圧することを特徴とする請
求項10記載の配線基板の製造装置。
11. The pressurizing device according to claim 10, wherein said pressurizing means presses by moving each surface of said substrate and said smooth plate from one side to the other side with a rotatable roller interposed therebetween. Wiring board manufacturing equipment.
【請求項12】 前記基板の前記高分子材料で平坦に埋
めるべき領域に対応させて、前記加圧手段による前記一
体物の加圧開始と加圧解除のタイミングを検知する検知
手段と、該検知手段からの検知信号に基づいて前記加圧
手段による前記一体物の加圧開始と加圧解除の動作を制
御する制御手段と、 を有することを特徴とする請求項10記載の配線基板の
製造装置。
12. Detecting means for detecting timing of starting pressurization and release of pressurization of said integrated object by said pressurizing means, corresponding to an area of said substrate to be buried flat with said polymer material, 11. The apparatus for manufacturing a wiring board according to claim 10, further comprising: control means for controlling an operation of starting pressurization and release of pressurization of said integrated object by said pressurizing means based on a detection signal from said means. .
【請求項13】 前記位置決め手段に、加圧により前記
基板の前記高分子材料材で平坦に埋めるべき領域からは
み出した余分な前記高分子材料を溜める凹部を設けたこ
とを特徴とする請求項10記載の配線基板の製造装置。
13. A positioning device according to claim 10, wherein said positioning means is provided with a recess for storing an excess of said polymer material protruding from a region of said substrate to be buried flat with said polymer material by pressure. The manufacturing apparatus of the wiring board according to the above.
【請求項14】 前記高分子材料の硬化は、前記基板の
前記高分子材料で平坦に埋めるべき領域のみ行うことを
特徴とする請求項10記載の配線基板の製造装置。
14. The apparatus for manufacturing a wiring board according to claim 10, wherein the curing of the polymer material is performed only in a region of the substrate to be buried flat with the polymer material.
【請求項15】 前記高分子材料滴下手段は、紫外線の
照射により硬化されるUV硬化樹脂を滴下することを特
徴とする請求項10記載の配線基板の製造装置。
15. The apparatus for manufacturing a wiring board according to claim 10, wherein said polymer material dropping unit drops a UV curable resin which is cured by irradiation of ultraviolet rays.
【請求項16】 前記硬化手段は平滑板の外側から紫外
線をそれぞれ照射して前記UV硬化樹脂を硬化すること
を特徴とする請求項15記載の配線基板の製造装置。
16. The apparatus for manufacturing a wiring board according to claim 15, wherein said curing means irradiates ultraviolet rays from outside the smooth plate to cure the UV-curable resin.
【請求項17】 前記基板は透光性基板であり、前記硬
化手段は該透光性基板側から紫外線を照射して前記樹脂
を硬化させることを特徴とする請求項15記載の配線基
板の製造装置。
17. The manufacturing method according to claim 15, wherein the substrate is a light-transmitting substrate, and the curing unit irradiates ultraviolet rays from the light-transmitting substrate side to cure the resin. apparatus.
【請求項18】 互いに対向するように配置され電極群
を形成した一対の配線基板間に液晶が挟持され、前記配
線基板の少くとも一方が、透光性の基板上に導電性の電
極をパターンニングして形成され、前記電極間に高分子
材料を埋め込んで平坦化されている液晶素子の製造方法
において、 前記配線基板を、表面が平滑な平滑板と、表面に導電性
の電極をパターンニングして形成した基板間に流動性を
有する高分子材料を介在させ、前記平滑板と前記基板間
に前記高分子材料を挟んだ一体物を加圧し、前記高分子
材料を延伸して前記平滑板の表面に前記電極を形成した
前記基板を密着させ、前記高分子材料を硬化させた後に
前記基板を前記平滑板から剥離することによって形成
し、 前記平滑板の大きさを、前記基板の前記高分子材料で平
坦に埋めるべき領域より大きくし、且つ前記基板より小
さくすると共に、前記加圧の範囲を前記基板の前記高分
子材料で平坦に埋めるべき領域より大きくし、且つ前記
基板より小さくする、ことを特徴とする液晶素子の製造
方法。
18. A liquid crystal is sandwiched between a pair of wiring boards arranged to face each other and forming an electrode group, and at least one of the wiring boards is formed by patterning a conductive electrode on a translucent substrate. In a method for manufacturing a liquid crystal element, which is formed by flattening and is planarized by embedding a polymer material between the electrodes, the wiring substrate is formed by patterning a smooth plate having a smooth surface and a conductive electrode on the surface. A polymer material having fluidity is interposed between the substrates formed in the above-mentioned manner, and an integrated body sandwiching the polymer material between the smooth plate and the substrate is pressed, and the polymer material is stretched to form the smooth plate. The substrate on which the electrodes are formed is brought into close contact with the surface of the substrate, and after curing the polymer material, the substrate is formed by peeling the substrate from the smooth plate, and the size of the smooth plate is adjusted to the height of the substrate. Flat with molecular material The area to be pressed is larger than the area to be filled, and smaller than the substrate, and the range of the pressure is larger than the area of the substrate to be buried flat with the polymer material, and smaller than the substrate. Method for manufacturing a liquid crystal element.
【請求項19】 前記基板の前記高分子材料で平坦に埋
めるべき領域に対応して前記平滑板を位置決めすること
を特徴とする請求項18記載の液晶素子の製造方法。
19. The method according to claim 18, wherein the smooth plate is positioned corresponding to a region of the substrate to be buried flat with the polymer material.
【請求項20】 前記加圧は、前記基板及び前記平滑板
のそれぞれの表面を回転自在なローラで挟んで一方側か
ら他方側に移動させて行うことを特徴とする請求項18
記載の液晶素子の製造方法。
20. The pressurizing method according to claim 18, wherein the pressing is performed by moving each surface of the substrate and the smooth plate from one side to the other side with a rotatable roller interposed therebetween.
The manufacturing method of the liquid crystal element of the description.
【請求項21】 前記一体物を加圧する位置に搬送し、
前記基板の前記高分子材料で平坦に埋めるべき領域に対
応させて前記一体物の加圧開始と加圧解除のタイミング
を制御して加圧を行うことを特徴とする請求項18記載
の液晶素子の製造方法。
21. Conveying the integrated object to a position for pressurizing,
19. The liquid crystal device according to claim 18, wherein the pressurization is performed by controlling the timing of starting pressurization and releasing pressurization of the integrated object corresponding to a region of the substrate to be buried flat with the polymer material. Manufacturing method.
【請求項22】 前記基板の端部側にそれぞれ凹部を形
成し、前記加圧の移動により前記電極間からはみ出した
余分な前記高分子材料を前記基板の外に洩れないように
前記凹部に溜めることを特徴とする請求項18記載の液
晶素子の製造方法。
22. A concave portion is formed on each of the end portions of the substrate, and the excess polymer material protruding from between the electrodes due to the movement of the pressure is stored in the concave portion so as not to leak out of the substrate. 19. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 18, wherein:
【請求項23】 前記高分子材料の硬化は、前記基板の
前記高分子材料で平坦に埋めるべき領域のみ行うことを
特徴とする請求項18記載の液晶素子の製造方法。
23. The method according to claim 18, wherein the curing of the polymer material is performed only in a region of the substrate to be buried flat with the polymer material.
【請求項24】 前記高分子材料は、紫外線の照射によ
り硬化されるUV硬化樹脂であることを特徴とする請求
項18記載の液晶素子の製造方法。
24. The method according to claim 18, wherein the polymer material is a UV-curable resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays.
【請求項25】 前記平滑板の外側から紫外線をそれぞ
れ照射して前記UV硬化樹脂を硬化することを特徴とす
る請求項24記載の液晶素子の製造方法。
25. The method according to claim 24, wherein the UV curing resin is cured by irradiating ultraviolet rays from outside the smooth plate.
【請求項26】 前記基板は透光性基板であり、該透光
性基板の外側より紫外線を照射して前記高分子材料を硬
化させることを特徴とする請求項24記載の液晶素子の
製造方法。
26. The method according to claim 24, wherein the substrate is a light-transmitting substrate, and the polymer material is cured by irradiating ultraviolet light from outside the light-transmitting substrate. .
【請求項27】 前記電極上の少なくとも一部に電気的
に接するようにして透明電極を形成することを特徴とす
る請求項18記載の液晶素子の製造方法。
27. The method according to claim 18, wherein a transparent electrode is formed so as to be in electrical contact with at least a part of the electrode.
【請求項28】 前記液晶はカイラルスメチック液晶で
あることを特徴とする請求項18記載の液晶素子の製造
方法。
28. The method according to claim 18, wherein the liquid crystal is a chiral smectic liquid crystal.
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