JPH09221558A - Production of antistatic plastic plate - Google Patents

Production of antistatic plastic plate

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JPH09221558A
JPH09221558A JP8026571A JP2657196A JPH09221558A JP H09221558 A JPH09221558 A JP H09221558A JP 8026571 A JP8026571 A JP 8026571A JP 2657196 A JP2657196 A JP 2657196A JP H09221558 A JPH09221558 A JP H09221558A
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JP
Japan
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conductive
conductive layer
plastic plate
antistatic
film
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Pending
Application number
JP8026571A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Nishimura
善雄 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP8026571A priority Critical patent/JPH09221558A/en
Publication of JPH09221558A publication Critical patent/JPH09221558A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C66/00General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts
    • B29C66/70General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts characterised by the composition, physical properties or the structure of the material of the parts to be joined; Joining with non-plastics material
    • B29C66/71General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts characterised by the composition, physical properties or the structure of the material of the parts to be joined; Joining with non-plastics material characterised by the composition of the plastics material of the parts to be joined

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process for producing an antistatic plastic plate by coating, whereby an antistatic coating film can be firmly and homogeneously laid on a plastic plate without causing its deformation or distortion. SOLUTION: This process for forming an antistatic plate or sheet comprises applying a photocuring conductive coating material to a transparent plastic film, drying the wet film to form a conductive layer, separately heating the conductive layer and the plastic plate, laying the heated conductive layer on the heated plastic plate, irradiating the laid conductive layer with an actinic radiation through a transparent plastic film to cure the conductive layer, and peeling the transparent film from the surface of the conductive layer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、帯電防止プラスチ
ックプレートの製造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing an antistatic plastic plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウェハー保存容器の材料や、電子
部品、半導体等各種の極もしくは超微細加工を要する製
造工場における床材や壁材は、帯電による塵埃の付着、
これら塵埃の落下や再分散による2次汚染等を防止する
目的で、高度に帯電防止されたプラスチックプレートが
使用される。従来、上記目的に使用される帯電防止され
たプラスチックは、アルミニウム、亜鉛等の金属微粉
末、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫等の金属酸化物、導
電性カーボン粉末、導電性ポリアニリン粉末等からなる
導電性物質をプラスチックプレート等の成型品の表面に
薄く均一に塗布したり、プラスチックをシートやプレー
ト等の加工素材や半導体ウェハー保存容器の如き成型品
を成型する際に、プラスチック中に均質に練り込んでお
き、これらの導電性プラスチック組成物を押出成型や射
出成型によって成型して導電性プラスチック成形品を製
造していたのである。
2. Description of the Related Art Materials for semiconductor wafer storage containers, floor materials and wall materials in manufacturing plants that require various kinds of ultra- or ultra-fine processing such as electronic components and semiconductors are subject to the adhesion of dust due to electrification.
A highly antistatic plastic plate is used for the purpose of preventing secondary contamination and the like due to dropping and re-dispersion of the dust. Conventionally, antistatic plastics used for the above purpose are made of fine metal powders such as aluminum and zinc, metal oxides such as titanium oxide, zinc oxide and tin oxide, conductive carbon powder, conductive polyaniline powder and the like. When applying a conductive substance to the surface of a molded product such as a plastic plate thinly and uniformly, or when molding a plastic such as a processing material such as a sheet or a plate or a molded product such as a storage container for semiconductor wafers, knead it uniformly in the plastic. The conductive plastic composition was molded by extrusion molding or injection molding to produce a conductive plastic molded product.

【0003】しかし、上記プラスチック中に導電性物質
を均質に練り込んでおき、これらの導電性プラスチック
組成物を押出成型や射出成型によって成型した成型品
は、光線透過率を高めるために、練り込まれる導電性物
質の粒度を0.2μm以下の微粒子とする等、光学的に
工夫してはいるが、殆どの場合、上記プラスチック自体
が透明性の成形品を与えるものであっても、該プラスチ
ック中に分散した導電性物質によって著しく透明性が阻
害されるものであった。
[0003] However, a molded article obtained by uniformly kneading a conductive substance in the above-mentioned plastic and extruding or molding the conductive plastic composition is kneaded in order to increase the light transmittance. Optically devised, such as making the particle size of the conductive substance to be 0.2 μm or less, but in most cases, even if the plastic itself gives a transparent molded article, The transparency was significantly impaired by the conductive substance dispersed therein.

【0004】従って、高度に帯電防止され、且つ、透明
性に優れたプラスチックプレートを製造するためには、
帯電防止能を有する部分が表面部分に濃縮された塗布方
式が採用され、上記帯電防止能を有する塗膜が透光性を
保持するため極めて薄い層で形成される。従って、極端
な厚さのバラツキが発生して帯電防止能にバラツキが発
生することのないように塗膜の厚さの精度を高める必要
があった。
[0004] Therefore, in order to produce a highly antistatic and highly transparent plastic plate,
A coating method in which a portion having an antistatic function is concentrated on a surface portion is employed, and the coating film having an antistatic function is formed of an extremely thin layer in order to maintain translucency. Therefore, it is necessary to improve the accuracy of the thickness of the coating film so that the variation in the antistatic ability does not occur due to the extreme variation in the thickness.

【0005】上記の如き導電性樹脂シートとその製造方
法として、特開平6−263899号公報に、熱可塑性
樹脂と導電性材料とから成る塗料を熱可塑性樹脂離型フ
ィルムの表面に塗布し硬化させて導電性塗膜を形成し、
次いで、当該離型フィルムを、その塗膜面を熱可塑性樹
脂の基材シートの表面に対面させて当該樹脂基材シート
と熱圧着する導電性樹脂シートの製造方法、上記導電性
材料がポリアニリンである導電性樹脂シートの製造方法
及び上記熱可塑性樹脂と導電性ポリアニリンとから成る
導電性塗膜層が、熱可塑性樹脂基材シートの表面に、熱
圧一体に積層形成されてなる導電性樹脂シートが開示さ
れている。
As a conductive resin sheet as described above and a method for producing the same, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-263899 discloses a method in which a paint composed of a thermoplastic resin and a conductive material is applied to the surface of a thermoplastic resin release film and cured. To form a conductive coating,
Next, the release film, a method for producing a conductive resin sheet, the coating surface of which faces the surface of a thermoplastic resin base sheet, and thermocompression bonding with the resin base sheet, the conductive material is polyaniline A method for manufacturing a conductive resin sheet and a conductive resin sheet formed by laminating a conductive coating layer comprising the thermoplastic resin and conductive polyaniline on a surface of a thermoplastic resin base sheet in a heat and pressure integrated manner. Is disclosed.

【0006】しかし、上記特開平6−263899号公
報に開示された導電性樹脂シートの製造方法では、導電
性塗膜層を熱可塑性樹脂基材シートの表面に、熱圧一体
に積層するためには、導電性塗膜層を相当高温に加熱し
なければ熱可塑性樹脂基材シートの表面に密着させるこ
とができず、従って、このような高温に加熱して熱圧す
ると熱可塑性樹脂基材シートが熱変形してしまうという
問題点があった。
However, in the method of manufacturing a conductive resin sheet disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-263899, it is necessary to laminate the conductive coating layer on the surface of the thermoplastic resin base sheet by heat and pressure. Can not be adhered to the surface of the thermoplastic resin substrate sheet unless the conductive coating layer is heated to a considerably high temperature, and therefore, when heated to such a high temperature and hot pressed, the thermoplastic resin substrate sheet However, there is a problem that the material is thermally deformed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、叙上の事実
に鑑みなされたものであって、その目的とするところ
は、塗布方式による高度帯電防止プラスチックプレート
の製造方法であって、プラスチックプレートに変形や歪
みを与えることなく帯電防止塗膜を均質に、且つ、強固
に積層することのできる帯電防止プラスチックプレート
の製造方法を提供するにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above facts, and an object of the present invention is to provide a method for producing a highly antistatic plastic plate by a coating method, which is a plastic plate. It is an object of the present invention to provide a method for producing an antistatic plastic plate, which allows an antistatic coating film to be uniformly and firmly laminated without deformation or distortion.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、透明なプラス
チックフィルム上に光硬化型導電性塗料を塗布、乾燥
し、導電層を形成する第1工程、上記導電層及びプラス
チックプレートを各々加熱する第2工程及び第3工程、
上記加熱された導電層を上記加熱されたプラスチックプ
レート上に積層する第4工程、上記積層された導電層に
上記透明なプラスチックフィルムを透して活性光線を照
射し、導電層を硬化させる第5工程及び上記透明なプラ
スチックフィルムを導電層表面より剥離する第6工程か
らなることを特徴とする帯電防止プラスチックプレート
もしくはシートの製造方法をその要旨とするものであ
る。
According to the present invention, a transparent plastic film is coated with a photocurable conductive coating material and dried to form a conductive layer. The first step is heating the conductive layer and the plastic plate. The second step and the third step,
A fourth step of laminating the heated conductive layer on the heated plastic plate, a fifth step of irradiating the laminated conductive layer with the transparent plastic film to actinic rays to cure the conductive layer. The gist is a method for producing an antistatic plastic plate or sheet, which comprises a step and a sixth step of peeling the transparent plastic film from the surface of the conductive layer.

【0009】上記光硬化型導電性塗料は、(a)熱可塑
性樹脂、(b)導電性粉末、(c)分子内に少なくとも
2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)ア
クリレート化合物及び(d)光重合開始剤を構成成分と
する。上記(a)熱可塑性樹脂は、通常の熱成型設備に
よって成型が可能なものであれば特に限定されるもので
はなく、例えば、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、
ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂等が挙げられる。
The above-mentioned photocurable conductive coating material comprises (a) a thermoplastic resin, (b) a conductive powder, (c) a (meth) acrylate compound having at least two or more (meth) acryloyl groups in the molecule, and (D) A photopolymerization initiator is a constituent. The above-mentioned (a) thermoplastic resin is not particularly limited as long as it can be molded by usual thermoforming equipment. For example, acrylic resin, vinyl chloride resin,
Examples thereof include polystyrene resin, polyurethane resin, polycarbonate resin and the like.

【0010】上記(b)導電性粉末は、透光性を著しく
阻害するものでなければ特に限定されるものではなく、
無機質の導電性粉末、有機質の導電性粉末から適宜選択
使用される。上記無機質の導電性粉末として、例えば、
粒子の表面もしくは粒子全体が酸化錫成分からなる導電
性粉末、上記酸化錫成分に酸化アンチモン成分0.1〜
20重量%を添加した導電性粉末等が挙げられる。上記
酸化錫成分からなる導電性粉末は、高い導電性を示す
が、粒子径が大きくなると可視光線を散乱し、得られる
導電性塗膜の透明性が低下するので、その粒子径は0.
4μm以下であることが望ましい。しかし、硫酸バリウ
ム等の透明性を有する粒子の表面に酸化錫をコーティン
グした導電性粉末の場合には、上記可視光線の散乱は少
ないので、その粒子径は0.4μm以上であってもよ
い。
The conductive powder (b) is not particularly limited as long as it does not significantly impair the translucency.
It is appropriately selected and used from inorganic conductive powder and organic conductive powder. As the inorganic conductive powder, for example,
Conductive powder whose surface or the whole particle is made of a tin oxide component.
A conductive powder added with 20% by weight may be used. The electroconductive powder made of the tin oxide component exhibits high electroconductivity, but when the particle size is large, visible light is scattered and the transparency of the electroconductive coating film obtained is reduced, so that the particle size is 0.
It is preferably 4 μm or less. However, in the case of a conductive powder in which tin oxide is coated on the surface of particles having transparency such as barium sulfate, the scattering of the visible light is small, and thus the particle diameter may be 0.4 μm or more.

【0011】酸化アンチモン含有酸化錫を硫酸バリウム
等の透明性を有する粒子の表面にコーティングした導電
性粉末は、その高い透明性から好適に使用される。上記
酸化アンチモン含有酸化錫を硫酸バリウム粒子の表面に
コーティングした導電性粉末の粒子径は、0.01〜2
μmの範囲で好適に使用される。上記粒子径が0.01
μm未満である場合、必要な導電性を示す厚さに形成さ
れた導電性塗膜において、芯材である硫酸バリウム粒子
の体積比率が小さくなり、該導電性塗膜の透明性が低下
する。又、上記粒子径が2μmを超えると、形成される
導電性塗膜の平滑性が低下し、充填された導電性粉末間
に微小な空気孔が生じ、導電性塗膜が曇り、その透明性
を低下させる。
A conductive powder obtained by coating the surface of particles having transparency such as barium sulfate with antimony oxide-containing tin oxide is preferably used because of its high transparency. The particle diameter of the conductive powder obtained by coating the surface of barium sulfate particles with the antimony oxide-containing tin oxide is 0.01 to 2 particles.
It is preferably used in the range of μm. The particle size is 0.01
When the thickness is less than μm, the volume ratio of barium sulfate particles as the core material in the conductive coating film formed to have the required conductivity becomes small, and the transparency of the conductive coating film decreases. On the other hand, if the particle size exceeds 2 μm, the smoothness of the formed conductive coating film is reduced, minute air holes are generated between the filled conductive powders, the conductive coating film becomes cloudy, and the Lower.

【0012】上記無機質の導電性粉末の配合量は、バイ
ンダーとして使用される熱可塑性樹脂100重量部に対
し100〜500重量部が好ましい。上記配合量が10
0重量部未満である場合、形成される導電性塗膜の導電
性が低下し、必要な帯電防止効果が得られず、又、上記
配合量が500重量部を超えると、形成される導電性塗
膜の透明性が低下する。
The compounding amount of the above-mentioned inorganic conductive powder is preferably 100 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin used as the binder. The blending amount is 10
When the amount is less than 0 parts by weight, the conductivity of the formed conductive coating film is lowered, and the necessary antistatic effect cannot be obtained, and when the amount is more than 500 parts by weight, the conductivity formed is The transparency of the coating film decreases.

【0013】上記有機質の導電性粉末として、例えば、
アニリン系重合体、ピロール系重合体、チオフェン系重
合体等の導電性粉末が挙げられる。就中、導電性アニリ
ン系重合体は、熱安定性に優れることから好適に使用さ
れる。上記導電性アニリン系重合体の配合量は、バイン
ダーとして使用される熱可塑性樹脂100重量部に対し
0.1〜30重量部が好ましい。上記配合量が0.1重
量部未満である場合、形成される導電性塗膜の導電性が
低下し、必要な帯電防止効果が得られず、又、上記配合
量が30重量部を超えると、形成される導電性塗膜の透
明性が低下する。
As the organic conductive powder, for example,
Conductive powders such as an aniline polymer, a pyrrole polymer, and a thiophene polymer are exemplified. Above all, a conductive aniline polymer is preferably used because of its excellent thermal stability. The content of the conductive aniline-based polymer is preferably 0.1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin used as the binder. When the amount is less than 0.1 part by weight, the conductivity of the conductive coating film to be formed is reduced, the required antistatic effect is not obtained, and when the amount exceeds 30 parts by weight. As a result, the transparency of the formed conductive coating film decreases.

【0014】上記(c)分子内に少なくとも2個以上の
(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート
化合物は、紫外線、可視光線等の活性光線によって重合
し得るものであれば特に限定されるものではないが、例
えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ノナエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ノナプロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレ
ート、トリス−(2−ヒドロキシエチル)−イソシアヌ
ル酸エステル(メタ)アクリレート、2,2−ビス〔4
−(アクリロキシジエトキシ)フェニル〕プロパン、
2,2−ビス〔4−(メタクリロキシジエトキシ)フェ
ニル〕プロパン、3−フェノキシ−2−プロパノイルア
クリレート、1,6−ビス(3−アクリロキシ−2−ヒ
ドロキシプロピル)−ヘキシルエーテル、テトラメチロ
ールメタンテトラ(メタ)アクリレート等が挙げられ
る。
The above (c) (meth) acrylate compound having at least two (meth) acryloyl groups in the molecule is not particularly limited as long as it can be polymerized by active rays such as ultraviolet rays and visible rays. However, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol Di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetrapropylene glycol di (meth) acrylate, nonapropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate , Pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, tris- (2-hydroxy Ethyl) -isocyanuric acid ester (meth) acrylate, 2,2-bis [4
-(Acryloxydiethoxy) phenyl] propane,
2,2-bis [4- (methacryloxydiethoxy) phenyl] propane, 3-phenoxy-2-propanoyl acrylate, 1,6-bis (3-acryloxy-2-hydroxypropyl) -hexyl ether, tetramethylolmethane Tetra (meth) acrylate etc. are mentioned.

【0015】上記光硬化型導電性塗料中、上記(c)分
子内に少なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を
有する(メタ)アクリレート化合物の添加量は、上記
(a)熱可塑性樹脂100重量部に対して10〜250
重量部が好ましく、更に好ましくは30〜200重量部
である。上記添加量が10重量部未満の少量となると、
紫外線又は可視光線等の活性光線照射後の上記成分を含
む導電層の表面硬度が不足し、又、上記添加量が250
重量部を超えて多量となると、上記光硬化型導電性塗料
から得られる導電層の表面にクラックが入ったり、粘着
性が不足し、基材となるプラスチックプレートに対する
接着が充分に行われなくなる。
In the photocurable conductive coating composition, the amount of the (meth) acrylate compound having at least two (meth) acryloyl groups in the molecule (c) is 100 parts by weight of the thermoplastic resin (a). 10 to 250 for a part
It is preferably part by weight, more preferably 30 to 200 parts by weight. When the addition amount is a small amount less than 10 parts by weight,
The surface hardness of the conductive layer containing the above components after irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or visible rays is insufficient, and the addition amount is 250
When the amount is more than the weight part, the surface of the conductive layer obtained from the photocurable conductive coating material may be cracked or the tackiness may be insufficient, resulting in insufficient adhesion to the plastic plate as the base material.

【0016】上記(d)光重合開始剤は、紫外線、可視
光線等の活性光線によって活性化し、上記(c)分子内
に少なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を有す
る(メタ)アクリレート化合物の重合を開始させる性能
を有するものであれば特に限定されるものではないが、
紫外線で活性化されるものとして、例えば、ソジウムメ
チルジチオカーバメイトサルファイド、テトラメチルチ
ウラムモノサルファイド、ジフェニルモノサルファイ
ド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド、ジベンゾチ
アゾイルジサルファイド等のサルファイド類、チオキサ
ントン、エチルチオキサントン、2−クロロチオキサン
トン、ジエチルチオキサントン、ジイソプロピルチオキ
サントン等のチオキサントン及びその誘導体、ヒドラゾ
ン、アゾイソブチロニトリル、ベンゼンジアゾニウム等
のジアゾ化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフ
ェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、t
−ブチルアントラキノン、2−メチルアントラキノン、
2−エチルアントラキノン、2−アミノアントラキノ
ン、2−クロロアントラキノン、ベンジルジメチルケタ
ール、メチルフェニルグリオキシレート等の芳香族カル
ボニル化合物、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプ
ロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ
ェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2,
2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシア
セトフェノン等のアセトフェノン誘導体、4−ジメチル
アミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソプロピル、4−
ジメチルアミノ安息香酸ブチル等のジアルキルアミノ安
息香酸エステル類、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t
−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、キ
ュメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物、9−フェ
ニルアクリジン、9−p−メトキシフェニルアクリジ
ン、9−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン
等のアクリジン誘導体、9,10−ジメチルベンズフェ
ナジン、9−メチルベンズフェナジン、10−メトキシ
ベンズフェナジン等のフェナジン誘導体、4,4',4"
−トリメトキシ−2,3−ジフェニルキノキサリン等の
キノキサリン誘導体、2,4,5−トリフェニルイミダ
ゾイル二量体、ハロゲン化ケトン、アシルホスフィンオ
キシド、アシルホスフォナート等のアシル化リン化合物
等が挙げられる。
The (d) photopolymerization initiator is a (meth) acrylate compound which is activated by actinic rays such as ultraviolet rays and visible rays and has at least two or more (meth) acryloyl groups in the molecule (c). It is not particularly limited as long as it has the ability to initiate the polymerization,
Examples of substances activated by ultraviolet rays include sulfides such as sodium methyldithiocarbamate sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, diphenylmonosulfide, dibenzothiazoyl monosulfide, dibenzothiazoyl disulfide, thioxanthone, ethylthioxanthone, and 2 -Thioxanthone and its derivatives such as chlorothioxanthone, diethylthioxanthone and diisopropylthioxanthone, diazo compounds such as hydrazone, azoisobutyronitrile and benzenediazonium, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzophenone, dimethylaminobenzophenone , Michler's ketone, benzyl anthraquinone, t
-Butyl anthraquinone, 2-methyl anthraquinone,
Aromatic carbonyl compounds such as 2-ethylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, benzyldimethylketal, methylphenylglyoxylate, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane -1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2,
Acetophenone derivatives such as 2-diethoxyacetophenone and 2,2-dimethoxyacetophenone, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isopropyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-
Dialkylaminobenzoic acid esters such as butyl dimethylaminobenzoate, benzoyl peroxide, di-t
-Peroxides such as butyl peroxide, dicumyl peroxide and cumene hydroperoxide, acridine derivatives such as 9-phenylacridine, 9-p-methoxyphenylacridine, 9-acetylaminoacridine and benzacridine, 9,10- Phenazine derivatives such as dimethylbenzphenazine, 9-methylbenzphenazine and 10-methoxybenzphenazine, 4,4 ' , 4 "
Quinoxaline derivatives such as trimethoxy-2,3-diphenylquinoxaline, 2,4,5-triphenylimidazoyl dimer, halogenated ketones, acylphosphine oxides, acylated phosphorus compounds such as acylphosphonates, and the like. .

【0017】又、可視光線で活性化されるものとして、
例えば、2−ニトロフルオレン、2,4,6−トリス
(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、3,
'−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン等
が挙げられる。
Further, as those which are activated by visible light,
For example, 2-nitrofluorene, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 3,
3' -Carbonyl biscoumarin, thiomichler ketone, etc. are mentioned.

【0018】上記(d)光重合開始剤の酸素阻害による
感度低下を防止するために、必要に応じて不揮発性のア
ミン化合物もしくはアミノ化合物が添加される。上記ア
ミン化合物もしくはアミノ化合物としては、特に限定さ
れるものではないが、例えば、トリエタノールアミン、
メチルジエタノールアミン等のアミン化合物、前記ジア
ルキルアミノ安息香酸エステル類、ミヒラーケトン等の
アミノ基を含有する光重合開始剤等が有効に使用され
る。
A non-volatile amine compound or amino compound is added, if necessary, in order to prevent a decrease in sensitivity due to oxygen inhibition of the photopolymerization initiator (d). The amine compound or amino compound is not particularly limited, but for example, triethanolamine,
Amine compounds such as methyldiethanolamine, dialkylaminobenzoates, photopolymerization initiators containing an amino group such as Michler's ketone, etc. are effectively used.

【0019】上記光硬化型導電性塗料中、光重合開始剤
の添加量は、上記(a)熱可塑性樹脂100重量部に対
して0.01〜10重量部が好ましく、更に好ましくは
0.05〜8重量部である。上記添加量が、0.01重
量部未満では光重合速度が低下し、得られる塗膜の硬化
が不充分となり、又、上記添加量が10重量部を超えて
多くなっても光重合速度が飽和状態となってそれ以上の
効果が得られないばかりか、過剰の添加によって得られ
る塗膜を黄変させる。
The amount of the photopolymerization initiator added to the photocurable conductive coating composition is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.05 to 100 parts by weight of the thermoplastic resin (a). ~ 8 parts by weight. If the amount added is less than 0.01 parts by weight, the photopolymerization rate will be low and the resulting coating film will be insufficiently cured, and if the amount added is more than 10 parts by weight, the photopolymerization rate will be insufficient. Not only does it reach a saturated state and no further effect is obtained, but also the coating film obtained by excessive addition turns yellow.

【0020】上記光硬化型導電性塗料は、熱可塑性樹
脂、導電性粉末の他、必要に応じて、有機溶剤、紫外線
吸収剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤等が添加されてもよ
い。
In addition to the thermoplastic resin and the conductive powder, an organic solvent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a thermal polymerization inhibitor, etc. may be added to the above-mentioned photocurable conductive coating material, if necessary.

【0021】上記有機溶剤は、上記光硬化型導電性塗料
が塗布される基材プラスチックプレートの種類や用いら
れるバインダーとしての熱可塑性樹脂の種類等によって
適宜選択使用されるが、沸点70〜160℃程度のもの
が好ましい。上記沸点が70℃未満では、塗工中の蒸発
が大きく、上記光硬化型導電性塗料の粘度が変化し、塗
布性を低下させ、上記沸点が160℃を超えると、乾燥
に大きなエネルギーを要する。
The organic solvent is appropriately selected and used depending on the type of the base plastic plate to which the photocurable conductive coating material is applied and the type of the thermoplastic resin used as the binder. The boiling point is 70 to 160 ° C. Something is preferable. When the boiling point is less than 70 ° C, evaporation during coating is large, the viscosity of the photocurable conductive coating material changes, and the coating property is lowered, and when the boiling point exceeds 160 ° C, a large amount of energy is required for drying. .

【0022】上記有機溶剤としては、例えば、シクロヘ
キサノン、エチレングリコールモノメチルエーテル(メ
チルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチルエー
テル(エチルセロソルブ)、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、酢酸ブチル、イソプロピルアセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、トルエ
ン、キシレン、アニソール等が挙げられる。
Examples of the organic solvent include cyclohexanone, ethylene glycol monomethyl ether (methyl cellosolve), ethylene glycol monoethyl ether (ethyl cellosolve), diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, isopropyl acetone, methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, toluene, xylene. , Anisole and the like.

【0023】上記紫外線吸収剤としては、特に限定され
るものではないが、例えば、サリチル酸系紫外線吸収
剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾー
ル系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤
等が挙げられる。上記酸化防止剤としては、例えば、フ
ェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、イオウ系
酸化防止剤等が挙げられる。上記熱重合禁止剤として
は、例えば、ヒドロキノン、p−メトキシフェノール等
が挙げられる。
The UV absorber is not particularly limited, but examples thereof include salicylic acid UV absorbers, benzophenone UV absorbers, benzotriazole UV absorbers, and cyanoacrylate UV absorbers. . Examples of the antioxidant include a phenolic antioxidant, a phosphoric acid antioxidant, and a sulfur antioxidant. Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone and p-methoxyphenol.

【0024】又、導電性粉末のバインダーとして使用さ
れる熱可塑性樹脂への分散性を向上させるために上記導
電性粉末を予め、シランカップリング剤、チタンカップ
リング剤、アルミネートカップリング剤等で表面処理を
行って置くことも有効である。
Further, in order to improve the dispersibility of the conductive powder in the thermoplastic resin used as the binder, the conductive powder is previously mixed with a silane coupling agent, a titanium coupling agent, an aluminate coupling agent or the like. It is also effective to perform surface treatment before placing.

【0025】上記光硬化型導電性塗料を調製する方法
は、特に限定されるものではないが、バインダーとして
用いられる上記(a)熱可塑性樹脂及び(b)導電性粉
末、(c)分子内に少なくとも2個以上の(メタ)アク
リロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物及び
(d)光重合開始剤を有機溶剤に混合、溶解して調製さ
れるが、上記各成分からなる光硬化型導電性塗料組成物
を有機溶剤に混合、溶解する装置として、例えば、サン
ドミル、ボールミル、アトライター、高速回転攪拌装
置、三本ロール等が使用される。
The method for preparing the photocurable conductive coating material is not particularly limited, but the above-mentioned (a) thermoplastic resin and (b) conductive powder used as a binder and (c) in the molecule are used. It is prepared by mixing and dissolving a (meth) acrylate compound having at least two or more (meth) acryloyl groups and (d) a photopolymerization initiator in an organic solvent, and a photocurable conductive coating material comprising the above components. As a device for mixing and dissolving the composition in an organic solvent, for example, a sand mill, a ball mill, an attritor, a high speed rotary stirring device, a triple roll, or the like is used.

【0026】上記活性光線は、紫外線又は可視光線等が
使用され、上記活性光線の種類に応じて上記光硬化型導
電性塗料組成物に、紫外線重合開始剤又は可視光線重合
開始剤等が配合される。
Ultraviolet rays or visible rays are used as the above-mentioned actinic rays, and an ultraviolet ray polymerization initiator or a visible ray polymerization initiator is added to the photocurable conductive coating composition according to the kind of the above-mentioned actinic rays. It

【0027】第1工程で用いられる透明なプラスチック
フィルムとしては、紫外線又は可視光線等の活性光線照
射に際し、照射効率を著しく低下させることのないもの
であれば特に限定されるものではないが、例えば、ポリ
エチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートの如きポリエステルフ
ィルムが挙げられる。上記透明なプラスチックフィルム
は、1軸もしくは2軸の延伸処理が施されたものであっ
てもよく、必要に応じて表面離型処理が施されたもので
あってもよい。
The transparent plastic film used in the first step is not particularly limited as long as it does not significantly reduce the irradiation efficiency upon irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or visible rays. Examples thereof include polyolefin films such as polyethylene and polypropylene, and polyester films such as polyethylene terephthalate. The transparent plastic film may be subjected to a uniaxial or biaxial stretching treatment, or may be subjected to a surface release treatment as required.

【0028】上記透明なプラスチックフィルム上に上記
光硬化型導電性塗料が塗工されるが、上記第1工程にお
いて、採られる塗工方法としては、精密塗工ができる方
法であれば特に限定されるものではないが、例えば、ス
プレー法、バーコート法、ドクターブレード法、ロール
コート法、ディッピング法等が挙げられる。
The photocurable conductive coating material is applied onto the transparent plastic film. The coating method employed in the first step is not particularly limited as long as it is a method capable of precise coating. Although not limited thereto, for example, a spray method, a bar coating method, a doctor blade method, a roll coating method, a dipping method and the like can be mentioned.

【0029】上記透明なプラスチックフィルム上に形成
される導電層の厚さは、好ましくは0.5〜5μmであ
る。上記導電層の厚さが0.5μm未満であると、導電
性が不充分となり、必要な帯電防止効果が得られない。
又、上記導電層の厚さが5μmを超えると、全光線透過
率が低下し、透明性が低下する。
The conductive layer formed on the transparent plastic film preferably has a thickness of 0.5 to 5 μm. If the thickness of the conductive layer is less than 0.5 μm, the conductivity becomes insufficient, and the required antistatic effect cannot be obtained.
On the other hand, when the thickness of the conductive layer exceeds 5 μm, the total light transmittance decreases and the transparency decreases.

【0030】上記プラスチックプレートとしては、特に
限定されるものではないが、例えば、塩化ビニル(PV
C)系樹脂、アクリル系樹脂、ABS(アクリロニトリ
ル−ブタジエン−スチレン)系樹脂、ポリカーボネート
(PC)樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリ
エーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂、ポリフェニ
レンサルファイド(PPS)樹脂、ポリエーテルサルフ
ォン(PES)樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリイミド
樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、フッ素樹脂等のプラス
チックから成型されたプレート及びシートが挙げられ
る。
The plastic plate is not particularly limited, but for example, vinyl chloride (PV
C) type resin, acrylic type resin, ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene) type resin, polycarbonate (PC) resin, polyethylene terephthalate resin, polyether ether ketone (PEEK) resin, polyphenylene sulfide (PPS) resin, polyether sulfone Examples thereof include plates and sheets molded from plastic such as (PES) resin, polysulfone resin, polyimide resin, polyetherimide resin, and fluororesin.

【0031】第2工程及び第3工程において、上記第1
工程で透明なプラスチックフィルム上に形成された導電
層及び上記プラスチックプレートは加熱処理される。上
記加熱手段としては、必要温度にムラなく加熱し得るも
のであれば特にその手段を限定するものではないが、例
えば、熱風加熱、マイクロ波を照射して発熱(導電層)
するマイクロ波加熱、赤外線ヒーターで加熱する赤外線
加熱等が挙げられる。これらの加熱手段は、単独で用い
られてもよいが、併用されてもよい。就中、赤外線加熱
は、加熱ムラが少なく、且つ、安定して使用できるもの
であるので、上記透明なプラスチックフィルム上に形成
された導電層の加熱手段として好適に利用できる。
In the second and third steps, the first
The conductive layer formed on the transparent plastic film in the process and the plastic plate are heat-treated. The heating means is not particularly limited as long as it can uniformly heat to the required temperature, but for example, hot air heating, microwave irradiation to generate heat (conductive layer)
Microwave heating, infrared heating with an infrared heater, and the like. These heating means may be used alone or in combination. Especially, since infrared heating has little heating unevenness and can be used stably, it can be suitably used as a heating means for the conductive layer formed on the transparent plastic film.

【0032】第2工程及び第3工程における上記透明な
プラスチックフィルム上に形成された導電層及び上記プ
ラスチックプレートの加熱温度は、好ましくは40〜1
30℃、更に好ましくは50〜100℃である。上記加
熱温度が40℃未満の温度であると得られる導電層/プ
ラスチックプレート積層体の層間の密着性が不足し、上
記加熱温度が130℃を超えると、加熱された透明なプ
ラスチックフィルム上に形成された導電層及びプラスチ
ックプレートが変形する。
The heating temperature of the conductive layer formed on the transparent plastic film and the plastic plate in the second and third steps is preferably 40 to 1.
30 degreeC, More preferably, it is 50-100 degreeC. When the heating temperature is lower than 40 ° C, the adhesion between the layers of the conductive layer / plastic plate laminate obtained is insufficient, and when the heating temperature is higher than 130 ° C, it is formed on the heated transparent plastic film. The applied conductive layer and the plastic plate are deformed.

【0033】第4工程において、上記第2工程及び第3
工程において加熱処理された透明なプラスチックフィル
ム上に形成された導電層及びプラスチックプレートは、
積層される。上記導電層及びプラスチックプレートの積
層手段は、特に限定されるものではないが、例えば、加
熱・加圧ロールによる積層装置を用いるものや熱プレス
装置を用いるものが挙げられる。
In the fourth step, the second step and the third step
The conductive layer and the plastic plate formed on the transparent plastic film heat-treated in the process are
It is laminated. The means for laminating the conductive layer and the plastic plate is not particularly limited, but examples thereof include one using a laminating device using heating / pressurizing rolls and one using a hot pressing device.

【0034】第5工程において、上記透明なプラスチッ
クフィルム上に形成された導電層と上記プラスチックプ
レートは、該導電層中に存在する上記(c)分子内に少
なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する
(メタ)アクリレート化合物によって確実に密着してお
り、この状態で、上記透明なプラスチックフィルムを通
して紫外線又は可視光線等の活性光線が上記導電層に照
射されて、該導電層を硬化させ、上記プラスチックプレ
ート面に強固に接着する。上記活性光線の光源として
は、例えば、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノ
ンランプ、窒素レーザー、He−Cdレーザー、Arレ
ーザー等が用いられる。
In the fifth step, the conductive layer and the plastic plate formed on the transparent plastic film have at least two (meth) acryloyl groups in the molecule (c) present in the conductive layer. Is reliably adhered by the (meth) acrylate compound having a. In this state, the conductive layer is cured by irradiating the conductive layer with actinic rays such as ultraviolet rays or visible rays through the transparent plastic film. Firmly adheres to the plastic plate surface. As a light source of the actinic ray, for example, a high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a nitrogen laser, a He-Cd laser, an Ar laser or the like is used.

【0035】然る後、第6工程において、上記透明なプ
ラスチックフィルムは、硬化した上記導電層表面より剥
離されて帯電防止プラスチックプレートが製造される。
Then, in the sixth step, the transparent plastic film is peeled off from the surface of the cured conductive layer to manufacture an antistatic plastic plate.

【0036】[0036]

【発明の実施の形態】以下に実施例を掲げて、本発明の
実施の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実
施例のみに限定されるものではない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0037】〔光硬化型導電性塗料の調製〕 導電性塗料A 2−ヒドロキシプロピルアクリレート10モル%及び塩
化ビニル90モル%からなるバインダー用共重合樹脂
(積水化学社製、商品名:エスレックE−HA)100
重量部、メチルエチルケトン200重量部、シクロヘキ
サノン800重量部、ポリエチレングリコールジアクリ
レート(新中村化学工業社製、商品名:A−200)1
00重量部、光重合開始剤(チバガイギー社製、商品
名:イルガキュアー184、物質名:1−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン)3重量部をアトライター
に仕込み、攪拌して溶解させる。次に、一次粒径0.0
2μmの酸化アンチモン含有酸化錫粉末(三菱マテリア
ル社製、商品名:T−1)300重量部を攪拌しながら加
えて8時間攪拌分散させて光硬化型導電性塗料Aを調製
した。
[Preparation of Photocurable Conductive Paint] Conductive Paint A Copolymer resin for binder (commercial name: S-REC E- manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) consisting of 10 mol% of 2-hydroxypropyl acrylate and 90 mol% of vinyl chloride. HA) 100
Parts by weight, methyl ethyl ketone 200 parts by weight, cyclohexanone 800 parts by weight, polyethylene glycol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: A-200) 1
00 parts by weight and 3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba-Geigy, trade name: Irgacure 184, substance name: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone) are charged in an attritor and dissolved by stirring. Next, the primary particle size is 0.0
A photocurable conductive coating material A was prepared by adding 300 parts by weight of antimony oxide-containing tin oxide powder (trade name: T-1 manufactured by Mitsubishi Materials Corp.) of 2 μm with stirring and dispersing for 8 hours.

【0038】導電性塗料B 導電性塗料Aの酸化アンチモン含有酸化錫粉末に替え
て、微粒子硫酸バリウムをアンチモンドープした酸化錫
でコートした平均粒径0.2μmの導電性粉末(三井金
属社製、商品名:パストランType−IV)200重
量部を用いたこと以外、導電性塗料Aと同様にして光硬
化型導電性塗料Bを調製した。
Conductive paint B In place of the antimony oxide-containing tin oxide powder of the conductive paint A, conductive powder having an average particle size of 0.2 μm (Mitsui Kinzoku Co. A photocurable conductive coating material B was prepared in the same manner as the conductive coating material A except that 200 parts by weight of the trade name: Pastran Type-IV) was used.

【0039】導電性塗料C メタクリレート樹脂(旭化成社製、商品名:デルペット
LP−1)100重量部、メチルエチルケトン60重量
部、シクロヘキサノン240重量部をアトライターに仕
込み、攪拌して溶解させる。次に、有機導電性のアニリ
ンー重合体粉末(アライドシグナル社製、商品名:Ve
rsicon)15重量部を攪拌しながら加えて8時間
攪拌分散させて光硬化型導電性塗料Cを調製した。
Conductive paint C 100 parts by weight of a methacrylate resin (trade name: Delpet LP-1 manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), 60 parts by weight of methyl ethyl ketone, and 240 parts by weight of cyclohexanone are charged into an attritor and dissolved by stirring. Next, organic conductive aniline-polymer powder (trade name: Ve manufactured by Allied Signal Co., Ltd.)
15 parts by weight of rsicon) was added with stirring and dispersed by stirring for 8 hours to prepare a photocurable conductive coating material C.

【0040】(実施例1)厚さ25μmのポリエチレン
テレフタレートフィルム(帝人社製、商品名:テトロン
フィルムHP7)上に導電性塗料Aをバーコーターを用
いて乾燥後の膜厚が2μmとなるように塗布、乾燥して
導電層を形成した(第1工程)。次に、上記第1工程で
得られた導電層及び厚さ3mmの透明アクリル樹脂プレ
ートを各々、その表面温度が60℃になるように熱風で
加熱し(第2工程及び第3工程)、上記表面温度が60
℃に加熱された透明アクリル樹脂プレートと導電層が接
するように積層して、温度100℃に加熱された圧着ロ
ールにより、4kg/cm2 の圧力で熱圧着して、透明
アクリル樹脂プレート/導電層/ポリエチレンテレフタ
レートフィルム積層体を作製した(第4工程)。
Example 1 A conductive paint A was dried on a polyethylene terephthalate film (manufactured by Teijin Ltd., trade name: Tetron Film HP7) having a thickness of 25 μm so that the film thickness after drying was 2 μm using a bar coater. The conductive layer was formed by coating and drying (first step). Next, the conductive layer obtained in the first step and the transparent acrylic resin plate having a thickness of 3 mm are each heated with hot air so that the surface temperature thereof becomes 60 ° C. (second step and third step), Surface temperature is 60
The transparent acrylic resin plate heated to ℃ and the conductive layer are laminated so that they are in contact with each other, and thermocompression-bonded at a pressure of 4 kg / cm 2 with a pressure roll heated to a temperature of 100 ° C. / A polyethylene terephthalate film laminate was prepared (fourth step).

【0041】第4工程で得られた上記積層体は、上記導
電層の有する粘着性によって相互に強く密着している
が、次いで、該積層体に、上記積層体のポリエチレンテ
レフタレートフィルム側から高圧水銀ランプにより光量
1000mJ/cm2 の紫外線を照射して上記導電層を
硬化させ、これによって上記透明アクリル樹脂プレート
と硬化した上記導電層は強固に接着された(第5工
程)。上記の如くして得られた光硬化した上記導電層表
面より転写用に用いたポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥離して(第6工程)、帯電防止透明アクリル樹
脂プレートを作製した。
The laminate obtained in the fourth step is strongly adhered to each other by virtue of the adhesive property of the conductive layer. Then, high pressure mercury is applied to the laminate from the polyethylene terephthalate film side of the laminate. The conductive layer was cured by irradiating the lamp with ultraviolet light having a light intensity of 1000 mJ / cm 2 , whereby the transparent acrylic resin plate and the cured conductive layer were firmly bonded (fifth step). The polyethylene terephthalate film used for transfer was peeled from the surface of the photo-cured conductive layer obtained as described above (sixth step) to prepare an antistatic transparent acrylic resin plate.

【0042】(実施例2〜5)、(比較例1〜3) 第2工程及び第3工程において、第1工程で得られた導
電層及び厚さ3mmの透明アクリル樹脂プレートの表面
温度を各々、表1に示す如く加熱したこと以外、実施例
1と同様にして帯電防止透明アクリル樹脂プレートを作
製した。
(Examples 2 to 5), (Comparative Examples 1 to 3) In the second step and the third step, the surface temperature of the conductive layer obtained in the first step and the surface temperature of the transparent acrylic resin plate having a thickness of 3 mm were respectively adjusted. An antistatic transparent acrylic resin plate was produced in the same manner as in Example 1 except that heating was performed as shown in Table 1.

【0043】(実施例6)第1工程において、実施例1
の導電性塗料Aに替え、導電性塗料Bを用いたこと以
外、実施例1と同様にして帯電防止透明アクリル樹脂プ
レートを作製した。
(Embodiment 6) In the first step, Embodiment 1
An antistatic transparent acrylic resin plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive coating material B was used instead of the conductive coating material A.

【0044】(実施例6)第1工程において、実施例1
の導電性塗料Aに替え、導電性塗料Cを用いたこと以
外、実施例1と同様にして帯電防止透明アクリル樹脂プ
レートを作製した。
(Embodiment 6) In the first step, the first embodiment
An antistatic transparent acrylic resin plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive paint C was used in place of the conductive paint A.

【0045】上記実施例及び比較例で得られた帯電防止
プラスチックプレートの性能を評価するため、下記の項
目につき各々の項目毎に示した方法のよって評価した。
評価結果は表1に示す。
In order to evaluate the performance of the antistatic plastic plates obtained in the above Examples and Comparative Examples, the following items were evaluated by the methods shown for each item.
The evaluation results are shown in Table 1.

【0046】1.表面固有抵抗:ASTM D257に
準拠して表面固有抵抗を測定した。 2.全光線透過率:ASTM D1003に準拠して全
光線透過率を測定した。 3.ヘーズ:ASTM D1003に準拠してヘーズ
(Haze)を測定した。 4.密着性:JIS K 5400に準拠して導電層と
基材プラスチックプレートとの密着性を評価するため、
導電層と接着層に1mm間隔で切れ目を縦横に入れ、1
00個の碁盤目を作成し、該碁盤目上にセロハン粘着テ
ープ(積水化学社製、商品名:セキスイセロハンテープ
No.252)を貼付け、これを剥離して、上記100
個の碁盤目の導電層と接着層が何個剥がれずに残ったか
を計数する碁盤目剥離試験を行った。表1の当該カラム
に記載された数字は、100個中剥がれずに残った個数
を表す。 5.変形の有無:製造工程での得られる帯電防止プラス
チックプレートの変形については、目視によってその有
無を検査した。
1. Surface resistivity: The surface resistivity was measured according to ASTM D257. 2. Total light transmittance: The total light transmittance was measured according to ASTM D1003. 3. Haze: Haze was measured according to ASTM D1003. 4. Adhesion: In order to evaluate the adhesion between the conductive layer and the base plastic plate in accordance with JIS K 5400,
Make cuts in the conductive layer and adhesive layer at 1 mm intervals vertically and horizontally.
00 cross-cuts were prepared, and a cellophane adhesive tape (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name: Sekisui cellophane tape No. 252) was attached onto the cross-cuts, and the tape was peeled off to obtain 100 above.
A cross-cut peeling test was performed to count how many conductive layers and adhesive layers remained without peeling off. The number written in the column in Table 1 represents the number of 100 pieces that remained without peeling. 5. Presence or absence of deformation: Regarding the deformation of the antistatic plastic plate obtained in the manufacturing process, the presence or absence was visually inspected.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明の帯電防止プラスチックプレート
の製造方法は、叙上の如く構成されているので、導電性
塗料による高度帯電防止塗膜からなる導電層を形成して
いるにも拘らず全光線透過率及びヘーズ(Haze)に
よって評価される透明性が極めて優れたものであり、例
えば、本発明の帯電防止プラスチックプレートもしくは
シートを隔壁とする作業工程の監視や作業に際しても、
又、容器内に収納された内容物を、些かの透視の妨げに
ならず精密作業の遂行や内部の観察ができるものであ
り、且つ、高度帯電防止塗膜からなる導電層は強固にプ
ラスチックプレートに積層されているので長期にわたり
優れた性能を維持できる高度帯電防止プラスチックプレ
ートを安定して提供できる。
Since the method for producing an antistatic plastic plate of the present invention is constructed as described above, it is not limited to forming a conductive layer consisting of a highly antistatic coating film of a conductive paint, but it is not limited to the above. The transparency evaluated by the light transmittance and the haze is extremely excellent. For example, when monitoring or working in the working process using the antistatic plastic plate or sheet of the present invention as a partition wall,
In addition, the contents stored in the container can be used for precision work and observation of the inside without hindering a small amount of see-through, and the conductive layer made of a highly antistatic coating is firmly made of plastic. Since it is laminated on the plate, it is possible to stably provide an advanced antistatic plastic plate that can maintain excellent performance for a long time.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29C 65/02 B29C 65/02 B32B 7/02 104 B32B 7/02 104 7/06 7/06 27/18 27/18 D C09D 133/04 PFZ C09D 133/04 PFZ // B29K 35:00 B29L 9:00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location B29C 65/02 B29C 65/02 B32B 7/02 104 B32B 7/02 104 7/06 7/06 27 / 18 27/18 D C09D 133/04 PFZ C09D 133/04 PFZ // B29K 35:00 B29L 9:00

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明なプラスチックフィルム上に光硬化
型導電性塗料を塗布、乾燥し、導電層を形成する第1工
程、上記導電層及びプラスチックプレートを各々加熱す
る第2工程及び第3工程、上記加熱された導電層を上記
加熱されたプラスチックプレート上に積層する第4工
程、上記積層された導電層に上記透明なプラスチックフ
ィルムを透して活性光線を照射し、導電層を硬化させる
第5工程及び上記透明なプラスチックフィルムを導電層
表面より剥離する第6工程からなることを特徴とする帯
電防止プラスチックプレートもしくはシートの製造方
法。
1. A first step of forming a conductive layer by applying a photocurable conductive coating material on a transparent plastic film and drying it, and a second step and a third step of heating the conductive layer and the plastic plate, respectively. A fourth step of laminating the heated conductive layer on the heated plastic plate, a fifth step of irradiating the laminated conductive layer with the transparent plastic film to actinic rays to cure the conductive layer. A process for producing an antistatic plastic plate or sheet, which comprises a process and a sixth process for peeling the transparent plastic film from the surface of the conductive layer.
JP8026571A 1996-02-14 1996-02-14 Production of antistatic plastic plate Pending JPH09221558A (en)

Priority Applications (1)

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