JPH09212814A - 保護被膜と保護被膜を有する磁気ヘッドスライダおよび磁気ディスク装置 - Google Patents
保護被膜と保護被膜を有する磁気ヘッドスライダおよび磁気ディスク装置Info
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- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
- G11B5/6011—Control of flying height
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ディスク装置の薄膜ヘッドにおいて、磁
気記録媒体との接触により生ずる磁気ヘッドスライダ１
の機械的摩耗を十分に防止するための保護被膜を提供す
る。 【解決手段】 磁気ヘッドスライダ１の保護被膜とし
て、密着層であるシリコン層２と保護層であるカーボン
層３の２層を含む膜から構成され、そのシリコン層２に
は窒素を含む。又シリコン層２中の窒素濃度は１から５
７パーセントの範囲である。
気記録媒体との接触により生ずる磁気ヘッドスライダ１
の機械的摩耗を十分に防止するための保護被膜を提供す
る。 【解決手段】 磁気ヘッドスライダ１の保護被膜とし
て、密着層であるシリコン層２と保護層であるカーボン
層３の２層を含む膜から構成され、そのシリコン層２に
は窒素を含む。又シリコン層２中の窒素濃度は１から５
７パーセントの範囲である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッドスライ
ダに関し、特に磁気抵抗効果素子型磁気ヘッドを含む薄
膜磁気ヘッドおよび薄膜磁気ヘッドを搭載した磁気ディ
スク装置、および磁気ヘッドスライダの製造に関する。
ダに関し、特に磁気抵抗効果素子型磁気ヘッドを含む薄
膜磁気ヘッドおよび薄膜磁気ヘッドを搭載した磁気ディ
スク装置、および磁気ヘッドスライダの製造に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ヘッドは、非磁性基板上に磁性材料
および電気絶縁材料の層を堆積して、磁気記録媒体上の
磁性膜の情報を読み書きするのに必要な周知の磁電変換
素子を形成することにより作製される。前記磁電変換素
子には印加電流を外部から供給する導電性細線が接合さ
れる導電性パタンを、磁電変換素子と同様のプロセスで
形成する。その後、基板を切断して、一列に並んだ磁気
ヘッドの列（以下、ローという）ができあがる。この状
態で、磁気ヘッドが所定のスロート高さ（薄膜磁気ヘッ
ドにおいてデータを効率よく読み書きするのに必要な狭
ギャップ磁路の高さ）の寸法になるようにラップ仕上げ
（研摩仕上げの一種）される。
および電気絶縁材料の層を堆積して、磁気記録媒体上の
磁性膜の情報を読み書きするのに必要な周知の磁電変換
素子を形成することにより作製される。前記磁電変換素
子には印加電流を外部から供給する導電性細線が接合さ
れる導電性パタンを、磁電変換素子と同様のプロセスで
形成する。その後、基板を切断して、一列に並んだ磁気
ヘッドの列（以下、ローという）ができあがる。この状
態で、磁気ヘッドが所定のスロート高さ（薄膜磁気ヘッ
ドにおいてデータを効率よく読み書きするのに必要な狭
ギャップ磁路の高さ）の寸法になるようにラップ仕上げ
（研摩仕上げの一種）される。
【０００３】その後、ラップ仕上げされた面にレールパ
タンを作ってスライダを作成する。レールの形成は、従
来から用いられている機械的加工法のほか、最近ではレ
ール形状が一層複雑になっていることから、エッチング
プロセスなどの乾式処理技法も使用されている。次に、
一個ごとの磁気ヘッドスライダに機械的加工法により分
離する。
タンを作ってスライダを作成する。レールの形成は、従
来から用いられている機械的加工法のほか、最近ではレ
ール形状が一層複雑になっていることから、エッチング
プロセスなどの乾式処理技法も使用されている。次に、
一個ごとの磁気ヘッドスライダに機械的加工法により分
離する。
【０００４】磁気ディスク装置では、ディスク回転開始
時に磁気ヘッドが磁気記録媒体を擦りながら浮上し、回
転停止時にも擦りながら停止するＣＳＳ（コンタクトス
タートストップ）方式がとられることが多い。
時に磁気ヘッドが磁気記録媒体を擦りながら浮上し、回
転停止時にも擦りながら停止するＣＳＳ（コンタクトス
タートストップ）方式がとられることが多い。
【０００５】また、磁気ヘッドスライダは、磁気ヘッド
と磁気記録媒体との間に狭い一様な間隔（普通は数十ナ
ノメートル）を維持して浮上するように設計されるが、
正常動作においても、磁気ヘッドと磁気記録媒体は偶然
接触する可能性がある。
と磁気記録媒体との間に狭い一様な間隔（普通は数十ナ
ノメートル）を維持して浮上するように設計されるが、
正常動作においても、磁気ヘッドと磁気記録媒体は偶然
接触する可能性がある。
【０００６】従来技術では、磁気ヘッドと磁気記録媒体
との摩擦や接触により生ずる機械的摩耗から保護するた
め、各種保護被膜を磁気ヘッドスライダに堆積してい
る。
との摩擦や接触により生ずる機械的摩耗から保護するた
め、各種保護被膜を磁気ヘッドスライダに堆積してい
る。
【０００７】ＩＢＭ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｄｉｓｃｌ
ｏｓｕｒｅ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ（ＴＤＢ），１９８２年
１２月号，第３１７３頁は、シリコンカーバイドまたは
ダイヤモンドライクカーボンの保護層を有する磁気ヘッ
ドスライダを開示している。保護層の厚さは５００から
１０００オングストロームの範囲である。
ｏｓｕｒｅ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ（ＴＤＢ），１９８２年
１２月号，第３１７３頁は、シリコンカーバイドまたは
ダイヤモンドライクカーボンの保護層を有する磁気ヘッ
ドスライダを開示している。保護層の厚さは５００から
１０００オングストロームの範囲である。
【０００８】ＩＢＭ ＴＤＢ，１９７６年６月号，第３
５１頁は、約２００から５０００オングストロームの窒
化シリコンの保護膜を有する磁気ヘッドを開示してい
る。
５１頁は、約２００から５０００オングストロームの窒
化シリコンの保護膜を有する磁気ヘッドを開示してい
る。
【０００９】しかし、実験してみると、ヘッドスライダ
材料として一般に用いられているアルミナチタンカーバ
イド上に、直接５００オングストロームの膜厚のシリコ
ンカーバイドまたはダイヤモンドライクカーボン膜を被
着すると、被着膜の応力のために付着力が十分に得られ
ず、剥離しやすいことがわかった。また、窒化シリコン
膜単独では、付着力が小さい他、機械的耐久性が不十分
であった。そこで、これらを改善すべく次のような密着
層を組み合わせた二層構造の保護被膜が提案された。
材料として一般に用いられているアルミナチタンカーバ
イド上に、直接５００オングストロームの膜厚のシリコ
ンカーバイドまたはダイヤモンドライクカーボン膜を被
着すると、被着膜の応力のために付着力が十分に得られ
ず、剥離しやすいことがわかった。また、窒化シリコン
膜単独では、付着力が小さい他、機械的耐久性が不十分
であった。そこで、これらを改善すべく次のような密着
層を組み合わせた二層構造の保護被膜が提案された。
【００１０】即ち特開平４−３６４２１７号公報は、密
着層の約１０から５０オングストロームのアモルファス
シリコン層と保護層の水素添加カーボン層の２層から成
る保護被膜を有する磁気ヘッドスライダを開示してい
る。ここでの保護被膜の膜厚の合計は、ヘッド−媒体間
の分離長の増大を避けるため２５０オングストローム以
下としている。
着層の約１０から５０オングストロームのアモルファス
シリコン層と保護層の水素添加カーボン層の２層から成
る保護被膜を有する磁気ヘッドスライダを開示してい
る。ここでの保護被膜の膜厚の合計は、ヘッド−媒体間
の分離長の増大を避けるため２５０オングストローム以
下としている。
【００１１】図４には、特開平４−３６４２１７の実施
例として５０オングストロームのアモルファスシリコン
層と５０オングストロームの水素添加ダイヤモンドライ
クカーボン層からなる保護被膜（保護被膜Ａ）を有する
磁気ヘッドスライダの２万回ＣＳＳ後の摩擦係数の上昇
を調査した結果を示す。図４に示すごとく、静摩擦係
数、動摩擦係数ともその上昇は大きく、スライダ保護被
膜としての効果は不十分である。また、磁気ディスク装
置の動作耐久性の指標となる連続シークテストでは、磁
電変換素子の位置するスライダトレーリング部におい
て、スライダ保護被膜の著しい摩耗が見られた。さら
に、保護被膜の引っかき耐久性も、臨界荷重１５グラム
と小さいものであった。
例として５０オングストロームのアモルファスシリコン
層と５０オングストロームの水素添加ダイヤモンドライ
クカーボン層からなる保護被膜（保護被膜Ａ）を有する
磁気ヘッドスライダの２万回ＣＳＳ後の摩擦係数の上昇
を調査した結果を示す。図４に示すごとく、静摩擦係
数、動摩擦係数ともその上昇は大きく、スライダ保護被
膜としての効果は不十分である。また、磁気ディスク装
置の動作耐久性の指標となる連続シークテストでは、磁
電変換素子の位置するスライダトレーリング部におい
て、スライダ保護被膜の著しい摩耗が見られた。さら
に、保護被膜の引っかき耐久性も、臨界荷重１５グラム
と小さいものであった。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】前記のように、磁気ヘ
ッドと磁気記録媒体との間で摩擦や接触により生ずる機
械的摩耗から保護するため、従来例は各種保護被膜を磁
気ヘッドスライダに堆積している。
ッドと磁気記録媒体との間で摩擦や接触により生ずる機
械的摩耗から保護するため、従来例は各種保護被膜を磁
気ヘッドスライダに堆積している。
【００１３】しかし、従来例の保護被膜では、機械的摩
耗から磁気ヘッドを保護するには十分な耐久性が無く、
保護被膜が摩耗や剥離を起こし、磁気ヘッドに損傷を生
じることがわかった。
耗から磁気ヘッドを保護するには十分な耐久性が無く、
保護被膜が摩耗や剥離を起こし、磁気ヘッドに損傷を生
じることがわかった。
【００１４】磁気ヘッドと磁気記録媒体との接触により
生ずる機械的摩耗により、磁気ヘッドは損傷し、磁気ヘ
ッドの寿命の劣化が起こる。しかし、機械的摩耗から保
護するための従来例のスライダ保護被膜では、十分な耐
久性がない。本発明の目的は、高耐久性の保護被膜によ
りヘッドを保護し、磁気ヘッド、磁気ディスク装置の信
頼性を向上させることにある。
生ずる機械的摩耗により、磁気ヘッドは損傷し、磁気ヘ
ッドの寿命の劣化が起こる。しかし、機械的摩耗から保
護するための従来例のスライダ保護被膜では、十分な耐
久性がない。本発明の目的は、高耐久性の保護被膜によ
りヘッドを保護し、磁気ヘッド、磁気ディスク装置の信
頼性を向上させることにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る本発明の
磁気ヘッドスライダ保護被膜は、磁電変換素子と磁電変
換素子に動作電流を印加する導電パタンを有する磁気ヘ
ッドと、前記磁気ヘッドを支持するスライダとから構成
される磁気ヘッドスライダの保護被膜であり、密着層で
あるシリコン層と保護層であるカーボン層の２層を少な
くとも含む膜から構成され、前記シリコン層に窒素を含
むことを特徴とする。
磁気ヘッドスライダ保護被膜は、磁電変換素子と磁電変
換素子に動作電流を印加する導電パタンを有する磁気ヘ
ッドと、前記磁気ヘッドを支持するスライダとから構成
される磁気ヘッドスライダの保護被膜であり、密着層で
あるシリコン層と保護層であるカーボン層の２層を少な
くとも含む膜から構成され、前記シリコン層に窒素を含
むことを特徴とする。
【００１６】請求項２に係る本発明の磁気ヘッドスライ
ダ保護被膜は前記保護被膜において、密着層であるシリ
コン層に窒素を１から５７パーセント含むことを特徴と
する。
ダ保護被膜は前記保護被膜において、密着層であるシリ
コン層に窒素を１から５７パーセント含むことを特徴と
する。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明を薄膜磁気ヘッドに適用し
た発明の実施の形態を図１に示す。
た発明の実施の形態を図１に示す。
【００１８】磁気ヘッドは、非磁性基板上に磁性材料お
よび電気絶縁材料の層を堆積して、磁気記録媒体上の磁
性膜の情報を読み書きするのに必要な周知の磁電変換素
子を形成する。これにより、非磁性基板上には複数のヘ
ッドが一連の列をなして形成される。このとき、前記磁
電変換素子には印加電流を外部から供給する導電性細線
が接合される導電性パタンを、磁電変換素子と同様のプ
ロセスで形成する。その後、基板を切断すると、一列の
磁気ヘッドが並んだローができあがる。この状態で、磁
気ヘッドが所定のスロート高さの寸法になるようにラッ
プ仕上げされる。その後、ラップ仕上げされた面にレー
ルパタンを作ってスライダを作成する。レールパタン
は、従来から用いられている機械的加工法、もしくは、
エッチングプロセスなどの乾式処理技法をもちいて作成
しスライダ空気潤滑面（ＡＢＳ）とする。次に、磁気ヘ
ッドのローを一個ごとの磁気ヘッドスライダに分離する
と、磁気ヘッドが完成する。ＡＢＳには磁気記録媒体と
の摩擦や接触による機械的摩耗から保護するため、密着
層である窒素添加シリコン層２と保護層であるカーボン
層３から成る保護被膜を堆積する。前記ラップ仕上げさ
れたロー状態もしくはローから切り離されたスライダ状
態において、堆積の工程を実行する。
よび電気絶縁材料の層を堆積して、磁気記録媒体上の磁
性膜の情報を読み書きするのに必要な周知の磁電変換素
子を形成する。これにより、非磁性基板上には複数のヘ
ッドが一連の列をなして形成される。このとき、前記磁
電変換素子には印加電流を外部から供給する導電性細線
が接合される導電性パタンを、磁電変換素子と同様のプ
ロセスで形成する。その後、基板を切断すると、一列の
磁気ヘッドが並んだローができあがる。この状態で、磁
気ヘッドが所定のスロート高さの寸法になるようにラッ
プ仕上げされる。その後、ラップ仕上げされた面にレー
ルパタンを作ってスライダを作成する。レールパタン
は、従来から用いられている機械的加工法、もしくは、
エッチングプロセスなどの乾式処理技法をもちいて作成
しスライダ空気潤滑面（ＡＢＳ）とする。次に、磁気ヘ
ッドのローを一個ごとの磁気ヘッドスライダに分離する
と、磁気ヘッドが完成する。ＡＢＳには磁気記録媒体と
の摩擦や接触による機械的摩耗から保護するため、密着
層である窒素添加シリコン層２と保護層であるカーボン
層３から成る保護被膜を堆積する。前記ラップ仕上げさ
れたロー状態もしくはローから切り離されたスライダ状
態において、堆積の工程を実行する。
【００１９】このようにして、図１に示す磁気ヘッドス
ライダを製造する。
ライダを製造する。
【００２０】
【実施例】本発明による３つの実施例を示す。いずれも
保護被膜は窒素含有シリコン膜（膜厚２０オングストロ
ーム）とダイヤモンドライクカーボン膜（以下ＤＬＣと
いう。実施例１、２、３では膜厚８０オングストロー
ム）の積層膜からなる。シリコン膜はスパッタで、カー
ボン膜はスパッタまたはＣＶＤ（化学蒸着法）で成膜さ
れる。密着層としてのシリコン膜中の窒素含有量は５０
％（以下、「実施例１」）、同じく２６％（以下、「実
施例２」）、１％（以下、「実施例３」）及び０％（以
下、「比較例」）である。
保護被膜は窒素含有シリコン膜（膜厚２０オングストロ
ーム）とダイヤモンドライクカーボン膜（以下ＤＬＣと
いう。実施例１、２、３では膜厚８０オングストロー
ム）の積層膜からなる。シリコン膜はスパッタで、カー
ボン膜はスパッタまたはＣＶＤ（化学蒸着法）で成膜さ
れる。密着層としてのシリコン膜中の窒素含有量は５０
％（以下、「実施例１」）、同じく２６％（以下、「実
施例２」）、１％（以下、「実施例３」）及び０％（以
下、「比較例」）である。
【００２１】図３に実施例１〜３、及び比較例の保護被
膜を各々有するヘッドスライダの２万回ＣＳＳテスト後
の摩擦係数の上昇を示す。
膜を各々有するヘッドスライダの２万回ＣＳＳテスト後
の摩擦係数の上昇を示す。
【００２２】図３に示すごとく、本発明による実施例
１、２、３は、いずれも図４に示した従来例と比較し
て、静摩擦係数および動摩擦係数ともその上昇は小さ
く、良好なＣＳＳ特性を示した。しかし、比較例では上
昇が大きく、ＣＳＳ特性が劣っている。
１、２、３は、いずれも図４に示した従来例と比較し
て、静摩擦係数および動摩擦係数ともその上昇は小さ
く、良好なＣＳＳ特性を示した。しかし、比較例では上
昇が大きく、ＣＳＳ特性が劣っている。
【００２３】また、これら実施例１〜３、比較例の保護
被膜を各々被着したスライダを磁気ディスク装置に搭載
し、装置寿命の指標となる連続シークテストを行った。
９６時間試験後も、スライダ保護被膜の摩耗は、実施例
１〜３のいずれにも見られなかったが、比較例ではスラ
イダ面に著しい摩耗が認められた。
被膜を各々被着したスライダを磁気ディスク装置に搭載
し、装置寿命の指標となる連続シークテストを行った。
９６時間試験後も、スライダ保護被膜の摩耗は、実施例
１〜３のいずれにも見られなかったが、比較例ではスラ
イダ面に著しい摩耗が認められた。
【００２４】さらに、実施例１〜３の引っかき耐久性を
示したのが図２である。これは、先端半径５０ミクロン
のダイヤモンド針で、毎秒３．３メートルの速さで、膜
をけがいた時に、膜に押圧痕が残る最低の荷重を摩耗臨
界荷重として、シリコン膜中の窒素濃度に対してプロッ
トした。シリコン膜中の窒素含有量０％の従来例では、
摩耗臨界荷重は１５グラムと小さいが、シリコン膜中に
窒素を含有すると耐久性が向上する。また、窒化シリコ
ン膜のストイキオメトリック（化学的量論的）組成（シ
リコン原子が３個に対して窒素原子が４個、窒素含有量
５７％）を越えて、窒素が含まれると膜がぜい弱にな
る。よって、窒素含有量として、１％以上５７％以下が
望ましい。
示したのが図２である。これは、先端半径５０ミクロン
のダイヤモンド針で、毎秒３．３メートルの速さで、膜
をけがいた時に、膜に押圧痕が残る最低の荷重を摩耗臨
界荷重として、シリコン膜中の窒素濃度に対してプロッ
トした。シリコン膜中の窒素含有量０％の従来例では、
摩耗臨界荷重は１５グラムと小さいが、シリコン膜中に
窒素を含有すると耐久性が向上する。また、窒化シリコ
ン膜のストイキオメトリック（化学的量論的）組成（シ
リコン原子が３個に対して窒素原子が４個、窒素含有量
５７％）を越えて、窒素が含まれると膜がぜい弱にな
る。よって、窒素含有量として、１％以上５７％以下が
望ましい。
【００２５】磁気ヘッドは機械的摩耗の他、大気中の構
成成分による腐食によっても劣化する可能性がある。本
発明の実施例の約１００オングストロームの保護被膜に
おいても、磁気ヘッドを腐食から保護する効果が確認さ
れた。
成成分による腐食によっても劣化する可能性がある。本
発明の実施例の約１００オングストロームの保護被膜に
おいても、磁気ヘッドを腐食から保護する効果が確認さ
れた。
【００２６】図１に示す窒素含有シリコン膜とカーボン
膜を被着したスライダを搭載した磁気ディスク装置（図
示せず）では、摺動特性の悪化やヘッドクラッシュに至
るトラブルを生じることなく、装置寿命が改善された。
膜を被着したスライダを搭載した磁気ディスク装置（図
示せず）では、摺動特性の悪化やヘッドクラッシュに至
るトラブルを生じることなく、装置寿命が改善された。
【００２７】なお上記実施例では窒素含有シリコン膜２
０オングストローム、ダイヤモンドライクカーボン膜８
０オングストロームの膜厚構成の場合のみ述べた。これ
らに加え、本発明の他の実施例は、保護被膜は膜厚が５
０オングストロームの窒素含有シリコン層と膜厚５０オ
ングストロームのダイヤモンドライクカーボン層の積層
膜からなり、図５に示すようにシリコン膜中の窒素含有
量０％の従来例に比べ、シリコン膜中に窒素を含有する
本発明の保護被膜は摩耗臨界荷重が大きく耐久性が向上
しており、実施例１、２、３と同様の効果が得られた。
０オングストローム、ダイヤモンドライクカーボン膜８
０オングストロームの膜厚構成の場合のみ述べた。これ
らに加え、本発明の他の実施例は、保護被膜は膜厚が５
０オングストロームの窒素含有シリコン層と膜厚５０オ
ングストロームのダイヤモンドライクカーボン層の積層
膜からなり、図５に示すようにシリコン膜中の窒素含有
量０％の従来例に比べ、シリコン膜中に窒素を含有する
本発明の保護被膜は摩耗臨界荷重が大きく耐久性が向上
しており、実施例１、２、３と同様の効果が得られた。
【００２８】更にＳｉＮx 膜５〜３００オングストロー
ム、ＤＬＣ膜１０〜５００オングストロームの膜厚構成
においても、ＳｉＮx 膜の窒素含有量が１％以上５７％
以下の範囲において上記実施例と同様の効果が得られ
た。
ム、ＤＬＣ膜１０〜５００オングストロームの膜厚構成
においても、ＳｉＮx 膜の窒素含有量が１％以上５７％
以下の範囲において上記実施例と同様の効果が得られ
た。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように本発明の磁気ヘッド
スライダの保護被膜は、密着層のＳｉＮx 膜の窒素含有
量を１％以上５７％以下とすることにより保護層のＤＬ
Ｃ膜との密着性と強度が著しく向上し磁気ディスク装置
での使用中に磁気ヘッドを摩擦や摩耗から保護すること
ができる。
スライダの保護被膜は、密着層のＳｉＮx 膜の窒素含有
量を１％以上５７％以下とすることにより保護層のＤＬ
Ｃ膜との密着性と強度が著しく向上し磁気ディスク装置
での使用中に磁気ヘッドを摩擦や摩耗から保護すること
ができる。
【図１】本発明による保護被膜を有する磁気ヘッドスラ
イダの構造を示す斜視図である。
イダの構造を示す斜視図である。
【図２】保護被膜の摩耗臨界荷重と密着層中の窒素濃度
の関係を示す図である。
の関係を示す図である。
【図３】本発明の保護被膜を有する磁気ヘッドスライダ
の２万回ＣＳＳテスト後の摩擦係数の上昇値を示す図で
ある。
の２万回ＣＳＳテスト後の摩擦係数の上昇値を示す図で
ある。
【図４】従来例の保護被膜を有する磁気ヘッドスライダ
の２万回ＣＳＳテスト後の摩擦係数の上昇値を示す図で
ある。
の２万回ＣＳＳテスト後の摩擦係数の上昇値を示す図で
ある。
【図５】本発明の他の実施例における保護被膜の摩耗臨
界荷重と密着層中の窒素濃度の関係を示す図である。
界荷重と密着層中の窒素濃度の関係を示す図である。
１ 磁気ヘッドスライダ ２ 窒素添加シリコン層 ３ カーボン層
Claims (4)
- 【請求項１】 磁電変換素子と磁電変換素子に外部から
動作電流を印加する導電パタンを有する磁気ヘッドと、 前記磁気ヘッドを支持するスライダとから構成される磁
気ヘッドスライダの保護被膜であり、 密着層であるシリコン層と保護層であるカーボン層の２
層を少なくとも含む膜から構成され、 前記シリコン層に窒素を含むことを特徴とする磁気ヘッ
ドスライダ保護被膜。 - 【請求項２】 前記保護被膜において、密着層である前
記シリコン層に窒素を１から５７パーセント含むことを
特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ保護被
膜。 - 【請求項３】 請求項２の保護被膜を有する磁気ヘッド
スライダ。 - 【請求項４】 請求項３の磁気ヘッドスライダを搭載し
た磁気ディスク装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8015006A JPH09212814A (ja) | 1996-01-31 | 1996-01-31 | 保護被膜と保護被膜を有する磁気ヘッドスライダおよび磁気ディスク装置 |
| US08/791,550 US5805380A (en) | 1996-01-31 | 1997-01-31 | Overcoat magnetic head slider having overcoat and magnetic disk device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8015006A JPH09212814A (ja) | 1996-01-31 | 1996-01-31 | 保護被膜と保護被膜を有する磁気ヘッドスライダおよび磁気ディスク装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09212814A true JPH09212814A (ja) | 1997-08-15 |
Family
ID=11876814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8015006A Pending JPH09212814A (ja) | 1996-01-31 | 1996-01-31 | 保護被膜と保護被膜を有する磁気ヘッドスライダおよび磁気ディスク装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5805380A (ja) |
| JP (1) | JPH09212814A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100369115C (zh) * | 2004-05-27 | 2008-02-13 | 日立环球储存科技荷兰有限公司 | 磁头 |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3597664B2 (ja) * | 1997-03-14 | 2004-12-08 | 株式会社東芝 | 磁気ヘッドの製造方法 |
| US5858182A (en) * | 1997-03-20 | 1999-01-12 | Headway Technoloies, Inc. | Bilayer carbon overcoating for magnetic data storage disks and magnetic head/slider constructions |
| JP2000149233A (ja) * | 1998-11-11 | 2000-05-30 | Read Rite Smi Kk | 磁気ヘッド装置、並びに、その製造方法 |
| US6304418B1 (en) | 1999-02-11 | 2001-10-16 | Seagate Technology Llc | Enhanced durability ultra-low-flying-height sliders |
| US6583953B1 (en) | 1999-07-12 | 2003-06-24 | Mark Lauer | Silicon carbide overcoats for information storage systems and method of making |
| US6433965B1 (en) | 2000-03-02 | 2002-08-13 | Read-Rite Corporation | Laminated carbon-containing overcoats for information storage system transducers |
| US6565719B1 (en) * | 2000-06-27 | 2003-05-20 | Komag, Inc. | Magnetic disk comprising a first carbon overcoat having a high SP3 content and a second carbon overcoat having a low SP3 content |
| US6416935B1 (en) | 2000-08-07 | 2002-07-09 | International Business Machines Corporation | Method for forming the air bearing surface of a slider |
| US6503406B1 (en) | 2000-08-07 | 2003-01-07 | International Business Machines Corporation | Method for forming the air bearing surface of a slider using nonreactive plasma |
| WO2002033698A1 (en) | 2000-10-13 | 2002-04-25 | Seagate Technology Llc | Disc drive slider having textured pads |
| US6721142B1 (en) | 2000-12-21 | 2004-04-13 | Western Digital (Fremont) Inc. | Non-corrosive GMR slider for proximity recording |
| WO2004008450A1 (en) * | 2002-06-05 | 2004-01-22 | Seagate Technology Llc | Protective overcoatings |
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| US7289334B2 (en) * | 2003-08-27 | 2007-10-30 | Epicenter, Inc. | Rack architecture and management system |
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| JP4039678B2 (ja) * | 2005-08-22 | 2008-01-30 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッド |
| US7929251B2 (en) * | 2006-01-10 | 2011-04-19 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Assembly, apparatus and method for fabricating a structural element of a hard disk drive air bearing |
| JP2008123587A (ja) * | 2006-11-10 | 2008-05-29 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| US20080187781A1 (en) * | 2007-02-05 | 2008-08-07 | Sae Magnetics (Hk) Ltd. | Magnetic recording head and media overcoat |
| US7911741B2 (en) * | 2007-04-30 | 2011-03-22 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands, B.V. | Slider overcoat for noise reduction of TMR magnetic transducer |
| JP5285240B2 (ja) * | 2007-06-22 | 2013-09-11 | エイチジーエスティーネザーランドビーブイ | 磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 |
| US8472134B2 (en) | 2011-08-02 | 2013-06-25 | HGST Netherlands B.V. | Air bearing surface overcoat with soft intermediate film, and methods of producing the same |
| US9406323B2 (en) | 2014-12-05 | 2016-08-02 | HGST Netherlands B.V. | Slider with aluminum compound fill |
| US9406324B1 (en) * | 2015-07-07 | 2016-08-02 | HGST Netherlands B.V. | Thin film configured to preserve alumina height in a magnetic recording head and methods of making the same |
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| US5159508A (en) * | 1990-12-27 | 1992-10-27 | International Business Machines Corporation | Magnetic head slider having a protective coating thereon |
| US5336550A (en) * | 1993-05-18 | 1994-08-09 | Applied Magnetics Corporation | Carbon overcoat for magnetic head sliders |
| US5654850A (en) * | 1993-05-18 | 1997-08-05 | Applied Magnetics Corp. | Carbon overcoat with electrically conductive adhesive layer for magnetic head sliders |
-
1996
- 1996-01-31 JP JP8015006A patent/JPH09212814A/ja active Pending
-
1997
- 1997-01-31 US US08/791,550 patent/US5805380A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100369115C (zh) * | 2004-05-27 | 2008-02-13 | 日立环球储存科技荷兰有限公司 | 磁头 |
Also Published As
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|---|---|
| US5805380A (en) | 1998-09-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990105 |