JPH09216961A - Antistatic thermoplastic resin plate or sheet, and its production - Google Patents

Antistatic thermoplastic resin plate or sheet, and its production

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JPH09216961A
JPH09216961A JP8180499A JP18049996A JPH09216961A JP H09216961 A JPH09216961 A JP H09216961A JP 8180499 A JP8180499 A JP 8180499A JP 18049996 A JP18049996 A JP 18049996A JP H09216961 A JPH09216961 A JP H09216961A
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JP
Japan
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thermoplastic resin
conductive coating
sheet
resin plate
coating film
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Application number
JP8180499A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaki Goto
正樹 後藤
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Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent uneven stretching in embossing of a conductive coating layer formed on a thermoplastic film bonded to a thermoplastic resin plate or sheet by thermally bonding the film having the conductive coating layer formed thereon to the plate or sheet and embossing the bonded thermoplastic resin film in a specified manner. SOLUTION: A thermoplastic resin film having a conductive coating layer formed thereon is thermally bonded to a thermoplastic resin plate or sheet with the coating layer kept outside and is embossed. The coating layer is formed from a conductive coating material contg. a usually used conductive powder selected from among org. and inorg. conductive powders. The resultant antistatic thermoplastic resin plate or sheet has a conductive coating layer uniformly stretched on the embossed surface; i.e., a conductive coating layer with little variation in thickness can be formed on the embossed surface. Thus obtd. plate or sheet can be used more widely as an industrial material, such as for a cover for a building material or an instrument in a clean room.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、帯電防止熱可塑性
樹脂プレートもしくはシートの製造方法及びこれによっ
て得られる帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしくはシー
トに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet and an antistatic thermoplastic resin plate or sheet obtained thereby.

【0002】[0002]

【従来の技術】熱可塑性樹脂プレートもしくはシートを
基材とする建築材料やその他産業資材は、その優れた耐
水性、耐食性、耐薬品性等により広範な用途に供されて
いる。しかし、上記の数々の優れた性質にも拘らず、僅
かな気流や物品との接触摩擦によって静電気を帯易い性
質をもっているため、気中に浮遊している塵埃を付着し
てその表面を忽ち汚染してしまうという欠点を有する。
2. Description of the Related Art Building materials and other industrial materials based on a thermoplastic resin plate or sheet are widely used because of their excellent water resistance, corrosion resistance and chemical resistance. However, in spite of the many excellent properties described above, it has the property of being easily charged with static electricity due to slight air flow and contact friction with articles, so dust floating in the air adheres and contaminates the surface. It has a drawback that it does.

【0003】従来より上記熱可塑性樹脂プレートもしく
はシートの帯電防止対策として、熱可塑性樹脂プレート
もしくはシートの表面に、アルミニウム、亜鉛等の金属
微粉末、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫等の金属酸化
物、導電性カーボン粉末、導電性ポリアニリン粉末等か
らなる導電性物質を薄く均一に塗布したり、上記導電性
物質を熱可塑性樹脂中に均質に練り込んでおき、これら
の導電性熱可塑性樹脂組成物を押出成型や射出成型によ
って成型して導電性熱可塑性樹脂成形品を製造していた
のである。
As a conventional antistatic measure for the thermoplastic resin plate or sheet, fine powder of metal such as aluminum or zinc, metal oxide such as titanium oxide, zinc oxide or tin oxide is formed on the surface of the thermoplastic resin plate or sheet. , A conductive carbon powder, a conductive polyaniline powder, or the like, a conductive substance is thinly and uniformly applied, or the conductive substance is homogeneously kneaded into a thermoplastic resin to obtain a conductive thermoplastic resin composition. Was molded by extrusion molding or injection molding to produce a conductive thermoplastic resin molded product.

【0004】しかし、上記熱可塑性樹脂中に導電性物質
を均質に練り込んでおき、これらの導電性熱可塑性樹脂
組成物を押出成型や射出成型によって成型した成型品
は、高度に帯電防止をしようとすると、多量の導電性物
質を熱可塑性樹脂中に練り込まねばならず、得られる熱
可塑性樹脂成形品の機械的強度を著しく低下させるとい
う問題点があり、又、熱可塑性樹脂プレートもしくはシ
ートの表面に、高度に帯電防止可能な導電性塗料を均一
に塗布することは、例えば、特開昭59−177813
号公報に開示され、ある程度の水準にまで塗布技術も進
歩してきてはいるが、特にエンボスが施された熱可塑性
樹脂プレートもしくはシートの表面に上記高度に帯電防
止可能な導電性塗料を均一に塗布することは極めて難し
い。
However, the electrically conductive substance is uniformly kneaded in the thermoplastic resin, and a molded article obtained by extrusion molding or injection molding of the electrically conductive thermoplastic resin composition is highly antistatic. Then, a large amount of conductive material must be kneaded into the thermoplastic resin, and there is a problem that the mechanical strength of the resulting thermoplastic resin molded product is significantly reduced, and the thermoplastic resin plate or sheet Uniformly applying a highly antistatic conductive paint to the surface is disclosed, for example, in JP-A-59-177813.
Although the coating technology has been advanced to a certain level as disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2004-135, the above highly antistatic conductive paint is uniformly applied to the surface of an embossed thermoplastic resin plate or sheet. It is extremely difficult to do.

【0005】即ち、エンボスが施された熱可塑性樹脂プ
レートもしくはシートの表面に上記高度に帯電防止可能
な導電性塗料をロールコーター等の通常の塗布装置で塗
布すると、上記エンボス面の凸部には極めて薄い導電性
の塗膜しか形成されず、逆に凹部には導電性塗料が集ま
って凸レンズ状の塗膜が形成されてしまい、均質な帯電
防止性能は付与できない。上記エンボスが施された熱可
塑性樹脂プレートもしくはシートの表面における上記不
均一な導電性の塗膜を、導電性の塗膜の厚さを増して解
決しようとすると、帯電防止性能はある程度満足するか
もしれないが、導電性の塗膜の厚さが厚くなり過ぎ、熱
可塑性樹脂プレートもしくはシートの表面性質を悪化す
るだけでなく、導電性の塗膜自体も脆いものとなる。
That is, when the above-mentioned highly antistatic conductive paint is applied to the surface of the embossed thermoplastic resin plate or sheet by a usual coating device such as a roll coater, the protrusions on the embossed surface are formed. Only an extremely thin conductive coating film is formed, and conversely, the conductive coating material collects in the concave portion to form a convex lens-shaped coating film, and uniform antistatic performance cannot be imparted. When trying to solve the uneven conductive coating film on the surface of the embossed thermoplastic resin plate or sheet by increasing the thickness of the conductive coating film, the antistatic performance may be satisfied to some extent. However, not only does the conductive coating film become too thick and the surface properties of the thermoplastic resin plate or sheet deteriorate, but the conductive coating film itself becomes brittle.

【0006】又、予め熱可塑性樹脂プレートもしくはシ
ートの表面に上記導電性の塗膜を形成しておき、上記導
電性の塗膜が形成された熱可塑性樹脂プレートもしくは
シートを加熱軟化して上記導電性の塗膜面からエンボス
を施す方法もあるが、熱可塑性樹脂プレートもしくはシ
ートの表面上に形成された導電性の塗膜は、エンボスロ
ール等の凹凸面で不均一に延伸され、二次的に厚さのバ
ラツキを生じてしまうという欠点を有する。
Further, the conductive coating film is previously formed on the surface of the thermoplastic resin plate or sheet, and the thermoplastic resin plate or sheet on which the conductive coating film is formed is softened by heating to make the conductive film conductive. There is also a method to apply embossing from the surface of the conductive coating film, but the conductive coating film formed on the surface of the thermoplastic resin plate or sheet is unevenly stretched on the uneven surface such as an embossing roll and However, there is a drawback that the thickness varies.

【0007】本発明者らは、上記エンボス時における導
電性の塗膜の不均一な延伸を防止する方法について鋭意
検討した結果、基材熱可塑性樹脂プレートもしくはシー
トと相溶性のある熱可塑性樹脂フィルム上に形成した導
電性の塗膜を、該熱可塑性樹脂フィルムを介して基材熱
可塑性樹脂プレートもしくはシートに積層し、エンボス
加工を施すと、上記導電性の塗膜は均質に延伸され、エ
ンボス加工による二次的な厚さのバラツキを生じないこ
とを知見し、本発明を完成するに至ったのである。又、
上記のようにして得られる帯電防止熱可塑性樹脂プレー
トもしくはシートの導電性の塗膜は、基材熱可塑性樹脂
プレートもしくはシートに積層している熱可塑性樹脂フ
ィルムと共にエンボス加工による表面の凹凸があるが、
上記するように該導電性の塗膜は均質に延伸されている
ので、導電性の塗膜表面を加熱加圧することによって、
該導電性の塗膜の性能を損なうことなくその表面を容易
に平滑にし得ることを知見し、本発明を完成するに至っ
たのである。
The inventors of the present invention have made extensive studies as to a method for preventing uneven stretching of the conductive coating film during the embossing, and as a result, have found that the thermoplastic resin film compatible with the base thermoplastic resin plate or sheet. When the conductive coating film formed above is laminated on a base thermoplastic resin plate or sheet via the thermoplastic resin film and subjected to embossing, the conductive coating film is uniformly stretched and embossed. The inventors have found that a secondary variation in thickness does not occur due to processing, and have completed the present invention. or,
The conductive coating film of the antistatic thermoplastic resin plate or sheet obtained as described above has surface irregularities due to embossing together with the thermoplastic resin film laminated on the base thermoplastic resin plate or sheet. ,
As described above, since the conductive coating film is uniformly stretched, by heating and pressing the conductive coating surface,
The inventors have found that the surface of the conductive coating film can be easily smoothed without impairing the performance of the conductive coating film, and have completed the present invention.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、叙上の事実
に鑑みなされたものであって、その目的とするところ
は、導電性の塗膜の厚さのバラツキを少なくした塗布方
式によるエンボスが施され又はエンボス面を加熱加圧し
て表面平滑にした帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしく
はシートの製造方法及びこれによって得られる帯電防止
熱可塑性樹脂プレートもしくはシートを提供するにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above facts, and it is an object of the present invention to emboss by a coating method in which variations in the thickness of a conductive coating film are reduced. Another object of the present invention is to provide a method for producing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet having a surface smoothed by applying heat or pressure to an embossed surface and an antistatic thermoplastic resin plate or sheet obtained thereby.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
導電性の塗膜が形成されている熱可塑性樹脂フィルム
を、上記導電性の塗膜を外側にして基材熱可塑性樹脂プ
レートもしくはシートに熱接着すると共にエンボスを施
すことを特徴とする帯電防止プラスチックプレートもし
くはシートの製造方法をその要旨とするものである。
According to the first aspect of the present invention,
An antistatic plastic characterized in that a thermoplastic resin film on which a conductive coating film is formed is heat-bonded to a base thermoplastic resin plate or sheet with the above-mentioned conductive coating film on the outside and embossed. The gist of the method is a plate or sheet manufacturing method.

【0010】上記導電性の塗膜を形成する導電性塗料
は、熱可塑性樹脂及び導電性粉末を構成成分とする。上
記熱可塑性樹脂は、塗膜形成能を有するものであれば特
に限定されるものではなく、例えば、アクリル系樹脂、
塩化ビニル系樹脂、スチレン系樹脂、ウレタン系樹脂等
が挙げられる。
The conductive paint forming the conductive coating film contains a thermoplastic resin and a conductive powder as its constituent components. The thermoplastic resin is not particularly limited as long as it has a coating film forming ability, for example, an acrylic resin,
Examples thereof include vinyl chloride resin, styrene resin, urethane resin and the like.

【0011】上記導電性粉末は、導電性塗料用に用いら
れるものであれば特に限定されるものではなく、無機質
の導電性粉末、有機質の導電性粉末から適宜選択使用さ
れる。上記無機質の導電性粉末として、例えば、粒子の
表面もしくは粒子全体が酸化錫成分からなる導電性粉
末、上記酸化錫成分に酸化アンチモン成分0.1〜20
重量%を添加した導電性粉末等が挙げられる。上記酸化
錫成分からなる導電性粉末は、高い導電性を示すが、粒
子径が大きくなると可視光線を散乱し、得られる導電性
塗膜の透明性が低下するので、上記導電性の塗膜に透明
性もしくは透光性を必要とするならば、その粒子径は
0.4μm以下であることが望ましい。しかし、硫酸バ
リウム等の透明性を有する粒子の表面に酸化錫をコーテ
ィングした導電性粉末の場合には、上記可視光線の散乱
は少ないので、その粒子径は0.4μm以上であっても
よい。
The above-mentioned conductive powder is not particularly limited as long as it is used for a conductive paint, and it is appropriately selected from inorganic conductive powder and organic conductive powder. Examples of the inorganic conductive powder include, for example, a conductive powder in which the surface of the particles or the whole particles is made of a tin oxide component, and the tin oxide component has an antimony oxide component of 0.1 to 20.
Conductive powder to which weight% is added. The electroconductive powder consisting of the tin oxide component shows high electroconductivity, but when the particle size is large, it scatters visible light, and the transparency of the electroconductive coating film obtained is reduced. If transparency or translucency is required, the particle size is preferably 0.4 μm or less. However, in the case of a conductive powder in which tin oxide is coated on the surface of particles having transparency such as barium sulfate, the scattering of the visible light is small, and thus the particle diameter may be 0.4 μm or more.

【0012】酸化アンチモン含有酸化錫を硫酸バリウム
等の透明性を有する粒子の表面にコーティングした導電
性粉末は、その高い透明性から透明導電性の塗膜として
好適に使用される。上記酸化アンチモン含有酸化錫を硫
酸バリウム粒子の表面にコーティングした導電性粉末の
粒子径は、0.01〜2μmの範囲で好適に使用され
る。上記粒子径が0.01μm未満である場合、必要な
導電性を示す厚さに形成された導電性塗膜において、芯
材である硫酸バリウム粒子の体積比率が小さくなり、該
導電性塗膜の透明性が低下する。又、上記粒子径が2μ
mを超えると、形成される導電性塗膜の平滑性が低下
し、充填された導電性粉末間に微小な空気孔が生じ、導
電性塗膜が曇り、その透明性を低下させる。
A conductive powder obtained by coating the surface of particles having transparency such as barium sulfate with antimony oxide-containing tin oxide is suitable for use as a transparent conductive coating film because of its high transparency. The particle diameter of the conductive powder obtained by coating the surface of barium sulfate particles with the above-mentioned tin oxide containing antimony oxide is suitably used in the range of 0.01 to 2 μm. When the particle diameter is less than 0.01 μm, the volume ratio of the barium sulfate particles, which is the core material, in the conductive coating film formed to have the necessary conductivity becomes small, Transparency decreases. Also, the above particle size is 2μ
When it exceeds m, the smoothness of the formed conductive coating film is deteriorated, minute air holes are generated between the filled conductive powders, the conductive coating film is clouded, and its transparency is deteriorated.

【0013】上記無機質の導電性粉末の配合量は、導電
性の塗膜に透明性を要求する場合には、バインダーとし
て使用される熱可塑性樹脂100重量部に対し100〜
500重量部が好ましい。上記配合量が100重量部未
満である場合、形成される導電性塗膜の導電性が低下
し、必要な帯電防止効果が得られず、又、上記配合量が
500重量部を超えると、形成される導電性塗膜の透明
性が低下する。
When the conductive coating film is required to have transparency, the content of the inorganic conductive powder is 100 to 100 parts by weight of the thermoplastic resin used as the binder.
500 parts by weight are preferred. When the amount is less than 100 parts by weight, the conductivity of the conductive coating film formed is reduced, and the required antistatic effect cannot be obtained. The resulting conductive coating film has reduced transparency.

【0014】上記有機質の導電性粉末として、例えば、
アニリン系重合体、ピロール系重合体、チオフェン系重
合体等の導電性粉末が挙げられる。就中、導電性アニリ
ン系重合体は、熱安定性に優れることから好適に使用さ
れる。上記導電性アニリン系重合体の配合量は、バイン
ダーとして使用される熱可塑性樹脂100重量部に対し
0.1〜30重量部が好ましい。上記配合量が0.1重
量部未満である場合、形成される導電性塗膜の導電性が
低下し、必要な帯電防止効果が得られず、又、上記配合
量が30重量部を超えると、形成される導電性塗膜の透
明性が低下する。
As the organic conductive powder, for example,
Conductive powders such as an aniline polymer, a pyrrole polymer, and a thiophene polymer are exemplified. Above all, a conductive aniline polymer is preferably used because of its excellent thermal stability. The content of the conductive aniline-based polymer is preferably 0.1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin used as the binder. When the amount is less than 0.1 part by weight, the conductivity of the conductive coating film to be formed is reduced, the required antistatic effect is not obtained, and when the amount exceeds 30 parts by weight. As a result, the transparency of the formed conductive coating film decreases.

【0015】上記導電性塗料は、熱可塑性樹脂、導電性
粉末の他、必要に応じて、有機溶剤、紫外線吸収剤、酸
化防止剤、熱重合禁止剤等が添加されてもよい。
In addition to the thermoplastic resin and the conductive powder, an organic solvent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a thermal polymerization inhibitor, etc. may be added to the above-mentioned conductive paint, if necessary.

【0016】上記有機溶剤は、上記導電性塗料が塗布さ
れる基材熱可塑性樹脂プレートもしくはシートの種類や
用いられるバインダーとしての熱可塑性樹脂の種類等に
よって適宜選択使用されるが、沸点70〜160℃程度
のものが好ましい。上記沸点が70℃未満では、塗工中
の蒸発が大きく、上記導電性塗料の粘度が変化し、塗布
性を低下させ、上記沸点が160℃を超えると、乾燥に
大きなエネルギーを要する。
The organic solvent is appropriately selected and used depending on the type of the base thermoplastic resin plate or sheet to which the conductive paint is applied, the type of thermoplastic resin as the binder used, and the like, but the boiling point is 70 to 160. It is preferably about ° C. When the boiling point is less than 70 ° C, evaporation during coating is large, the viscosity of the conductive coating material changes, and the coating property is lowered, and when the boiling point exceeds 160 ° C, a large amount of energy is required for drying.

【0017】上記有機溶剤としては、例えば、シクロヘ
キサノン、エチレングリコールモノメチルエーテル(メ
チルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチルエー
テル(エチルセロソルブ)、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、酢酸ブチル、イソプロピルアセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、トルエ
ン、キシレン、アニソール等が挙げられる。
Examples of the organic solvent include cyclohexanone, ethylene glycol monomethyl ether (methyl cellosolve), ethylene glycol monoethyl ether (ethyl cellosolve), diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, isopropyl acetone, methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, toluene, xylene. , Anisole and the like.

【0018】上記紫外線吸収剤としては、特に限定され
るものではないが、例えば、サリチル酸系紫外線吸収
剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾー
ル系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤
等が挙げられる。上記酸化防止剤としては、例えば、フ
ェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、イオウ系
酸化防止剤等が挙げられる。上記熱重合禁止剤として
は、例えば、ヒドロキノン、p−メトキシフェノール等
が挙げられる。
The UV absorber is not particularly limited, but examples thereof include salicylic acid UV absorbers, benzophenone UV absorbers, benzotriazole UV absorbers, and cyanoacrylate UV absorbers. . Examples of the antioxidant include a phenolic antioxidant, a phosphoric acid antioxidant, and a sulfur antioxidant. Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone and p-methoxyphenol.

【0019】又、導電性粉末のバインダーとして使用さ
れる熱可塑性樹脂への分散性を向上させるために上記導
電性粉末を予め、シランカップリング剤、チタンカップ
リング剤、アルミネートカップリング剤等で表面処理を
行って置くことも有効である。
In order to improve the dispersibility of the electroconductive powder in the thermoplastic resin used as the binder, the electroconductive powder is previously treated with a silane coupling agent, a titanium coupling agent, an aluminate coupling agent, or the like. It is also effective to perform surface treatment before placing.

【0020】上記導電性塗料を調製する方法は、特に限
定されるものではないが、バインダーとして用いられる
上記熱可塑性樹脂及び導電性粉末を有機溶剤に混合、溶
解して調製されるが、上記熱可塑性樹脂及び導電性粉末
を有機溶剤に混合、溶解する装置として、例えば、サン
ドミル、ボールミル、アトライター、高速回転攪拌装
置、三本ロール等が使用される。
The method for preparing the conductive paint is not particularly limited, but it is prepared by mixing and dissolving the thermoplastic resin used as a binder and the conductive powder in an organic solvent. As a device for mixing and dissolving the plastic resin and the conductive powder in the organic solvent, for example, a sand mill, a ball mill, an attritor, a high-speed rotary stirring device, a triple roll or the like is used.

【0021】上記導電性粉末のバインダーとして使用さ
れる熱可塑性樹脂として、光硬化性樹脂が用いられても
よい。上記光硬化性樹脂は、有機高分子重合体、分子内
に少なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を有す
る(メタ)アクリレート化合物及び光重合開始剤を構成
成分とする。上記有機高分子重合体としては、α,β−
不飽和エチレン系単量体を構成成分とするものが好まし
く、α,β−不飽和エチレン系単量体としては、例え
ば、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレ
ン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン、p−エ
チルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、p−n−ヘ
キシルスチレン、p−n−オクチルスチレン、p−メト
キシスチレン、p−フェニルスチレン、3,4−ジメチ
ルクロルスチレン等のスチレン類、α−ビニルナフタレ
ン等のビニルナフタレン類、エチレン、プロピレン、ブ
チレン、C5 〜C30もしくはそれ以上の炭素数のα−オ
レフィン類、塩化ビニル、臭化ビニル等のハロゲン化ビ
ニル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル
等のビニルエステル類、(メタ)アクリル酸メチル、
(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸n−
ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アク
リル酸n−オクチル、(メタ)アクリル酸ラウリル、
(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メタ)ア
クリル酸−2−クロルエチル、α−クロル(メタ)アク
リル酸メチル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)
アクリル酸ジメチルアミノエチル等の(メタ)アクリル
酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエ
ーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビ
ニルエチルケトン等のビニルケトン類、N−ビニルピロ
ール、N−ビニルインドール等のN−ビニル化合物、
(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸アミド
類が挙げられる。これらのα,β−不飽和エチレン系単
量体は、単独の重合体としてもしくは2種以上が併用さ
れ共重合体として用いられる。
A photocurable resin may be used as the thermoplastic resin used as the binder of the conductive powder. The photocurable resin contains an organic polymer, a (meth) acrylate compound having at least two (meth) acryloyl groups in the molecule, and a photopolymerization initiator as constituent components. Examples of the organic polymer include α, β-
Those having an unsaturated ethylenic monomer as a constituent component are preferable, and examples of the α, β-unsaturated ethylenic monomer include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene and α. -Styrene such as methylstyrene, p-ethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, pn-hexylstyrene, pn-octylstyrene, p-methoxystyrene, p-phenylstyrene, and 3,4-dimethylchlorostyrene. , Vinylnaphthalenes such as α-vinylnaphthalene, ethylene, propylene, butylene, α-olefins having a carbon number of C5 to C30 or higher, vinyl halides such as vinyl chloride and vinyl bromide, vinyl acetate, propion Vinyl esters such as vinyl acrylate and vinyl butyrate, methyl (meth) acrylate,
Propyl (meth) acrylate, n- (meth) acrylate
Butyl, isobutyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate,
2-Ethylhexyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acrylate, methyl α-chloro (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, (meth)
(Meth) acrylic acid esters such as dimethylaminoethyl acrylate, vinyl ethers such as vinyl methyl ether and vinyl ethyl ether, vinyl ketones such as vinyl methyl ketone and vinyl ethyl ketone, N-vinyl pyrrole, N-vinyl indole and the like. N-vinyl compound,
Examples thereof include (meth) acrylonitrile and (meth) acrylic acid amides. These α, β-unsaturated ethylenic monomers are used either as a single polymer or in combination of two or more as a copolymer.

【0022】上記有機高分子重合体の重量平均分子量
は、2万〜100万、より好ましくは5万〜50万であ
る。上記重量平均分子量が2万未満であると、上記有機
高分子重合体を含む光重合性樹脂組成物を本発明の導電
性の塗膜が形成されている熱可塑性樹脂フィルムを、ロ
ール状に巻回して一時的に保存することがあるが、この
ような場合、コールドフローを起こし、上記光重合性樹
脂組成物からなる接着層にシワ等が入り使用ができなく
なる。又、上記重量平均分子量が100万を超えると、
上記塗工時の光重合性樹脂組成物の溶液粘度が高くな
り、塗工ムラが入り易くなる。
The weight average molecular weight of the above organic polymer is 20,000 to 1,000,000, more preferably 50,000 to 500,000. When the weight average molecular weight is less than 20,000, the photopolymerizable resin composition containing the organic high molecular polymer is wound into a roll with a thermoplastic resin film having a conductive coating film of the present invention formed thereon. Although it may be rotated and temporarily stored, in such a case, cold flow occurs, and wrinkles and the like are formed in the adhesive layer made of the photopolymerizable resin composition, which makes it unusable. If the weight average molecular weight exceeds 1,000,000,
The solution viscosity of the photopolymerizable resin composition at the time of coating increases, and coating unevenness easily occurs.

【0023】上記(メタ)アクリレート化合物は、分子
内に少なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を有
するものであり、紫外線又は可視光線等の活性光線によ
って重合が開始されるものが好ましく、例えば、エチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリプロピレンジ(メタ)アクリレ
ート、テトラプロピレンジ(メタ)アクリレート、ノナ
プロピレンジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレンジ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレ
ート、トリス−(2−ヒドロキシエチル)−イソシアヌ
ル酸エステル(メタ)アクリレート、2,2−ビス〔4
−(アクリロキシジエトキシ)フェニル〕プロパン、
2,2−ビス〔4−(メタクリロキシジエトキシ)フェ
ニル〕プロパン、3−フェノキシ−2−プロパノイルア
クリレート、1,6−ビス(3−アクリロキシ−2−ヒ
ドロキシプロピル)−ヘキシルエーテル、テトラメチロ
ールメタンテトラ(メタ)アクリレート等が挙げられ
る。
The above-mentioned (meth) acrylate compound has at least two (meth) acryloyl groups in the molecule, and it is preferable that the polymerization is initiated by active rays such as ultraviolet rays or visible rays. Ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, Tripropylene di (meth) acrylate, tetrapropylene di (meth) acrylate, nonapropylene di (meth) acrylate, polypropylene di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, Pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, tris- (2-hydroxyethyl) -Isocyanuric acid ester (meth) acrylate, 2,2-bis [4
-(Acryloxydiethoxy) phenyl] propane,
2,2-bis [4- (methacryloxydiethoxy) phenyl] propane, 3-phenoxy-2-propanoyl acrylate, 1,6-bis (3-acryloxy-2-hydroxypropyl) -hexyl ether, tetramethylolmethane Tetra (meth) acrylate etc. are mentioned.

【0024】上記(メタ)アクリレート化合物の添加量
は、好ましくは上記有機高分子重合体100重量部に対
し10〜250重量部、より好ましくは30〜200重
量部である。上記添加量が10重量部未満の少量となる
と、紫外線等の活性光線照射後の上記成分を含む上記光
硬化性樹脂硬化物の表面硬度が不足し、又、上記添加量
が250重量部を超えて多量となると、上記光硬化性樹
脂硬化物の表面にクラックが入ったり、粘着性が不足
し、基材となる熱可塑性樹脂プレートもしくはシートに
対する接着が充分に行われなくなる。
The amount of the (meth) acrylate compound added is preferably 10 to 250 parts by weight, more preferably 30 to 200 parts by weight, based on 100 parts by weight of the organic polymer. If the addition amount is less than 10 parts by weight, the surface hardness of the photocurable resin cured product containing the above components after irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays is insufficient, and the addition amount exceeds 250 parts by weight. If the amount is too large, the surface of the cured product of the photocurable resin will be cracked or the adhesiveness will be insufficient, resulting in insufficient adhesion to the thermoplastic resin plate or sheet as the base material.

【0025】上記光重合開始剤は、紫外線又は可視光線
等の活性光線により、上記(メタ)アクリレート化合物
の重合を開始させる性質を有するものであれば、特に限
定されるものではないが、紫外線重合開始剤としては、
例えば、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイ
ド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、ジフェニ
ルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファ
イド及びジベンゾチアゾイルジサルファイド等のサルフ
ァイド類、チオキサントン、エチルチオキサントン、2
−クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ジ
イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類、ヒ
ドラゾン、アゾイソブチロニトリル、ベンゼンジアゾニ
ウム等のジアゾ化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノ
ン、t−ブチルアントラキノン、2−メチルアントラキ
ノン、2−エチルアントラキノン、2−アミノアントラ
キノン、2−クロロアントラキノン、ベンジルジメチル
ケタール、メチルフェニルグリオキシレート等の芳香族
カルボニル化合物、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニ
ルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキ
シ)フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケト
ン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメ
トキシアセトフェノン等のアセトフェノン誘導体、4−
ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安
息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4
−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキル
アミノ安息香酸エステル類、ベンゾイルパーオキサイ
ド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキ
サイド、キュメンハイドロパーオキサイド等の過酸化
物、9−フェニルアクリジン、9−p−メトキシフェニ
ルアクリジン、9−アセチルアミノアクリジン、ベンズ
アクリジン等のアクリジン誘導体、9,10−ジメチル
ベンズフェナジン、9−メチルベンズフェナジン、10
−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体、
4,4’,4”−トリメトキシ−2,3−ジフェニルキ
ノキサリン等のキノキサリン誘導体、2,4,5−トリ
フェニルイミダゾイル二量体、ハロゲン化ケトン、アシ
ルホスフィンオキシド、アシルホスフォナート等のアシ
ル化リン化合物等が挙げられる。
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has a property of initiating the polymerization of the (meth) acrylate compound by an actinic ray such as an ultraviolet ray or a visible ray. As an initiator,
For example, sulfides such as sodium methyl dithiocarbamate sulfide, tetramethyl thiuram monosulfide, diphenyl monosulfide, dibenzothiazoyl monosulfide and dibenzothiazoyl disulfide, thioxanthone, ethylthioxanthone, 2
Thioxanthones such as chlorothioxanthone, diethylthioxanthone and diisopropylthioxanthone, hydrazones, diazo compounds such as azoisobutyronitrile and benzenediazonium, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzophenone, dimethylaminobenzophenone, Michler's ketone , Aromatic carbonyl compounds such as benzylanthraquinone, t-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, benzyldimethylketal and methylphenylglyoxylate, 1-hydroxycyclohexylphenyl Ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1- Emissions, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy acetophenone derivatives such as acetophenone, 4-
Methyl dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4
-Dialkylaminobenzoic acid esters such as isopropyl diethylaminobenzoate, benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, peroxides such as cumene hydroperoxide, 9-phenylacridine, 9-p- Acridine derivatives such as methoxyphenylacridine, 9-acetylaminoacridine, benzacridine, 9,10-dimethylbenzphenazine, 9-methylbenzphenazine, 10
-Phenazine derivatives such as methoxybenzphenazine,
Quinoxaline derivatives such as 4,4 ′, 4 ″ -trimethoxy-2,3-diphenylquinoxaline, 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers, halogenated ketones, acylphosphine oxides, acylphosphonates and other acyls Examples thereof include phosphorus compounds.

【0026】又、可視光線重合開始剤としては、例え
ば、2−ニトロフルオレン、2,4,6−トリス(トリ
クロロメチル)−1,3,5−トリアジン、3,3’−
カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン等が挙げ
られる。上記光硬化性樹脂組成物には、上記光重合開始
剤の酸素阻害による感度低下を防止するために、不揮発
性の脂肪族アミンもしくは芳香族アミン、例えば、トリ
エタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が添加
されてもよい。更に、前記する光重合開始剤の内、ジア
ルキルアミノ安息香酸エステル、ミヒラーケトン等は上
記光重合開始剤の酸素阻害による感度低下防止効果があ
る。
Examples of visible light polymerization initiators include 2-nitrofluorene, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine and 3,3'-.
Carbonyl biscoumarin, thiomichler ketone, etc. are mentioned. To the photocurable resin composition, a non-volatile aliphatic amine or aromatic amine such as triethanolamine or methyldiethanolamine is added in order to prevent sensitivity deterioration due to oxygen inhibition of the photopolymerization initiator. May be. Further, among the above-mentioned photopolymerization initiators, dialkylaminobenzoic acid ester, Michler's ketone and the like have an effect of preventing sensitivity reduction due to oxygen inhibition of the photopolymerization initiator.

【0027】上記光重合開始剤の添加量は、好ましくは
上記有機高分子重合体100重量部に対し0.01〜1
0重量部、より好ましくは0.05〜8重量部である。
上記添加量が0.01重量部未満の少量となると、紫外
線等の活性光線照射量が充分であっても得られる塗膜の
硬化が不充分であり、バインダーとしての機能を果たし
得なくなる。又、上記添加量が10重量部を超えて多量
となっても、上記光重合速度は飽和し、それ以上の速度
とはならず、却って、光硬化性樹脂硬化物を黄変させ、
全光線透過率やヘーズ等の光学的性質をも低下する。
The amount of the photopolymerization initiator added is preferably 0.01 to 1 with respect to 100 parts by weight of the organic polymer.
It is 0 part by weight, more preferably 0.05 to 8 parts by weight.
If the amount added is less than 0.01 part by weight, the coating film obtained will be insufficiently cured even if the amount of actinic radiation such as ultraviolet rays is sufficient, and the binder cannot function. Further, even if the addition amount exceeds 10 parts by weight and becomes large, the photopolymerization rate is saturated and does not reach a rate higher than that, rather, the photocurable resin cured product is yellowed,
It also reduces optical properties such as total light transmittance and haze.

【0028】上記導電性の塗膜が形成されている熱可塑
性樹脂フィルムとしては、導電性塗料のバインダーとし
て上記光硬化性樹脂が用いられる場合、紫外線等の活性
光線照射に際し、照射効率を著しく低下させることのな
いものであれば特に限定されるものではなく、且つ、基
材熱可塑性樹脂プレートもしくはシートと相溶性を有す
るものであればよく、例えば、ポリエチレンやポリプロ
ピレン等のポリオレフィンフィルム、アクリル系樹脂フ
ィルム、ポリエチレンテレフタレートの如きポリエステ
ルフィルム等が挙げられる。
As the thermoplastic resin film on which the above-mentioned conductive coating film is formed, when the above-mentioned photocurable resin is used as the binder of the conductive paint, the irradiation efficiency is remarkably lowered upon irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays. It is not particularly limited as long as it does not cause it, and may be compatible with the base thermoplastic resin plate or sheet, for example, a polyolefin film such as polyethylene or polypropylene, an acrylic resin. Examples thereof include films and polyester films such as polyethylene terephthalate.

【0029】上記熱可塑性樹脂フィルムは、1軸もしく
は2軸の延伸処理が施されたものであってもよく、必要
に応じて表面離型処理が施されたものであってもよい。
上記熱可塑性樹脂フィルムの厚さは、用いられる熱可塑
性樹脂の種類や延伸処理の有無等によって適宜選択され
るが、10〜200μm程度が好適に採用される。上記
熱可塑性樹脂フィルムの厚さが10μm未満であると、
該熱可塑性樹脂フィルム上に形成された導電性の塗膜が
基材熱可塑性樹脂プレートもしくはシートに熱接着され
ると共にエンボスが施される際に、導電性の塗膜が不均
一に圧延され、得られるエンボスが施された帯電防止熱
可塑性樹脂プレートもしくはシートの帯電防止性能にバ
ラツキが生じ、初期の帯電防止効果が得られない。又、
上記熱可塑性樹脂フィルムの厚さが200μmを超える
と、上記導電性の塗膜と共に熱可塑性樹脂フィルムは、
基材熱可塑性樹脂プレートもしくはシートに熱接着され
ると共にエンボスが施されるが、就中、シャープなエン
ボスが施し難くなる。
The thermoplastic resin film may be uniaxially or biaxially stretched, or may be surface-released if necessary.
The thickness of the thermoplastic resin film is appropriately selected depending on the type of the thermoplastic resin used, the presence or absence of stretching treatment, etc., but about 10 to 200 μm is preferably adopted. When the thickness of the thermoplastic resin film is less than 10 μm,
When the conductive coating film formed on the thermoplastic resin film is heat-bonded to the base thermoplastic resin plate or sheet and embossed, the conductive coating film is rolled unevenly, The antistatic performance of the resulting embossed antistatic thermoplastic resin plate or sheet varies, and the initial antistatic effect cannot be obtained. or,
When the thickness of the thermoplastic resin film exceeds 200 μm, the thermoplastic resin film together with the conductive coating film,
Although it is heat-bonded to the base thermoplastic resin plate or sheet and embossed, sharp embossing is difficult to achieve.

【0030】上記熱可塑性樹脂フィルム上に上記導電性
塗料が塗工されるが、その塗工方法としては、精密塗工
ができる方法であれば特に限定されるものではなく、例
えば、スプレー法、バーコート法、ドクターブレード
法、ロールコート法、ディッピング法等が挙げられる。
The conductive paint is applied onto the thermoplastic resin film, and the coating method is not particularly limited as long as it is a method capable of precise coating, and for example, a spray method, The bar coating method, the doctor blade method, the roll coating method, the dipping method and the like can be mentioned.

【0031】上記熱可塑性樹脂フィルム上に形成される
導電層の厚さは、好ましくは0.5〜5μmである。上
記導電層の厚さが0.5μm未満であると、導電性が不
充分となり、必要な帯電防止効果が得られない。又、上
記導電層の厚さが5μmを超えると、全光線透過率が低
下し、透明性が低下する。
The conductive layer formed on the thermoplastic resin film preferably has a thickness of 0.5 to 5 μm. If the thickness of the conductive layer is less than 0.5 μm, the conductivity becomes insufficient, and the required antistatic effect cannot be obtained. On the other hand, when the thickness of the conductive layer exceeds 5 μm, the total light transmittance decreases and the transparency decreases.

【0032】上記基材熱可塑性樹脂プレートもしくはシ
ートとしては、特に限定されるものではないが、例え
ば、塩化ビニル(PVC)系樹脂、アクリル系樹脂、A
BS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン)系樹
脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリエチレンテレ
フタレート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン(PEE
K)樹脂、ポリフェニレンサルファイド(PPS)樹
脂、ポリエーテルサルフォン(PES)樹脂、ポリサル
フォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹
脂、フッ素樹脂等のプラスチックから成型されたプレー
ト及びシートが挙げられる。
The above-mentioned base material thermoplastic resin plate or sheet is not particularly limited, but for example, vinyl chloride (PVC) resin, acrylic resin, A
BS (acrylonitrile-butadiene-styrene) resin, polycarbonate (PC) resin, polyethylene terephthalate resin, polyether ether ketone (PEE)
Examples thereof include plates and sheets molded from plastics such as K) resin, polyphenylene sulfide (PPS) resin, polyether sulfone (PES) resin, polysulfone resin, polyimide resin, polyetherimide resin, and fluororesin.

【0033】上記導電性粉末のバインダーとして使用さ
れる熱可塑性樹脂として、光硬化性樹脂が用いられる場
合、導電性塗料の硬化のために用いられる紫外線等の活
性光線の光源としては、例えば、高圧水銀ランプ、ハロ
ゲンランプ、キセノンランプ、窒素レーザー、He−C
dレーザー、Arレーザー等が用いられる。
When a photo-curable resin is used as the thermoplastic resin used as the binder of the conductive powder, the light source of actinic rays such as ultraviolet rays used for curing the conductive paint is, for example, high pressure. Mercury lamp, halogen lamp, xenon lamp, nitrogen laser, He-C
A d laser, an Ar laser or the like is used.

【0034】上記のエンボスを施すための装置として
は、特に限定されるものではないが、例えば、図1に示
されるような、表面に可及的均一にエンボスされたエン
ボスロール32と該エンボスロール32に一定の圧力で
押圧されているシリコンゴム張の押圧ロール31からな
るエンボス装置が挙げられる。上記エンボスロール32
のエンボス深さは、最終製品の要求品質によって設定さ
れるが、一般に、20〜100μm程度が採用される。
上記押圧ロール31は、押圧する導電性の塗膜51が形
成された熱可塑性樹脂フィルム52が、該押圧ロール3
1の表面に粘着しないように冷却されているが、その表
面温度は、基材熱可塑性樹脂プレートもしくはシート5
3の種類によって適宜設定され、一般に、70〜130
℃程度が採用される。又、上記エンボス装置3のエンボ
ス圧は、用いられるエンボス装置3の規模等により適宜
設定されるが、線圧で20kg/cm程度が好適に用い
られる。
The device for applying the above embossing is not particularly limited, but for example, as shown in FIG. 1, the surface of the embossing roll 32 and the embossing roll 32 embossed as uniformly as possible. An embossing device including a silicon rubber-clad pressure roll 31 pressed against a constant pressure 32 may be used. The embossing roll 32
The embossing depth is set according to the required quality of the final product, but is generally about 20 to 100 μm.
In the pressing roll 31, the thermoplastic resin film 52 on which the conductive coating film 51 to be pressed is formed is
Although it is cooled so as not to adhere to the surface of 1, the surface temperature of the substrate 1 is the thermoplastic resin plate or sheet 5
It is appropriately set depending on the three types, and is generally 70 to 130.
About ℃ is adopted. The embossing pressure of the embossing device 3 is appropriately set depending on the scale of the embossing device 3 used and the like, but a linear pressure of about 20 kg / cm is preferably used.

【0035】上記導電性の塗膜51が形成された熱可塑
性樹脂フィルム52は、基材熱可塑性樹脂プレートもし
くはシート53に熱接着されると共にエンボスが施され
るが、上記熱接着及びエンボスを施す工程は、例えば、
図1に示されるように、押出成形される基材熱可塑性樹
脂プレートもしくはシート53をエンボスロール32と
押圧ロール31を含むエンボス装置3に挟持して移送す
る際に、エンボスロール32面に上記導電性の塗膜51
が接するように供給して連続的に行われてもよく、又、
一旦成形された基材熱可塑性樹脂プレートもしくはシー
ト53上に導電性の塗膜51を外側にして熱可塑性樹脂
フィルム52を積層し、例えば、熱プレス装置等を用い
て加熱圧着すると共に上記導電性の塗膜51面にエンボ
スが設けられるようにしてもよい。
The thermoplastic resin film 52 on which the conductive coating film 51 is formed is heat-bonded and embossed to the base thermoplastic resin plate or sheet 53. The heat-bonding and embossing are performed. The process is, for example,
As shown in FIG. 1, when the extruded base material thermoplastic resin plate or sheet 53 is sandwiched and transferred by the embossing device 3 including the embossing roll 32 and the pressing roll 31, the surface of the embossing roll 32 is electrically conductive. Coating 51
May be supplied continuously so that they contact each other, or,
The thermoplastic resin film 52 is laminated with the conductive coating film 51 on the outside on the base material thermoplastic resin plate or sheet 53 that has been once formed, and the thermoplastic resin film 52 is thermocompression-bonded using, for example, a heat press device and the above-mentioned conductivity is obtained. The surface of the coating film 51 may be embossed.

【0036】請求項1記載の発明の帯電防止熱可塑性樹
脂プレートもしくはシートの製造方法は、叙上の如く構
成されているので、エンボス面の導電性の塗膜が均一に
延伸され、エンボスが施された熱可塑性樹脂プレートも
しくはシート53表面に厚さのバラツキの少ない導電性
の塗膜51を形成し得るものである。
Since the method for producing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet according to the first aspect of the present invention is configured as described above, the conductive coating film on the embossed surface is uniformly stretched and embossed. A conductive coating film 51 having a small thickness variation can be formed on the surface of the formed thermoplastic resin plate or sheet 53.

【0037】又、エンボス加工時の導電性の塗膜51の
不均一な延伸を防止するための熱可塑性樹脂フィルム5
2が基材熱可塑性樹脂プレートもしくはシート53と積
層され複合され、例えば、実施例に見られる如く、硬質
塩化ビニル樹脂プレートの実用性と、アクリル系樹脂ラ
ミネートフィルムの耐候性改善機能が結合し、新たな性
能を発揮する。
Further, the thermoplastic resin film 5 for preventing uneven stretching of the conductive coating film 51 during embossing.
2 is laminated with the base thermoplastic resin plate or sheet 53 to form a composite, and, for example, as shown in the examples, the practicality of the hard vinyl chloride resin plate is combined with the weather resistance improving function of the acrylic resin laminate film, Demonstrate new performance.

【0038】請求項2記載の発明は、請求項1記載の方
法で得られた帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしくはシ
ートのエンボスが施された導電性の塗膜表面を加熱加圧
して平滑にすることを特徴とする帯電防止熱可塑性樹脂
プレートもしくはシートの製造方法をその要旨とするも
のである。
According to a second aspect of the invention, the embossed conductive coating film surface of the antistatic thermoplastic resin plate or sheet obtained by the method of the first aspect is heated and pressed to make it smooth. The gist is a method for producing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet characterized by the above.

【0039】上記帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしく
はシート5のエンボスが施された導電性の塗膜51表面
を加熱加圧して平滑にする手段は、特に限定されるもの
ではないが、例えば、図3に示すように、一対の加熱さ
れた加圧ロール6、6間を通過させてもよいが、熱プレ
ス装置等を用いて加熱加圧されてもよい。このようにエ
ンボスが施された帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしく
はシート5の導電性の塗膜51表面を加熱加圧すると、
図4に示すように、表面の導電性の塗膜51は、ほぼ均
一に圧延され、該導電性の塗膜51の厚さのバラツキは
少なく、帯電防止機能は損なわずに平滑表面54に成形
される。
Means for smoothing the surface of the embossed conductive coating 51 of the antistatic thermoplastic resin plate or sheet 5 by heating and pressing is not particularly limited, but for example, FIG. As shown in FIG. 5, the pressure roller 6 may be passed between the pair of heated pressure rollers 6, but may be heated and pressurized by using a heat press device or the like. When the surface of the conductive coating film 51 of the antistatic thermoplastic resin plate or sheet 5 thus embossed is heated and pressed,
As shown in FIG. 4, the electroconductive coating film 51 on the surface is rolled almost uniformly, the thickness of the electroconductive coating film 51 varies little, and the smooth surface 54 is formed without impairing the antistatic function. To be done.

【0040】又、請求項1記載の方法で得られる帯電防
止熱可塑性樹脂プレートもしくはシート5の導電性の塗
膜51は、図2に拡大して示すように基材熱可塑性樹脂
プレートもしくはシート53に積層している熱可塑性樹
脂フィルム52と共にエンボス加工による表面の凹凸が
あるが、前記するように該導電性の塗膜51は均質に延
伸されているので、上記のように導電性の塗膜51表面
を加熱加圧することによって、該導電性の塗膜の性能を
損なうことなくその表面を容易に平滑54にし得るもの
と推定される。
Further, the conductive coating film 51 of the antistatic thermoplastic resin plate or sheet 5 obtained by the method of claim 1 has a base thermoplastic resin plate or sheet 53 as shown in an enlarged view in FIG. Although there is unevenness on the surface due to embossing together with the thermoplastic resin film 52 laminated on the above, since the conductive coating film 51 is uniformly stretched as described above, the conductive coating film as described above is formed. It is presumed that by heating and pressing the surface of 51, the surface can be made smooth 54 easily without impairing the performance of the conductive coating film.

【0041】又、上記エンボスによって得られた機能と
は、請求項1記載の発明において述べた他、例えば、図
5〜図7に示された蛍光灯のカバー9や図8に示された
ランプシェード10のように、基材熱可塑性樹脂プレー
トもしくはシート53と熱可塑性樹脂フィルム52の積
層界面に菱形や円形等の特定図柄のエンボスを透視し得
るように透視図柄8、8、・・・を設ける等が挙げられ
る。上記の2例は平板状で、帯電防止熱可塑性樹脂プレ
ートもしくはシート5’を加工して製造されるが、これ
とは別に、真空成形や熱プレス成形等によって深絞り成
形しても、上記導電性の塗膜51の機能を損なわずに平
滑な表面54を有する帯電防止熱可塑性樹脂の3次元の
成形体を加工し得るものである。
The function obtained by the embossing is the same as described in the invention of claim 1, and for example, the cover 9 of the fluorescent lamp shown in FIGS. 5 to 7 or the lamp shown in FIG. Like the shade 10, the transparent patterns 8, 8, ... Are provided so that the embossing of a specific pattern such as a rhombus or a circle can be seen through the laminated interface between the base material thermoplastic resin plate or sheet 53 and the thermoplastic resin film 52. It may be provided. The above-mentioned two examples are flat plates and are manufactured by processing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet 5 '. Alternatively, even if deep drawing is performed by vacuum forming or hot press forming, A three-dimensional molded body of an antistatic thermoplastic resin having a smooth surface 54 can be processed without impairing the function of the conductive coating film 51.

【0042】比較のため、図9及び図10に熱可塑性樹
脂フィルムを用いていない従来のエンボスが施された帯
電防止熱可塑性樹脂プレートもしくはシート(導電性の
塗膜51と熱可塑性樹脂プレートもしくはシート53と
からなる)を深絞り成形した成形品の深絞り成形前
(A)と後(B)の導電性の塗膜の表面状態を帯電防止
熱可塑性樹脂プレートの模擬的な断面図で示した。図9
及び図10から判るように、従来のエンボスが施された
帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしくはシートの導電性
の塗膜は、深絞り成形前(A)に既に不均一な延伸や塗
布によって厚さのバラツキが大きい状態(A)にある
が、深絞り成形時に、厚さのバラツキが大きい導電性の
塗膜51は不均質な延伸を起こすので、導電性の塗膜5
1の厚さのバラツキは益々大きくなり、極端な場合、導
電性の塗膜51の一部が破れて基材熱可塑性樹脂プレー
トもしくはシート53の表面が上記導電性の塗膜51表
面上に露出してきて、導電性の塗膜51の性能を著しく
低下させる。
For comparison, FIGS. 9 and 10 show a conventional embossed antistatic thermoplastic resin plate or sheet that does not use a thermoplastic resin film (conductive coating 51 and thermoplastic resin plate or sheet). The surface condition of the conductive coating film before (A) and after (B) deep drawing of a molded product obtained by deep drawing is shown in a simulated sectional view of the antistatic thermoplastic resin plate. . FIG.
As can be seen from FIG. 10 and FIG. 10, the conductive coating film of the conventional embossed antistatic thermoplastic resin plate or sheet has already been thickly formed by uneven stretching or coating before deep drawing (A). Although there is a large variation (A), the conductive coating film 51 having a large variation in thickness undergoes non-uniform stretching during deep drawing, so the conductive coating film 5 is formed.
The variation in the thickness of 1 becomes larger and larger, and in an extreme case, a part of the conductive coating film 51 is broken and the surface of the base thermoplastic resin plate or sheet 53 is exposed on the surface of the conductive coating film 51. Then, the performance of the conductive coating film 51 is significantly reduced.

【0043】上記のような状態を導電性の塗膜51の性
能から見ると、後述する実施例及び比較例において示す
ように、表面固有抵抗値106 〜107 Ω/□の帯電防
止熱可塑性樹脂プレートもしくはシートを用いて約4倍
の深絞り成形した場合、請求項2記載の発明の方法によ
る加熱加圧を深絞り成形によって行った場合、得られる
深絞り成形品の表面固有抵抗値が108 〜109 Ω/□
であり、充分な帯電防止機能を保持しているのに対し、
上記従来のエンボスが施された帯電防止熱可塑性樹脂プ
レートもしくはシートを深絞り成形した成形品の表面固
有抵抗値が10 14Ω/□以上となってしまい、もはや帯
電防止機能は失われてしまう。
The above-mentioned state is used as the property of the conductive coating film 51.
Seen from Noh, it is shown in Examples and Comparative Examples described later.
So that the surface resistivity is 106-107Ω / □ antistatic
Approximately 4 times using thermoplastic resin plate or sheet
In the case of deep drawing, the method of the invention according to claim 2
Obtained when deep heating is used to apply heat and pressure.
The surface resistivity of deep-drawn products is 108-109Ω / □
And while maintaining a sufficient antistatic function,
The above-mentioned conventional embossed antistatic thermoplastic resin
The surface hardness of the molded product obtained by deep drawing a plate or sheet.
Resistive value is 10 14Ω / □ or higher
The electricity prevention function is lost.

【0044】請求項2記載の発明の帯電防止熱可塑性樹
脂プレートもしくはシートの製造方法は、叙上の如く構
成されているので、エンボス面の導電性の塗膜が均一に
延展され、熱可塑性樹脂プレートもしくはシート表面に
厚さのバラツキの少ない平滑な導電性の塗膜を形成し得
るものである。
Since the method for producing the antistatic thermoplastic resin plate or sheet according to the second aspect of the present invention is configured as described above, the conductive coating film on the embossed surface is evenly spread to form the thermoplastic resin. It is possible to form a smooth conductive coating film having a small thickness variation on the surface of a plate or sheet.

【0045】又、請求項3記載の発明は、請求項1又は
請求項2記載の方法によって得られる帯電防止熱可塑性
樹脂プレートもしくはシートをその要旨とするものであ
る。請求項3記載の発明の帯電防止熱可塑性樹脂プレー
トもしくはシートは、叙上の如く、帯電防止熱可塑性樹
脂プレートもしくはシート上に熱可塑性樹脂フィルムを
介して導電性の塗膜が均一な厚さで、且つ、強固に積層
されているので、高い帯電防止性能を長らく維持し得る
ものである。
The invention according to claim 3 has as its gist an antistatic thermoplastic resin plate or sheet obtained by the method according to claim 1 or claim 2. In the antistatic thermoplastic resin plate or sheet according to the third aspect of the present invention, as described above, a conductive coating film having a uniform thickness is formed on the antistatic thermoplastic resin plate or sheet through the thermoplastic resin film. In addition, since the layers are firmly laminated, high antistatic performance can be maintained for a long time.

【0046】[0046]

【発明の実施の形態】以下に実施例を掲げて、本発明の
実施の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実
施例のみに限定されるものではない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0047】(実施例1) 〔導電性塗料の調製〕2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート10モル%及び塩化ビニル90モル%からなるバイ
ンダー用共重合樹脂(積水化学社製、商品名:エスレッ
クE−HA)100重量部、メチルエチルケトン200
重量部、シクロヘキサノン800重量部をアトライター
に仕込み、攪拌して溶解させる。次に、一次粒径0.0
2μmの酸化アンチモン含有酸化錫粉末(三菱マテリア
ル社製、商品名:T−1)300重量部を攪拌しながら加
えて8時間攪拌分散させて導電性塗料を調製した。
(Example 1) [Preparation of electrically conductive coating] Copolymer resin for binder comprising 10 mol% of 2-hydroxypropyl acrylate and 90 mol% of vinyl chloride (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name: S-REC E-HA). 100 parts by weight, methyl ethyl ketone 200
Parts by weight and 800 parts by weight of cyclohexanone are placed in an attritor and stirred to dissolve. Next, the primary particle size is 0.0
300 parts by weight of 2 μm tin oxide powder containing antimony oxide (manufactured by Mitsubishi Materials Corp., trade name: T-1) was added with stirring and dispersed by stirring for 8 hours to prepare a conductive paint.

【0048】厚さ25μmのアクリル系樹脂ラミネート
用フィルム(三菱レーヨン社製、商品名:アクリプレ
ン)上に導電性塗料をバーコーターを用いて乾燥後の膜
厚が2μmとなるように塗布、乾燥して導電性の塗膜を
長尺に形成し、ロール状に捲取った。次に、図1に示す
押出成形機1の金型2から押出された厚さ3mmの硬質
塩化ビニル樹脂プレート53を表面温度が90℃に保持
されている押圧ロール31及びサンドブラストされエン
ボス深さ50μmのエンボスロール32からなるエンボ
ス装置3に挟持して移送する際に、上記導電性の塗膜5
1が形成され、ロール状に捲取られた予め準備されてい
るアクリル系樹脂ラミネート用フィルム52を、アンロ
ールスタンド4よりエンボスロール面に上記導電性の塗
膜51が接するように上記硬質塩化ビニル樹脂プレート
53と上記エンボスロール32の間に供給して押圧ロー
ル31及びエンボスロール32間に挟圧して、図2に拡
大断面図で示す如く、導電性の塗膜51、アクリル系樹
脂ラミネートフィルム52及び硬質塩化ビニル樹脂プレ
ート53が順に積層熱接着され、上記導電性の塗膜51
から硬質塩化ビニル樹脂プレート53表層部に至るエン
ボスが施されたれた帯電防止硬質塩化ビニル樹脂プレー
ト5を作製した。
A conductive coating material was applied to a 25 μm thick acrylic resin laminating film (trade name: Acryprene, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) using a bar coater so that the film thickness after drying was 2 μm, and dried. A conductive coating film was formed into a long length and wound into a roll. Next, a hard vinyl chloride resin plate 53 having a thickness of 3 mm extruded from the mold 2 of the extrusion molding machine 1 shown in FIG. 1 is pressed by a pressing roll 31 whose surface temperature is kept at 90 ° C. and sandblasted to an emboss depth of 50 μm. The conductive coating film 5 when being sandwiched by the embossing device 3 composed of the embossing roll 32 and transferred.
1. The acrylic resin laminating film 52, which is formed into a roll shape and is wound in a roll, is prepared from the unroll stand 4 so that the conductive coating film 51 is in contact with the embossing roll surface of the hard vinyl chloride resin. It is supplied between the plate 53 and the embossing roll 32 and is pinched between the pressing roll 31 and the embossing roll 32, and as shown in the enlarged sectional view of FIG. 2, a conductive coating film 51, an acrylic resin laminate film 52, and The hard vinyl chloride resin plates 53 are laminated and heat-bonded in order, and the conductive coating film 51 is formed.
From the hard vinyl chloride resin plate 53 to the surface layer portion, the antistatic hard vinyl chloride resin plate 5 with the embossing was produced.

【0049】(実施例2)実施例1で得られた帯電防止
硬質塩化ビニル樹脂プレート5を、図3に示される用
に、実施例1の工程に連続して、表面温度が80℃に保
持されている一対の平滑な表面を有する加熱加圧ロール
6、6間を通過させて上記帯電防止硬質塩化ビニル樹脂
プレート5のエンボスが施された導電性の塗膜51表面
を平滑にし、冷却ロール7にて冷却して、図4に拡大断
面図で示す如く、表面平滑な導電性の塗膜54を有する
帯電防止硬質塩化ビニル樹脂プレート5’を作製した。
(Example 2) The antistatic hard vinyl chloride resin plate 5 obtained in Example 1 was maintained at a surface temperature of 80 ° C following the process of Example 1 as shown in FIG. Is passed between the heating and pressing rolls 6 having a pair of smooth surfaces to smooth the surface of the embossed conductive coating film 51 of the antistatic hard vinyl chloride resin plate 5 and to cool it. After cooling at 7, an antistatic hard vinyl chloride resin plate 5 ′ having a conductive coating film 54 with a smooth surface was prepared as shown in the enlarged sectional view of FIG.

【0050】(実施例3)厚さ100μmのアクリル系
樹脂ラミネート用フィルム(三菱レーヨン社製、商品
名:アクリプレン)52上に導電性塗料をバーコーター
を用いて乾燥後の膜厚が3μmとなるように塗布、乾燥
して導電性の塗膜51を長尺に形成したこと、エンボス
深さ75μmの菱形模様のエンボスロール32を用いた
こと及び厚さ3mmの硬質アクリル変性塩化ビニル樹脂
プレート53を用いたこと以外、実施例2と同様にして
図5及び図6に拡大断面図で示す如く、表面平滑な導電
性の塗膜54を有する帯電防止硬質アクリル変性塩化ビ
ニル樹脂プレート5’を作製した。得られた帯電防止硬
質アクリル変性塩化ビニル樹脂プレート5’を加工し、
図7に示す如き蛍光灯カバー9を作製した。
(Example 3) A film having a thickness of 3 μm after drying an electrically conductive coating on a 100 μm thick acrylic resin laminating film (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., trade name: Acryprene) 52 using a bar coater. As described above, a conductive coating film 51 was formed into a long length by coating and drying, a diamond-shaped embossing roll 32 having an embossing depth of 75 μm was used, and a hard acrylic modified vinyl chloride resin plate 53 having a thickness of 3 mm was used. An antistatic hard acrylic modified vinyl chloride resin plate 5 ′ having a conductive coating film 54 with a smooth surface was produced as shown in the enlarged sectional views of FIGS. 5 and 6 in the same manner as in Example 2 except that it was used. . The obtained antistatic hard acrylic modified vinyl chloride resin plate 5'is processed,
A fluorescent lamp cover 9 as shown in FIG. 7 was produced.

【0051】(実施例4)厚さ250μmのアクリル系
樹脂ラミネート用フィルム(三菱レーヨン社製、商品
名:アクリプレン)52上に導電性塗料をバーコーター
を用いて乾燥後の膜厚が3μmとなるように塗布、乾燥
して導電性の塗膜51を長尺に形成したこと、エンボス
深さ100μmのエンボスロール32を用いたこと及び
厚さ3mmの硬質アクリル変性塩化ビニル樹脂プレート
53を用いたこと以外、実施例2と同様にして表面平滑
な導電性の塗膜54を有する帯電防止硬質アクリル変性
塩化ビニル樹脂プレート5’を作製した。得られた帯電
防止硬質アクリル変性塩化ビニル樹脂プレート5’を、
その導電性の塗膜54が外側になるように真空成形機に
よって4倍の深絞り成形を行い帯電防止中空円錐台状成
形品を成形した。
(Example 4) A 250 μm-thick acrylic resin laminating film (made by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., trade name: Acryprene) 52 was coated with a conductive paint using a bar coater to give a film thickness of 3 μm after drying. Was applied and dried to form a long conductive coating film 51, an embossing roll 32 having an embossing depth of 100 μm was used, and a hard acrylic modified vinyl chloride resin plate 53 having a thickness of 3 mm was used. Except for the above, in the same manner as in Example 2, an antistatic hard acrylic modified vinyl chloride resin plate 5 ′ having a conductive coating film 54 having a smooth surface was produced. The obtained antistatic hard acrylic modified vinyl chloride resin plate 5 ',
A vacuum forming machine was used to perform deep drawing four times as deep as the conductive coating film 54 on the outside to form an antistatic hollow truncated cone shaped product.

【0052】(比較例1)実施例1の導電性塗料を離型
処理したポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、
PETフィルムと略称する)上に塗布したこと以外、実
施例1と同様にしてPETフィルム上に導電性の塗膜を
形成した。次いで、実施例1と同様に押出成形機1によ
って厚さ3mmの硬質塩化ビニル樹脂プレート53を成
形し、実施例1のエンボス装置3に至るまでの間で、上
記PETフィルム上に形成された導電性の塗膜51を上
記硬質塩化ビニル樹脂プレート上に転写した後、上記導
電性の塗膜51がエンボスロール32面に接するように
し、且つ、エンボス圧も実施例1と同一になるように調
整してエンボスが施されたれた帯電防止硬質塩化ビニル
樹脂プレート(A)を作製した。
Comparative Example 1 A polyethylene terephthalate film obtained by subjecting the conductive paint of Example 1 to a release treatment (hereinafter
A conductive coating film was formed on the PET film in the same manner as in Example 1 except that the conductive film was applied on the PET film. Then, the hard vinyl chloride resin plate 53 having a thickness of 3 mm is molded by the extruder 1 in the same manner as in Example 1, and the conductive film formed on the PET film is formed until the embossing device 3 in Example 1 is reached. Of the conductive coating film 51 onto the hard vinyl chloride resin plate, and then the conductive coating film 51 is brought into contact with the surface of the embossing roll 32, and the embossing pressure is also adjusted to be the same as in Example 1. Then, an embossed antistatic hard vinyl chloride resin plate (A) was produced.

【0053】(比較例2)実施例1で用いたエンボス装
置3を用いて厚さ3mmの硬質塩化ビニル樹脂プレート
53の一面にエンボスを施し、次いで、実施例1の導電
性塗料を該硬質塩化ビニル樹脂プレート53のエンボス
面に、実施例1で用いたバーコーターを用いて乾燥後の
膜厚が2μmとなるように塗布、乾燥してエンボスが施
されたれた帯電防止硬質塩化ビニル樹脂プレート(A)
を作製した。
COMPARATIVE EXAMPLE 2 Using the embossing device 3 used in Example 1, one surface of the hard vinyl chloride resin plate 53 having a thickness of 3 mm was embossed, and then the conductive paint of Example 1 was applied to the hard chloride. On the embossed surface of the vinyl resin plate 53, the bar coater used in Example 1 was applied so that the film thickness after drying would be 2 μm, and dried to emboss the antistatic hard vinyl chloride resin plate ( A)
Was prepared.

【0054】(比較例3)比較例1で得られた帯電防止
硬質塩化ビニル樹脂プレートの導電性の塗膜51面を、
実施例2で用いた表面温度が80℃に保持されている一
対の加熱加圧ロール6、6及び冷却ロール7を用いて実
施例2同様にして表面平滑な導電性の塗膜54を有する
帯電防止硬質塩化ビニル樹脂プレート(A)を作製し
た。
(Comparative Example 3) The surface of the conductive coating film 51 of the antistatic hard vinyl chloride resin plate obtained in Comparative Example 1 was
A pair of heating / pressurizing rolls 6 and 6 and a cooling roll 7 having a surface temperature of 80 ° C. used in Example 2 were used to carry out charging in the same manner as in Example 2 with a conductive coating film 54 having a smooth surface. An anti-hard vinyl chloride resin plate (A) was prepared.

【0055】(比較例4)比較例2で得られた帯電防止
硬質塩化ビニル樹脂プレートのエンボスが施されたれた
面に形成された導電性の塗膜51を、実施例2で用いた
表面温度が80℃に保持されている一対の加熱加圧ロー
ル6、6及び冷却ロール7を用いて実施例2同様にして
表面平滑な導電性の塗膜54を有する帯電防止硬質塩化
ビニル樹脂プレート(A)を作製した。
(Comparative Example 4) The conductive coating film 51 formed on the embossed surface of the antistatic hard vinyl chloride resin plate obtained in Comparative Example 2 was used for the surface temperature in Example 2. Of the antistatic hard vinyl chloride resin plate (A) having a conductive coating film 54 having a smooth surface in the same manner as in Example 2 using a pair of heating / pressurizing rolls 6, 6 and cooling roll 7 held at 80 ° C. ) Was produced.

【0056】(比較例5)比較例1で得られた帯電防止
硬質塩化ビニル樹脂プレートのエンボスが施されたれた
面に形成された導電性の塗膜51を、実施例2で用いた
表面温度が80℃に保持されている一対の加熱加圧ロー
ル6、6及び冷却ロール7を用いて実施例2同様にして
表面平滑な導電性の塗膜54を有する帯電防止硬質塩化
ビニル樹脂プレート(A)を作製した。得られた帯電防
止硬質塩化ビニル樹脂プレート(A)を、その導電性の
塗膜54が外側になるように真空成形機によって4倍の
深絞り成形を行い帯電防止中空円錐台状成形品(B)を
成形した。
Comparative Example 5 The conductive coating film 51 formed on the embossed surface of the antistatic hard vinyl chloride resin plate obtained in Comparative Example 1 was used at the surface temperature of Example 2. Of the antistatic hard vinyl chloride resin plate (A) having a conductive coating film 54 having a smooth surface in the same manner as in Example 2 using a pair of heating / pressurizing rolls 6, 6 and cooling roll 7 held at 80 ° C. ) Was produced. The obtained antistatic hard vinyl chloride resin plate (A) was deep drawn four times by a vacuum forming machine so that the conductive coating film 54 was on the outside, and an antistatic hollow truncated cone shaped product (B ) Was molded.

【0057】(比較例6)硬質塩化ビニル樹脂プレート
に替えて硬質アクリル変性塩化ビニル樹脂プレートを用
いたこと以外、比較例2と同様にしてそのエンボスが施
されたれた面に導電性の塗膜51を有する帯電防止硬質
塩化ビニル樹脂プレート(A)を作製した。得られた帯
電防止硬質アクリル変性塩化ビニル樹脂プレート(A)
を、そのエンボスが施されたれた面に形成された導電性
の塗膜51が外側になるように真空成形機によって4倍
の深絞り成形を行い帯電防止中空円錐台状成形品(B)
を成形した。
(Comparative Example 6) A conductive coating film was formed on the embossed surface in the same manner as in Comparative Example 2 except that a hard acrylic modified vinyl chloride resin plate was used instead of the hard vinyl chloride resin plate. An antistatic hard vinyl chloride resin plate (A) having 51 was prepared. Obtained antistatic hard acrylic modified vinyl chloride resin plate (A)
Is subjected to deep drawing four times by a vacuum forming machine so that the conductive coating film 51 formed on the embossed surface is on the outside, and an antistatic hollow truncated cone shaped product (B)
Was molded.

【0058】上記実施例及び比較例によって得られた帯
電防止硬質塩化ビニル樹脂プレートの性能を評価するた
め、表面固有抵抗及び導電性の塗膜の密着性について以
下の方法によって試験した。評価結果は表1に示した。
In order to evaluate the performance of the antistatic hard vinyl chloride resin plates obtained in the above Examples and Comparative Examples, the surface resistivity and the adhesion of the conductive coating film were tested by the following methods. The evaluation results are shown in Table 1.

【0059】1.表面固有抵抗:ASTM D257に
準拠して表面固有抵抗を測定した。試験片300mm×
300mmについて、測定点10点をランダムサンプリ
ング法によって定めた。 2.密着性:JIS K 5400に準拠して導電層と
基材プラスチックプレートとの密着性を評価するため、
導電性の塗膜に1mm間隔で切れ目を縦横に入れ、10
0個の碁盤目を作成し、該碁盤目上にセロハン粘着テー
プ(積水化学社製、商品名:セキスイセロハンテープN
o.252)を貼付け、これを剥離して、上記100個
の碁盤目の導電性の塗膜が何個剥がれずに残ったかを計
数する碁盤目剥離試験を行った。
1. Surface resistivity: The surface resistivity was measured according to ASTM D257. Test piece 300 mm ×
For 300 mm, 10 measurement points were determined by the random sampling method. 2. Adhesion: In order to evaluate the adhesion between the conductive layer and the base plastic plate in accordance with JIS K 5400,
Make cuts in the conductive coating at intervals of 1 mm vertically and horizontally, 10
0 cross-cuts are made, and cellophane adhesive tape (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name: Sekisui cellophane tape N
o. 252) was attached and peeled off, and a cross-cut peeling test was performed to count how many 100 conductive films of the cross-cut remained without peeling off.

【0060】[0060]

【表1】 [Table 1]

【0061】測定結果、実施例1の帯電防止硬質塩化ビ
ニル樹脂プレートでは表面固有抵抗は10点とも、5〜
6×106 Ω/□とバラツキがなく、高い帯電防止性能
を示したのに対し、比較例1は、表面固有抵抗は同等レ
ベルであるものの密着性について劣る。又、比較例2で
は109 〜1011と大きなバラツキがあり、肉眼で観察
してもエンボス面の凹凸部の色調に濃淡が顕れ、エンボ
ス加工に伴う導電性の塗膜の圧延によって二次的な導電
性の塗膜の厚さのバラツキが発生したり、導電性の塗膜
の塗布ムラが生じていることを示している。又、導電性
の塗膜と熱可塑性樹脂フィルム乃至基材熱可塑性樹脂プ
レートもしくはシートとの密着性も、上記導電性の塗膜
の厚さのバラツキの影響か、実施例1では強固な密着性
を示すが、比較例では、密着性が低下している。
As a result of the measurement, in the antistatic hard vinyl chloride resin plate of Example 1, the surface resistivity was 5 at all 10 points.
The sample had no variation of 6 × 10 6 Ω / □ and showed high antistatic performance, whereas Comparative Example 1 had a surface resistivity of the same level but poor adhesion. Further, in Comparative Example 2, there is a large variation of 10 9 to 10 11, and even if it is observed with the naked eye, the unevenness of the embossed surface has a shade of color, which is secondary due to the rolling of the conductive coating film accompanying the embossing. It shows that there are variations in the thickness of the conductive coating film and uneven coating of the conductive coating film. Also, the adhesiveness between the conductive coating film and the thermoplastic resin film or the base material thermoplastic resin plate or sheet may be due to the variation in the thickness of the conductive coating film. However, in the comparative example, the adhesiveness is lowered.

【0062】又、実施例2〜3の帯電防止硬質塩化ビニ
ル樹脂プレートは、表面固有抵抗が106 Ω/□と高い
帯電防止性能を示し、且つ、そのバラツキも小さいもの
であったが、比較例3〜4の帯電防止硬質塩化ビニル樹
脂プレートは、表面固有抵抗が109 〜1012Ω/□と
帯電防止性能を低下させると共にそのバラツキも著しく
大きくなり、又、導電性の塗膜の密着性も低下してい
る。
In addition, the antistatic hard vinyl chloride resin plates of Examples 2 and 3 showed a high antistatic performance with a surface resistivity of 10 6 Ω / □ and had a small variation, but comparison was made. The antistatic hard vinyl chloride resin plates of Examples 3 to 4 had a surface specific resistance of 10 9 to 10 12 Ω / □, which reduced the antistatic performance and significantly increased the variation, and the adhesion of the conductive coating film. The sex is also declining.

【0063】更に、実施例4の帯電防止硬質塩化ビニル
樹脂プレートは、深絞り成形のように硬質塩化ビニル樹
脂プレート表面に積層されている導電性の塗膜を大きく
延伸されるが、均質に延伸されるので表面固有抵抗が1
8 〜109 Ω/□と高い帯電防止性能を示し、そのバ
ラツキも小さく、且つ、基材硬質塩化ビニル樹脂プレー
トとの密着性も強固に接着している。これに対し、比較
例5〜6の帯電防止硬質塩化ビニル樹脂プレートは、深
絞り成形によって導電性の塗膜が不均質に延伸され、図
9及び図10に模擬的に厚さ方向の状態を断面図で示し
たように、表面固有抵抗が極端に高くなった部分が所々
に発生し、そのバラツキが1012〜1015Ω/□と極端
に大きくなって、実質的に帯電防止性能が失われている
ことが判る。
Further, in the antistatic hard vinyl chloride resin plate of Example 4, the conductive coating film laminated on the surface of the hard vinyl chloride resin plate is stretched largely as in deep drawing, but it is stretched uniformly. So the surface resistivity is 1
It exhibits high antistatic performance of 0 8 to 10 9 Ω / □, its variation is small, and it is firmly adhered to the hard vinyl chloride resin plate as the base material. On the other hand, in the antistatic hard vinyl chloride resin plates of Comparative Examples 5 and 6, the conductive coating film is stretched nonuniformly by deep drawing, and the state in the thickness direction is simulated in FIGS. 9 and 10. As shown in the cross-sectional view, there were spots where the surface resistivity was extremely high, and the variations were extremely large at 10 12 to 10 15 Ω / □, and the antistatic performance was substantially lost. You can see that

【0064】[0064]

【発明の効果】請求項1記載の発明の帯電防止熱可塑性
樹脂プレートもしくはシートの製造方法は、叙上の如く
構成されているので、エンボス面の導電性の塗膜が均一
に延伸され、エンボスが施された熱可塑性樹脂プレート
もしくはシート表面に厚さのバラツキの少ない導電性の
塗膜を形成し得るものである。従って、エンボスが施さ
れた帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしくはシートは、
熱可塑性樹脂の優れた耐水性、耐食性、耐薬品性等の性
質を保持したまま、帯電による塵埃の付着を高度に防止
し得るものであるので、クリーンルームにおける建築材
料や機器類のカバー等の産業資材として、更にその需要
を拡大するものである。
The method for producing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet according to the first aspect of the present invention is configured as described above, so that the conductive coating film on the embossed surface is uniformly stretched to form an embossed surface. It is possible to form a conductive coating film having a small variation in thickness on the surface of a thermoplastic resin plate or sheet subjected to the treatment. Therefore, the embossed antistatic thermoplastic resin plate or sheet
Since it is possible to highly prevent the adhesion of dust due to electrification while maintaining the excellent water resistance, corrosion resistance, chemical resistance, etc. of thermoplastic resins, it can be used in industries such as building materials and equipment covers in clean rooms. As a material, it will further increase its demand.

【0065】又、エンボス加工時の導電性の塗膜の不均
一な延伸を防止するための熱可塑性樹脂フィルムが基材
熱可塑性樹脂プレートもしくはシートと積層され複合さ
れ、例えば、実施例に見られる如く、硬質塩化ビニル樹
脂プレートの実用性と、アクリル系樹脂ラミネートフィ
ルムの耐候性改善機能が結合し、新たな性能を発揮する
等の効果も奏するものである。
Further, a thermoplastic resin film for preventing uneven stretching of the conductive coating film during embossing is laminated with a base thermoplastic resin plate or sheet to form a composite, which can be found in, for example, Examples. As described above, the practicability of the hard vinyl chloride resin plate is combined with the weather resistance improving function of the acrylic resin laminate film, and new effects are exhibited.

【0066】請求項2記載の発明の帯電防止熱可塑性樹
脂プレートもしくはシートの製造方法は、叙上の如く構
成されているので、エンボス面の導電性の塗膜が均一に
延展され、熱可塑性樹脂プレートもしくはシート表面に
平滑に加熱加圧された導電性の塗膜の厚さのバラツキの
少ない導電性の塗膜を極めて簡単なプロセスによって形
成し得るものである。
Since the method for producing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet according to the second aspect of the present invention is configured as described above, the conductive coating film on the embossed surface is evenly spread to form the thermoplastic resin. It is possible to form a conductive coating film on the surface of a plate or a sheet that is smooth and heated and pressed and has a small variation in thickness of the conductive coating film by an extremely simple process.

【0067】上記のように請求項1及び請求項2記載の
発明の帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしくはシートの
製造方法によって得られる請求項3記載の発明の帯電防
止熱可塑性樹脂プレートもしくはシート優れた帯電防止
性能を示すと共に、強固な接着力によって上記性能を長
らく保持し得るものであるので、高度に帯電防止性能を
求められる半導体製造工場の建設資材、装置、機器類か
ら透かし模様が設けられた蛍光灯カバーやランプシェー
ド等の化粧板等に至るまで広範な帯電防止分野において
用いることができる。
As described above, the antistatic thermoplastic resin plate or sheet of the invention according to claim 3 obtained by the method for producing the antistatic thermoplastic resin plate or sheet of the invention according to claims 1 and 2 is excellently charged. As well as showing anti-static performance, it can hold the above performance for a long time with a strong adhesive force. It can be used in a wide range of antistatic fields, including decorative covers such as lamp covers and lamp shades.

【0068】[0068]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】請求項1記載の発明の帯電防止熱可塑性樹脂プ
レートもしくはシートの製造方法の工程を説明するため
の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view for explaining a step of a method for producing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet according to the first aspect of the invention.

【図2】請求項1記載の発明の帯電防止熱可塑性樹脂プ
レートもしくはシートの製造方法で得られる請求項3記
載の発明の帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしくはシー
トを示す一部切欠断面図である。
FIG. 2 is a partially cutaway sectional view showing the antistatic thermoplastic resin plate or sheet of the invention of claim 3 obtained by the method for producing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet of the invention of claim 1.

【図3】請求項2記載の発明の帯電防止熱可塑性樹脂プ
レートもしくはシートの製造方法の工程を説明するため
の説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining the steps of the method for producing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet according to the second aspect of the invention.

【図4】請求項2記載の発明の帯電防止熱可塑性樹脂プ
レートもしくはシートの製造方法で得られる請求項3記
載の発明の帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしくはシー
トを示す一部切欠断面図である。
FIG. 4 is a partially cutaway sectional view showing the antistatic thermoplastic resin plate or sheet of the invention of claim 3 obtained by the method for producing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet of the invention of claim 2;

【図5】請求項2記載の発明の帯電防止熱可塑性樹脂プ
レートもしくはシートの製造方法で得られる請求項3記
載の発明の帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしくはシー
トを用いた製品を示す一部切欠断面図である。
FIG. 5 is a partially cutaway cross section showing a product using the antistatic thermoplastic resin plate or sheet of the invention of claim 3 obtained by the method of manufacturing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet of the invention of claim 2. It is a figure.

【図6】図5のVI−VI線における断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line VI-VI in FIG.

【図7】図5及び図6に示された帯電防止熱可塑性樹脂
プレートもしくはシートを用いた蛍光灯カバーを示す一
部切欠斜視図である。
FIG. 7 is a partially cutaway perspective view showing a fluorescent lamp cover using the antistatic thermoplastic resin plate or sheet shown in FIGS. 5 and 6;

【図8】請求項3記載の発明の帯電防止熱可塑性樹脂プ
レートもしくはシートを用いたランプシェードを示す一
部切欠斜視図である。
FIG. 8 is a partially cutaway perspective view showing a lamp shade using the antistatic thermoplastic resin plate or sheet according to the third aspect of the present invention.

【図9】比較例1で得られた帯電防止熱可塑性樹脂プレ
ートもしくはシートの導電性の塗膜の断面形状を模擬的
に示す一部切欠断面図である。
9 is a partially cutaway cross-sectional view simulating the cross-sectional shape of the conductive coating film of the antistatic thermoplastic resin plate or sheet obtained in Comparative Example 1. FIG.

【図10】比較例4で得られた深絞り成形品の導電性の
塗膜の断面形状を模擬的に示す一部切欠断面図である。
FIG. 10 is a partially cutaway cross-sectional view simulating the cross-sectional shape of the conductive coating film of the deep-drawn molded product obtained in Comparative Example 4.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 押出成形機 2 金型 3 エンボス装置 31 冷却ロール 32 エンボスロール 4 アンロールスタンド 5 エンボスが施された帯電防止熱可塑性樹脂プレート
もしくはシート 5’ 表面平滑な帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしく
はシート 51 導電性の塗膜 52 熱可塑性樹脂フィルム 53 熱可塑性樹脂プレートもしくはシート 54 表面平滑化された導電性の塗膜 6 加熱加圧ロール 7 冷却ロール 8 エンボス模様 9 蛍光灯カバー 10 ランプシェード A 比較例1で得られた帯電防止熱可塑性樹脂プレート
もしくはシートの導電性の塗膜の断面形状(深絞り成形
前の模擬的図) B 比較例4で得られた深絞り成形品の導電性の塗膜の
断面形状(深絞り成形後の模擬的図)
1 Extrusion Molding Machine 2 Mold 3 Embossing Device 31 Cooling Roll 32 Embossing Roll 4 Unroll Stand 5 Embossed Antistatic Thermoplastic Resin Plate or Sheet 5'Smooth Antistatic Thermoplastic Resin Plate or Sheet 51 Conductive Coating film 52 Thermoplastic resin film 53 Thermoplastic resin plate or sheet 54 Conductive coating film with smoothed surface 6 Heating / pressurizing roll 7 Cooling roll 8 Embossing pattern 9 Fluorescent lamp cover 10 Lamp shade A Obtained in Comparative Example 1 Cross-sectional shape of conductive coating film of antistatic thermoplastic resin plate or sheet (simulated diagram before deep-drawing molding) B Cross-sectional shape of conductive coating film of deep-drawing molded article obtained in Comparative Example 4 ( (Simulated drawing after deep drawing)

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29K 101:12 B29L 7:00 Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI Technical display area B29K 101: 12 B29L 7:00

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性の塗膜が形成されている熱可塑性
樹脂フィルムを、上記導電性の塗膜を外側にして基材熱
可塑性樹脂プレートもしくはシートに熱接着すると共に
エンボスを施すことを特徴とする帯電防止熱可塑性樹脂
プレートもしくはシートの製造方法。
1. A thermoplastic resin film on which a conductive coating film is formed is heat-bonded to a base thermoplastic resin plate or sheet with the conductive coating film facing outward, and embossed. And a method for producing an antistatic thermoplastic resin plate or sheet.
【請求項2】 請求項1記載の方法で得られた帯電防止
熱可塑性樹脂プレートもしくはシートのエンボスが施さ
れた導電性の塗膜表面を加熱加圧して平滑にすることを
特徴とする帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしくはシー
トの製造方法。
2. An antistatic property, characterized in that the embossed conductive coating film surface of the antistatic thermoplastic resin plate or sheet obtained by the method according to claim 1 is heated and pressed to be smoothed. Method for manufacturing thermoplastic resin plate or sheet.
【請求項3】 請求項1又は請求項2記載の方法によっ
て得られる帯電防止熱可塑性樹脂プレートもしくはシー
ト。
3. An antistatic thermoplastic resin plate or sheet obtained by the method according to claim 1 or 2.
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