JPH09218174A - 光触媒膜の検査方法 - Google Patents
光触媒膜の検査方法Info
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- JPH09218174A JPH09218174A JP8023851A JP2385196A JPH09218174A JP H09218174 A JPH09218174 A JP H09218174A JP 8023851 A JP8023851 A JP 8023851A JP 2385196 A JP2385196 A JP 2385196A JP H09218174 A JPH09218174 A JP H09218174A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 床面や壁面の全体について光触媒薄膜の有無
を、簡便かつリアルタイムで検査できる光触媒膜の検査
方法を得る。 【解決手段】 光触媒タイル１０の光触媒薄膜１４に電
流計１６のプローブ１８を接触させ、ＢＬランプや白色
蛍光灯等の蛍光管２０を用いて、光を照射する。光触媒
薄膜１４が存在すれば、不導体である光触媒薄膜１４が
導体に変化するので電流が流れる。すなわち、光照射前
と後の光触媒薄膜１４の導電率の変化を測定すること
で、光触媒薄膜１４の存在が確認できる。このため、迅
速にかつ広範囲に渡って、評価対象面の検査できる。
を、簡便かつリアルタイムで検査できる光触媒膜の検査
方法を得る。 【解決手段】 光触媒タイル１０の光触媒薄膜１４に電
流計１６のプローブ１８を接触させ、ＢＬランプや白色
蛍光灯等の蛍光管２０を用いて、光を照射する。光触媒
薄膜１４が存在すれば、不導体である光触媒薄膜１４が
導体に変化するので電流が流れる。すなわち、光照射前
と後の光触媒薄膜１４の導電率の変化を測定すること
で、光触媒薄膜１４の存在が確認できる。このため、迅
速にかつ広範囲に渡って、評価対象面の検査できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、タイル等の表面に
コーティングされた無色透明の光触媒膜の有無を検査す
る方法に関する。
コーティングされた無色透明の光触媒膜の有無を検査す
る方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】二酸化チタンや酸化亜鉛等の光触媒は、
太陽や照明からの光エネルギーを酸化／還元の化学エネ
ルギーに交換して、殺菌機能や脱臭機能を発揮する。
太陽や照明からの光エネルギーを酸化／還元の化学エネ
ルギーに交換して、殺菌機能や脱臭機能を発揮する。
【０００３】このような機能を持つ光触媒をタイル等の
表面にコーティングして薄膜（数ミクロン以下の膜厚）
を形成し、抗菌・防臭機能を持たせた光触媒建材があ
る。
表面にコーティングして薄膜（数ミクロン以下の膜厚）
を形成し、抗菌・防臭機能を持たせた光触媒建材があ
る。
【０００４】しかしながら、光触媒薄膜は、無色透明で
あるためタイル等の意匠性を阻害しないが、目視によっ
てその存在を確認できないため、施工される光触媒建材
に光触媒薄膜がコーティングされたものか否か簡単に判
断することができない。また、メンテナンス上、床面や
壁面にコーティングされた光触媒薄膜が剥がれ落ちてい
ないかを、定期的に検査する必要もある。
あるためタイル等の意匠性を阻害しないが、目視によっ
てその存在を確認できないため、施工される光触媒建材
に光触媒薄膜がコーティングされたものか否か簡単に判
断することができない。また、メンテナンス上、床面や
壁面にコーティングされた光触媒薄膜が剥がれ落ちてい
ないかを、定期的に検査する必要もある。
【０００５】そこで、このような無色透明の光触媒薄膜
の有無を検査する方法として現在以下のようなものが考
えられている。
の有無を検査する方法として現在以下のようなものが考
えられている。
【０００６】すなわち、製造過程において、光触媒建材
を硝酸銀溶液に一枚一枚浸漬し、紫外線を光触媒建材に
照射したときの、硝酸銀溶液中の銀イオン量の変化を測
定し、光活性の有無を確認する方法である。
を硝酸銀溶液に一枚一枚浸漬し、紫外線を光触媒建材に
照射したときの、硝酸銀溶液中の銀イオン量の変化を測
定し、光活性の有無を確認する方法である。
【０００７】しかし、この方法では、製造後の光触媒建
材を検査することはできるが、床面や壁面に施工された
後の光触媒建材を検査することができない。
材を検査することはできるが、床面や壁面に施工された
後の光触媒建材を検査することができない。
【０００８】このため、光触媒建材に菌液（大腸菌＋蒸
留水等）を塗布し、紫外線や蛍光灯を照射した後、光触
媒薄膜の生菌数を測定し、光活性の有無を確認する方法
も提案されている。
留水等）を塗布し、紫外線や蛍光灯を照射した後、光触
媒薄膜の生菌数を測定し、光活性の有無を確認する方法
も提案されている。
【０００９】しかし、生菌数の確認には、試料採取→培
養→コロニーのカウントの工程が必要で、通常、結果が
得られるまで１〜２日を要し、迅速な検査方法とは言え
ない。
養→コロニーのカウントの工程が必要で、通常、結果が
得られるまで１〜２日を要し、迅速な検査方法とは言え
ない。
【００１０】また、あくまでもサンプリングによる検査
であり、施工された床面や壁面全体の情報を知る方法と
しては適当ではない。
であり、施工された床面や壁面全体の情報を知る方法と
しては適当ではない。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は係る事実を考
慮し、床面や壁面の全体について光触媒膜の有無を、簡
便かつリアルタイムで検査できる光触媒膜の検査方法を
提供することを課題とする。
慮し、床面や壁面の全体について光触媒膜の有無を、簡
便かつリアルタイムで検査できる光触媒膜の検査方法を
提供することを課題とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明で
は、光を照射すると、不導体である光触媒膜が導体に変
化することを利用している。すなわち、光照射前と後の
光触媒膜の導電率の変化を測定することで、光触媒膜の
存在が確認できる。
は、光を照射すると、不導体である光触媒膜が導体に変
化することを利用している。すなわち、光照射前と後の
光触媒膜の導電率の変化を測定することで、光触媒膜の
存在が確認できる。
【００１３】このように、光を照射し導電率の変化を検
査するだけでよいので、迅速にかつ広範囲に渡って、建
材にコーティングされた光触媒膜の有無を検査できる。
査するだけでよいので、迅速にかつ広範囲に渡って、建
材にコーティングされた光触媒膜の有無を検査できる。
【００１４】請求項２に記載の発明では、光が照射され
て導体となった光触媒膜に電気を流し磁場を発生させ、
この発生した磁場の変化を測定して光触媒膜の存在を確
認するようになっている。
て導体となった光触媒膜に電気を流し磁場を発生させ、
この発生した磁場の変化を測定して光触媒膜の存在を確
認するようになっている。
【００１５】このため、例えば、予め光触媒膜に電気が
流れる構造としておけば、磁場の変化を測定するだけ
で、簡単に光触媒膜の有無を検査できる。
流れる構造としておけば、磁場の変化を測定するだけ
で、簡単に光触媒膜の有無を検査できる。
【００１６】請求項３に記載の発明では、光を照射する
光源の磁場によって、光触媒膜から発生する磁場を検出
する磁気センサが影響を受けないように、電流の流れに
よって光触媒膜に発生する磁場と直交するように光源が
配置されている。これによって、測定対象の微弱な磁場
の変化が正確に測定できる。
光源の磁場によって、光触媒膜から発生する磁場を検出
する磁気センサが影響を受けないように、電流の流れに
よって光触媒膜に発生する磁場と直交するように光源が
配置されている。これによって、測定対象の微弱な磁場
の変化が正確に測定できる。
【００１７】請求項４に記載の発明では、光を照射する
光源が磁性体でシールドされ、光源から発生する磁束が
吸収される。このため、磁気センサが影響を受けない。
光源が磁性体でシールドされ、光源から発生する磁束が
吸収される。このため、磁気センサが影響を受けない。
【００１８】請求項５に記載の発明では、光触媒膜に電
極を予め配置しておき、この電極に電気を流すようにな
っている。このため、光触媒膜との接触抵抗が低下し、
電気的な接触が良好となる。
極を予め配置しておき、この電極に電気を流すようにな
っている。このため、光触媒膜との接触抵抗が低下し、
電気的な接触が良好となる。
【００１９】
【発明の実施の形態】図１には、第１形態に係る検査方
法で検査される光触媒タイル１０が示されている。この
光触媒タイル１０は、タイル１２に光触媒薄膜１４がコ
ーティングされたもので、敷き詰められて壁面あるいは
床面を構成する。
法で検査される光触媒タイル１０が示されている。この
光触媒タイル１０は、タイル１２に光触媒薄膜１４がコ
ーティングされたもので、敷き詰められて壁面あるいは
床面を構成する。
【００２０】なお、本形態では、光触媒薄膜１４として
通常使用される酸化チタンがコーティングされた光触媒
タイル１０を例に採って説明するが、例えば、酸化鉄、
酸化タングステン、酸化亜鉛等を光触媒として使用した
光触媒タイルの検査もできることは無論である。
通常使用される酸化チタンがコーティングされた光触媒
タイル１０を例に採って説明するが、例えば、酸化鉄、
酸化タングステン、酸化亜鉛等を光触媒として使用した
光触媒タイルの検査もできることは無論である。
【００２１】次に、検査方法を説明する。先ず、評価対
象面（ここでは、光触媒タイル一枚）に電流計１６のプ
ローブ１８を接触させ、ＢＬランプや白色蛍光灯等の蛍
光管２０を用いて、光を照射する。蛍光管２０は所要の
光エネルギーを発生するものが必要であり、酸化チタン
で光触媒薄膜１４を構成した場合、３８０ｎｍ以下の波
長であることが望ましい。なお、自然光である太陽光の
利用も可能である。
象面（ここでは、光触媒タイル一枚）に電流計１６のプ
ローブ１８を接触させ、ＢＬランプや白色蛍光灯等の蛍
光管２０を用いて、光を照射する。蛍光管２０は所要の
光エネルギーを発生するものが必要であり、酸化チタン
で光触媒薄膜１４を構成した場合、３８０ｎｍ以下の波
長であることが望ましい。なお、自然光である太陽光の
利用も可能である。
【００２２】また、プローブ１８と光触媒薄膜１４との
接触抵抗を下げるため、プローブ１８の先端部分は金等
の電気を通し易い材料で覆われている。なお、プローブ
１８が接触する部分に電解液を滴下するようにしてもよ
い。
接触抵抗を下げるため、プローブ１８の先端部分は金等
の電気を通し易い材料で覆われている。なお、プローブ
１８が接触する部分に電解液を滴下するようにしてもよ
い。
【００２３】図４に示すように、蛍光管２０を点灯させ
ると（ＯＮ）、光触媒薄膜１４が存在すれば、不導体で
ある光触媒薄膜１４が導体に変化するので電流が流れ
る。すなわち、光照射前と後の光触媒薄膜１４の導電率
の変化を測定することで、光触媒薄膜１４の存在が確認
できる。このため、迅速にかつ広範囲に渡って、評価対
象面の検査できる。
ると（ＯＮ）、光触媒薄膜１４が存在すれば、不導体で
ある光触媒薄膜１４が導体に変化するので電流が流れ
る。すなわち、光照射前と後の光触媒薄膜１４の導電率
の変化を測定することで、光触媒薄膜１４の存在が確認
できる。このため、迅速にかつ広範囲に渡って、評価対
象面の検査できる。
【００２４】なお、光触媒薄膜１４の中に、図３に示す
ように、測定用の電極２２（好ましくは金）を蒸着する
ことで、接触抵抗を下げることができる。場合によって
は、電極を模様の１つとして扱い、意匠的な工夫を凝ら
してもよい。
ように、測定用の電極２２（好ましくは金）を蒸着する
ことで、接触抵抗を下げることができる。場合によって
は、電極を模様の１つとして扱い、意匠的な工夫を凝ら
してもよい。
【００２５】次に、第２形態に係る検査方法を説明す
る。第２形態では、図２に示すように、蛍光管２０から
光を光触媒薄膜１４に照射し、光触媒薄膜１４に電気を
流し磁場を発生させ、微弱な磁場の変化を磁気センサ２
４で測定して光触媒薄膜１４の存在を確認するようにな
っている。すなわち、磁場の変化がない場合、光触媒薄
膜１４が存在しないことになる。
る。第２形態では、図２に示すように、蛍光管２０から
光を光触媒薄膜１４に照射し、光触媒薄膜１４に電気を
流し磁場を発生させ、微弱な磁場の変化を磁気センサ２
４で測定して光触媒薄膜１４の存在を確認するようにな
っている。すなわち、磁場の変化がない場合、光触媒薄
膜１４が存在しないことになる。
【００２６】また、プローブ１８同士を結ぶ線（電流の
流れる方向）に対して、蛍光管２０が直交するように配
置されている。これによって、磁気センサ２４が蛍光管
２０の点灯によって発生する磁場の影響を受けない。
流れる方向）に対して、蛍光管２０が直交するように配
置されている。これによって、磁気センサ２４が蛍光管
２０の点灯によって発生する磁場の影響を受けない。
【００２７】さらに、図３に示すように、光を照射する
部分だけが開口した筒状のシールド２６をパーマロイ等
の強磁性体で成形することで、磁場の影響を取り除くこ
とができる。
部分だけが開口した筒状のシールド２６をパーマロイ等
の強磁性体で成形することで、磁場の影響を取り除くこ
とができる。
【００２８】また、光としてレーザー光を用いれば、伝
播による減衰が少ないので、光源を遠くに設置できる。
このため、磁気センサ２４に与える影響が小さくなる。
播による減衰が少ないので、光源を遠くに設置できる。
このため、磁気センサ２４に与える影響が小さくなる。
【００２９】
【発明の効果】本発明は上記構成としたので、床面や壁
面の大面積に施工された光触媒膜の有無を、現場で簡便
かつリアルタイムで検査できる。また、施工後の品質確
認、使用期間中の光活性化等の機能を確認も容易にでき
る。
面の大面積に施工された光触媒膜の有無を、現場で簡便
かつリアルタイムで検査できる。また、施工後の品質確
認、使用期間中の光活性化等の機能を確認も容易にでき
る。
【図１】第１形態に係る光触媒膜の検査方法を示す概念
図である。
図である。
【図２】第２形態に係る光触媒膜の検査方法を示す概念
図である。
図である。
【図３】第３形態に係る光触媒膜の検査方法を示す概念
図である。
図である。
【図４】電流及び磁界の変化を示したグラフである。
１２ 光触媒薄膜（光触媒膜） １６ 電流計 ２０ 蛍光管 ２２ 電極 ２４ 磁気センサ ２６ シールド（磁性体）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 海野 健一 千葉県印旛郡印西町大塚１丁目５番地 株 式会社竹中工務店技術研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 光触媒膜に光を照射する工程と、光が照
射された光触媒膜の導電率を測定する工程と、を有する
ことを特徴とする光触媒膜の検査方法。 - 【請求項２】 光触媒膜に光を照射する工程と、光が照
射された光触媒膜に電気を流し磁場を発生させる工程
と、発生した磁場を測定する工程と、を有することを特
徴とする光触媒膜の検査方法。 - 【請求項３】 光を照射する光源の磁場が、前記光触媒
膜を流れる電流によって発生する磁場と直交するように
光源を配置したことを特徴とする請求項２に記載の光触
媒膜の検査方法。 - 【請求項４】 光を照射する光源が磁性体でシールドさ
れたことを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の光
触媒膜の検査方法。 - 【請求項５】 前記光触媒膜に電極を予め配置してお
き、この電極に電気を流すことを特徴とする請求項１〜
請求項４の何れかに記載の光触媒膜の検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8023851A JPH09218174A (ja) | 1996-02-09 | 1996-02-09 | 光触媒膜の検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8023851A JPH09218174A (ja) | 1996-02-09 | 1996-02-09 | 光触媒膜の検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09218174A true JPH09218174A (ja) | 1997-08-19 |
Family
ID=12121932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8023851A Pending JPH09218174A (ja) | 1996-02-09 | 1996-02-09 | 光触媒膜の検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09218174A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2004045143A (ja) * | 2002-07-10 | 2004-02-12 | Kansai Electric Power Co Inc:The | 超電導量子干渉素子による非破壊検査方法および非破壊検査装置 |
| KR20040043895A (ko) * | 2002-11-20 | 2004-05-27 | 주식회사 유진텍 이십일 | 광촉매 성능 측정장치 및 광촉매 성능 측정방법 |
| KR100435423B1 (ko) * | 2001-12-22 | 2004-06-10 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 광촉매 코팅의 방식성능 측정방법 |
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| JPH04296648A (ja) * | 1991-03-27 | 1992-10-21 | Nippon Steel Corp | 磁気探傷方法および装置 |
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| JPH07191011A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-28 | Toto Ltd | 光触媒薄膜の活性測定方法及び活性測定フィルム |
-
1996
- 1996-02-09 JP JP8023851A patent/JPH09218174A/ja active Pending
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| KR20030017081A (ko) * | 2001-08-23 | 2003-03-03 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 광촉매의 성능 측정방법 |
| KR100435423B1 (ko) * | 2001-12-22 | 2004-06-10 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 광촉매 코팅의 방식성능 측정방법 |
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| JP2004279343A (ja) * | 2003-03-18 | 2004-10-07 | Institute Of Physical & Chemical Research | 核磁気共鳴装置 |
| US7285956B2 (en) | 2003-03-18 | 2007-10-23 | Riken | Nuclear magnetic resonance device |
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|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040928 |