JPH09222504A - Antireflection film - Google Patents
Antireflection filmInfo
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- JPH09222504A JPH09222504A JP8052600A JP5260096A JPH09222504A JP H09222504 A JPH09222504 A JP H09222504A JP 8052600 A JP8052600 A JP 8052600A JP 5260096 A JP5260096 A JP 5260096A JP H09222504 A JPH09222504 A JP H09222504A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ワープロ、コンピ
ュータ、テレビ、プラズマディスプレイパネル等の各種
ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透
明プラスチック類からなるサングラスレンズ、度付メガ
ネレンズ、カメラ用ファインダーレンズ等の光学レン
ズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の
表面の反射防止に優れた反射防止フイルムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to various displays such as word processors, computers, televisions and plasma display panels, surfaces of polarizing plates used in liquid crystal display devices, sunglasses lenses made of transparent plastics, prescription glasses lenses, and cameras. The present invention relates to an antireflection film having excellent antireflection properties for optical lenses such as finder lenses, covers for various instruments, and windows such as automobiles and trains.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、カーブミラー、バックミラー、ゴ
ーグル、窓ガラス、パソコン、ワープロ、プラズマディ
スプレイ等のディスプレイ、その他種々の商業ディスプ
レイ等には、ガラスやプラスチック等の透明基板が用い
られており、これらの透明基板を通して物体や文字、図
形等の視覚情報を観察する場合、或いはミラーでは透明
基板を通して反射層からの像を観察する場合に、これら
の透明基板の表面が外光で反射して内部の視覚情報が見
えにくいという問題があった。2. Description of the Related Art Conventionally, transparent substrates such as glass and plastic have been used for displays such as curve mirrors, rearview mirrors, goggles, window glasses, personal computers, word processors, plasma displays, and various other commercial displays. When observing visual information such as objects, characters, and figures through these transparent substrates, or when observing an image from a reflective layer through a transparent substrate with a mirror, the surface of these transparent substrates is There is a problem that visual information of the person is difficult to see.
【０００３】このような透明基板の反射を防止する方法
としては、従来、ガラスやプラスチックの表面に反射防
止塗料を塗布する方法、ガラス・プラスチック基材等の
透明基板の表面に、必要に応じてハードコート層を介し
て膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ2やＳｉＯ2等の薄膜を蒸
着やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法によ
り形成する方法があった。[0003] As a method of preventing reflection of such a transparent substrate, a method of applying an antireflection paint to the surface of glass or plastic, or a method of coating a surface of a transparent substrate such as a glass or plastic substrate, if necessary, have been used. There has been a method of forming a thin film of about 0.1 μm in thickness such as MgF 2 or SiO 2 through a hard coat layer by a vapor phase method such as vapor deposition, sputtering, or plasma CVD.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プラス
チックレンズ等のプラスチック製品の表面に電離放射線
硬化型樹脂を塗工してハードコート層とし、得られたハ
ードコート層上に膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ2やＳｉ
Ｏ2等の薄膜を蒸着によって形成して反射防止フイルム
を形成する方法では、ハードコート層に対するＭｇＦ2
やＳｉＯ2等の蒸着薄膜の密着性が不十分であり、反射
防止フイルムを繰り返し屈曲させると、これらの薄膜に
クラックが入ったり、薄膜が剥離したりする等の問題が
ある。However, the surface of a plastic product such as a plastic lens is coated with an ionizing radiation curable resin to form a hard coat layer, and the obtained hard coat layer has a film thickness of about 0.1 μm. MgF 2 and Si
In the method of forming a thin film of O 2 or the like by vapor deposition to form an antireflection film, MgF 2 for the hard coat layer is used.
The adhesion of vapor-deposited thin films such as SiO 2 and SiO 2 is insufficient, and when the antireflection film is repeatedly bent, there are problems such as cracks in these thin films and peeling of the thin films.
【０００５】近年、塗布法によって優れた品質の薄膜を
得る方法として、無機又は有機超微粒子を酸性及び又は
アルカリ水溶液中に分散した分散液を、基板上に塗布
し、焼成する方法が提案されている。この製造方法によ
ると、大量生産や設備コスト面では有利であるが、製造
工程中に高温での焼成過程を必要とするため、プラスチ
ック基材には成膜が不可能なこと、又、基板と塗布膜と
の収縮度の違い等により皮膜の均一性が十分でなく、気
相法により得られる薄膜に比較した場合に、基材に対す
る密着性等において依然として性能が劣り、又、熱処理
に長時間（例えば、数十分間以上）を要し、生産性に劣
ると云う欠点を有する。従って、本発明の目的は、反射
防止フイルムにおいて、その最表層の低屈折率層がハー
ドコート層に対して優れた密着性を有する反射防止フイ
ルムを提供することである。In recent years, as a method for obtaining a thin film of excellent quality by a coating method, a method has been proposed in which a dispersion liquid in which inorganic or organic ultrafine particles are dispersed in an acidic and / or alkaline aqueous solution is coated on a substrate and baked. There is. According to this manufacturing method, it is advantageous in terms of mass production and equipment cost, but since a baking process at a high temperature is required during the manufacturing process, it is impossible to form a film on the plastic base material, The uniformity of the coating is not sufficient due to the difference in the degree of shrinkage from the coating film, etc., and when compared to the thin film obtained by the vapor phase method, the performance is still inferior in terms of adhesion to the substrate, and heat treatment takes a long time. (For example, several tens of minutes or more) is required and the productivity is inferior. Therefore, an object of the present invention is to provide an antireflection film in which an outermost low refractive index layer has excellent adhesion to a hard coat layer in the antireflection film.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的は以下の本発明
によって達成される。即ち、本発明は、透明基材フイル
ム上に、高屈折率を有するハードコート層及び低屈折率
層を積層してなる反射防止フイルムにおいて、上記高屈
折率層が、液媒体中にチタン又はタンタルの酸化物ゾル
と反応性有機珪素化合物とを含むゾル液から形成された
屈折率１．６５以上のゲル膜からなることを特徴とする
反射防止フイルムである。本発明によれば、反射防止フ
イルムの高屈折率ハードコート層を、液媒体中にチタン
又はタンタルの酸化物ゾルと反応性有機珪素化合物とを
含むゾル液から屈折率１．６５以上のゲル膜として形成
することによって、低屈折率層が高屈折ハードコート層
に対して優れた密着性を有する反射防止フイルムを、高
価で複雑な設備等を使用することなく経済的に提供する
ことができる。The above object is achieved by the present invention described below. That is, the present invention is an antireflection film obtained by laminating a hard coat layer having a high refractive index and a low refractive index layer on a transparent substrate film, wherein the high refractive index layer is titanium or tantalum in a liquid medium. An antireflection film comprising a gel film having a refractive index of 1.65 or more formed from a sol solution containing the oxide sol and the reactive organic silicon compound. According to the present invention, a high-refractive-index hard coat layer of an antireflection film is formed from a sol liquid containing a titanium or tantalum oxide sol and a reactive organic silicon compound in a liquid medium and having a refractive index of 1.65 or more. By forming as described above, the antireflection film in which the low refractive index layer has excellent adhesion to the high refractive hard coat layer can be economically provided without using expensive and complicated equipment.
【０００７】[0007]
【発明の実施の形態】次に実施の形態を挙げて本発明を
更に詳細に説明する。図１は、本発明の反射防止フイル
ムの１例の断面を図解的に示す図である。この例の反射
防止フイルムは、透明基材フイルム１上に、高屈折率を
有するハードコート層２と低屈折率層３を積層した例で
あり、図中の符号４は必要に応じて積層される接着層又
はプライマー層である。図２に示す例は、上記図１に示
す例における高屈折率を有するハードコート層２を、ハ
ードコート層５とその上に形成した高屈折率層６とに機
能分離した例である。図３に示す例は、上記図１に示す
例において、表面に微細凹凸形状を設け、反射防止フイ
ルムに防眩性を付与した例である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, the present invention will be described in more detail with reference to embodiments. FIG. 1 is a view schematically showing a cross section of an example of the antireflection film of the present invention. The antireflection film of this example is an example in which a hard coat layer 2 having a high refractive index and a low refractive index layer 3 are laminated on a transparent substrate film 1, and reference numeral 4 in the drawing is laminated as necessary. Adhesive layer or primer layer. The example shown in FIG. 2 is an example in which the hard coat layer 2 having a high refractive index in the example shown in FIG. 1 is functionally separated into a hard coat layer 5 and a high refractive index layer 6 formed thereon. The example shown in FIG. 3 is an example in which, in the example shown in FIG. 1 described above, fine irregularities are provided on the surface to impart antiglare properties to the antireflection film.
【０００８】本発明において、上記透明基材フイルムと
しては、透明性のあるフイルムであればいずれのフイル
ムでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフイル
ム、ジアセチルセルロースフイルム、アセテートブチレ
ートセルロースフイルム、ポリエーテルサルホンフイル
ム、ポリアクリル系樹脂フイルム、ポリウレタン系樹脂
フイルム、ポリエステルフイルム、ポリカーボネートフ
イルム、ポリスルホンフイルム、ポリエーテルフイル
ム、トリメチルペンテンフイルム、ポリエーテルケトン
フイルム、（メタ）アクリロニトリルフイルム等が使用
できるが、一軸又は二軸延伸ポリエステルが透明性及び
耐熱性に優れ、光学的に異方性が無い点で好適に用いら
れる。その厚みは、通常は８μｍ〜１０００μｍ程度の
ものが好適に用いられる。In the present invention, the transparent substrate film may be any film as long as it has transparency, and examples thereof include triacetyl cellulose film, diacetyl cellulose film, acetate butyrate cellulose film and polyether sulfone. Films, polyacrylic resin films, polyurethane resin films, polyester films, polycarbonate films, polysulfone films, polyether films, trimethylpentene films, polyetherketone films, (meth) acrylonitrile films, etc. can be used, but uniaxial or biaxial Stretched polyester is preferably used because it has excellent transparency and heat resistance and has no optical anisotropy. The thickness thereof is preferably about 8 μm to 1000 μm.
【０００９】図１の例において、上記透明基材フイルム
の面に形成する高屈折率を有するハードコート層は、液
媒体中にチタン又はタンタルの酸化物ゾルと反応性有機
珪素化合物とを含むゾル液、又は該ゾル液とハードコー
ト層を形成し得る熱硬化性樹脂や電離放射線硬化型樹脂
との混合物から形成された屈折率１．６５以上のゲル膜
である。上記のチタン又はタンタルの金属酸化物ゾル
は、それらの金属アルコキシドを加水分解することによ
って形成することが好ましい。ここで使用する金属アル
コキシドは、Ｒ mＴｉ（ＯＲ´）n（Ｒは炭素数１〜１０
のアルキル基を表し、Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキル
基を表し、ｍ＋ｎは４の整数である）又はＲ mＴａ（Ｏ
Ｒ´）n（Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基を表し、
Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは５
の整数である）で表される金属アルコキシドである。更
に具体的には、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ
−ｉ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシ
ド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−ｓ
ｅｃ−ブトキシド、チタンテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシ
ド、タンタルペンタエトキシド、タンタルペンタ−ｉ−
プロポキシド、タンタルペンタ−ｎ−プロポキシド、タ
ンタルペンタ−ｎ−ブトキシド、タンタルペンタ−ｓｅ
ｃ−ブトキシド、タンタルペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシ
ド等が挙げられる。In the example of FIG. 1, the transparent base film
The hard coat layer having a high refractive index formed on the surface of
Reactive organic with titanium or tantalum oxide sol in medium
Sol liquid containing a silicon compound, or the sol liquid and hard coat
Thermosetting resin or ionizing radiation curable resin capable of forming a coating layer
A gel film having a refractive index of 1.65 or more formed from a mixture of
It is. Titanium or tantalum metal oxide sol
By hydrolyzing those metal alkoxides.
It is preferable to form it. Metal Al used here
Coxide is R mTi (OR ')n(R has 1 to 10 carbon atoms
Represents an alkyl group, R'is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
Represents a group, m + n is an integer of 4) or R mTa (O
R ')n(R represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,
R'represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, m + n is 5
Is a metal alkoxide). Change
Specifically, titanium tetraethoxide, titanium tetraethoxide
-I-propoxide, titanium tetra-n-propoxy
, Titanium tetra-n-butoxide, titanium tetra-s
ec-butoxide, titanium tetra-tert-butoxy
, Tantalum pentaethoxide, tantalum penta-i-
Propoxide, tantalum penta-n-propoxide,
Tantalum penta-n-butoxide, tantalum penta-se
c-butoxide, tantalum penta-tert-butoxy
Do and the like.
【００１０】上記金属アルコキシドの加水分解は、上記
金属アルコキシドを適当な溶媒中に溶解して行う。使用
する溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、イソ
プロピルアルコール、メタノール、エタノール、メチル
イソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルコ
ール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混
合物が挙げられる。上記アルコキシドは上記溶媒中に、
該アルコキシドが１００％加水分解及び縮合したとして
生じる金属酸化物換算で０．１重量％以上、好ましくは
０．１〜１０重量％になるように溶解する。金属酸化物
ゾルの濃度が０．１重量％未満であると形成される機能
膜が所望の特性が充分に発揮できず、一方、１０重量％
を越えると透明均質膜の形成が困難となる。又、上記範
囲内において、金属酸化物ゲル濃度を変化させることに
よって、ゲル濃度に比例して、得られるゲル膜の屈折率
を調整することができる。又、本発明においては、以上
の固形分以内であるならば、有機物や無機物バインダー
を併用することも可能である。The hydrolysis of the metal alkoxide is carried out by dissolving the metal alkoxide in a suitable solvent. Examples of the solvent used include alcohols such as methyl ethyl ketone, isopropyl alcohol, methanol, ethanol, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate and butyl acetate, ketones, esters, halogenated hydrocarbons, toluene, xylene and other aromatic hydrocarbons, Alternatively, a mixture of these may be used. The alkoxide in the solvent,
The alkoxide is dissolved so as to be 0.1% by weight or more, preferably 0.1 to 10% by weight in terms of a metal oxide generated by 100% hydrolysis and condensation. When the concentration of the metal oxide sol is less than 0.1% by weight, the functional film formed cannot sufficiently exhibit desired characteristics, while 10% by weight
If it exceeds, it becomes difficult to form a transparent homogeneous film. Further, by changing the metal oxide gel concentration within the above range, the refractive index of the obtained gel film can be adjusted in proportion to the gel concentration. Further, in the present invention, an organic or inorganic binder may be used in combination as long as the solid content is within the above range.
【００１１】上記アルコキシド溶液に加水分解に必要な
量以上の水を加え、１５〜３５℃、好ましくは２２〜２
８℃の温度で、０．５〜１０時間、好ましくは１〜５時
間撹拌を行う。該加水分解においては、触媒を用いるこ
とが好ましく、これらの触媒としては、塩酸、硝酸、硫
酸、ギ酸、酢酸等の酸が好ましく、これらの酸を約０．
１〜２０．０Ｎ、好ましくは０．５〜７．０Ｎ程度の水
溶液として加え、該水溶液中の水分を加水分解用の水分
とすることができる。加水分解に際して上記範囲におい
て触媒の濃度を変化させることによって、触媒の濃度に
比例して、得られるゲル膜の屈折率を調整することがで
きる。以上の如くして得られた金属酸化物ゾルは、無色
透明な液体であり、ポットライフが約１ケ月の安定な溶
液であり、基材に対して濡れ性が良く、塗布適性に優れ
ている。Water above the amount necessary for hydrolysis is added to the above alkoxide solution, and the temperature is 15 to 35 ° C., preferably 22 to 2
Stirring is carried out at a temperature of 8 ° C. for 0.5 to 10 hours, preferably 1 to 5 hours. In the hydrolysis, it is preferable to use catalysts, and as such catalysts, acids such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, formic acid, and acetic acid are preferable.
An aqueous solution of about 1 to 20.0 N, preferably about 0.5 to 7.0 N is added, and the water in the aqueous solution can be used as water for hydrolysis. By changing the concentration of the catalyst in the above range during the hydrolysis, the refractive index of the obtained gel film can be adjusted in proportion to the concentration of the catalyst. The metal oxide sol obtained as described above is a colorless transparent liquid, is a stable solution with a pot life of about 1 month, has good wettability with respect to the base material, and has excellent coating suitability. .
【００１２】更に最終的に得られるゲル膜の屈折率を調
整する必要がある場合、例えば、屈折率を下げるために
フッ素系有機珪素化合物、有機珪素化合物、硼素系有機
化合物等を添加することができる。具体的には、テトラ
エトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラプロポ
キシシラン、テトラブトキシシラン、アルキルトリアル
コキシシラン、コルコート４０（コルコート社製）、Ｍ
Ｓ５１（三菱化学製）、スノーテックス（日産化学製）
等の有機珪素化合物、ザフロンＦＣ−１１０，２２０，
２５０（東亜合成化学製）、セクラルコートＡ−４０２
Ｂ（セントラル硝子製）、ヘプタデカフルオロデシルト
リメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメト
キシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン
等のフッ素化合物、硼酸トリエチル、硼酸トリメチル、
硼酸トリプロピル、硼酸トリブチル等の硼素系化合物が
挙げられる。これらの添加剤はゾルの調製時に加えても
よいし、ゾルの形成後に加えてもよい。Further, when it is necessary to adjust the refractive index of the finally obtained gel film, for example, a fluorine-based organic silicon compound, an organic silicon compound, a boron-based organic compound or the like may be added to lower the refractive index. it can. Specifically, tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, alkyl trialkoxysilane, Colcoat 40 (manufactured by Colcoat), M
S51 (Mitsubishi Chemical), Snowtex (Nissan Chemical)
Organic silicon compounds such as Zafflon FC-110, 220,
250 (manufactured by Toa Gosei Chemical), sexual coat A-402
B (manufactured by Central Glass), a fluorine compound such as heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, triethyl borate, trimethyl borate,
And boron-based compounds such as tripropyl borate and tributyl borate. These additives may be added during the preparation of the sol, or may be added after the formation of the sol.
【００１３】屈折率を上げるためには、加える触媒の濃
度、水の量或いは固形分濃度を変化させる必要があり、
これらの各因子を上げると屈折率が高くなる。これらの
添加剤を用いることによって、金属アルコキシドの加水
分解時、或いはその後にゲルの水酸基と反応して更に均
一で透明なゾル溶液が得られ、且つ形成されるゲル膜の
屈折率をある程度の範囲で変化させることができる。In order to increase the refractive index, it is necessary to change the concentration of the catalyst to be added, the amount of water or the concentration of solid content,
Increasing each of these factors increases the refractive index. By using these additives, a metal alkoxide is hydrolyzed, or thereafter, reacts with hydroxyl groups of the gel to obtain a more uniform and transparent sol solution, and the refractive index of the formed gel film is within a certain range. Can be changed.
【００１４】本発明においては、上記のチタン又はタン
タルの酸化物ゾルに反応性有機珪素化合物又はその部分
加水分解物を添加する。該反応性有機珪素化合物として
は、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ
−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テ
トラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブ
トキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペ
ンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−
プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラ
ン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペ
ンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポ
キシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメ
トキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエ
トキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロ
ポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメト
キシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメ
トキシシラン等が挙げられる。In the present invention, a reactive organic silicon compound or a partial hydrolyzate thereof is added to the above-mentioned titanium or tantalum oxide sol. Examples of the reactive organic silicon compound include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, and tetra-n.
-Propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-
Propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldi Examples thereof include ethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane, and hexyltrimethoxysilane.
【００１５】更に好ましい反応性有機珪素化合物として
は、熱又は電離放射線によって反応架橋する複数の基、
例えば、重合性二重結合基を有する分子量５０００以下
の有機珪素化合物が好ましい材料として挙げられる。こ
のような反応性有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性
ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビ
ニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能ポリシロキ
サン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能ポ
リシラン、又はビニル官能ポリシロキサン等が挙げられ
る。具体的な化合物を例示すれば下記の通りである。More preferred reactive organosilicon compounds are a plurality of groups which are reactively crosslinked by heat or ionizing radiation,
For example, an organic silicon compound having a polymerizable double bond group and having a molecular weight of 5000 or less is mentioned as a preferable material. Such reactive organosilicon compounds include vinyl functional polysilanes having one end, vinyl functional polysilanes having both ends, vinyl functional polysiloxane having one end, vinyl functional polysiloxanes having both ends, or vinyl functional polysilanes obtained by reacting these compounds, Or vinyl functional polysiloxane etc. are mentioned. Examples of specific compounds are as follows.
【００１６】 ＣＨ2＝ＣＨ−（Ｒ1Ｒ2Ｓｉ）n−ＣＨ＝ＣＨ2 （Ａ） CH 2 ═CH— (R 1 R 2 Si) n —CH═CH 2 (A)
【００１７】その他の化合物しては、３−（メタ）アク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）ア
クリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メ
タ）アクリロキシシラン化合物が挙げられる。以上の如
き反応性有機珪素化合物は、前記チタン又はタンタルの
酸化物ゾル（固形分）１００重量部当り約０．１〜５０
重量部の割合で使用することが好ましい。Other compounds include (meth) acryloxysilane compounds such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane. The reactive organosilicon compound as described above is used in an amount of about 0.1 to 50 per 100 parts by weight of the titanium or tantalum oxide sol (solid content).
Preference is given to using parts by weight.
【００１８】上記の反応性有機珪素化合物を含むチタン
又はタンタルの酸化物ゾル溶液を用いて高屈折率層を形
成する方法は、該チタン又はタンタルの酸化物ゾル溶液
を、前記透明基材フイルムの表面に対し、塗布法を用い
て塗布し、その後塗布物を活性エネルギー線照射処理す
るか或いは熱処理することにより、チタン又はタンタル
の酸化物ゾル膜を形成することができ、その上に形成す
る低屈折率層との密着性は著しく改善される。前記チタ
ン又はタンタルの酸化物ゾル溶液の透明基材フイルムへ
の塗布方法としては、スピンコート法、ディップ法、ス
プレー法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、
フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法
等が挙げられる。The method of forming the high refractive index layer using the titanium or tantalum oxide sol solution containing the above-mentioned reactive organic silicon compound is a method of forming the titanium or tantalum oxide sol solution in the transparent substrate film. A titanium or tantalum oxide sol film can be formed by coating the surface with a coating method and then subjecting the coated product to active energy ray irradiation or heat treatment. Adhesion with the refractive index layer is significantly improved. As a method for applying the titanium or tantalum oxide sol solution to the transparent substrate film, a spin coating method, a dipping method, a spray method, a roll coater method, a meniscus coater method,
The flexographic printing method, the screen printing method, the bead coater method, etc. are mentioned.
【００１９】上記ゾル溶液の塗布後に行う塗布層の熱処
理は、前記透明基材フイルムの熱変形温度以下の温度で
行う。例えば、透明基材フイルムがポリエチレンテレフ
タレートフイルム（ＰＥＴ）である場合には、約８０〜
１５０℃の温度で約１分〜１時間熱処理を行ってチタン
又はタンタルの酸化物ゲル膜を形成することができる。
このような熱処理条件は、使用する透明基材フイルムの
種類及び厚みによって異なるので、使用する透明基材フ
イルムの種類に応じて決定すればよい。The heat treatment of the coating layer after the coating of the sol solution is performed at a temperature not higher than the heat deformation temperature of the transparent substrate film. For example, when the transparent base film is polyethylene terephthalate film (PET), about 80 to
The titanium or tantalum oxide gel film can be formed by performing heat treatment at a temperature of 150 ° C. for about 1 minute to 1 hour.
Since such heat treatment conditions vary depending on the type and thickness of the transparent base film to be used, it may be determined according to the type of the transparent base film to be used.
【００２０】ゾル溶液の塗布後の硬化に使用する活性エ
ネルギー線としては、電子線又は紫外線が挙げられ、特
に電子線が好ましい。例えば、電子線硬化の場合にはコ
ックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、
絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波
型等の各種電子線加速機から放出される５０〜１，００
０ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギ
ーを有する電子線が使用され、紫外線硬化の場合には超
高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアー
ク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光源か
ら発する紫外線等が利用される。活性エネルギー線の総
照射量として、活性エネルギー線が電子線である場合に
０．５Ｍｒａｄ以上、好ましくは０．５〜５０Ｍｒａｄ
の範囲である。Examples of the active energy ray used for curing after coating the sol solution include electron rays and ultraviolet rays, and electron rays are particularly preferable. For example, in the case of electron beam curing, Cockloft-Walton type, Van de Graaff type, resonance transformation type,
50 to 100 emitted from various electron beam accelerators such as insulating core transformer type, linear type, dynamitron type, high frequency type
An electron beam having an energy of 0 KeV, preferably 100 to 300 KeV is used, and in the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from a light source such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp are used. To be done. When the active energy ray is an electron beam, the total irradiation amount of the active energy ray is 0.5 Mrad or more, preferably 0.5 to 50 Mrad.
Range.
【００２１】電子線照射は、空気を酸素で置換しなが
ら、或いは十分な酸素雰囲気中で行うことが好ましく、
酸素雰囲気中で行うことによりチタン又はタンタルの酸
化物ゾルの生成、重合・縮合が促進され、より均質且つ
高品質のゲル層を形成することができる。上記熱処理
は、空気を酸素で置換しながら、或いは十分な酸素雰囲
気中で行うことが好ましく、酸素雰囲気中で行うことに
よりチタン又はタンタルの酸化物ゲルの生成、重合・縮
合が促進され、より均質且つ高品質のゲル層を形成する
ことができる。The electron beam irradiation is preferably carried out while replacing air with oxygen or in a sufficient oxygen atmosphere.
By carrying out the treatment in an oxygen atmosphere, the generation and polymerization / condensation of titanium or tantalum oxide sol are promoted, and a more homogeneous and high quality gel layer can be formed. The heat treatment is preferably carried out while substituting air with oxygen or in a sufficient oxygen atmosphere. By carrying out the heat treatment in an oxygen atmosphere, formation of an oxide gel of titanium or tantalum, polymerization and condensation are promoted, and a more homogeneous In addition, a high quality gel layer can be formed.
【００２２】又、上記ゾル液と併用して高屈折率ハード
コート層を形成することができる熱硬化性樹脂や電離放
射線硬化型樹脂は、前記透明基材フイルムが熱可塑性樹
脂からなるので、硬化時に高温を必要としない電離放射
線硬化型樹脂を使用することが好ましい。尚、本明細書
において、「ハードコート層」或いは「ハード性を有す
る」とは、ＪＩＳ Ｋ５４００で示される鉛筆硬度試験
でＨ以上の硬度を示すものをいう。又、本発明において
「高屈折率」及び「低屈折率」とは、互いに隣接する層
同士の相対的な屈折率の高低をいう。A thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin which can be used in combination with the sol solution to form a high refractive index hard coat layer is cured because the transparent base film is made of a thermoplastic resin. Sometimes it is preferable to use an ionizing radiation curable resin that does not require high temperatures. In the present specification, "hard coat layer" or "having a hard property" means a material having a hardness of H or more in a pencil hardness test shown in JIS K5400. In the present invention, the terms “high refractive index” and “low refractive index” refer to the relative refractive index of adjacent layers.
【００２３】ハードコート層を形成するのに好適な電離
放射線硬化性樹脂としては、好ましくはアクリレート系
の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリ
エステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポ
キシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセ
タール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエ
ン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）ア
クリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、及び反応
性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘ
キシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレ
ン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに
多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アク
リレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較
的多量に含有するものが使用できる。The ionizing radiation-curable resin suitable for forming the hard coat layer preferably has an acrylate functional group, for example, a polyester resin, a polyether resin, an acrylic resin or an epoxy resin having a relatively low molecular weight. Resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, oligomers or prepolymers such as (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols, and ethyl (meth) acrylate as a reactive diluent. , Ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, and other monofunctional monomers, as well as polyfunctional monomers such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripe Propylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate,
Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate,
Those containing a relatively large amount of 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. can be used.
【００２４】更に本発明では、ハードコート層を形成す
る硬化性樹脂として、前記の分子量５０００以下の反応
性有機珪素化合物を単独で又は上記の硬化性樹脂と混合
して使用することができる。該有機珪素化合物をハード
コート形成材料の少なくとも一部として使用することに
よって、ハードコート層と低屈折率層との密着性を著し
く向上させることができる。更に、上記の電離放射線硬
化型樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等
を混合して用いることができる。Further, in the present invention, as the curable resin forming the hard coat layer, the above-mentioned reactive organosilicon compound having a molecular weight of 5000 or less can be used alone or in a mixture with the above curable resin. By using the organosilicon compound as at least a part of the hard coat forming material, the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer can be remarkably improved. Furthermore, in order to make the above ionizing radiation curable resin into an ultraviolet curable resin, acetophenones, benzophenones, Michler benzoyl benzoate, α-amyloxime ester, tetramethyl thiuram monosulfide are used as photopolymerization initiators therein. ,
Thioxanthones and n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine and the like can be mixed and used as a photosensitizer.
【００２５】ハードコート層を、上記の電離放射線硬化
性樹脂単独で形成する場合、硬化時に架橋密度が高くな
りすぎると、可撓性が低下し、得られる反射防止フイル
ムの屈曲時にハードコート層にクラック等が入り易くな
る場合がある。この場合にはハードコート層形成用組成
物に、非反応性の熱可塑性樹脂を組成物全体中で約５０
重量％を占めるまでの量で混合することが好ましい。非
反応性樹脂の添加量が多すぎるとハードコート性が不十
分になる場合がある。When the hard coat layer is formed of the above-mentioned ionizing radiation curable resin alone, if the crosslinking density becomes too high during curing, the flexibility decreases, and the hard coat layer is formed when the obtained antireflection film is bent. Cracks may easily occur. In this case, a non-reactive thermoplastic resin is added to the composition for forming a hard coat layer in an amount of about 50 in the entire composition.
It is preferable to mix in an amount up to account for wt%. If the amount of the non-reactive resin added is too large, the hard coat property may become insufficient.
【００２６】非反応性樹脂としては主として熱可塑性樹
脂が用いられる。特に、電離放射線硬化型樹脂にポリエ
ステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合
物を使用した場合には、使用する熱可塑性樹脂にはポリ
メタクリル酸メチルアクリレート又はポリメタクリル酸
ブチルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つことができ
る。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化型樹脂と
の屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、透明性、
特に、低ヘイズ値、高透過率、又、相溶性の点において
有利である。A thermoplastic resin is mainly used as the non-reactive resin. In particular, when a mixture of polyester acrylate and polyurethane acrylate is used for the ionizing radiation-curable resin, polymethyl methacrylate or polybutyl methacrylate for the thermoplastic resin used can keep the hardness of the coating film high. it can. Moreover, in this case, since the refractive index of the main ionizing radiation-curable resin is close, the transparency of the coating film is not impaired.
In particular, it is advantageous in terms of low haze value, high transmittance, and compatibility.
【００２７】以上の成分からなるハードコート層の屈折
率は通常１．４９〜１．５１程度であるが、ハードコー
ト層の屈折率を更に向上させるために、ハードコート層
形成用樹脂組成物中に、高屈折率の金属や金属酸化物の
超微粒子を添加することができる。ハードコート層の好
ましい屈折率は１．５０〜２．１０である。反射防止効
果は、光緩衝膜の屈折率と膜厚とにより決定される為、
両パラメーターを調整することにより、反射防止効果を
高めることができる。前記高屈折率を有する材料として
は、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ2（屈
折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ2（屈折率１．９５）、
Ｓｂ2Ｏ5（屈折率１．７１）、ＳｎＯ2、ＩＴＯ（屈折
率１．９５）、Ｙ2Ｏ3（屈折率１．８７）、Ｌａ2Ｏ
3（屈折率１．９５）、ＺｒＯ2（屈折率２．０５）、Ａ
ｌ2Ｏ3（屈折率１．６３）等の微粉末が挙げられる。The refractive index of the hard coat layer comprising the above components is usually about 1.49 to 1.51. However, in order to further improve the refractive index of the hard coat layer, in the resin composition for forming the hard coat layer. In addition, ultrafine particles of metal or metal oxide having a high refractive index can be added. The preferable refractive index of the hard coat layer is 1.50 to 2.10. Since the antireflection effect is determined by the refractive index and the film thickness of the light buffer film,
The antireflection effect can be enhanced by adjusting both parameters. Examples of the material having a high refractive index include ZnO (refractive index 1.90), TiO 2 (refractive index 2.3 to 2.7), CeO 2 (refractive index 1.95),
Sb 2 O 5 (refractive index 1.71), SnO 2 , ITO (refractive index 1.95), Y 2 O 3 (refractive index 1.87), La 2 O
3 (refractive index 1.95), ZrO 2 (refractive index 2.05), A
Examples of the fine powder include l 2 O 3 (refractive index 1.63).
【００２８】又、ハードコート層の屈折率を更に向上さ
せるために、ハードコート層形成用樹脂組成物中に、高
屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を用いてもよい。
前記屈折率を向上させる成分の分子及び原子としては、
芳香族環、Ｆ以外のハロゲン原子、Ｓ、Ｎ、Ｐの原子等
が挙げられる。以上の成分からなるハードコート層は、
以上の成分を適当な溶剤に溶解又は分散させて塗工液と
し、この塗工液を前記基材フイルムに直接塗布して硬化
させるか、或いは離型フイルムに塗布して硬化させた
後、適当な接着剤を用いて前記透明基材フイルムに転写
させて形成することもできる。ハードコート層の厚みは
通常約３〜１０μｍ程度が好ましい。In order to further improve the refractive index of the hard coat layer, a resin containing a high refractive index component molecule or atom may be used in the resin composition for forming the hard coat layer.
As the molecules and atoms of the component for improving the refractive index,
Examples thereof include aromatic rings, halogen atoms other than F, S, N, and P atoms. The hard coat layer composed of the above components,
The above components are dissolved or dispersed in an appropriate solvent to prepare a coating liquid, and the coating liquid is directly applied to the base film to be cured, or it is applied to a release film to be cured, and then appropriate. It can also be formed by transferring to the transparent substrate film using a different adhesive. The thickness of the hard coat layer is usually preferably about 3 to 10 μm.
【００２９】上記ハードコート層の硬化には、通常の電
離放射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電子線又は紫外
線の照射によって硬化する方法を用いることができる。
例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン
型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、
直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加
速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは
１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が
使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水
銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、
メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利
用できる。For curing the hard coat layer, a usual method for curing an ionizing radiation curable resin, that is, a method for curing by irradiation with an electron beam or an ultraviolet ray can be used.
For example, in the case of electron beam curing, Cockloft-Walton type, Bande graph type, Resonant transformer type, Insulated core transformer type,
An electron beam or the like having an energy of 50 to 1000 KeV, preferably 100 to 300 KeV emitted from various electron beam accelerators of linear type, dynamitron type, high frequency type, etc. is used, and in the case of ultraviolet curing, an ultrahigh pressure mercury lamp, high pressure Mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc, xenon arc,
Ultraviolet rays emitted from light rays such as metal halide lamps can be used.
【００３０】次に上記高屈折率ハードコート層の面に、
低屈折率層を形成することにより本発明の反射防止フイ
ルムが得られる。低屈折率層としては、膜厚０．０８〜
０．２μｍ程度のＭｇＦ2やＳｉＯ2等の薄膜を蒸着やス
パッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法により形成
する方法、或いは前記の有機珪素化合物を液媒体中で加
水分解して得られるＳｉＯ2ゾルを含むゾル液から屈折
率１．４４以下のＳｉＯ2ゲル膜を形成する方法等が挙
げられるが、特に上記ＳｉＯ2ゾル中に前記の分子量５
０００以下の反応性有機珪素化合物を添加したゾル液か
ら屈折率層を形成することによって、形成される低屈折
率層とハードコート層との密着性が一層向上する。Next, on the surface of the high refractive index hard coat layer,
The antireflection film of the present invention is obtained by forming the low refractive index layer. The low refractive index layer has a thickness of 0.08 to
A method of forming a thin film of about 0.2 μm such as MgF 2 or SiO 2 by a vapor phase method such as vapor deposition, sputtering or plasma CVD, or SiO 2 obtained by hydrolyzing the organic silicon compound in a liquid medium. a method of forming a refractive index of 1.44 or less of SiO 2 gel film from the sol solution containing sol, and the like, in particular the molecular weight to the SiO 2 in the sol 5
By forming the refractive index layer from the sol solution containing 000 or less of the reactive organic silicon compound, the adhesion between the low refractive index layer and the hard coat layer is further improved.
【００３１】図２に示す例は、図１に示す例における高
屈折率を有するハードコート層をハードコート層５と高
屈折率層６に機能分離した例であり、この例において使
用する材料、各層を形成する方法等は図１に示す例の場
合と同様である。図２に示す反射防止フイルムは、図１
に示す反射防止フイルムに比較して、可視光領域での最
低反射率が低く、反射防止効率が大きい。The example shown in FIG. 2 is an example in which the hard coat layer having a high refractive index in the example shown in FIG. 1 is functionally separated into a hard coat layer 5 and a high refractive index layer 6, and the materials used in this example are The method of forming each layer is the same as in the case of the example shown in FIG. The antireflection film shown in FIG.
Compared with the antireflection film shown in (1), the minimum reflectance in the visible light region is low and the antireflection efficiency is high.
【００３２】図３に示す例は、反射防止フイルムの表面
に微細凹凸形状７を設けて反射防止フイルムに防眩性を
付与したものである。微細凹凸形状の形成は、従来公知
のいずれの方法でもよいが、例えば、好ましい方法とし
て、高屈折率ハードコート層を転写法で形成する場合
に、転写材の基材フイルムとして表面に微細凹凸形状を
有するマットフイルムを用い、該フイルム上に高屈折率
ハードコート層用塗工液を塗布及び硬化させ、その後該
ハードコート層を、必要に応じて接着剤等を介して前記
透明基材フイルム面に転写させ、微細凹凸形状を高屈折
率ハードコート層の表面に付与する方法が挙げられる。
その他の方法としては、前記基材フイルム面に高屈折率
ハードコート層用塗工液を塗布及び乾燥させ、その状態
で前記の如きマットフイルムをその樹脂層の面に圧着さ
せ、その状態で樹脂層を硬化させ、次いでマットフイル
ムを剥離し、マットフイルムの微細凹凸形状を高屈折率
ハードコート層の表面に転写させる方法が挙げられる。
いずれにしても、このような微細凹凸形状を有する高屈
折率層の表面に形成する低屈折率層は薄膜であるので、
低屈折率層の表面には上記の微細凹凸形状７が現れる。In the example shown in FIG. 3, the antireflection film is provided with fine irregularities 7 on the surface thereof to impart antiglare properties to the antireflection film. The fine irregularities may be formed by any conventionally known method. For example, as a preferred method, when the high refractive index hard coat layer is formed by the transfer method, the fine irregularities are formed on the surface as the base material film of the transfer material. Using a matte film having the above, a coating liquid for a high refractive index hard coat layer is applied and cured on the film, and then the hard coat layer is optionally coated with an adhesive or the like to form the transparent substrate film surface. And a method of imparting fine irregularities to the surface of the high-refractive-index hard coat layer.
As another method, a coating liquid for a high refractive index hard coat layer is applied to the surface of the base material film and dried, and in such a state, the matte film as described above is pressure-bonded to the surface of the resin layer, and the resin in that state is applied. A method of curing the layer, then peeling off the matte film, and transferring the fine concavo-convex shape of the matte film onto the surface of the high refractive index hard coat layer can be mentioned.
In any case, since the low refractive index layer formed on the surface of the high refractive index layer having such a fine uneven shape is a thin film,
The fine irregularities 7 appear on the surface of the low refractive index layer.
【００３３】本発明の反射防止フイルムは、以上説明し
た各層の他に、各種機能を付与するための層を更に設け
ることができる。例えば、透明基材フイルムと高屈折率
ハードコート層（高屈折率層）との密着性を向上させる
ために接着剤層やプライマー層を設けたり、又、ハード
性能を向上させるためにハードコート層を複数層とする
ことができる。上記のように透明基材フイルムとハード
コート層との中間に設けられるその他の層の屈折率は、
透明基材フイルムの屈折率とハードコート層の屈折率の
中間の値とすることが好ましい。The antireflection film of the present invention may further include layers for imparting various functions in addition to the layers described above. For example, an adhesive layer or a primer layer may be provided to improve the adhesion between the transparent base film and the high refractive index hard coat layer (high refractive index layer), or a hard coat layer to improve the hard performance. Can have multiple layers. As described above, the refractive index of the other layer provided between the transparent substrate film and the hard coat layer is
It is preferable to set it to an intermediate value between the refractive index of the transparent substrate film and the refractive index of the hard coat layer.
【００３４】上記他の層の形成方法は、上記のように透
明基材フイルム上に、所望の塗工液を直接又は間接的に
塗布して形成してもよく、又、透明基材フイルム上にハ
ードコート層を転写により形成する場合には、予め離型
フイルム上に形成したハードコート層上に他の層を形成
する塗工液を塗布して形成し、その後、透明基材フイル
ムと離型フイルムとを、離型フイルムの塗布面を内側に
してラミネートし、次いで離型フイルムを剥離すること
により、透明基材フイルムに他の層を転写してもよい。
又、本発明の反射防止フイルムの下面には、粘着剤が塗
布されていてもよく、この反射防止フイルムは反射防止
すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して用いること
ができる。The other layer may be formed by directly or indirectly applying a desired coating liquid on the transparent base film as described above, or on the transparent base film. When a hard coat layer is formed by transfer onto the release film, it is formed by applying a coating liquid for forming another layer on the hard coat layer previously formed on the release film, and then separating the transparent base film from the transparent base film. Another layer may be transferred to the transparent substrate film by laminating the release film with the coated surface of the release film inside and then peeling off the release film.
Further, an adhesive may be applied to the lower surface of the antireflection film of the present invention, and this antireflection film can be used by attaching it to an object to be antireflection, for example, a polarizing element.
【００３５】以上の如くして得られる本発明の反射防止
フイルムは、ワープロ、コンピュータ、テレビ、プラズ
マディスプレイパネル等の各種ディスプレイ、液晶表示
装置に用いる偏光板の表面、透明プラスチック類からな
るサングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファ
インダーレンズ等の光学レンズ、各種計器のカバー、自
動車、電車等の窓ガラス等の表面の反射防止に有用であ
る。The antireflection film of the present invention obtained as described above is used in various displays such as word processors, computers, televisions and plasma display panels, the surface of polarizing plates used in liquid crystal display devices, sunglasses lenses made of transparent plastics, It is useful for preventing reflection on the surfaces of prescription glasses lenses, optical lenses such as finder lenses for cameras, covers of various instruments, window glasses of automobiles, trains, etc.
【００３６】[0036]
【実施例】次に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に
具体的に説明する。 実施例１ テトラブトキシチタン（Ｔｉ（ＯＲ4））が理想的にＴ
ｉＯ2に加水分解及び縮合したと仮定した時の固形分濃
度が３重量％となるように、テトラブトキシチタンを溶
媒であるエチルセロソルブに溶解し、液温が２５℃に安
定するまで３０分間撹拌した（Ａ液）。Ａ液中に、触媒
である濃度３Ｎの塩酸をテトラブトキシチタンのアルコ
キシド基に対して２．５倍モル量加え、２５℃で３時間
加水分解を行い、ＴｉＯ2ゾル溶液を得た（Ｂ液）。Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. Example 1 Tetrabutoxy titanium (Ti (OR 4 )) is ideally T
Dissolve tetrabutoxy titanium in ethyl cellosolve, which is a solvent, so that the solid content concentration is 3% by weight assuming that it is hydrolyzed and condensed into iO 2 , and stir for 30 minutes until the liquid temperature stabilizes at 25 ° C. (A liquid). Hydrochloric acid having a concentration of 3N, which is a catalyst, was added to solution A in a molar amount 2.5 times that of the alkoxide group of tetrabutoxytitanium, and the mixture was hydrolyzed at 25 ° C. for 3 hours to obtain a TiO 2 sol solution (solution B). ).
【００３７】上記Ｂ液中に分子量５０００以下のビニル
基含有シラン（Ｘ−１２−２４００：商品名、信越化学
工業製）を、Ｂ液１００重量部（固形分３％）に対して
５重量部の割合で添加し、高屈折率層用塗布液（屈折率
１．９）を得た。表面が平滑なＰＥＴフイルム（Ｔ−６
０：商品名、ダイヤホイル株式会社製、厚さ５０μｍ）
上に、電離放射線硬化型フォスファゼン変性アクリレー
ト（ＰＰＺ−Ｎ−２０００：商品名、大阪共栄社化学
製）と上記高屈折率層用塗布液とを重量比２：１に配合
した液状樹脂組成物を７μｍ／ｄｒｙになるようにグラ
ビアリバースコートにより塗工し、電子線を加速電圧１
７５ｋＶで５Ｍｒａｄ照射した後、１２０℃で１時間熱
処理して硬化させ、高屈折率ハードコート層（屈折率
１．７５）を形成した。5 parts by weight of vinyl group-containing silane having a molecular weight of 5000 or less (X-12-2400: trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) in the above-mentioned solution B per 100 parts by weight of solution B (solid content 3%). To obtain a coating liquid for high refractive index layer (refractive index 1.9). PET film with smooth surface (T-6
0: product name, manufactured by Dia foil Co., Ltd., thickness 50 μm)
7 μm of a liquid resin composition prepared by blending an ionizing radiation-curable phosphazene-modified acrylate (PPZ-N-2000: trade name, manufactured by Osaka Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and the coating liquid for high refractive index layer in a weight ratio of 2: 1. / Dry is applied by gravure reverse coating, and electron beam is applied at accelerating voltage 1
After irradiation with 5 Mrad at 75 kV, heat treatment was performed at 120 ° C. for 1 hour to cure, and a high refractive index hard coat layer (refractive index 1.75) was formed.
【００３８】この高屈折率ハードコート層上に２液硬化
型接着剤（ＬＸ６６０（主剤）、ＫＷ７５（硬化剤）：
商品名、大日本インキ化学工業製）をグラビアリバース
コートにより塗工して接着剤層を形成した。次いで、こ
の接着剤層を介してＰＥＴフイルム（Ａ−４３００：商
品名、東洋紡製、厚さ１００μｍ）をラミネートし、４
０℃で４日間エージングした後、上記ＰＥＴフイルム
（Ｔ−６０）を剥離して、高屈折率ハードコート層をＰ
ＥＴフイルム（Ａ−４３００）上に転写させた。On this high refractive index hard coat layer, a two-component curing type adhesive (LX660 (main agent), KW75 (curing agent):
A trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. was applied by gravure reverse coating to form an adhesive layer. Then, a PET film (A-4300: trade name, manufactured by Toyobo, thickness 100 μm) is laminated via this adhesive layer, and 4
After aging at 0 ° C. for 4 days, the PET film (T-60) was peeled off, and the high refractive index hard coat layer was coated with P.
It was transferred onto an ET film (A-4300).
【００３９】得られたＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）
上の高屈折率ハードコート層上に、更にＳｉＯxをプラ
ズマＣＶＤ法にて蒸着して、膜厚１００ｎｍのＳｉＯx
層（屈折率１．４６）を形成して本発明の反射防止フイ
ルムを得た。得られた反射防止フイルムの全光線透過率
は９４．０％、ヘイズ値０．５、可視光線の波長領域で
の最低反射率は０．４であり、反射防止性に優れてい
た。又、その表面鉛筆硬度は３Ｈであり、ハードコート
性能にも優れていた。更に高屈折率ハードコート層と低
屈折率層との密着性は、碁盤目テープ剥離試験で１００
／１００であり、密着性にも優れていた。The obtained PET film (A-4300)
SiOx having a film thickness of 100 nm is further deposited on the upper high-refractive index hard coat layer by plasma CVD.
A layer (refractive index 1.46) was formed to obtain the antireflection film of the present invention. The obtained antireflection film had a total light transmittance of 94.0%, a haze value of 0.5, and a minimum reflectance of 0.4 in the visible light wavelength region, and was excellent in antireflection property. The surface pencil hardness was 3H, and the hard coat performance was excellent. Further, the adhesion between the high refractive index hard coat layer and the low refractive index layer is 100 in a cross-cut tape peeling test.
It was / 100 and the adhesion was excellent.
【００４０】実施例２ メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＯＳ）が理想的にＳ
ｉＯ2又はＭｅＳｉＯ1.5に加水分解及び縮合したと仮定
した時の固形分濃度が３重量％となるように、ＭＴＥＯ
Ｓを溶媒であるメチルエチルケトンに溶解し、液温が２
５℃に安定するまで３０分間撹拌した。この溶液中に、
触媒である濃度０．００５Ｎの塩酸をＭＴＥＯＳのアル
コキシド基と等モル量加え、２５℃で３時間加水分解を
行った。この溶液に更に硬化剤として酢酸ナトリウムと
酢酸とを混合したものを加え、２５℃で１時間撹拌しＳ
ｉＯ2ゾル溶液を得た。上記溶液中に分子量５０００以
下のビニル基含有シラン（Ｘ−１２−２４００：商品
名）を、ＳｉＯ2ゾル液１００重量部（固形分３％）に
対して１０重量部の割合で添加し、低屈折率層用塗布液
を得た。Example 2 Methyltriethoxysilane (MTEOS) is ideally S
The MTEO is adjusted so that the solid content concentration becomes 3% by weight when it is assumed that the solid content is hydrolyzed and condensed to iO 2 or MeSiO 1.5.
S was dissolved in methyl ethyl ketone, a solvent, and the solution temperature was 2
Stir for 30 minutes until stable at 5 ° C. In this solution,
Hydrochloric acid having a concentration of 0.005N, which is a catalyst, was added in an equimolar amount to the alkoxide group of MTEOS, and hydrolysis was performed at 25 ° C for 3 hours. To this solution was added a mixture of sodium acetate and acetic acid as a curing agent, and the mixture was stirred at 25 ° C for 1 hour and then added with S
An iO 2 sol solution was obtained. A vinyl group-containing silane having a molecular weight of 5000 or less (X-12-2400: trade name) was added to the above solution at a ratio of 10 parts by weight to 100 parts by weight (solid content 3%) of the SiO 2 sol solution, A coating liquid for the refractive index layer was obtained.
【００４１】表面に微細な凹凸が形成されているマット
ＰＥＴフイルム（ルミラーＥ−０６、：商品名、東レ
製、厚さ５０μｍ）上に電離放射線硬化型フォスファゼ
ン変性アクリレート（ＰＰＺ−Ｎ−２０００：商品名）
と実施例１と同じ高屈折率層用塗布液とを重量比２：１
に配合した液状樹脂組成物を７μｍ／ｄｒｙになるよう
にグラビアリバースコートにより塗工し、電子線を加速
電圧１７５ｋＶで５Ｍｒａｄ照射した後、１２０℃で１
時間熱処理して硬化させ、高屈折率防眩性ハードコート
層を形成した（屈折率１．６５）。次いでこの高屈折率
ハードコート層上に２液硬化型接着剤（ＬＸ６６０（主
剤）、ＫＷ７５（硬化剤）：商品名）をグラビアリバー
スコートにより塗工して接着剤層を形成した。次いで、
この接着剤層を介してＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）
をラミネートし、４０℃で４日間エージングした後、上
記ＰＥＴフイルム（ルミラーＥ−０６）を剥離して、高
屈折率防眩性ハードコート層をＰＥＴフイルム（Ａ−４
３００）上に転写させた。この高屈折率防眩層の表面
は、前記ＰＥＴフイルム（ルミラーＥ−０６）の表面形
状と同じ微細な凹凸形状となっている。Ionizing radiation-curable phosphazene-modified acrylate (PPZ-N-2000: product) on a matte PET film (Lumirror E-06, product name, manufactured by Toray, thickness 50 μm) on the surface of which fine irregularities are formed. Name)
And the same high refractive index layer coating solution as in Example 1 in a weight ratio of 2: 1.
The liquid resin composition blended with was coated by gravure reverse coating so as to have a thickness of 7 μm / dry, and the electron beam was irradiated with 5 Mrad at an accelerating voltage of 175 kV, and then at 120 ° C. for 1 hour.
It was heat-treated for curing for an hour to form a high refractive index antiglare hard coat layer (refractive index 1.65). Then, a two-component curable adhesive (LX660 (main agent), KW75 (curing agent): trade name) was applied onto this high refractive index hard coat layer by gravure reverse coating to form an adhesive layer. Then
PET film (A-4300) through this adhesive layer
And aged at 40 ° C. for 4 days, the PET film (Lumirror E-06) is peeled off, and the high refractive index antiglare hard coat layer is coated with the PET film (A-4).
300). The surface of the high-refractive-index antiglare layer has the same fine unevenness as the surface of the PET film (Lumirror E-06).
【００４２】得られたＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）
上の高屈折率ハードコート層上に、前記の低屈折率層用
塗布液（屈折率１．４２）を、乾燥後の膜厚が０．１μ
ｍになるように塗工し、１２０℃で１時間の熱処理を行
い、本発明の防眩性反射防止フイルムを得た。得られた
反射防止フイルムの全光線透過率は９２．５％、ヘイズ
値１．０であり、反射防止性及び防眩性に優れていた。
又、その表面鉛筆硬度は３Ｈであり、ハードコート性能
にも優れていた。更に高屈折率ハードコート層と低屈折
率層との密着性は、碁盤目テープ剥離試験で１００／１
００であり、密着性にも優れていた。The obtained PET film (A-4300)
On the above high-refractive-index hard coat layer, the coating liquid for low-refractive-index layer (refractive index 1.42) was dried to a film thickness of 0.1 μm.
It was coated so that it had a thickness of m, and heat-treated at 120 ° C. for 1 hour to obtain the antiglare antireflection film of the present invention. The obtained antireflection film had a total light transmittance of 92.5% and a haze value of 1.0, and was excellent in antireflection property and antiglare property.
The surface pencil hardness was 3H, and the hard coat performance was excellent. Further, the adhesion between the high-refractive index hard coat layer and the low-refractive index layer is 100/1 in the cross-cut tape peeling test.
It was 00 and was excellent in adhesiveness.
【００４３】実施例３ 透明基材フイルムとして厚さ５０μｍのＰＥＴフイルム
（ルミラーＴ−６０：商品名）を用意した。一方、実施
例１の高屈折率層用塗布液（屈折率１．９）と電離放射
線硬化型樹脂とを該塗布液中のチタン酸化物ゾル１５重
量部に対して電離放射線硬化型樹脂１重量部になるよう
に配合した。この液状樹脂組成物を、前記ＰＥＴフイル
ム上に乾燥後の膜厚０．１μｍ／ｄｒｙになるようにグ
ラビアリバースコートにより塗工し、１２０℃で１時間
熱処理を行い、高屈折率層（屈折率１．９）を形成し
た。この高屈折率層上にハードコート樹脂（ＰＰＺ−Ｎ
−２０００：商品名）を７μｍ／ｄｒｙになるようにグ
ラビアリバースコートにより塗工し、電子線を加速電圧
１７５ｋＶで５Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬化させ、ハー
ドコート層を形成した（屈折率１．５５）。Example 3 A PET film (Lumirror T-60: trade name) having a thickness of 50 μm was prepared as a transparent substrate film. On the other hand, the coating liquid for the high refractive index layer (refractive index 1.9) of Example 1 and the ionizing radiation curable resin were added to 1 part by weight of the ionizing radiation curable resin with respect to 15 parts by weight of the titanium oxide sol in the coating liquid. It was blended so that it would be a part. This liquid resin composition was applied onto the PET film by gravure reverse coating so that the film thickness after drying was 0.1 μm / dry, and heat treatment was performed at 120 ° C. for 1 hour to obtain a high refractive index layer (refractive index). 1.9) was formed. On this high refractive index layer, a hard coat resin (PPZ-N
-2000: product name) was applied by gravure reverse coating so as to have a thickness of 7 μm / dry, and the coating was cured by irradiating an electron beam with 5 Mrad at an accelerating voltage of 175 kV to form a hard coat layer (refractive index 1. 55).
【００４４】この高屈折率ハードコート層上に２液型硬
化型接着剤（ＬＸ６６０（主剤）、ＫＷ７５（硬化
剤）：商品名）をグラビアリバースコートにより塗工し
て接着剤層を形成した。次いで、この接着剤層を介して
ＰＥＴフイルム（Ａ−４３００：商品名）をラミネート
し、４０℃で４日間エージングした後、上記ＰＥＴフイ
ルム（Ｔ−６０）を剥離して、高屈折率防眩性ハードコ
ート層をＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）上に転写させ
た。A two-pack type curable adhesive (LX660 (main agent), KW75 (curing agent): trade name) was applied onto this high refractive index hard coat layer by gravure reverse coating to form an adhesive layer. Then, a PET film (A-4300: trade name) is laminated through this adhesive layer, and after aging at 40 ° C. for 4 days, the PET film (T-60) is peeled off to obtain a high refractive index antiglare film. The hard coat layer was transferred onto a PET film (A-4300).
【００４５】得られたＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）
上の高屈折率ハードコート層上に、更にプラズマＣＶＤ
法にてＳｉＯxを蒸着して、膜厚０．１μｍのＳｉＯx層
（屈折率１．４６）を形成して本発明の反射防止フイル
ムを得た。得られた反射防止フイルムの全光線透過率は
９４．０％、ヘイズ値０．５であり、反射防止性及び防
眩性に優れていた。又、その表面鉛筆硬度は３Ｈであ
り、ハードコート性能にも優れていた。更に高屈折率ハ
ードコート層と低屈折率層との密着性は、碁盤目テープ
剥離試験で１００／１００であり、密着性にも優れてい
た。The obtained PET film (A-4300)
Plasma CVD on top of the high refractive index hard coat layer
SiOx was vapor-deposited by the method to form an SiOx layer (refractive index 1.46) having a film thickness of 0.1 μm to obtain an antireflection film of the present invention. The obtained antireflection film had a total light transmittance of 94.0% and a haze value of 0.5, and was excellent in antireflection property and antiglare property. The surface pencil hardness was 3H, and the hard coat performance was excellent. Further, the adhesion between the high refractive index hard coat layer and the low refractive index layer was 100/100 in the cross-cut tape peeling test, and the adhesion was also excellent.
【００４６】実施例４ 前記実施例３において、ＰＥＴフイルム（Ａ−４３０
０）上に形成されている高屈折率のハードコート層（屈
折率１．９）上に、前記実施例２の低屈折率層用塗工液
（屈折率１．４２）を、乾燥後の膜厚が０．１μｍにな
る用に塗工し、１２０℃で１時間の熱処理を行い、本発
明の反射防止フイルムを得た。得られた反射防止フイル
ムの全光線透過率は９４．５％、ヘイズ値０．４であ
り、可視光線の波長領域での最低反射率は０．２であ
り、反射防止性に優れていた。又、その表面鉛筆硬度は
３Ｈであり、ハードコート性能にも優れていた。更に高
屈折率ハードコート層と低屈折率層との密着性は碁盤目
テープ剥離試験で１００／１００であり、密着性にも優
れていた。Example 4 In the above Example 3, the PET film (A-430) was used.
0) on the high-refractive-index hard coat layer (refractive index 1.9), the low-refractive-index layer coating solution (refractive index 1.42) of Example 2 was dried. Coating was performed so that the film thickness was 0.1 μm, and heat treatment was performed at 120 ° C. for 1 hour to obtain an antireflection film of the present invention. The obtained antireflection film had a total light transmittance of 94.5% and a haze value of 0.4, and had a minimum reflectance of 0.2 in the visible light wavelength region, and was excellent in antireflection property. The surface pencil hardness was 3H, and the hard coat performance was excellent. Further, the adhesion between the high refractive index hard coat layer and the low refractive index layer was 100/100 in the cross-cut tape peeling test, and the adhesion was also excellent.
【００４７】実施例５ 表面が平滑なＰＥＴフイルム（Ａ−４３００：商品名）
上に、前記高屈折率層用塗布液とハードコート樹脂（Ｐ
ＰＺ−Ｎ−２０００：商品名）とを重量比２：１に配合
した液状樹脂組成物を７μｍ／ｄｒｙになるようにグラ
ビアリバースコートにより塗工し、溶媒を乾燥除去し
た。次いでこの高屈折率ハードコート層を介して表面に
微細な凹凸が形成されているマットＰＥＴフイルム（ル
ミラーＥ−０６：商品名、厚さ５０μｍ）をラミネート
し、電子線を加速電圧１７５ｋＶで５Ｍｒａｄ照射して
塗膜を硬化させ、上記ＰＥＴフイルム（ルミラーＥ−０
６）を剥離して、高屈折率防眩性ハードコート層を形成
した。このＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）上の高屈折
率防眩性ハードコート層の表面は、前記ＰＥＴフイルム
（ルミラーＥ−０６）の表面形状と同じ微細な凹凸形状
となっている。Example 5 PET film having a smooth surface (A-4300: trade name)
The coating liquid for the high refractive index layer and the hard coat resin (P
A liquid resin composition in which PZ-N-2000: trade name) was mixed in a weight ratio of 2: 1 was applied by a gravure reverse coat so as to have a thickness of 7 μm / dry, and the solvent was removed by drying. Then, a matte PET film (Lumirror E-06: trade name, thickness 50 μm) having fine irregularities formed on the surface is laminated through the high-refractive index hard coat layer, and an electron beam is irradiated at an acceleration voltage of 175 kV for 5 Mrad. To cure the coating film, and the PET film (Lumirror E-0
6) was peeled off to form a high refractive index antiglare hard coat layer. The surface of the high-refractive-index antiglare hard coat layer on the PET film (A-4300) has the same fine unevenness as the surface shape of the PET film (Lumirror E-06).
【００４８】得られたＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）
上の高屈折率ハードコート層上に、更にプラズマＣＶＤ
法にてＳｉＯxを蒸着して、膜厚０．１μｍのＳｉＯx層
（屈折率１．４６）を形成して本発明の反射防止フイル
ムを得た。得られた反射防止フイルムの全光線透過率は
９２．５％、ヘイズ値１．０であり、反射防止性及び防
眩性に優れていた。又、その表面鉛筆硬度は３Ｈであ
り、ハードコート性能にも優れていた。更に高屈折率ハ
ードコート層と低屈折率層との密着性は、碁盤目テープ
剥離試験で１００／１００であり、密着性にも優れてい
た。The obtained PET film (A-4300)
Plasma CVD on top of the high refractive index hard coat layer
SiOx was vapor-deposited by the method to form an SiOx layer (refractive index 1.46) having a film thickness of 0.1 μm to obtain an antireflection film of the present invention. The obtained antireflection film had a total light transmittance of 92.5% and a haze value of 1.0, and was excellent in antireflection property and antiglare property. The surface pencil hardness was 3H, and the hard coat performance was excellent. Further, the adhesion between the high refractive index hard coat layer and the low refractive index layer was 100/100 in the cross-cut tape peeling test, and the adhesion was also excellent.
【００４９】実施例６ 前記実施例４の防眩性高屈折率ハードコート層上に前記
実施例２の低屈折率層塗工液（屈折率１．４２）を乾燥
後の膜厚が０．１μｍになるように塗工し、１２０℃で
１時間の熱処理を行い、本発明の反射防止フイルムを得
た。得られた反射防止フイルムの全光線透過率は９３．
５％、ヘイズ値１．０であり、反射防止性及び防眩性に
優れていた。又、その表面鉛筆硬度は３Ｈであり、ハー
ドコート性能にも優れていた。更に高屈折率ハードコー
ト層と低屈折率層との密着性は、碁盤目テープ剥離試験
で１００／１００であり、密着性にも優れていた。Example 6 The low refractive index layer coating solution of Example 2 (refractive index 1.42) was dried on the antiglare high refractive index hard coat layer of Example 4 to give a film thickness of 0. It was coated to a thickness of 1 μm and heat-treated at 120 ° C. for 1 hour to obtain the antireflection film of the present invention. The total light transmittance of the obtained antireflection film was 93.
The haze value was 5% and the haze value was 1.0, and the antireflection property and the antiglare property were excellent. The surface pencil hardness was 3H, and the hard coat performance was excellent. Further, the adhesion between the high refractive index hard coat layer and the low refractive index layer was 100/100 in the cross-cut tape peeling test, and the adhesion was also excellent.
【００５０】実施例７ ペンタエトキシタンタル（ＰＥＯＴ）が理想的にＴａ2
Ｏ5に加水分解及び縮合したと仮定した時の固形分濃度
が３重量％となるように、溶媒であるイソプロピルアル
コール（ＩＰＡ）に溶解し、液温が２５℃に安定するま
で３０分間撹拌した。上記溶液中に、触媒である濃度１
Ｎの塩酸を溶解した水をＰＥＯＴ１モル対して５モル加
え、室温で３時間加水分解を行ってゾル液を得た。この
ゾル液に分子量５０００以下のビニル基含有シラン（Ｘ
−１２−２４００：商品名）を、ゾル液固形分１００重
量部に対して５重量部の割合で添加し、高屈折率層用塗
布液（屈折率１．９）を得た。この高屈折率層用塗布液
を使用した以外は実施例１と同様にして本発明の反射防
止フイルムを得た。この反射防止フイルムは実施例１の
場合と同様に優れた全光線透過率、ヘイズ値、反射防止
性、表面鉛筆硬度及び高屈折率ハードコート層と低屈折
率層との密着性を有していた。Example 7 Pentaethoxy tantalum (PEOT) is ideal for Ta 2
It was dissolved in isopropyl alcohol (IPA) as a solvent so that the solid content concentration was 3% by weight, assuming that it was hydrolyzed and condensed to O 5 , and stirred for 30 minutes until the liquid temperature became stable at 25 ° C. . Catalyst 1 in the above solution
Water in which N hydrochloric acid was dissolved was added in an amount of 5 mol per mol of PEOT, and hydrolysis was performed at room temperature for 3 hours to obtain a sol liquid. A vinyl group-containing silane having a molecular weight of 5000 or less (X
-12-2400: trade name) was added at a ratio of 5 parts by weight to 100 parts by weight of the solid content of the sol liquid to obtain a coating liquid for high refractive index layer (refractive index 1.9). An antireflection film of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that this coating liquid for high refractive index layer was used. This antireflection film has excellent total light transmittance, haze value, antireflection property, surface pencil hardness, and adhesion between the high refractive index hard coat layer and the low refractive index layer as in Example 1. It was
【００５１】比較例１ 前記実施例１の反射防止フイルムにおいて、反応性珪素
有機化合物（Ｘ−１２−２４００）を添加しないＴｉＯ
2ゾル溶液を用いて屈折率層を形成した以外は、実施例
１と同様にして反射防止フイルムを作製した。この反射
防止フイルムの全光線透過率は９４．５％、ヘイズ値
０．５であり、反射防止性は前記実施例１と同様である
が、高屈折率ハードコート層と低屈折率層との密着性は
碁盤目テープ剥離試験で８０／１００であった。Comparative Example 1 In the antireflection film of Example 1, the TiO without the reactive silicon organic compound (X-12-2400) was added.
2 An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the refractive index layer was formed using the sol solution. The antireflection film had a total light transmittance of 94.5% and a haze value of 0.5, and the antireflection property was the same as in Example 1, but the high refractive index hard coat layer and the low refractive index layer were The adhesiveness was 80/100 in a cross-cut tape peeling test.
【００５２】比較例２ 前記実施例１の反射防止フイルムにおいて、真空蒸着法
により形成したＴｉＯx膜を高屈折率層とした以外は、
実施例１と同様にして反射防止フイルムを作製した。こ
の反射防止フイルムの全光線透過率は９３．７％、ヘイ
ズ値０．７であり、反射防止性は前記各実施例に比較し
て低下している。又、その表面鉛筆硬度は２Ｈであり、
高屈折率ハードコート層と低屈折率層との密着性は碁盤
目テープ剥離試験で６０／１００であった。Comparative Example 2 In the antireflection film of Example 1, except that the TiOx film formed by the vacuum deposition method was used as the high refractive index layer,
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1. The total light transmittance of this antireflection film was 93.7% and the haze value was 0.7, and the antireflection property was lower than that in each of the examples. The surface pencil hardness is 2H,
The adhesion between the high refractive index hard coat layer and the low refractive index layer was 60/100 in a cross-cut tape peeling test.
【００５３】[0053]
【発明の効果】以上の如く、本発明によれば、反射防止
フイルムの高屈折率ハードコート層を、液媒体中にチタ
ン又はタンタルの酸化物ゾルと反応性有機珪素化合物と
を含むゾル液から屈折率１．６５以上のゲル膜として形
成することによって、低屈折率層が高屈折ハードコート
層に対して優れた密着性を有する反射防止フイルムを、
高価で複雑な設備等を使用することなく経済的に提供す
ることができる。As described above, according to the present invention, a high refractive index hard coat layer of an antireflection film is formed from a sol liquid containing titanium or tantalum oxide sol and a reactive organosilicon compound in a liquid medium. By forming a gel film having a refractive index of 1.65 or more, an antireflection film in which a low refractive index layer has excellent adhesion to a high refractive hard coat layer,
It can be provided economically without using expensive and complicated equipment.
【図１】 本発明の反射防止フイルムの１例の断面を説
明する図。FIG. 1 is a diagram illustrating a cross section of an example of an antireflection film of the present invention.
【図２】 本発明の反射防止フイルムの他の例の断面を
説明する図。FIG. 2 is a diagram illustrating a cross section of another example of the antireflection film of the present invention.
【図３】 本発明の反射防止フイルムの他の例の断面を
説明する図。FIG. 3 is a diagram illustrating a cross section of another example of the antireflection film of the present invention.
１：透明基材フイルム ２：高屈折率ハードコート層 ３：低屈折率層 ４：接着剤層 ５：ハードコート層 ６：高屈折率層 ７：微細凹凸形状 1: Transparent substrate film 2: High refractive index hard coat layer 3: Low refractive index layer 4: Adhesive layer 5: Hard coat layer 6: High refractive index layer 7: Fine uneven shape
Claims (8)
るハードコート層及び低屈折率層を積層してなる反射防
止フイルムにおいて、上記高屈折率層が、液媒体中にチ
タン又はタンタルの酸化物ゾルと反応性有機珪素化合物
とを含むゾル液から形成された屈折率１．６５以上のゲ
ル膜からなることを特徴とする反射防止フイルム。1. An antireflection film comprising a transparent substrate film and a hard coat layer having a high refractive index and a low refractive index layer laminated on the transparent substrate film, wherein the high refractive index layer comprises titanium or tantalum in a liquid medium. An antireflection film comprising a gel film having a refractive index of 1.65 or more formed from a sol solution containing an oxide sol and a reactive organic silicon compound.
ゾル（固形分）１００重量部当り反応性有機珪素化合物
０．１〜５０重量部を含む請求項１に記載の反射防止フ
イルム。2. The antireflection film according to claim 1, wherein the sol liquid contains 0.1 to 50 parts by weight of the reactive organic silicon compound per 100 parts by weight of titanium or tantalum oxide sol (solid content).
電離放射線によって硬化可能な複数の官能基を有する有
機珪素化合物又はその部分加水分解物である請求項１に
記載の反射防止フイルム。3. The antireflection film according to claim 1, wherein the reactive organosilicon compound is an organosilicon compound having a plurality of functional groups curable by heat and / or ionizing radiation or a partial hydrolyzate thereof.
ードコート層と高屈折率層とに機能分離されている請求
項１に記載の反射防止フイルム。4. The antireflection film according to claim 1, wherein the hard coat layer having a high refractive index is functionally separated into a hard coat layer and a high refractive index layer.
性が付与されている請求項１に記載の反射防止フイル
ム。5. The antireflection film according to claim 1, wherein fine irregularities are formed on the surface to impart antiglare properties.
属アルコキシドの塗布に適した有機溶剤に溶解し、一定
量の水を添加して加水分解を行って調製したものである
請求項１に記載の反射防止フイルム。6. The method according to claim 1, wherein the oxide sol of titanium or tantalum is dissolved in an organic solvent suitable for coating a metal alkoxide, and a certain amount of water is added for hydrolysis. Anti-reflection film.
プラズマＣＶＤ法により形成されたＭｇＦ2或いはＳｉ
Ｏ2の薄膜である請求項１に記載の反射防止フイルム。7. The low refractive index layer is formed by vapor deposition, sputtering,
MgF 2 or Si formed by plasma CVD method
The antireflection film according to claim 1, which is a thin film of O 2 .
成されたＳｉＯ2の薄膜である請求項１に記載の反射防
止フイルム。8. The antireflection film according to claim 1, wherein the low refractive index layer is a thin film of SiO 2 formed from a SiO 2 sol solution.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP8052600A JPH09222504A (en) | 1996-02-16 | 1996-02-16 | Antireflection film |
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|---|---|---|---|
| JP8052600A JPH09222504A (en) | 1996-02-16 | 1996-02-16 | Antireflection film |
Related Child Applications (1)
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