JPH09249611A - Production of substituted cyclopentenone and substituted cyclohexenone derivative - Google Patents

Production of substituted cyclopentenone and substituted cyclohexenone derivative

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JPH09249611A
JPH09249611A JP9011824A JP1182497A JPH09249611A JP H09249611 A JPH09249611 A JP H09249611A JP 9011824 A JP9011824 A JP 9011824A JP 1182497 A JP1182497 A JP 1182497A JP H09249611 A JPH09249611 A JP H09249611A
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substituted
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史衛 佐藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a substituted cyclopentenone and substituted cyclohexenone derivative useful as a synthetic intermediate for prostandines. SOLUTION: A compound represented by formula I [X is (α-OZ or '-H), etc.; Y is (α-OZ' or β-H), etc.; Z and Z' are each mutually independently H, methyl, etc.; R<1> is H, a 1-10C alkyl, etc.; (n) is 1 or 2] is reacted with a nucleophilic reagent represented by the formula R<2> M<1> (R<2> is a 1-10C alkyl, etc.; M<1> is Li, Na, etc.) to provide the objective substituted cyclopentenone derivative represented by formula II, e.g. a compound of formula III.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は医農薬品の中間体、
特にプロスタグランジン類の合成中間体として有用な置
換シクロペンテノン及び置換シクロヘキセノン誘導体の
製造法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an intermediate of a medicinal and agricultural chemical,
In particular, the present invention relates to a method for producing a substituted cyclopentenone and a substituted cyclohexenone derivative useful as a synthetic intermediate for prostaglandins.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】置換シ
クロペンタノン誘導体類及びα−置換シクロペンテノン
誘導体類は医農薬中間体として注目されており、特に強
力な生理活性を有するプロスタグランジン類の中間体と
して有用である。
2. Description of the Related Art Substituted cyclopentanone derivatives and α-substituted cyclopentenone derivatives have attracted attention as intermediates for medicinal and agricultural chemicals, and in particular, prostaglandins having strong physiological activity. Useful as an intermediate for

【0003】従来、プロスタグランジン類を製造する反
応の1つとして、β位に置換基のないシクロペンテノン
誘導体より次式で代表される所謂二成分反応でプロスタ
グランジンE型を合成することは知られている〔エム・
ジェイ・ヴァイス(M.J.Wiess)、ジャーナル
・オルガニック・ケミストリィ(Journal Or
ganic Chemistry)44巻、1439頁
(1979年)〕。
Conventionally, as one of the reactions for producing prostaglandins, a prostaglandin E type is synthesized from a cyclopentenone derivative having no substituent at the β-position by a so-called two-component reaction represented by the following formula. Is known [M
Jay Weiss (MJ Wiess), Journal Organic Chemistry (Journal Or)
Gan. Chemistry) 44, 1439 (1979)].

【0004】[0004]

【化5】 (式中、THPはテトラヒドロピラニル基、Meはメチ
ル基、Phはフェニル基を示す。)
Embedded image (In the formula, THP represents a tetrahydropyranyl group, Me represents a methyl group, and Ph represents a phenyl group.)

【0005】また、このようなβ位に置換基のないシク
ロペンテノン誘導体に誘導される中間体の製造法も数通
り知られている(寺嶋、酒井、山本共著「プロスタグラ
ンジンと関連生理活性物質」89〜92頁、1989
年)が、工業的製法としては種々問題がある。
There are several known methods for producing intermediates derived from cyclopentenone derivatives having no substituent at the β-position (Terashima, Sakai, Yamamoto, "Prostaglandins and Related Physiological Activities"). Materials, 89-92, 1989.
Years), but there are various problems as an industrial production method.

【0006】更に、プロスタグランジン類を製造する方
法として、従来より次式で表わされる共役付加反応によ
るプロスタグランジンF2αの合成法が知られている
〔ジー・スターク等、ジャーナル・アメリカン・ケミカ
ル・ソサィヤティ(J.Am.Chem.Soc.)、
97巻、4745,6260頁(1975年)〕。
Further, as a method for producing prostaglandins, a method of synthesizing prostaglandin F2α by a conjugate addition reaction represented by the following formula has been conventionally known [G Stark et al., Journal American Chemical. Sosayati (J. Am. Chem. Soc.),
97, 4745, 6260 (1975)].

【0007】[0007]

【化6】 [Chemical 6]

【0008】前記プロスタグランジンF2αの合成法は
化合物IVa’からの収率が高く、しかも共役付加の試
薬を選択することによりα鎖部分を自由に変更すること
ができる特徴を有している。
The method for synthesizing the prostaglandin F2α has a feature that the yield from the compound IVa 'is high and that the α chain portion can be freely changed by selecting a conjugate addition reagent.

【0009】しかしながら、従来知られている化合物I
Va’の合成法は収率が低く、使用する試薬が高価であ
り、また、得られる化合物IVa’もラセミ体である例
が多く、光学活性体で得るのが難しいという欠点を有し
ている〔上掲文献;ディ・アール・モートン等、ジャー
ナル・オルガニック・ケミストリィ(J.Org.Ch
em.)、43巻、2102頁(1978年);エー・
ビー・コジコフスキィー等、ジャーナル・オルガニック
・ケミストリィ(J.Org.Chem.)、49巻、
2301頁(1984年)〕。
However, the previously known compound I
The Va ′ synthesis method has the drawback that the yield is low, the reagent used is expensive, and the compound IVa ′ obtained is often a racemic form, and it is difficult to obtain an optically active compound. [Ibid .; D. R. Morton et al., Journal Organic Chemistry (J. Org. Ch.)
em. ), 43, 2102 (1978);
J. Org. Chem., Vol. 49, Bee Kozhkovsky, et al.
2301 (1984)].

【0010】このため、工業的有利にプロスタグランジ
ンを製造することが望まれる。
Therefore, it is desired to produce prostaglandins industrially advantageously.

【0011】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
プロスタグランジン類を工業的有利に製造することがで
きる置換シクロペンテノン及び置換シクロヘキセノン誘
導体の製造法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances,
It is an object of the present invention to provide a method for producing substituted cyclopentenone and substituted cyclohexenone derivatives capable of industrially producing prostaglandins.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者らは、上記目的を達成するため鋭意研究を進めた
結果、下記式で示される各化合物がプロスタグランジン
の合成中間体として有用であることを知見した。
Means for Solving the Problems and Embodiments of the Invention The present inventors have made intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, each compound represented by the following formula was used as a synthetic intermediate of prostaglandin. It was found to be useful.

【0013】[0013]

【化7】 Embedded image

【0014】上記式において、R1は、水素原子、炭素
数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル
基、炭素数2〜10のアルキニル基、フェニル基、
In the above formula, R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, a phenyl group,

【0015】[0015]

【化8】 を示す。Embedded image Is shown.

【0016】R2は炭素数1〜10のアルキル基,炭素
数1〜10のアルキルチオ基,炭素数1〜10のアルキ
ルアミノ基,炭素数1〜10のアルキルシリル基,炭素
数1〜10のアルキル錫,炭素数2〜10のアルケニル
基,炭素数2〜10のアルキニル基、又はシアノ基を示
す。
R 2 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylsilyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. An alkyltin, a C2-C10 alkenyl group, a C2-C10 alkynyl group, or a cyano group is shown.

【0017】R3及びR4は、それぞれ炭素数1〜10の
アルキル基、フェニル基、p−クロロフェニル基、ベン
ジル基又はp−クロロベンジル基を示し、R3とR4は互
に同一であっても異なっていてもよい。
R 3 and R 4 each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, phenyl group, p-chlorophenyl group, benzyl group or p-chlorobenzyl group, and R 3 and R 4 are the same as each other. Or different.

【0018】R5は、炭素数1〜15のアルキル基、炭
素数2〜15のアルケニル基、炭素数2〜15のアルキ
ニル基、4−フェノキシブチル基、3−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)オクチル基、3−(エトキシエチ
ルオキシ)−1−オクテン−1−イル基、3−(2−テ
トラヒドロピラニルオキシ)−1−オクテン−1−イル
基、3−(t−ブチルメチルシリルオキシ)−5−メチ
ル−1−ノネン−1−イル基、3−(ベンジルオキシメ
チルオキシ)−1−オクテン−1−イル基、又は
R 5 is an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 15 carbon atoms, 4-phenoxybutyl group, 3- (t-butyldimethylsilyloxy) Octyl group, 3- (ethoxyethyloxy) -1-octen-1-yl group, 3- (2-tetrahydropyranyloxy) -1-octen-1-yl group, 3- (t-butylmethylsilyloxy) -5-methyl-1-nonen-1-yl group, 3- (benzyloxymethyloxy) -1-octen-1-yl group, or

【0019】[0019]

【化9】 (但し式中、Z”はトリアルキルシリル基、アルコキシ
アルキル基、アラルキルオキシアルキル基、トリチル基
又はテトラヒドロピラニル基を示し、
Embedded image (Wherein, Z ″ represents a trialkylsilyl group, an alkoxyalkyl group, an aralkyloxyalkyl group, a trityl group or a tetrahydropyranyl group,

【0020】[0020]

【化10】 は一重結合、二重結合又は三重結合を示し、R7は炭素
数1〜10のアルキル基、ヘキサ−4−イン−2−イル
基、ヘプタ−4−イン−2−イル基、2,6−ジメチル
−ヘプタ−5−エン−1−イル基、ペンタ−1−エン−
1−イル基、ペンタ−2−エン−1−イル基、ヘキサ−
1−エン−2−イル基、3−エトキシ−2−メチル−プ
ロパン−2−イル基、エトキシエチル基、5−メトキシ
ヘキシル基、6−メトキシ−2−ヘキシル基、ハロゲン
化メチル基、ハロゲン化n−ブチル基、ハロゲン化n−
ペンチル基、ハロゲン化ノニル基、フェニル基、ベンジ
ル基、ハロゲン化フェニル基、n−ペンチルオキシメチ
ル基、1−エトキシ−2−メチル−プロパン−2−イル
基、フェノキシメチル基、ベンジロキシメチル基、p−
クロロフェノキシメチル基、2−フェニルエチル基、ベ
ンジロキシエチル基、p−フルオロフェノキシメチル
基、フェニルアセチレニル基、m−クロロフェノキシメ
チル基、m−トリフルオロメチル−フェノキシメチル
基、ベンゾチオフェン−5−イル基、2−オクテニル
基、3−メトキシカルボニルプロピル基又はビニル基を
示す。)
Embedded image Represents a single bond, a double bond or a triple bond, and R 7 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hexa-4-yn-2-yl group, a hepta-4-yn-2-yl group, and 2,6. -Dimethyl-hepta-5-en-1-yl group, penta-1-ene-
1-yl group, penta-2-en-1-yl group, hexa-
1-en-2-yl group, 3-ethoxy-2-methyl-propan-2-yl group, ethoxyethyl group, 5-methoxyhexyl group, 6-methoxy-2-hexyl group, methyl halide group, halogenated n-butyl group, halogenated n-
Pentyl group, nonyl halide group, phenyl group, benzyl group, phenyl halide group, n-pentyloxymethyl group, 1-ethoxy-2-methyl-propan-2-yl group, phenoxymethyl group, benzyloxymethyl group, p-
Chlorophenoxymethyl group, 2-phenylethyl group, benzyloxyethyl group, p-fluorophenoxymethyl group, phenylacetylenyl group, m-chlorophenoxymethyl group, m-trifluoromethyl-phenoxymethyl group, benzothiophene-5 -Represents an yl group, a 2-octenyl group, a 3-methoxycarbonylpropyl group or a vinyl group. )

【0021】M1及びM2は、それぞれLi,Na,K,
Mg,Ca,Ti,Zr,Ni,Cu,Zn,Al,S
nより選ばれる金属又は該金属を含む基を示す。
M 1 and M 2 are Li, Na, K, and
Mg, Ca, Ti, Zr, Ni, Cu, Zn, Al, S
A metal selected from n or a group containing the metal is shown.

【0022】Xは、(α−OZ,β−H)又は(α−
H,β−OZ)を示す。
X is (α-OZ, β-H) or (α-
H, β-OZ).

【0023】Yは、(α−OZ’,β−H)又は(α−
H,β−OZ’)を示す。
Y represents (α-OZ ′, β-H) or (α-
H, β-OZ ′).

【0024】Z及びZ’は、それぞれ水素原子、メチル
基、トリアルキルシリル基(例えばトリメチルシリル
基、t−ブチルジメチルシリル基)、アルコキシアルキ
ル基(例えばメトキシメチル基)、アラルキルオキシア
ルキル基(例えばベンジルオキシメチル基)、トリチル
基又はテトラヒドロピラニル(THP)基を示すが、Z
とZ’とは互に同一でも異なっていてもよい。
Z and Z 'each represent a hydrogen atom, a methyl group, a trialkylsilyl group (for example, trimethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group), an alkoxyalkyl group (for example, methoxymethyl group), an aralkyloxyalkyl group (for example, benzyl group). Oxymethyl group), trityl group or tetrahydropyranyl (THP) group.
And Z ′ may be the same or different from each other.

【0025】Wは、CHR1,(α−CHR1OH,β−
H)又は(α−H,β−CHR1OH)を示す。
W is CHR 1 , (α-CHR 1 OH, β-
H) or (α-H, β-CHR 1 OH).

【0026】Vは、(α−CHR1OH,β−H)又は
(α−H,β−CHR1OH)を示す。
V represents (α-CHR 1 OH, β-H) or (α-H, β-CHR 1 OH).

【0027】Uは、Xが(α−OZ,β−H)の時(α
−H,β−R5)を示し、Xが(α−H,β−OZ)の
時(α−R5,β−H)を示す。
U is expressed as (α) when X is (α-OZ, β-H).
-H, β-R 5 ) and (α-R 5 , β-H) when X is (α-H, β-OZ).

【0028】nは、1又は2である。N is 1 or 2.

【0029】即ち、一般式〔V〕で示される化合物を次
亜ハロゲン酸塩、又は塩基とハロゲンガスを用いて環化
することにより、新規化合物〔I〕が得られると共に、
この新規化合物〔I〕を出発原料として新規化合物〔I
I〕(〔IIa〕及び〔IIb〕)が得られること、よ
り具体的には上記新規化合物〔I〕を水素化触媒の存在
下に水素化加水分解することにより新規化合物〔II
a〕が合成され、この新規化合物〔IIa〕を塩基の存
在下にスルホニル化した後、脱スルホン酸することによ
り新規化合物〔IIb〕が合成されることを知見した。
更に、上記新規化合物〔IIb〕に一般式〔VI〕で示
される化合物を反応することにより新規化合物〔III
a〕を包含する一般式〔III〕で示される化合物が得
られること、この新規化合物〔IIIa〕は上記新規化
合物〔IIb〕に化合物〔VII〕を反応させることに
よっても得られると共に、この新規化合物〔IIIa〕
は上記新規化合物〔IIa〕を塩基の存在下にスルホニ
ル化し、次いで脱スルホン酸した後、一般式〔VII〕
の化合物を反応させることによっても得られること、ま
た上記新規化合物〔IIIa〕に一般式〔VIII〕で
示される化合物を反応させることにより、一般式〔I
V〕で示される化合物が得られることを見出した。
That is, by cyclizing the compound represented by the general formula [V] using a hypohalite or a base and a halogen gas, a novel compound [I] is obtained,
Using this new compound [I] as a starting material, a new compound [I
I] ([IIa] and [IIb]), and more specifically, the novel compound [II] by hydrogenating and hydrolyzing the novel compound [I] in the presence of a hydrogenation catalyst.
a] was synthesized, and it was found that a novel compound [IIb] was synthesized by sulfonylation of the new compound [IIa] in the presence of a base, followed by desulfonation.
Further, the novel compound [IIb] is reacted with the compound represented by the general formula [VI] to give the novel compound [III]
a) and the novel compound [IIIa] can be obtained by reacting the novel compound [IIb] with the compound [VII]. [IIIa]
Is sulfonylation of the above novel compound [IIa] in the presence of a base, followed by desulfonation, followed by the general formula [VII]
By reacting the compound represented by the general formula [VIII] with the novel compound [IIIa].
V] was obtained.

【0030】そして、上記式〔II〕(〔IIa〕、
〔IIb〕)、〔III〕、〔IIIa〕、〔IV〕が
プロスタグランジン類を合成するための中間体として有
用であることを知見し、本発明をなすに至ったものであ
る。
The formula [II] ([IIa],
[IIb]), [III], [IIIa], and [IV] have been found to be useful as intermediates for synthesizing prostaglandins, and have led to the present invention.

【0031】即ち、本発明は、一般式〔IIb〕That is, the present invention provides a compound represented by the general formula [IIb]:

【0032】[0032]

【化11】 〔但し式中、Xは(α−OZ,β−H)又は(α−H,
β−OZ)、Yは(α−OZ’,β−H)又は(α−
H,β−OZ’)を示し、Z及びZ’はそれぞれ水素原
子、メチル基、トリアルキルシリル基、アルコキシアル
キル基、アラルキルオキシアルキル基、トリチル基又は
テトラヒドロピラニル基を示すが、ZとZ’とは互に同
一でも異なっていてもよい。R1は水素原子,炭素数1
〜10のアルキル基,炭素数2〜10のアルケニル基,
炭素数2〜10のアルキニル基,フェニル基,
Embedded image [Where X is (α-OZ, β-H) or (α-H,
β-OZ), Y is (α-OZ ′, β-H) or (α-
H, β-OZ ′), and Z and Z ′ each represent a hydrogen atom, a methyl group, a trialkylsilyl group, an alkoxyalkyl group, an aralkyloxyalkyl group, a trityl group, or a tetrahydropyranyl group. 'May be the same or different from each other. R 1 is a hydrogen atom, carbon number 1
An alkyl group having 10 to 10, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms,
An alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, a phenyl group,

【0033】[0033]

【化12】 (上記式中、THPはテトラヒドロピラニル基、tBu
はターシャリーブチル基、EEはエトキシエチル基を示
す。)を示す。nは1又は2である。〕で表わされる化
合物に一般式〔VI〕
Embedded image (In the above formula, THP is a tetrahydropyranyl group, t Bu
Represents a tertiary butyl group, and EE represents an ethoxyethyl group. ). n is 1 or 2. The compound represented by the general formula [VI]

【0034】[0034]

【化13】 (但し式中、R2は炭素数1〜10のアルキル基,炭素
数1〜10のアルキルチオ基,炭素数1〜10のアルキ
ルアミノ基,炭素数1〜10のアルキルシリル基,炭素
数1〜10のアルキル錫,炭素数2〜10のアルケニル
基,炭素数2〜10のアルキニル基及びシアノ基より選
ばれる基、M1はLi,Na,K,Mg,Ca,Ti,
Zr,Ni,Cu,Zn,Al及びSnより選ばれる金
属又は該金属を含む基を示す。)で表わされる求核試薬
を反応させることを特徴とする一般式〔III〕
Embedded image (In the formula, R 2 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylsilyl group having 1 to 10 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms. A group selected from 10 alkyl tin, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and a cyano group; M 1 is Li, Na, K, Mg, Ca, Ti,
A metal selected from Zr, Ni, Cu, Zn, Al and Sn or a group containing the metal is shown. ) A general formula [III] characterized by reacting a nucleophile represented by

【0035】[0035]

【化14】 (但し式中、X,R1,R2及びnはそれぞれ上記と同じ
意味を示す。)で表わされる置換シクロペンテノン及び
置換シクロヘキセノン誘導体の製造法を提供する。
Embedded image (Wherein, X, R 1 , R 2 and n each have the same meaning as described above). A process for producing a substituted cyclopentenone and a substituted cyclohexenone derivative represented by the formula:

【0036】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の化合物〔III〕の製造法は、上記一般式
〔V〕の化合物から上記一般式〔I〕及び一般式〔II
a〕の化合物を順次経由して製造される一般式〔II
b〕の化合物を出発原料とするが、まず式〔V〕の化合
物から式〔I〕の化合物の製造について説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The production method of the compound [III] of the present invention comprises the above-mentioned general formula [I] and the general formula [II]
a) which is produced via the compound of the general formula [II]
The compound of formula [I] is produced from the compound of formula [V].

【0037】[0037]

【化15】 Embedded image

【0038】ここで、一般式〔I〕の新規化合物におい
て、式中、Xは(α−OZ,β−H)又は(α−H,β
−OZ)、Yは(α−OZ’,β−H)又は(α−H,
β−OZ’)、Z及びZ’はそれぞれ水素原子又は下記
に示す水酸基の保護基を示すが、ZとZ’とは互に同一
でも異なっていてもよい。またR1は水素原子、又は下
記の基を示し、nは1又は2の整数を示す。
Here, in the novel compound of the general formula [I], X represents (α-OZ, β-H) or (α-H, β
—OZ), Y is (α-OZ ′, β-H) or (α-H,
β-OZ ′), Z and Z ′ each represent a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group shown below, and Z and Z ′ may be the same or different from each other. R 1 represents a hydrogen atom or the following group, and n represents an integer of 1 or 2.

【0039】Z及びZ’の水酸基の保護基は、トリアル
キルシリル基(例えばトリメチルシリル基、t−ブチル
ジメチルシリル基)、アルコキシアルキル基(例えばメ
トキシメチル基)、アラルキルオキシアルキル基(例え
ばベンジルオキシメチル基)、トリチル基又はテトラヒ
ドロピラニル(THP)基である。
The protective groups for the hydroxyl groups of Z and Z'include trialkylsilyl groups (eg trimethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group), alkoxyalkyl groups (eg methoxymethyl group), aralkyloxyalkyl groups (eg benzyloxymethyl group). Group), a trityl group or a tetrahydropyranyl (THP) group.

【0040】また、R1として具体的には、水素原子、
メチル基,エチル基,n−ペンチル基等の炭素数1〜1
0のアルキル基、
Further, specifically as R 1 , a hydrogen atom,
C1-C1 such as methyl group, ethyl group and n-pentyl group
An alkyl group of 0,

【0041】[0041]

【化16】 で表わされる3−ノネン等の炭素数2〜10のアルケニ
ル基、炭素数2〜10のアルキニル基、フェニル基、
Embedded image An alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, such as 3-nonene, an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, a phenyl group,

【0042】[0042]

【化17】 (上記式中、THPはテトラヒドロピラニル基、tBu
はターシャリーブチル基、EEはエトキシエチル基を示
す。)
Embedded image (In the above formula, THP is a tetrahydropyranyl group, t Bu
Represents a tertiary butyl group, and EE represents an ethoxyethyl group. )

【0043】上記一般式〔I〕の化合物は、〔V〕の化
合物のオキシム−CH=N−OHをシアネート−C≡N
+−O-に変える穏和な酸化剤、例えば次亜ハロゲン酸水
溶液又は塩基とハロゲンガスを用いて環化することによ
り製造し得る。次亜ハロゲン酸塩としては、次亜塩素酸
ナトリウム,次亜臭素酸ナトリウム,次亜沃素酸ナトリ
ウム等を挙げることができるが、特に次亜塩素酸ナトリ
ウムが好適に用いられる。次亜ハロゲン酸塩の量は、
〔V〕の化合物に対して通常当量以上使用される。ハロ
ゲンガスとしては塩素,臭素が挙げられ、塩基としては
トリエチルアミン等の第三級アミン,ピリジン,4−ジ
メチルアミノピリジンが挙げられる。反応は溶媒を使用
することができ、溶媒としてはハロゲン化炭化水素類例
えばジクロロメタンや炭化水素類例えばヘキサン,ベン
ゼン,トルエンなどが使用される。反応温度、反応時間
は適宜選定され、反応温度は−20℃から溶媒の還流温
度、特に0〜50℃が好ましく、反応時間は通常0.5
〜100時間が採用される。
The compound of the above general formula [I] is obtained by converting the oxime -CH = N-OH of the compound [V] to cyanate -C ネ ー ト N
+ -O - it may be prepared by cyclizing with a mild oxidizing agent, for example aqueous hypohalous acid or base and a halogen gas turned into. Examples of the hypohalite include sodium hypochlorite, sodium hypobromite, sodium hypoiodite and the like, and sodium hypochlorite is particularly preferably used. The amount of hypohalite is
It is usually used in an equivalent amount or more with respect to the compound [V]. Examples of the halogen gas include chlorine and bromine, and examples of the base include tertiary amines such as triethylamine, pyridine, and 4-dimethylaminopyridine. For the reaction, a solvent can be used, and as the solvent, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and hydrocarbons such as hexane, benzene, and toluene are used. The reaction temperature and the reaction time are appropriately selected. The reaction temperature is preferably from -20 ° C to the reflux temperature of the solvent, particularly preferably from 0 to 50 ° C.
~ 100 hours are employed.

【0044】次に、一般式〔II〕(〔IIa〕,〔I
Ib〕)で示される新規化合物の製造法について説明す
る。
Next, the compound represented by the general formula [II] ([IIa], [I
The method for producing the novel compound represented by Ib]) will be described.

【0045】[0045]

【化18】 Embedded image

【0046】ここで、WはCHR1,(α−CHR1
H,β−H)又は(α−H,β−CHR1OH)を示
し、Vは(α−CHR1OH,β−H)又は(α−H,
β−CHR1OH)を示す。また、X,Y,Z,Z’R1
及びnはそれぞれ上記と同じ意味を示す。
Where W is CHR 1 , (α-CHR 1 O
H, β-H) or (α-H, β-CHR 1 OH), and V is (α-CHR 1 OH, β-H) or (α-H,
β-CHR 1 OH). X, Y, Z, Z′R 1
And n each have the same meaning as described above.

【0047】上記一般式〔II〕で示される新規化合物
のうち、一般式〔IIa〕の新規化合物は、上記新規化
合物〔I〕を水素化触媒の存在下、水素化加水分解する
ことにより、製造することができる。
Among the novel compounds represented by the general formula [II], a novel compound represented by the general formula [IIa] is produced by hydrolyzing the novel compound [I] in the presence of a hydrogenation catalyst. can do.

【0048】[0048]

【化19】 Embedded image

【0049】この水素化加水分解反応は、水素雰囲気下
において水素化触媒を用いて弱酸性条件下で水素化開裂
反応と加水分解反応を同時に行うものである。
In this hydrogenation hydrolysis reaction, a hydrogenation cleavage reaction and a hydrolysis reaction are simultaneously carried out under a weakly acidic condition using a hydrogenation catalyst in a hydrogen atmosphere.

【0050】この反応に用いる水素化触媒としては、公
知の水素化触媒が使用でき、例示するとラネーコバル
ト,ラネーニッケル,パラジウム,白金,パラジウム/
炭素,パラジウム/アルミナ,白金/炭素,白金/アル
ミナ等が挙げられる。
As the hydrogenation catalyst used in this reaction, known hydrogenation catalysts can be used. For example, Raney cobalt, Raney nickel, palladium, platinum, palladium /
Examples thereof include carbon, palladium / alumina, platinum / carbon, platinum / alumina and the like.

【0051】また、上記の水素化加水分解反応は弱酸性
下、特にpH5〜6で行うことが好適であり、このため
弱酸を添加することが望ましいが、この場合、弱酸とし
ては硼酸、燐酸等が挙げられる。その使用量は1〜10
当量、特に1〜5当量とすることが望ましい。
It is preferable that the above-mentioned hydrogenolysis reaction is carried out under weak acidity, particularly at pH 5 to 6. Therefore, it is desirable to add a weak acid. In this case, the weak acid may be boric acid, phosphoric acid or the like. Is mentioned. The amount used is 1-10
It is desirable to make the equivalent, particularly 1 to 5 equivalent.

【0052】更に、上記の反応は溶媒を使用することが
好ましい。溶媒としては、水やテトラヒドロフラン、ジ
オキサン、メタノール、エタノールと水との混合溶媒を
使用することができるが、勿論これらに限定されるもの
ではない。
Further, it is preferable to use a solvent in the above reaction. As the solvent, water, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, and a mixed solvent of ethanol and water can be used, but of course, the solvent is not limited thereto.

【0053】なお、上記の反応において、水素圧として
は常圧〜100kg/cm2(ゲージ)が採用される。
また、反応温度としては−50℃〜溶媒の沸点が望まし
く、反応時間は通常20分〜15時間である。
In the above reaction, the hydrogen pressure is from normal pressure to 100 kg / cm 2 (gauge).
The reaction temperature is preferably -50 ° C to the boiling point of the solvent, and the reaction time is usually 20 minutes to 15 hours.

【0054】また、一般式〔II〕で表わされる新規化
合物のうち、一般式〔IIb〕の新規化合物は、上記新
規化合物〔IIa〕を塩基の存在下にスルホニル化し、
次いで脱スルホニル化することにより製造することがで
きる。
Further, among the novel compounds represented by the general formula [II], the novel compounds of the general formula [IIb] are sulfonylated in the presence of a base,
Then, it can be produced by desulfonylation.

【0055】[0055]

【化20】 Embedded image

【0056】ここで、塩基としては第三級アミン(例え
ばトリエチルアミン)、ピリジン、4−ジメチルアミン
ピリジン等が使用でき、スルホニル化剤としては、アル
キルスルホニルクロライド(例えばメチルスルホニルク
ロライド)、アリールスルホニルクロライド(例えばp
−トルエンスルホニルクロライド)等が挙げられる。そ
の使用量は、各々当量以上であるが、通常塩基はスルホ
ニル化より過剰に用いられる。
Here, a tertiary amine (for example, triethylamine), pyridine, 4-dimethylaminepyridine or the like can be used as a base, and an alkylsulfonyl chloride (for example, methylsulfonyl chloride) or an arylsulfonyl chloride (for example, as a sulfonylating agent) can be used. For example, p
-Toluenesulfonyl chloride) and the like. The amounts used are each equivalent or more, but usually the base is used in excess of the sulfonylation.

【0057】上記のスルホニル化反応及び脱スルホン酸
反応においては、溶媒を使用することができるが、溶媒
としては、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、
ジエチルエーテル等の1種又は2種以上の混合溶媒を用
いることができる。
In the above sulfonylation reaction and desulfonation reaction, a solvent can be used. Examples of the solvent include chloroform, methylene chloride, carbon tetrachloride, and the like.
One or more mixed solvents such as diethyl ether can be used.

【0058】なお、スルホニル化反応及び脱スルホン酸
反応は公知のスルホニル化反応、脱スルホン酸反応の条
件に準じて行うことができる。この場合、スルホニル化
反応と脱スルホン酸反応とは、同時に、即ちスルホニル
化反応の反応生成物を取り出すことなくそのまま脱スル
ホン酸反応を行ってもよく、また別々に、即ちスルホニ
ル化反応の反応生成物を取り出し、これに対し脱スルホ
ン酸反応行ってもよいが、その反応温度はいずれも−1
00〜100℃とすることが望ましい。また、反応時間
は通常20分〜6時間である。
The sulfonylation reaction and desulfonation reaction can be carried out in accordance with known conditions for sulfonylation reaction and desulfonation reaction. In this case, the sulfonylation reaction and the desulfonation reaction may be carried out simultaneously, that is, the desulfonation reaction may be carried out without removing the reaction product of the sulfonylation reaction, or separately, that is, the reaction product of the sulfonylation reaction. The product may be taken out and subjected to a desulfonation reaction, but the reaction temperature is -1.
Desirably, the temperature is from 100 to 100 ° C. The reaction time is usually from 20 minutes to 6 hours.

【0059】本発明は上記のようにして得られる上記新
規化合物〔IIb〕に一般式〔VI〕で示される求核試
薬を反応させることにより化合物〔III〕を合成す
る。
In the present invention, the compound [III] is synthesized by reacting the above-mentioned novel compound [IIb] obtained as described above with a nucleophile represented by the general formula [VI].

【0060】[0060]

【化21】 [Chemical 21]

【0061】ここで、式中R2はそれぞれ炭素数1〜1
0のアルキル基,アルキルチオ基,アルキルアミノ基,
アルキルシリル基,アルキル錫,それぞれ炭素数2〜1
0のアルケニル基,アルキニル基及びシアノ基より選ば
れる基、M1はLi,Na,K,Mg,Ca,Ti,Z
r,Ni,Cu,Zn,Al,Snより選ばれる金属又
は該金属を含む基を示す。R1,X,Y,Z,Z’,n
はそれぞれ上記と同じ意味を示す。
Here, in the formula, each R 2 has 1 to 1 carbon atoms.
0 alkyl group, alkylthio group, alkylamino group,
Alkylsilyl group, alkyltin, each having 2 to 1 carbon atoms
A group selected from an alkenyl group, an alkynyl group and a cyano group of 0, M 1 is Li, Na, K, Mg, Ca, Ti, Z
A metal selected from r, Ni, Cu, Zn, Al and Sn or a group containing the metal is shown. R 1 , X, Y, Z, Z ', n
Each have the same meaning as above.

【0062】この場合、求核試薬〔VI〕としては、具
体的にR2Li,R2MgBr,R2MgI,R26Cu
QLi2,R2CuQLi ,R2(R62AlQLi ,R2
(R12Al,R26CuQLi MgBr,R2CuQ
MgBr等が挙げられる。但し、R6は炭素数1〜10
の置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,ア
ルキニル基,アルキルチオ基,アルキルアミノ基,アル
キルシリル基,アルキルオキシ基,アルキルカルボニル
基及びシアノ基より選ばれる基であるが、R2とR6は互
いに同一であっても異なっていてもよく、またQはハロ
ゲン原子、シアノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基
又はチオシアノ基を示す。
In this case, the nucleophile [VI] is
Physically RTwoLi, RTwoMgBr, RTwoMgI, RTwoR6Cu
QLiTwo, RTwoCuQLi , RTwo(R6)TwoAlQLi , RTwo
(R1)TwoAl, RTwoR6CuQLi MgBr, RTwoCuQ
MgBr etc. are mentioned. Where R6Has 1 to 10 carbon atoms
Substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group,
Lucinyl group, alkylthio group, alkylamino group, ar
Killsilyl group, alkyloxy group, alkylcarbonyl
A group selected from a group and a cyano group, RTwoAnd R6Are
May be the same or different, and Q is halo
Gen atom, cyano group, alkylthio group, arylthio group
Alternatively, it represents a thiocyano group.

【0063】上記求核試薬〔VI〕を化合物〔IIb〕
と反応させるに際し、求核試薬〔VI〕は化合物〔II
b〕に対し、0.5〜4当量、特に0.8〜1.2当量
用いることが好ましい。
The above nucleophile [VI] is converted to a compound [IIb]
Upon reaction with the nucleophile [VI],
It is preferable to use 0.5 to 4 equivalents, particularly 0.8 to 1.2 equivalents, with respect to b).

【0064】また、反応は溶媒を用いることができる
が、反応に用いられる溶媒としては反応を阻害しないも
のであればよく、例えばテトラヒドロフラン、ヘキサ
ン、ペンタン、ジエチルエーテル等が挙げられる。
A solvent can be used in the reaction, but any solvent may be used as long as it does not hinder the reaction, and examples thereof include tetrahydrofuran, hexane, pentane and diethyl ether.

【0065】なお、反応温度は通常−100〜50℃、
好ましくは−80〜0℃であり、反応時間は通常5分〜
50時間である。
The reaction temperature is usually -100 to 50 ° C,
Preferably it is -80 to 0 ° C, and the reaction time is usually 5 minutes to
50 hours.

【0066】ここで、上記式〔III〕の化合物を用い
て、下記反応によりプロスタグランジンE型を製造する
ことができる。〔黒住ら、ケミカル・ファマースーティ
カル・ブルティン・オブ・ジャパン(Chemical
Phamaceutical Bulletine
of Japan)、30巻、1102頁、1982
年〕。
Here, prostaglandin type E can be produced by the following reaction using the compound of the above formula [III]. [Kurozumi et al., Chemical Farmers Bulletin of Japan (Chemical
Pharmaceutical Bulletine
of Japan), 30, 1102, 1982.
Year〕.

【0067】[0067]

【化22】 (式中、Meはメチル基、tBuはターシャリーブチル
基、Phはフェニル基である。)
Embedded image (In the formula, Me is a methyl group, t Bu is a tertiary butyl group, and Ph is a phenyl group.)

【0068】従って、上記化合物〔IIb〕は、化合物
〔III〕を経由するプロスタグランジンE型の合成中
間体として有効に使用される。
Accordingly, the above compound [IIb] can be effectively used as a prostaglandin E type synthetic intermediate via the compound [III].

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明によれば、プロスタグランジン類
の合成中間体として有用な新規化合物〔IIIa〕を包
含する化合物〔III〕を簡単に製造することができる
ものである。
According to the present invention, a compound [III] including a novel compound [IIIa] useful as a synthetic intermediate for prostaglandins can be easily produced.

【0070】[0070]

【実施例】以下に参考例及び実施例を挙げ、本発明を詳
細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。なお、下記式においてMeはメチル基、
Etはエチル基、nBuはn−ブチル基、tBuはt−ブ
チル基を示す。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to Reference Examples and Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In the following formula, Me is a methyl group,
Et represents an ethyl group, n Bu represents an n-butyl group, and t Bu represents a t-butyl group.

【0071】[0071]

【化23】 Embedded image

【0072】化合物(VA)と(VB)の混合物100
mg(0.33ミリモル)のジクロロメタン溶液6ml
を0℃に冷却し、撹拌しながら次亜塩素酸ナトリウム水
溶液0.67ml(0.4ミリモル)を滴下した。室温
で10時間撹拌した後、水5mlを加え、ジエチルエー
テル5mlで3回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィにより精製し、
化合物(IA)と(IB)の混合物90mg(0.3ミ
リモル)を得た。収率91%。 (VA)と(VB)の混合物の分析値1 HNMR(CDCl3,内部標準テトラメチルシラン) δ0.78(9H,S),2.24と2.42(2H,
t×2,J=6Hz),3.17(3H,S),3.8
0(2H,br,d,J=6Hz),4.2〜4.7
(2H,m),4.9〜6.1(3H,m),6.60
と7.18(1H,t×2,J=6Hz),8.9と
9.4(1H,brs×2) (IA)と(IB)の混合物の分析値1 HNMR(CCl4,内部標準ベンゼン) δ0.06(S,6H),0.86(S,9H),2.
10〜2.95(m,3H),3.24(S,3H),
3.45〜4.95(m,6H) IR:1740,1630,1460,1360,12
48,1130,1035,820cm-1 MS(m/e):301(5,M+),269(7),
244(18),182(15),101(11),8
9(42),75(13),73(45),45(10
0) Rf値(シリカゲル薄層クロマトグラフィ、n−ヘキサ
ン/酢酸エチル=1/1)=0.65と0.7
Compound 100 of Compound (VA) and (VB)
6 ml of a dichloromethane solution of mg (0.33 mmol)
Was cooled to 0 ° C., and 0.67 ml (0.4 mmol) of an aqueous solution of sodium hypochlorite was added dropwise with stirring. After stirring at room temperature for 10 hours, 5 ml of water was added, and the mixture was extracted three times with 5 ml of diethyl ether. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and then concentrated under reduced pressure. The obtained crude product is purified by silica gel column chromatography,
90 mg (0.3 mmol) of a mixture of compounds (IA) and (IB) was obtained. Yield 91%. Analytical value of mixture of (VA) and (VB) 1 H NMR (CDCl 3 , internal standard tetramethylsilane) δ 0.78 (9H, S), 2.24 and 2.42 (2H,
t × 2, J = 6 Hz), 3.17 (3H, S), 3.8
0 (2H, br, d, J = 6 Hz), 4.2 to 4.7
(2H, m), 4.9-6.1 (3H, m), 6.60
And 7.18 (1H, t × 2, J = 6 Hz), 8.9 and 9.4 (1H, brs × 2) Analytical value of a mixture of (IA) and (IB) 1 HNMR (CCl 4 , internal standard) Benzene) δ 0.06 (S, 6H), 0.86 (S, 9H), 2.
10 to 2.95 (m, 3H), 3.24 (S, 3H),
3.45 to 4.95 (m, 6H) IR: 1740, 1630, 1460, 1360, 12
48, 1130, 1035, 820 cm -1 MS (m / e): 301 (5, M + ), 269 (7),
244 (18), 182 (15), 101 (11), 8
9 (42), 75 (13), 73 (45), 45 (10
0) Rf value (silica gel thin layer chromatography, n-hexane / ethyl acetate = 1/1) = 0.65 and 0.7

【0073】[0073]

【化24】 Embedded image

【0074】参考例1で得られた化合物(IA)と(I
B)の混合物73mg(0.243ミリモル)の水−メ
タノール(1:5)溶液5mlに硼酸30.3mg
(0.49ミリモル)、5%パラジウム/炭素触媒10
mgを加え、水素雰囲気下(常圧)、20℃で3時間撹
拌した。
The compounds (IA) obtained in Reference Example 1 and (I)
30.3 mg of boric acid was added to 5 ml of a water-methanol (1: 5) solution of 73 mg (0.243 mmol) of the mixture of B).
(0.49 mmol), 5% palladium on carbon catalyst 10
The mixture was stirred at 20 ° C. for 3 hours under a hydrogen atmosphere (normal pressure).

【0075】反応液をシリカゲルを用いて濾過し、濾液
を減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィにより精製し、化合物(IIa
A)と(IIaB)の混合物70mg(0.231ミリ
モル)を得た。収率95%。 (IIaA)と(IIaB)の混合物の分析値1 HNMR(CCl4,内部標準ベンゼン) δ0.10(S,6H),0.85(S,9H),1.
93〜2.82(m,4H),3.33(S,3H),
3.45〜4.83(m,6H) IR:3425,1740,1250,1040,83
0,775cm-1 MS(m/e):273(2,M+),243(4,
+),186(17),185(100),157
(13),143(17),89(11),75(2
0),73(14),45(69) Rf値(シリカゲル薄層クロマトグラフィ、ヘキサン/
酢酸エチル=1/1)=0.4
The reaction solution was filtered using silica gel, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography to give compound (IIa).
70 mg (0.231 mmol) of a mixture of A) and (IIaB) was obtained. 95% yield. Analytical value of a mixture of (IIaA) and (IIaB) 1 HNMR (CCl 4 , internal standard benzene) δ 0.10 (S, 6H), 0.85 (S, 9H), 1.
93-2.82 (m, 4H), 3.33 (S, 3H),
3.45 to 4.83 (m, 6H) IR: 3425, 1740, 1250, 1040, 83
0,775 cm -1 MS (m / e): 273 (2, M + ), 243 (4,
M + ), 186 (17), 185 (100), 157
(13), 143 (17), 89 (11), 75 (2
0), 73 (14), 45 (69) Rf value (silica gel thin layer chromatography, hexane /
(Ethyl acetate = 1/1) = 0.4

【0076】[0076]

【化25】 Embedded image

【0077】参考例2で得られた化合物(IIaA)と
(IIaB)の混合物165mg(0.545ミリモ
ル)のジクロロメタン2ml溶液にトリエチルアミン
0.23ml(1.64ミリモル)を加え、0℃に冷却
した。撹拌しながらメチルスルホニルクロライド0.0
64ml(0.82ミリモル)を滴下した後、0℃で3
0分間撹拌した。飽和食塩水5ml加え、n−ヘキサン
10mlで抽出を行った。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィにより精製し、
(IIbA)の化合物152mg(0.53ミリモル)
を得た。収率97%。 (IIbA)の化合物の分析値1 HNMR(CCl4,内部標準ベンゼン) δ0.10(S,6H),0.84(S,9H),2.
34(dd,J=1.2,5Hz,2H),3.32
(S,3H),4.20〜4.51(m,2H),4.
63(dd,J=7.2,12Hz,2H),5.38
と6.01(2dd,J=1.7,2.3Hz,2H) IR:1715,1645,1460,1390,12
40,1045,817,775cm-1 Rf値(シリカゲル薄層クロマトグラフィ、n−ヘキサ
ン/ジエチルエーテル=1/1)=0.6513 CNMR(CDCl3) δ200.9,144.2,119.8,94.5,7
7.0,69.0,55.2,45.3,25.4,1
7.8,5.0
To a solution of 165 mg (0.545 mmol) of a mixture of the compounds (IIaA) and (IIaB) obtained in Reference Example 2 in 2 ml of dichloromethane was added 0.23 ml (1.64 mmol) of triethylamine and cooled to 0 ° C. . With stirring, methylsulfonyl chloride 0.0
After dropwise adding 64 ml (0.82 mmol), the mixture was added at 0 ° C for 3 hours.
Stirred for 0 minutes. 5 ml of saturated saline was added, and extraction was performed with 10 ml of n-hexane. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and then concentrated under reduced pressure. The obtained crude product is purified by silica gel column chromatography,
152 mg (0.53 mmol) of the compound of (IIbA)
I got 97% yield. Analytical value of compound of (IIbA) 1 H NMR (CCl 4 , internal standard benzene) δ 0.10 (S, 6H), 0.84 (S, 9H), 2.
34 (dd, J = 1.2, 5 Hz, 2H), 3.32
(S, 3H), 4.20-4.51 (m, 2H), 4.
63 (dd, J = 7.2, 12 Hz, 2H), 5.38
And 6.01 (2dd, J = 1.7, 2.3 Hz, 2H) IR: 1715, 1645, 1460, 1390, 12
40,1045,817,775 cm -1 Rf value (silica gel thin layer chromatography, n-hexane / diethyl ether = 1/1) = 0.65 13 C NMR (CDCl 3 ) δ 200.9, 144.2, 119.8, 94.5,7
7.0, 69.0, 55.2, 45.3, 25.4, 1
7.8, 5.0

【0078】[0078]

【化26】 Embedded image

【0079】化合物(VC)と(VD)の混合物を参考
例1及び参考例2と同様に反応させ、(IC)と(I
D)の混合物を経由して(IIaC)と(IIaD)の
混合物を得た。次に、(IIaC)と(IIaD)の混
合物を参考例3と同様に反応させ、化合物(IIbB)
を得た。 (VC)と(VD)の混合物の分析値1 HNMR(CDCl3,内部標準テトラメチルシラン) δ0.07(6H,S),0.87(9H,S),2.
0〜2.9(2H,m),3.2(3H,S),4.9
〜6.0(3H,m),6.4〜7.7(2H,m),
8.4(1H,brs) (IIbB)の化合物の分析値1 HNMR(CCl4,内部標準ベンゼン) δ0.18(s,6H),0.94(s,9H),2.
34(d,J=4.8Hz,2H),3.48(s,3
H),4.05〜4.25(m,1H),4.51
(q,J=5.1Hz,1H),5.47と6.11
(2brs,2H)13 CNMR(CDCl3) δ201.3,144.1,119.8,82.5,6
8.5,56.6,45.5,25.6,17.9,−
4.9 Rf値(シリカゲル薄層クロマトグラフィ、n−ヘキサ
ン/ジエチルエーテル=1/1)=0.58 〔α〕25 D −35.4°(C=2.30,CHCl3) (IC)と(ID)の混合物の分析値1 HNMR(CDCl3,内部標準テトラメチルシラン) δ0.09,0.11(6H,S×2),0.88(9
H,S),2.0〜2.8(3H,m),3.47,
3.56(3H,S×2),3.6〜4.2(3H,
m),4.60(1H,dt,J=5Hz,2Hz) IR:2940,1470,1370,1250,11
40,1070,980cm-1 MS(m/e):271(M+,0.5%),214
%),89(100%) (IIaC)と(IIaD)の混合物の分析値1 HNMR(CDCl3,内部標準テトラメチルシラン) δ0.07(6H,S),0.89(9H,S),1.
6〜1.9(3H,m),3.31(3H,S),3.
4〜4.0(4H,m) IR(KBr錠剤=disk):3600〜3000,
2900,1740cm-1 MS(m/e):274(M+,3%),217(7
%),73(100%)
A mixture of compounds (VC) and (VD) was reacted in the same manner as in Reference Examples 1 and 2, and (IC) and (I
A mixture of (IIaC) and (IIaD) was obtained via the mixture of D). Next, the mixture of (IIaC) and (IIaD) was reacted in the same manner as in Reference Example 3 to give compound (IIbB)
I got Analytical value of mixture of (VC) and (VD) 1 H NMR (CDCl 3 , internal standard tetramethylsilane) δ 0.07 (6H, S), 0.87 (9H, S), 2.
0 to 2.9 (2H, m), 3.2 (3H, S), 4.9
-6.0 (3H, m), 6.4-7.7 (2H, m),
8.4 (1H, brs) analysis 1 HNMR (CCl 4, internal standard benzene) of the compound of (IIbB) δ0.18 (s, 6H ), 0.94 (s, 9H), 2.
34 (d, J = 4.8 Hz, 2H), 3.48 (s, 3
H), 4.05-4.25 (m, 1H), 4.51.
(Q, J = 5.1 Hz, 1H), 5.47 and 6.11
(2brs, 2H) 13 C NMR (CDCl 3 ) δ201.3, 144.1, 119.8, 82.5, 6
8.5, 56.6, 45.5, 25.6, 17.9,-
4.9 Rf value (silica gel thin layer chromatography, n-hexane / diethyl ether = 1/1) = 0.58 [α] 25 D- 35.4 ° (C = 2.30, CHCl 3 ) (IC) Analytical value of mixture of (ID) 1 H NMR (CDCl 3 , internal standard tetramethylsilane) δ 0.09, 0.11 (6H, S × 2), 0.88 (9
H, S), 2.0-2.8 (3H, m), 3.47,
3.56 (3H, S × 2), 3.6 to 4.2 (3H,
m), 4.60 (1H, dt, J = 5 Hz, 2 Hz) IR: 2940, 1470, 1370, 1250, 11
40, 1070, 980 cm -1 MS (m / e): 271 (M + , 0.5%), 214
( 7 %), 89 (100%) Analytical value of a mixture of (IIaC) and (IIaD) 1 HNMR (CDCl 3 , internal standard tetramethylsilane) δ0.07 (6H, S), 0.89 (9H, S) ), 1.
6-1.9 (3H, m), 3.31 (3H, S), 3.
4-4.0 (4H, m) IR (KBr tablet = disk): 3600-3000,
2900, 1740 cm -1 MS (m / e): 274 (M + , 3%), 217 (7
%), 73 (100%)

【0080】[0080]

【化27】 Embedded image

【0081】沃化銅81.7mg(0.43ミリモル)
のテトラヒドロフラン/硫化ジメチル(5/1)溶液3
mlを−70℃に冷却し、この溶液にn−ブチルリチウ
ム0.56ml(0.858ミリモル;n−ヘキサン中
1.53モルの溶液使用)をゆっくり滴下した。−70
℃で20分間撹拌した後、参考例3で得られた化合物
(IIbA)113mg(0.395ミリモル)のテト
ラヒドロフラン溶液3mlをゆっくり滴下した。−70
℃で20分間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液6m
lを加えた。室温に戻した後、n−ヘキサン7mlで抽
出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィにより精製し、(IIIA)の化合
物110mg(0.390ミリモル)を得た。収率99
%。 (IIIA)の化合物の分析値1 HNMR(CCl4,内部標準ベンゼン) δ0.14(s,6H),0.74〜1.10(m,1
2H),1.13〜1.71(m,6H),2.00〜
2.30(m,2H),2.13と2.59(2dd,
J=2.6,18HzとJ=6.0,18Hz),4.
72〜4.94(m,1H),6.82〜6.98
(m,1H)13 CNMR(CDCl3) δ205.8,156.3,147.2,69.0,4
5.5,31.5,27.1,25.8,24.3,2
2.3,18.0,13.8,−4.7 Rf値(シリカゲル薄層クロマトグラフィ、n−ヘキサ
ン/ジエチルエーテル=8/1)=0.63
81.7 mg (0.43 mmol) of copper iodide
Of tetrahydrofuran / dimethyl sulfide (5/1) 3
The mixture was cooled to −70 ° C. and 0.56 ml (0.858 mmol; use of a 1.53 mol solution in n-hexane) of n-butyllithium was slowly added dropwise to the solution. −70
After stirring at 20 ° C. for 20 minutes, 3 ml of a tetrahydrofuran solution of 113 mg (0.395 mmol) of the compound (IIbA) obtained in Reference Example 3 was slowly added dropwise. −70
Stir at 20 ° C for 20 min.
1 was added. After returning to room temperature, the mixture was extracted with 7 ml of n-hexane. After drying the organic layer over anhydrous magnesium sulfate,
Concentrated under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography to obtain 110 mg (0.390 mmol) of the compound (IIIA). Yield 99
%. Analytical value of compound (IIIA) 1 H NMR (CCl 4 , internal standard benzene) δ 0.14 (s, 6H), 0.74 to 1.10 (m, 1
2H), 1.13 to 1.71 (m, 6H), 2.00
2.30 (m, 2H), 2.13 and 2.59 (2dd,
3. J = 2.6, 18 Hz and J = 6.0, 18 Hz);
72-4.94 (m, 1H), 6.82-6.98
(M, 1H) 13 C NMR (CDCl 3 ) δ 205.8, 156.3, 147.2, 69.0, 4
5.5, 31.5, 27.1, 25.8, 24.3, 2
2.3, 18.0, 13.8, -4.7 Rf value (silica gel thin layer chromatography, n-hexane / diethyl ether = 8/1) = 0.63

【0082】〔実施例2〜21〕実施例1と同様に各種
求核試剤を反応させた。反応条件、結果を表1〜6に示
す。
[Examples 2 to 21] Various nucleophilic reagents were reacted in the same manner as in Example 1. The reaction conditions and results are shown in Tables 1-6.

【0083】なお、表中において、Meはメチル基、E
tはエチル基、nBuはn−ブチル基、tBuはt−ブチ
ル基、EEはエトキシエチル基、THPはテトラヒドロ
ピラニル基を示し、THFはテトラヒドロフランを示
す。また、溶媒の欄において()内に混合溶媒の重量割
合を示す。
In the table, Me is a methyl group, E
t represents an ethyl group, n Bu represents an n-butyl group, t Bu represents a t-butyl group, EE represents an ethoxyethyl group, THP represents a tetrahydropyranyl group, and THF represents tetrahydrofuran. In the column of the solvent, the weight ratio of the mixed solvent is shown in parentheses.

【0084】[0084]

【表1】 [Table 1]

【0085】[0085]

【表2】 [Table 2]

【0086】[0086]

【表3】 [Table 3]

【0087】[0087]

【表4】 [Table 4]

【0088】[0088]

【表5】 [Table 5]

【0089】[0089]

【表6】 [Table 6]

【0090】[0090]

【化28】 Embedded image

【0091】アルゴン雰囲気下、シアン化第一銅627
mg(7ミリモル)のテトラヒドロフラン15ml混合
液に−78℃でEEO(CH26MgCl 0.34m
l(6ミリモル,テトラヒドロフラン中0.58モルの
溶液を使用)を滴下し、20分間撹拌した。−78℃で
この混合液へ(IIaB)1.28g(5ミリモル)の
テトラヒドロフラン15ml溶液を滴下し、1時間かけ
て室温まで昇温した。飽和塩化アンモニウム水30ml
とヘキサン30mlを加え、室温で1時間撹拌した。有
機層を分離し、水層をヘキサン15mlで抽出し、得ら
れた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。濾
液の溶媒を減圧下で留去して得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィで精製し、(IIIB)
1.71g(4.3ミリモル)を得た。収率86%。
Cuprous cyanide 627 under an argon atmosphere
mg (7 mmol) in a mixture of 15 ml of tetrahydrofuran at −78 ° C. EEO (CH 2 ) 6 MgCl 0.34 m
1 (6 mmol, using a 0.58 mol solution in tetrahydrofuran) was added dropwise and stirred for 20 minutes. At −78 ° C., a solution of 1.28 g (5 mmol) of (IIaB) in 15 ml of tetrahydrofuran was added dropwise to the mixture, and the temperature was raised to room temperature over 1 hour. 30 ml of saturated ammonium chloride water
And 30 ml of hexane were added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The organic layer was separated, the aqueous layer was extracted with 15 ml of hexane, and the obtained organic layer was dried over magnesium sulfate and filtered. The crude product obtained by evaporating the solvent of the filtrate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography, and (IIIB)
1.71 g (4.3 mmol) were obtained. 86% yield.

【0092】[0092]

【化29】 Embedded image

【0093】[0093]

【化30】 269mg(9.0ミリモル)のジエチルエーテル10
ml溶液に、−78℃でnBuLi10.6ml(18
ミリモル,ペンタン中1.70モルの溶液を使用)を滴
下し、−78℃で1時間撹拌した。別に用意したシアン
化第一銅967mg(10.8ミリモル)とテトラヒド
ロフラン20mlの混合液に先の溶媒を−78℃で滴下
した。15分間撹拌後、(IIbB)1.53g(6ミ
リモル)のテトラヒドロフラン18ml溶液を−70℃
で滴下し、1時間かけて室温まで昇温した。飽和塩化ア
ンモニウム水50mlとヘキサン50mlを加え、室温
で1時間撹拌後、ヘキサン20mlで抽出した。硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濃縮して得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムで精製し、(IIIE)2.09g(5.
28ミリモル)を得た。収率88%。
Embedded image 269 mg (9.0 mmol) of diethyl ether 10
to ml solution, at -78 ℃ n BuLi10.6ml (18
Mmol, a 1.70 mol solution in pentane) was added dropwise and stirred at -78 ° C for 1 hour. To a separately prepared mixture of 967 mg (10.8 mmol) of cuprous cyanide and 20 ml of tetrahydrofuran, the above solvent was added dropwise at -78 ° C. After stirring for 15 minutes, a solution of 1.53 g (6 mmol) of (IIbB) in 18 ml of tetrahydrofuran was added at -70 ° C.
And the temperature was raised to room temperature over 1 hour. 50 ml of a saturated aqueous ammonium chloride solution and 50 ml of hexane were added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and extracted with 20 ml of hexane. The crude product obtained by drying over magnesium sulfate and concentrating was purified by a silica gel column, and 2.09 g of (IIIE) (5.
28 mmol). Yield 88%.

【0094】なお、化合物(IIIB),(III
C),(IIID),(IIIE),(IIIF),
(IIIH),(III I)の分析値を下記に示す。 化合物(IIIB)の分析値1 HNMR(CCl4,内部標準ベンゼン) δ0.15(s,6H,2SiCH3),0.93
(s,9H,3SiCCH3),1.03〜1.80
(m,16H),2.01〜2.30(m,2H,C=
CCH2),2.14(dd,J=2.4,19.2H
z,1H),2.59(dd,J=6.0,19.2H
z,1H),3.05〜3.67(m,5H),4.5
5(q,J=5.4Hz,1H OC(CH3
O),4.72〜4.95(m,1H,SiOCH),
6.88(brs,1H,C=CH) IR:2920,1710,1250,1080,83
5cm-1 Rf値(シリカゲル薄層クロマトグラフィ、n−ヘキサ
ン/ジエチルエーテル=2/1)=0.33 化合物(IIIC)の分析値1 HNMR(CCl4,内部標準ベンゼン) δ0.14(S,6H),0.89(s,9H),0.
80〜1.85(m,5H),1.98〜2.32
(m,3H),2.58(dd,J=5.7,18.3
Hz,1H),4.70〜4.93(m,1H),6.
86(brs,1H) 化合物(IIID)の分析値1 HNMR(CCl4,内部標準ベンゼン) δ0.09(S,6H),0.90(s,9H),1.
01〜1.90(m,10H),2.00〜2.48
(m,3H),2.65(dd,J=6.1,18H
z,1H),2.94(brs,2H),3.15〜
3.68(m,4H),4.53(q,J=5.1H
z,1H),4.70〜4.95(m,1H),7.1
3(brs,1H) 化合物(IIIE)の分析値1 HNMR(CDCl3,TMS) δ0.80(6H,S),0.81(9H,S),1.
07(3H,d,J=7Hz),1.18(3H,t,
J=6Hz),1.3〜1.6(4H,m),1.7〜
2.2(2H,m),2.19(1H,dd,J=18
Hz,3Hz),2.68(1H,dd,J=18H
z,5Hz),2.8(2H,m),3.1〜3.8
(4H,m),4.58(1H,q,J=6Hz),
4.78(1H,m),5.2〜5.6(2H,m),
6.93(1H,d,J=3Hz) 化合物(IIIF)の分析値1 HNMR(CCl4,内部標準ベンゼン) δ0.13(S,6H),0.89(S,9H),1.
10〜2.31(m,20H),2.15(dd,J=
2.4,18Hz,1H),2.59(dd,J=1
8,6.0Hz,1H),2.66〜2.91(m,2
H),3.05〜3.88(m,4H),4.45(b
rs,1H),4.68〜4.92(m,1H),5.
15〜5.65(m,2H),6.84(brs,1
H) 化合物(IIIH)の分析値1 HNMR(CCl4,内部標準ベンゼン) δ0.18(s,6H,2SiCH3),0.94
(s,9H,3SiCCH3),2.20(dd,J=
3,18Hz),2.64(dd,J=6,18H
z),2.79〜3.03(m,2H,C=CC
2),4.73〜5.35(m,3H,SiOCH及
びC=CCH2),5.58〜6.08(m,1H,
C=CH2),6.93(brs,1H,(O=)CC
=CH) 〔α〕25 D +21.5°(C=2.74,CHCl3) 光学純度はダイセル社のキラルセルOD(ヘキサン1.
0ml/min,230nm)で>99%eeであるこ
とを確認した。 化合物(III I)の分析値1 HNMR(CCl4,内部標準ベンゼン) δ0.10(s,6H),0.8〜1.5(m,18
H),2.4(d,J=2Hz,1H),2.8(2
H,dd,J=17Hz,J=6Hz),4.7(m,
1H),7.1(brd,1H) MS(m/e):〔M−CH3+=267(2%),
〔M−tBu〕 =225(11%),169(ベースピ
ーク)
Compounds (IIIB), (III
C), (IIID), (IIIE), (IIIF),
The analytical values of (IIIH) and (IIII) are shown below. Analytical value of compound (IIIB)1 HNMR (CClFour, Internal standard benzene) δ 0.15 (s, 6H, 2SiCHThree), 0.93
(S, 9H, 3SiCCHThree), 1.03 to 1.80.
(M, 16H), 2.01 to 2.30 (m, 2H, C =
CCHTwo), 2.14 (dd, J = 2.4, 19.2H)
z, 1H), 2.59 (dd, J = 6.0, 19.2H
z, 1H), 3.05 to 3.67 (m, 5H), 4.5
5 (q, J = 5.4Hz, 1H OCH(CHThree)
O), 4.72 to 4.95 (m, 1H, SiOCH),
6.88 (brs, 1H, C = CH) IR: 2920, 1710, 1250, 1080, 83
5cm-1 Rf value (silica gel thin layer chromatography, n-hexa
/ Diethyl ether = 2/1) = 0.33 Analytical value of compound (IIIC)1 HNMR (CClFour, Internal standard benzene) δ 0.14 (S, 6H), 0.89 (s, 9H), 0.
80-1.85 (m, 5H), 1.98-2.32.
(M, 3H), 2.58 (dd, J = 5.7, 18.3)
Hz, 1H), 4.70 to 4.93 (m, 1H), 6.
86 (brs, 1H) Analytical value of compound (IIID)1 HNMR (CClFour, Internal standard benzene) δ 0.09 (S, 6H), 0.90 (s, 9H), 1.
01-1.90 (m, 10H), 2.00-2.48
(M, 3H), 2.65 (dd, J = 6.1, 18H
z, 1H), 2.94 (brs, 2H), 3.15-
3.68 (m, 4H), 4.53 (q, J = 5.1H
z, 1H), 4.70-4.95 (m, 1H), 7.1
3 (brs, 1H) Analytical value of compound (IIIE)1 HNMR (CDClThree, TMS) δ 0.80 (6H, S), 0.81 (9H, S), 1.
07 (3H, d, J = 7 Hz), 1.18 (3H, t,
J = 6 Hz), 1.3 to 1.6 (4H, m), 1.7 to
2.2 (2H, m), 2.19 (1H, dd, J = 18
Hz, 3 Hz), 2.68 (1H, dd, J = 18H)
z, 5 Hz), 2.8 (2H, m), 3.1-3.8
(4H, m), 4.58 (1H, q, J = 6 Hz),
4.78 (1H, m), 5.2 to 5.6 (2H, m),
6.93 (1H, d, J = 3 Hz) Analytical value of compound (IIIF)1 HNMR (CClFour, Internal standard benzene) δ 0.13 (S, 6H), 0.89 (S, 9H), 1.
10 to 2.31 (m, 20H), 2.15 (dd, J =
2.4, 18 Hz, 1 H), 2.59 (dd, J = 1)
8, 6.0 Hz, 1H), 2.66 to 2.91 (m, 2
H), 3.05 to 3.88 (m, 4H), 4.45 (b
rs, 1H), 4.68-4.92 (m, 1H), 5.
15 to 5.65 (m, 2H), 6.84 (brs, 1
H) Analytical value of compound (IIIH)1 HNMR (CClFour, Internal standard benzene) δ 0.18 (s, 6H, 2SiCHThree), 0.94
(S, 9H, 3SiCCHThree), 2.20 (dd, J =
3.18 Hz), 2.64 (dd, J = 6,18H)
z), 2.79-3.03 (m, 2H, C = CC
HTwo), 4.73-5.35 (m, 3H, SiOCH and
And C = CCHTwo), 5.58 to 6.08 (m, 1H,H
C = CHTwo), 6.93 (brs, 1H, (O =) CC
= CH) [α]twenty five D + 21.5 ° (C = 2.74, CHClThreeThe optical purity was determined by Daicel's Chiral Cell OD (hexane 1.
0ml / min, 230nm)> 99% ee
And confirmed. Analytical value of compound (III I)1 HNMR (CClFour, Internal standard benzene) δ 0.10 (s, 6H), 0.8 to 1.5 (m, 18
H), 2.4 (d, J = 2 Hz, 1H), 2.8 (2
H, dd, J = 17 Hz, J = 6 Hz), 4.7 (m,
1H), 7.1 (brd, 1H) MS (m / e): [M-CHThree]+= 267 (2%),
[M-tBu] = 225 (11%), 169 (base
)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 69/738 C07C 69/738 A 323/52 7419−4H 323/52 C07F 7/18 C07F 7/18 A // B01J 23/44 B01J 23/44 X C07D 261/20 C07D 261/20 C07M 7:00 (31)優先権主張番号 特願昭63−43045 (32)優先日 昭63(1988)2月25日 (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 宮地 克明 千葉県船橋市坪井町722番1 日産化学工 業株式会社中央研究所内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C07C 69/738 C07C 69/738 A 323/52 7419-4H 323/52 C07F 7/18 C07F 7 / 18 A // B01J 23/44 B01J 23/44 X C07D 261/20 C07D 261/20 C07M 7:00 (31) Priority claim number Japanese patent application 63-43045 (32) Priority date Sho 63 (1988) February 25th (33) Japan (JP) claiming priority (72) Inventor Katsuaki Miyaji 722-1, Tsuboi-cho, Funabashi-shi, Chiba Nissan Chemical Industry Co., Ltd. Central Research Laboratory

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式〔IIb〕 【化1】 〔但し式中、Xは(α−OZ,β−H)又は(α−H,
β−OZ)、Yは(α−OZ’,β−H)又は(α−
H,β−OZ’)を示し、Z及びZ’はそれぞれ水素原
子、メチル基、トリアルキルシリル基、アルコキシアル
キル基、アラルキルオキシアルキル基、トリチル基又は
テトラヒドロピラニル基を示すが、ZとZ’とは互に同
一でも異なっていてもよい。R1は水素原子,炭素数1
〜10のアルキル基,炭素数2〜10のアルケニル基,
炭素数2〜10のアルキニル基,フェニル基, 【化2】 (上記式中、THPはテトラヒドロピラニル基、tBu
はターシャリーブチル基、EEはエトキシエチル基を示
す。)を示す。nは1又は2である。〕で表わされる化
合物に一般式〔VI〕 【化3】 (但し式中、R2は炭素数1〜10のアルキル基,炭素
数1〜10のアルキルチオ基,炭素数1〜10のアルキ
ルアミノ基,炭素数1〜10のアルキルシリル基,炭素
数1〜10のアルキル錫,炭素数2〜10のアルケニル
基,炭素数2〜10のアルキニル基及びシアノ基より選
ばれる基、M1はLi,Na,K,Mg,Ca,Ti,
Zr,Ni,Cu,Zn,Al及びSnより選ばれる金
属又は該金属を含む基を示す。)で表わされる求核試薬
を反応させることを特徴とする一般式〔III〕 【化4】 (但し式中、X,R1,R2及びnはそれぞれ上記と同じ
意味を示す。)で表わされる置換シクロペンテノン及び
置換シクロヘキセノン誘導体の製造法。
1. A compound of the general formula [IIb] [Where X is (α-OZ, β-H) or (α-H,
β-OZ), Y is (α-OZ ′, β-H) or (α-
H, β-OZ ′), and Z and Z ′ each represent a hydrogen atom, a methyl group, a trialkylsilyl group, an alkoxyalkyl group, an aralkyloxyalkyl group, a trityl group, or a tetrahydropyranyl group. 'May be the same or different from each other. R 1 is a hydrogen atom, carbon number 1
An alkyl group having 10 to 10, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms,
Alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, phenyl group, (In the above formula, THP is a tetrahydropyranyl group, t Bu
Represents a tertiary butyl group, and EE represents an ethoxyethyl group. ). n is 1 or 2. ] The compound represented by the general formula [VI] (In the formula, R 2 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylsilyl group having 1 to 10 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms. A group selected from 10 alkyl tin, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and a cyano group, M 1 is Li, Na, K, Mg, Ca, Ti,
A metal selected from Zr, Ni, Cu, Zn, Al and Sn or a group containing the metal is shown. ) A nucleophile represented by the general formula [III] (In the formula, X, R 1 , R 2 and n have the same meanings as described above.) A method for producing a substituted cyclopentenone or a substituted cyclohexenone derivative.
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