JPH09269406A

JPH09269406A - カラーフィルタの製造方法及び液晶パネル並びに電子機器

Info

Publication number: JPH09269406A
Application number: JP7765296A
Authority: JP
Inventors: Kuniyasu Matsui; 邦容松井; Fumiaki Matsushima; 文明松島
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1996-03-29
Filing date: 1996-03-29
Publication date: 1997-10-14

Abstract

(57)【要約】【課題】ミセル電解法により作製されるカラーフィル
タにおいて、有機顔料膜形成前にブラックマトリックス
を形成する場合、ブラックレジストの残さによるブラッ
クマトリックス近傍での有機顔料膜のつきまわりを改善
し、白抜け欠陥をなくし、ミセルカラーフィルタを使用
した液晶カラーパネルにおいて高コントラストを得られ
る高性能なカラーフィルタを提供する。【解決手段】ガラス基板１３上にＩＴＯ電極（導電性
透明電極）１１をフォトリソ法によりパターニングし、
カラーフィルタ電極基板とする。この電極基板上に非導
電性顔料ブラックレジストを用いてブラックマトリック
ス１２を形成したのち、前処理として短波長紫外線照射
を行い、さらに活性剤等の洗浄剤水溶液１４中に浸漬す
る。その後、ミセルコロイド水溶液中で電解し、Ｒｅｄ
・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅの有機顔料膜を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶テレビ
・パーソナルコンピューター用ディスプレイ等に用いら
れる、アクティブマトリックス及び単純マトリックスカ
ラー液晶パネルに用いるカラーフィルタの製造方法、お
よびそのカラーフィルタを有する液晶パネル並びにその
液晶パネルを有する電子機器に関する。

【０００２】

【従来の技術】水に不溶性もしくは難溶性の顔料粒子お
よびＩＴＯ（導電性透明電極）微粒子を、電界により荷
電する界面活性剤および支持電解質を基本成分とし、顔
料粒子を界面活性剤で取り囲んだ顔料のミセルコロイド
水溶液を調整し、このミセルを電解により破壊して導電
体上に顔料粒子及びＩＴＯ微粒子を析出させ、導電性の
ある顔料薄膜を形成するという薄膜形成方法を用いて、
Ｒｅｄ・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅ３原色からなるカラーフ
ィルタを製造し、これを液晶パネル用のカラーフィルタ
として使用することを本出願人は発明した（特開平２−
２４６０３号公報、特開平６−１８７１６号公報、特開
平６−５９１１７号公報）。

【０００３】一般的なＳＴＮパネル用カラーフィルタの
構造を図４の断面図で示す。ガラス基板１３上の隣あっ
たＲｅｄ・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅの顔料膜１６の顔料膜
間のギャップに、ブラックマトリックス１２を形成す
る。顔料膜１６上には、導電性透明電極１１が形成され
ている。ブラックマトリックスを疑似ブラックマトリッ
クスとした構造を図５の断面図に示す。薄膜で充分な遮
光率を得るために金属薄膜を用いたり、カーボンブラッ
ク、あるいは顔料、またはそれらの混合物からなる黒色
顔料レジスト、あるいはＲｅｄ・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅ
有機顔料膜１６のエッジ部に一部Ｂｌｕｅ膜を重ねて透
過率を低下させ、疑似ブラックマトリックス１５として
いる。

【０００４】しかしながら、ミセル電解法においては、
パターニングした電極上に前記のミセル電解法でＲｅｄ
・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅ有機顔料膜の形成を行うが、電
極自体を液晶駆動用電極として用いるために、Ｒｅｄ・
Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅ有機顔料膜１６にＩＴＯ微粒子を
含有させ、有機顔料膜１６自体を導電性にすることを特
徴としている。したがって、前記図４のようなＲｅｄ・
Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅの画素電極の電極間のギャップに
形成するブラックマトリックスとして、金属薄膜やカー
ボンブラックを多く含んだ導電性のある顔料ブラックを
用いた場合、パターン間で電流のリークが生じるために
駆動特性が低下する。また、図５のようなＲｅｄ・Ｇｒ
ｅｅｎ・Ｂｌｕｅ有機顔料膜１６のエッジ部に一部、Ｂ
ｌｕｅ膜を重ねてブラックマトリックス１５とした構造
でも、同様にパターン同士が接触していてもリークが起
こる。従って、必然的にミセル電解法においてはブラッ
クマトリックスは非導電性であることが要求される。

【０００５】上記のような課題を回避するために、ブラ
ックマトリックスをＲｅｄ・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅ有機
顔料膜形成後に形成する方法が考えられる。

【０００６】この、ブラックマトリックスをＲｅｄ・Ｇ
ｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅ有機顔料膜形成後に形成した場合の
構造を図６の断面図で説明する。各有機顔料膜１６は基
本的には顔料微粒子の堆積膜であるために、Ｒｅｄ・Ｇ
ｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅ有機顔料膜１６上に直接ブラックレ
ジストをコートしパターニングを行うと、顔料粒子の隙
間にブラックレジストの残さが残り、透過率を低下させ
たり、色調を変化させたりという不具合が生じる。この
ため、有機顔料膜１６上に一担アクリル樹脂等により保
護膜１７をコーティングしたあとにブラックマトリック
ス１２を形成する方法が考えられる。しかしながらこの
場合でも、凹凸のある有機膜（有機顔料膜＋保護膜）上
に有機膜（顔料レジスト）をフォトリソにより形成する
ために、パターニング性が低下したり、残さが課題にな
ったりする。また、有機膜上に金属膜をスパッタし、エ
ッチングにより、金属ブラックパターンを形成する場合
には、パターニング性を向上させるため保護膜の膜厚を
厚膜にし、平坦化する必要があるため、その場合は保護
膜の抵抗により、有機顔料膜１６が高抵抗化してしま
い、導電化した効果が失われてしまう。さらには、耐薬
品性も考慮しなければならず、材料的にも制約を生じ
る。また、保護膜上に顔料レジストによりブラックマト
リックスを形成できたとしても、顔料レジストで充分な
遮光率を得るには１μｍ以上の膜厚が必要であり、パネ
ルにした場合、Ｒｅｄ・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅ有機顔料
膜１６上とブラックマトリックス上でセル厚に大きな差
が生じ、配向不良などの原因になる。

【０００７】以上のような理由から、ミセル電解法にお
いてはブラックマトリックスはＲｅｄ・Ｇｒｅｅｎ・Ｂ
ｌｕｅ有機顔料膜を形成する前に形成しておくことが望
ましく、その場合材料的には非導電性の材料である必要
がある。

【０００８】従って、ミセル電解法によりカラーフィル
タを製造する場合は、以下のような構造になる。

【０００９】ブラックレジストを先に形成した場合のミ
セル電解法カラーフィルタの断面構造を図７に示す。ま
ず、ガラス基板１３上に導電性透明電極１１を形成し、
次に非導電性材料からなるブラックレジストを用い、フ
ォトリソ法によりブラックマトリックス１２を形成し、
最後にミセル電解法により、Ｒｅｄ・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌ
ｕｅの有機顔料膜１６を順番に形成するものである。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ブラッ
クマトリックスを先に形成した場合、以下のような課題
が生じる。すなわち、ブラックマトリックスとして用い
るブラックレジストのパターニング時の現像残さ（単分
子膜程度のきわめて薄い有機膜と考えられる）が、有機
顔料膜１６を成膜するための導電性透明電極１１上に残
り、特にブラックマトリックス１２近傍において成膜を
阻害してしまうため、ミセル電解法により、有機顔料膜
１６を形成する際に、ブラックマトリックス１２近傍で
有機顔料膜１６のつきまわりが悪くなり、ブラックマト
リックス１２近傍で光抜け欠陥を生じ、パネルとしての
コントラストを低下させてしまう。また、この残さは充
分に洗浄を加えても完全には除去することができないこ
とがわかった。

【００１１】そこで、本発明の目的とするところは、以
上のような課題を解決し、ブラックマトリックスを先に
形成した場合でも、ブラックマトリックス近傍での光抜
け欠陥のないカラーフィルタを提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
の製造方法は、水に不溶性もしくは難溶性の顔料粒子及
びＩＴＯ（導電性透明電極、以下同じ）微粒子、および
電界により荷電する界面活性剤、および支持電解質を基
本成分とし、顔料粒子及びＩＴＯ微粒子を界面活性剤で
取り囲んだ顔料のミセルコロイド水溶液を調整し、該ミ
セルを電解により破壊し、導電体上に顔料粒子及びＩＴ
Ｏ微粒子を析出させ、顔料薄膜を形成するカラーフィル
タの製造方法において、ａ）透明導電膜上に、非導電性顔料ブラックレジストを
用いて、フォトリソ法によりブラックマトリックスパタ
ーンを形成する第一の工程、ｂ）短波長紫外線をブラックマトリックスパターンを含
む基板上に照射する第二の工程、ｃ）界面活性剤液中に紫外線を照射した基板を浸漬する
第三の工程、ｄ）ポジレジストを用い、フォトリソ法により選択的に
１色目の膜を形成する場所に穴を明ける第四の工程、ｅ）ＲｅｄまたはＧｒｅｅｎまたはＢｌｕｅ膜形成を前
記薄膜形成方法を用いて形成した後レジストを剥離する
第五の工程、ｆ）ｄ）、ｅ）を繰り返し３色形成する工程、からなる
ことを特徴とする。

【００１３】また、前記第二の工程の短波長紫外線の照
射光量が波長２５４ｎｍで６００から２０００ｍｊ／ｃ
ｍ² であることを特徴とする。

【００１４】また、前記第三の工程の界面活性剤とし
て、アルカリ性界面活性剤またはシランカップリング剤
を用いることを特徴とする。

【００１５】更に、本発明の液晶パネルは、前記製造方
法で得られたカラーフィルタを有することを特徴とす
る。

【００１６】加えて、本発明の電子機器は、前記液晶パ
ネルを有することを特徴とする。

【００１７】

【作用】本発明によるカラーフィルタの製造方法は、ブ
ラックマトリックス近傍における有機顔料膜のつきまわ
りを改善できることにより、ブラックマトリックス近傍
での光抜け欠陥をなくし、また副次的効果として、ブラ
ックマトリックスを先に形成することで、Ｒｅｄ・Ｇｒ
ｅｅｎ・Ｂｌｕｅ膜とブラックマトリックスの膜厚段差
を極力小さくできる。

【００１８】その作用は、工程ｂ）における短波長紫外
線を照射することにより、単分子膜程度のきわめて薄い
ブラックレジスト残さ、もしくはその溶剤残さによる有
機膜が除去されることで、成膜の阻害がなくなり、つき
まわりが向上することにある。その上、短波長紫外線を
照射することにより、ＩＴＯ表面の活性が高くなり、工
程ｄ）でのミセル電解法による有機顔料膜の密着力が向
上するという効果もあることが実験の結果わかった。

【００１９】ここで、工程ｂ）における短波長紫外線の
最適照射光量としては、鋭意検討の結果、照射ピーク波
長２５４ｎｍで６００から２０００ｍｊ／ｃｍ² が望ま
しく、これより少ないと残さが除去し切れず膜のつきま
わりが悪くなる場合があり、これより多いと残さは除去
できるが、表面の活性がさらに上がり、空気中の水分や
炭化水素等の吸着が起こるため、そのあとの工程ｄ）で
形成する、ミセル電解法により成膜した有機顔料膜の密
着性が低下してしまう場合のあることが実験によりわか
った。

【００２０】また、加えて、工程ｃ）を省略した場合、
すなわち工程ａ）、ｂ）、ｄ）だけでも有機膜残さの除
去の効果は認められ、つきまわりは改善できることがわ
かった。しかしながら、工程ｂ）を行ったあと数日をお
いてから工程ｄ）を行う場合、短波長紫外線による表面
の高活性状態は、通常の大気中では時間と共に低下し、
ＩＴＯ表面の接触角でみると紫外線照射直後はＩＴＯ表
面は完全に親水性になり、接触角は０°に近くである
が、およそ２４時間後には未処理と同等の状態に戻って
しまう。この変化をグラフ化したものを図８に示す。こ
れは短波長紫外線によるＩＴＯ表面の活性の向上は短期
間で急速に低下することを示している。従って、工程
ｂ）だけでは、長期間経過後には、表面の活性が低下
し、その結果、工程ｄ）において形成する有機顔料膜の
密着力が低下し、膜はがれが起こりやすくなり、問題で
あることがわかった。

【００２１】実際の製造においては、工程ｂ）のあと、
日数をおいてから工程ｄ）を行う場合がある。以上のよ
うな理由から、工程ｂ）のあと工程ｃ）を行うことによ
り、紫外線を照射することで活性化したＩＴＯ表面に、
洗浄剤等の界面活性剤を先に吸着させることで、表面に
ＯＨ基等を吸着させ、ＩＴＯ表面を親水化しておくこと
により、長期間表面を親水化状態にしておくことがで
き、長期間経過後も密着性が低下せずに有機顔料膜を形
成できる作用があることが実験の結果明らかになった。

【００２２】以上の結果から量産性の向上が期待でき
る。なお工程ｃ）で使用する界面活性剤は特に限定はな
く一般の洗浄剤として用いる界面活性剤であれば、イオ
ン性でも非イオン性でもどちらでも良い。その濃度も一
般に使用される濃度である数％でよい。しかしながら、
最も有機顔料膜の密着性向上に効果的であるものは、鋭
意検討の結果、アルカリ性界面活性剤もしくはシランカ
ップリング剤であることがわかった。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例に基づき、
詳細に説明する。

【００２４】（実施例１）本発明の第１の実施例を図１
に基づき詳細に説明する。

【００２５】ガラス基板１３上にＩＴＯ電極（導電性透
明電極）１１をフォトリソ法により、１００μｍピッチ
で縦ストライプ状にパターニングし、カラーフィルタ電
極基板を作製した（図１（ａ））。この基板に以下の工
程でカラーフィルタを形成した。

【００２６】工程（ａ）：カラーフィルタ電極基板上に
スピンコーターにより１．２μｍの膜厚で全面にブラッ
クレジストを塗布した。ブラックレジスト材料としては
非導電性の黒色顔料ネガレジスト（富士ハントエレクト
ロニクス（株）社製）を用いた。露光・現像を行い、ブ
ラックマトリックス１２を形成できた（図１（ｂ））。
ブラックマトリックス１２はＩＴＯ電極（導電性透明電
極）１１の電極間ギャップを埋めるような形で形成され
ている。１８０℃でポストベークを行い、充分硬化させ
た状態で以下の工程を行った。

【００２７】工程（ｂ）：ＵＶ照射機（オーク（株）社
製）により短波長紫外線を照射した。照射光量は計測波
長２５４ｎｍで１２００ｍｊ／ｃｍ² （オーク（株）社
製紫外線光量計ＵＶ−３５０／２５による実測値）とし
た（図１（ｃ））。

【００２８】工程（ｃ）：アルカリ性洗浄剤（リンダセ
ミクリーンＬＲＧ、横浜油脂（株）製）の２．５体積％
水溶液１４中（５５℃）に５分間揺動浸漬した後、純水
で充分リンスし、乾燥した（図１（ｄ））。

【００２９】工程（ｄ）：ポジレジストＯＦＰＲ８００
（東京応化（株）社製）を用い、これを基板上に全面に
塗布し、露光・現像のいわゆるフォトリソ工程を行い、
Ｂｌｕｅ膜を形成する電極上にのみ穴を明けた。すなわ
ち２本おきのＩＴＯ電極のみが露出し、他の部分はレジ
ストでおおわれている。

【００３０】工程（ｅ）：ミセル電解法によりＢｌｕｅ
・Ｇｒｅｅｎ・Ｒｅｄの順にそれぞれの電極パターンに
通電し、電解成膜した。ミセル電解液として以下の組成
の液を使用した。溶媒は全て純水である。なお１色目の
Ｂｌｕｅ膜形成後、工程（ｄ）で形成したポジレジスト
は、１００℃で２０分間焼成した後、７％ＫＯＨ水溶液
中で剥離し、ポストベーク１８０℃、３０分間行った。
その後工程（ｄ）（ｅ）を繰り返し、３色を形成してい
る。

【００３１】Ｂｌｕｅ電解液有機顔料６ｇ／リットル（フタロシアニン系（青）：アゾ系（黄）顔料＝９：１混合物）導電性微粒子ＩＴＯ微粉末（住友金属鉱山製）１８ｇ／リットル界面活性剤フェロセニルＰＥＧ（同仁化学製）３．７ｇ／リットル支持電解質ＬｉＢｒ１０ｇ／リットルＧｒｅｅｎ電解液有機顔料１２ｇ／リットル（フタロシアニングリーン系（緑）：アゾ系（黄）顔料＝８：２混合物）導電性微粒子ＩＴＯ微粉末（住友金属鉱山製）１８ｇ／リットル界面活性剤フェロセニルＰＥＧ（同仁化学製）３．８ｇ／リットル支持電解質ＬｉＢｒ１ｇ／リットルＲｅｄ電解液有機顔料１０ｇ／リットル（アントラキノン系（赤）：アゾ系（黄）顔料＝９：１混合物）導電性微粒子ＩＴＯ微粉末（住友金属鉱山製）３６ｇ／リットル界面活性剤フェロセニルＰＥＧ（同仁化学製）５．２ｇ／リットル支持電解質ＬｉＢｒ１０ｇ／リットル界面活性剤のフェロセニルＰＥＧは、レドックス反応性
をもつ界面活性剤であり、顔料粒子の表面に吸着し、コ
ロイド分散化させるとともに、電解により、アノード電
極基板表面に顔料粒子を析出させる性質を持つ。

【００３２】これらを支持電解質と共に純水中に混合
し、超音波ホモジナイザーにより、有機顔料粒子をコロ
イド分散し電解液とした。

【００３３】ブラックマトリックスを形成したガラス基
板をアノードに、Ｔｉ／Ｐｔ電極をカソードにして、電
解を行った。電解電圧はＳＣＥに対し、Ｒｅｄ／１Ｖ、
電解時間は１５分間、Ｇｒｅｅｎ／０．６Ｖ、２０分
間、Ｂｌｕｅ／０．６Ｖ、１５分間とした。

【００３４】本実施例により作製したカラーフィルタは
つきまわりも良好であり、パネル化しても白抜け欠陥と
ならないことが確認できた。

【００３５】（比較例１）上記実施例１における工程
（ｂ）及び工程（ｃ）を省略して作製した基板に、実施
例１と同様のミセル液中で電解成膜を行った結果、つき
まわりが悪く、パネル化しても白抜け欠陥となり、コン
トラストが悪いことが確認できた。

【００３６】（実施例２）実施例１で使用した基板と同
一の電極パターニング基板に、実施例１における工程
（ａ）から工程（ｃ）までと同一の工程でカラーフィル
タ用基板を作製した。

【００３７】本基板に以下の工程（ｄ´）を行いカラー
フィルタを作製した。

【００３８】工程（ｄ´）：上記基板にポジレジスト
（東京応化（株）社製、ＯＦＰＲ８００）を塗布しＲｅ
ｄ・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅの画素がモザイク状（図２）
に配置されるように作製したマスクを使用して、パター
ニングを行った。本基板に１色目としてＲｅｄ膜をミセ
ル電解法により形成した。ミセル液並びに成膜条件は実
施例１と同様である。この膜を１００℃で２０分間焼成
した後、７％ＫＯＨ水溶液中でレジストを剥離し、１８
０℃で３０分間ポストベークを行った。以上の工程を２
色目、Ｇｒｅｅｎ、３色目Ｂｌｕｅについても同様に行
い、Ｒｅｄ・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅがモザイク状に形成
されたカラーフィルタを作製できた。

【００３９】本実施例により作製したカラーフィルタは
つきまわりも良好であり、パネル化しても白抜け欠陥と
ならないことが確認できた。

【００４０】（実施例３）図３に示したような、電極が
基板に対し横方向に形成されたガラス基板１３に、実施
例１と同一の工程（ａ）から（ｃ）を行った。

【００４１】この際、ブラックマトリックス１２が格子
状に形成されるようなマスクを用いた。本基板に、実施
例２に示した工程（ｄ´）を行い、Ｒｅｄ・Ｇｒｅｅｎ
・Ｂｌｕｅを形成した。本実施例により作製したカラー
フィルタは、つきまわりも良好であり、パネル化しても
白抜け欠陥とならないことが確認できた。

【００４２】

【発明の効果】本発明により作製されるカラーフィルタ
は、ブラックマトリックス近傍における有機顔料膜のつ
きまわりを改善できることにより白抜け欠陥をなくし、
またブラックマトリックスを先に形成することで、Ｒｅ
ｄ・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅとブラックマトリックス間の
段差が極力小さくでき、ＳＴＮ液晶を用いた単純マトリ
ックスカラーパネルにおいても、配向不良のない高性能
なカラーフィルタを提供することができる。従って、こ
のようなカラーフィルタを有する液晶表示パネル及びこ
の液晶表示パネルを有するパソコンや携帯端末機器など
の電子機器は、優れた表示品質を具備する優れた商品を
もたらすものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルタの製造工程を示す図。

【図２】本発明の実施例２で作製したカラーフィルタの
構造を示す図。

【図３】本発明の実施例３で作製したカラーフィルタの
構造を示す図。

【図４】ＳＴＮパネルに用いるカラーフィルタのブラッ
クマトリックス形成例を示す図。

【図５】ＳＴＮパネルに用いるカラーフィルタのブラッ
クマトリックス形成例を示す図。

【図６】従来のミセル電解法カラーフィルタの構造を示
す断面図。

【図７】カラーフィルタの構造を示す断面図。

【図８】短波長紫外線照射によるＩＴＯ表面の濡れ性の
経時変化を示す図。

【符号の説明】

１１導電性透明電極１２ブラックマトリックス１３ガラス基板１４界面活性剤洗浄液１６有機顔料膜（カラーフィルタ層）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水に不溶性もしくは難溶性の顔料粒子及
びＩＴＯ微粒子、および電界により荷電する界面活性
剤、および支持電解質を基本成分とし、顔料粒子及びＩ
ＴＯ微粒子を界面活性剤で取り囲んだ顔料のミセルコロ
イド水溶液を調整し、該ミセルを電解により破壊して導
電体上に顔料粒子及びＩＴＯ微粒子を析出させ、顔料薄
膜を形成するカラーフィルタの製造方法において、ａ）透明導電膜上に、非導電性顔料ブラックレジストを
用いて、フォトリソ法によりブラックマトリックスパタ
ーンを形成する第一の工程、ｂ）短波長紫外線をブラックマトリックスパターンを含
む基板上に照射する第二の工程、ｃ）界面活性剤液中に紫外線を照射した基板を浸漬する
第三の工程、ｄ）ポジレジストを用い、フォトリソ法により選択的に
１色目の膜を形成する場所に穴を明ける第四の工程、ｅ）ＲｅｄまたはＧｒｅｅｎまたはＢｌｕｅ膜形成を前
記薄膜形成方法を用いて形成した後レジストを剥離する
第五の工程、ｆ）ｄ）、ｅ）を繰り返して３色形成する工程、からな
ることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】前記第二の工程の短波長紫外線の照射光
量が、波長２５４ｎｍで６００から２０００ｍｊ／ｃｍ
² であることを特徴とする請求項１記載のカラーフィル
タの製造方法。
【請求項３】前記第三の工程の界面活性剤として、ア
ルカリ性界面活性剤またはシランカップリング剤を用い
ることを特徴とする請求項１または２記載のカラーフィ
ルタの製造方法。
【請求項４】請求項１乃至３のいずれかに記載の製造
方法により得られたカラーフィルタを有する液晶パネ
ル。
【請求項５】請求項４記載の液晶パネルを有する電子
機器。