JPH09245704A - 荷電粒子ビームのアパーチュア装置 - Google Patents
荷電粒子ビームのアパーチュア装置Info
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- JPH09245704A JPH09245704A JP5468496A JP5468496A JPH09245704A JP H09245704 A JPH09245704 A JP H09245704A JP 5468496 A JP5468496 A JP 5468496A JP 5468496 A JP5468496 A JP 5468496A JP H09245704 A JPH09245704 A JP H09245704A
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- rail
- bellows
- linear guide
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 精度良くアパーチュアの選択を行うことがで
きるベローズを用いた荷電粒子ビーム装置のアパーチュ
ア装置を実現する。 【解決手段】 駆動軸５の大気側にはボールリニアガイ
ド３０が設けられている。ボールリニアガイド３０は、
アパーチュア装置のケース８に固定されたコの字状のス
ライダ３１と、スライダ３１のコの字状部分に嵌め込ま
れたレール３２とを有している。レール３２は中心部に
円形の開口を有した一対の挾持体３３に固定されている
が、この挾持体３３の開口には駆動軸５が挿入される。
この結果、セレクタ７を操作して駆動軸５を図中左右方
向に移動させ、異なったアパーチュア２を選択する場
合、レール３２は駆動軸５と共に図中左右方向に移動す
る。なお、スライダ３１とレール３２との間にはボール
ベアリングが入れられており、レール３２はスライダ３
１に対して円滑に移動する。
きるベローズを用いた荷電粒子ビーム装置のアパーチュ
ア装置を実現する。 【解決手段】 駆動軸５の大気側にはボールリニアガイ
ド３０が設けられている。ボールリニアガイド３０は、
アパーチュア装置のケース８に固定されたコの字状のス
ライダ３１と、スライダ３１のコの字状部分に嵌め込ま
れたレール３２とを有している。レール３２は中心部に
円形の開口を有した一対の挾持体３３に固定されている
が、この挾持体３３の開口には駆動軸５が挿入される。
この結果、セレクタ７を操作して駆動軸５を図中左右方
向に移動させ、異なったアパーチュア２を選択する場
合、レール３２は駆動軸５と共に図中左右方向に移動す
る。なお、スライダ３１とレール３２との間にはボール
ベアリングが入れられており、レール３２はスライダ３
１に対して円滑に移動する。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、電子ビーム描画装置や
イオンビーム装置などの荷電粒子ビーム装置において荷
電粒子ビームを制限するための複数のアパーチュアを有
したアパーチュア装置に関する。
イオンビーム装置などの荷電粒子ビーム装置において荷
電粒子ビームを制限するための複数のアパーチュアを有
したアパーチュア装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、走査電子顕微鏡や電子ビーム描
画装置では、試料に照射する電子ビームの電流量を制限
するなどの目的で、電子ビームの光軸上にアパーチュア
を配置している。通常、このアパーチュアは、径の異な
った複数のものが用意されており、その中から特定のア
パーチュアを選択するようにしている。
画装置では、試料に照射する電子ビームの電流量を制限
するなどの目的で、電子ビームの光軸上にアパーチュア
を配置している。通常、このアパーチュアは、径の異な
った複数のものが用意されており、その中から特定のア
パーチュアを選択するようにしている。
【０００３】近年、電子ビーム源として、Ｌa Ｂ6 を電
子発生源とした電子銃や電界放射型電子銃等が用いられ
てきているが、これらの電子銃は超高真空環境が必要で
ある。また、電子ビームの全通路に渡ってコンタミネー
ションを極めて少なくする要求や、試料周辺の超高真空
化の要求とも関連して、アパーチュアを選択的に電子ビ
ーム光軸上に配置するためのアパーチュア装置の超高真
空対応が必要となってきた。
子発生源とした電子銃や電界放射型電子銃等が用いられ
てきているが、これらの電子銃は超高真空環境が必要で
ある。また、電子ビームの全通路に渡ってコンタミネー
ションを極めて少なくする要求や、試料周辺の超高真空
化の要求とも関連して、アパーチュアを選択的に電子ビ
ーム光軸上に配置するためのアパーチュア装置の超高真
空対応が必要となってきた。
【０００４】ところで、アパーチュア装置では、真空中
の電子ビーム光路上でアパーチュアを選択するため、真
空外からアパーチュアを支持する軸を操作し、所望の径
のアパーチュアを光軸上に配置するようにしている。こ
のため、アパーチュアを支持する軸の一部に真空シール
する機構を設けている。この真空シールの機構としては
良く知られたＯリングシール機構が用いられているが、
Ｏリングシールは超高真空下での使用は、真空洩れや脱
ガスの面で困難であり、そのため、真空シール機構とし
て、ベローズを用いた機構が使われ始めている。
の電子ビーム光路上でアパーチュアを選択するため、真
空外からアパーチュアを支持する軸を操作し、所望の径
のアパーチュアを光軸上に配置するようにしている。こ
のため、アパーチュアを支持する軸の一部に真空シール
する機構を設けている。この真空シールの機構としては
良く知られたＯリングシール機構が用いられているが、
Ｏリングシールは超高真空下での使用は、真空洩れや脱
ガスの面で困難であり、そのため、真空シール機構とし
て、ベローズを用いた機構が使われ始めている。
【０００５】図１，２はこのようなベローズを真空シー
ル機構として用いたアパーチュア装置を示しており、図
１は光軸方向から見た図、図２（ａ），（ｂ）は光軸に
垂直な方向から見た図である。これらの図において、１
はアパーチュアシートであり、このアパーチュアシート
１には複数のそれぞれが径の異なったアパーチュア２が
設けられている。これらのアパーチュア２のいずれかが
光軸Ｏ上に配置される。なお、図の矢印は光軸Ｏ上の電
子ビームＥＢを示している。
ル機構として用いたアパーチュア装置を示しており、図
１は光軸方向から見た図、図２（ａ），（ｂ）は光軸に
垂直な方向から見た図である。これらの図において、１
はアパーチュアシートであり、このアパーチュアシート
１には複数のそれぞれが径の異なったアパーチュア２が
設けられている。これらのアパーチュア２のいずれかが
光軸Ｏ上に配置される。なお、図の矢印は光軸Ｏ上の電
子ビームＥＢを示している。
【０００６】アパーチュアシート１はアパーチュア軸３
にネジ４によって固定されており、アパーチュア軸３は
駆動軸５の一方の端部にネジ６によって固定されてい
る。８は滑り軸受１５を介して駆動軸５を軸方向（Ｙ方
向）に移動可能に支持する略筒状のケースである。尚、
滑り軸受１５と駆動軸５との間隙はオイル等が充填され
ている。駆動軸５の他方の端部には、Ｙ方向アライメン
ト摘み１６が取り付けられている。Ｙ方向アライメント
摘み１６は、ケース８の軸方向に移動可能に設けられる
セレクタ７に螺合している。そして、セレクタ７に対向
するケース８の周面には、軸方向に沿って階段状の溝１
０が形成され、セレクタ７には、溝１０に係合するピン
９が設けられている。
にネジ４によって固定されており、アパーチュア軸３は
駆動軸５の一方の端部にネジ６によって固定されてい
る。８は滑り軸受１５を介して駆動軸５を軸方向（Ｙ方
向）に移動可能に支持する略筒状のケースである。尚、
滑り軸受１５と駆動軸５との間隙はオイル等が充填され
ている。駆動軸５の他方の端部には、Ｙ方向アライメン
ト摘み１６が取り付けられている。Ｙ方向アライメント
摘み１６は、ケース８の軸方向に移動可能に設けられる
セレクタ７に螺合している。そして、セレクタ７に対向
するケース８の周面には、軸方向に沿って階段状の溝１
０が形成され、セレクタ７には、溝１０に係合するピン
９が設けられている。
【０００７】ケース８は真空と大気とを隔てる真空壁１
１の穴１１ａの周縁にネジ１２を用いて取り付けられた
略筒状のホルダ５０に支持されている。図３はセレクタ
７のピン９とケース側の溝１０との関係を示しており、
溝１０はアパーチュア２の数に応じた段数設けられてい
る。この構成により、セレクタ７を回転しながら軸方向
に移動すると、ピン９が溝１０に沿って移動し、セレク
タ７，Ｙ方向アライメント摘み１６，駆動軸５，アパー
チャ軸３，アパーチャシート１が軸方向にステップ状に
移動し、所望の径のアパーチュア２を光軸上に配置する
ことができる。
１の穴１１ａの周縁にネジ１２を用いて取り付けられた
略筒状のホルダ５０に支持されている。図３はセレクタ
７のピン９とケース側の溝１０との関係を示しており、
溝１０はアパーチュア２の数に応じた段数設けられてい
る。この構成により、セレクタ７を回転しながら軸方向
に移動すると、ピン９が溝１０に沿って移動し、セレク
タ７，Ｙ方向アライメント摘み１６，駆動軸５，アパー
チャ軸３，アパーチャシート１が軸方向にステップ状に
移動し、所望の径のアパーチュア２を光軸上に配置する
ことができる。
【０００８】なお、図２（ａ）はアパーチュアシート１
の一番左端のアパーチュア２が選択された状態を示して
おり、図２（ｂ）はアパーチュアシート１の一番右端の
アパーチュア２が選択された状態を示している。
の一番左端のアパーチュア２が選択された状態を示して
おり、図２（ｂ）はアパーチュアシート１の一番右端の
アパーチュア２が選択された状態を示している。
【０００９】また、セレクタ７と駆動軸５との間には、
真空と大気との間の圧力差をキャンセルするためのスプ
リング１３が設けられている。駆動軸５の真空側にはベ
ローズ１４の一端が取り付けられており、また、ベロー
ズ１４の他端は、真空中のホルダ５０に取り付けられて
いる。
真空と大気との間の圧力差をキャンセルするためのスプ
リング１３が設けられている。駆動軸５の真空側にはベ
ローズ１４の一端が取り付けられており、また、ベロー
ズ１４の他端は、真空中のホルダ５０に取り付けられて
いる。
【００１０】この結果、アパーチュア２の選択のために
セレクタ７を操作し、駆動軸５を図中左右方向に移動さ
せた場合には、その移動に伴ってベローズ１４が伸縮
し、このベローズ１４により、真空壁１１内の高真空状
態が保たれる。
セレクタ７を操作し、駆動軸５を図中左右方向に移動さ
せた場合には、その移動に伴ってベローズ１４が伸縮
し、このベローズ１４により、真空壁１１内の高真空状
態が保たれる。
【００１１】上記したように、セレクタ７を操作するこ
とによってアパーチュア２の選択が行われるが、選択さ
れたアパーチュアのＹ方向（図中左右方向）の位置調整
は、Ｙ方向アライメント摘み１６によって行われる。
とによってアパーチュア２の選択が行われるが、選択さ
れたアパーチュアのＹ方向（図中左右方向）の位置調整
は、Ｙ方向アライメント摘み１６によって行われる。
【００１２】５１，５２はホルダ５０に設けられ、先端
部がケース８の外周面に沿って形成された断面形状がＶ
字形の溝８ａに係合する支点ネジである。そして、アパ
ーチュアのＸ方向（図１では上下方向、図２では紙面に
垂直方向）の位置調整は、ホルダ５０に設けられ先端部
がケース８に押接するスプリング１７と、ホルダ５０に
設けられ先端部がケース８に当接するネジ１８との組み
合わせにより行われる。更に、アパーチュアのＺ方向
（図１では紙面に垂直方向、図２では上下方向）の位置
調整は、ホルダ５０に設けられ、先端部がケース８に押
接するスプリング１９と、ホルダ５０に設けられ、先端
部がケース８に当接するネジ２０との組み合わせにより
行われる。
部がケース８の外周面に沿って形成された断面形状がＶ
字形の溝８ａに係合する支点ネジである。そして、アパ
ーチュアのＸ方向（図１では上下方向、図２では紙面に
垂直方向）の位置調整は、ホルダ５０に設けられ先端部
がケース８に押接するスプリング１７と、ホルダ５０に
設けられ先端部がケース８に当接するネジ１８との組み
合わせにより行われる。更に、アパーチュアのＺ方向
（図１では紙面に垂直方向、図２では上下方向）の位置
調整は、ホルダ５０に設けられ、先端部がケース８に押
接するスプリング１９と、ホルダ５０に設けられ、先端
部がケース８に当接するネジ２０との組み合わせにより
行われる。
【００１３】即ち、ネジ１８を回転させることにより、
駆動軸５を支持するケース８は支点ネジ５１，５２を支
点として、Ｘ−Ｙ平面内で回転し、Ｘ方向の位置調整が
行われ、ネジ２０を回転させることにより、駆動軸５を
支持するケース８は支点ネジ５１，５２を支点として、
Ｙ−Ｚ平面内で回転し、Ｚ方向の位置調整が行われる。
駆動軸５を支持するケース８は支点ネジ５１，５２を支
点として、Ｘ−Ｙ平面内で回転し、Ｘ方向の位置調整が
行われ、ネジ２０を回転させることにより、駆動軸５を
支持するケース８は支点ネジ５１，５２を支点として、
Ｙ−Ｚ平面内で回転し、Ｚ方向の位置調整が行われる。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】図１，２に示したアパ
ーチュア装置では、真空シール機構として、金属などの
ベローズ１４を使用しているので、超高真空およびクリ
ーンバキュームへの対応が可能である。
ーチュア装置では、真空シール機構として、金属などの
ベローズ１４を使用しているので、超高真空およびクリ
ーンバキュームへの対応が可能である。
【００１５】しかしながら、ベローズ１４は軸方向、角
度、軸直角方向の変位に対して、それぞれバネ特性を有
している。特に、軸直角方向（Ｘ−Ｚ平面）のベローズ
１４のバネ定数が、ベローズ１４の伸縮によって変化す
る。
度、軸直角方向の変位に対して、それぞれバネ特性を有
している。特に、軸直角方向（Ｘ−Ｚ平面）のベローズ
１４のバネ定数が、ベローズ１４の伸縮によって変化す
る。
【００１６】従って、図２（ａ）の状態、即ち、一番左
端のアパーチュア２を選択したとき、長さｌ1 となるベ
ローズ１４の駆動軸５に作用する軸直角方向の力の大き
さｆ 1 と、図２（ｂ）の状態、即ち、一番右端のアパー
チュア２を選択したとき、長さｌ2 （＞ｌ1 ）となるベ
ローズ１４の駆動軸５に作用する軸直角方向の力の大き
さｆ2 とは同一ではない。
端のアパーチュア２を選択したとき、長さｌ1 となるベ
ローズ１４の駆動軸５に作用する軸直角方向の力の大き
さｆ 1 と、図２（ｂ）の状態、即ち、一番右端のアパー
チュア２を選択したとき、長さｌ2 （＞ｌ1 ）となるベ
ローズ１４の駆動軸５に作用する軸直角方向の力の大き
さｆ2 とは同一ではない。
【００１７】また、ベローズ１４の駆動軸５に作用する
軸直角方向の力の向きも、実際上特定されない。その原
因は、ベローズ１４の機械的形状のバラツキと合わせ
て、材質のバラツキが加わること、および、ベローズ１
４の軸線と、アパーチュアシート１や駆動軸５などの軸
線とが正確に一致していないからである。
軸直角方向の力の向きも、実際上特定されない。その原
因は、ベローズ１４の機械的形状のバラツキと合わせ
て、材質のバラツキが加わること、および、ベローズ１
４の軸線と、アパーチュアシート１や駆動軸５などの軸
線とが正確に一致していないからである。
【００１８】ところで、図１，２に示したアパーチュア
装置では、駆動軸５とケース８との間には、滑り軸受け
１５を用いているので、滑り軸受１５の滑り面と駆動軸
５との間には、隙間がある。従って、上記したベローズ
１４の駆動軸５に作用する軸直角方向の力の大きさ及び
向きがアパーチュア２の選択、すなわちヘローズ１４の
伸縮により変化し、駆動軸５が移動し、アパーチュア２
が精度良く光軸Ｏ上に配置できない問題点がある。
装置では、駆動軸５とケース８との間には、滑り軸受け
１５を用いているので、滑り軸受１５の滑り面と駆動軸
５との間には、隙間がある。従って、上記したベローズ
１４の駆動軸５に作用する軸直角方向の力の大きさ及び
向きがアパーチュア２の選択、すなわちヘローズ１４の
伸縮により変化し、駆動軸５が移動し、アパーチュア２
が精度良く光軸Ｏ上に配置できない問題点がある。
【００１９】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたもので、その目的は、精度良くアパーチュアの選択
を行うことができるベローズを用いた荷電粒子ビーム装
置のアパーチュア装置を実現するにある。
れたもので、その目的は、精度良くアパーチュアの選択
を行うことができるベローズを用いた荷電粒子ビーム装
置のアパーチュア装置を実現するにある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明に基づく荷電粒子
ビームのアパーチュア装置は、真空中に配置され、複数
のアパーチュアを有したアパーチュアシートと、アパー
チュアシートに接続され、真空外からアパーチュアシー
トを移動させ、複数のアパーチュアのいずれかを荷電粒
子ビームの光軸上に配置するための駆動軸と、駆動軸の
移動にともなって伸縮し、真空と大気との間のシールを
行うベローズを備えた荷電粒子ビームのアパーチュア装
置において、駆動軸を大気側でボールリニアガイドによ
って支持するように構成したことを特徴としている。
ビームのアパーチュア装置は、真空中に配置され、複数
のアパーチュアを有したアパーチュアシートと、アパー
チュアシートに接続され、真空外からアパーチュアシー
トを移動させ、複数のアパーチュアのいずれかを荷電粒
子ビームの光軸上に配置するための駆動軸と、駆動軸の
移動にともなって伸縮し、真空と大気との間のシールを
行うベローズを備えた荷電粒子ビームのアパーチュア装
置において、駆動軸を大気側でボールリニアガイドによ
って支持するように構成したことを特徴としている。
【００２１】本発明では、真空と大気との間のシールを
行うベローズを備えた荷電粒子ビームのアパーチュア装
置において、異なった径を有する複数のアパーチュアを
選択するために移動する駆動軸を大気側でボールリニア
ガイドで支持する。
行うベローズを備えた荷電粒子ビームのアパーチュア装
置において、異なった径を有する複数のアパーチュアを
選択するために移動する駆動軸を大気側でボールリニア
ガイドで支持する。
【００２２】大気側にボールリニアガイドを設けたこと
により、ボールリニアガイドに充分な潤滑を行うことが
でき、更に、ボールリニアガイドのボールに予圧を加え
ることにより、レールとスライダの隙間を０とすること
ができる。
により、ボールリニアガイドに充分な潤滑を行うことが
でき、更に、ボールリニアガイドのボールに予圧を加え
ることにより、レールとスライダの隙間を０とすること
ができる。
【００２３】従って、ベローズの駆動軸に作用する力
が、ベローズに伸縮により変化しても、駆動軸が変動せ
ず、アパーチャの位置位置決め精度が変化することがな
い。ここで、アパーチャの位置決め精度を更に向上させ
るために、ボールリニアガイドをアパーチャにできるだ
け近づけて配置することが望ましい。
が、ベローズに伸縮により変化しても、駆動軸が変動せ
ず、アパーチャの位置位置決め精度が変化することがな
い。ここで、アパーチャの位置決め精度を更に向上させ
るために、ボールリニアガイドをアパーチャにできるだ
け近づけて配置することが望ましい。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図４，５は本発明に基づく
アパーチュア装置の一例を示しており、図４は光軸方向
から見た図、図５は光軸に垂直な方向から見た図であ
る。これらの図で図１，２の従来装置と同一番号は同一
構成要素を示す。この実施の形態で、駆動軸５の大気側
にはボールリニアガイド３０が設けられている。なお、
図６にボールリニアガイド３０の斜視図を示す。
施の形態を詳細に説明する。図４，５は本発明に基づく
アパーチュア装置の一例を示しており、図４は光軸方向
から見た図、図５は光軸に垂直な方向から見た図であ
る。これらの図で図１，２の従来装置と同一番号は同一
構成要素を示す。この実施の形態で、駆動軸５の大気側
にはボールリニアガイド３０が設けられている。なお、
図６にボールリニアガイド３０の斜視図を示す。
【００２５】ボールリニアガイド３０は、アパーチュア
装置のケース８に固定されたコの字状のスライダ３１
と、スライダ３１のコの字状部分に摺動可能に係合する
レール３２とを有している。レール３２は中心部に円形
の開口を有した一対の挾持体３３が固定されているが、
この挾持体３３の開口には駆動軸５が挿入される。それ
ぞれの挾持体３３にはすり割３４が設けられ、すり割部
３４にはネジ穴３５が穿たれている。
装置のケース８に固定されたコの字状のスライダ３１
と、スライダ３１のコの字状部分に摺動可能に係合する
レール３２とを有している。レール３２は中心部に円形
の開口を有した一対の挾持体３３が固定されているが、
この挾持体３３の開口には駆動軸５が挿入される。それ
ぞれの挾持体３３にはすり割３４が設けられ、すり割部
３４にはネジ穴３５が穿たれている。
【００２６】このネジ穴３５にネジ３６を螺合させ、挾
持体３３を締め付けることにより、挾持体３３およびレ
ール３２は駆動軸５に固定される。そして、複数のアパ
ーチャ２の中心を繋ぐ直線と、ボールリニアガイド３０
のレール３２の移動方向とが平行になるようにボールリ
ニアガイド３０はケース８に取り付ける。
持体３３を締め付けることにより、挾持体３３およびレ
ール３２は駆動軸５に固定される。そして、複数のアパ
ーチャ２の中心を繋ぐ直線と、ボールリニアガイド３０
のレール３２の移動方向とが平行になるようにボールリ
ニアガイド３０はケース８に取り付ける。
【００２７】上記構成のアパーチャ装置では、セレクタ
７を操作して駆動軸５を図中左右方向に移動させ、異な
ったアパーチュア２を選択する場合、レール３２は駆動
軸５と共に図中左右方向に移動する。なお、スライダ３
１とレール３２との間にはボールベアリングが入れられ
ており、レール３２はスライダ３１に対して円滑に移動
する。
７を操作して駆動軸５を図中左右方向に移動させ、異な
ったアパーチュア２を選択する場合、レール３２は駆動
軸５と共に図中左右方向に移動する。なお、スライダ３
１とレール３２との間にはボールベアリングが入れられ
ており、レール３２はスライダ３１に対して円滑に移動
する。
【００２８】ここで、ボールリニアガイド３０は、ベロ
ーズ１４のばね力に対抗できるだけの必要な剛性を有
し、また、アパーチュア２の径やアパーチュア２の位置
の微調整のために必要な精度と同等以上の走り精度を有
するものを選択した。
ーズ１４のばね力に対抗できるだけの必要な剛性を有
し、また、アパーチュア２の径やアパーチュア２の位置
の微調整のために必要な精度と同等以上の走り精度を有
するものを選択した。
【００２９】上記構成によれば、ボールリニアガイド３
０は、ボールに予圧をかけることにより、ボールの弾性
を利用してスライダ３１とレール３２との間の隙間をゼ
ロにすることができる。従って、異なる径のアパーチュ
ア２を選択し、ベローズ１４の伸縮により駆動軸５に作
用する力が異なっても、駆動軸５は移動せず、精度良く
アパーチュアを光軸上に配置することができる。
０は、ボールに予圧をかけることにより、ボールの弾性
を利用してスライダ３１とレール３２との間の隙間をゼ
ロにすることができる。従って、異なる径のアパーチュ
ア２を選択し、ベローズ１４の伸縮により駆動軸５に作
用する力が異なっても、駆動軸５は移動せず、精度良く
アパーチュアを光軸上に配置することができる。
【００３０】また、図１，２で示した従来の装置では、
アパーチュアシート１を固定する軸自身が、その軸受け
と対になってリニアガイド部を形成しているので、アパ
ーチュアシート１と軸受け部との距離を接近させるにも
限度がある。しかし、本実施の形態例では、アパーチュ
アシート１の軸芯と、ボールリニアガイド３０の走りの
軸芯とは一致しなくても平行であれば良いので、アパー
チュア装置を取り付ける相手の形状によって、アパーチ
ュアシート１と、ボールリニアガイド３０とを接近させ
ることができる。従って、アパーチュア２の選択をより
精度良く行うことができる。
アパーチュアシート１を固定する軸自身が、その軸受け
と対になってリニアガイド部を形成しているので、アパ
ーチュアシート１と軸受け部との距離を接近させるにも
限度がある。しかし、本実施の形態例では、アパーチュ
アシート１の軸芯と、ボールリニアガイド３０の走りの
軸芯とは一致しなくても平行であれば良いので、アパー
チュア装置を取り付ける相手の形状によって、アパーチ
ュアシート１と、ボールリニアガイド３０とを接近させ
ることができる。従って、アパーチュア２の選択をより
精度良く行うことができる。
【００３１】以上本発明の実施の形態を説明したが、本
発明は上記形態に限定されない。例えば、ボールリニア
ガイドのレールをアパーチュア装置のケースに固定し、
スライダを駆動軸に固定させるように構成しても良い。
発明は上記形態に限定されない。例えば、ボールリニア
ガイドのレールをアパーチュア装置のケースに固定し、
スライダを駆動軸に固定させるように構成しても良い。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、真空
と大気との間のシールを行うベローズを備えた荷電粒子
ビームのアパーチュア装置において、異なった径を有す
る複数のアパーチュアを選択するために移動するアパー
チュア駆動軸を大気側でボールリニアガイドによって支
持するように構成した。
と大気との間のシールを行うベローズを備えた荷電粒子
ビームのアパーチュア装置において、異なった径を有す
る複数のアパーチュアを選択するために移動するアパー
チュア駆動軸を大気側でボールリニアガイドによって支
持するように構成した。
【００３３】大気側にボールリニアガイドを設けたこと
により、ボールリニアガイドに充分な潤滑を行うことが
でき、更に、ボールリニアガイドのボールに予圧を加え
ることにより、ボールリニアガイドと駆動軸の間の隙間
を０とすることができる。
により、ボールリニアガイドに充分な潤滑を行うことが
でき、更に、ボールリニアガイドのボールに予圧を加え
ることにより、ボールリニアガイドと駆動軸の間の隙間
を０とすることができる。
【００３４】従って、ベローズの駆動軸に作用する力
が、ベローズの伸縮により変化しても、駆動軸が移動せ
ず、アパーチャの位置位置決め精度が変化することがな
い。ここで、アパーチャの位置決め精度を更に向上させ
るために、ボールリニアガイドをアパーチャにできるだ
け近づけて配置することが望ましい。
が、ベローズの伸縮により変化しても、駆動軸が移動せ
ず、アパーチャの位置位置決め精度が変化することがな
い。ここで、アパーチャの位置決め精度を更に向上させ
るために、ボールリニアガイドをアパーチャにできるだ
け近づけて配置することが望ましい。
【図１】ベローズを真空シール機構に用いた従来の荷電
粒子ビーム装置のアパーチュア装置を示す図である。
粒子ビーム装置のアパーチュア装置を示す図である。
【図２】ベローズを真空シール機構に用いた従来の荷電
粒子ビーム装置のアパーチュア装置を示す図である。
粒子ビーム装置のアパーチュア装置を示す図である。
【図３】セレクタの構成を示す図である。
【図４】本発明に基づくアパーチュア装置を示す図であ
る。
る。
【図５】本発明に基づくアパーチュア装置を示す図であ
る。
る。
【図６】ボールリニアガイドの斜視図である。
１ アパーチュアシート ２ アパーチュア ３ アパーチュア軸 ５ 駆動軸 ７ セレクタ １４ ベローズ ３０ ボールリニアガイド ３１ スライダ ３２ レール ３３ 挾持体
Claims (1)
- 【請求項１】 真空中に配置され、複数のアパーチュア
を有したアパーチュアシートと、アパーチュアシートに
接続され、真空外からアパーチュアシートを移動させ、
複数のアパーチュアのいずれかを荷電粒子ビームの光軸
上に配置するための駆動軸と、駆動軸の移動にともなっ
て伸縮し、真空と大気との間のシールを行うベローズを
備えた荷電粒子ビームのアパーチュア装置において、駆
動軸を大気側でボールリニアガイドによって支持するよ
うに構成したことを特徴とする荷電粒子ビームのアパー
チュア装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5468496A JPH09245704A (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | 荷電粒子ビームのアパーチュア装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5468496A JPH09245704A (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | 荷電粒子ビームのアパーチュア装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09245704A true JPH09245704A (ja) | 1997-09-19 |
Family
ID=12977630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5468496A Withdrawn JPH09245704A (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | 荷電粒子ビームのアパーチュア装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09245704A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013011657A1 (ja) * | 2011-07-20 | 2013-01-24 | キヤノンアネルバ株式会社 | イオンビーム発生装置、およびイオンビームプラズマ処理装置 |
-
1996
- 1996-03-12 JP JP5468496A patent/JPH09245704A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013011657A1 (ja) * | 2011-07-20 | 2013-01-24 | キヤノンアネルバ株式会社 | イオンビーム発生装置、およびイオンビームプラズマ処理装置 |
| US9422623B2 (en) | 2011-07-20 | 2016-08-23 | Canon Anelva Corporation | Ion beam generator and ion beam plasma processing apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030603 |