JPH09259677A - 懸垂碍子の施釉方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】リブの谷間部分にピンホールを生ずることがな
く、しかも均一な厚みの釉薬層を形成することができる
懸垂碍子の施釉方法を提供する。 【解決手段】懸垂碍子を釉薬槽内に浸漬して６０〜９０
ｒｐｍの速度で所定時間回転させた後、回転速度を４０
ｒｐｍ以下まで落として更に所定時間回転させたうえで
釉薬槽から取り出す。最初の高速回転によりピンホール
がなくなり、後の低速回転により遠心力による釉薬層の
厚みのバラツキを解消できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、懸垂碍子の製造工
程において用いられる浸漬式の懸垂碍子の施釉方法に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】未焼成の懸垂碍子に対する施釉方法とし
て、釉薬泥漿が入っている釉薬槽に懸垂碍子を浸漬して
回転させながら施釉する方法が知られている。この方法
は、懸垂碍子を例えば４０ｒｐｍ以下の一定速度で回転
させながら釉薬槽内に一定時間浸漬し、その後釉薬槽か
ら取り出して一定時間そのまま保持し、釉薬の流下によ
る釉タレをぬぐい取ったうえ乾燥させる方法である。こ
れらの工程中、懸垂碍子は一定速度で回転されている。

【０００３】ところが、図１に示すように懸垂碍子はそ
の裏面に多数のリブ１を持つため、上記した従来の施釉
方法ではリブ１、１間の谷間部分２に釉薬がうまく付着
せず、ピンホールが発生することがあった。このため従
来は施釉後の懸垂碍子を検査し、ピンホールが認められ
た場合にはその部分に釉薬粉末を塗布していたのである
が、そのための検査や塗布のために１個当たり２分以上
の時間を要するという問題があった。

【０００４】本発明者等はこの問題を解決するために試
行錯誤を繰り返した結果、懸垂碍子の回転速度を例えば
６０ｒｐｍ以上にまで高めれば、リブ１、１間の谷間部
分２のピンホールを消滅させることができることを見出
した。ところがその反面、回転数を上げたことにより懸
垂碍子の外周部では遠心力により釉薬が外側に流れ、釉
薬層の厚みが遠心力の影響の少ない中心部よりも薄くな
ることが判明した。

【０００５】例えば、図１に示す懸垂碍子の同一のリブ
１を観察した場合にも、その外周側の部分Ａの釉薬層の
厚みは０．２５ｍｍ、内側の部分Ｂの釉薬層の厚みは
０．４０ｍｍとなり、厚みのバラツキは非常に大きくな
るのである。このような釉薬層の厚みのバラツキは、懸
垂碍子の電気的特性を低下させるため好ましくない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した従来
の問題点を解決し、リブの谷間部分にピンホールを生ず
ることがなく、しかも均一な厚みの釉薬層を形成するこ
とができる懸垂碍子の施釉方法を提供するためになされ
たものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めになされた本発明は、未焼成の懸垂碍子を釉薬槽内に
浸漬して一定速度で所定時間回転させた後、回転速度を
落として更に所定時間回転させたうえで釉薬槽から取り
出すことを特徴とするものである。なお、懸垂碍子の最
初の回転速度を６０ｒｐｍ以上とし、その後の回転速度
を４０ｒｐｍ以下とすることが好ましい。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下に本発明の好ましい実施の形
態を示す。まず、未焼成の懸垂碍子の頭部３をチャック
し、従来法よりも高速で回転させる。その回転速度は釉
薬の粘性により決定されるべきものであるが、後記する
実施例に示すように通常の碍子用釉薬の場合には６０〜
９０ｒｐｍに設定することが好ましい。そして回転速度
を一定に維持したままで図２のように傾斜状態で施釉槽
の内部に浸漬する。

【０００９】このようにして比較的高速度で回転させな
がら施釉を行うと、釉薬と懸垂碍子の表面との間に十分
な速度差が生じ、その結果としてリブ１、１間のの谷間
部分２にも釉薬が進入することができるので、ピンホー
ルを消滅させることができる。また傾斜状態で施釉を行
うため、リブ１、１間にエアポケットができることもな
い。なお、頭部３の内側には空気溜まりができるのでパ
イプ４によりこの部分を外気と連通させておくことが好
ましい。

【００１０】しかしこのような高い回転数のままで釉薬
槽から外部に取り出すと前記したように遠心力による釉
薬層の厚みの不均一が生じるので、本発明においては懸
垂碍子を一定時間高速で回転させた後に、回転速度を落
として釉薬槽内で更に所定時間回転させる。このときの
回転速度は、従来と同様に遠心力の影響を受けにくい４
０ｒｐｍ以下とすればよい。その後は釉薬槽から懸垂碍
子を取り出し、引続き同一速度で回転を継続して釉タレ
をぬぐい取ったうえ乾燥させる。

【００１１】なお、本発明において釉薬槽内で回転速度
を落として所定時間回転させたうえで取り出すのは、釉
薬槽から取り出した後に回転速度を落とす方法では、釉
薬槽から取り出される瞬間に釉薬中に浸漬されていた下
側部分と、釉薬面よりも上側の部分との間で釉薬層の厚
みが均一とならないためである。

【００１２】このように、本発明によればまず懸垂碍子
を比較的高速度で回転させながら施釉を行うことにより
ピンホールの発生を防止し、次に回転速度を落としたう
えで取り出すことにより、遠心力による釉薬層の厚みの
不均一を解消することができる。この結果、従来のよう
にピンホールが認められた部分に釉薬粉末を塗布するよ
うな作業が不要となり、しかも釉薬層の厚みの不均一に
よる電気的特性のバラツキもない懸垂碍子を得ることが
できる。

【００１３】

【実施例】次に本発明の実施例を示す。未焼成の懸垂碍
子の頭部をチャックし、まず６０ｒｐｍで回転させなが
ら図２のように釉薬層に浸漬した。この場合の釉薬は、
マリオット(mariott) チューブ粘性計により１００ｍＬ
の釉薬が落下するに要する時間が５０秒の粘性を有する
ものであった。全浸漬時間の２／３が経過したときに回
転速度を４０ｒｐｍまで低下させ更に全浸漬時間の１／
３だけ釉薬中で回転させたのち、釉薬層から取り出して
回転を継続しながら乾燥させた。乾燥後にピンホールの
有無を観察したがピンホールはゼロであり、また図１に
示した同一のリブ１の外周側の部分Ａの釉薬層の厚みは
０．３５ｍｍ、内側の部分Ｂの釉薬層の厚みは０．３３
ｍｍであってその差は従来よりも大幅に減少していた。
なお、最初の回転数を４０ｒｐｍとした場合（従来法と
同一）、及び最初の回転数を２０ｒｐｍとした場合（い
ずれもその後の回転速度は４０ｒｐｍ）には、それぞれ
２個と４個のピンホールの発生が認められた。

【００１４】次にマリオットチューブ粘性計により１０
０ｍＬの釉薬が落下するに要する時間が６０秒の釉薬を
用いて同様の実験を行ったところ、最初の回転数を９０
ｒｐｍまで上げたときにピンホールがゼロとなった。こ
れらの一連の実験の結果を、図３のグラフに示す。

【００１５】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明の懸垂碍
子の施釉方法によれば、懸垂碍子の回転速度を変化させ
ることによりリブの谷間部分にピンホールを生ずること
がなく、しかも均一な厚みの釉薬層を形成することがで
きるので、従来法に比較して手数が省けるとともに、製
品歩留りを向上させることもできる利点がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】懸垂碍子の断面図である。

【図２】釉薬槽への浸漬状態を示す断面図である。

【図３】実施例における最初の回転速度とピンホール発
生数との関係を示すグラフである。

【符号の説明】

１ リブ、２ 谷間の部分、３ 頭部、４ パイプ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 未焼成の懸垂碍子を釉薬槽内に浸漬して
   一定速度で所定時間回転させた後、回転速度を落として
   更に所定時間回転させたうえで釉薬槽から取り出すこと
   を特徴とする懸垂碍子の施釉方法。
2. 【請求項２】 懸垂碍子の最初の回転速度が６０ｒｐｍ
   以上であり、その後の回転速度が４０ｒｐｍ以下である
   請求項１記載の懸垂碍子の施釉方法。